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KR20180112655A - Method of testing an object and apparatus for performing the same - Google Patents

Method of testing an object and apparatus for performing the same Download PDF

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KR20180112655A
KR20180112655A KR1020170139624A KR20170139624A KR20180112655A KR 20180112655 A KR20180112655 A KR 20180112655A KR 1020170139624 A KR1020170139624 A KR 1020170139624A KR 20170139624 A KR20170139624 A KR 20170139624A KR 20180112655 A KR20180112655 A KR 20180112655A
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KR
South Korea
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light
light source
region
height
moving
Prior art date
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Application number
KR1020170139624A
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Korean (ko)
Inventor
신지 우에야마
마사토 카지나미
타츠야 이시모토
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Publication of KR20180112655A publication Critical patent/KR20180112655A/en
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Abstract

1대의 투광용 조명장치로부터 이루어지는 간단한 구성으로 대상물 높이와 표면 상태를 동시에 취득한다.
본 발명의 검사장치는 대상물을 유지하고, 상기 대상물을 이동시키는 이동장치와, 광원과, 상기 광원이 발한 광을 슬릿광으로 변환하는 제1 영역과, 상기 제1 영역에 대하여 상기 대상물의 이동의 방향으로 배열되고, 상기 광원이 발한 상기 광의 양을 제한하여 투과시키는 제2 영역을 갖는 투광 마스크패턴을 갖고, 상기 광원이 발한 상기 광을 상기 투광 마스크패턴을 통과시킴으로써 생성한 측정광을 상기 대상물에 대하여 투광하는 투광용 조명장치와, 상기 대상물에 투광된 상기 측정광의 반사광을 수광하고, 상기 반사광에 기초하여 상기 대상물의 높이와 표면 상태를 검출하는 검출장치를 구비한다.
The height of the object and the surface state are simultaneously obtained by a simple structure composed of one light projecting illumination device.
The inspection apparatus of the present invention comprises a moving device for holding an object, a moving device for moving the object, a light source, a first area for converting the light emitted from the light source into slit light, And a second region for limiting the amount of the light emitted by the light source and transmitting the light emitted from the light source through the light transmitting mask pattern to the object And a detecting device for receiving the reflected light of the measurement light projected onto the object and detecting the height and the surface state of the object based on the reflected light.

Description

검사장치 및 검사방법{METHOD OF TESTING AN OBJECT AND APPARATUS FOR PERFORMING THE SAME}≪ Desc / Clms Page number 1 > METHOD OF TESTING AN OBJECT AND APPARATUS FOR PERFORMING THE SAME

본 발명은, 검사장치 및 검사방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inspection apparatus and an inspection method.

반도체 생산 현장에서, 반도체 칩 실장 후의 높이를 검출하는 수단으로서, 슬릿광을 대상물에 조사하고, 센서로 촬상한 화상을 이용하는 장치가 일반에 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼3). 높이가 소정의 값인지의 여부를 판정함으로써 실장이 바르게 되었는지의 여부를 관리함으로써 제조 품질을 향상시킬 수 있다.2. Description of the Related Art As a means for detecting a height after mounting a semiconductor chip in a semiconductor production site, an apparatus that irradiates an object with slit light and uses an image captured by a sensor is generally known (see, for example, Patent Documents 1 to 3). It is possible to improve the manufacturing quality by managing whether or not the mounting is correct by judging whether or not the height is a predetermined value.

또한, 실장 후에 생기는 칩 표면의 이물질이나 칩의 탑재에 있어서의 필름 재료가 밀려나오는 양을 엄밀에 관리하기 위해, 가시광에 의한 표면 관찰도 중요한 관리 항목이다. 통상 높이 측량용 유닛과 표면 관찰용 유닛은 별개의 유닛으로 구성되기 때문에, 장치의 가격이 높아지는 문제가 있다. 또한, 측정하기 위해 센서 상으로 대상물을 이동해야 하므로 이동 거리가 증가하게 되어, 검사 시간의 증가 요인이 될 수 있다.In addition, in order to strictly control the amount of film material pushed out on the surface of the chip or the chip mounted on the chip after mounting, observation of the surface by visible light is also an important management item. Since the height measurement unit and the surface observation unit are usually constituted by separate units, there is a problem that the cost of the apparatus is increased. In addition, since the object must be moved on the sensor in order to measure, the moving distance increases, which may be an increase factor of the inspection time.

또한, 특허문헌 1은 슬릿광을 투영하여 높이를 취득하는 구성을 개시한다. 또한, 특허문헌 2는 슬릿광을 복수개 투영하여 상대위치에서 높이 추정하는 구성을 개시한다. 또한, 특허문헌 3은 적외선 슬릿광을 조사함으로써 실리콘을 투과한 아래의 높이를 추정하는 구성을 개시한다.Patent Document 1 discloses a configuration for projecting slit light to obtain a height. Further, Patent Document 2 discloses a structure for projecting a plurality of slit lights and estimating the height at a relative position. Patent Document 3 discloses a structure for estimating the lower height of the silicon through the silicon by irradiating the infrared slit light.

특허문헌 1 : 특개평 07-063518호 공보Patent Document 1: JP-A-07-063518 특허문헌 2 : 특개평 11-241916호 공보Patent Document 2: JP-A No. 11-241916 특허문헌 3 : 특개 2007-048841호 공보Patent Document 3: JP-A-2007-048841

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 간단한 구성으로 대상물 높이와 표면 상태를 동시에 취득할 수 있는 검사장치 및 검사방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an inspection apparatus and an inspection method capable of simultaneously obtaining a height and surface state of an object with a simple structure.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 하나의 양태는, 대상물을 유지하고, 상기 대상물을 이동시키는 이동장치와, 광원과, 상기 광원이 발한 광을 슬릿광으로 변환하는 제1 영역과, 상기 제1 영역에 대하여 상기 대상물의 이동의 방향으로 배열되고, 상기 광원이 발한 상기 광의 양을 제한하여 투과시키는 제2 영역을 갖는 투광 마스크패턴을 갖고, 상기 광원이 발한 상기 광을 상기 투광 마스크패턴을 통과시킴으로써 생성한 측정광을 상기 대상물에 대하여 투광하는 투광용 조명장치와, 상기 대상물에 투광된 상기 측정광의 반사광을 수광하고, 상기 반사광에 기초하여 상기 대상물의 높이와 표면 상태를 검출하는 검출장치를 구비하는 검사장치이다.According to an aspect of the present invention, there is provided a moving image display apparatus including a moving device for holding an object and moving the object, a light source, a first area for converting the light emitted from the light source into slit light, And a second region that is arranged in a direction of movement of the object with respect to the first region and limits the amount of the light emitted by the light source and transmits the light so that the light swept by the light source passes through the light- And a detection device for receiving the reflected light of the measurement light projected onto the object and detecting the height and surface state of the object based on the reflected light .

