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KR20170137592A - By-directional electrically conductive, by-directional electrically conductive pattern module and manufacturing method thereof - Google Patents

By-directional electrically conductive, by-directional electrically conductive pattern module and manufacturing method thereof Download PDF

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KR20170137592A
KR20170137592A KR1020160134778A KR20160134778A KR20170137592A KR 20170137592 A KR20170137592 A KR 20170137592A KR 1020160134778 A KR1020160134778 A KR 1020160134778A KR 20160134778 A KR20160134778 A KR 20160134778A KR 20170137592 A KR20170137592 A KR 20170137592A
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KR
South Korea
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contact portion
pattern
lower contact
upper contact
conductive
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KR1020160134778A
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Korean (ko)
Inventor
문해중
이지형
이은주
Original Assignee
주식회사 이노글로벌
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Publication date
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Abstract

본 발명은 양방향 도전성 핀, 양방향 도전성 패턴 모듈 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀은 도전성을 갖는 박판이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 상부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 상부 접촉부와, 도전성을 갖는 박판이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 하부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 하부 접촉부와, 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 전기적으로 연결하는 적어도 하나의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 도전성을 갖는 금속 박판을 패터닝하고, 금형 등의 방법을 패턴을 말아 태엽 형태의 상부 접촉부 및 하부 접촉부를 형성하고, 연결부가 원주 방향으로 함께 감겨 꼬인 형태를 가져 상하 방향으로 탄성적으로 복원력을 가지게 되어 상하 방향으로 하나의 양방향 도전성 핀이 구현 가능하게 된다.The present invention relates to a bidirectional conductive pin, a bidirectional conductive pattern module and a method of manufacturing the same. The bidirectional conductive pin according to the present invention is characterized in that the electrically conductive thin plate has an upper contact portion formed by winding a thin plate having an electric conductivity in the form of a spool in the vertical direction and elastically supporting the contact portion in the upward direction, A lower contact portion formed to be wound in a spiral shape and elastically supporting the lower contact portion when the lower contact portion is in contact with the lower contact portion, and at least one connection portion electrically connecting the upper contact portion and the lower contact portion. Accordingly, the metal thin plate having conductivity is patterned, and the upper contact portion and the lower contact portion of the spring-loaded type are formed by patterning the molds or the like, and the connecting portions are twisted together in the circumferential direction so as to be twisted, So that one bidirectional conductive pin can be realized in the vertical direction.

Description

양방향 도전성 핀, 양방향 도전성 패턴 모듈 및 그 제조방법{BY-DIRECTIONAL ELECTRICALLY CONDUCTIVE, BY-DIRECTIONAL ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN MODULE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bidirectional conductive pin, a bidirectional conductive pattern module, and a method of manufacturing the same. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 양방향 도전성 핀, 양방향 도전성 패턴 모듈 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포고-핀 타입의 반도체 테스트 소켓이 갖는 단점을 보완할 수 있는 양방향 도전성 핀, 양방향 도전성 패턴 모듈 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a bidirectional conductive pin, a bidirectional conductive pattern module, and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a bidirectional conductive pin, a bidirectional conductive pattern module, and a manufacturing method thereof that can overcome the disadvantages of a pogo- ≪ / RTI >

반도체 소자는 제조 과정을 거친 후 전기적 성능의 양불을 판단하기 위한 검사를 수행하게 된다. 반도체 소자의 양불 검사는 반도체 소자의 단자와 전기적으로 접촉될 수 있도록 형성된 반도체 테스트 소켓(또는 콘텍터 또는 커넥터)을 반도체 소자와 검사회로기판 사이에 삽입한 상태에서 검사가 수행된다. 그리고, 반도체 테스트 소켓은 반도체 소자의 최종 양불 검사 외에도 반도체 소자의 제조 과정 중 번-인(Burn-In) 테스트 과정에서도 사용되고 있다.The semiconductor device is subjected to a manufacturing process and then an inspection is performed to determine whether the electrical performance is good or not. Inspection is carried out with a semiconductor test socket (or a connector or a connector) formed so as to be in electrical contact with a terminal of a semiconductor element inserted between a semiconductor element and an inspection circuit board. Semiconductor test sockets are used in burn-in testing process of semiconductor devices in addition to final semiconductor testing of semiconductor devices.

반도체 소자의 집적화 기술의 발달과 소형화 추세에 따라 반도체 소자의 단자 즉, 리드의 크기 및 간격도 미세화되는 추세이고, 그에 따라 테스트 소켓의 도전 패턴 상호간의 간격도 미세하게 형성하는 방법이 요구되고 있다.The size and spacing of terminals or leads of semiconductor devices are becoming finer in accordance with the development of technology for integrating semiconductor devices and miniaturization trends and there is a demand for a method of finely forming spaces between conductive patterns of test sockets.

그런데, 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓으로는 집적화되는 반도체 소자를 테스트하기 위한 반도체 테스트 소켓을 제작하는데 한계가 있었다. 도 1 내지 도 3은 한국공개특허 제10-2011-0065047호에 개시된 종래의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓의 예를 나타낸 도면이다.However, conventional Pogo-pin type semiconductor test sockets have a limitation in manufacturing semiconductor test sockets for testing integrated semiconductor devices. 1 to 3 are views showing an example of a conventional pogo-pin type semiconductor test socket disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2011-0065047.

도 1 내지 도 3을 참조하여 설명하면 기존이 반도체 테스트 소켓(100)은 반도체 디바이스(130)의 단자(131)와 대응되는 위치에 상하방향으로 관통공(111)이 형성된 하우징(110)과, 하우징(110)의 관통공(111) 내에 장착되어 반도체 디바이스(130)의 단자(131) 및 테스트 장치(140)의 패드(141)를 전기적으로 연결시키는 포고-핀(Pogo-pin)(120)으로 이루어진다.1 to 3, the conventional semiconductor test socket 100 includes a housing 110 having a through hole 111 formed at a position corresponding to the terminal 131 of the semiconductor device 130 in a vertical direction, A pogo-pin 120 mounted in the through hole 111 of the housing 110 for electrically connecting the terminal 131 of the semiconductor device 130 and the pad 141 of the test apparatus 140, Lt; / RTI >

포고-핀(Pogo-pin)(120)의 구성은, 포고-핀(Pogo-pin) 본체로 사용되며 내부가 비어있는 원통형 형태를 가지는 배럴(124)과, 배럴(124)의 하측에 형성되는 접촉팁(123)과, 배럴(124) 내부에서 접촉팁(123)과 연결되어 수축과 팽창 운동을 하는 스프링(122) 및 접촉팁(123)과 연결된 스프링(122) 반대편에 연결되어 반도체 디바이스(130)와의 접촉에 따라 상하운동을 수행하는 접촉핀(121)으로 구성된다.The configuration of the pogo-pin 120 includes a barrel 124 having a cylindrical shape, which is used as a pogo-pin body and has an empty interior, and a barrel 124 formed below the barrel 124 A contact tip 123 and a spring 122 connected to the contact tip 123 within the barrel 124 for contraction and expansion movement and a spring 122 connected to the contact tip 123, 130 for performing up-and-down movement in accordance with the contact with the contact pins 121.

이때, 스프링(122)은 수축 및 팽창을 하면서 접촉핀(121)과 접촉팁(123)에 전달되는 기계적인 충격을 흡수하면서 반도체 디바이스(130)의 단자(131)와 테스트 장치(140)의 패드(141)를 전기적으로 접속시켜 전기적인 불량여부를 검사하게 한다.At this time, the spring 122 contracts and expands while absorbing the mechanical impact transmitted to the contact pin 121 and the contact tip 123, and the pad 131 of the semiconductor device 130 and the pad (141) are electrically connected to check whether there is an electrical failure.

