KR20190119606A - Release film for green sheet formation - Google Patents
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Abstract
본 발명의 그린 시트 형성용 박리 필름은, 그린 시트의 형성에 사용되는 그린 시트 형성용 박리 필름 (1) 으로서, 기재 (11) 와, 상기 기재 (11) 의 편면 (11 A) 에 형성된 박리제층 (12) 을 구비하고, 상기 박리제층 (12) 은, (A) 경화성 화합물과, (B) 하기 일반식 (4) 로 나타내는 쌍성 이온을 함유하는 기를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물을 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.
The release film for green sheet formation of this invention is the release film 1 for green sheet formation used for formation of a green sheet, The release agent layer formed in the base material 11 and the single side | surface 11A of the said base material 11 (12), The said release agent layer 12 is a release agent formation containing the (A) curable compound and the (B) ionic group containing silicone compound which has group containing the zwitterion represented by following General formula (4). It consists of hardened | cured material of the material.
Description
본 발명은, 그린 시트 형성용 박리 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film for forming a green sheet.
박리 필름은, 일반적으로 기재와 박리제층으로 구성된다. 그린 시트는, 이와 같은 박리 필름 상에, 세라믹스 입자와 바인더 수지를 유기 용제에 분산시켜, 용해시킨 세라믹 슬러리를 도공하여 건조시킴으로써 제조된다. 또, 제조된 그린 시트는, 박리 필름으로부터 박리되어, 세라믹 콘덴서의 제조에 사용된다.The release film is generally composed of a base material and a release agent layer. A green sheet is manufactured by disperse | distributing ceramic particle and binder resin in the organic solvent on such a peeling film, coating and drying the ceramic slurry which melt | dissolved. Moreover, the manufactured green sheet is peeled from a peeling film and is used for manufacture of a ceramic capacitor.
또, 박리 필름을 사용하여 그린 시트를 제조하는 경우, 박리 필름의 표면의 요철이 그린 시트에 전사됨으로써, 그린 시트의 표면에 핀홀이 발생하거나 하는 문제가 있었다. 그래서, 박리 필름에는, 표면의 요철이 적다는 평활성이 요구되고 있다. 한편, 최근의 세라믹 콘덴서의 소형화, 고밀도화에 수반하여, 그린 시트의 추가적인 박막화가 요구되고 있다. 그리고, 그린 시트의 추가적인 박막화에 의해, 박리 필름에는, 평활성의 추가적인 향상이 요구되고 있다.Moreover, when manufacturing a green sheet using a peeling film, there existed a problem that pinhole generate | occur | produced on the surface of a green sheet by the unevenness | corrugation of the surface of a peeling film being transferred to a green sheet. Therefore, the smoothness that there is little surface irregularities is calculated | required by the peeling film. On the other hand, with the recent miniaturization and high density of ceramic capacitors, further thinning of the green sheet is required. And further improvement of the smoothness is calculated | required by the peeling film by further thinning of a green sheet.
그러나, 박리 필름의 평활성을 향상시킬수록, 박리 필름에 정전기가 발생하기 쉬워진다는 문제가 있었다. 즉, 박리 필름은, 일반적으로, 롤상으로 감겨진 상태에서 보관하고, 수송되어, 그린 시트를 형성할 때에는, 롤상의 상태로부터 조출되어 사용된다. 그 때문에, 이 권취한 박리 필름을 조출할 때에는, 박리 필름의 표면에 정전기가 발생하고, 발생한 정전기에 의해 먼지 등의 이물질이 부착되어 버린다는 문제가 있었다. 또, 형성된 그린 시트로부터 박리 필름을 박리할 때에 정전기가 발생하면, 그린 시트의 취급이 곤란해져, 다음의 공정에 잘 반송할 수 없게 되거나, 정전기에 의해 콘덴서로서의 제품 특성을 열화시킬 가능성이 있었다. 이와 같이, 평활성이 우수한 박리 필름에 있어서는, 대전 방지성이 요구되고 있다.However, there existed a problem that static electricity generate | occur | produces easily in a peeling film, so that the smoothness of a peeling film is improved. That is, when a peeling film is generally stored in the state wound by roll shape, is transported, and forms a green sheet, it is extracted and used from a roll shape state. Therefore, when taking out this wound peeling film, static electricity generate | occur | produced on the surface of a peeling film, and there existed a problem that foreign substances, such as dust, adhered by the generated static electricity. Moreover, when static electricity generate | occur | produces when peeling a peeling film from the formed green sheet, handling of the green sheet will become difficult, it may become difficult to convey to the next process, or the static electricity may deteriorate the product characteristic as a capacitor | condenser. Thus, in the peeling film excellent in smoothness, antistatic property is calculated | required.
박리 필름의 대전 방지성을 향상시키는 기술로서, 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 기재 필름과, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 불활성 미립자를 함유하는 이형층을 형성한 이형 필름이 기재되어 있다. 이 중합체층은, (메트)아크릴레이트 중합체 성분 및 실리콘 중합체 성분을 함유하는 중합체와, 도전성 미립자를 함유하고 있다.As a technique of improving the antistatic property of a peeling film, patent document 1 describes the release film which provided the base film and the release layer containing inert microparticles | fine-particles on the at least single side | surface of a polyester film, for example. This polymer layer contains the polymer containing a (meth) acrylate polymer component and a silicone polymer component, and electroconductive fine particles.
그러나, 특허문헌 1 에 기재된 박리 필름에 있어서는, 충분한 대전 방지성을 발현시키기 위해서, 중합체층에 다량의 도전성 미립자를 분산시킬 필요가 있었다. 그리고, 다량의 도전성 미립자를 사용하는 경우에는, 중합체층의 경화성이 저하된다는 문제가 있었다.However, in the peeling film of patent document 1, in order to express sufficient antistatic property, it was necessary to disperse a large amount of electroconductive fine particles in a polymer layer. And when using a large amount of electroconductive fine particles, there existed a problem that sclerosis | hardenability of a polymer layer falls.
그래서, 본 발명의 목적은, 박리제층의 경화성을 유지하면서, 충분한 대전 방지성을 갖는 그린 시트 형성용 박리 필름을 제공하는 것이다.Then, the objective of this invention is providing the peeling film for green sheet formation which has sufficient antistatic property, maintaining the curability of a peeling agent layer.
본 발명의 일 양태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름은, 그린 시트의 형성에 사용되는 그린 시트 형성용 박리 필름으로서, 기재와, 상기 기재의 편면에 형성된 박리제층을 구비하고, 상기 박리제층은, (A) 경화성 화합물과, (B) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 하기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물을 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.The release film for green sheet formation which concerns on one aspect of this invention is a release film for green sheet formation used for formation of a green sheet, Comprising: A base material and the release agent layer formed in the single side | surface of the said base material, The said release agent layer, (A) Curable compound and (B) Hardened | cured material of the peeling agent formation material containing the ionic group containing silicone compound which has a structural unit represented by following General formula (1), and a structural unit represented by following General formula (2). It is characterized by.
[화학식 1][Formula 1]
[화학식 2][Formula 2]
상기 일반식 (1) 중, R1 및 R2 는, 동일해도 되고 상이해도 되며, 각각 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 또는 페닐기를 나타낸다.In said general formula (1), R <1> and R <2> may be same or different and shows a C1-C6 alkyl group or phenyl group, respectively.
상기 일반식 (2) 중, R3 은, 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 6 인 알콕시기, 또는 페닐기를 나타내고, L 은, 단결합, 알킬렌기, 디오르가노실록산기, -O- 기, 또는 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 2 가의 기를 나타내고, Y 는, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 쌍성 이온을 함유하는 기를 나타낸다.In said general formula (2), R <3> represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a phenyl group, L is a single bond, an alkylene group, a diorganosiloxane group, -O The group or the divalent group represented by the following general formula (3) is represented, and Y represents the group containing the zwitterion represented by the following general formula (4).
[화학식 3][Formula 3]
[화학식 4][Formula 4]
상기 일반식 (3) 중, l 은, 1 내지 4 의 정수이고, m 은, 1 내지 10 의 정수이다.In said general formula (3), l is an integer of 1-4, m is an integer of 1-10.
상기 일반식 (4) 중, R4 및 R5 는, 동일해도 되고 상이해도 되고, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 페닐기, 탄소수 1 내지 6 의 불소 치환 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 6 의 수산기 함유 하이드록시알킬기를 나타내고, R4 및 R5 는, 고리를 형성해도 되고, 그 경우에는 알킬렌기를 나타내며, n 은, 3 내지 6 의 정수이다.In said general formula (4), R <4> and R <5> may be same or different, C1-C6 alkyl group, a phenyl group, C1-C6 fluorine-substituted alkyl group, or C1-C6 hydroxyl group containing hydroxy An alkyl group is represented, R <4> and R <5> may form a ring, and in that case, an alkylene group is represented and n is an integer of 3-6.
본 발명의 일 양태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름에 있어서는, 상기 (A) 경화성 화합물이, (A1) 에너지선 경화성 화합물이어도 된다.In the release film for green sheet formation which concerns on one aspect of this invention, the (A) curable compound may be an (A1) energy ray curable compound.
본 발명의 일 양태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름에 있어서는, 상기 (A) 경화성 화합물이, (A2) 열경화성 화합물이어도 된다.In the release film for green sheet formation which concerns on one aspect of this invention, the (A) curable compound may be a (A2) thermosetting compound.
본 발명의 일 양태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름에 있어서는, 상기 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물이, 탄소수 2 내지 6 의 알케닐기, 아크릴로일기, 티올기 및 하이드로실릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다.In the release film for green sheet formation which concerns on one aspect of this invention, the said (B) ionic group containing silicone compound is chosen from the group which consists of a C2-C6 alkenyl group, acryloyl group, a thiol group, and a hydrosilyl group. It is preferred to have at least one reactive functional group.
본 발명의 일 양태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름에 있어서는, 상기 박리제층의 외표면의 산술 평균 조도 Ra 가 8 ㎚ 이하이고, 또한 상기 박리제층의 외표면의 최대 돌기 높이 Rp 가 80 ㎚ 이하인 것이 바람직하다.In the peeling film for green sheet formation which concerns on one aspect of this invention, it is arithmetic mean roughness Ra of the outer surface of the said peeling agent layer that is 8 nm or less, and that the largest protrusion height Rp of the outer surface of the said peeling agent layer is 80 nm or less. desirable.
본 발명에 의하면, 박리제층의 경화성을 유지하면서, 충분한 대전 방지성을 갖는 그린 시트 형성용 박리 필름을 제공할 수 있다.According to this invention, the peeling film for green sheet formation which has sufficient antistatic property can be provided, maintaining the hardenability of a releasing agent layer.
도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름을 나타내는 개략 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows the peeling film for green sheet formation which concerns on 1st Embodiment of this invention.
[제 1 실시형태][First embodiment]
이하, 본 발명에 대해 실시형태를 예로 들어 설명한다. 본 발명은 실시형태의 내용에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment is described about an example of this invention. This invention is not limited to the content of embodiment.
제 1 실시형태에서는, 박리제 형성용 재료에 있어서의 (A) 경화성 화합물로서, (A1) 에너지선 경화성 화합물을 사용한 경우를 예로 들어 설명한다.In 1st Embodiment, the case where the (A1) energy ray curable compound is used as an (A) curable compound in the material for peeling agent formation is demonstrated as an example.