또한, 본 발명의 하나의 양태는, 상기 검사장치에 있어서, 상기 제2 영역이, 상기 광의 투과 특성이 다른 2 이상의 부분영역을 상기 이동의 방향으로 배열함으로써 형성되어 있다.According to an aspect of the present invention, in the inspection apparatus, the second region is formed by arranging two or more partial regions having different light transmission characteristics in the moving direction.

또한, 본 발명의 하나의 양태는, 상기 검사장치에 있어서, 상기 이동장치가 상기 대상물을 등속으로 이동시킨다.According to an aspect of the present invention, in the inspection apparatus, the moving device moves the object at a constant speed.

또한, 본 발명의 하나의 양태는 상기 검사장치에 있어서, 상기 2 이상의 부분영역이 그레이 스케일 또는 하프 톤으로 농담이 다른 복수의 부분영역을 포함한다.According to an aspect of the present invention, in the inspection apparatus, the at least two partial regions include a plurality of partial regions different in grayscale or halftone tint.

또한, 본 발명의 하나의 양태는, 상기 검사장치에 있어서, 상기 광원이 백색광원이며, 상기 2 이상의 부분영역이 적색 필터의 부분영역, 녹색 필터의 부분영역 및 청색 필터의 부분영역을 포함한다.According to an aspect of the present invention, in the inspection apparatus, the light source is a white light source, and the at least two partial areas include a partial area of a red filter, a partial area of a green filter and a partial area of a blue filter.

또한, 본 발명의 하나의 양태는, 상기 검사장치에 있어서, 상기 2 이상의 부분영역이 편광의 방향이 다른 편광자를 형성하는 복수의 부분영역을 포함한다.According to an aspect of the present invention, in the inspection apparatus, the at least two partial regions include a plurality of partial regions forming polarizers having different polarizing directions.

또한, 본 발명의 하나의 양태는, 대상물을 유지하고, 상기 대상물을 이동시키는 이동장치와, 광원과, 상기 광원이 발한 광을 슬릿광으로 변환하는 제1 영역과, 상기 제1 영역에 대하여 상기 대상물의 이동의 방향으로 배열되고, 상기 광원이 발한 상기 광의 양을 제한하여 투과시키는 제2 영역을 갖는 투광 마스크패턴을 갖고, 상기 광원이 발한 상기 광을 상기 투광 마스크패턴을 통과시킴으로써 생성한 측정광을 상기 대상물에 대하여 투광하는 투광용 조명장치를 이용하고, 검출장치에 의해, 상기 대상물에 투광된 상기 측정광의 반사광을 수광하고, 상기 반사광에 기초하여 상기 대상물의 높이와 표면 상태를 검출하는 검사방법이다.According to another aspect of the present invention, there is provided a moving apparatus comprising: a moving device for holding an object and moving the object; a light source; a first area for converting light emitted from the light source into slit light; And a second region that is arranged in the direction of movement of the object and limits the amount of light swept by the light source and transmits the light, wherein the light emitted from the light source passes through the light- For detecting the height and the surface state of the object based on the reflected light, and a detecting method for detecting the height and the surface state of the object on the basis of the reflected light, by using a light emitting device for projecting light onto the object, to be.

본 발명에 의하면, 1대의 투광용 조명장치로 이루어지는 간단한 구성으로 대상물 높이와 표면 상태를 동시에 취득할 수 있다.According to the present invention, it is possible to acquire the object height and the surface state at the same time with a simple structure composed of one light projecting illumination device.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 실장검사장치의 기본적 구성예를 나타내는 블록도이다.
도 2는 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 구성예를 모식적으로 나타내는 사시도이다.
도 3은 도 2에 나타내는 실장검사장치(10)의 평면도이다.
도 4는 도 2에 나타내는 실장검사장치(10)의 정면도이다.
도 5는 도 2에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 구성예를 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 6은 도 2에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 다른 구성예를 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 7은 도 2에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 다른 구성예를 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 8은 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 동작예를 설명하기 위한 설명도이다.
도 9는 도 2에 나타내는 실장검사장치(10)의 변형예를 모식적으로 나타내는 정면도이다.
도 10은 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 동작예를 설명하기 위한 모식도이다.
도 11은 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 동작예를 설명하기 위한 모식도이다.
도 12는 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 동작예를 설명하기 위한 모식도이다.
도 13은 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 동작예를 설명하기 위한 모식도이다.
도 14는 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 동작예를 설명하기 위한 모식도이다.
1 is a block diagram showing a basic configuration example of a mounting inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view schematically showing a configuration example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
3 is a plan view of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
4 is a front view of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
5 is a plan view schematically showing a configuration example of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig.
6 is a plan view schematically showing another example of the configuration of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig.
7 is a plan view schematically showing another example of the configuration of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig.
8 is an explanatory view for explaining an example of the operation of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
Fig. 9 is a front view schematically showing a modification of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig. 2;
10 is a schematic diagram for explaining an operation example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
11 is a schematic diagram for explaining an operation example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
12 is a schematic diagram for explaining an operation example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
13 is a schematic diagram for explaining an operation example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.
14 is a schematic diagram for explaining an operation example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 실장검사장치(10)의 기본적 구성예를 나타내는 블록도이다. 도 2는 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 구성예를 모식적으로 나타내는 사시도이다. 도 3 및 도 4는 도 2에 나타내는 실장검사장치(10)의 평면도 및 정면도이다. 도 5는 도 2에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 구성예를 모식적으로 나타내는 평면도이다. 또한, 도 9는 도 2에 나타내는 실장검사장치(10)의 변형예를 실장검사장치(10a)로서 모식적으로 나타내는 정면도이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a block diagram showing a basic configuration example of a mounting inspection apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. 2 is a perspective view schematically showing a configuration example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig. 3 and 4 are a plan view and a front view of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig. 5 is a plan view schematically showing a configuration example of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig. 9 is a front view schematically showing a modified example of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig. 2 as the mounting inspection apparatus 10a.