그런데, 상기와 같은 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓은 상하 방향으로의 탄성을 유지하기 위해 물리적인 스프링을 사용하게 되고, 배럴 내부에 스프링과 핀을 삽입하고, 배럴을 다시 하우징의 관통공 내부에 삽입하여야 하므로 그 공정이 복잡할 뿐만 아니라 공정의 복잡성으로 인해 제조 가격이 상승하는 문제가 있다.In the conventional pogo-pin type semiconductor test socket, a physical spring is used to maintain the elasticity in the vertical direction, and a spring and a pin are inserted into the barrel, and a barrel It is required to be inserted into the through hole of the housing again, so that the process is complicated and the manufacturing cost increases due to the complexity of the process.

뿐만 아니라, 상하 방향으로 탄성을 갖는 전기적 접촉 구조의 구현을 위한 물리적인 구성 자체가 미세 피치를 구현하는데 한계가 있으며, 근래에 집적화된 반도체 소자에는 적용하는데 이미 한계치까지 도달해 있는 실정이다.In addition, the physical structure itself for realizing the electrical contact structure having elasticity in the up and down direction has a limitation in realizing the fine pitch, and in recent years, it has already reached a limit to be applied to the integrated semiconductor device.

포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 소자의 한계를 극복하고자 제한된 기술이, 탄성 재질의 실리콘 소재로 제작되는 실리콘 본체 상에 수직 방향으로 타공 패턴을 형성한 후, 타공된 패턴 내부에 도전성 분말을 충진하여 도전 패턴을 형성하는 PCR 소켓 타입의 반도체 테스트 소켓이다.In order to overcome the limitations of a pogo-pin type semiconductor device, a technique has been proposed in which a perforated pattern is formed in a vertical direction on a silicon body made of a silicone material of elastic material, To form a conductive pattern.

그러나, PCR 타입의 반도체 테스트 소켓은 내부에 충진되는 도전성 분말의 이탈로 인한 수명의 단축 문제 등과 같이 PCR 타입의 반도체 테스트 소켓의 구조적 한계로 인해 갖는 문제점 또한 가지고 있다.However, the PCR type semiconductor test socket also has a problem due to the structural limitations of the PCR type semiconductor test socket, such as shortening the lifetime due to the disengagement of the conductive powder filled in the inside.

따라서, 미세 피치의 구현이 가능하면서도 높이의 제한이나 PCR 타입의 반도체 테스트 소켓과 같은 다른 방식의 반도체 테스트 소켓이 갖는 문제점을 해소할 후 있는 다른 형태의 반도체 테스트 소켓의 개발이 요구되고 있다.Accordingly, there is a demand for development of other types of semiconductor test sockets after finishing the problems of the height limit and the semiconductor test socket of the other type such as the PCR type semiconductor test socket while enabling the implementation of the fine pitch.

이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 포고-핀 타입과 PCR 타입의 반도체 테스트 소켓이 갖는 단점을 보완하여, 포고-핀 타입의 반도체 테스트 소켓을 대체할 수 있는 양방향 도전성 핀, 양방향 도전성 패턴 모듈 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to overcome the disadvantages of the pogo-pin type and PCR type semiconductor test socket and to provide a bidirectional conductive Pin, a bidirectional conductive pattern module, and a method of manufacturing the same.

상기 목적은 본 발명에 따라, 양방향 도전성 핀에 있어서, 도전성을 갖는 박판이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 상부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 상부 접촉부와, 도전성을 갖는 박판이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 하부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 하부 접촉부와, 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 전기적으로 연결하는 적어도 하나의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀에 의해서 달성된다.According to the present invention, there is provided a bidirectional conductive pin according to the present invention, comprising: an upper contact portion formed by winding a conductive thin plate in a spiral shape about an axis in an up-down direction and elastically supporting the contact portion in an upward direction; A lower contact portion formed by winding the upper and lower directions in a spiral shape and elastically supporting the lower contact portion in contact with the lower contact portion and at least one connection portion electrically connecting the upper contact portion and the lower contact portion, Directional conductive pin.

여기서, 상기 상부 접촉부, 상기 하부 접촉부 및 상기 연결부는 도전성을 갖는 박판의 패터닝을 통해 형성된 베이스 패턴이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 함께 형성될 수 있다.Here, the upper contact portion, the lower contact portion, and the connection portion may be formed by patterning a conductive thin plate and patterning the base pattern so that the base pattern is wound around the upper and lower directions in a spiral shape.

또한, 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에 상기 연결부가 내부에 수용되도록 형성되는 탄성을 갖는 절연성 재질의 핀 본체를 더 포함할 수 있다.The connector may further include an elastic insulative pin body formed between the upper contact part and the lower contact part so that the connection part is received therein.

그리고, 상기 상부 접촉부로부터 하부로 연장되되 하부 말단이 상기 하부 접촉부와 소정 간격 이격되도록 형성된 적어도 하나의 내부 지지부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include at least one internal support portion extending downward from the upper contact portion and having a lower end spaced apart from the lower contact portion by a predetermined distance.

그리고, 상기 상부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성될 수 있다.The inner dry portion of the upper contact portion may protrude upward from the outer dry portion and may be stepped outward in the radial direction.

그리고, 상기 하부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성될 수 있다.The inner dry portion of the lower contact portion may protrude downward from the outer dry portion and may be stepped outward in the radial direction.

또한, 상기 연결부는 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되어 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에서 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 상기 상하 방향으로 지지할 수 있다.The connection portion may have a predetermined width in the transverse direction to support the upper contact portion and the lower contact portion in the vertical direction between the upper contact portion and the lower contact portion.

한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 실시 형태에 따라, 양방향 도전성 패턴 모듈에 있어서, 절연성 본체와, 가로 방향으로 상호 이격된 상태로 상기 절연성 본체 내부에 배치되고, 각각의 상부 및 하부가 상기 절연성 본체의 상부 표면 및 하부 표면에 노출되는 복수의 양방향 도전성 핀을 포함하며; 각각의 상기 양방향 도전성 핀은 도전성을 갖는 박판이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 상부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 상부 접촉부와, 도전성을 갖는 박판이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 하부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 하부 접촉부와, 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 전기적으로 연결하는 적어도 하나의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈에 의해서도 달성된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a bidirectional conductive pattern module, comprising: an insulating main body; and an insulative main body disposed in the insulative main body so as to be spaced apart from each other in the lateral direction, And a plurality of bidirectional conductive pins exposed on the upper surface and the lower surface of the substrate; Wherein each of the bidirectional conductive pins comprises: an upper contact portion formed by winding a conductive thin plate in a spiral shape in the vertical direction and elastically supporting the contact portion in an upward direction; A lower contact portion formed to be curled and supported to elastically support at the time of contact in a downward direction and at least one connection portion electrically connecting the upper contact portion and the lower contact portion, do.

여기서, 상기 상부 접촉부, 상기 하부 접촉부 및 상기 연결부는 도전성을 갖는 박판의 패터닝을 통해 형성된 베이스 패턴이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 함께 형성될 수 있다.Here, the upper contact portion, the lower contact portion, and the connection portion may be formed by patterning a conductive thin plate and patterning the base pattern so that the base pattern is wound around the upper and lower directions in a spiral shape.

또한, 상기 상부 접촉부로부터 하부로 연장되되 하부 말단이 상기 하부 접촉부와 소정 간격 이격되도록 형성된 적어도 하나의 내부 지지부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include at least one internal support portion extending downward from the upper contact portion and having a lower end spaced apart from the lower contact portion by a predetermined distance.

그리고, 상기 상부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성될 수 있다.The inner dry portion of the upper contact portion may protrude upward from the outer dry portion and may be stepped outward in the radial direction.

여기서, 상기 하부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성될 수 있다.Here, the inner dry portion of the lower contact portion may protrude downward from the outer dry portion and may be stepped outward in the radial direction.

또한, 상기 연결부는 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되어 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에서 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 상기 상하 방향으로 지지할 수 있다.The connection portion may have a predetermined width in the transverse direction to support the upper contact portion and the lower contact portion in the vertical direction between the upper contact portion and the lower contact portion.