본 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름 (1) (이하 「박리 필름 (1)」) 은, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 기재 (11) 와, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 에 형성된 박리제층 (12) 을 구비한다.As shown in FIG. 1, the peeling film 1 for green sheet formation (hereinafter "the peeling film 1") which concerns on this embodiment is the
(기재)(materials)
본 실시형태에 관련된 기재 (11) 는, 제 1 면 (11A) 과 제 2 면 (11B) 을 갖는다.The
기재 (11) 를 구성하는 재료로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리에스테르 수지 (폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 및 폴리에틸렌나프탈레이트 수지 등), 폴리올레핀 수지 (폴리프로필렌 수지 및 폴리메틸펜텐 수지 등), 및 폴리카보네이트 등의 플라스틱으로 이루어지는 필름 등을 들 수 있다. 기재 (11) 는, 단층 필름이어도 되고, 동종 또는 이종의 2 층 이상의 다층 필름이어도 된다. 이것들 중에서도, 가공시 또는 사용시 등에 있어서, 먼지 등이 잘 발생하지 않는다는 관점에서, 폴리에스테르 필름이 바람직하고, 2 축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 보다 바람직하다. 폴리에스테르 필름을 사용하여 제조한 박리 필름 (1) 을 사용하여, 그린 시트를 제조하는 경우에는, 먼지 등에 의한 세라믹 슬러리의 도공 불량 등을 효과적으로 방지할 수 있다.It does not specifically limit as a material which comprises the
기재 (11) 에는, 상기와 같은 재료에 추가로, 필러 등을 함유시켜도 된다. 필러로는, 실리카, 산화티탄, 탄산칼슘, 카올린, 및 산화알루미늄 등을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이와 같은 필러를 함유함으로써, 기재 (11) 의 기계적 강도를 부여함과 함께, 표리면의 미끄러짐성이 향상되어, 블로킹을 억제할 수 있다.The
기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 및 제 2 면 (11B) 의 표면 조도 (산술 평균 조도 Ra1 및 Ra2, 그리고, 최대 돌기 높이 Rp1 및 Rp2) 는, 양방의 면이 범용 그레이드의 조도 범위여도 되고, 양방의 면이 고평활 그레이드의 조도 범위여도 된다. 또한, 제 1 면 (11A) 및 제 2 면 (11B) 중 일방의 면이 고평활 그레이드의 조도 범위이고, 다른 일방의 면이 범용 그레이드의 조도 범위여도 된다. 박리제층 (12) 을 도포하고 있지 않은 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 이 고평활 그레이드의 조도 범위이면, 통상적으로는 박리 필름 (1) 의 권취가 블로킹에 의해 정전기를 발생하기 쉬워지지만, 본 실시형태의 박리 필름 (1) 에서는 블로킹을 발생시키기 어렵다.The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra 1 and Ra 2 and the maximum protrusion height Rp 1 and Rp 2 ) of the
고평활 그레이드의 경우, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 산술 평균 조도 Ra (Ra1) 는, 1 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 2 ㎚ 이상 20 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이로써, 후술하는 바와 같이, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 상에는, 제 1 면 (11A) 의 요철을 메워 평활화된 박리제층 (12) 이 형성된다. 그 때문에, 산술 평균 조도 Ra1 이 상기 범위 내이면, 박리제층의 외표면 (12A) 의 평활화 작용이 특히 현저해진다.For high-grade smooth, the arithmetic mean roughness Ra (Ra 1) of the first surface (11A) of the
고평활 그레이드의 경우, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 최대 돌기 높이 Rp (Rp1) 는, 10 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 15 ㎚ 이상 350 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이로써, 후술하는 바와 같이, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 상에는, 제 1 면 (11A) 의 요철을 메워 평활화된 박리제층 (12) 이 형성된다. 그 때문에, 최대 돌기 높이 Rp1 이 상기 범위 내이면, 박리제층의 외표면 (12A) 의 평활화 작용이 특히 현저해진다.In the case of a high smooth grade, it is preferable that it is 10 nm or more and 500 nm or less, and, as for the largest protrusion height Rp (Rp 1 ) of the
고평활 그레이드의 경우, 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 의 산술 평균 조도 Ra (Ra2) 는, 1 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 2 ㎚ 이상 20 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 고평활 그레이드의 경우, 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 의 최대 돌기 높이 Rp (Rp2) 는, 10 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 15 ㎚ 이상 350 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하며, 20 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하인 것이 특히 바람직하다.For high-grade smooth, the arithmetic mean roughness Ra (Ra 2) of the second surface (11B) of the
이와 같이 고평활 그레이드의 기재를 사용함으로써, 박리 필름 (1) 과 이것에 제막된 세라믹 그린 시트가 권취되어도, 도포 표면에 접촉하는 박리 필름 (1) 의 이면측 (제 2 면 (11B) 측) 이 평활하기 때문에, 세라믹 그린 시트가 가압되어 받는 데미지가 없어져, 세라믹 콘덴서의 품질이 향상된다.By using the base material of a high smooth grade in this way, even if the peeling film 1 and the ceramic green sheet formed into a film are wound up, the back surface side (
또한, 범용 그레이드의 경우, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 산술 평균 조도 Ra (Ra1) 는, 통상적으로, 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하이고, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 최대 돌기 높이 Rp (Rp1) 는, 통상적으로, 100 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하이다. 또, 범용 그레이드의 경우, 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 의 산술 평균 조도 Ra (Ra2) 는, 통상적으로, 5 ㎚ 이상 80 ㎚ 이하이고, 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 의 최대 돌기 높이 Rp (Rp2) 는, 통상적으로, 100 ㎚ 이상 700 ㎚ 이하이다.In addition, in the case of general-purpose grade, the arithmetic mean roughness Ra (Ra 1 ) of the
또한, 본 명세서에서는, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 및 제 2 면 (11B) 의 산술 평균 조도 Ra 및 최대 돌기 높이 Rp 는, JIS B0601-1994 에 준거하여, 미츠토요사 제조의 표면 조도 측정기 SV3000S4 (촉침식) 에 의해 측정하여 구해지는 값이다. 그리고, 본 명세서에서는, 특별히 언급이 없는 한, 「산술 평균 조도 및 최대 돌기 높이」란, 상기와 같이 하여 측정하여 얻어지는 값을 가리킨다.In addition, in this specification, the arithmetic mean roughness Ra and the maximum protrusion height Rp of the
기재 (11) 의 평균 막 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 15 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이로써, 박리 필름 (1) 의 유연성을 적당한 것으로 하면서, 인열 또는 파단 등에 대한 내성을 특히 우수한 것으로 할 수 있다.Although the average film thickness of the
(박리제층)(Release layer)
본 실시형태에 관련된 박리제층 (12) 은, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 상에 형성되어 있다. 박리제층 (12) 은, 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어진다. 그리고, 본 실시형태에서는, (A) 경화성 화합물로서 (A1) 에너지선 경화성 화합물을 사용하므로, 박리제층 (12) 은, 박리제층 형성용 재료에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 형성된다. 이 박리제층 (12) 은, 박리 필름 (1) 에 평활성, 박리성 및 대전 방지성을 부여할 수 있다.The
박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 의 산술 평균 조도 Ra (Ra0) 는, 15 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 8 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 박리제층 (12) 의 외표면의 최대 돌기 높이 Rp (Rp0) 는, 80 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 60 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이로써, 그린 시트를 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 측에 성형했을 때에, 그린 시트에 핀홀 또는 부분적인 두께의 편차를 발생시키는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있어, 그린 시트의 표면을 보다 고평활한 것으로 할 수 있다.It is preferable that it is 15 nm or less, and, as for the arithmetic mean roughness Ra (Ra 0 ) of the
또한, 후술하는 박리제층 형성용 재료는, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 상에 도포하는 데에 있어서, 적당한 유동성을 가지고 있다. 따라서, 이러한 박리제층 형성용 재료를 사용하면, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 요철을 용이하게 매립할 수 있고, 그 매립한 상태를 유지할 수 있다. 그 결과, 박리제층 (12) 의 기재 (11) 와 반대의 외표면 (12A) 측에, 기재 (11) 의 요철이 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 을 평활하게 할 수 있다.In addition, the material for release agent layer formation mentioned later has moderate fluidity | liquidity in apply | coating on 11 A of 1st surfaces of the
박리제층 (12) 의 평균 두께는, 0.2 ㎛ 이상 2 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.3 ㎛ 이상 1.5 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 박리제층 (12) 의 평균 두께가 상기 하한 이상이면, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 의 평활성을 향상시킬 수 있어, 그린 시트에 핀홀 또는 부분적인 두께의 편차를 발생시키는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다. 한편, 박리제층 (12) 의 두께가 상기 상한 이하이면, 박리제층 (12) 의 경화 수축에 의한 박리 필름 (1) 의 컬의 발생을 방지할 수 있고, 또, 박리 필름 (1) 을 권취함으로써 접한 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 과 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 에서 블로킹이 발생하는 것을 억제할 수 있다.It is preferable that they are 0.2 micrometer or more and 2 micrometers or less, and, as for the average thickness of the
박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 의 표면 저항률은, 1.0 × 1012 Ω/□ 이하인 것이 바람직하고, 5.0 × 1011 Ω/□ 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.0 × 1011 Ω/□ 이하인 것이 특히 바람직하다. 표면 저항률이 상기 범위 내이면, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 에, 정전기의 발생에서 기인되는 이물질 등이 부착되는 것을, 보다 확실하게 저감시킬 수 있다. 표면 저항률의 단위는, 본 명세서에 있어서는 Ω/□ 을 사용한다. 또, 표면 저항률의 측정은, JIS K6911 (1995) 에 준거하여 실시할 수 있다.It is preferable that the surface resistivity of the
(박리제 형성용 재료)(Material for forming the release agent)
여기서, 본 실시형태에 관련된 박리제층 (12) 을 형성하기 위해서 사용하는 박리제층 형성용 재료에 대해 설명한다.Here, the material for the release agent layer formation used in order to form the
본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, (A1) 에너지선 경화성 화합물과, (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물을 함유하는 것이다.The material for releasing agent layer formation which concerns on this embodiment contains (A1) an energy-beam curable compound and (B) ionic group containing silicone compound.
(에너지선 경화성 화합물)(Energy ray curable compound)
본 실시형태에 관련된 (A1) 에너지선 경화성 화합물은, 경화시킴으로써 박리제층 (12) 의 형성에 기여하는 성분이다. 이로써, 박리제층 (12) 의 기계적 강도를 보다 적당한 것으로 할 수 있다.The energy radiation curable compound (A1) according to the present embodiment is a component that contributes to the formation of the
본 실시형태에 관련된 (A1) 에너지선 경화성 화합물로는, 특별히 제한은 없고, 종래 공지된 것 중에서 선택할 수 있다. (A1) 에너지선 경화성 화합물로는, 에너지선 경화성의 모노머, 올리고머 및 수지, 그리고 이것들을 함유하는 조성물 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as (A1) energy-beam curable compound which concerns on this embodiment, It can select from a conventionally well-known thing. (A1) As an energy ray curable compound, an energy ray curable monomer, an oligomer, resin, and the composition containing these are mentioned.
구체예로는, 다관능 (메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 폴리에테르(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.As a specific example, polyfunctional (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
다관능 (메트)아크릴레이트로는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 글리세롤트리(메트)아크릴레이트, 그리고, 트리알릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이것들 중에서도, 박리제층 (12) 에 적당한 견경성 (堅硬性) 을 부여할 수 있는 점에서, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 또는 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.As a polyfunctional (meth) acrylate, 1, 4- butanediol di (meth) acrylate, 1, 6- hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) ) Acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylic Elate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, and triallyl (meth) acrylate etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. Among these, it is more preferable to use pentaerythritol tetra (meth) acrylate or dipentaerythritol hexa (meth) acrylate from the point which can provide moderate hardness to the releasing
또, 다관능 (메트)아크릴레이트로는, 관능기를 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트여도 된다. 사용되는 관능기로는 수산기가 바람직하고, (B) 성분의 이온성기 함유 실리콘 화합물의 박리제층 형성 재료 중에서의 분산성 및 형성된 박리제층 (12) 에 있어서의 편재성을 최적화시킬 수 있다. 수산기 함유 아크릴계 화합물의 구체예로는, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 및 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이것들 중에서도, 박리제층 (12) 에 적당한 견경성을 부여할 수 있는 점에서, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또, 다관능 (메트)아크릴레이트가 관능기를 가지고 있으면 가교제에 의한 가교에 의해, 박리제층 (12) 을 에너지선과 가열의 2 계통의 수단으로 경화시킬 수 있어, 경화의 정도를 원하는 레벨로 할 수 있다.Moreover, as polyfunctional (meth) acrylate, the polyfunctional (meth) acrylate containing a functional group may be sufficient. As a functional group to be used, a hydroxyl group is preferable and the dispersibility in the release agent layer formation material of the ionic group containing silicone compound of (B) component, and the ubiquitous in the formed
박리제층 형성용 재료에 있어서의 (A1) 에너지선 경화성 화합물의 고형분 환산의 함유량 (용제를 제외한 전체 고형분 중에 있어서의 함유 비율) 은, 65 질량% 이상인 것이 바람직하고, 70 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 65 mass% or more, and, as for content (content rate in the total solid except a solvent) of solid content conversion of (A1) energy-beam curable compound in a peeling agent layer forming material, it is more preferable that it is 70 mass% or more. .