도 1에 나타내는 실장검사장치(10)(검사장치)는 이동장치(1)와, 투광용 조명장치(2)와, 검출장치(3)와, 제어장치(4)를 구비한다. 제어장치(4)는 이동장치(1), 투광용 조명장치(2) 및 검출장치(3)의 동작을 제어하거나, 각 장치 간의 정보를 주고받기는 것을 중개하거나, 검출장치(3)가 취득한 정보에 기초하여 대상물(7)의 실장 상태의 합격 여부를 판정한다. 이동장치(1)는 도 2에 나타내는 바와 같이, 스테이지(11) 상에 대상물(7)을 유지하고, 스테이지(11)를 화살표 101로 나타내는 이동방향으로 등속으로 이동시킴으로써, 대상물(7)을 이동시킨다. 도 2에 나타내는 예에 있어서, 대상물(7)은 인쇄기판(71)이며, 인쇄기판(71) 상에는 복수의 반도체 칩(72)이 실장되어 있다. 단, 대상물(7)은 이 예로 한정되지 않는다. 이동장치(1)는 스테이지(11)의 이동 위치를 나타내는 좌표정보를, 제어장치(4)를 개재하여 검출장치(3)로 송신한다. 검출장치(3)는 스테이지(11)의 이동위치를 나타내는 좌표정보에 동기하여 화상 캡처 타이밍을 얻는다. A mounting inspection apparatus 10 (inspection apparatus) shown in Fig. 1 includes a moving apparatus 1, a light projecting illumination apparatus 2, a detection apparatus 3, and a control apparatus 4. The control device 4 controls the operation of the mobile device 1, the illumination device 2 and the detection device 3 or mediates the exchange of information between the devices, It is determined whether or not the mounting state of the object 7 is acceptable based on the information. 2, the moving device 1 holds the object 7 on the stage 11 and moves the stage 7 at a constant speed in the moving direction indicated by the arrow 101 so as to move the object 7 . In the example shown in Fig. 2, the object 7 is a printed substrate 71, and a plurality of semiconductor chips 72 are mounted on the printed substrate 71. [ However, the object 7 is not limited to this example. The mobile device 1 transmits coordinate information indicating the movement position of the stage 11 to the detection device 3 via the control device 4. [ The detection device 3 obtains the image capturing timing in synchronization with the coordinate information indicating the movement position of the stage 11.

투광용 조명장치(2)는 예를 들면 도 2 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 광원(21)과, 투광 마스크패턴(22)과, 렌즈(23)를 구비한다. 광원(21)은 가시광 레이저, LED(발광 다이오드) 등으로 구성된다. 렌즈(23)는 예를 들면 텔레센트릭 렌즈를 이용하여 구성할 수 있다. As shown in Fig. 2 and Fig. 4, the light-projecting illumination device 2 includes a light source 21, a light-transmitting mask pattern 22, and a lens 23, for example. The light source 21 is composed of a visible light laser, an LED (light emitting diode), or the like. The lens 23 can be constructed using, for example, a telecentric lens.

투광 마스크패턴(22)은, 예를 들면 도 5에 나타내는 바와 같이, 차광영역(50)과 제1 영역(51)과 제2 영역(52)을 갖는다. 제1 영역(51)과 제2 영역(52)은 대상물(7)의 이동방향(화살표 101)을 따라 배열되어 있다. 차광영역(50)은 광원(21)이 발한 광을 차광한다. 제1 영역(51)은 복수의 슬릿(511)을 갖고, 복수의 슬릿(511)에 광원(21)이 발한 광을 통과시킴으로써, 광원(21)이 발한 광을 복수의 슬릿광으로 변환한다. 제1 영역(51)에 의해 생성된 슬릿광은 특허문헌 1∼3 등에 나타나 있는 광 절단법에 의한 높이 검출에 사용된다. 제2 영역(52)은 광원(21)이 발한 광의 양을 일정한 넓이의 범위의 화상(통상의 2차원 화상)을 촬상하는 데에 알맞은 양으로 제한하여 투과시킨다. 광 절단법에 이용되는 슬릿광으로서는 비교적 큰 광량이 요구된다. 한편, 통상의 화상촬상용에는 슬릿광의 광량보다 작은, 비교적 작은 광량이 적합한 경우가 많다. 따라서, 본 실시예에서는 제2 영역(52)에 있어서의 광의 투과율(투과 특성의 1 요소)을 조정함으로써, 제2 영역(52)을 투과하는 광의 양을 제한하고 있다. 투광용 조명장치(2)는 광원(21)이 발한 광을 투광 마스크패턴(22) 및 렌즈(23)를 통과시킴으로써 생성한 측정광(200)을 대상물(7)에 대하여 투광한다. The light-transmitting mask pattern 22 has a light-shielding region 50, a first region 51 and a second region 52, as shown in Fig. 5, for example. The first region 51 and the second region 52 are arranged along the movement direction (arrow 101) of the object 7. The light shielding region 50 shields the light emitted by the light source 21. The first region 51 has a plurality of slits 511 and allows the light emitted from the light source 21 to be converted into a plurality of slit lights by passing the light emitted from the light source 21 to the plurality of slits 511. The slit light generated by the first region 51 is used for height detection by the optical cutting method shown in Patent Documents 1 to 3 and the like. The second area 52 limits the amount of light emitted by the light source 21 to an amount suitable for imaging an image (a normal two-dimensional image) in a range of a predetermined width and transmits the light. A comparatively large amount of light is required as the slit light used in the optical cutting method. On the other hand, a relatively small amount of light smaller than the light amount of the slit light is often suitable for normal image pickup. Therefore, in this embodiment, the amount of light passing through the second region 52 is limited by adjusting the light transmittance (one element of the transmission characteristic) in the second region 52. The projection light device 2 projects the measurement light 200 generated by passing the light emitted from the light source 21 through the projection mask pattern 22 and the lens 23 to the object 7.