한편, 상기 목적은 본 발명의 또 다른 실시 형태에 따라, 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법에 있어서, (a) 도전성을 갖는 박판을 패터닝하여, 가로 방향으로 상호 이격된 복수의 상부 접촉 패턴과, 상하 방향으로 복수의 상기 상부 접촉 패턴과 이격되고 상기 가로 방향으로 상호 이격된 복수의 하부 접촉 패턴과, 상호 대응하는 위치의 상기 상부 접촉 패턴과 상기 하부 접촉 패턴을 연결하는 적어도 하나의 연결 패턴을 갖는 베이스 패턴을 형성하는 단계와; (b) 상기 베이스 패턴을 도금하는 단계와; (c) 각각의 상기 상부 접촉 패턴과 각각의 상기 하부 접촉 패턴이 태엽 형상을 갖도록 상기 상하 방향을 축으로 말아 복수의 상부 접촉부, 복수의 하부 접촉부 및 상호 대응하는 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 연결하는 연결부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법에 의해서도 달성된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a bidirectional conductive pattern module, comprising: (a) patterning a conductive thin plate to form a plurality of upper contact patterns spaced apart from each other in the lateral direction, A plurality of lower contact patterns spaced apart from the plurality of upper contact patterns in the direction of the base and having at least one connection pattern connecting the upper contact patterns and the lower contact patterns at mutually corresponding positions, Forming a pattern; (b) plating the base pattern; (c) connecting the plurality of upper contact portions, the plurality of lower contact portions, and the corresponding upper contact portions and the lower contact portions by axially moving the upper contact patterns and each of the lower contact patterns so as to have a spring- And a step of forming a connection portion for connecting the conductive pattern module to the conductive pattern module.

여기서, (d) 복수의 상기 상부 접촉부의 상부 표면과, 복수의 상기 하부 접촉부의 하부 표면이 각각 상부 방향 및 하부 방향으로 노출된 상태로 상기 연결부가 내부에 수용되도록 탄성을 갖는 절연성 재질의 절연성 본체를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Here, (d) an insulating main body of an elastic material having elasticity such that the connecting portion is received in the upper surface and the lower surface of the plurality of lower contact portions are exposed in the upper and lower directions, respectively, And forming the second electrode layer.

또한, 상기 (a) 단계에서 상기 연결 패턴은 대각선 방향으로 형성되어 상호 대응하는 상기 상부 접촉 패턴과 상기 하부 접촉 패턴을 연결할 수 있다.In the step (a), the connection pattern may be formed in a diagonal direction to connect the upper contact patterns and the lower contact patterns corresponding to each other.

그리고, 상기 (c) 단계에서 상호 대응하는 상기 상부 접촉 패턴과 상기 하부 접촉 패턴은 상하 방향으로 동일 축을 중심으로 말려 상하 방향으로 대응하는 위치에 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부가 형성될 수 있다.The upper contact pattern and the lower contact pattern corresponding to each other in the step (c) may be formed with the upper contact part and the lower contact part at positions corresponding to the upper and lower directions by being vertically coaxial with each other about the same axis.

그리고, 상기 (a) 단계에서는 상기 상부 접촉 패턴으로부터 상기 하부 접촉 패턴 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 내부 지지 패턴이 도전성을 갖는 박판을 패터닝 과정에서 함께 형성되며; 상기 내부 지지 패턴은 상기 (c) 단계를 통해 상기 상부 접촉부로부터 하부 방향으로 연장되는 내부 지지부를 형성할 수 있다.In the step (a), at least one inner supporting pattern protruding from the upper contact pattern in the direction of the lower contact pattern is formed together with the conductive thin plate in the patterning process; The inner support pattern may form an inner support portion extending downward from the upper contact portion through the step (c).

그리고, 상기 상부 접촉 패턴은 상기 상하 방향으로의 폭이 상이하게 형성되거나 상기 가로 방향으로 단차지게 형성되어, 상기 상부 접촉부의 내측 말린 부분이 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성될 수 있다.The upper contact pattern may be formed to have a different width in the vertical direction or to be stepped in the lateral direction so that the inner curled portion of the upper contact portion protrudes upward from the outer curled portion and is stepped outward in the radial direction .

또한, 상기 하부 접촉 패턴은 상기 상하 방향으로의 폭이 상이하게 형성되거나 상기 가로 방향으로 단차지게 형성되어, 상기 하부 접촉부의 내측 말린 부분이 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성될 수 있다.The lower contact pattern may be formed to have a different width in the vertical direction or to be stepped in the lateral direction so that the inner curled portion of the lower contact portion protrudes downward from the outer curled portion and is stepped outward in the radial direction .

그리고, 상기 연결 패턴은 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되어 상기 연결부가 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에서 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 상기 상하 방향으로 지지할 수 있다.The connection pattern may be formed to have a predetermined width in a lateral direction so that the connection portion supports the upper contact portion and the lower contact portion in the vertical direction between the upper contact portion and the lower contact portion.

한편, 상기 목적은 본 발명의 또 다른 실시 형태에 따라, 양방향 도전성 핀의 제조방법에 있어서, 상기의 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조 방법에 따라 양방향 도전성 패턴 모듈을 제조하는 단계와, 상기 양방향 도전성 패턴 모듈의 절연성 본체를 상하 방향으로 절단하되 상호 연결된 하나씩의 상부 접촉부, 하부 접촉부 및 연결부 단위로 절단하여 복수의 양방향 도전성 핀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀의 제조방법에 의해서도 달성된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a bidirectional conductive pin, the method comprising: fabricating a bidirectional conductive pattern module according to the method of manufacturing the bidirectional conductive pattern module; And a step of cutting the insulating main body of each of the plurality of bidirectional conductive pins in the vertical direction by cutting each of the upper contact portion, the lower contact portion and the connecting portion connected to each other to form a plurality of bidirectional conductive fins .

상기와 같은 구성에 따라 본 발명에 따르면, 도전성을 갖는 금속 박판을 패터닝하고, 금형 등의 방법을 패턴을 말아 태엽 형태의 상부 접촉부 및 하부 접촉부를 형성하고, 연결부가 원주 방향으로 함께 감겨 꼬인 형태를 가져 상하 방향으로 탄성적으로 복원력을 가지게 되어 상하 방향으로 하나의 양방향 도전성 핀이 구현 가능하게 된다.According to the present invention, according to the present invention, a thin metal plate having conductivity is patterned, and a method such as a mold is formed to form a top contact portion and a bottom contact portion of a spring-loaded type by winding a pattern, So that a bi-directional conductive pin can be realized in the up-and-down direction.

또한, 태엽 형태의 상부 접촉부가 반도체 소자의 단자, 예를 들어 볼에 접촉할 때, 태엽 내부 부분부터 먼저 접촉하여 외부로 순차적으로 접촉되어 보다 안정적인 접촉과, 접촉이 제거될 때 안정적인 복원이 가능하게 된다.In addition, when the upper contact portion of the spring-loaded type contacts the terminal of the semiconductor element, for example, the ball, the inner portion of the spring is contacted first and then the outer portion is sequentially contacted to provide stable contact and stable restoration when contact is removed do.

또한, 금속 박판을 에칭이나 스탬핑 방법을 이용해 패터닝하고, 금형 등으로 원통 형상으로 말아 제조함으로써, 그 제조방법이 간소화될 뿐만 아니라 제조비용 또한 현저히 감소시킬 수 있게 된다.Further, the metal thin plate is patterned by using an etching or stamping method, and is formed by rolling it into a cylindrical shape by a mold or the like, so that the manufacturing method is simplified and the manufacturing cost can be remarkably reduced.

또한, 가로 방향으로 복수개의 패턴을 동시에 제조하여 가로 방향으로 복수의 양방향 도전성 핀이 형성된 양방향 도전성 패턴 모듈을 제조하고, 이들을 깊이 방향으로 배치시킴으로서 가로 방향과 깊이 방향으로 복수개의 도전 패턴이 형성된 반도체 테스트용 소켓의 제조도 가능하게 된다.Further, a bidirectional conductive pattern module in which a plurality of patterns are simultaneously formed in the lateral direction to form a plurality of bidirectional conductive pins in the lateral direction, and a plurality of conductive patterns are formed in the lateral direction and the depth direction, So that the socket can be manufactured.