(이온성기 함유 실리콘 화합물)(Ionic group-containing silicone compound)
본 실시형태에 관련된 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물은, 박리제층 (12) 에 대전 방지성 및 박리성을 부여할 수 있는 성분이다.The (B) ionic group containing silicone compound which concerns on this embodiment is a component which can provide antistatic property and peelability to the releasing
(B) 이온성기 함유 실리콘 화합물은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 하기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 것이다. 박리제층 (12) 에 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물을 배합함으로써, 주로 하기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위의 유닛의 특성에 의해, 박리제층 (12) 에 박리성이 부여되고, 주로 하기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위의 유닛의 특성에 의해, 박리제층 (12) 에 대전 방지성이 부여된다.(B) An ionic group containing silicone compound has a structural unit represented by following General formula (1), and a structural unit represented by following General formula (2). By mix | blending the (B) ionic group containing silicone compound with the
[화학식 5][Formula 5]
[화학식 6][Formula 6]
상기 일반식 (1) 에 있어서, R1 및 R2 는, 동일해도 되고 상이해도 되며, 각각 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 또는 페닐기를 나타낸다. 또, 박리제층 (12) 에 우수한 박리성을 부여한다는 관점에서, R1 및 R2 는, 메틸기인 것이 바람직하다.In the said General formula (1), R <1> and R <2> may be same or different and shows a C1-C6 alkyl group or phenyl group, respectively. Moreover, it is preferable that R <1> and R <2> is a methyl group from a viewpoint of providing the outstanding peelability to the releasing
상기 일반식 (2) 에 있어서, R3 은, 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 6 인 알콕시기, 또는 페닐기를 나타낸다. 또, 박리제층 (12) 에 우수한 박리성을 부여한다는 관점에서, R3 은, 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 6 인 알콕시기인 것이 보다 바람직하고, 메틸기인 것이 특히 바람직하다.In the said General formula (2), R <3> represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a phenyl group. Moreover, it is more preferable that R <3> is a C1-C6 alkyl group and a C1-C6 alkoxy group from a viewpoint of providing the outstanding peelability to the releasing
L 은, 단결합, 알킬렌기, 디오르가노실록산기, -O- 기, 또는 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 2 가의 기를 나타낸다. 또, 박리제층 (12) 에 충분한 대전 방지성을 부여한다는 관점에서, L 은, 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 2 가의 기인 것이 보다 바람직하다.L represents a single bond, an alkylene group, a diorganosiloxane group, an -O- group, or a divalent group represented by the following General Formula (3). Moreover, from a viewpoint of providing sufficient antistatic property to the releasing
Y 는, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 쌍성 이온을 함유하는 기를 나타낸다.Y represents group containing the zwitterion represented by following General formula (4).
[화학식 7][Formula 7]
[화학식 8][Formula 8]
상기 일반식 (3) 에 있어서, l 은, 1 내지 4 의 정수이다. m 은, 1 내지 10 의 정수이다.In the said General formula (3), l is an integer of 1-4. m is an integer of 1-10.
상기 일반식 (4) 에 있어서, R4 및 R5 는, 동일해도 되고 상이해도 되고, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 페닐기, 탄소수 1 내지 6 의 불소 치환 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 6 의 수산기 함유 하이드록시알킬기를 나타낸다. R4 및 R5 는, 고리를 형성해도 되고, 그 경우에는 알킬렌기를 나타내며, n 은, 3 내지 6 의 정수이다. 또한, 상기 일반식 (2) 에 있어서의 L 이 단결합인 경우에는, 상기 일반식 (4) 중의 정전하를 갖는 4 가의 질소 원자는, 주사슬의 디오르가노실록산의 규소 원자와 결합한다.In the said General formula (4), R <4> and R <5> may be same or different, C1-C6 alkyl group, phenyl group, C1-C6 fluorine-substituted alkyl group, or C1-C6 hydroxyl group containing hydroxide An oxyalkyl group is shown. R <4> and R <5> may form a ring, in that case, represents an alkylene group, n is an integer of 3-6. In addition, when L in the said General formula (2) is a single bond, the tetravalent nitrogen atom which has the static charge in the said General formula (4) couple | bonds with the silicon atom of the diorganosiloxane of a principal chain.
(B) 이온성기 함유 실리콘 화합물은, 추가로 반응성 관능기를 함유하는 구조 단위를 가지고 있어도 된다. (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물이 가지고 있어도 되는 반응성 관능기로는, 탄소수 2 내지 6 의 알케닐기, 아크릴로일기, 티올기 및 하이드로실릴기 등을 들 수 있다. 이로써, (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물 자체가 경화성을 가지므로, 박리제층 (12) 의 경화성을 더욱 향상시킬 수 있다.(B) The ionic group-containing silicone compound may further have a structural unit containing a reactive functional group. (B) As a reactive functional group which an ionic group containing silicone compound may have, a C2-C6 alkenyl group, acryloyl group, a thiol group, a hydrosilyl group, etc. are mentioned. Thereby, since (B) ionic group containing silicone compound itself has sclerosis | hardenability, the sclerosis | hardenability of the releasing
(B) 이온성기 함유 실리콘 화합물로는, 시판품을 사용할 수 있다. 이 시판품으로는, 예를 들어, 신에츠 실리콘사 제조의 「이온성기 함유 실리콘 올리고머 X-40-2450」등을 들 수 있다.(B) A commercial item can be used as an ionic group containing silicone compound. As this commercial item, "ionic group containing silicone oligomer X-40-2450" by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. is mentioned, for example.
(B) 이온성기 함유 실리콘 화합물의 함유량은, 고형분 환산으로, 상기 (A1) 에너지선 경화성 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 이상 30 질량부 이하인 것이 바람직하고, 2 질량부 이상 25 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 함유량이 상기 하한 이상이면, 박리제층 (12) 에 충분한 대전 방지성을 부여할 수 있다. 한편, 함유량이 상기 상한 이하이면, (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물이 박리제층 (12) 중에서 과잉이 되는 것을 억제할 수 있어, 박리제층 (12) 의 경화성을 유지할 수 있다.(B) It is preferable that content of an ionic group containing silicone compound is 0.1 mass part or more and 30 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said (A1) energy-beam curable compounds, and is 2 mass parts or more and 25 mass parts or less in conversion of solid content. It is more preferable. Sufficient antistatic property can be provided to the releasing
(제 2 박리 부여 성분)(2nd peeling provision component)
박리제층 (12) 의 박리성을 더욱 향상시키기 위해서, 박리제층 형성용 재료는, (C) 제 2 박리 부여 성분을 함유하고 있어도 된다.In order to further improve the peelability of the releasing
본 실시형태에 관련된 (C) 제 2 박리 부여 성분으로는, 예를 들어, 직사슬형 또는 분기형의 분자 사슬을 갖는 폴리오르가노실록산을 들 수 있다. 또, 폴리오르가노실록산은, 분자 사슬의 말단 및 측사슬 중 적어도 어느 것에, (메트)아크릴로일기, 비닐기 및 말레이미드기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 갖는 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 또, 폴리오르가노실록산은, 상기 반응성 관능기가, 직접 또는 2 가의 연결기를 개재하여, 상기 분자 사슬 중의 규소 원자와 결합한 것인 것이 보다 바람직하다. 상기 반응성 관능기는, 1 분자 중에 적어도 1 개 가지고 있으면 된다.As (C) 2nd peeling provision component which concerns on this embodiment, the polyorganosiloxane which has a linear or branched molecular chain is mentioned, for example. Moreover, it is preferable that the polyorganosiloxane has a reactive functional group which has at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a maleimide group in at least any one of the terminal and side chain of a molecular chain. . Moreover, as for polyorganosiloxane, it is more preferable that the said reactive functional group couple | bonded with the silicon atom in the said molecular chain through the direct or divalent coupling group. The said reactive functional group should just have at least 1 in 1 molecule.
또, 2 가의 연결기로는, 예를 들어, 알킬렌기, 알킬렌옥시기, 옥시기, 이미노기, 카르보닐기 및 그것들을 조합한 2 가의 연결기 등을 들 수 있다.Moreover, as a bivalent coupling group, an alkylene group, an alkyleneoxy group, an oxy group, an imino group, a carbonyl group, the bivalent coupling group which combined them, etc. are mentioned, for example.
2 가의 연결기의 탄소수는, 1 내지 30 인 것이 바람직하고, 1 내지 10 인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 1-30, and, as for carbon number of a bivalent coupling group, it is more preferable that it is 1-10.
또, 폴리오르가노실록산은, 필요에 따라 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Moreover, polyorganosiloxane can be used in combination of 2 or more type as needed.
이와 같은 반응성 관능기로 치환된 변성 폴리오르가노실록산은, (A1) 에너지선 경화성 화합물이 활성 에너지선의 조사에 의해 경화될 때에 가교 구조에 삽입되어 고정된다. 이로써, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 측에 형성되는 그린 시트에, 박리제층 (12) 의 성분인 폴리오르가노실록산의 이행 전착을 억제할 수 있다.The modified polyorganosiloxane substituted with such a reactive functional group is inserted into and fixed to the crosslinked structure when the (A1) energy ray curable compound is cured by irradiation of active energy rays. Thereby, the transfer electrodeposition of the polyorganosiloxane which is a component of the releasing
(C) 제 2 박리 부여 성분을 구성하는 반응성 관능기 이외의 유기기로는, 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 동일 또는 이종의 1 가의 탄화수소기 등을 들 수 있다.(C) As organic groups other than the reactive functional group which comprises a 2nd peeling provision component, the same or different monovalent hydrocarbon group which does not have an aliphatic unsaturated bond, etc. are mentioned.
1 가의 탄화수소기로는, 탄소수가 1 내지 12 인 것이 바람직하고, 탄소수가 1 내지 10 인 것이 보다 바람직하다.As a monovalent hydrocarbon group, it is preferable that carbon number is 1-12, and it is more preferable that carbon number is 1-10.
1 가의 탄화수소기로는, 알킬기 (메틸기, 에틸기 및 프로필기 등), 및 아릴기 (페닐기, 톨릴기 등) 등을 들 수 있다.As a monovalent hydrocarbon group, an alkyl group (methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), an aryl group (phenyl group, a tolyl group, etc.) etc. are mentioned.