또한, 도 5에 나타내는 투광 마스크패턴(22)에서는 제2 영역(52)이 광의 투과 특성이 다른 복수의 부분영역(521∼523)으로 형성되어 있다. 이들 부분영역(521∼523)은 대상물(7)의 이동방향(화살표 101)으로 배열되어 있다. 부분영역(521∼523)은 그레이 스케일 또는 하프 톤으로 농담이 다른 부분영역과 다르도록 형성되어 있다. 이 경우, 부분영역(521∼523)은 광의 투과율이 다른 부분영역과 다르다. 부분영역(521∼523)마다의 투과율은 일정하다. 부분영역(521∼523)마다 투과율을 다르게 함으로써 대상물(7)에 투광되는 광의 광량을 일정한 범위마다 변화시킬 수 있다. 이 구성에 의하면, 대상물(7)을 이동시키는 것 만으로 대상물(7)로부터의 반사광(300)의 광량을 변화시킬 수 있다. 대상물(7) 상의 부분이나 이물, 오손, 크랙 등은 다른 광의 반사율을 가지는 경우가 있지만, 검출장치(3)에서는 관찰 대상의 부분이나 이물, 오손, 크랙 등의 검출에 적합한 밝기의 화상을 얻을 수 있다. In the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig. 5, the second region 52 is formed of a plurality of partial regions 521 to 523 having different light transmission characteristics. These partial regions 521 to 523 are arranged in the moving direction (arrow 101) of the object 7. The partial areas 521 to 523 are formed to be gray scale or halftone, and are different from partial areas having different shades. In this case, the partial regions 521 to 523 are different from the partial regions in which the light transmittance is different. The transmissivity of each of the partial regions 521 to 523 is constant. By varying the transmissivity of each of the partial areas 521 to 523, the light amount of the light projected onto the object 7 can be changed in a constant range. According to this configuration, it is possible to change the light amount of the reflected light 300 from the object 7 only by moving the object 7. The detection device 3 can obtain an image with brightness suitable for detection of a part to be observed, a foreign object, a foreign object, a crack, or the like, although the part, foreign object, have.

한편, 제2 영역(52)은 하나의 영역만으로 구성되어 있어도 되고, 2 또는 4 이상의 부분영역을 갖고 구성되어 있어도 된다. 또한, 제1 영역(51)은 슬릿(511)을 하나만 갖고 있어도 되고, 이동방향(화살표 101)에 대하여 수직방향으로 길이방향을 갖는 것으로 한정되지 않고, 예를 들면 격자상으로 수직방향 및 수평방향으로 복수개의 슬릿을 갖고 있어도 된다. On the other hand, the second region 52 may be composed of only one region, or may have two or more partial regions. The first region 51 may have only one slit 511 and is not limited to having a longitudinal direction perpendicular to the movement direction (arrow 101), and may be a vertical direction and a horizontal direction May have a plurality of slits.

검출장치(3)는 하나 또는 복수의 촬상장치(카메라)와 화상처리장치를 갖고, 대상물(7)에 투광된 측정광(200)의 반사광(300)을 수광하고, 반사광(300)에 기초하여 대상물(7)의 높이와 표면 상태를 검출한다. 도 2∼도 4에 나타내는 예에서는, 검출장치(3)가 이동방향(화살표 101)에 대하여 수직으로 배열된 3대의 촬상장치(31∼33)를 갖고 있다. 촬상장치(31∼33)는 예를 들면, CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 센서 카메라나 CCD(Charge Coupled Device) 센서 카메라이며, 광학계에 텔레센트릭 렌즈를 구비하고 있다. 한편, 도 1에 나타내는 실장검사장치(10)의 구성은, 도 2∼도 4에 나타내는 구성으로 한정되지 않고, 예를 들면 도 9에 실장검사장치(10a)로서 나타내는 구성이어도 된다. 도 9에 나타내는 실장검사장치(10a)에서는, 투광용 조명장치(2)로부터의 측정광(200)을 바로 위에서 대상물(7)로 조사한다. 또한, 실장검사장치(10a)에서는 이동방향(화살표 101)의 전후에 검출장치(3)의 촬상부 3-1 및 3-2를 배치하고 있다. 촬상부 3-1 및 3-2는 예를 들면 각각 도 2에 나타내는 촬상장치(31∼33)를 갖고 구성되어 있다. 도 9에 나타내는 실장검사장치(10a)에 의하면, 측정 불가 부분(오쿨루젼이라 불리운다)을 줄일 수 있다. 또한, 도 9에 있어서, 도 2∼도 4에 나타내는 것과 동일한 구성에는 동일한 부호를 붙여서 설명을 생략한다. The detection device 3 has one or a plurality of imaging devices (cameras) and an image processing device and receives the reflected light 300 of the measurement light 200 projected onto the object 7, The height and the surface state of the object 7 are detected. In the examples shown in Figs. 2 to 4, the detecting device 3 has three imaging devices 31 to 33 arranged vertically with respect to the moving direction (arrow 101). The imaging devices 31 to 33 are, for example, CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensor cameras or CCD (Charge Coupled Device) sensor cameras, and optical systems are provided with telecentric lenses. On the other hand, the configuration of the mounting inspection apparatus 10 shown in Fig. 1 is not limited to the configuration shown in Figs. 2 to 4, and may be a configuration shown as a mounting inspection apparatus 10a in Fig. 9, for example. In the mounting inspection apparatus 10a shown in Fig. 9, the measurement light 200 from the light-projecting illumination apparatus 2 is directly irradiated onto the object 7 from above. In the mounting inspection apparatus 10a, the imaging units 3-1 and 3-2 of the detection device 3 are arranged before and after the movement direction (arrow 101). The image pickup units 3-1 and 3-2 are each configured to include, for example, the image pickup devices 31 to 33 shown in Fig. According to the mounting inspection apparatus 10a shown in Fig. 9, it is possible to reduce the unmeasurable part (called ochronization). In Fig. 9, the same components as those shown in Figs. 2 to 4 are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.