도 1 내지 도 3은 종래의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓을 설명하기 위한 도면이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 양방향 도전성 핀의 형성 원리를 설명하기 위한 도면이고,
도 5 및 도 6은 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀 및 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고,
도 7 내지 도 11은 본 발명에 따른 베이스 패턴의 다양한 예를 나타낸 도면이고,
도 12 및 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 양방향 도전성 핀의 예를 나타낸 도면이다.
Figs. 1 to 3 are views for explaining a conventional pogo-pin type semiconductor test socket,
4 is a view for explaining the principle of forming a bidirectional conductive pin according to an embodiment of the present invention,
5 and 6 are views for explaining the method of manufacturing the bidirectional conductive pin and the bidirectional conductive pattern module according to the present invention,
7 to 11 are views showing various examples of the base pattern according to the present invention,
12 and 13 are views showing an example of a bidirectional conductive pin according to another embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10)의 형성 원리를 설명하기 위한 도면이다. 도 4의 (b)를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10)은 상부 접촉부(11), 하부 접촉부(12) 및 연결부(13)를 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10)은 핀 본체(14)를 더 포함할 수 있다.4 is a view for explaining the principle of forming the bidirectional conductive fins 10 according to the present invention. Referring to FIG. 4 (b), the bidirectional conductive pin 10 according to the present invention includes an upper contact portion 11, a lower contact portion 12, and a connection portion 13. In addition, the bi-directional conductive pin 10 according to the present invention may further include a pin body 14.

본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10), 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이, 도전성을 갖는 박판, 예를 들어 금속 박판의 패터닝을 통해 형성되는 베이스 패턴(100a)을 이용하여 제작된다. 베이스 패턴(100a)은, 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이, 상부 접촉 패턴(11a), 하부 접촉 패턴(12a), 그리고 이들을 연결하는 적어도 하나의 연결 패턴(13a)을 포함한다.The bidirectional conductive pin 10 according to the present invention is fabricated using a base plate 100a formed through patterning of a conductive thin plate, for example, a thin metal plate, as shown in FIG. 4 (a). The base pattern 100a includes an upper contact pattern 11a, a lower contact pattern 12a, and at least one connection pattern 13a connecting them as shown in Fig. 4 (a).

이와 같은 베이스 패턴(100a)의 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)을 상하 방향을 축(Axis, 이하 동일)으로 하여 2회 이상 말라 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이 태엽 형태로 제작하게 되면, 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10)의 상부 접촉부(11)와 하부 접촉부(12)가 형성 가능하게 된다.As shown in FIG. 4 (c), when the upper contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a of the base pattern 100a are rotated two or more times in the vertical direction as the axis Axis The upper contact portion 11 and the lower contact portion 12 of the bidirectional conductive pin 10 according to the present invention can be formed.

여기서, 본 발명에서는 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이, 연결 패턴(13a)이 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a) 사이에서 대각선 방향을 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)을 연결하도록 형성하게 되면, 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)이 태엽 형태로 말라 상부 접촉부(11)와 하부 접촉부(12)를 형성할 때 함께 말려, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같은 꼬인 형상을 갖게 된다.4 (a), the connection pattern 13a is formed between the upper contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a in the diagonal direction with the upper contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a, When the upper contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a are formed in the shape of a spiral so as to form the upper contact portion 11 and the lower contact portion 12 together, and has a twisted shape as shown in Fig.

상기와 같은 태엽 형태의 상부 접촉부(11)에 반도체 소자의 단자, 예를 들어 볼(Ball)이 상부 방향에서 하부 방향으로 접촉하게 되면, 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이, 태엽 내부의 ① 번 부분이 볼에 먼저 접촉하여 하부 방향으로 하강하게 되고, ② 번 및 ③ 번 순으로 순차적으로 접촉하게 됨으로써, 탄성적인 접촉과, 접촉 제거 후 원상태로 복원하는 복원력을 갖게 된다. 즉, 상부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하게 된다.4 (c), when the terminal of the semiconductor element, for example, a ball, comes in contact with the upper contact portion 11 of the above-mentioned spring shape in the downward direction from the upper direction, The first part comes first in contact with the ball and descends in the downward direction and comes in contact sequentially in the order of (2) and (3), so that the elastic contact has a restoring force to restore the original state after the contact is removed. That is, it is elastically supported when it comes in contact with the upper direction.

마찬가지로, 하부 접촉부(12)에 검사회로기판의 단자가 하부 방향에서 상부 방향으로 접촉하게 되면, 태엽 형태의 내측 부분부터 외측 부분으로 순차적으로 접촉하게 되어 하부 방향에서의 접촉을 탄성적으로 지지하게 된다.Likewise, when the terminals of the inspection circuit board are brought into contact with the lower contact portion 12 from the lower direction to the upper direction, the contact portions are sequentially brought in contact with the inner side portion of the spring-loaded type from the inner side portion to the outer side portion so as to elastically support the contact in the lower direction .

그리고, 연결부(13)는 상부 접촉부(11)와 하부 접촉부(12)를 전기적으로 연결시킴으로써, 상부 접촉부(11), 연결부(13) 및 하부 접촉부(12)가 상하 방향으로 하나의 도전 라인을 형성하게 됨으로써, 반도체 소자의 검사에 사용 가능하게 된다.The connection part 13 electrically connects the upper contact part 11 and the lower contact part 12 so that the upper contact part 11, the connection part 13 and the lower contact part 12 form one conductive line in the vertical direction So that it can be used for inspection of semiconductor devices.

여기서, 핀 본체(14)는 상부 접촉부(11)와 하부 접촉부(12) 사이에서 연결부(13)가 내부에 수용되도록 형성되어 상부 접촉부(11)와 하부 접촉부(12)를 지지한다. 여기서, 핀 본체(14)는 탄성을 갖는 절연성 재질, 예를 들어 실리콘 재질로 마련되는 것을 예로 한다.The pin body 14 is formed to receive the connection portion 13 between the upper contact portion 11 and the lower contact portion 12 to support the upper contact portion 11 and the lower contact portion 12. The pin body 14 is made of an insulating material having elasticity, for example, a silicon material.

이하에서는, 도 5 및 도 6을 참조하여 본 발명에 따른 양방향 도전성 패턴 모듈(100) 및 양방향 도전성 핀(10)의 제조방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing the bidirectional conductive pattern module 100 and the bidirectional conductive pin 10 according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 5 and 6. FIG.

도 5 및 도 6을 참조하여 설명하면, 먼저, 금속 박판을 준비하고, 금속 박판을 패터닝 처리하여, 도 5의 (a)에 도시된 바와 같은 베이스 패턴(100a)을 형성한다. 여기서, 금속 박판은 도전성을 갖는 재질로 마련될 수 있으나, 후술할 도금 과정을 통해 도전성이 형성될 수 있는 바, 금속 박판의 도전성은 필수가 아닐 수 있다. 금속 박판의 재질은 구리 또는 구리 합금, 예를 들어 BeCu로 형성될 수 있다. 또한, 본 발명에서는 금속 박판의 패터닝 방법으로 에칭 방법이나 스탬핑 방법이 적용되는 것을 예로 한다.Referring to FIGS. 5 and 6, first, a metal thin plate is prepared and a metal thin plate is patterned to form a base pattern 100a as shown in FIG. 5 (a). Here, the metal thin plate may be made of a conductive material, but conductivity may be formed through a plating process to be described later, so that the conductivity of the thin metal plate may not be essential. The material of the metal foil may be formed of copper or a copper alloy, for example, BeCu. In the present invention, an etching method or a stamping method is applied as a metal thin plate patterning method.