또, 1 가의 탄화수소기로는, 1 가의 탄화수소기 중 80 몰% 이상이 메틸기인 것이 바람직하다. 이로써, 박리제층 (12) 의 박리성을 특히 우수한 것으로 할 수 있다.Moreover, as a monovalent hydrocarbon group, it is preferable that 80 mol% or more in a monovalent hydrocarbon group is a methyl group. Thereby, the peelability of the releasing
(C) 제 2 박리 부여 성분을 사용하는 경우, 그 함유량은, 고형분 환산으로, 상기 (A1) 에너지선 경화성 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 이상 15 질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 함유량이 상기 하한 이상이면, 박리제층 (12) 의 박리성을 향상시킬 수 있다. 한편, 함유량이 상기 상한 이하이면, 박리제층 (12) 의 표면에 세라믹 슬러리를 도포했을 때에, 세라믹 슬러리를 튕기는 것을 억제할 수 있다.(C) When using 2nd peeling provision component, it is preferable that content is 0.1 mass part or more and 15 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said (A1) energy-beam curable compounds in conversion of solid content, and 0.5 mass part As for more than 10 mass parts, it is more preferable. If content is more than the said minimum, the peelability of the releasing
(광 중합 개시제)(Photoinitiator)
박리제층 형성용 재료를 경화시키기 위해서, 박리제층 형성용 재료는, (D) 광 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. (D) 광 중합 개시제를 함유시킴으로써, 박리제층 형성용 재료에 대해 활성 에너지선을 조사했을 때에, 효율적으로 박리제층 (12) 을 형성할 수 있다. 여기서, 광 중합 개시제란, 자외선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해, 라디칼종을 발생시키는 화합물을 말한다.In order to harden the material for releasing agent layer formation, the material for releasing agent layer formation may contain (D) photoinitiator. By containing (D) a photoinitiator, when the active energy ray is irradiated with respect to the material for releasing agent layer formation, the releasing
(D) 광 중합 개시제로는, 예를 들어, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 아세토페논, 디메틸아미노아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1-온, 4-(2-하이드록시에톡시)페닐-2-(하이드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논, p-페닐벤조페논, 4,4-디에틸아미노벤조페논, 디클로로벤조페논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-터셔리부틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-메틸티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 벤질디메틸케탈, 아세토페논디메틸케탈, p-디메틸아민벤조산에스테르, 및 올리고[2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판] 등을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.(D) As a photoinitiator, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethyl, for example Aminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- Hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- ( Hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertbutylbutylantra Quinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methyl thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, benzyldimethyl Ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimeth Tylamine benzoic acid ester, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane], etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
(D) 광 중합 개시제를 사용하는 경우, 그 함유량은, 고형분 환산으로, 상기 (A1) 에너지선 경화성 화합물 100 질량부에 대해, 1 질량부 이상 20 질량부 이하인 것이 바람직하고, 3 질량부 이상 15 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 함유량이 상기 범위 내이면, 박리제층 (12) 의 두께가, 산소 저해에 의해 경화성이 잘 얻어지지 않는 범위의 두께여도, 특히 우수한 경화성을 얻을 수 있다.(D) When using a photoinitiator, it is preferable that they are 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said (A1) energy-beam curable compounds in conversion of solid content, 3 mass parts or more and 15 It is more preferable that it is below a mass part. When content is in the said range, even if the thickness of the
본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, 상기 (A1) 성분, 상기 (B) 성분, 상기 (C) 성분 및 상기 (D) 성분 이외에, 기타 성분을 함유하고 있어도 된다. 기타 성분으로는, 가교제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 상기 (B) 성분 이외의 대전 방지제, 중합 촉진제, 중합 금지제, 적외선 흡수제, 및 가소제 등을 들 수 있다. 가교제로는, (A1) 성분의 관능기에 수산기가 사용되는 경우에는, 다가 이소시아네이트 화합물, 다가 에폭시 화합물, 다가 아지리딘 화합물, 및 다가 금속 킬레이트 화합물 등을 사용할 수 있다.The release agent layer formation material which concerns on this embodiment may contain other components other than the said (A1) component, the said (B) component, the said (C) component, and the said (D) component. As another component, a crosslinking agent, antioxidant, an ultraviolet absorber, antistatic agents other than the said (B) component, a polymerization promoter, a polymerization inhibitor, an infrared absorber, a plasticizer, etc. are mentioned. As a crosslinking agent, when a hydroxyl group is used for the functional group of (A1) component, a polyvalent isocyanate compound, a polyvalent epoxy compound, a polyvalent aziridine compound, a polyvalent metal chelate compound, etc. can be used.
기타 성분을 사용하는 경우, 그 함유량은, 고형분 환산으로, 상기 (A1) 에너지선 경화성 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하인 것이 바람직하다.When using other components, it is preferable that content is 0.1 mass part or more and 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said (A1) energy-beam curable compounds in conversion of solid content.
본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, 상기 (A1) 성분 및 상기 (B) 성분 등을 혼합하여, 분산시킴으로써 제조할 수 있다. 또한, 박리제층 형성용 재료를 제조할 때에는, 필요에 따라 용제를 배합해도 된다.The material for release agent layer formation which concerns on this embodiment can be manufactured by mixing and disperse | distributing the said (A1) component, the said (B) component, etc. In addition, when manufacturing the material for releasing agent layer formation, you may mix | blend a solvent as needed.
본 실시형태에 관련된 용제로는, 예를 들어, 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, 펜틸알코올, 에틸셀로솔브, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 시클로헥산, 에틸시클로헥산, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 테트라하이드로푸란, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 및 물 등을 들 수 있다. 이것들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.As a solvent which concerns on this embodiment, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, pentyl alcohol, ethyl cellosolve, benzene, toluene, xyl Ethylene, ethylbenzene, cyclohexane, ethylcyclohexane, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether, and water. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
(박리 필름의 제조 방법)(Method for producing peeling film)
다음으로, 전술한 본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 제조하는 방법에 대해 설명한다.Next, the method of manufacturing the peeling film 1 of this embodiment mentioned above is demonstrated.
본 실시형태의 박리 필름 (1) 은, 기재 (11) 를 준비하는 기재 준비 공정과, 박리제층 형성용 재료를 도포하여 건조시킴으로써 도포층을 형성하는 도포층 형성 공정과, 도포층에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 박리제층 (12) 을 형성하는 박리제층 형성 공정을 구비하는 방법으로 제조할 수 있다.The peeling film 1 of this embodiment is active energy in the base material preparation process which prepares the
기재 준비 공정에 있어서는, 기재 (11) 를 준비한다.In the substrate preparation step, the
기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 에, 표면 처리를 실시할 수 있다. 이로써, 기재 (11) 와, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 측에 형성되는 박리제층 (12) 의 밀착성을 특히 우수한 것으로 할 수 있다.Surface treatment can be given to 11 A of 1st surfaces of the
표면 처리로는, 예를 들어, 코로나 방전 처리, 플라즈마 방전 처리, 크롬 산화 처리 (습식), 화염 처리, 열풍 처리, 오존, 및 자외선 조사 처리 등을 들 수 있다. 이들 표면 처리는, 기재 (11) 의 종류에 따라 적절히 선택되지만, 일반적으로 코로나 방전 처리가 효과 및 조작성의 관점에서 바람직하게 사용된다.Examples of the surface treatment include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromium oxidation treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone, and ultraviolet irradiation treatment. Although these surface treatments are suitably selected according to the kind of
도포층 형성 공정에 있어서는, 전술한 박리제층 형성용 재료를, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 상에 도포하여, 건조시킨다. 이로써, 도포층을 얻는다.In a coating layer formation process, the above-mentioned peeling agent layer formation material is apply | coated on 11 A of 1st surfaces of the
전술한 박리제층 형성용 재료를 사용하면, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 요철을 메울 수 있다. 그 결과, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 을 평활하게 할 수 있다.If the above-mentioned material for forming a release agent layer is used, the unevenness of the
박리제층 형성용 재료를 도포하는 방법으로는, 예를 들어, 그라비아 코트법, 바 코트법, 스프레이 코트법, 스핀 코트법, 에어 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 게이트 롤 코트법, 및 다이 코트법 등을 들 수 있다.As a method of apply | coating the material for releasing agent layer formation, For example, the gravure coating method, the bar coating method, the spray coating method, the spin coating method, the air knife coating method, the roll coating method, the blade coating method, the gate roll coating method, And a die coat method.
박리제층 형성용 재료를 건조시키는 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 열풍 건조로 등에서 건조시키는 방법 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a method of drying the material for releasing agent layer formation, For example, the method of drying in a hot air drying furnace, etc. are mentioned.
건조 조건으로는, 특별히 한정되지 않지만, 건조 온도는, 50 ℃ 이상 100 ℃ 이하인 것이 바람직하고, 건조 시간은 5 초간 이상 1 분간 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 도포층의 본의 아닌 변질을 방지할 수 있음과 함께, 도포층을 특히 효율적으로 형성할 수 있다. 그 결과, 최종적으로 얻어지는 박리 필름 (1) 의 생산성을 향상시킬 수 있다. 또, 건조 온도가 상기 범위 내이면, 박리제층 형성용 재료가 용제 등을 함유하는 것인 경우에, 건조시의 용제 등의 증발을 수반하는, 도포층의 휨 또는 크랙 등의 발생을 방지할 수 있다.Although it does not specifically limit as drying conditions, It is preferable that drying temperature is 50 degreeC or more and 100 degrees C or less, and it is preferable that a drying time is 5 seconds or more and 1 minute or less. As a result, unintended deterioration of the coating layer can be prevented, and the coating layer can be formed particularly efficiently. As a result, productivity of the peeling film 1 finally obtained can be improved. Moreover, when drying temperature is in the said range, when the material for peeling agent layer formation contains a solvent etc., generation | occurrence | production of the curvature or a crack of an application layer with evaporation of a solvent etc. at the time of drying can be prevented. have.
박리제층 형성 공정에 있어서는, 상기 도포층 형성 공정에서 얻어진 도포층에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 박리제층 (12) 을 형성한다.In a releasing agent layer formation process, the releasing
이 공정에 있어서, 상기 도포층 형성 공정에서, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 요철을 적확하게 매립한 도포층을, 그 외표면 (12A) 의 평활성을 유지한 채로 경화시킨다. 그 결과, 외표면 (12A) 이 충분히 평활한 박리제층 (12) 을 얻을 수 있다. 또, 박리제층 형성용 재료가, 전술한 바와 같은 구성 성분을 함유하는 것에 의해, 적당한 도전성을 갖는 박리제층 (12) 을 얻을 수 있다.In this step, in the coating layer forming step, the coating layer in which the unevenness of the
활성 에너지선으로는, 예를 들어, 전자파 (적외선, 가시광선, 자외선 및 X 선 등) 및 입자선 (전자선, 이온 빔, 중성자선 및 α 선 등) 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 자외선 또는 가시광선을 사용하는 것이 바람직하고, 자외선을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 이로써, 박리제층 (12) 을, 보다 용이하고 확실하게 형성할 수 있다.Examples of the active energy rays include electromagnetic waves (infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, and the like) and particle beams (electron rays, ion beams, neutron rays, α rays, and the like). Among these, it is preferable to use an ultraviolet-ray or visible light, and it is more preferable to use an ultraviolet-ray. Thereby, the
활성 에너지선으로서 자외선이 사용되는 경우에는, 도포층을 경화시키는 경화 시간을 충분히 짧게 하면서, 도포층을 균일하게 경화시킬 수 있다. 또, 활성 에너지선을 조사하는 수단으로는, 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 일반적 수단을 이용할 수 있다. 예를 들어 광원으로는, 압수은 램프, 메탈할라이드 램프, 및 엑시머 램프 등의 광원 램프를 사용할 수 있다.When ultraviolet rays are used as the active energy ray, the coating layer can be uniformly cured while sufficiently shortening the curing time for curing the coating layer. Moreover, it does not specifically limit as a means to irradiate an active energy ray, Various general means can be used. For example, as a light source, light source lamps, such as a pressurized silver lamp, a metal halide lamp, and an excimer lamp, can be used.