촬상장치(31∼33)는 도 5에 나타내는 제2 영역(52)을 투과한 측정광(200)의 반사광(300)을 촬상함으로써, 밝기가 다른 3매의 화상(2차원 화상)을 생성할 수 있다. 검출장치(3)는 밝기가 다른 3매의 화상에 기초하여, 예를 들면 기지의 화상인식처리를 실행함으로써, 대상물(7)의 표면 상태를 검출한다. 또한, 촬상장치(31∼33)는 도 5에 나타내는 제1 영역(51)을 투과한 측정광(200)의 반사광(300)을 촬상함으로써, 도 8에 나타내는 바와 같은 화상(700)을 생성한다. 도 8은 검출장치(3)의 동작예를 설명하기 위한 도면이며, 촬상장치(31∼33)가 촬상한 화상(700)과, 화상(700) 등에 기초하여 검출장치(3)가 생성한 대상물(7)의 3차원 화상(701)과, 3차원 화상(701)에 대한 판정 결과의 예를 나타낸다. 화상(700)에는 인쇄기판(71)과 반도체 칩(72) 상에 슬릿광(201)이 투광된 상태가 나타나 있다. 슬릿광(201)은 측정광(200) 중, 도 5에 나타내는 제1 영역(51) 내의 슬릿(511)으로 생성된 광이다. 검출장치(3)는 복수의 화상(700)과, 스테이지(11)(대상물(7))의 좌표정보(위치정보) 등에 기초하여, 광 절단법에 의해 3차원 화상(701)을 생성한다. 3차원 화상(701)은 화상(700)에 대하여 높이의 정보를 소정 색의 그라이데이션으로 부가한 화상(혹은 맵)이다. 검출장치(3)(혹은 제어장치(4))는 3차원 화상(701)에 기초하여, 반도체 칩(72)의 실장 상태가 소정의 기준과 비교하여, 예를 들면 경사각이 작은 경우나 높이가 범위 내인 경우에, 해당 반도체 칩(72)의 실장 상태가 합격(OK)이라고 판정하고, 그 이외의 경우에 불합격(NG)이라고 판정할 수 있다. 또한, 촬상장치(31∼33)가 갖는 촬상 소자의 각 화소와 스테이지(11)의 좌표 정보를 미리 교정해 둠으로써, 검출장치(3)는 제1 영역(51)을 통과한 측정광(200)의 반사광(300)에 기초하는 화상과, 제2 영역(52)을 통과한 측정광(200)의 반사광(300)에 기초하는 화상을 위치맞춤할 수 있다. 따라서, 검출장치(3)는 예를 들면 대상물(7)의 높이의 정보와 표면 상태의 검출 결과를 연결하여 실장 상태를 판정할 수 있다. The imaging devices 31 to 33 generate three images (two-dimensional images) having different brightness by picking up the reflected light 300 of the measurement light 200 transmitted through the second area 52 shown in Fig. 5 . The detecting device 3 detects the surface state of the object 7 by executing, for example, a known image recognition process based on three images having different brightness. The imaging devices 31 to 33 generate an image 700 as shown in Fig. 8 by picking up the reflected light 300 of the measurement light 200 transmitted through the first area 51 shown in Fig. 5 . 8 is a view for explaining an example of the operation of the detection device 3 and shows an image 700 captured by the image pickup devices 31 to 33 and an image 700 generated by the detection device 3 Dimensional image 701 of the three-dimensional image 7 and the determination results of the three-dimensional image 701. [ The image 700 shows a state in which the slit light 201 is projected on the printed board 71 and the semiconductor chip 72. [ The slit light 201 is the light generated by the slit 511 in the first region 51 shown in FIG. 5 in the measurement light 200. The detection apparatus 3 generates a three-dimensional image 701 by the optical cutting method based on the plurality of images 700, the coordinate information (position information) of the stage 11 (object 7) The three-dimensional image 701 is an image (or map) obtained by adding height information to the image 700 by a predetermined color gradient. The detection device 3 (or the control device 4) compares the mounting state of the semiconductor chip 72 with a predetermined reference based on the three-dimensional image 701, for example, when the inclination angle is small, It is determined that the mounting state of the semiconductor chip 72 is acceptable (OK), and in other cases, it is determined that the semiconductor chip 72 is not acceptable (NG). The detection device 3 corrects the coordinate information of each pixel of the image pickup device and the stage 11 of the image pickup devices 31 to 33 in advance so that the measurement light 200 passing through the first area 51 And the image based on the reflected light 300 of the measurement light 200 passing through the second region 52 can be aligned with each other. Therefore, the detecting device 3 can determine the mounting state by connecting the height information of the object 7 and the detection result of the surface state, for example.

여기서 도 10∼도 14을 참조하여, 본 실시예에서의 광절단법에 의한 대상물(7)의 높이의 계측방법에 대하여 설명한다. 한편, 도 10∼도 12에 있어서 도 2∼도 4에 나타내는 것과 동일 또는 대응하는 구성에는 동일한 부호를 이용하여 설명을 적절히 생략한다. 도 10∼도 12는 투광용 조명장치(2)와 검출장치(3)와 대상물(7)의 일례인 인쇄기판(71)과의 위치 관계를 모식적으로 나타낸다. 도 10∼도 12에 나타내는 위치 관계는 동일하다. 도 10∼도 12에 나타내는 예에서는, 투광용 조명장치(2)의 광원(21)에서 대상물(7)로 투광된 슬릿광(200a)이 정반사되어 검출장치(3)로 촬상된다. 이 예에서는, 투광용 조명장치(2)로부터 투광된 슬릿광(200a)의 인쇄기판(71)에 대한 투광 각도 θ와 검출장치(3)의 반사광(300b)에 대한 인쇄기판(71)에 대한 촬상 각도 θ는 동일하다. 즉, 수직방향의 축 Z에 대한 광원(21) 및 검출장치(3)가 이루는 각은 θ로 동일하다. 단, 투광 각도와 촬상 각도는 동일할 경우로 한정되지 않는다. 또한, 도 10은 슬릿광(200a)이 인쇄기판(71)의 표면에 투광되어 있어서 검출장치(3)가 인쇄기판(71)의 표면에서의 반사광(300a)을 촬상하고 있는 상태를 나타낸다. 도 11은 슬릿광(200a)이 인쇄기판(71)에 실장되어 있는 반도체 칩(72)의 표면에 투광되어 있어서 검출장치(3)가 반도체 칩(72)의 표면으로부터의 반사광(300b)을 촬상하고 있는 상태를 나타낸다. 반도체 칩(72)의 높이는 z라고 한다. 도 12는 도 11과 동일한 상태를 나타낸다. Here, a method of measuring the height of the object 7 by the optical cutting method in the present embodiment will be described with reference to Figs. 10 to 14. Fig. In Figs. 10 to 12, the same or corresponding components as those shown in Figs. 2 to 4 are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted as appropriate. Figs. 10 to 12 schematically show the positional relationship between the light projector 2, the detecting device 3 and the printed board 71, which is an example of the object 7. Fig. The positional relationships shown in Figs. 10 to 12 are the same. 10 to 12, the slit light 200a projected from the light source 21 of the light projector 2 to the object 7 is regularly reflected to be picked up by the detection device 3. [ In this example, the angle of projection θ of the slit light 200a projected from the light-projecting illumination device 2 with respect to the printed substrate 71 and the reflected light 300b of the detection device 3 with respect to the printed substrate 71 The imaging angle? Is the same. That is, the angle formed by the light source 21 and the detecting device 3 with respect to the axis Z in the vertical direction is the same as?. However, the present invention is not limited to the case where the projection angle and the imaging angle are the same. 10 shows a state in which the slit light 200a is projected onto the surface of the print substrate 71 so that the detection device 3 picks up the reflected light 300a on the surface of the print substrate 71. FIG. 11 shows a state in which the slit light 200a is projected onto the surface of the semiconductor chip 72 mounted on the printed substrate 71 so that the detection device 3 picks up the reflected light 300b from the surface of the semiconductor chip 72 . The height of the semiconductor chip 72 is referred to as z. Fig. 12 shows the same state as Fig.