도 5의 (a)를 참조하여 설명하면, 금속 박판의 패터닝 처리를 통해 형성되는 베이스 패턴(100a)은 복수의 상부 접촉 패턴(11a), 복수의 하부 접촉 패턴(12a), 그리고 상호 대응하는 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)을 연결하는 연결 패턴(13a)을 포함한다. 여기서, 하나의 상부 접촉 패턴(11a), 하부 접촉 패턴(12a) 및 이를 연결하는 연결 패턴(13a)의 구성은 도 4의 (a)에 도시된 바와 같으며, 도 5의 (a)에 도시된 실시예에서는 연결 패턴(13a)이 가로 방향으로 휜 형상을 갖는 것을 예로 하고 있다.5A, the base pattern 100a formed through the patterning process of the metal thin plate includes a plurality of upper contact patterns 11a, a plurality of lower contact patterns 12a, And a connection pattern 13a connecting the contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a. Here, the configuration of one upper contact pattern 11a, the lower contact pattern 12a, and the connection pattern 13a connecting them is shown in FIG. 4 (a) The connecting pattern 13a has a shape which is warped in the transverse direction.

복수의 상부 접촉 패턴(11a)은 가로 방향으로 상호 이격되도록 형성된다. 그리고, 복수의 하부 접촉 패턴(12a)은 상부 접촉 패턴(11a)으로부터 상하 방향으로 이격된 상태에서 상호간에 가로 방향으로 이격되도록 형성된다. The plurality of upper contact patterns 11a are formed to be spaced from each other in the transverse direction. The plurality of lower contact patterns 12a are spaced apart from each other in the vertical direction from the upper contact pattern 11a.

여기서, 베이스 패턴(100a)은 복수의 상부 접촉 패턴(11a), 복수의 하부 접촉 패턴(12a), 그리고 연결 패턴(13a)을 이용한 이후의 작업이 동시에 이루어질 수 있도록 각각의 상부 접촉 패턴(11a)과 상부 연결 패턴(123)으로 연결되는 상부 지지 패턴(121)과, 각각의 하부 접촉 패턴(12a)과 하부 연결 패턴(124)으로 연결되는 하부 지지 패턴(122)을 포함할 수 있다.The base pattern 100a is formed so as to cover the upper contact patterns 11a so that subsequent operations using the upper contact patterns 11a, the lower contact patterns 12a, and the connection patterns 13a can be performed simultaneously. And a lower support pattern 122 connected to the lower contact patterns 12a and the lower connection patterns 124. The upper support pattern 121 and the lower support pattern 122 are connected to each other by an upper connection pattern 123,

상기와 같이 베이스 패턴(100a)의 제조가 완료되면, 베이스 패턴(100a)의 도전성 향상을 위해, 도금 과정이 진행된다. 본 발명에서는 니켈 도금과 금 도금을 순차적으로 진행하는 것을 예로 한다.When the fabrication of the base pattern 100a is completed, the plating process proceeds to improve the conductivity of the base pattern 100a. In the present invention, nickel plating and gold plating are sequentially performed.

도금 과정이 완료되면, 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이, 각각의 상부 접촉 패턴(11a)과 각각의 하부 접촉 패턴(12a)이 태엽 형상을 갖도록 상하 방향을 축으로 말아, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이 각각 상부 접촉부(11), 하부 접촉부(12) 및 연결부(13)를 형성한다. 여기서, 연결부(13)는 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)이 태엽 형태로 말릴 때 연결 패턴(13a)이 함께 말려 꼬인 형상으로 형성된다.When the plating process is completed, as shown in FIG. 4C, the upper contact patterns 11a and the lower contact patterns 12a are vertically pivoted so as to have a spring shape, the upper contact portion 11, the lower contact portion 12 and the connection portion 13 are formed as shown in Fig. The connecting portion 13 is formed by twisting the connecting pattern 13a when the upper contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a are wound in a spiral shape.

여기서, 상호 대응하는 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)은 상하 방향으로 동일 축을 중심으로 말려 상하 방향으로 대응하는 위치에 상부 접촉부(11) 및 하부 접촉부(12)가 형성 가능하게 된다.Here, the upper contact portion 11a and the lower contact portion 12a corresponding to each other can be formed with the upper contact portion 11 and the lower contact portion 12 at positions corresponding to the upper and lower directions, .

상기와 같이, 상부 접촉부(11), 하부 접촉부(12) 및 연결부(13)가 형성되면, 도 5의 (c)에 도시된 바와 같이, 각각의 상부 접촉부(11)의 상부 표면과, 각각의 하부 접촉부(12)의 하부 표면이 상부 방향 및 하부 방향으로 노출된 상태가 되도록 절연성 본체(110)를 형성한다. 도 5의 (c)에서는 상부 접촉부(11)의 하부측 일부와 하부 접촉부(12)의 상부측 일부가 커버되는 정도로 연결부(13)가 내부에 수용될 수 있도록 절연성 본체(110)가 형성되는 것을 예로 한다.5 (c), when the upper contact portion 11, the lower contact portion 12, and the connection portion 13 are formed as described above, the upper surface of each upper contact portion 11, The insulating main body 110 is formed such that the lower surface of the lower contact portion 12 is exposed in the upward and downward directions. 5 (c), the insulating body 110 is formed so that the connection portion 13 can be received therein to such an extent that the lower side portion of the upper contact portion 11 and the upper side portion of the lower contact portion 12 are covered For example.

일 예로, 도 5의 (b)에 도시된 베이스 패턴(100a)을 금형에 설치한 후, 액상의 실리콘을 주입한 후 경화시켜 절연성 본체(110)를 형성할 수 있다. 이를 통해, 상부 접촉부(11)의 상부 표면과 하부 접촉부(12)의 하부 표면은 절연성 본체(110)의 외부로 노출된 상태가 되고, 상부 접촉부(11)의 나머지 부분, 하부 접촉부(12)의 나머지 부분, 그리고 연결부(13)는 절연성 본체(110)의 내부에 위치하게 된다.For example, after the base pattern 100a shown in FIG. 5 (b) is installed in a metal mold, liquid silicone is injected and then cured to form the insulating main body 110. FIG. The upper surface of the upper contact portion 11 and the lower surface of the lower contact portion 12 are exposed to the outside of the insulating main body 110 and the remaining portions of the upper contact portion 11, The remaining portion, and the connection portion 13 are located inside the insulative main body 110.

상기와 같은 과정을 통해, 절연성 본체(110)가 완성되면, 도 5의 (c)에 도시된 절취선(C1, C2)을 따라 레이저 커팅 등의 방법을 통해 상부 연결 패턴(123)과 하부 연결 패턴(124)을 절단하게 되면, 도 6의 (a)에 도시된 바와 같은 양방향 도전성 패턴 모듈(100)이 제조 가능하게 된다.When the insulating main body 110 is completed as described above, the upper connection pattern 123 and the lower connection pattern 123 are formed along the perforated lines C1 and C2 shown in FIG. 5 (c) The conductive pattern module 100 can be manufactured as shown in FIG. 6 (a).

도 6의 (a)을 참조하여 설명하면, 양방향 도전성 패턴 모듈(100)(100)은 절연성 본체(110)(110)의 내부에 가로 방향으로 상호 이격된 상태로 복수의 양방향 도전성 핀(10)이 형성된다. 이 때. 하니씩의 상부 접촉부(11), 하부 접촉부(12), 그리고 연결부(13)가 하나의 양방향 도전성 핀(10)을 구성하게 되고, 상하 방향으로 하나의 도전 라인을 형성하게 된다.The bidirectional conductive pattern modules 100 and 100 are electrically connected to a plurality of bidirectional conductive pins 10 in a state where the bidirectional conductive pattern modules 100 and 100 are spaced apart from each other in the transverse direction inside the insulating bodies 110 and 110, . At this time. The upper contact portion 11, the lower contact portion 12 and the connection portion 13 constitute one bidirectional conductive pin 10 and form one conductive line in the vertical direction.

그리고, 복수의 양방향 도전성 패턴 모듈(100)을 깊이 방향으로 배열시키게 되면, 가로 방향과 깊이 방향으로 복수의 도전 패턴을 갖는 반도체 테스트용 소켓을 구성할 수 있게 된다.By arranging the plurality of bidirectional conductive pattern modules 100 in the depth direction, a semiconductor test socket having a plurality of conductive patterns in the horizontal direction and the depth direction can be formed.