활성 에너지선 (자외선) 을 조사하는 경우에는, 활성 에너지선의 조사량은, 적산 광량이 30 mJ/㎠ 이상 400 mJ/㎠ 이하인 것이 바람직하고, 50 mJ/㎠ 이상 300 mJ/㎠ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 활성 에너지선의 조도가 0.1 W/㎠ 이상 4.0 W/㎠ 이하인 것이 바람직하다. 자외선의 조사량 및 조도가 상기 범위 내이면, 도포층을 보다 균일하고 또한 확실하게 경화시킬 수 있다.When irradiating an active energy ray (ultraviolet ray), it is preferable that accumulated light quantity is 30 mJ / cm <2> or more and 400 mJ / cm <2>, and, as for the irradiation amount of an active energy ray, it is more preferable that they are 50 mJ / cm <2> or more and 300 mJ / cm <2> or less. Moreover, it is preferable that the illuminance of an active energy ray is 0.1 W / cm <2> or more and 4.0 W / cm <2> or less. If the irradiation amount and illuminance of an ultraviolet-ray are in the said range, a coating layer can be hardened more uniformly and reliably.
(박리 필름의 사용 방법)(How to use peeling film)
다음으로, 전술한 본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 사용하는 방법에 대해 설명한다.Next, the method of using the peeling film 1 of this embodiment mentioned above is demonstrated.
본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 사용하여 세라믹 콘덴서를 제조할 수 있다. 세라믹 콘덴서의 제조 방법으로는, 예를 들어, 박리 필름 (1) 의 박리제층 (12) 의 표면에, 세라믹 분말 분산 슬러리를 도포하고, 건조시켜 그린 시트를 형성한 후, 박리 필름 (1) 으로부터 박리한 그린 시트를 적층하고, 소성하여 얻어진 세라믹 시트에 전극을 형성하는 방법을 들 수 있다. 본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 사용하여 그린 시트를 제조하면, 그린 시트로부터 박리 필름을 제거할 때의 정전기에 의해 발생할 트러블을 억제할 수 있어, 높은 생산성을 기대할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 박리 필름 (1) 은 정전기에 의해 블로킹성이 강해지지 않는 점에서, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 및 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 의 양방을 고평활하게 할 수 있다. 이로써, 본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 사용하여 형성된 그린 시트에 의해 세라믹 콘덴서를 형성하면, 단락에 의한 문제의 발생이 방지된 신뢰성이 높은 세라믹 콘덴서를 얻을 수 있다.The ceramic capacitor can be manufactured using the peeling film 1 of this embodiment. As a manufacturing method of a ceramic capacitor, after apply | coating a ceramic powder dispersion slurry to the surface of the
(제 1 실시형태의 작용 효과)(Effects of the First Embodiment)
본 실시형태에 의하면, 다음과 같은 작용 효과를 발휘할 수 있다.According to this embodiment, the following effects can be exhibited.
(1) (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물에 의해, 박리제층 (12) 에 박리성을 부여할 수 있음과 함께, 충분한 대전 방지성을 부여할 수 있다. 또, 이 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물을 사용하는 경우에는, 박리제층 형성용 재료 중의 경화 성분이 지나치게 적어지지 않므로, 박리제층 형성용 재료의 경화성을 유지할 수 있고, 또, 기재 (11) 와의 밀착성도 유지할 수 있다.(1) The (B) ionic group-containing silicone compound can impart peelability to the
(2) (A1) 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 박리제층 형성용 재료는, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 의 요철을 용이하게 매립할 수 있고, 그 매립한 상태를 유지할 수 있다. 그 결과, 박리제층 (12) 의 기재 (11) 와 반대의 외표면 (12A) 측에, 기재 (11) 의 요철이 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 을 평활하게 할 수 있다.(2) (A1) The material for release agent layer formation containing an energy ray curable compound can easily embed the unevenness | corrugation of 11 A of 1st surface of the
(3) 본 실시형태의 박리 필름 (1) 은 정전기에 의해 블로킹성이 강해지지 않기 때문에, 박리제층 (12) 의 외표면 (12A) 및 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 의 양방을 고평활하게 할 수 있다.(3) Since the peeling property of the peeling film 1 of this embodiment does not become strong by static electricity, both the
(4) 본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 사용하여 그린 시트를 제조하면, 그린 시트로부터 박리 필름을 제거할 때의 정전기에 의해 발생할 트러블을 억제할 수 있어, 높은 생산성을 기대할 수 있다.(4) When a green sheet is manufactured using the peeling film 1 of this embodiment, the trouble which arises by the static electricity at the time of removing a peeling film from a green sheet can be suppressed, and high productivity can be expected.
[제 2 실시형태]Second Embodiment
다음으로, 본 발명의 제 2 실시형태에 대해 설명한다.Next, a second embodiment of the present invention will be described.
제 2 실시형태에서는, 박리제 형성용 재료에 있어서의 (A) 경화성 화합물로서, (A2) 열경화성 화합물을 사용한 경우를 예로 들어 설명한다.In 2nd Embodiment, the case where a (A2) thermosetting compound is used as an (A) curable compound in the material for peeling agent formation is demonstrated as an example.
또한, 본 실시형태는, (A) 경화성 화합물로서 (A2) 열경화성 화합물을 사용한 것 이외에는, 상기 제 1 실시형태와 동일하기 때문에, (A2) 열경화성 화합물을 함유하는 박리제층 형성용 재료 및 그 사용 방법에 대해 설명하고, 그 이외의 설명은 생략 또는 간략화한다.In addition, since this embodiment is the same as that of said 1st embodiment except having used the (A2) thermosetting compound as (A) curable compound, the material for peeling agent layer formation containing (A2) thermosetting compound, and its use method Will be described, and other explanations will be omitted or simplified.
(박리제층 형성용 재료)(Material for forming a release agent layer)
본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, (A2) 열경화성 화합물과, (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물을 함유하는 것이다.The material for release agent layer formation which concerns on this embodiment contains a (A2) thermosetting compound and (B) ionic group containing silicone compound.
본 실시형태에 관련된 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물에 대해서는, 상기 제 1 실시형태에서 사용하는 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물과 동일하다.About the (B) ionic group containing silicone compound which concerns on this embodiment, it is the same as the (B) ionic group containing silicone compound used by said 1st Embodiment.
(열경화성 화합물)(Thermosetting compound)
본 실시형태에 관련된 (A2) 열경화성 화합물은, 경화시킴으로써 박리제층 (12) 의 형성에 기여하는 성분이다. 이로써, 박리제층 (12) 의 기계적 강도를 보다 적당한 것으로 할 수 있다.The (A2) thermosetting compound which concerns on this embodiment is a component which contributes to formation of the
(A2) 열경화성 화합물로는, 멜라민 수지, 우레아 수지, 구아나민 수지 등의 아미노 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 및 알키드 수지 등의 공지된 열경화성 화합물을 사용할 수 있다. 이들 열경화성 화합물 중에서도, 특히 바람직하게는, 멜라민 수지를 들 수 있다.As a thermosetting compound (A2), well-known thermosetting compounds, such as an amino resin, such as a melamine resin, a urea resin, a guanamine resin, an epoxy resin, a phenol resin, and an alkyd resin, can be used. Among these thermosetting compounds, melamine resin is particularly preferable.
또한, 일반적으로, 「멜라민 수지」란, 복수종의 멜라민 화합물, 및 복수종의 멜라민 화합물이 축합하여 생성되는 다핵체 중, 적어도 어느 일방을 함유하는 혼합물을 의미한다. 본 명세서에 있어서는, 「멜라민 수지」라는 어구는, 상기 혼합물 또는 1 종의 멜라민 화합물의 집합물을 의미하는 것으로 한다. 또한, 본 명세서에서는, 이 멜라민 수지가 경화된 것을 「멜라민 경화물」이라고 하는 것으로 한다.In addition, generally, a "melamine resin" means the mixture containing at least any one of the melamine compound of several types, and the multinuclear body which condenses and produces a plurality of melamine compounds. In this specification, the phrase "melamine resin" shall mean the mixture of the said mixture or 1 type of melamine compound. In addition, in this specification, what hardened | cured this melamine resin shall be called "melamine hardened | cured material."
멜라민 수지는, 하기 일반식 (a) 로 나타내는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that melamine resin contains the compound represented by the following general formula (a).
[화학식 9][Formula 9]
상기 일반식 (a) 에 있어서, X 는, -H, -CH2-OH 기, 또는 -CH2-O-R 기를 나타낸다. 이들 기는, 멜라민 화합물끼리의 축합 반응에 있어서의 반응기를 구성한다. 구체적으로는, X 가 H 가 됨으로써 형성되는 -NH 기는, -N-CH2-OH 기 및 -N-CH2-R 기와의 사이에서 축합 반응을 실시할 수 있다. 또, X 가 -CH2-OH 가 됨으로써 형성되는 -N-CH2-OH 기, 및 X 가 -CH2-R 기가 됨으로써 형성되는 -N-CH2-R 기는, 모두, -NH 기,-N-CH2-OH 기 및 -N-CH2-R 기와의 사이에서 축합 반응을 실시할 수 있다. 또, -CH2-OH 기 및 -CH2-O-R 기는, 폴리오르가노실록산 등과 멜라민 화합물 사이의 축합 반응에 기여하는 반응기를 구성한다. 멜라민 화합물이 당해 반응기를 가짐으로써, 전술한 효과를 발휘하는 박리제층 (12) 이 형성된다. 상기 일반식 (a) 에 있어서, 모든 X 가 -H 가 되지 않는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 적어도 1 개의 X 는, -CH2-OH 기, 또는 -CH2-O-R 기인 것이 바람직하다.In the general formula (a), X is, -H, -CH 2 represents an -OH group, or -CH 2 -OR. These groups comprise the reactor in the condensation reaction of melamine compounds. Specifically, it is possible to carry out a condensation reaction between X is the -NH group which is formed by a H, -N-CH 2 -OH group and a -N-CH 2 -R group. In addition, the -N-CH 2 -OH group formed when X is -CH 2 -OH and the -N-CH 2 -R group formed when X is -CH 2 -R group are all -NH group,- among the N-CH 2 -OH group and a -N-CH 2 -R group can be carried out the condensation reaction. In addition, the configuration of the reactor which contribute to a condensation reaction between the -CH 2 -OH group and a -CH 2 -OR group, a polyorganosiloxane as the melamine compound. When a melamine compound has the said reactor, the
상기 -CH2-O-R 기에 있어서, R 은, 탄소수 1 내지 8 의 알킬기를 나타낸다. 이 탄소수는, 1 내지 4 인 것이 바람직하고, 1 또는 2 인 것이 보다 바람직하다. 탄소수 1 내지 8 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 및 옥틸기 등을 들 수 있고, 특히 메틸기가 바람직하다.In the -CH 2 -OR group, R represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. It is preferable that it is 1-4, and, as for this carbon number, it is more preferable that it is 1 or 2. As a C1-C8 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, etc. are mentioned, for example, A methyl group is especially preferable.
X 는, 각각 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또, R 은, 각각 동일해도 되고, 상이해도 된다.X may be the same respectively and may differ. In addition, R may be the same respectively and may differ.
축합 반응이 효율적으로 발생한다는 관점에서, 상기 일반식 (a) 중, -H 가 되는 X 의 수는, 2 이하인 것이 바람직하고, 1 이하인 것이 보다 바람직하며, 0 인 것이 특히 바람직하다. -H 가 되는 X 의 수가 0 이 되는 멜라민 화합물로는, 모든 X 가 -CH2-O-CH3 인 헥사메톡시메틸멜라민을 들 수 있다.From the viewpoint that the condensation reaction takes place efficiently, in the general formula (a), the number of X to be -H is preferably 2 or less, more preferably 1 or less, and particularly preferably 0. Examples of the melamine compound in which the number of X to be -H is 0 are hexamethoxymethylmelamine in which all X are -CH 2 -O-CH 3 .
박리제층 형성용 재료에 있어서의 (A2) 열경화성 화합물의 고형분 환산의 함유량 (용제를 제외한 전체 고형분 중에 있어서의 함유 비율) 은, 65 질량% 이상인 것이 바람직하고, 70 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 65 mass% or more, and, as for content (content rate in the total solid except a solvent) of solid content conversion of (A2) thermosetting compound in a peeling agent layer formation material, it is more preferable that it is 70 mass% or more.