도 11에 나타내는 바와 같이, 대상물(7)의 높이가 변화되었을 때, 검출장치(3)의 검출 위치는 v만큼 변화된다. 검출 위치의 변화 v와 높이 z과의 관계는 다음 식 (1)로 주어진다. 한편, 인쇄기판(71)의 높이(Z축의 값)는 「0」이다. As shown in Fig. 11, when the height of the object 7 is changed, the detection position of the detection device 3 is changed by v. The relationship between the change v in the detection position and the height z is given by the following equation (1). On the other hand, the height (Z-axis value) of the printed board 71 is "0".

Figure pat00001
Figure pat00001

또한, 도 12에 나타내는 바와 같이, 슬릿광(200a)이 높이 z의 반도체 칩(72)에서 반사되는 위치와, 슬릿광(200a)의 인쇄기판(71)으로부터의 반사광(300a)이 높이 z을 통과하는 위치와의 거리 a는 다음 식 (2)로 주어진다. 12, the position where the slit light 200a is reflected by the semiconductor chip 72 at the height z and the position where the reflected light 300a from the printed substrate 71 of the slit light 200a has a height z The distance a from the passing position is given by the following equation (2).

Figure pat00002
Figure pat00002

식(1)과 식(2)로부터, 변화 v는 다음 식으로 구해진다. From equation (1) and equation (2), the change v is found by the following equation.

Figure pat00003
Figure pat00003

한편, 검출장치(3)에 있어서 반사광(300b)은 도 13 및 도 14에 나타내는 바와 같이, 일정한 휘도 분포를 갖고(즉 일정한 폭을 가진 띠형상의 광으로서) 촬상된다. 도 13은 검출장치(3)의 촬상면을 U-V 좌표계로 하는 경우에 반도체 칩(72)으로부터의 반사광(300b)의 촬상 화상을 모식적으로 나타내는 도면이다. U-V 좌표계의 U축과 V축은 도 11 및 도 12에 화살표 U 및 화살표 V로 나타내는 바와 같다. 여기서 V축 방향은 슬릿방향(슬릿광(200a)의 길이방향)과 수직이며, U축 방향은 수평이고 도면에 대하여 연직방향이다. 도 13에 있어서 횡축은 V축의 좌표값이며, 종축은 U축의 좌표값이다. 도 13은 각 화소의 휘도를 그레이 스케일의 명도로 나타낸다. 이 경우, 흑색에 가까울 수록 휘도가 높다. 또한, 좌표값 vbase는 인쇄기판(71)으로부터의 반사광(300a)의 휘도 분포에 대응한다. 좌표값 vbi와 좌표값 vti는 도 14에 나타내는 U축의 좌표값 ui에 있어서의 반사광(300b)의 휘도 분포의 상승 에지와 하강 에지에 대응한다. On the other hand, the reflected light 300b in the detection device 3 has a constant luminance distribution (that is, as band-shaped light having a constant width) as shown in Figs. 13 and 14. 13 is a diagram schematically showing a picked-up image of the reflected light 300b from the semiconductor chip 72 when the imaging surface of the detection device 3 is a U-V coordinate system. The U-axis and the V-axis of the U-V coordinate system are indicated by arrows U and arrows V in Figs. Here, the V-axis direction is perpendicular to the slit direction (the longitudinal direction of the slit light 200a), the U-axis direction is horizontal, and the vertical direction with respect to the drawing. In Fig. 13, the abscissa is the coordinate value of the V-axis, and the ordinate is the coordinate value of the U-axis. 13 shows the brightness of each pixel in terms of gray scale brightness. In this case, the closer to black, the higher the luminance. The coordinate value vbase corresponds to the luminance distribution of the reflected light 300a from the printed substrate 71. [ The coordinate value vbi and the coordinate value vti correspond to the rising edge and the falling edge of the luminance distribution of the reflected light 300b in the U-axis coordinate value ui shown in Fig.

반사광(300b)의 촬상 위치는, 예를 들어 슬릿방향과 수직인 V축 방향의 단면(Profile)의 중심 혹은 반값폭의 평균으로 얻어진다. 도 14는 U축의 좌표값 ui에 있어서의 반사광(300b)의 촬상 화상의 휘도 분포를 나타낸다. 횡축은 V축의 좌표값(U축은 좌표값 ui에서 일정)이며, 종축은 휘도값 G(U-V좌표계에 있어서의 각 화소의 휘도값)이다. 도 14에 나타내는 바와 같이, 좌표값 ui의 위치의 반값폭의 평균 좌표값 vai는, 상승 에지의 좌표값 vbi와 상승 에지의 좌표값 vti에서 다음 식으로 구해진다. The imaging position of the reflected light 300b is obtained, for example, as an average of the center or half-width of the profile in the V-axis direction perpendicular to the slit direction. 14 shows the luminance distribution of the picked-up image of the reflected light 300b at the coordinate value ui of the U-axis. The horizontal axis is the coordinate value of the V axis (the U axis is constant at the coordinate value ui), and the vertical axis is the luminance value G (the luminance value of each pixel in the U-V coordinate system). As shown in Fig. 14, the average coordinate value vai of the half width of the position of the coordinate value ui is obtained from the coordinate value vbi of the rising edge and the coordinate value vti of the rising edge by the following equation.

Figure pat00004
Figure pat00004

따라서, 3차원 높이 zi는 식(3)과 식(4)에 기초하여 다음 식으로 구해진다. Therefore, the three-dimensional height zi is obtained by the following equation based on the equations (3) and (4).

Figure pat00005
Figure pat00005

한편, 실제로는 렌즈 왜곡이나 슬릿광의 밝기 변동에 의한 오차성분이 중첩되어 있기 때문에, 예를 들면 기지의 높이의 대상물에 슬릿광을 조사하여 반값폭의 평균 좌표값 vai를 구해 둠으로써 교정한다. On the other hand, in reality, since the error components due to the lens distortion or the brightness fluctuation of the slit light are overlapped, correction is made by irradiating the object having the known height with slit light and obtaining the average coordinate value vai of the half width.