또한, 도 6의 (a)에 도시된 절취선(C3)을 따라 레이저 커팅 등의 방법으로 절단하게 되면, 도 6의 (b)에 도시된 바와 같은 하나의 양방향 도전성 핀(10)의 제조가 가능하게 되는데, 절연성 본체(110) 중 상부 접촉부(11)와 하부 접촉부(12) 사이에 남은 부분이 양방향 도전성 핀(10)의 핀 본체(14)를 형성하게 된다. 이와 같이 제작된 하나의 양방향 도전성 핀(10)은 기존의 포고 핀을 대체할 수 있게 된다. 6A is cut along the perforated line C3 by laser cutting or the like, it is possible to manufacture one bidirectional conductive pin 10 as shown in FIG. 6B The remaining portion of the insulating body 110 between the upper contact portion 11 and the lower contact portion 12 forms the pin body 14 of the bidirectional conductive pin 10. [ The bidirectional conductive pin 10 thus manufactured can be replaced with a conventional pogo pin.

도 7 내지 도 11은 다양한 형태의 베이스 패턴(100a)의 예를 나타낸 도면이다. 본 발명에 따른 기술적 사상은 상술한 바와 같으며, 도 7 내지 도 11에 도시된 베이스 패턴(100a)의 다양한 변형 예와 다른 변형 예도 본 발명의 기술적 사상에 포함된다. 즉, 당업자라면 본 발명에서 예시한 실시예들 외에 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 변형 예에 따라 베이스 패턴(100a)의 제조가 가능할 것이다.7 to 11 are views showing examples of various types of base patterns 100a. The technical idea according to the present invention is as described above, and various modifications and variations of the base pattern 100a shown in Figs. 7 to 11 are also included in the technical idea of the present invention. That is, those skilled in the art will be able to manufacture the base pattern 100a according to various modifications within the scope of the technical idea of the present invention, in addition to the embodiments illustrated in the present invention.

일 예로, 도 10에는 상부 접촉 패턴(11a)과 하부 접촉 패턴(12a)의 형상에 따라 상부 접촉부(11) 및 하부 접촉부(12)의 형상이 바뀌는 예들을 도시하고 있다. 또한, 도 11의 (a)에 도시된 예에서는 상부 접촉 패턴(11a)으로부터 하부 측으로 내부 지지 패턴(15a)을 형성하는 경우, 절연성 본체(110) 또는 핀 본체(14) 내부에, 도 11의 (b)에 도시된 바와 같은 내부 지지부(15)가 형성되는 것을 예로 하고 있다. 이 때, 내부 지지 패턴(15a)은 금속 박판의 패터닝을 통해 상술한 베이스 패턴(100a)의 형성 과장에서 금속 박판의 패터닝 과정에서 함께 형성될 수 있다.10 shows examples in which the shapes of the upper contact portion 11 and the lower contact portion 12 are changed according to the shape of the upper contact pattern 11a and the lower contact pattern 12a. 11A, when the inner supporting pattern 15a is formed from the upper contact pattern 11a to the lower side, the inner supporting pattern 15a is formed in the insulating main body 110 or the pin main body 14, the inner supporting portion 15 as shown in Fig. 5 (b) is formed. At this time, the inner supporting pattern 15a may be formed together with the metal thin plate during patterning of the base plate 100a through patterning of the thin metal plate.

이하에서는, 도 12를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 양방향 도전성 핀(10')에 대해 설명한다.Hereinafter, a bidirectional conductive pin 10 'according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 12를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10')은 상부 접촉부(11'), 하부 접촉부(12') 및 연결부(13')를 포함한다. 또한, 전술한 실시예에서와 같이 양방향 도전성 핀(10')은 내부 지지부(15') 및 핀 본체(14)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 12, the bidirectional conductive pin 10 'according to the present invention includes an upper contact portion 11', a lower contact portion 12 ', and a connection portion 13'. Also, as in the previous embodiments, the bidirectional conductive pin 10 'may include an inner support 15' and a pin body 14.

여기서, 도 12에 도시된 실시예에서는, 도 12의 (a)에 도시된 바와 같이, 상부 접촉 패턴(11a')이 가로 방향으로 단차지게 형성되는 것을 예로 한다. 이에 따라, 상부 접촉 패턴(11a')이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 상부 접촉부(11')를 형성하게 되면, 도 12의 (b)에 도시된 바와 같이, 상부 접촉부(11')의 내측 말린 부분이 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출된다. 즉, 도 12의 (b)에 도시된 바와 같이, 상부 접촉부(11')가 반경 방향 외측으로 단차지게 형성된다.Here, in the embodiment shown in FIG. 12, as shown in FIG. 12A, the upper contact pattern 11a 'is formed to be stepped in the lateral direction. Accordingly, when the upper contact pattern 11a 'is formed into a spiral shape with the vertical direction as an axis to form the upper contact portion 11', as shown in FIG. 12 (b), the upper contact portion 11 ' The inner dry portion protrudes upward from the outer dry portion. That is, as shown in FIG. 12 (b), the upper contact portion 11 'is formed so as to be stepped outward in the radial direction.

이에 따라, 상부 접촉부(11')의 상부 표면으로 반도체 소자의 단자가 접촉하게 되면, 내측 말린 부분이 먼저 접촉하여 하부 방향으로 이동하게 되고, 추가적으로 외측 말린 부분이 접촉되어 보다 안정적인 접촉과 탄성적인 접촉이 가능하게 된다.Accordingly, when the terminal of the semiconductor element is brought into contact with the upper surface of the upper contact portion 11 ', the inner curled portion first contacts and moves downward, and further the outer curled portion is contacted, Lt; / RTI >

도 12에 도시된 실시예에서는 상부 접촉 패턴(11a')이 가로 방향으로 단차지게 형성되는 것을 예로 하고 있으나, 도 10의 (b), (c), (d)에 도시된 실시예에서와 같이 상부 접촉 패턴(11a')이 상하 방향으로의 폭이 상이하게 형성됨으로써, 상부 접촉부(11')가 내부 측으로 갈수록 상부 방향으로 돌출된 형상을 갖도록 형성할 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 12, the upper contact pattern 11a 'is formed to be stepped in the lateral direction. However, as in the embodiment shown in FIGS. 10B, 10C and 10D, The upper contact patterns 11a 'are formed to have different widths in the vertical direction, so that the upper contact portions 11' can be formed to protrude upward toward the inner side.

마찬가지로, 도 12의 (a)에 도시된 바와 같이, 하부 접촉 패턴(12a')이 가로 방향으로 단차지게 형성될 수 있다. 이에 따라, 하부 접촉 패턴(12a')이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 하부 접촉부(12')를 형성하게 되면, 도 12의 (b)에 도시된 바와 같이, 하부 접촉부(12')의 내측 말린 부분이 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출된다. 즉, 도 12의 (b)에 도시된 바와 같이, 하부 접촉부(12')가 반경 방향 외측으로 단차지게 형성된다.Similarly, as shown in Fig. 12A, the lower contact pattern 12a 'may be formed to be stepped in the transverse direction. Accordingly, when the lower contact pattern 12a 'is rolled up in the form of a spool in the vertical direction as shown in FIG. 12 (b), the lower contact portion 12' The inner curled portion protrudes downward from the outer curled portion. That is, as shown in Fig. 12 (b), the lower contact portion 12 'is stepped radially outward.

이에 따라, 하부 접촉부(12')의 하부 표면으로 검사회로기판의 단자가 접촉하게 되면, 내측 말린 부분이 먼저 접촉하여 하부 방향으로 이동하게 되고, 추가적으로 외측 말린 부분이 접촉되어 보다 안정적인 접촉과 탄성적인 접촉이 가능하게 된다.Accordingly, when the terminals of the inspection circuit board come into contact with the lower surface of the lower contact portion 12 ', the inner curled portion first comes into contact with the lower portion and moves further downward. In addition, Contact becomes possible.

도 12에 도시된 실시예에서는 하부 접촉 패턴(12a')이 가로 방향으로 단차지게 형성되는 것을 예로 하고 있으나, 도 10의 (b), (c), (d)에 도시된 실시예에서와 같이 하부 접촉 패턴(12a')이 상하 방향으로의 폭이 상이하게 형성됨으로써, 하부 접촉부(12')가 내부 측으로 갈수록 하부 방향으로 돌출된 형상을 갖도록 형성할 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 12, the lower contact pattern 12a 'is formed to be stepped in the lateral direction. However, as in the embodiment shown in FIGS. 10B, 10C, and 10D, The lower contact patterns 12a 'are formed to have different widths in the vertical direction, so that the lower contact portions 12' can be formed to protrude downward toward the inner side.

이하에서는, 도 13을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 양방향 도전성 핀(10'')에 대해 설명한다.Hereinafter, a bidirectional conductive pin 10 '' according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 13을 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 양방향 도전성 핀(10'')은 상부 접촉부(11''), 하부 접촉부(12'') 및 연결부(13'')를 포함한다. 도 13에 도시된 실시예에서는 내부 지지부(15')가 마련되지 않은 예를 나타내고 있다.Referring to FIG. 13, the bidirectional conductive pin 10 '' according to the present invention includes an upper contact portion 11 '', a lower contact portion 12 '', and a connection portion 13 ''. In the embodiment shown in Fig. 13, an example in which the inner supporting portion 15 'is not provided is shown.

또한, 도 13에 도시된 실시예에서는 핀 본체(14)가 형성되지 않고, 연결부(13'')가 상부 접촉부(11'')와 하부 접촉부(12'') 사이에서 상부 접촉부(11'')와 하부 접촉부(12'')를 지지하는 것을 예로 하고 있다. 이를 위해, 도 13의 (a)에 도시된 바와 같이, 연결 패턴(13a'')이 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되는데, 이를 통해 상부 접촉 패턴(11a'') 및 하부 접촉 패턴(12a'')이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말릴 때 연결 패턴(13a'')도 함께 말리는데, 이 때 연결 패턴(13a'')에 의해 형성되는 연결부(13'')는, 도 13의 (b)에 도시된 바와 같이, 원통 형상을 갖게 되어, 상부 접촉부(11'')와 하부 접촉부(12'')를 상하 방향으로 지지하게 된다.In the embodiment shown in Fig. 13, the pin body 14 is not formed, and the connection portion 13 '' is formed between the upper contact portion 11 '' and the lower contact portion 12 ''. And the lower contact portion 12 " are supported. 13 (a), the connection pattern 13a '' is formed to have a predetermined width in the transverse direction, through which the upper contact pattern 11a '' and the lower contact pattern 12a ' The connecting portion 13 '' formed by the connecting pattern 13a '' at this time is formed in the same manner as the connecting portion 13 '' shown in FIG. 13 (a) the upper contact portion 11 '' and the lower contact portion 12 '' are supported in the vertical direction as shown in Fig.

이 때, 연결 패턴(13a'')의 가로 방향으로의 폭은 연결 패턴(13a'')에 의해 형성되는 연결부(13'')가 원통 형상을 갖거나, 원통 중 일부분만을 형성하도록 마련되는 정도의 폭으로 형성될 수 있다.At this time, the width of the connection pattern 13a '' in the transverse direction is such that the connection portion 13 '' formed by the connection pattern 13a '' has a cylindrical shape or is formed so as to form only a part of the cylinder As shown in FIG.

비록 본 발명의 몇몇 실시예들이 도시되고 설명되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.Although several embodiments of the present invention have been shown and described, those skilled in the art will appreciate that various modifications may be made without departing from the principles and spirit of the invention . The scope of the invention will be determined by the appended claims and their equivalents.

10 : 양방향 도전성 핀
11 : 상부 접촉부 11a : 상부 접촉 패턴
12 : 하부 접촉부 12a : 하부 접촉 패턴
13 : 연결부 13a : 연결 패턴
14 : 핀 본체 15 : 내부 지지부
15a : 내부 지지 패턴 100 : 양방향 도전성 패턴 모듈
110 : 절연성 본체 100a : 베이스 패턴
121 : 상부 지지 패턴 122 : 하부 지지 패턴
123 : 상부 연결 패턴 124 : 하부 연결 패턴
10: bi-directional conductive pin
11: upper contact portion 11a: upper contact pattern
12: lower contact portion 12a: lower contact pattern
13: Connection 13a: Connection pattern
14: pin body 15: inner support
15a: internal supporting pattern 100: bi-directional conductive pattern module
110: insulative body 100a: base pattern
121: upper support pattern 122: lower support pattern
123: upper connection pattern 124: lower connection pattern

Claims (22)

양방향 도전성 핀에 있어서,
도전성을 갖는 박판이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 상부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 상부 접촉부와,
도전성을 갖는 박판이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 하부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 하부 접촉부와,
상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 전기적으로 연결하는 적어도 하나의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
In the bidirectional conductive pin,
An upper contact portion which is formed by winding a thin plate having conductivity in a spiral shape in the vertical direction as an axis and elastically supporting the contact portion in contact with the upper portion,
A lower contact portion which is formed by winding a conductive thin plate in a spiral shape around the vertical direction and elastically supporting the contact portion when the contact portion is in a downward direction,
And at least one connection portion electrically connecting the upper contact portion and the lower contact portion.
제1항에 있어서,
상기 상부 접촉부, 상기 하부 접촉부 및 상기 연결부는 도전성을 갖는 박판의 패터닝을 통해 형성된 베이스 패턴이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 함께 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
The method according to claim 1,
Wherein the upper contact portion, the lower contact portion, and the connection portion are formed by patterning a thin plate having conductivity, and a base pattern is formed in a manner that the base pattern is wound around the up and down direction in a spiral shape.
제1항에 있어서,
상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에 상기 연결부가 내부에 수용되도록 형성되는 탄성을 갖는 절연성 재질의 핀 본체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
The method according to claim 1,
Further comprising a resilient insulative pin body formed between the upper contact portion and the lower contact portion such that the connection portion is received therein.
제1항에 있어서,
상기 상부 접촉부로부터 하부로 연장되되 하부 말단이 상기 하부 접촉부와 소정 간격 이격되도록 형성된 적어도 하나의 내부 지지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
The method according to claim 1,
Further comprising: at least one internal support portion extending downward from the upper contact portion and having a lower end spaced apart from the lower contact portion by a predetermined distance.
제1항에 있어서,
상기 상부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
The method according to claim 1,
Wherein the inner curled portion of the upper contact portion protrudes upward from the outer curled portion and is formed to be stepped outward in the radial direction.
제1항에 있어서,
상기 하부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
The method according to claim 1,
Wherein the inner curled portion of the lower contact portion protrudes downward from the outer curled portion so as to be stepped outward in the radial direction.
제1항에 있어서,
상기 연결부는 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되어 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에서 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 상기 상하 방향으로 지지하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀.
The method according to claim 1,
Wherein the connecting portion is formed to have a predetermined width in the transverse direction to support the upper contact portion and the lower contact portion in the vertical direction between the upper contact portion and the lower contact portion.
양방향 도전성 패턴 모듈에 있어서,
절연성 본체와,
가로 방향으로 상호 이격된 상태로 상기 절연성 본체 내부에 배치되고, 각각의 상부 및 하부가 상기 절연성 본체의 상부 표면 및 하부 표면에 노출되는 복수의 양방향 도전성 핀을 포함하며;
각각의 상기 양방향 도전성 핀은
도전성을 갖는 박판이 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 상부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 상부 접촉부와,
도전성을 갖는 박판이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 형성되어 하부 방향에서의 접촉시 탄성적으로 지지하는 하부 접촉부와,
상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 전기적으로 연결하는 적어도 하나의 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈.
In the bidirectional conductive pattern module,
An insulating main body,
And a plurality of bidirectional conductive pins disposed within the insulating body so as to be spaced apart from each other in a lateral direction, and each of the upper and lower portions are exposed to upper and lower surfaces of the insulating body;
Each of the bidirectional conductive pins
An upper contact portion which is formed by winding a thin plate having conductivity in a spiral shape in the vertical direction as an axis and elastically supporting the contact portion in contact with the upper portion,
A lower contact portion which is formed by winding a conductive thin plate in a spiral shape around the vertical direction and elastically supporting the contact portion when the contact portion is in a downward direction,
And at least one connection portion for electrically connecting the upper contact portion and the lower contact portion.
제8항에 있어서,
상기 상부 접촉부, 상기 하부 접촉부 및 상기 연결부는 도전성을 갖는 박판의 패터닝을 통해 형성된 베이스 패턴이 상기 상하 방향을 축으로 태엽 형태로 말려 함께 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈.
9. The method of claim 8,
Wherein the upper contact portion, the lower contact portion, and the connection portion are formed with a base pattern formed by patterning a thin plate having conductivity in a manner that the base pattern is wound around the up and down direction in a spiral shape.
제8항에 있어서,
상기 상부 접촉부로부터 하부로 연장되되 하부 말단이 상기 하부 접촉부와 소정 간격 이격되도록 형성된 적어도 하나의 내부 지지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈.
9. The method of claim 8,
Further comprising: at least one internal support portion extending downward from the upper contact portion and having a lower end spaced apart from the lower contact portion by a predetermined distance.
제8항에 있어서,
상기 상부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈.
9. The method of claim 8,
Wherein the inner curled portion of the upper contact portion protrudes upward from the outer curled portion and is formed to be stepped outward in the radial direction.
제8항에 있어서,
상기 하부 접촉부의 내측 말린 부분은 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈.
9. The method of claim 8,
Wherein the inner curled portion of the lower contact portion protrudes downward from the outer curled portion so as to be stepped radially outward.
제8항에 있어서,
상기 연결부는 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되어 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에서 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 상기 상하 방향으로 지지하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈.
9. The method of claim 8,
Wherein the connection portion is formed to have a predetermined width in the transverse direction to support the upper contact portion and the lower contact portion in the vertical direction between the upper contact portion and the lower contact portion.
양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법에 있어서,
(a) 도전성을 갖는 박판을 패터닝하여, 가로 방향으로 상호 이격된 복수의 상부 접촉 패턴과, 상하 방향으로 복수의 상기 상부 접촉 패턴과 이격되고 상기 가로 방향으로 상호 이격된 복수의 하부 접촉 패턴과, 상호 대응하는 위치의 상기 상부 접촉 패턴과 상기 하부 접촉 패턴을 연결하는 적어도 하나의 연결 패턴을 갖는 베이스 패턴을 형성하는 단계와;
(b) 상기 베이스 패턴을 도금하는 단계와;
(c) 각각의 상기 상부 접촉 패턴과 각각의 상기 하부 접촉 패턴이 태엽 형상을 갖도록 상기 상하 방향을 축으로 말아 복수의 상부 접촉부, 복수의 하부 접촉부 및 상호 대응하는 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 연결하는 연결부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
A method of manufacturing a bidirectional conductive pattern module,
(a) a plurality of upper contact patterns spaced apart from each other in the transverse direction by patterning a thin plate having conductivity, a plurality of lower contact patterns spaced apart from each other in the vertical direction by a plurality of the upper contact patterns, Forming a base pattern having at least one connection pattern connecting the upper contact pattern and the lower contact pattern at mutually corresponding positions;
(b) plating the base pattern;
(c) connecting the plurality of upper contact portions, the plurality of lower contact portions, and the corresponding upper contact portions and the lower contact portions by axially moving the upper contact patterns and each of the lower contact patterns so as to have a spring- Wherein the step of forming the conductive pattern module comprises the steps of:
제14항에 있어서,
(d) 복수의 상기 상부 접촉부의 상부 표면과, 복수의 상기 하부 접촉부의 하부 표면이 각각 상부 방향 및 하부 방향으로 노출된 상태로 상기 연결부가 내부에 수용되도록 탄성을 갖는 절연성 재질의 절연성 본체를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
(d) forming an insulating main body made of an insulating material having elasticity so that the connecting portions are received in the upper and lower directions of the upper surfaces of the plurality of upper contact portions and the lower surfaces of the plurality of lower contact portions, respectively Wherein the step of forming the conductive pattern module comprises the steps of:
제14항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 상기 연결 패턴은 대각선 방향으로 형성되어 상호 대응하는 상기 상부 접촉 패턴과 상기 하부 접촉 패턴을 연결하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the connection pattern is formed in a diagonal direction so as to connect the upper contact pattern and the lower contact pattern corresponding to each other in the step (a).
제14항에 있어서,
상기 (c) 단계에서 상호 대응하는 상기 상부 접촉 패턴과 상기 하부 접촉 패턴은 상하 방향으로 동일 축을 중심으로 말려 상하 방향으로 대응하는 위치에 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부가 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the upper contact portion and the lower contact portion correspond to each other in the step (c), the upper contact portion and the lower contact portion are formed at positions corresponding to the upper and lower directions, A method of manufacturing a pattern module.
제14항에 있어서,
상기 (a) 단계에서는 상기 상부 접촉 패턴으로부터 상기 하부 접촉 패턴 방향으로 돌출되는 적어도 하나의 내부 지지 패턴이 도전성을 갖는 박판을 패터닝 과정에서 함께 형성되며;
상기 내부 지지 패턴은 상기 (c) 단계를 통해 상기 상부 접촉부로부터 하부 방향으로 연장되는 내부 지지부를 형성하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
In the step (a), at least one inner supporting pattern protruding from the upper contact pattern in the direction of the lower contact pattern is formed together with the conductive thin plate in the patterning process;
Wherein the inner supporting pattern forms an inner supporting portion extending downward from the upper contact portion through the step (c).
제14항에 있어서,
상기 상부 접촉 패턴은 상기 상하 방향으로의 폭이 상이하게 형성되거나 상기 가로 방향으로 단차지게 형성되어, 상기 상부 접촉부의 내측 말린 부분이 외측 말린 부분보다 상부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
The upper contact pattern is formed to have a width in the vertical direction different from that of the upper contact pattern or to be stepped in the lateral direction so that the inner curled portion of the upper contact portion protrudes upward from the outer curled portion and is stepped outward in the radial direction Wherein the conductive pattern module is formed of a conductive material.
제14항에 있어서,
상기 하부 접촉 패턴은 상기 상하 방향으로의 폭이 상이하게 형성되거나 상기 가로 방향으로 단차지게 형성되어, 상기 하부 접촉부의 내측 말린 부분이 외측 말린 부분보다 하부 방향으로 돌출되어 반경 방향 외측으로 단차지게 형성되는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the lower contact pattern is formed to have a width in the vertical direction different from that of the lower contact pattern or to be stepped in the lateral direction so that the inner curled portion of the lower contact portion protrudes downward from the outer curled portion to be stepped outward in the radial direction Wherein the conductive pattern module is formed of a conductive material.
제14항에 있어서,
상기 연결 패턴은 가로 방향으로 소정 폭을 갖도록 형성되어 상기 연결부가 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부 사이에서 상기 상부 접촉부와 상기 하부 접촉부를 상기 상하 방향으로 지지하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 패턴 모듈의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the connection pattern is formed to have a predetermined width in a lateral direction, and the connection portion supports the upper contact portion and the lower contact portion in the vertical direction between the upper contact portion and the lower contact portion. .
양방향 도전성 핀의 제조방법에 있어서,
제14항 내지 제21항 중 어느 한 항에 따라 양방향 도전성 패턴 모듈을 제조하는 단계와,
상기 양방향 도전성 패턴 모듈의 절연성 본체를 상하 방향으로 절단하되 상호 연결된 하나씩의 상부 접촉부, 하부 접촉부 및 연결부 단위로 절단하여 복수의 양방향 도전성 핀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양방향 도전성 핀의 제조방법.
In a method for manufacturing a bidirectional conductive pin,
22. A method of manufacturing a bi-directional conductive pattern module according to any one of claims 14 to 21,
And forming a plurality of bidirectional conductive fins by cutting the insulating main body of the bidirectional conductive pattern module in the vertical direction and cutting each of the upper contact portion, the lower contact portion and the connection portion connected to each other, Way.
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