(박리제)(remover)
박리제층 (12) 의 박리성을 더욱 향상시키기 위해서, 박리제층 형성용 재료는, (C) 제 2 박리 부여 성분을 함유하고 있어도 된다.In order to further improve the peelability of the releasing
본 실시형태에 관련된 (C) 제 2 박리 부여 성분에 대해서는, 상기 제 1 실시형태에서 사용하는 (C) 제 2 박리 부여 성분과 동일하다.About (C) 2nd peeling imparting component which concerns on this embodiment, it is the same as (C) 2nd peeling imparting component used by said 1st embodiment.
(경화제 또는 촉매)(Curing agent or catalyst)
박리제층 형성용 재료를 경화시키기 위해서, 박리제층 형성용 재료는, (E) 경화제 또는 촉매를 함유하고 있어도 된다. 열경화성 화합물로서 멜라민 수지를 사용한 경우에는, (E) 성분으로서 산촉매가 사용된다.In order to harden the material for releasing agent layer formation, the material for releasing agent layer formation may contain the (E) hardening | curing agent or a catalyst. When melamine resin is used as a thermosetting compound, an acid catalyst is used as (E) component.
이와 같은 (E) 산촉매로는, 염산 및 p-톨루엔술폰산 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, p-톨루엔술폰산이 바람직하다. 박리제층 형성용 재료가 산촉매를 함유함으로써, 상기 멜라민 수지에 있어서의 축합 반응을 효율적으로 진행시킬 수 있다.As such (E) acid catalyst, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, etc. are mentioned. Among these, p-toluenesulfonic acid is preferable. When the material for the release agent layer formation contains an acid catalyst, the condensation reaction in the melamine resin can be promoted efficiently.
본 실시형태에 관련된 박리제 조성물 중에 있어서의 산촉매의 함유량은, 상기 (A2) 열경화성 화합물 100 질량부에 대해, 1 질량부 이상 20 질량부 이하인 것이 바람직하고, 2 질량부 이상 15 질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 4 질량부 이상 10 질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that it is 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said (A2) thermosetting compounds, and, as for content of the acid catalyst in the peeling agent composition which concerns on this embodiment, it is more preferable that they are 2 mass parts or more and 15 mass parts or less. And it is especially preferable that they are 4 mass parts or more and 10 mass parts or less.
본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, 상기 (A2) 성분, 상기 (B) 성분, 상기 (C) 성분 및 상기 (E) 성분 이외에, 기타 성분을 함유하고 있어도 된다. 기타 성분으로는, 상기 제 1 실시형태에서 기재한 성분과 동일한 성분을 들 수 있다.The release agent layer forming material according to the present embodiment may contain other components in addition to the component (A2), the component (B), the component (C) and the component (E). As another component, the component similar to the component described in the said 1st Embodiment is mentioned.
또, 본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, 에틸렌글리콜 및 프로판디올 등의 글리콜계 화합물 등의 반응 희석제를 함유하고 있어도 된다.In addition, the material for release agent layer formation which concerns on this embodiment may contain reaction diluents, such as glycol type compounds, such as ethylene glycol and a propanediol.
기타 성분을 사용하는 경우, 그 함유량은, 고형분 환산으로, 상기 (A2) 열경화성 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하인 것이 바람직하다.When using other components, it is preferable that the content is 0.1 mass part or more and 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said (A2) thermosetting compounds in conversion of solid content.
본 실시형태에 관련된 박리제층 형성용 재료는, 상기 (A2) 성분 및 상기 (B) 성분 등을 혼합하여, 분산시킴으로써 제조할 수 있다. 또한, 박리제층 형성용 재료를 제조할 때에는, 필요에 따라 용제를 배합해도 된다.The material for release agent layer formation which concerns on this embodiment can be manufactured by mixing and disperse | distributing the said (A2) component, the said (B) component, etc. In addition, when manufacturing the material for releasing agent layer formation, you may mix | blend a solvent as needed.
본 실시형태에 관련된 용제에 대해서는, 상기 제 1 실시형태에서 사용하는 용제와 동일하다.About the solvent which concerns on this embodiment, it is the same as the solvent used by the said 1st Embodiment.
(박리 필름의 제조 방법)(Method for producing peeling film)
다음으로, 전술한 본 실시형태의 박리 필름 (1) 을 제조하는 방법에 대해 설명한다.Next, the method of manufacturing the peeling film 1 of this embodiment mentioned above is demonstrated.
본 실시형태의 박리 필름 (1) 은, 기재 (11) 를 준비하는 기재 준비 공정과, 박리제층 형성용 재료를 도포하여 건조시킴으로써 도포층을 형성하는 도포층 형성 공정과, 도포층에, 열처리를 실시하여 경화시킴으로써 박리제층 (12) 을 형성하는 박리제층 형성 공정을 구비하는 방법으로 제조할 수 있다.The peeling film 1 of this embodiment heat-processes the base material preparation process which prepares the
기재 준비 공정 및 도포층 형성 공정에 대해서는, 상기 제 1 실시형태에 있어서의 기재 준비 공정 및 도포층 형성 공정과 동일하다.The substrate preparation step and the coating layer forming step are the same as the substrate preparation step and the coating layer forming step in the first embodiment.
박리제층 형성 공정에 있어서는, 상기 도포층 형성 공정에서 얻어진 도포층에, 열처리를 실시하여, 도포층을 경화시킴으로써 박리제층 (12) 을 형성한다.In the release agent layer formation process, the
열처리의 조건은, (A2) 열경화성 화합물의 종류에 따라 상이하고, 특별히 한정되지 않는다. 멜라민 수지를 사용하는 경우, 가열 온도는 90 ℃ 이상 140 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 또, 가열 시간은 10 초간 이상 120 초간 이하인 것이 바람직하다. 가열 온도 및 가열 시간이 상기 범위 내이면, 도포층을 보다 균일하고 또한 확실하게 경화시킬 수 있다.The conditions of the heat treatment differ depending on the kind of the (A2) thermosetting compound and are not particularly limited. When using melamine resin, it is preferable that heating temperature is 90 degreeC or more and 140 degrees C or less. Moreover, it is preferable that heating time is 10 second or more and 120 second or less. If heating temperature and a heat time are in the said range, a coating layer can be hardened more uniformly and reliably.
본 실시형태에 의하면, 상기 제 1 실시형태와 동일한 작용 효과를 발휘할 수 있다.According to this embodiment, the effect similar to the said 1st Embodiment can be exhibited.
본 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름의 보다 구체적인 예로는, 예를 들어, 이하와 같은 그린 시트 형성용 박리 필름의 예를 들 수 있지만, 본 발명은, 이와 같은 예에 한정되지 않는다.As a more specific example of the peeling film for green sheet formation which concerns on this embodiment, although the following peeling film for green sheet formation is mentioned, for example, this invention is not limited to such an example.
본 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름의 일례로서, 기재와, 상기 기재의 편면에 형성된 박리제층을 구비하고, 상기 박리제층은, (A1) 에너지선 경화성 화합물로서의 수산기 함유 아크릴계 화합물과, (B) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 상기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물과, (D) 광 중합 개시제를 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는, 그린 시트 형성용 박리 필름을 들 수 있다.As an example of the peeling film for green sheet formation which concerns on this embodiment, the base material and the peeling agent layer formed in the single side | surface of the said base material are provided, The said peeling agent layer is a hydroxyl-containing acrylic compound as (A1) an energy-beam curable compound, ( B) It consists of an ionic group containing silicone compound which has a structural unit represented by the said General formula (1), and a structural unit represented by the said General formula (2), and the hardened | cured material of the release agent formation material containing (D) photoinitiator. And a release film for forming a green sheet.
본 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름의 일례로서, 기재와, 상기 기재의 편면에 형성된 박리제층을 구비하고, 상기 박리제층은, (A1) 에너지선 경화성 화합물로서의 수산기 함유 아크릴계 화합물과, (B) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 상기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물과, (C) 제 2 박리 부여 성분으로서의 직사슬형 또는 분기형의 분자 사슬을 갖는 폴리오르가노실록산과, (D) 광 중합 개시제를 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는, 그린 시트 형성용 박리 필름을 들 수 있다.As an example of the peeling film for green sheet formation which concerns on this embodiment, the base material and the peeling agent layer formed in the single side | surface of the said base material are provided, The said peeling agent layer is a hydroxyl-containing acrylic compound as (A1) an energy-beam curable compound, ( B) Ionic group containing silicone compound which has a structural unit represented by the said General formula (1), and the structural unit represented by the said General formula (2), and (C) linear or branched molecular chain as a 2nd peeling provision component. The peeling film for green sheet formation which consists of a polyorganosiloxane which has the thing and the hardened | cured material of the material for peeling agent formation containing (D) photoinitiator is mentioned.
본 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름의 일례로서, 기재와, 상기 기재의 편면에 형성된 박리제층을 구비하고, 상기 박리제층은, (A2) 열경화성 화합물로서의 멜라민 수지와, (B) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 상기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물과, (E) 산촉매를 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는, 그린 시트 형성용 박리 필름을 들 수 있다.As an example of the peeling film for green sheet formation which concerns on this embodiment, it has a base material and the peeling agent layer formed in the single side | surface of the said base material, The said peeling agent layer is (A2) melamine resin as a thermosetting compound, (B) said general Peeling for green sheet formation which consists of a hardened | cured material of the ionic group containing silicone compound which has a structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by the said General formula (2), and the (E) acid catalyst-forming material containing an acid catalyst. A film is mentioned.
본 실시형태에 관련된 그린 시트 형성용 박리 필름의 일례로서, 기재와, 상기 기재의 편면에 형성된 박리제층을 구비하고, 상기 박리제층은, (A2) 열경화성 화합물로서의 멜라민 수지와, (B) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 상기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물과, (C) 제 2 박리 부여 성분으로서의 직사슬형 또는 분기형의 분자 사슬을 갖는 폴리오르가노실록산과, (E) 산촉매를 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는, 그린 시트 형성용 박리 필름을 들 수 있다.As an example of the peeling film for green sheet formation which concerns on this embodiment, it has a base material and the peeling agent layer formed in the single side | surface of the said base material, The said peeling agent layer is (A2) melamine resin as a thermosetting compound, (B) said general Polyolefin having an ionic group-containing silicone compound having a structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) and (C) a linear or branched molecular chain as the second peeling imparting component. The peeling film for green sheet formation which consists of a hardened | cured material of the material of the release agent formation containing an organosiloxane and the (E) acid catalyst is mentioned.
[실시형태의 변형]Variation of Embodiment
본 발명은 전술한 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 범위에서의 변형, 개량 등은 본 발명에 포함되는 것이다.This invention is not limited to embodiment mentioned above, The deformation | transformation, improvement, etc. in the range which can achieve the objective of this invention are included in this invention.
예를 들어, 전술한 실시형태에서는, 기재 (11) 는 단층 구조의 것으로 하여 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 기재 (11) 는, 동종 또는 이종의 2 층 이상의 다층 구조를 이루는 것이어도 된다. 또, 박리제층 (12) 에 대해서도 마찬가지로, 단층 구조의 것으로 하여 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 박리제층 (12) 에 대해서도, 동종 또는 이종의 2 층 이상의 다층 구조를 이루는 것이어도 된다.For example, in embodiment mentioned above, although the
또, 예를 들어, 전술한 실시형태에서는, 기재 (11) 의 제 1 면 (11A) 에 박리제층 (12) 을 형성한 그린 시트 형성용 박리 필름에 대해 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 기재 (11) 의 제 2 면 (11B) 측에 박리제층 (12) 을 형성해도 된다.For example, although the above-mentioned embodiment demonstrated the peeling film for green sheet formation which provided the
또, 예를 들어, 전술한 실시형태에서는, (A1) 에너지선 경화성 화합물로서, (메트)아크릴로일기 등의 반응성 관능기를 갖는 것을 사용하고, (A2) 열경화성 화합물로서, 멜라민 수지를 사용하였지만, 이것들에 한정되지 않는다.For example, in embodiment mentioned above, although (A1) used as a energy ray curable compound, what has reactive functional groups, such as a (meth) acryloyl group, melamine resin was used as (A2) thermosetting compound, It is not limited to these.