이상과 같이 본 실시예의 실장검사장치(10)는 광절단법을 이용한 반도체 실장 후에 칩 높이의 취득과, 표면 상태의 검사용 화상의 취득을 동시에 실행할 수 있다. 즉, 본 실시예에 의하면, 대상물(7)의 높이와 표면 상태를 동시에 취득, 검사할 수 있다. 따라서, 센서 상으로 이동하는 거리가 단축되어, 측정 시간의 단축으로 이어진다. 또한, 하프 톤 혹은 그레이 톤을 배치함으로써 다른 반사율을 갖는 대상물에서도 밝기를 조정하지 않고 한번에 검사가 가능해 진다. As described above, the mounting inspection apparatus 10 of the present embodiment can simultaneously obtain the chip height and the image for inspection of the surface state after semiconductor mounting using the optical cutting method. That is, according to the present embodiment, the height and the surface state of the object 7 can be simultaneously acquired and inspected. Therefore, the distance traveled on the sensor is shortened, leading to a shortening of the measuring time. By arranging the halftone or the gray tone, it is possible to perform inspection at once without adjusting the brightness even in an object having a different reflectance.

또한, 본 실시예에 있어서, 이동장치(1)에 의한 대상물(7)의 이동은 등속으로 한정되지 않는다. 등속으로 이동시키지 않는 경우라도, 이동장치(1)의 좌표정보에 기초하면, 도 8을 참조하여 상술한 바와 같이 광 절단법에 의해 3차원 화상(701)을 생성할 수 있다. In this embodiment, the movement of the object 7 by the mobile device 1 is not limited to the constant velocity. The three-dimensional image 701 can be generated by the optical cutting method as described above with reference to Fig. 8 based on the coordinate information of the mobile device 1, even when it is not moved at the constant velocity.

이어서, 도 6을 참조하여 도 5에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 변형예에 대하여 설명한다. 도 6에 나타내는 투광 마스크패턴(22a)은 도 5에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 변형예이다. 도 6에 있어서, 도 5에 나타내는 것과 동일한 구성에는 동일한 부호를 붙이고 설명을 적절히 생략한다. 도 6에 나타내는 투광 마스크패턴(22a)은 제2 영역(52)이 이동방향(화살표 101)으로 배열된, 적색 필터의 부분영역(524), 녹색 필터의 부분영역(525) 및 청색 필터의 부분영역(526)으로 구성되어 있다. 적색 필터, 녹색 필터 및 청색 필터는 원색 필터이며, 광원(21)을 백색광원으로 한 경우, 검출장치(3)는 각 색 필터를 투과한 측정광(200)의 반사광(300)을 부분영역(524∼526)에 대응시켜 합성함으로써, 컬러 화상을 생성할 수 있다. 한편, 각 부분영역(524∼526)은 광원(21)이 발한 광의 양을 일정한 넓이의 범위의 화상을 촬상하는 데에 적합한 양으로 제한하여 투과시키는 투과율을 갖는다. Next, a modified example of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig. 5 will be described with reference to Fig. The transmissive mask pattern 22a shown in Fig. 6 is a modification of the transmissive mask pattern 22 shown in Fig. In Fig. 6, the same components as those shown in Fig. 5 are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted as appropriate. The light-transmitting mask pattern 22a shown in Fig. 6 is formed in such a manner that the partial area 524 of the red filter, the partial area 525 of the green filter and the part of the blue filter 522, in which the second area 52 is arranged in the moving direction And an area 526. When the light source 21 is a white light source, the detection device 3 converts the reflected light 300 of the measurement light 200 transmitted through each color filter into a partial area (a red color filter, a green filter, 524 to 526), whereby a color image can be generated. On the other hand, each of the partial areas 524 to 526 has a transmittance that transmits the amount of light emitted by the light source 21 in an amount suitable for capturing an image in a range of a predetermined width.

이어서, 도 7을 참조하여 도 5에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 다른 변형예에 대하여 설명한다. 도 7에 나타내는 투광 마스크패턴(22b)은 도 5에 나타내는 투광 마스크패턴(22)의 변형예이다. 도 7에 있어서, 도 5에 나타내는 것과 동일한 구성에는 동일한 부호를 붙이고 설명을 적절히 생략한다. 도 7에 나타내는 투광 마스크패턴(22b)은 제2 영역(52)이 이동방향(화살표 101)으로 배열된, 편광의 방향이 다른 편광자를 형성하는 복수의 부분영역(527) 및 부분영역(528)을 포함한다. 부분영역(527) 및 부분영역(528)은, 예를 들면 수직 또는 수평방향으로 직선편광한 광을 투과시킨다. 검출장치(3)는 부분영역(527) 및 부분영역(528)을 투과한 측정광(200)의 반사광(300)을 촬상함으로써, 측정광(200)을 복수의 소정의 방향의 직선편광으로 한정시켜서 대상물(7)의 표면 상태를 촬상할 수 있다. 또한, 각 부분영역 527 및 528은 광원(21)이 발한 광의 양을 일정한 넓이의 범위의 화상을 촬상하는 데에 적절한 양으로 제한하여 투과시키는 투과율을 갖는다. Next, another modified example of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig. 5 will be described with reference to Fig. The light-transmitting mask pattern 22b shown in Fig. 7 is a modification of the light-transmitting mask pattern 22 shown in Fig. In Fig. 7, the same components as those shown in Fig. 5 are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted as appropriate. The light-transmitting mask pattern 22b shown in Fig. 7 has a plurality of partial regions 527 and partial regions 528, in which the second regions 52 are arranged in the moving direction (arrow 101) . The partial area 527 and the partial area 528 transmit, for example, linearly polarized light in the vertical or horizontal direction. The detection device 3 captures the reflected light 300 of the measurement light 200 transmitted through the partial area 527 and the partial area 528 to limit the measurement light 200 to linearly polarized light in a plurality of predetermined directions So that the surface state of the object 7 can be picked up. In addition, each of the partial areas 527 and 528 has a transmittance that limits the amount of light emitted by the light source 21 to an appropriate amount for capturing an image in a range of a predetermined width.

상기 실시예 또는 변형예에 의하면, 이동장치(1)가 대상물(7)을 유지하고, 등속으로 대상물(7)을 이동시키고, 투광용 조명장치(2)가 광원(21)과, 광원(21)이 발한 광을 슬릿광으로 변환하는 제1 영역(51)과, 제1 영역(51)에 대하여 대상물(7)의 이동의 방향으로 배열되고, 광원(21)이 발한 광의 양을 제한하여 투과시키는 제2 영역(52)을 갖는 투광 마스크패턴(22)을 갖고, 광원(21)이 발한 광을 투광 마스크패턴(22)을 통과시킴으로써 생성한 측정광(200)을 대상물(7)에 대하여 투광하므로, 1대의 투광용 조명장치로 이루어지는 간단한 구성으로 대상물 높이와 표면 상태를 동시에 취득할 수 있다. According to the embodiment or the modification, the moving device 1 holds the object 7, moves the object 7 at a constant speed, and the light-projecting illumination device 2 moves the light source 21 and the light source 21 A first region 51 which is arranged in the direction of movement of the object 7 with respect to the first region 51 and which limits the amount of light emitted by the light source 21, And the measurement light 200 generated by passing light emitted from the light source 21 through the light transmission mask pattern 22 is projected onto the object 7 Therefore, it is possible to acquire the object height and the surface state at the same time with a simple structure composed of one light projecting illumination device.

이상과 같이, 본 발명에 따른 몇가지 실시예에 대하여 설명하였으나, 이들 실시예는 예로서 제시한 것이며, 발명의 범위를 한정하는 것을 의도하지 않는다. 이들 실시예는, 그 밖의 여러가지 형태로 실시될 수 있고, 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 각종 생략, 치환, 변경을 행할 수 있다. 이들 실시예 및 그 변형예는 발명의 범위나 요지에 포함되는 것과 마찬가지로 특허청구범위에 기재된 발명과 그 균등한 범위에 포함된다. As described above, some embodiments of the present invention have been described. However, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the present invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and alterations can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications fall within the scope and spirit of the invention as defined in the appended claims and equivalents thereof as falling within the scope and spirit of the invention.

10 : 실장검사장치 1 : 이동장치
2 : 투광용 조명장치 3 : 검출장치
4 : 제어장치 21 : 광원
22 : 투광 마스크패턴 51 : 제1 영역
511 : 슬릿 52 : 제2 영역
521∼528 : 부분영역
10: mounting inspection device 1: mobile device
2: Illuminator for projecting light 3: Detector
4: control device 21: light source
22: light-transmitting mask pattern 51: first region
511: slit 52: second region
521 to 528:

Claims (7)

대상물을 유지하고, 상기 대상물을 이동시키는 이동장치와,
광원과, 상기 광원이 발한 광을 슬릿광으로 변환하는 제1 영역과, 상기 제1 영역에 대하여 상기 대상물의 이동의 방향으로 배열되고, 상기 광원이 발한 상기 광의 양을 제한하여 투과시키는 제2 영역을 갖는 투광 마스크패턴을 갖고, 상기 광원이 발한 상기 광을 상기 투광 마스크패턴을 통과시킴으로써 생성한 측정광을 상기 대상물에 대하여 투광하는 투광용 조명장치와,
상기 대상물에 투광된 상기 측정광의 반사광을 수광하고, 상기 반사광에 기초하여 상기 대상물의 높이와 표면 상태를 검출하는 검출장치를 구비하는 검사장치.
A moving device for holding the object and moving the object;
A second region that is arranged in the direction of movement of the object with respect to the first region and restricts and transmits the amount of the light emitted by the light source; A projection light device for projecting the measurement light generated by passing the light emitted by the light source through the light transmitting mask pattern to the object;
And a detection device that receives reflected light of the measurement light projected onto the object and detects the height and surface state of the object based on the reflected light.
제 1 항에 있어서,
상기 제2 영역이, 상기 광의 투과 특성이 다른 2 이상의 부분영역을 상기 이동의 방향으로 배열함으로써 형성되어 있는 검사장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second region is formed by arranging two or more partial regions having different light transmission characteristics in the direction of movement.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 이동장치가 상기 대상물을 등속으로 이동시키는 검사장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
And the moving device moves the object at a constant speed.
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 2 이상의 부분영역이 그레이 스케일 또는 하프 톤으로 농담이 다른 복수의 부분영역을 포함하는 검사장치.
The method according to claim 2 or 3,
Wherein the at least two partial regions include a plurality of partial regions different in grayscale or halftone.
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 광원이, 백색광원이며,
상기 2 이상의 부분영역이 적색 필터의 부분영역, 녹색 필터의 부분영역 및 청색 필터의 부분영역을 포함하는 검사장치.
The method according to claim 2 or 3,
Wherein the light source is a white light source,
Wherein the at least two partial areas include a partial area of a red filter, a partial area of a green filter and a partial area of a blue filter.
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 2 이상의 부분영역이 편광의 방향이 다른 편광자를 형성하는 복수의 부분영역을 포함하는 검사장치.
The method according to claim 2 or 3,
Wherein the at least two partial regions comprise a plurality of partial regions forming polarizers having different polarizing directions.
대상물을 유지하고, 상기 대상물을 이동시키는 이동장치와,
광원과, 상기 광원이 발한 광을 슬릿광으로 변환하는 제1 영역과, 상기 제1 영역에 대하여 상기 대상물의 이동의 방향으로 배열되고, 상기 광원이 발한 상기 광의 양을 제한하여 투과시키는 제2 영역을 갖는 투광 마스크패턴을 갖고, 상기 광원이 발한 상기 광을 상기 투광 마스크패턴을 통과시킴으로써 생성한 측정광을 상기 대상물에 대하여 투광하는 투광용 조명장치를 이용하고,
검출장치에 의해 상기 대상물에 투광된 상기 측정광의 반사광을 수광하고, 상기 반사광에 기초하여 상기 대상물의 높이와 표면 상태를 검출하는 검사방법.

A moving device for holding the object and moving the object;
A second region that is arranged in the direction of movement of the object with respect to the first region and restricts and transmits the amount of the light emitted by the light source; And a projection illumination device for projecting the measurement light generated by passing the light emitted by the light source through the light-transmitting mask pattern to the object,
Receiving the reflected light of the measurement light projected onto the object by the detection device, and detecting the height and the surface state of the object based on the reflected light.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009031150A (en) * 2007-07-27 2009-02-12 Omron Corp Three-dimensional shape measuring device, three-dimensional shape measurement method, three-dimensional shape measurement program, and record medium
JP5430612B2 (en) * 2011-05-31 2014-03-05 Ckd株式会社 3D measuring device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230000551U (en) 2021-09-08 2023-03-15 웨이하이 디엠에스 주식회사 Easy-to-install roller brush

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