실시예Example
다음으로, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 및 비교예에서 사용한 재료를 이하에 나타낸다.Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples. In addition, the material used by the Example and the comparative example is shown below.
((A1) 성분)((A1) component)
에너지선 경화성 화합물 : 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 고형분 100 질량%, 상품명 「NK 에스테르 A-TMM-3L」, 신나카무라 화학 공업사 제조Energy-beam curable compound: Pentaerythritol triacrylate, 100 mass% of solid content, brand name "NK ester A-TMM-3L", the Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. product
((A2) 성분)((A2) component)
열경화성 화합물 : 멜라민 수지 (주성분 : 헥사메톡시메틸멜라민, 고형분 100 질량%, 상품명 「니카락 MW-100LM」, 닛폰 카바이드 공업사 제조)Thermosetting compound: melamine resin (main component: hexamethoxymethylmelamine, solid content 100% by mass, trade name "Nicarac MW-100LM", manufactured by Nippon Carbide Industry Co., Ltd.)
((B) 성분)((B) component)
이온성기 함유 실리콘 화합물 : 상품명 「이온성기 함유 실리콘 올리고머 X-40-2450」, 신에츠 실리콘사 제조Ionic group containing silicone compound: Brand name "Ionic group containing silicone oligomer X-40-2450", Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. product
((C) 성분)((C) component)
박리제 : 상품명 「SH-28」, 토오레·다우코닝사 제조Release agent: Brand name "SH-28", manufactured by Toray Dow Corning
((D) 성분)((D) component)
광 중합 개시제 : 상품명 「이르가큐어 184」, BASF 사 제조Photoinitiator: Trade name "Irgacure 184", manufactured by BASF Corporation
((E) 성분)((E) component)
산촉매 : p-톨루엔술폰산Acid catalyst: p-toluenesulfonic acid
(기타 성분)(Other ingredients)
대전 방지제 : 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 상품명 「에스톱 EF-N」, 미스비시 마테리알 전자 화성사 제조Antistatic agent: Lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, a brand name "Estop EF-N", the Mitsubishi Matherial Electrochemical company make
[실시예 1]Example 1
먼저, 기재로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (상품명 「루미러 U48」, 토오레사 제조, 두께 : 50 ㎛, 제 1 면의 산술 평균 조도 Ra (Ra1) : 2 ㎚, 제 1 면의 최대 돌기 높이 Rp (Rp1) : 15 ㎚, 제 2 면의 산술 평균 조도 Ra (Ra2) : 2 ㎚, 제 2 면의 최대 돌기 높이 Rp (Rp2) : 15 ㎚) 을 준비하였다.First, a polyethylene terephthalate film (trade name "Lu mirror U48", Toray Co., Ltd., thickness as the substrate: 50 ㎛, the arithmetic mean roughness of the first surface Ra (Ra 1): the maximum protrusion height of 2 ㎚, the first surface Rp (Rp 1 ): 15 nm, arithmetic mean roughness Ra (Ra 2 ) of the second surface: 2 nm, and the maximum protrusion height Rp (Rp 2 ) of the second surface: 15 nm.
다음으로, 에너지선 경화성 화합물 100 질량부와, 이온성기 함유 실리콘 화합물 5 질량부와, 광 중합 개시제 10.5 질량부를 혼합하고, 이소프로필알코올로 희석하여, 고형분 15 질량% 의 박리제층 형성용 재료를 얻었다.Next, 100 mass parts of energy ray curable compounds, 5 mass parts of ionic group containing silicone compounds, and 10.5 mass part of photoinitiators were mixed, and it diluted with isopropyl alcohol, and obtained the material for the release agent layer formation of 15 mass% of solid content. .
이어서, 얻어진 박리제층 형성용 재료를 마이어 바로 기재의 제 1 면 상에 도포하고, 70 ℃ 에서 1 분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프를 사용하여, 자외선을 조사 (적산 광량 : 300 mJ/㎠) 하여 박리제층 (두께 : 1 ㎛) 을 형성하고, 그린 시트 형성용 박리 필름을 얻었다.Subsequently, the obtained release agent layer forming material was applied onto the first surface of the meyer bar, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet light (accumulated light amount: 300 mJ / cm 2) using a high-pressure mercury lamp. A release agent layer (thickness: 1 micrometer) was formed and the release film for green sheet formation was obtained.
[실시예 2, 비교예 1 및 2]Example 2, Comparative Examples 1 and 2
표 1 에 나타내는 조성에 따라 각 재료를 배합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 박리제층 형성용 재료를 얻었다.Except having mix | blended each material according to the composition shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and obtained the material for releasing agent layer formation.
또, 얻어진 박리제층 형성용 재료를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 그린 시트 형성용 박리 필름을 제작하였다.Moreover, the peeling film for green sheet formation was produced like Example 1 except having used the obtained material for peeling agent layer formation.
[실시예 3]Example 3
먼저, 기재로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (상품명 「루미러 U48」, 토오레사 제조, 두께 : 50 ㎛, 제 1 면의 산술 평균 조도 Ra (Ra1) : 2 ㎚, 제 1 면의 최대 돌기 높이 Rp (Rp1) : 15 ㎚, 제 2 면의 산술 평균 조도 Ra (Ra2) : 2 ㎚, 제 2 면의 최대 돌기 높이 Rp (Rp2) : 15 ㎚) 을 준비하였다.First, a polyethylene terephthalate film (trade name "Lu mirror U48", Toray Co., Ltd., thickness as the substrate: 50 ㎛, the arithmetic mean roughness of the first surface Ra (Ra 1): the maximum protrusion height of 2 ㎚, the first surface Rp (Rp 1 ): 15 nm, arithmetic mean roughness Ra (Ra 2 ) of the second surface: 2 nm, and the maximum protrusion height Rp (Rp 2 ) of the second surface: 15 nm.
다음으로, 열경화성 화합물 100 질량부와, 이온성기 함유 실리콘 화합물 5 질량부와, 산촉매 5 질량부를 혼합하고, 이소프로필알코올로 희석하여, 고형분 15 질량% 의 박리제층 형성용 재료를 얻었다.Next, 100 parts by mass of the thermosetting compound, 5 parts by mass of the ionic group-containing silicone compound, and 5 parts by mass of the acid catalyst were mixed and diluted with isopropyl alcohol to obtain a release agent layer-forming material having a solid content of 15% by mass.
이어서, 얻어진 박리제층 형성용 재료를 마이어 바로 기재의 제 1 면 상에 도포하고, 120 ℃ 에서 1 분간의 열처리에 의해, 경화시켜 박리제층 (두께 : 1 ㎛) 을 형성하고, 그린 시트 형성용 박리 필름을 얻었다.Subsequently, the obtained release agent layer forming material was applied onto the first surface of the meyer bar, cured by heat treatment at 120 ° C. for 1 minute to form a release agent layer (thickness: 1 μm), and peeling for green sheet formation. A film was obtained.
[비교예 3]Comparative Example 3
표 1 에 나타내는 조성에 따라 각 재료를 배합한 것 이외에는 실시예 3 과 동일하게 하여, 박리제층 형성용 재료를 얻었다.Except having mix | blended each material according to the composition shown in Table 1, it carried out similarly to Example 3, and obtained the material for releasing agent layer formation.
또, 얻어진 박리제층 형성용 재료를 사용한 것 이외에는 실시예 3 과 동일하게 하여, 그린 시트 형성용 박리 필름을 제작하였다.Moreover, the peeling film for green sheet formation was produced like Example 3 except having used the obtained peeling agent layer formation material.
[박리 필름의 평가][Evaluation of peeling film]
박리 필름의 평가 (경화성, 내용제성, 표면 저항률, 대전량, 반감기, 박리제층의 표면 조도, 기재와의 밀착성, 및 권출 대전) 를 이하와 같은 방법으로 실시하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.Evaluation of the release film (curability, solvent resistance, surface resistivity, charge amount, half-life, surface roughness of the release agent layer, adhesiveness with the base material, and unwinding charge) was performed by the following method. The obtained results are shown in Table 1.
(1) 경화성(1) curability
박리 필름의 박리제층을 손가락으로 10 회 문질러, 박리제층의 흐림 (스미어) 및 탈락 (러브 오프) 을, 형광등 아래에서 육안으로 관찰하였다. 그리고, 이하의 기준에 따라서, 흐림 (스미어) 을 평가하였다.The release agent layer of the release film was rubbed 10 times with a finger, and the cloudiness (smear) and dropping off (love off) of the release agent layer were visually observed under a fluorescent lamp. And cloudy (smear) was evaluated according to the following criteria.
A : 박리제층에 변화가 없다.A: There is no change in a releasing agent layer.
B : 박리제층에 흐림이 발생하였다.B: Cloudiness occurred in the release agent layer.
또, 이하의 기준에 따라서, 탈락 (러브 오프) 을 평가하였다.In addition, dropout (love off) was evaluated according to the following criteria.
A : 박리제층에 변화가 없다.A: There is no change in a releasing agent layer.
B : 박리제층에 탈락이 발생하였다.B: Dropping occurred in the release agent layer.
(2) 내용제성(2) solvent resistance
메틸에틸케톤을 적당량 함유시킨 웨이스트로, 박리 필름의 박리제층을 20 왕복, 2 ㎏/㎠ 하중으로 문질러, 박리제층의 흐림 및 탈락을, 형광등 아래에서 육안으로 관찰하였다. 그리고, 이하의 기준에 따라서, 내용제성을 평가하였다.With a waste containing an appropriate amount of methyl ethyl ketone, the release agent layer of the release film was rubbed with a 20 reciprocating, 2 kg / cm 2 load, and the clouding and dropping off of the release agent layer was visually observed under a fluorescent lamp. And solvent resistance was evaluated according to the following criteria.
A : 박리제층에 변화가 없다.A: There is no change in a releasing agent layer.
B : 박리제층에 흐림 또는 탈락이 발생하였다.B: Cloudiness or dropping occurred in the release agent layer.
(3) 표면 저항률(3) surface resistivity
박리 필름의 박리제층의 표면 저항률을, 미츠비시 화학 애널리테크사 제조의 「하이레스타 UP」을 사용하여, 인가 전압 100 V, 측정 시간 10 초 후의 측정 조건으로 측정하였다. 또한, 측정은 5 회 실시하고, 그 평균치를 표면 저항률 (단위 : Ω/□) 로서 산출하였다.The surface resistivity of the peeling agent layer of a peeling film was measured under the applied voltage 100V and the measurement conditions after 10 second of measurement time using the "Hyrestar UP" by Mitsubishi Chemical Analyzer. In addition, the measurement was performed 5 times and the average value was computed as surface resistivity (unit: ohm / square).
(4) 대전압 및 반감기(4) large voltage and half-life
박리 필름에 있어서의 대전압 (단위 : V) 및 그 반감기 (초) 를, 시시도 정전기사 제조의 감쇠 측정기 「TYPE S-5109 스태틱 어니스트 미터」를 사용하여, 하기의 측정 조건으로 측정하였다. 또한, 측정 한계치 이상의 경우에는 「∞」로 표기한다.The large voltage (unit: V) and the half-life (second) in a peeling film were measured on the following measurement conditions using the damping measuring instrument "TYPE S-5109 static anneal meter" made by Shishido Electrostatic Co., Ltd. In addition, when more than a measurement limit, it expresses with "∞."
시료 치수 : 40 ㎜ × 40 ㎜Sample dimension: 40 mm × 40 mm
인가 전압 : 10 ㎸ 측정 시간 : 60 초 후Applied voltage: 10 ㎸ Measurement time: 60 seconds later
턴테이블 : 1300 rpmTurntable: 1300 rpm
시료 상면으로부터 전극 및 수신기까지의 거리 : 20 ㎜Distance from sample top surface to electrode and receiver: 20 mm
(5) 박리제층의 표면 조도(5) Surface roughness of the release agent layer
박리 필름의 박리제층의 표면 조도 (산술 평균 조도 Ra0 및 최대 돌기 높이 Rp0, 단위 : ㎚) 를, Veeco 사 제조의 광 간섭식 표면 조도계 「WYKO-1100」을 사용하여, PSI 모드로, 렌즈 배율 50 배의 조건에서 측정하였다.The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra 0 and maximum protrusion height Rp 0 , unit: nm) of the release agent layer of the release film was used in a PSI mode by using an optical interference surface roughness meter "WYKO-1100" manufactured by Veeco. It measured on the conditions of 50 times the magnification.
(6) 기재와의 밀착성(6) Adhesiveness with the base material
박리 필름의 박리제층에 닛토 전공사 제조의 점착 테이프 「NITTO31B 테이프」를 첩부하고, 직후에, 고속으로 이 점착 테이프를 벗겨, 박리제층을 형광등 아래에서 육안으로 관찰하였다. 그리고, 이하의 기준에 따라서, 기재와의 밀착성을 평가하였다.The adhesive tape "NITTO31B tape" manufactured by Nitto Electric Co., Ltd. was affixed to the release agent layer of the release film, and immediately after this, the adhesive tape was peeled off at high speed, and the release agent layer was visually observed under a fluorescent lamp. And the adhesiveness with a base material was evaluated according to the following criteria.
A : 박리제층에 변화가 없다.A: There is no change in a releasing agent layer.
B : 박리제층에 박리가 발생하였다.B: Peeling occurred in the release agent layer.
(7) 권출 대전(7) unwinding war
박리 필름을 롤상으로 감고, 1 일 후에 롤상으로 감은 박리 필름을 50 m/min의 속도로 권출한다. 그리고, 권출한 직후의 박리 필름의 대전량을, 카스가 전기사 제조의 디지털 전위 측정기를 사용하여 측정하였다. 그리고, 이하의 기준에 따라서, 권출 대전을 평가하였다.The peeling film is wound up in roll shape, and after 1 day, the peeling film wound up in roll shape is unwound at a speed | rate of 50 m / min. And the charge quantity of the peeling film immediately after unwinding was measured using the Kaga Electric Digital Potentiometer. Then, the unloading charging was evaluated according to the following criteria.
A : 대전량이, 10 ㎸ 미만이다.A: The charge amount is less than 10 mW.
B : 대전량이, 10 ㎸ 이상이다.B: The charge amount is 10 kPa or more.
(8) 박리력(8) peel force
티탄산바륨 (BaTiO3, 사카이 화학 공업사 제조의 상품명 「BT-02」) 100 질량부, 폴리비닐부티랄 (세키스이 화학 공업사 제조의 상품명 「에스렉 B·KBM-2」) 8 질량부, 및 프탈산디옥틸 (칸토 화학사 제조의 상품명 「프탈산디옥틸 시카 1 급」) 1.4 질량부에, 톨루엔 67 질량부 및 에탄올 67 질량부를 첨가하여, 볼 밀로 혼합 분산시켜, 세라믹 슬러리를 조제하였다.100 parts by mass of barium titanate (BaTiO 3 , trade name "BT-02" manufactured by Sakai Chemical Industries, Ltd.), 8 parts by mass of polyvinyl butyral (trade name "Esrek B.KBM-2" manufactured by Sekisui Chemical Industries, Ltd.), and phthalic acid 67 parts by mass of toluene and 67 parts by mass of ethanol were added to 1.4 parts by mass of dioctyl (trade name "Dioctyl Cica Primary, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and the mixture was dispersed and mixed with a ball mill to prepare a ceramic slurry.
실시예 및 비교예에서 제조하고 나서 상온에서 48 시간 보관한 박리 필름에 있어서, 박리제층의 박리면에, 35 ㎛ 애플리케이터를 사용하여 상기 세라믹 슬러리를 균일하게 도공하고, 그 후, 건조기에서 60 ℃ 에서 1 분간 건조시켰다. 이로써, 박리 필름 상에 두께 4 ㎛ 의 세라믹 그린 시트가 얻어졌다. 이와 같이 하여, 세라믹 그린 시트가 부착된 박리 필름을 제조하였다.In the release film prepared in Examples and Comparative Examples and stored at room temperature for 48 hours, the ceramic slurry was uniformly coated on the release surface of the release agent layer using a 35 μm applicator, and then dried at 60 ° C. in a dryer. It dried for 1 minute. This obtained the ceramic green sheet of thickness 4micrometer on the peeling film. In this way, a release film with a ceramic green sheet was produced.
이 세라믹 그린 시트가 부착된 박리 필름을, 실온 23 도, 습도 50 % 의 분위기 하에 24 시간 정치 (靜置) 한 후, 중심부를 40 ㎜ × 130 ㎜ 의 크기로 재단하였다. 다음으로, 세라믹 그린 시트에 있어서의 박리 필름과는 반대측의 면으로서, 길이 40 ㎜ 의 일방의 변을 따라, 아크릴 점착 테이프 (닛토 전공사 제조의 상품명 「31B 테이프」) 를 첩부하였다. 이것을 측정 샘플로 하였다.After leaving this ceramic green sheet affixed for 24 hours in an atmosphere of 23 degrees of room temperature and 50% of humidity, the center part was cut out to the size of 40 mm x 130 mm. Next, the acrylic adhesive tape (brand name "31B tape made by Nitto Electric Works") was affixed along one side of length 40mm as a surface on the opposite side to the peeling film in a ceramic green sheet. This was used as a measurement sample.
이 측정 샘플의 점착 테이프측을 평판에 고정시키고, 인장 시험기 (시마즈 제작소사 제조의 제품명 「AG-IS500N」) 를 사용하여 180 °의 박리 각도, 300 ㎜/분의 박리 속도로 세라믹 그린 시트로부터 박리 필름을 박리하고, 박리하는 데에 필요한 힘 (박리력, 단위 : mN/40 ㎜) 을 측정하였다.The adhesive tape side of this measurement sample was fixed to a flat plate, and it peeled from the ceramic green sheet at 180 degree peeling angle and 300 mm / min peel rate using the tension tester (product name "AG-IS500N" by Shimadzu Corporation). The film was peeled off, and the force (peel force, unit: mN / 40 mm) required for peeling was measured.
표 1 에 나타내는 결과로부터도 분명한 바와 같이, 이온성기 함유 실리콘 화합물을 함유하는 박리제 형성용 재료를 사용한 경우 (실시예 1 ∼ 3) 에는, 박리제층의 경화성을 유지하면서, 충분한 대전 방지성을 갖는 그린 시트 형성용 박리 필름이 얻어지는 것이 확인되었다.As is also apparent from the results shown in Table 1, in the case of using a release agent-forming material containing an ionic group-containing silicone compound (Examples 1 to 3), green having sufficient antistatic properties while maintaining the curability of the release agent layer It was confirmed that the release film for sheet formation is obtained.
산업상 이용가능성Industrial availability
본 발명의 그린 시트 형성용 박리 필름은, 세라믹 그린 시트를 성형하는 기술로서 바람직하게 사용할 수 있다.The release film for green sheet formation of this invention can be used suitably as a technique of shape | molding a ceramic green sheet.
1 : 박리 필름
11 : 기재
12 : 박리제층
12A : 박리제층의 외표면1: release film
11: description
12: release agent layer
12A: outer surface of release agent layer
Claims (5)
기재와, 상기 기재의 편면에 형성된 박리제층을 구비하고,
상기 박리제층은, (A) 경화성 화합물과, (B) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 단위 및 하기 일반식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 이온성기 함유 실리콘 화합물을 함유하는 박리제 형성용 재료의 경화물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 그린 시트 형성용 박리 필름.
(상기 일반식 (1) 중, R1 및 R2 는, 동일해도 되고 상이해도 되며, 각각 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 또는 페닐기를 나타낸다)
(상기 일반식 (2) 중, R3 은, 탄소수가 1 내지 6 인 알킬기, 탄소수가 1 내지 6 인 알콕시기, 또는 페닐기를 나타내고, L 은, 단결합, 알킬렌기, 디오르가노실록산기, -O- 기, 또는 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 2 가의 기를 나타내고, Y 는, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 쌍성 이온을 함유하는 기를 나타낸다)
(상기 일반식 (3) 중, L 은, 1 내지 4 의 정수이고, m 은, 1 내지 10 의 정수이다)
(상기 일반식 (4) 중, R4 및 R5 는, 동일해도 되고 상이해도 되고, 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 페닐기, 탄소수 1 내지 6 의 불소 치환 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 6 의 수산기 함유 하이드록시알킬기를 나타내고, R4 및 R5 는, 고리를 형성해도 되고, 그 경우에는 알킬렌기를 나타내며, n 은, 3 내지 6 의 정수이다)As a release film for green sheet formation used for formation of a green sheet,
A base material and a release agent layer formed on one side of the base material,
The said releasing agent layer is a material for releasing agent formation containing the ionic group containing silicone compound which has (A) curable compound, and (B) structural unit represented by following General formula (1), and structural unit represented by following General formula (2). It consists of hardened | cured material of the peeling film for green sheet formation characterized by the above-mentioned.
(In said general formula (1), R <1> and R <2> may be same or different and shows a C1-C6 alkyl group or a phenyl group, respectively.)
(In said General Formula (2), R <3> represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a phenyl group, and L is a single bond, an alkylene group, a diorganosiloxane group,- O- group or a bivalent group represented by the following general formula (3), and Y represents a group containing a zwitterion represented by the following general formula (4))
(L is an integer of 1-4, and m is an integer of 1-10 in the said General formula (3).)
(In said general formula (4), R <4> and R <5> may be same or different, C1-C6 alkyl group, a phenyl group, C1-C6 fluorine-substituted alkyl group, or C1-C6 hydroxyl group containing hydroxide An oxyalkyl group, R 4 and R 5 may form a ring, in that case, an alkylene group, and n is an integer of 3 to 6;
상기 (A) 경화성 화합물이, (A1) 에너지선 경화성 화합물인 것을 특징으로 하는, 그린 시트 형성용 박리 필름.The method of claim 1,
Said (A) curable compound is (A1) energy-beam curable compound, The peeling film for green sheet formation characterized by the above-mentioned.
상기 (A) 경화성 화합물이, (A2) 열경화성 화합물인 것을 특징으로 하는, 그린 시트 형성용 박리 필름.The method of claim 1,
The said (A) curable compound is a (A2) thermosetting compound, The peeling film for green sheet formation characterized by the above-mentioned.
상기 (B) 이온성기 함유 실리콘 화합물이, 탄소수 2 내지 6 의 알케닐기, 아크릴로일기, 티올기 및 하이드로실릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 반응성 관능기를 갖는 것을 특징으로 하는, 그린 시트 형성용 박리 필름.The method according to any one of claims 1 to 3,
The said (B) ionic group containing silicone compound has at least 1 reactive functional group chosen from the group which consists of a C2-C6 alkenyl group, acryloyl group, a thiol group, and a hydrosilyl group, The green sheet formation for forming Release film.
상기 박리제층의 외표면의 산술 평균 조도 Ra 가 8 ㎚ 이하이고, 또한 상기 박리제층의 외표면의 최대 돌기 높이 Rp 가 80 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는, 그린 시트 형성용 박리 필름.The method according to any one of claims 1 to 4,
Arithmetic mean roughness Ra of the outer surface of the said release agent layer is 8 nm or less, and the maximum protrusion height Rp of the outer surface of the said release agent layer is 80 nm or less, The peeling film for green sheet formation characterized by the above-mentioned.
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| JPWO2018163924A1 (en) | 2020-01-09 |
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Legal Events
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| PA0105 | International application |
Patent event date: 20190905 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
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| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination |