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KR20170101807A - Coating solution for forming transparent film and substrate with transparent film - Google Patents

Coating solution for forming transparent film and substrate with transparent film Download PDF

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KR20170101807A
KR20170101807A KR1020170024666A KR20170024666A KR20170101807A KR 20170101807 A KR20170101807 A KR 20170101807A KR 1020170024666 A KR1020170024666 A KR 1020170024666A KR 20170024666 A KR20170024666 A KR 20170024666A KR 20170101807 A KR20170101807 A KR 20170101807A
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transparent
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유코 하코시마
마사유키 마츠다
료 무라구치
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닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 얇은 기재여도 컬링을 억제할 수 있고, 게다가 경도 및 내찰상성이 높은 투명 피막을 형성할 수 있는 도포액을 제공한다.
(해결 수단) 본원 발명의 도포액은, 금속 산화물 입자의 표면에 소정량의 유기 규소 화합물을 형성한 표면 처리 금속 산화물 입자와, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와, 유기 용매를 함유한다. 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 3 ∼ 10, 알킬렌옥사이드기수가 3 ∼ 40 인 다관능 아크릴레이트 모노머 수지이다. 표면 처리 금속 산화물 입자에는, 유기 규소 화합물이, 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 0.1 ∼ 50 질량부 함유되어 있다. 표면 처리 금속 산화물 입자는, 5 ∼ 500 ㎚ 의 평균 입자경을 갖고, 도포액 중에 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유된다.
[PROBLEMS] To provide a coating liquid capable of suppressing curling even when being a thin substrate, and capable of forming a transparent coating film having high hardness and scratch resistance.
(Solution) The coating liquid of the present invention contains a surface-treated metal oxide particle in which a predetermined amount of an organosilicon compound is formed on the surface of metal oxide particles, an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, and an organic solvent . The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is a polyfunctional acrylate monomer resin having a (meth) acrylate functional group number of 3 to 10 and an alkylene oxide group number of 3 to 40. The surface-treated metal oxide particles contain 0.1 to 50 parts by mass of the organosilicon compound as R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. The surface-treated metal oxide particles have an average particle diameter of 5 to 500 nm and are contained in the coating liquid in an amount of 30 to 90% by mass based on the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-

Description

투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막 형성 기재 {COATING SOLUTION FOR FORMING TRANSPARENT FILM AND SUBSTRATE WITH TRANSPARENT FILM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a coating liquid for forming a transparent film and a transparent film-

본 발명은, 물에 대한 접촉각이 낮고, 게다가 경도 (연필 경도) 및 강도 (내찰상성) 가 높은 투명 피막을 형성할 수 있는 도포액, 및 이것을 사용한 투명 피막 형성 기재에 관한 것이다.The present invention relates to a coating liquid capable of forming a transparent coating film having a low contact angle with water and having a high hardness (pencil hardness) and strength (scratch resistance), and a transparent film-forming base material using the coating liquid.

종래 유리, 플라스틱 등으로 형성된 시트나 렌즈 등의 기재에는, 그 표면의 내찰상성을 향상시키기 위해, 기재 표면에 하드 코트막이 형성되어 있다.BACKGROUND ART [0002] A substrate such as a sheet or lens formed of glass, plastic or the like conventionally has a hard coat film formed on the surface of the substrate to improve the scratch resistance of the surface.

하드 코트막은, 최표면에서 사용되는 디스플레이 용도에서는, 방오성 부여를 위해 고접촉각 타입이 요구된다. 한편, 태블릿이나 스마트폰과 같은 터치 패널 용도에서는, 하드 코트 막 상에 추가로 층을 형성하거나, 접착제나 수지를 첩합 (貼合) 하거나 하기 위해, 저접촉각 타입이 요구된다.The hard coat film is required to have a high contact angle type in order to impart antifouling property to a display used in the outermost surface. On the other hand, in the case of a touch panel such as a tablet or a smart phone, a low contact angle type is required in order to further form a layer on the hard coat film or to bond an adhesive or a resin.

또, 도포액을 건조·경화시킬 때에, 투명 피막이 수축되어 기재가 끌어당겨지고, 투명 피막 형성 기재가 컬링 (만곡) 된다는 문제가 있다. 예를 들어, 용매가 많은 도포액의 경우에는, 건조시의 용제 휘발 (농축) 에 의한 웨트막으로부터 드라이막으로의 수축에 의해 컬링이 일어나기 쉽다. 또, 다관능 아크릴 모노머 등의 경화 수축률이 큰 수지를 사용하는 경우에는, 경화시의 수축에 의해 컬링이 일어나기 쉽다. 최근, 더욱 투명성을 향상시키기 위해, 혹은 투명 피막 형성 기재를 사용한 표시 장치나 휴대 전화 등의 경량화를 위해 얇은 기재가 사용되고 있으며, 컬링의 문제가 보다 현저해졌다.Further, when the coating liquid is dried and cured, there is a problem that the transparent film is shrunk and the substrate is pulled, and the transparent film-forming base material is curled (curved). For example, in the case of a coating liquid having a large amount of solvent, curling tends to occur due to shrinkage from the wet film to the dry film due to solvent volatilization (concentration) at the time of drying. When a resin having a high hardening shrinkage ratio such as a polyfunctional acrylic monomer is used, curling tends to occur due to shrinkage at the time of hardening. In recent years, a thin substrate has been used for further improving the transparency or for reducing the weight of a display device or a cellular phone using a transparent film-forming substrate, and the problem of curling becomes more remarkable.

그래서, 특허문헌 1 에는, 기재의 적어도 편면에 활성 에너지선 경화 수지층이 적층된 하드 코트 필름 및 그 제조 방법이 개시되어 있다. 이 하드 코트 필름은, 경화 수지층의 표면 경도가 H 이상이고 또한 물방울 접촉각이 60 °이하이다. 구체적으로는, 플라스틱 필름의 기재에, 불포화 폴리에스테르 수지계, 아크릴계, 부가 중합계, 티올·아크릴의 하이브리드계, 카티온 중합계, 카티온 중합과 라디칼 중합의 하이브리드계 등의 경화용 수지 조성물을 도포한 후에, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 그 수지 조성물을 가교 및 경화시키고, 이어서 특정량의 불소 가스를 함유하는 기체를 접촉 처리하여 활성 에너지선 경화 수지층을 형성하고 있다.Thus, Patent Document 1 discloses a hard coat film in which an active energy ray cured resin layer is laminated on at least one side of a base material, and a manufacturing method thereof. In this hard-coated film, the surface hardness of the cured resin layer is not less than H and the contact angle of the water droplet is not more than 60 deg. Specifically, a resin composition for curing such as an unsaturated polyester resin, an acrylic resin, an addition polymerization system, a hybrid system of thiol / acrylic, a cation polymerization system, a hybrid system of cation polymerization and radical polymerization is applied Then, an active energy beam such as ultraviolet rays is irradiated to crosslink and cure the resin composition, and then a gas containing a specific amount of fluorine gas is subjected to a contact treatment to form an active energy ray curable resin layer.

특허문헌 2 에는, 얇은 기재이면서 컬링이 작고, 기재와의 밀착성, 경도, 내찰상성, 투명성 등이 우수한 투명 피막을 형성하는 도료가 개시되어 있다. 이 도료는, 관능기수가 4 이상인 다관능 우레탄아크릴레이트 수지와, 관능기수가 2 또는 3 인 저관능 아크릴레이트 수지와, 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚ 인 금속 산화물 미립자와, 유기 용매를 함유하고, 다관능 우레탄아크릴레이트 수지의 농도 (CA) 와 저관능 아크릴레이트 수지의 농도 (CB) 의 농도비 (CB/CA) 가 0.05 ∼ 0.5 의 범위에 있다.Patent Document 2 discloses a coating material which forms a transparent coating film which is excellent in adhesion to a base material, hardness, scratch resistance, transparency and the like while being a thin base material with a small amount of curling. The coating material comprises a polyfunctional urethane acrylate resin having a functional group number of 4 or more, a low-functionality acrylate resin having a functional group number of 2 or 3, metal oxide fine particles having an average particle diameter of 5 to 500 nm, an organic solvent, urethane concentration ratio (C B / C a) of the acrylate resin concentration (C a) and a low density-functional acrylate resin (C B) of the is in the range of 0.05 to 0.5.

일본 공개특허공보 평7-173310호Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-173310 일본 공개특허공보 2013-64038호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-64038

그러나, 특허문헌 1 의 하드 코트 필름의 구성은, 경화 수지층이 주체이다. 이 때문에, 하드 코트 필름의 경도는 H ∼ 2H 정도까지 밖에 없어, 그 이상의 고경도화는 곤란하고, 낮은 접촉각과 높은 경도를 양립한 하드 코트막이 얻어지지 않는다.However, in the structure of the hard coat film of Patent Document 1, the cured resin layer is the main body. For this reason, the hardness of the hard coat film is only about H to 2H, hardening of the hardness is difficult, and a hard coat film having both a low contact angle and a high hardness can not be obtained.

다음으로, 특허문헌 2 에서는, 투명 피막 중의 다관능 우레탄아크릴레이트 수지가 소수성이다. 이 때문에, 투명 피막 표면도 소수성이 되고, 물에 대한 접촉각이 높아진다. 또, 고경도화를 도모하기 위해, 투명 피막 중의 표면 처리 금속 산화물 미립자의 함유량을 증가시키면, 얻어지는 투명 피막이 백화되거나, 컬링되거나 한다. 이것은, 다관능 우레탄아크릴레이트 수지가 소수성인 반면, 표면 처리 금속 산화물 미립자가 친수성이므로 충분한 상용성이 얻어지지 않기 때문인 것으로 생각된다. 또한, 다관능 우레탄아크릴레이트 수지는 특수한 화합물이므로 고가이고, 내후성, 내광성도 낮다.Next, in Patent Document 2, the polyfunctional urethane acrylate resin in the transparent coating film is hydrophobic. Therefore, the surface of the transparent coating film also becomes hydrophobic, and the contact angle with water becomes high. Further, if the content of the surface-treated metal oxide fine particles in the transparent coating film is increased in order to achieve hardening, the obtained transparent coating film is whitened or curled. It is considered that this is because the polyfunctional urethane acrylate resin is hydrophobic while the surface-treated metal oxide fine particles are hydrophilic, so that sufficient compatibility is not obtained. Also, the polyfunctional urethane acrylate resin is a special compound, so it is expensive, and weather resistance and light resistance are low.

본 발명은, 물에 대한 접촉각이 낮고, 또한 경도가 높고, 게다가 얇은 기재여도 컬링이 억제되는 하드 코트 투명 피막을 얻기 위한 도포액 (투명 피막 형성용 도포액) 및 이것을 사용한 투명 피막 형성 기재를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention provides a coating liquid (coating liquid for forming a transparent coating film) for obtaining a hard coat transparent coating film which has a low contact angle with water and a high hardness, and which is capable of suppressing curling even by a thin substrate, and a transparent film- .

본 발명에 관련된 투명 피막용 도포액은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와, 금속 산화물 입자의 표면에 유기 규소 화합물을 형성한 표면 처리 금속 산화물 입자와, 유기 용매를 함유하는 도포액이다. 이 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 3 ∼ 10, 알킬렌옥사이드기수가 3 ∼ 40 인 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지이다. 이 표면 처리 금속 산화물 입자는, 유기 규소 화합물이 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 0.1 ∼ 50 질량부 형성되어 있다. 그 평균 입자경은 5 ∼ 500 ㎚ 이다. 이 표면 처리 금속 산화물 입자는, 도포액 중에 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유된다.The coating liquid for a transparent coating film according to the present invention is a coating liquid containing an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, a surface-treated metal oxide particle having an organosilicon compound formed on the surface of the metal oxide particle, and an organic solvent . The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is a polyfunctional (meth) acrylate monomer resin having 3 to 10 (meth) acrylate functional groups and 3 to 40 alkylene oxide groups. The surface-treated metal oxide particles are formed in an amount of 0.1 to 50 parts by mass as R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. The average particle diameter is 5 to 500 nm. The surface-treated metal oxide particles are contained in the coating liquid in an amount of 30 to 90% by mass based on the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-treated metal oxide particles.

또, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지인 것이 바람직하다.It is also preferable that the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is an ethylene oxide-modified (meth) acrylate resin.

본 발명에 관련된 투명 피막 형성 기재는, 투명 피막이, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와, 금속 산화물 입자의 표면에 유기 규소 화합물을 형성한 표면 처리 금속 산화물 입자를 함유하고 있다. 표면 처리 금속 산화물 입자의 평균 입자경은 5 ∼ 500 ㎚ 이다. 이 표면 처리 금속 산화물 입자는, 투명 피막 중에 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유된다. 여기서, 투명 피막은, 물에 대한 접촉각이 70 °미만, 연필 경도가 3H 이상인 것이 바람직하다.The transparent film-forming base material according to the present invention contains a surface-treated metal oxide particle in which the transparent film has an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and an organosilicon compound formed on the surface of the metal oxide particle. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles is 5 to 500 nm. The surface-treated metal oxide particles are contained in the transparent film in an amount of 30 to 90% by mass based on the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-treated metal oxide particles. Here, the transparent coating preferably has a contact angle with water of less than 70 DEG and a pencil hardness of 3H or more.

또, 투명 피막의 접촉각은, 이 표면 처리 산화물 입자를 함유하지 않는 투명 피막의 접촉각보다 낮은 것이 바람직하다.The contact angle of the transparent coating film is preferably lower than the contact angle of the transparent film film containing no surface-treated oxide particles.

본 발명의 도포액은, 극성이 높은 알킬렌옥사이드기를 갖는 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지를 함유한다. 이 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, 표면 처리 금속 산화물 입자와의 상용성이 높다. 이 때문에, 표면 처리 금속 산화물 입자가 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지에 충분히 분산된다. 이 도포액을 사용함으로써, 접촉각이 낮고, 20 ∼ 70 ㎛ 의 얇은 기재여도, 경도 및 강도가 높고, 컬링이 작은 투명 피막 형성 기재가 얻어진다.The coating liquid of the present invention contains an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin having an alkylene oxide group having a high polarity. The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin has high compatibility with the surface-treated metal oxide particles. For this reason, the surface-treated metal oxide particles are sufficiently dispersed in the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin. By using this coating liquid, a transparent film-forming base material having a low contact angle and a high degree of hardness and strength and a small degree of curling can be obtained even when a thin substrate having a thickness of 20 to 70 탆 is used.

[투명 피막 형성용 도포액][Coating liquid for forming a transparent film]

본 발명의 도포액은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와, 금속 산화물 입자의 표면에 유기 규소 화합물이 형성된 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚ 인 표면 처리 금속 산화물 입자와, 유기 용매를 함유한다. 이 도포액은, 추가로 중합 개시제 등의 첨가제를 함유해도 된다.The coating liquid of the present invention contains an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, a surface-treated metal oxide particle having an average particle diameter of 5 to 500 nm in which an organosilicon compound is formed on the surface of the metal oxide particle, and an organic solvent . The coating liquid may further contain an additive such as a polymerization initiator.

이 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 3 ∼ 10, 알킬렌옥사이드기수가 3 ∼ 40 인 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지이다. 표면 처리 금속 산화물 입자는, 유기 규소 화합물이, 금속 산화물 입자 표면에, 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 0.1 ∼ 50 질량부 형성된 표면 처리 금속 산화물 입자이다. 이 표면 처리 금속 산화물 입자는 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚ 이고, 도포액 중에 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유된다.The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is a polyfunctional (meth) acrylate monomer resin having 3 to 10 (meth) acrylate functional groups and 3 to 40 alkylene oxide groups. The surface-treated metal oxide particles are preferably such that the organosilicon compound is present on the surface of the metal oxide particle in an amount of 0.1 to 50 parts by mass as the R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles to be. The surface-treated metal oxide particles have an average particle size of 5 to 500 nm and are contained in the coating liquid in an amount of 30 to 90% by mass based on the sum of the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-

일반적으로 하드 코트성이 양호한 수지로는, 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지나 다관능 (메트)우레탄아크릴레이트 올리고머 수지가 사용되는 경우가 많다. 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지는, 비교적 저접촉각인 것도 있지만, 일반적으로 컬링을 일으키기 쉽다. 또, 다관능 (메트)우레탄아크릴레이트 올리고머 수지는, 일반적으로 컬링은 낮지만 접촉각은 높다. 한편, 다관능 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, 알킬렌옥사이드기와 (메트)아크릴레이트 관능기의 비를 최적화함으로써, 경도는 낮지만, 컬링은 낮고 접촉각도 낮아진다. 후술하는 바와 같이, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 아크릴레이트 관능기나 알킬렌옥사이드기의 수, 표면 처리 금속 산화물 입자의 유기 규소 화합물에 의한 표면 처리량, 표면 처리 금속 산화물 입자의 평균 입자경, 및 도포액 중의 표면 처리 유기 규소 화합물의 양을 최적의 조건으로 조합함으로써, 고경도, 저접촉각, 저컬링성 전부를 실현한 하드 코트 도료가 얻어진다.In general, as a resin having a good hard coat property, a polyfunctional (meth) acrylate monomer resin or a polyfunctional (meth) urethane acrylate oligomer resin is often used. The multifunctional (meth) acrylate monomer resin, although having a relatively low contact angle, is generally prone to curling. The polyfunctional (meth) urethane acrylate oligomer resin generally has a low curling but a high contact angle. On the other hand, the polyfunctional alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin has a low hardness but a low curling and a low contact angle by optimizing the ratio of the alkylene oxide group to the (meth) acrylate functional group. As will be described later, the number of acrylate functional groups and alkylene oxide groups in the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, the surface treatment amount of the surface-treated metal oxide particles with the organosilicon compound, the average particle diameter of the surface- And the amount of the surface-treated organosilicon compound in the coating liquid under the optimum conditions, a hard coat paint realizing all of hardness, low contact angle and low curling property can be obtained.

도포액에 함유되는 주요한 성분에 대해 이하에 상세하게 설명한다.The main components contained in the coating liquid will be described in detail below.

《알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지》An " alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin "

알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, 알킬렌옥사이드기와 (메트)아크릴레이트 관능기 ((메트)아크릴로일기) 의 비를 최적함으로써, 비교적 저접촉각으로 저컬링을 발현하기 쉽다. 아크릴레이트 관능기수가 3 보다 작은 경우에는, 결합 부위가 적어지기 때문에, 치밀하고 경도가 높은 막이 얻어지기 어렵다. 반대로, 아크릴레이트 관능기수가 10 보다 큰 경우에는, 단위 체적/단위 용적/단위 유닛에 대한 결합기가 상대적으로 많아진다. 이 때문에, 막의 수축이 강하고, 컬링을 일으키는 경우가 있다.The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is liable to exhibit low curling at a relatively low contact angle by optimizing the ratio of the alkylene oxide group to the (meth) acrylate functional group ((meth) acryloyl group). When the number of acrylate functional groups is less than 3, since a bonding site is reduced, a dense and hard film is hardly obtained. Conversely, when the number of acrylate functional groups is larger than 10, the number of couplers for unit volume / unit volume / unit unit becomes relatively large. Therefore, the shrinkage of the film is strong and curling may occur.

또, 알킬렌옥사이드기는 극성이 높은 관능기이며, 얻어진 피막 표면이 친수성이기 때문에 피막의 물 접촉각은 낮아진다. 알킬렌옥사이드기가 3 보다 작은 경우에는, 피막 표면의 친수성화가 불충분하고, 물 접촉각이 충분히 낮아지지 않는다. 반대로, 알킬렌옥사이드기가 40 보다 큰 경우에는, 단위 체적/단위 용적/단위 유닛에 대한 결합기가 상대적으로 적어진다. 이 때문에, 막의 치밀화가 충분해지지 않는 경우가 있고, 원하는 연필 경도가 얻어지지 않을 가능성이 있다.The alkylene oxide group is a functional group having a high polarity, and since the obtained film surface is hydrophilic, the water contact angle of the film becomes low. When the alkylene oxide group is smaller than 3, the surface of the coating film is insufficiently hydrophilized and the water contact angle is not sufficiently lowered. Conversely, when the alkylene oxide group is larger than 40, the number of bonding units for unit volume / unit volume / unit unit is relatively small. For this reason, the densification of the film may not be sufficient, and the desired pencil hardness may not be obtained.

이 알킬렌옥사이드 (AO) 기로는, 에틸렌옥사이드 (EO) 기, 프로필렌옥사이드 (PO) 기, 부틸렌옥사이드기가 바람직하다. 특히, 단위기 내의 산소 원자의 비율이 높고 극성이 높은 에틸렌옥사이드기가 바람직하다.As the alkylene oxide (AO) group, an ethylene oxide (EO) group, a propylene oxide (PO) group, and a butylene oxide group are preferable. Particularly, an ethylene oxide group having a high proportion of oxygen atoms in the unit and a high polarity is preferable.

(메트)아크릴레이트 관능기수가 3 이상인 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는 비교적 수축이 크기 때문에, 필요에 따라 (메트)아크릴레이트 관능기수가 2 이하, 바람직하게는 1 인 저관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지를 배합한다. 이로써, 막 전체의 수축을 작게 할 수 있고, 막과 기재의 밀착성이 보다 향상됨과 함께, 잔류 응력을 완화시킬 수 있다.(Meth) acrylate resin having a number of (meth) acrylate functional groups of 3 or more is relatively large in shrinkage, so that a low-functionality (meth) acrylate having a functionality of 2 or less, preferably 1, A late monomer resin is blended. As a result, the shrinkage of the film as a whole can be reduced, the adhesion between the film and the substrate can be further improved, and the residual stress can be relaxed.

또, 저관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지를 배합함으로써, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 상용성이 향상되고, 분산성도 향상된다. 왜냐하면, 저관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지를 배합함으로써, 조막 중의 급격한 수축을 억제할 수 있고, 막의 수축에 의해 막 중의 입자가 막으로부터 배제되는 것을 방지하기 때문이다. 또, 도료의 점도를 낮추기 쉬운 점에서도 유효하다. 단, 저관능 (메트)아크릴레이트 모노머 수지의 고배합은 경도 저하로 이어지기 때문에, 함유량은 가능한 한 적은 편이 바람직하며, 컬링 특성, 밀착성, 경도의 밸런스를 보아 배합하는 것이 바람직하다.Further, the incorporation of a low-functional (meth) acrylate monomer resin improves the compatibility of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin with the surface-treated metal oxide particles and improves the dispersibility. This is because, by blending a low-functional (meth) acrylate monomer resin, it is possible to inhibit rapid shrinkage during the film formation and to prevent particles in the film from being removed from the film by shrinkage of the film. It is also effective in that it is easy to lower the viscosity of the paint. However, since a high blend of a low-function (meth) acrylate monomer resin leads to a decrease in hardness, the content is preferably as small as possible, and it is preferable to blend with a balance of curling property, adhesiveness and hardness.

알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지로는, 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지, 프로필렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 및 부틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 바람직하다.As the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, ethylene oxide modified (meth) acrylate resin, propylene oxide modified (meth) acrylate resin and butylene oxide modified (meth) acrylate resin are preferable.

에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지로는, 에톡시화 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 에톡시화 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 에톡시화 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 에톡시화 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트를 예시할 수 있다. 이들은, 에틸렌옥사이드기를 각각 3 ∼ 40 개 갖고 있다.Examples of the ethylene oxide modified (meth) acrylate resin include ethoxylated glycerin tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethoxylated ditrimethyl (Meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. They each have 3 to 40 ethylene oxide groups.

프로필렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지로는, 프로폭시화 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트를 예시할 수 있다. 이들은, 프로필렌옥사이드기를 각각 3 ∼ 40 개 갖고 있다.Examples of the propylene oxide modified (meth) acrylate resin include propoxylated glycerin tri (meth) acrylate, propoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, propoxylated pentaerythritol tetra (meth) (Meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. They each have 3 to 40 propylene oxide groups.

부틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지로는, 부톡시화 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 부톡시화 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 부톡시화 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 부톡시화 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 부톡시화 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 부톡시화 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트를 예시할 수 있다. 이들은, 부틸렌옥사이드기를 각각 3 ∼ 40 개 갖고 있다.Examples of the butylene oxide modified (meth) acrylate resin include butoxyated glycerin tri (meth) acrylate, butoxy pentaerythritol tri (meth) acrylate, butoxy pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Trimethylolpropane tetra (meth) acrylate, butoxyated dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and butoxyated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. They each have 3 to 40 butylene oxide groups.

이들 수지는 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These resins may be used alone or in combination of two or more.

《표면 처리 금속 산화물 입자》&Quot; Surface treated metal oxide particles "

표면 처리 금속 산화물 입자는, 종래 공지된 금속 산화물 입자를 종래 공지된 유기 규소 화합물로 표면 처리하여 얻어진다. 금속 산화물 입자로는, 예를 들어, 실리카, 알루미나, 티타니아, 실리카-알루미나, 실리카-지르코니아 등 외에, 산화주석, Sb 또는 P 가 도프된 산화주석, 산화인듐, Sn 또는 F 가 도프된 산화인듐, 산화안티몬, 산화티탄 등의 도전성 입자도 바람직하게 사용할 수 있다.The surface-treated metal oxide particles are obtained by surface-treating conventionally known metal oxide particles with conventionally known organosilicon compounds. Examples of the metal oxide particles include tin oxide doped with tin oxide, Sb or P, indium oxide doped with Sn or F, indium oxide doped with Sn or F, and metal oxide particles doped with at least one element selected from the group consisting of silica, alumina, titania, silica- Conductive particles such as antimony oxide, titanium oxide and the like can be preferably used.

<평균 입자경>&Lt; average particle diameter &

표면 처리 금속 산화물 입자의 평균 입자경은 5 ∼ 500 ㎚ 이다. 평균 입자경이 5 ㎚ 미만인 것은 얻는 것이 곤란하고, 얻어졌다고 해도 표면 처리제에 의한 표면 처리, 및 졸의 안정성이 불충분해지는 경우가 많다. 또, 평균 입자경이 500 ㎚ 를 초과하는 경우, 표면 처리 금속 산화물 입자의 함유량에 따라 다르기도 하지만, 막 표면에서 광 산란을 일으키거나, 투명 피막의 헤이즈가 악화되어, 투명성이 저하된다. 표면 처리 금속 산화물 입자의 평균 입자경은 10 ∼ 200 ㎚ 가 더욱 바람직하다.The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles is 5 to 500 nm. When the average particle diameter is less than 5 nm, it is difficult to obtain, and even if it is obtained, the surface treatment with the surface treatment agent and the stability of the sol often become insufficient. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 500 nm, light scattering occurs on the surface of the film or the haze of the transparent coating deteriorates and the transparency deteriorates, depending on the content of the surface-treated metal oxide particles. The average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles is more preferably 10 to 200 nm.

<표면 처리 : 표면 처리제, 표면 처리량>&Lt; Surface treatment: surface treatment agent, surface treatment amount >

금속 산화물 입자를 하기 식 (1) 로 나타내는 유기 규소 화합물로 표면 처리하는 것이 바람직하다.It is preferable to treat the metal oxide particles with an organosilicon compound represented by the following formula (1).

Rn-SiX4-n … (1)R n -SiX 4-n ... (One)

단, 식 중, R 은 탄소수 1 ∼ 10 의 비치환 또는 치환 탄화수소기이고, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 치환기로는, 에폭시기, 알콕시기, (메트)아크릴로일옥시기, 메르캅토기, 할로겐 원자, 아미노기, 페닐아미노기를 들 수 있다. X 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 수산기, 할로겐 원자, 수소 원자이고, n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different. Examples of the substituent include an epoxy group, an alkoxy group, a (meth) acryloyloxy group, a mercapto group, a halogen atom, an amino group, and a phenylamino group. X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen atom, a hydrogen atom, and n represents an integer of 1 to 3.

표면 처리 금속 산화물 입자는, 고형분으로서, 유기 규소 화합물이 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 0.1 ∼ 50 질량부에 있으면 상용성이 향상된다. 여기서, 유기 규소 화합물량이 0.1 질량부보다 적으면, 표면 처리 금속 산화물 입자의 분산성이 불충분해지고, 얻어지는 투명 피막에 헤이즈가 발생할 우려가 있다. 이 때, 얻어지는 접촉각에 대해서는 저하되지만, 바인더 ((메트)아크릴레이트 모노머 수지) 와의 결합력이 약해지므로, 기재와의 밀착성이나 경도가 불충분해지는 경우가 있다. 반대로, 표면 처리량이 50 질량부보다 많아도, 분산성이 더욱 향상되는 것은 아니며, 표면 처리 금속 산화물 입자의 고밀도 충전이 저해될 우려가 있다. 이 때, 접촉각은 높아지지만, 바인더와 결합하는 사이트가 증가하므로, 수축이 커지고, 컬링되거나, 밀착성이 불충분해질 우려가 있다. 또한, 미반응 (미립자와 결합하지 않음) 의 표면 처리제 (유기 규소 화합물) 끼리가 결합하면 수축이 커지기 때문에, 미반응의 표면 처리제를 줄이는 것이 바람직하다.When the surface-treated metal oxide particles are contained in an amount of 0.1 to 50 parts by mass as R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles as the solid content, compatibility is improved. If the amount of the organosilicon compound is less than 0.1 part by mass, the dispersibility of the surface-treated metal oxide particles becomes insufficient, and haze may be generated in the obtained transparent coating film. At this time, although the obtained contact angle is lowered, the bonding force with the binder ((meth) acrylate monomer resin) is weakened, so that the adhesion and hardness with the base may become insufficient. On the other hand, if the surface treatment amount is more than 50 parts by mass, the dispersibility is not further improved, and the high-density filling of the surface-treated metal oxide particles may be hindered. At this time, although the contact angle increases, there is a fear that the shrinkage increases, curling, or adhesion becomes insufficient because the number of sites bonded to the binder increases. In addition, it is preferable to reduce unreacted surface treatment agent because the surface treatment agent (organic silicon compound) unreacted (not bonded to the fine particles) binds to each other to shrink.

《유기 용매》&Quot; Organic solvent &quot;

유기 용매로는, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지, 중합 개시제 등의 첨가물을 용해 혹은 분산시킬 수 있음과 함께, 표면 처리 금속 산화물 입자를 균일하게 분산시킬 수 있는 것이 사용된다.As the organic solvent, those capable of dissolving or dispersing additives such as an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and a polymerization initiator and dispersing the surface-treated metal oxide particles uniformly are used.

예를 들어, 친수성 용매나 극성 용매가 바람직하다. 친수성 용매로는, 알코올류, 에스테르류, 글리콜류, 에테르류 등을 사용할 수 있다. 극성 용매로는, 에스테르류, 케톤류 등을 사용할 수 있다.For example, a hydrophilic solvent or a polar solvent is preferable. As the hydrophilic solvent, alcohols, esters, glycols, ethers and the like can be used. As the polar solvent, esters, ketones and the like can be used.

알코올류로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-프로판올, 부탄올, 디아세톤알코올, 푸르푸릴알코올, 테트라하이드로푸르푸릴알코올 등이 있다. 에스테르류로는, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산이소프로필, 아세트산프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산부틸, 아세트산이소펜틸, 아세트산펜틸, 아세트산3-메톡시부틸, 아세트산2-에틸부틸, 아세트산시클로헥실, 에틸렌글리콜모노아세테이트 등이 있다. 글리콜류로는, 에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜 등이 있다. 에테르류로는, 디에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등이 있다. 케톤류로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸메틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 디프로필케톤, 메틸펜틸케톤, 디이소부틸케톤 등이 있다. 또, 극성 용매로는, 그 밖에 탄산디메틸, 톨루엔 등이 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the alcohols include methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol and the like. Examples of esters include methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, Glycol monoacetate and the like. The glycols include ethylene glycol, hexylene glycol and the like. Examples of the ethers include diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono Methyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and the like. Examples of the ketone include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, and diisobutyl ketone. Examples of the polar solvent include dimethyl carbonate and toluene. These may be used alone or in combination of two or more.

특히, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디아세톤알코올은, 막의 조막성 제어에 유효하고, 도막의 외관 (줄무늬, 얼룩, 투명성) 제어의 점에서 바람직하다. 또, 트리아세틸셀룰로오스 기재 (TAC 기재) 를 사용하는 경우에는, 아세트산에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 탄산디메틸 등을 배합하면, 기재를 용해시키기 때문에, 기재와의 밀착성 향상 및 간섭 무늬 감소의 점에서 바람직하다.Particularly, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether and diacetone alcohol are effective for control of the film formability and are preferable from the viewpoint of control of appearance (stripe, stain, transparency) of the coating film. In the case of using a triacetylcellulose substrate (TAC substrate), since ethyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, dimethyl carbonate or the like is mixed to dissolve the base material, It is preferable in terms of reduction.

또, 유기 용매의 비점은 50 ∼ 200 ℃ 인 것이 바람직하다. 유기 용매의 비점이 50 ℃ 보다 낮은 것은, 도막의 건조가 빠르기 때문에, 급격한 조막이 일어난다. 특히, 입자 성분 등의 패킹이 불충분한 경우에는, 막의 치밀화가 불충분해지기 쉽고, 또 막 두께가 불균일해지기 쉽다. 그 때문에, 얻어지는 투명 피막의 경도가 불충분해지는 경우가 있다. 유기 용매의 비점이 200 ℃ 보다 높은 것은, 유기 용매가 잔존하는 경우가 있고, 잔존 용매를 함유한 채로 경화시키면 보이드가 발생하여, 얻어지는 투명 피막의 경도가 불충분해지는 경우가 있다. 이 유기 용매의 비점은 55 ∼ 180 ℃ 인 것이 더욱 바람직하다.The boiling point of the organic solvent is preferably 50 to 200 ° C. If the boiling point of the organic solvent is lower than 50 캜, rapid drying of the coating film causes rapid film formation. Particularly, when packings such as particle components are insufficient, the densification of the film tends to become insufficient, and the film thickness tends to become uneven. Therefore, the hardness of the resulting transparent coating may be insufficient. If the boiling point of the organic solvent is higher than 200 占 폚, the organic solvent may remain, and if it is cured while containing the residual solvent, voids may be generated and the hardness of the resulting transparent coating may become insufficient. The boiling point of the organic solvent is more preferably 55 to 180 ° C.

《그 밖의 성분》"Other Ingredients"

도포액에는, 필요에 따라 광 중합 개시제를 첨가해도 된다. 중합 개시제로는, 공지된 것을 특별히 제한 없이 사용하는 것이 가능하고, 예를 들어, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드, 2-하이드록시-메틸-2-메틸-페닐-프로판-1-케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등이 있다. 중합 개시제의 사용량으로는, 유기 수지의 고형분 농도의 2 ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 4 ∼ 16 질량% 가 더욱 바람직하다.To the coating liquid, a photo polymerization initiator may be added as needed. As the polymerization initiator, known ones can be used without particular limitation, and examples thereof include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) Methyl-2-methyl-phenyl-propane-1-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1- Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, and the like. The amount of the polymerization initiator to be used is preferably from 2 to 20 mass%, more preferably from 4 to 16 mass%, of the solid content concentration of the organic resin.

그런데, 종래 공지된 첨가제인 레벨링제나 계면활성제는, 피막을 형성할 때에 금속 산화물 입자보다 더욱 표면에 편재되는 경향이 있다. 이 때문에, 그 사용량이 과잉으로 많으면, 바라는 만큼 물 접촉각이 얻어지지 않는 경우나, 첨가제가 막 표면에 석출되어 블리드 아웃의 문제가 일어나는 경우가 있다. 이 때문에, 이들 첨가제를 사용하는 경우에는, 투명 피막 형성 기재의 성능에 영향을 미치지 않는 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.However, conventionally known leveling agents and surfactants, which are additives, tend to be more localized on the surface than metal oxide particles when forming the coating. For this reason, if the amount of use is excessively large, the water contact angle can not be obtained as much as desired, or the additive may precipitate on the surface of the film, causing a problem of bleeding-out. Therefore, when these additives are used, they are preferably used in a range that does not affect the performance of the transparent film-forming base material.

《투명 피막 형성용 도포액의 농도》&Quot; Concentration of coating liquid for forming a transparent coating film &

도포액의 고형분 농도 (알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 고형분과 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분을 합계한 고형분의 농도) 는 5 ∼ 70 질량% 가 바람직하다. 5 질량% 보다 낮으면, 도료의 농축 안정성이 낮기 때문에, 균일한 막이 얻어지기 어려운 경우가 있다. 또, 얻어진 투명 피막은, 경도나 내찰상성이 불충분해지거나, 헤이즈 혹은 외관이 나빠지거나 하여, 생산성, 제조 신뢰성 등이 저하되는 경우가 있다. 70 질량% 보다 높아도, 도포액의 점도가 높아지고, 도포성이 저하되거나, 얻어지는 투명 피막의 헤이즈가 높아지거나, 표면 조도가 커지고, 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다.The solid concentration of the coating liquid (the concentration of the solid content of the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the solid content of the surface-treated metal oxide particles) is preferably from 5 to 70 mass%. When the amount is less than 5% by mass, the concentration stability of the paint is low, so that it is difficult to obtain a uniform film. In addition, the resulting transparent coating film may have insufficient hardness and scratch resistance, haze or appearance deterioration, and may deteriorate productivity, manufacturing reliability, and the like. If it is higher than 70% by mass, the viscosity of the coating liquid tends to be high, the coating property may be lowered, the haze of the obtained transparent coating film may increase, the surface roughness may become large, and scratch resistance may become insufficient.

상기 도포액의 고형분 농도는 10 ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하다.The solid concentration of the coating liquid is more preferably 10 to 60% by mass.

<표면 처리 금속 산화물 입자의 농도>&Lt; Concentration of surface-treated metal oxide particles >

도포액 중의 표면 처리 금속 산화물 입자는, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해, 고형분으로서 30 ∼ 90 질량% 이다. 여기서, 표면 처리 금속 산화물 입자가 30 질량% 보다 적으면, 도막화하였을 때에 컬링의 억제 효과, 경도 및 내찰상성이 불충분해지는 경우나, 피막의 표면의 친수성화가 불충분해지고, 원하는 만큼 낮은 물 접촉각은 얻어지지 않는 경우가 있다. 반대로, 표면 처리 금속 산화물 입자가 90 질량% 보다 많아도, 투명 피막에 크랙이 발생하는 경우가 있다. 또, 피막이 얻어졌다고 해도, 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우나, 막 강도나 내찰상성, 투명성, 헤이즈 등이 악화되는 경우가 있다. 이 표면 처리 금속 산화물 입자 성분은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분의 합계량에 대해, 고형분으로서 50 ∼ 85 질량% 가 보다 바람직하고, 60 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하다.The surface-treated metal oxide particles in the coating liquid have a solid content of 30 to 90 mass% with respect to the total amount of the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the solid content of the surface-treated metal oxide particles. When the amount of the surface-treated metal oxide particles is less than 30% by mass, the effect of inhibiting curling, hardness and scratch resistance becomes insufficient when the coating film is formed, the hydrophilicity of the surface of the coating becomes insufficient, . On the contrary, even if the surface-treated metal oxide particles are more than 90% by mass, cracks sometimes occur in the transparent coating film. In addition, even if a film is obtained, there are cases where the adhesion to the substrate becomes insufficient, and the film strength, scratch resistance, transparency, haze, and the like deteriorate. The surface-treated metal oxide particle component is more preferably from 50 to 85% by mass, and more preferably from 60 to 85% by mass, based on the sum of the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component and the solid content of the surface- By mass to 80% by mass.

<알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 농도><Concentration of alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin>

도포액 중의 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해, 고형분으로서 10 ∼ 70 질량% 가 바람직하다.The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin in the coating liquid preferably has a solid content of 10 to 70% by mass, based on the sum of the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the solid content of the surface- Do.

여기서, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 10 질량% 보다 적으면, 도막화하였을 때에 투명 피막에 크랙이 발생하는 경우가 있다. 반대로, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 70 질량% 보다 지나치게 많아도, 투명 피막의 경도, 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다. 이 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분의 합계량에 대해, 고형분으로서 15 ∼ 50 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.When the amount of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is less than 10% by mass, cracks may occur in the transparent coating film when the coating film is formed. On the other hand, if the amount of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is more than 70% by mass, the hard coat and scratch resistance of the transparent coating film may be insufficient. The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component preferably has an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component in an amount of 15 to 50% by mass, based on the total amount of the solid content of the alkylene oxide- , And more preferably from 20 to 40 mass%.

이와 같은 표면 처리 금속 산화물 입자 및 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 농도 비율의 도포액에 있어서는, 도포액 중의 표면 처리 금속 산화물 입자의 농도가, 고형분으로서 1.5 ∼ 63 질량% 가 바람직하고, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가, 고형분으로서 0.5 ∼ 49 질량% 가 바람직하다.In the coating liquid having such a concentration ratio of the surface-treated metal oxide particles and the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, the concentration of the surface-treated metal oxide particles in the coating liquid is preferably from 1.5 to 63 mass% The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is preferably contained in an amount of 0.5 to 49% by mass as a solid content.

본 발명의 도포액의 구성은, 상기 서술한 바와 같이, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와, 금속 산화물 입자의 표면에 유기 규소 화합물이 형성된 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚ 인 표면 처리 금속 산화물 입자와, 유기 용매를 함유한다. 이 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지에는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 3 ∼ 10, 알킬렌옥사이드기수가 3 ∼ 40 함유된다. 표면 처리 금속 산화물 입자에는, 유기 규소 화합물이 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 0.1 ∼ 50 질량부 함유된다. 도포액 중에는, 이 표면 처리 금속 산화물 입자가, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유된다.The constitution of the coating liquid of the present invention is such that, as described above, the surface treatment metal oxide (B) having an average particle diameter of 5 to 500 nm, in which an alkylene oxide modified (meth) acrylate resin and an organosilicon compound are formed on the surface of the metal oxide particle Particles, and an organic solvent. The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin contains 3 to 10 (meth) acrylate functional groups and 3 to 40 alkylene oxide groups. The surface-treated metal oxide particles contain 0.1 to 50 parts by mass of the organosilicon compound as R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. In the coating liquid, the surface-treated metal oxide particles are contained in an amount of 30 to 90% by mass based on the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-treated metal oxide particles.

보다 바람직한 도포액의 구성 요건을 예를 들면, 먼저, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지에는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 4 ∼ 8, 알킬렌옥사이드기수가 6 ∼ 30 함유된다. 다음으로, 표면 처리 금속 산화물 입자에는, 유기 규소 화합물이, 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 1 ∼ 30 질량부 함유된다. 도포액 중에는, 이 표면 처리 금속 산화물 입자가, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 50 ∼ 85 질량% 함유된다.For example, in the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin, the number of (meth) acrylate functional groups is 4 to 8 and the number of alkylene oxide groups is 6 to 30. Next, the surface-treated metal oxide particles contain an organic silicon compound in an amount of 1 to 30 parts by mass as R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. In the coating liquid, the surface-treated metal oxide particles are contained in an amount of 50 to 85 mass% with respect to the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-treated metal oxide particles.

더욱 바람직한 도포액의 구성 요건을 예를 들면, 먼저, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지에는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 4 ∼ 6, 알킬렌옥사이드기수가 12 ∼ 24 함유된다. 다음으로, 표면 처리 금속 산화물 입자에는, 유기 규소 화합물이, 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 로서 5 ∼ 20 질량부 함유된다. 도포액 중에는, 이 표면 처리 금속 산화물 입자가, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 60 ∼ 80 질량% 함유된다.For example, first, the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin contains 4 to 6 (meth) acrylate functional groups and 12 to 24 alkylene oxide groups. Next, the surface-treated metal oxide particles contain an organic silicon compound in an amount of 5 to 20 parts by mass as R n -SiO (4-n) / 2 with respect to 100 parts by mass of the metal oxide particles. In the coating liquid, the surface-treated metal oxide particles are contained in an amount of 60 to 80 mass% with respect to the total amount of the solids of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-treated metal oxide particles.

[투명 피막 형성 기재][Transparent film-forming substrate]

상기 서술한 도포액을 사용하여, 투명 피막을 기재에 직접적 또는 간접적으로 형성한다. 투명 피막은, 주로 표면 처리 금속 산화물 입자와 수지 성분으로 형성된다. 본 발명의 투명 피막은, 물에 대한 접촉각이 낮은 점에서, 본 발명의 피막 상에 추가로 수지층 등의 상층을 형성하는 경우에 특히 유용하다. 즉, 본 발명의 투명 피막 형성 기재는, 기판 상에 투명 피막이 형성되고, 투명 피막 상에 추가로 수지층 등의 상층이 형성되는 구성인 것이 바람직하다.Using the above-mentioned coating liquid, a transparent coating film is formed directly or indirectly on the substrate. The transparent coating film is formed mainly of the surface-treated metal oxide particles and the resin component. The transparent coating film of the present invention is particularly useful when an upper layer such as a resin layer is formed on the coating film of the present invention because the contact angle with water is low. That is, the transparent film-forming substrate of the present invention is preferably a structure in which a transparent film is formed on a substrate and an upper layer such as a resin layer is further formed on the transparent film.

《기재》"materials"

기재로는, 공지된 것을 특별히 제한 없이 사용하는 것이 가능하고, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 트리아세틸셀룰로오스 (TAC), 폴리메타크릴산메틸 수지 (PMMA), 시클로올레핀 폴리머 (COP) 등의 투명한 수지 기재가 바람직하다. 이들 수지 기재는, 상기 서술한 도포액에 의해 형성되는 투명 피막과의 밀착성이 우수하고, 경도, 내찰상성 등이 우수한 투명 피막 형성 기재를 얻을 수 있다. 이 때문에, 얇은 기재에 바람직하게 사용할 수 있다. 기재의 두께는 20 ∼ 70 ㎛ 가 바람직하다. 그 중에서도 TAC 기재는, 기재가 얇으면 컬링되기 쉽다. 이 때문에, 컬링을 억제하기 위해 본 발명의 투명 피막용 도포액을 사용하는 것이 바람직하다.As the substrate, known ones can be used without any particular limitation, and examples thereof include a polycarbonate, an acrylic resin, a polyethylene terephthalate (PET), a triacetyl cellulose (TAC), a polymethyl methacrylate resin (PMMA), a cycloolefin polymer COP) and the like are preferable. These resin base materials can obtain a transparent film-forming base material excellent in adhesion with the transparent film formed by the above-described coating liquid and excellent in hardness and scratch resistance. Therefore, it can be preferably used for a thin substrate. The thickness of the substrate is preferably 20 to 70 mu m. Among them, the TAC substrate is liable to be curled if the substrate is thin. For this reason, it is preferable to use the coating liquid for a transparent coating film of the present invention in order to suppress curling.

기재의 두께는 30 ∼ 60 ㎛ 가 더욱 바람직하다.The thickness of the substrate is more preferably 30 to 60 mu m.

《투명 피막》&Quot; Transparent film &quot;

본 발명에 관련된 투명 피막은, 도포액 중의 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분과 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 양의 비율이, 그대로 피막 중의 성분 비율이 된다.In the transparent coating according to the present invention, the ratio of the amount of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component to the amount of the surface-treated metal oxide particle component in the coating liquid is the same as that in the coating film.

즉, 투명 피막 중의 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 비율은, 도포액 중의 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량과, 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚, 바람직하게는 10 ∼ 200 ㎚ 인 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분량의 합계량에 대한, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량의 비율로 나타낸다. 이 투명 피막 중의 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지의 비율은, 고형분으로서 10 ∼ 70 질량% 에 있는 것이 바람직하다. 여기서, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 10 질량% 보다 적으면, 투명 피막에 크랙이 발생하는 경우가 있다. 반대로, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 70 질량% 보다 많아도, 투명 피막의 경도, 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다. 이 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분의 합계량에 대해, 고형분으로서 15 ∼ 50 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 질량% 인 것이 더욱 바람직하다.That is, the ratio of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin in the transparent coating film is preferably such that the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component and the average particle diameter of the alkylene oxide- (Meth) acrylate resin component with respect to the total amount of the solid content of the surface-treated metal oxide particle component having an average particle diameter of 200 nm to 200 nm. The proportion of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin in the transparent coating film is preferably 10 to 70% by mass as solid content. When the amount of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is less than 10% by mass, cracks may occur in the transparent coating film. On the other hand, when the amount of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is more than 70% by mass, the hard coat and scratch resistance of the transparent coating film may be insufficient. The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component preferably has an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component in an amount of 15 to 50% by mass, based on the total amount of the solid content of the alkylene oxide- , And more preferably from 20 to 40 mass%.

한편, 투명 피막 중의 표면 처리 금속 산화물 입자의 비율은, 상기 서술한 도포액 중의 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분량의 합계량에 대한, 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분량의 비율로 나타낸다. 이 투명 피막 중의 표면 처리 금속 산화물 입자의 비율은, 고형분으로서 30 ∼ 90 질량% 에 있는 것이 바람직하다. 여기서, 표면 처리 금속 산화물 입자가 30 질량% 보다 적으면, 컬링의 억제 효과, 경도 및 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다. 또, 피막의 표면의 친수성화가 불충분해지고, 원하는 만큼 낮은 물 접촉각은 얻어지지 않는 경우가 있다. 반대로, 표면 처리 금속 산화물 입자가 90 질량% 보다 많아도, 투명 피막에 크랙이 발생하는 경우가 있다. 또, 피막이 얻어졌다고 해도, 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우나, 막 강도나 내찰상성, 투명성, 헤이즈 등이 악화되는 경우가 있다. 이 표면 처리 금속 산화물 입자 성분은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지 성분의 고형분량과 표면 처리 금속 산화물 입자 성분의 고형분의 합계량에 대해, 고형분으로서 50 ∼ 85 질량% 에 있는 것이 보다 바람직하고, 60 ∼ 80 질량% 에 있는 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, the ratio of the surface-treated metal oxide particles in the transparent coating film is preferably in the range of from the solid amount of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component in the above-mentioned coating liquid to the solid amount of the surface- Expressed as a ratio of the solid content of the treated metal oxide particle component. The proportion of the surface-treated metal oxide particles in the transparent coating film is preferably 30 to 90% by mass as solid content. Here, if the surface-treated metal oxide particles are less than 30 mass%, the effect of inhibiting curling, hardness, and scratch resistance may be insufficient. In addition, the surface of the coating film becomes insufficient in hydrophilicity, and a water contact angle as low as desired may not be obtained. On the contrary, even if the surface-treated metal oxide particles are more than 90% by mass, cracks sometimes occur in the transparent coating film. In addition, even if a film is obtained, there are cases where the adhesion to the substrate becomes insufficient, and the film strength, scratch resistance, transparency, haze, and the like deteriorate. The surface-treated metal oxide particle component is more preferably in the range of 50 to 85% by mass as solid content with respect to the sum of the solid content of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin component and the solid content of the surface-treated metal oxide particle component , And more preferably 60 to 80 mass%.

표면 처리 금속 산화물 입자는, 평균 입자경이 5 ㎚ 보다 작은 것을 얻는 것은 곤란하다. 가령, 이와 같은 입자가 얻어졌다고 해도, 표면 처리제에 의한 표면 처리, 및 졸의 안정성이 불충분해지는 경우가 많다. 또, 표면 처리 금속 산화물 입자의 평균 입자경이 500 ㎚ 보다 크면, 표면 처리 금속 산화물 입자의 함유량에 따라 다르기도 하지만, 막 표면에서 광 산란을 일으키거나, 투명 피막의 헤이즈가 악화되어, 피막의 투명성이 저하된다. 얻어지는 투명 피막은, 종래 일반적으로 수지 성분 단독으로 구성된 피막 쪽이, 표면 처리 금속 산화물 입자가 함유되는 피막보다 접촉각은 낮아진다. 그런데, 본 발명의 표면 처리 금속 산화물 입자를 함유하는 피막은, 수지 성분 단독으로 구성된 피막보다 접촉각이 저하된다는 특징을 갖는다. 그 이유는 분명하지는 않지만, 피막 표면에 입자가 존재하여 막 표면에 텍스처를 형성하고, 피막 표면적이 상대적으로 증대되어, 저접촉각을 조장하는 것 (Wenzel 효과) 이 요인 중 하나로 생각된다.It is difficult to obtain the surface-treated metal oxide particles having an average particle diameter smaller than 5 nm. Even if such particles are obtained, the surface treatment with the surface treatment agent and the stability of the sol often become insufficient. If the average particle diameter of the surface-treated metal oxide particles is larger than 500 nm, it may vary depending on the content of the surface-treated metal oxide particles, but light scattering occurs on the surface of the film or the haze of the transparent coating deteriorates, . The obtained transparent coating film has a lower contact angle than that of the coating film containing the surface-treated metal oxide particles in the case of the coating film composed of the resin component alone in general. However, the coating film containing the surface-treated metal oxide particles of the present invention is characterized in that the contact angle is lower than that of the coating film composed of the resin component alone. The reason is not clear, but it is considered to be one of the factors that the particles exist on the surface of the film to form a texture on the surface of the film, the film surface area is relatively increased, and the low contact angle is promoted (Wenzel effect).

투명 피막의 막 두께는 1 ∼ 10 ㎛ 가 바람직하다. 투명 피막이 1 ㎛ 보다 얇으면, 투명 피막의 경도, 내찰상성이 불충분해지는 경우가 있다. 투명 피막이 10 ㎛ 보다 두꺼우면, 막의 수축이 커지고, 컬링이 일어나기 쉽고, 기재와의 밀착성이 불충분해지는 경우가 있다. 또, 수축이 매우 큰 경우에는, 크랙이 발생하는 경우도 있다. 이 투명 피막의 막 두께는 2 ∼ 10 ㎛ 가 더욱 바람직하다.The thickness of the transparent coating film is preferably 1 to 10 mu m. If the transparent coating film is thinner than 1 占 퐉, hardness and scratch resistance of the transparent coating film may be insufficient. If the transparent coating is thicker than 10 占 퐉, shrinkage of the film becomes large, curling tends to occur, and adhesion with the substrate may become insufficient. In addition, when the shrinkage is very large, cracks may occur. The transparent coating preferably has a thickness of 2 to 10 mu m.

투명 피막의 접촉각은, 물에 대해 70 °미만인 것이 바람직하다. 접촉각이 70 °이상이면, 친수성이 불충분하고, 상층과의 접착성이 저하되는 경우가 있다. 이 투명 피막의 접촉각은, 물에 대해 50 °미만인 것이 더욱 바람직하다.The contact angle of the transparent coating is preferably less than 70 DEG with respect to water. When the contact angle is 70 DEG or more, the hydrophilicity is insufficient and the adhesiveness with the upper layer is lowered in some cases. It is more preferable that the contact angle of the transparent coating film is less than 50 DEG with respect to water.

투명 피막의 연필 경도는 3H 이상인 것이 바람직하다. 3H 미만의 연필 경도에서는, 하드 코트막으로서 경도가 불충분하다. 이 투명 피막의 연필 경도는 4H 이상인 것이 더욱 바람직하다. The pencil hardness of the transparent coating is preferably 3H or more. At a pencil hardness of less than 3H, the hardness of the hard coat film is insufficient. The transparent hard coat preferably has a pencil hardness of 4H or more.

투명 피막의 컬링성은 20 ㎜ 미만인 것이 바람직하고, 10 ㎜ 미만인 것이 더욱 바람직하다.The transparency film preferably has a curling property of less than 20 mm, more preferably less than 10 mm.

또, 투명 피막 형성 기재의 광 투과율은 90.0 % 이상인 것이 바람직하다.The light transmittance of the transparent film-forming base material is preferably 90.0% or more.

투명 피막 형성 기재의 광 투과율이 90.0 % 보다 낮으면, 표시 장치 등에 사용한 경우, 화상의 선명도가 불충분해지는 경우가 있다. 이 투명 피막 형성 기재의 광 투과율은 91.5 % 이상인 것이 더욱 바람직하다.When the light transmittance of the transparent film-forming base material is lower than 90.0%, the sharpness of the image may become insufficient when used in a display device or the like. It is more preferable that the light transmittance of the transparent film-forming base material is 91.5% or more.

이와 같은 투명 피막 형성 기재는, 광 전기 셀, 액정 표시 셀이나 휴대 전화, PC 등의 경량화를 위해, 얇고 또한 경량성이 요구되는 용도에 바람직하다.Such a transparent film-forming substrate is preferable for applications requiring thinness and light weight for light-weighting of photovoltaic cells, liquid crystal display cells, cellular phones, PCs and the like.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

또한, 실시예에서는, 금속 산화물 미립자로서 실리카 알루미나 미립자 또는 실리카 미립자를 사용하였다.In the examples, silica-alumina fine particles or silica fine particles were used as the metal oxide fine particles.

(실시예 1)(Example 1)

《도포액 (1) 의 조제》&Quot; Preparation of coating liquid (1) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 100 g 에 γ-메타아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 6.08 g (신에츠 실리콘 (주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 질량%) 을 혼합하고, 초순수를 8.80 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하여, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하였다. 이로써, 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 알루미나 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 40.4 질량%).Methacryloxypropyltrimethoxysilane 6.08 (trade name)) was added to 100 g of a silica alumina sol dispersion (OSCAL 1132, average particle diameter 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46, (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., 81.2% by mass of SiO 2 component) were mixed, and 8.80 g of ultrapure water was added, and 0.40 g of 5% ammonia water was added and stirred at 50 캜 for 6 hours. Thus, a surface-treated 12 nm silica alumina sol dispersion was obtained (solid content concentration: 40.4 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 을 얻었다. 이어서, 이 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 60.11 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 12.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 1.80 g 과 PGME 13.59 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 투명 피막 형성용 도포액 (1) 을 조제하였다. 이 도포액 (1) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Subsequently, the product was subjected to solvent replacement with propylene glycol monomethyl ether (PGME) using a rotary evaporator to obtain a silica sol PGME dispersion (1) having a solid content of 46.6 mass%. Subsequently, 60.11 g of the silica sol PGME dispersion (1), 12.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Manufactured by Irgacure 184), 13.59 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid (1) for forming a transparent coating film having a solid content concentration of 41.8% by mass. The composition of this coating liquid (1) is shown in Table 1.

《평균 입자경의 측정》&Quot; Measurement of average particle diameter &quot;

평균 입자경은, 전자 현미경 사진을 촬영하여, 임의의 100 개의 입자에 대해 입자경을 측정하고, 그 평균값으로서 얻은 것이다.The average particle diameter was obtained as an average value of particle diameters measured for any 100 particles by taking an electron microscope photograph.

《투명 피막 형성 기재 (1) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (1) &quot;

투명 피막 형성용 도포액 (1) 을, TAC 필름 (후지 필름 (주) 제조 : FT-PB40UL-M, 두께 : 40 ㎛, 굴절률 : 1.51) 에 바 코터법 (#16) 으로 도포하고, 80 ℃ 에서 120 초간 건조시킨 후, N2 분위기하에서 300 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하여 경화시켜 투명 피막 형성 기재 (1) 를 얻었다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.The coating liquid 1 for forming a transparent film was applied to a TAC film (FT-PB40UL-M manufactured by Fuji Film Co., Ltd., thickness: 40 占 퐉, refractive index: 1.51) by a bar coater method (# 16) For 120 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm &lt; 2 &gt; in an N 2 atmosphere to be cured to obtain a transparent film-forming base material (1). The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

이 투명 피막 형성 기재 (1) 의 막 두께, 연필 경도, 접촉각, 컬링성, 내찰상성, 헤이즈, 전광선 투과율, 밀착성 및 외관에 대해, 이하의 방법 및 평가 기준으로 평가하였다. 이 평가 결과를 표 2 에 나타낸다.The film thickness, pencil hardness, contact angle, curling property, scratch resistance, haze, total light transmittance, adhesion, and appearance of the transparent film-forming substrate (1) were evaluated by the following methods and evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 2.

《막 두께의 측정》&Quot; Measurement of film thickness &

막 두께는, 디지털 게이지 ((주) 오노 측기 제조의 게이지 스탠드 ST-0230 과 디지털 게이지 카운터 DG-5100) 에 의해 측정하였다.The film thickness was measured by a digital gauge (Gauge Stand ST-0230 manufactured by Ono Sangyo Co., Ltd. and digital gauge counter DG-5100).

《연필 경도의 측정》"Measurement of pencil hardness"

연필 경도는, JIS-K-5600 에 준하여 연필 경도 시험기에 의해 측정하였다. 연필 경도는 3H 이상이 바람직하다.The pencil hardness was measured by a pencil hardness tester in accordance with JIS-K-5600. The pencil hardness is preferably 3H or more.

《접촉각의 측정》&Quot; Measurement of contact angle &quot;

접촉각은, 전자동 접촉각계 (쿄와 계면 과학 (주) 제조 : DM700) 에 의해 측정하였다. 물에 대한 접촉각은 70 °미만이 바람직하다.The contact angle was measured by an automatic contact angle meter (DM700, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). The contact angle to water is preferably less than 70 DEG.

《컬링성의 평가》&Quot; Evaluation of curling property &quot;

14 ㎝ × 25 ㎝ × 40 ㎛ (두께) 의 TAC 필름 기재 상에 두께 8 ㎛ 의 투명 피막을 형성할 수 있도록 도포액 (1) 을 도포하고, 20 시간 정치 (靜置) 하였다. 그 후, 필름을 10 ㎝ × 10 ㎝ 사이즈로 커트하고, 도포면을 아래로 하여 필름을 평판 상에 두고, 컬링 (만곡) 되어 부상한 기재의 정점의 평판으로부터의 높이를 측정하였다. 컬링성을 이하의 기준으로 평가하였다.The coating liquid 1 was applied on a TAC film base material of 14 cm x 25 cm x 40 m (thickness) so as to form a transparent coating film having a thickness of 8 m and left to stand for 20 hours. Thereafter, the film was cut into a size of 10 cm x 10 cm, and the film was placed on a flat plate with the application side down, and the height of the vertex of the floated base material curled (curved) was measured. The curling property was evaluated by the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

10 ㎜ 미만 : ◎Less than 10 ㎜ : ◎

10 ∼ 20 ㎜ 미만 : ○Less than 10 ~ 20 ㎜ : ○

20 ∼ 30 ㎜ 미만 : △Less than 20 ~ 30 ㎜ : △

30 ㎜ 이상 : ×More than 30 ㎜ : ×

《내찰상성의 평가》"Evaluation of scratch resistance"

#0000 스틸울을 사용하여, 하중 500 g/㎠ 로 10 회 슬라이딩하고, 막의 표면을 육안 관찰하였다. 내찰상성을 이하의 기준으로 평가하였다.# 0000 steel wool at a load of 500 g / cm &lt; 2 &gt; ten times, and the surface of the film was visually observed. The scratch resistance was evaluated by the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

줄무늬상의 흠집이 확인되지 않는다 : ◎No scratches on stripes are identified : ◎

줄무늬상으로 흠집이 약간 확인된다 : ○There are some scratches on the stripes. : ○

줄무늬상으로 흠집이 다수 확인된다 : △Many scratches on stripes are identified : △

면이 전체적으로 깎여져 있다 : ×The face is entirely trimmed. : ×

《전광선 투과율, 헤이즈의 측정》&Quot; Total light transmittance, measurement of haze &quot;

전광선 투과율 및 헤이즈는, 헤이즈미터 (닛폰 전색 (주) 제조의 NDH-5000)에 의해 측정하였다. 또한, 미도포의 TAC 필름은 전광선 투과율이 93.0 %, 헤이즈가 0.3 % 였다. 전광선 투과율은 90.0 % 이상, 헤이즈는 0.5 % 이하가 바람직하다.The total light transmittance and haze were measured by a haze meter (NDH-5000 manufactured by Nippon Telegraph Co., Ltd.). The uncoated TAC film had a total light transmittance of 93.0% and a haze of 0.3%. The total light transmittance is preferably 90.0% or more, and the haze is preferably 0.5% or less.

《밀착성》&Quot; Adherence &quot;

투명 피막 형성 기재의 표면에 나이프로 가로세로 1 ㎜ 의 간격으로 11 개의 평행한 흠집을 내어 100 개의 칸을 만들고, 이것에 셀로판 테이프를 접착하였다. 이어서, 셀로판 테이프를 박리시켰을 때에 피막이 박리되지 않고 잔존하고 있는 칸의 수를 세었다. 밀착성을 이하의 4 단계로 분류함으로써 평가하였다.Eleven parallel scratches were formed on the surface of the transparent film-forming substrate with a knife at intervals of 1 mm in width and 100 squares, and a cellophane tape was adhered thereto. Subsequently, when the cellophane tape was peeled off, the number of cells remaining without peeling the film was counted. The adhesion was evaluated by classifying into the following four levels.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

잔존 칸의 수 100 개 : ◎Number of remaining squares 100 : ◎

잔존 칸의 수 90 ∼ 99 개 : ○Number of remaining cells 90 to 99 : ○

잔존 칸의 수 85 ∼ 89 개 : △Number of remaining spaces 85 to 89 : △

잔존 칸의 수 84 개 이하 : ×Number of remaining spaces 84 or less : ×

《외관》"Exterior"

투명 피막 형성 기재의 표면을 육안으로 관찰하였다. 외관을 이하의 기준으로 평가하였다.The surface of the transparent film-forming base material was visually observed. The appearance was evaluated by the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

표면에 줄무늬, 얼룩, 크랙, 블리드 아웃의 외관 불량을 확인할 수 없다 : ◎You can not check the appearance of streaks, smudges, cracks, or bleedouts on the surface. : ◎

표면에 줄무늬, 얼룩, 크랙, 블리드 아웃의 외관 불량을 거의 확인할 수 없다 : ○Almost no appearance of streaks, smudges, cracks, or bleedouts on the surface : ○

표면에 줄무늬, 얼룩, 크랙, 블리드 아웃의 외관 불량이 약간 관찰되었다 : △Appearance defects of stripes, stains, cracks, and bleed-outs were slightly observed on the surface : △

표면에 줄무늬, 얼룩, 크랙, 블리드 아웃의 외관 불량이 분명하게 관찰되었다 : × Appearance defects of stripes, stains, cracks, and bleed-outs were clearly observed on the surface : ×

(실시예 2)(Example 2)

《투명 피막 형성용 도포액 (2) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (2) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-24E 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (2) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (2) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (2) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester A-DPH-24E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., The composition of the obtained coating liquid (2) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (2) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (2) &quot;

도포액 (2) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (2) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (2) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (2) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 3)(Example 3)

《투명 피막 형성용 도포액 (3) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (3) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-12E 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (3) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (3) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (3) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester A-DPH-12E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., The composition of the obtained coating liquid (3) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (3) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (3) &quot;

도포액 (3) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (3) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (3) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (3) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 4)(Example 4)

《투명 피막 형성용 도포액 (4) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (4) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 ATM-35E 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (4) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (4) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (4) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester ATM-35E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., The composition of the obtained coating liquid (4) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (4) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (4) &quot;

도포액 (4) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (4) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (4) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (4) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 5)(Example 5)

《투명 피막 형성용 도포액 (5) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (5) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-GLY-9E 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (5) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (5) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (5) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester A-GLY-9E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., The composition of the obtained coating liquid (5) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (5) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (5) &quot;

도포액 (5) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (5) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (5) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (5) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 6)(Example 6)

《투명 피막 형성용 도포액 (6) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (6) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-16P 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (6) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (6) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (6) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester A-DPH-16P manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., The composition of the obtained coating liquid (6) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (6) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (6) &quot;

도포액 (6) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (6) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (6) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (6) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 7)(Example 7)

《투명 피막 형성용 도포액 (7) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (7) &quot;

실시예 1 에서 얻은 고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 64.41 g 과, EO 변성 아크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 10.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 1.50 g 과 PGME 11.59 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 41.5 질량% 의 도포액 (7) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (7) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.64.41 g of the silica sol PGME dispersion (1) having a solid content concentration of 46.6% by mass obtained in Example 1, 10.00 g of EO-modified acrylate (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., 1.50 g of an initiator (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan K.K.), 11.59 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 7 having a solid content concentration of 41.5% by mass. The composition of the obtained coating liquid (7) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (7) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (7) &quot;

도포액 (7) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (7) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (7) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (7) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 8)(Example 8)

《투명 피막 형성용 도포액 (8) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (8) &quot;

실시예 1 에서 얻은 고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 42.94 g 과, EO 변성 아크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 20.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 3.00 g 과 PGME 21.56 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 43.0 질량% 의 도포액 (8) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (8) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.42.94 g of the silica sol PGME dispersion (1) having a solid content concentration of 46.6% by mass obtained in Example 1, 20.00 g of EO-modified acrylate (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., 3.00 g of an initiator (Irgacure 184 manufactured by Chiba Japan K.K.), 21.56 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid (8) having a solid content concentration of 43.0% by mass. The composition of the obtained coating liquid (8) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (8) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (8) &quot;

도포액 (8) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (8) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (8) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (8) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 9)(Example 9)

《투명 피막 형성용 도포액 (9) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (9) &quot;

실시예 1 에서 얻은 고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 25.76 g 과, EO 변성 아크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 28.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 4.20 g 과 PGME 29.54 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 44.2 질량% 의 도포액 (9) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (9) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.25.76 g of the silica sol PGME dispersion (1) having a solid content concentration of 46.6% by mass obtained in Example 1, 28.00 g of EO-modified acrylate (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., 4.20 g of an initiator (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan K.K.), 29.54 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid (9) having a solid content concentration of 44.2% by mass. The composition of the obtained coating liquid (9) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (9) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (9) &quot;

도포액 (9) 를 바 코터법 (#20) 으로 도포한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 투명 피막 형성 기재 (9) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 10 ㎛ 였다.A transparent film-forming base material (9) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (9) was applied by a bar coater method (# 20). The thickness of the transparent coating film was 10 mu m.

(실시예 10)(Example 10)

《투명 피막 형성용 도포액 (10) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (10) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 100 g 에 γ-메타아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 12.15 g (신에츠 실리콘 (주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 질량%) 을 혼합하고, 초순수를 17.60 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하고, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하여 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 알루미나 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 40.5 질량%).Methacryloxypropyltrimethoxysilane 12.15 (trade name, manufactured by Nippon Shokubai Seiyaku Co., Ltd.) (OSCAL 1132, average particle diameter 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46) (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., 81.2% by mass of SiO 2 component) were mixed, and 17.60 g of ultrapure water was added, and 0.40 g of 5% ammonia water was added. A 12 nm silica alumina sol dispersion was obtained (solid content concentration 40.5 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 52.7 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (2) 를 얻었다.Subsequently, the product was solvent-substituted with propylene glycol monomethyl ether (PGME) by a rotary evaporator to obtain silica sol PGME dispersion (2) having a solid content of 52.7 mass%.

이어서, 고형분 농도 52.7 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (2) 53.18 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 12.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 1.80 g 과 PGME 20.52 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (10) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (10) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Subsequently, 53.18 g of a silica sol PGME dispersion (2) having a solid content concentration of 52.7% by mass, 12.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.), 20.52 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 10 having a solid content concentration of 41.8% by mass. The composition of the obtained coating liquid 10 is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (10) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming substrate 10 &quot;

도포액 (10) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (10) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (10) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (10) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 11)(Example 11)

《투명 피막 형성용 도포액 (11) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (11) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 100 g 에 γ-메타아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 1.22 g (신에츠 실리콘 (주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 질량%) 을 혼합하고, 초순수를 1.76 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하고, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하여 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 40.4 질량%).Methacryloxypropyltrimethoxysilane 1.22 (trade name, manufactured by Nikkiso Catalysts Co., Ltd., OSCAL 1132, average particle diameter 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46) g (manufactured by Shin-Etsu silicone Co., Ltd. Preparation: KBM-503, SiO 2 component 81.2% by weight) and mixed, ultra-pure water to 1.76 g was added, and a 5% aqueous ammonia 0.40 g were added and surface treatment by stirring at 50 ℃ 6 time To obtain a 12 nm silica sol dispersion (solid content concentration: 40.4 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 41.7 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (3) 을 얻었다.Subsequently, the solvent was replaced with propylene glycol monomethyl ether (PGME) by a rotary evaporator to obtain a silica sol PGME dispersion (3) having a solid content of 41.7 mass%.

이어서, 고형분 농도 41.7 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (3) 67.12 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 12.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 1.80 g 과 PGME 6.58 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (11) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (11) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Subsequently, 67.12 g of a silica sol PGME dispersion (3) having a solid content concentration of 41.7% by mass, 12.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.), 6.58 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 11 having a solid content concentration of 41.8% by mass. The composition of the obtained coating liquid 11 is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (11) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming substrate 11 &

도포액 (11) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (11) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (11) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (11) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 12)(Example 12)

《투명 피막 형성용 도포액 (12) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (12) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 100 g 에 γ-아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 6.08 g (신에츠 실리콘 (주) 제조 : KBM-5103, SiO2 성분 81.2 질량%) 을 혼합하여 초순수를 8.80 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하고, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하여 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 알루미나 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 40.4 질량%).6.08 g of? -Acryloxypropyltrimethoxysilane was added to 100 g of a silica alumina sol dispersion (OSCAL 1132; average particle diameter 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46, (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd .; 81.2% by mass of SiO 2 component) were mixed and added with 8.80 g of ultrapure water, 0.40 g of 5% ammonia water was added and stirred at 50 캜 for 6 hours, Of silica alumina sol dispersion (solid content concentration: 40.4 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (4) 를 얻었다.Subsequently, the solvent was replaced with propylene glycol monomethyl ether (PGME) as a rotary evaporator to obtain a silica sol PGME dispersion (4) having a solid content of 46.6 mass%.

이어서, 고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (4) 60.11 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 12.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 1.80 g 과 PGME 13.59 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 46.6 질량% 의 도포액 (12) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (12) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Subsequently, 60.11 g of a silica sol PGME dispersion (4) having a solid content concentration of 46.6% by mass, 12.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.), 13.59 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 12 having a solid content concentration of 46.6% by mass. The composition of the coating liquid 12 thus obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (12) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming substrate 12 &quot;

도포액 (12) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (12) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (12) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (12) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 13)(Example 13)

《투명 피막 형성용 도포액 (13) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (13) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 100 g 에 테트라에톡시실란 2.74 g (타마 화학 공업 (주) 제조 : 정규산에틸-A, SiO2 성분 28.80 %) 을 혼합하여 초순수를 4.33 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하고, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하여 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 알루미나 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 38.4 질량%).100 g of a silica alumina sol dispersion (manufactured by Nikki Catalysts Co., Ltd., OSCAL 1132; average particle size 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46), 2.74 g of tetraethoxysilane ) manufactured by the normal acid ethyl -A, SiO 2 ingredient 28.80%) was mixed with deionized water to 4.33 g was added, and a 5% aqueous ammonia 0.40 g were added and the mixture was stirred at 50 ℃ 6 sigan surface treatment of the silica-alumina sol and a 12 ㎚ To obtain a dispersion (solid content concentration: 38.4 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 41.3 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (5) 를 얻었다.Subsequently, the solvent was replaced with propylene glycol monomethyl ether (PGME) as a rotary evaporator to obtain a silica sol PGME dispersion (5) having a solid content of 41.3 mass%.

이어서, 고형분 농도 41.3 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (5) 67.78 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 12.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 1.80 g 과 PGME 5.92 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (13) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (13) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Subsequently, 67.78 g of a silica sol PGME dispersion (5) having a solid content concentration of 41.3% by mass, 12.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.), 5.92 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 13 having a solid content concentration of 41.8% by mass. The composition of the coating liquid 13 thus obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (13) 의 조제》&Quot; Preparation of Transparent Film-Forming Substrate 13 &

도포액 (13) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (13) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (13) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (13) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 14)(Example 14)

《투명 피막 형성용 도포액 (14) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (14) &quot;

실리카 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; SI-30 ; 평균 입자경 12 ㎚, SiO2 농도 40.5 질량%) 1000 g 에 이온 교환수 6000 g 을 첨가하고, 이어서 양이온 교환 수지 (미츠비시 화학 (주) 제조 : SK-1BH) 800 g 을 첨가하고, 1 시간 교반하여 탈알칼리 처리하였다.6000 g of ion-exchanged water was added to 1000 g of a silica sol dispersion (SI-30; average particle diameter 12 nm, SiO 2 concentration 40.5 mass%, manufactured by Nikki Catalysts Co., Ltd.), followed by addition of a cation exchange resin (available from Mitsubishi Chemical Corporation) Manufactured by SK-1BH Co., Ltd.) was added, and the mixture was dealkalized by stirring for 1 hour.

다음으로, 양이온 교환 수지를 분리한 후, 음이온 교환 수지 (미츠비시 화학 (주) 제조 : SANUPC) 400 g 을 첨가하고, 1 시간 교반하여 탈아니온 처리하였다. 이어서, 다시 양이온 교환 수지 (미츠비시 화학 (주) 제조 : SK-1BH) 400 g 을 첨가하고, 1 시간 교반하여 탈알칼리 처리하여 SiO2 농도 5 질량% 의 실리카 입자 분산액 (A) 를 조제하였다.Next, after separating the cation exchange resin, 400 g of an anion exchange resin (SANUPC, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added, and the mixture was stirred for 1 hour to effect deanion treatment. Subsequently, 400 g of a cation exchange resin (SK-1BH, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was further added and the mixture was stirred for 1 hour to carry out a dealkalization treatment to prepare a silica particle dispersion (A) having an SiO 2 concentration of 5 mass%.

이 분산액을, 한외 여과막을 사용하여 메탄올로 용매 치환하여, 고형분 농도 40.5 질량% 의 메탄올 분산액 (A) 를 얻었다.This dispersion was subjected to solvent substitution with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a methanol dispersion (A) having a solid content concentration of 40.5% by mass.

실리카 메탄올 분산액 (A) 100 g 에 γ-메타아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 6.08 g (신에츠 실리콘 (주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 질량%) 을 혼합하고, 초순수를 8.80 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하고, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하여 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 40.5 질량%).6.08 g of? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., 81.2 mass% of SiO 2 component) was mixed with 100 g of the silica-methanol dispersion (A) , 0.40 g of 5% ammonia water was added, and the mixture was stirred at 50 캜 for 6 hours to obtain a 12 nm silica sol dispersion (solid content concentration: 40.5 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (6) 을 얻었다.Subsequently, the product was solvent-substituted with propylene glycol monomethyl ether (PGME) by a rotary evaporator to obtain a silica sol PGME dispersion (6) having a solid content of 46.6 mass%.

실리카 알루미나 졸을 실리카 졸 PGME 분산액 (6) 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (14) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (14) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (14) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica alumina sol was changed to the silica sol PGME dispersion (6). The composition of the coating liquid 14 thus obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (14) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film forming base material 14 &quot;

도포액 (14) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (14) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (14) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (14) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 15)(Example 15)

《투명 피막 형성용 도포액 (15) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (15) &quot;

실리카 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; SI-80P ; 평균 입자경 80 ㎚, SiO2 농도 40.5 질량%) 1000 g 에 이온 교환수 6000 g 을 첨가하고, 이어서 양이온 교환 수지 (미츠비시 화학 (주) 제조 : SK-1BH) 800 g 을 첨가하고, 1 시간 교반하여 탈알칼리 처리하였다.6000 g of ion-exchanged water was added to 1000 g of a silica sol dispersion (SI-80P; average particle diameter 80 nm, SiO 2 concentration 40.5 mass%) manufactured by Nikki Catalysts Co., Ltd. Then, a cation exchange resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Manufactured by SK-1BH Co., Ltd.) was added, and the mixture was dealkalized by stirring for 1 hour.

다음으로, 양이온 교환 수지를 분리한 후, 음이온 교환 수지 (미츠비시 화학 (주) 제조 : SANUPC) 400 g 을 첨가하고, 1 시간 교반하여 탈아니온 처리하였다. 이어서, 다시 양이온 교환 수지 (미츠비시 화학 (주) 제조 : SK-1BH) 400 g 을 첨가하고, 1 시간 교반하여 탈알칼리 처리하여 SiO2 농도 5 질량% 의 실리카 입자 분산액 (B) 를 조제하였다.Next, after separating the cation exchange resin, 400 g of an anion exchange resin (SANUPC, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added, and the mixture was stirred for 1 hour to effect deanion treatment. Subsequently, 400 g of a cation exchange resin (SK-1BH, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was further added and the mixture was stirred and agitated for 1 hour to prepare a silica particle dispersion (B) having an SiO 2 concentration of 5% by mass.

이 분산액을, 한외 여과막을 사용하여 메탄올로 용매 치환하여, 고형분 농도 40.5 질량% 의 메탄올 분산액 (B) 를 얻었다.This dispersion was subjected to solvent substitution with methanol using an ultrafiltration membrane to obtain a methanol dispersion (B) having a solid content concentration of 40.5% by mass.

상기 실리카 메탄올 분산액 (B) 100 g 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카로 이루어지는 표면 처리 금속 산화물 미립자 수지 PGME 분산액 (7) 을 조제하였다.A surface-treated metal oxide fine particle resin PGME dispersion (7) comprising silica having a solid concentration of 46.6% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that 100 g of the silica methanol dispersion (B) was used.

실리카 알루미나 졸을 실리카 졸 PGME 분산액 (7) 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (15) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (15) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (15) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silica alumina sol was changed to the silica sol PGME dispersion (7). The composition of the obtained coating liquid 15 is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (15) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film forming substrate (15) &quot;

투명 피막 형성용 도포액 (15) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (15) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent film-forming base material (15) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid (15) for forming a transparent film was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 16)(Example 16)

《투명 피막 형성용 도포액 (16) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (16) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 100 g 에 γ-메타아크릴로옥시프로필트리메톡시실란 6.08 g (신에츠 실리콘 (주) 제조 : KBM-503, SiO2 성분 81.2 질량%) 을 혼합하여 초순수를 8.80 g 첨가하고, 5 % 암모니아수를 0.40 g 첨가하고, 50 ℃ 에서 6 시간 교반하여 표면 처리한 12 ㎚ 의 실리카 알루미나 졸 분산액을 얻었다 (고형분 농도 40.4 질량%).Methacryloxypropyltrimethoxysilane 6.08 (trade name)) was added to 100 g of a silica alumina sol dispersion (OSCAL 1132, average particle diameter 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46, g (manufactured by Shin-Etsu silicone Co., Ltd. Preparation: KBM-503, SiO 2 component 81.2% by mass) were mixed by adding 8.80 g of ultrapure water, added 0.40 g of 5% ammonia water, and the surface treatment by stirring at 50 ℃ 6 hours 12 Nm silica sol alumina sol dispersion (solid content concentration: 40.4 mass%).

그 후, 로터리 이베퍼레이터로 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 로 용제 치환하여, 고형분 60.0 질량% 의 실리카 알루미나 졸 PGME 분산액 (8) 을 얻었다.Subsequently, the solvent was replaced with propylene glycol monomethyl ether (PGME) as a rotary evaporator to obtain a silica alumina sol PGME dispersion (8) having a solid content of 60.0 mass%.

이어서, 고형분 농도 60.0 질량% 의 실리카 알루미나 졸 PGME 분산액 (8) 64.17 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 16.50 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 2.48 g 과 PGME 4.36 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여, 고형분 농도 57.5 질량% 의 도포액 (16) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (16) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Subsequently, 64.17 g of a silica alumina sol PGME dispersion (8) having a solid content concentration of 60.0% by mass and 16.50 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan Co., Ltd.), 4.36 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 16 having a solid content concentration of 57.5% by mass. Table 1 shows the composition of the coating liquid 16 obtained.

《투명 피막 형성 기재 (16) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming substrate 16 &quot;

도포액 (16) 을 바 코터법 (#12) 으로 도포한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 투명 피막 형성 기재 (16) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material 16 was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 16 was applied by a bar coater method (# 12). The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 17)(Example 17)

《투명 피막 형성용 도포액 (17) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (17) &quot;

실시예 1 에서 조제한 고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 30.06 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 6.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 0.90 g 과 PGME 50.54 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여, 고형분 농도 20.9 질량% 의 도포액 (17) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (17) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.30.06 g of a silica sol PGME dispersion (1) having a solid content concentration of 46.6% by mass prepared in Example 1 and 6.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., 0.90 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Chiba Japan K.K.), 50.54 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid 17 having a solid content concentration of 20.9% by mass. The composition of the coating liquid (17) thus obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (17) 의 조제》&Quot; Preparation of Transparent Film-Forming Substrate 17 &

도포액 (17) 을 바 코터법 (#32) 으로 도포한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 투명 피막 형성 기재 (17) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material 17 was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 17 was applied by a bar coater method (# 32). The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 18)(Example 18)

《투명 피막 형성용 도포액 (18) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (18) &quot;

아크릴 실리콘계 레벨링제 (쿠스모토 화성 (주) 사 제조 UVX-3750, 고형분 50.0 %) 0.001 g 을 첨가하여 혼합한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (18) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (18) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.Except that 0.001 g of an acrylic silicone leveling agent (UVX-3750, solid content 50.0%, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.) was added and mixed to prepare a coating liquid 18 having a solid content concentration of 41.8 mass% Lt; / RTI &gt; The composition of the coating liquid 18 obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (18) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film forming substrate 18 &quot;

도포액 (18) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (18) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent-film-forming base material (18) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (18) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(실시예 19)(Example 19)

《투명 피막 형성 기재 (19) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film forming base material (19) &quot;

기재를 50 ㎛ PET 필름 (토요보 (주) 제조 : 코스모샤인 A4300) 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 도포액 (1) 을 도포하여 투명 피막 형성 기재 (19) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A coating liquid 1 was applied in the same manner as in Example 1 except that the substrate was changed to a 50 탆 PET film (Cosmo Shine A4300, manufactured by TOYOBO CO., LTD.) To prepare a transparent film forming base material 19, Respectively. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

《투명 피막 형성용 도포액 (R1) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (R1) &quot;

고형분 농도 46.6 질량% 의 실리카 졸 PGME 분산액 (1) 51.52 g 과, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (쿄에이샤 화학 (주) 제조 : 라이트 아크릴레이트 DPE-6A) 16.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 2.40 g 과 PGME 17.58 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 42.4 질량% 의 도포액 (R1) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (R1) 의 조성을 표 1 에 나타낸다., 16.5 g of a silica sol PGME dispersion (1) having a solid content concentration of 46.6 mass%, 16.00 g of dipentaerythritol hexaacrylate (Light Acrylate DPE-6A, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) (Irgacure 184, manufactured by Japan KK), 17.58 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to prepare a coating liquid (R1) having a solid content concentration of 42.4% by mass. The composition of the obtained coating liquid (R1) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (R1) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (R1) &quot;

도포액 (R1) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (R1) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent film-forming substrate (R1) was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (R1) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

《투명 피막 형성용 도포액 (R2) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (R2) &quot;

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 우레탄아크릴레이트 (신나카무라 화학 (주) 제조 : NK 올리고 UA-33H, 관능기 : 우레탄아크릴레이트, 관능기수 : 9, 분자량 : 4,000, 고형분 농도 100 %) 로 변경한 것 이외에는 비교예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 42.4 질량% 의 도포액 (R2) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (R2) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.(NK Oligo UA-33H manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., functional group: urethane acrylate, number of functional groups: 9, molecular weight: 4,000, solid content concentration: 100%) was changed to urethane acrylate , A coating liquid (R2) having a solid content concentration of 42.4% by mass was prepared in the same manner as in Comparative Example 1. The composition of the obtained coating liquid (R2) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (R2) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (R2) &quot;

도포액 (R2) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (R2) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent film-forming substrate (R2) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (R2) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

《투명 피막 형성용 도포액 (R3) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (R3) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-48E 로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (R3) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (R3) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (R3) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester A-DPH-48E manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., The composition of the coating liquid (R3) thus obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (R3) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (R3) &quot;

도포액 (R3) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (R3) 을 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent film-forming substrate (R3) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (R3) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

《투명 피막 형성용 도포액 (R4) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (R4) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더를 신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-1000 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 고형분 농도 41.8 질량% 의 도포액 (R4) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (R4) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.A coating liquid (R4) having a solid content concentration of 41.8% by mass was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EO-modified acrylate binder was changed to NK Ester A-1000 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., The composition of the obtained coating liquid (R4) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (R4) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (R4) &quot;

도포액 (R4) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (R4) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent film-forming substrate (R4) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (R4) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

《투명 피막 형성용 도포액 (R5) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (R5) &quot;

EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 40.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 6.00 g 과 PGME 41.50 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 46.0 질량% 의 도포액 (R5) 를 조제하였다. 얻어진 도포액 (R5) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.40.00 g of an EO-modified acrylate binder (NK Ester A-DPH-18E, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 6.00 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Chiba Japan K.K.) And 12.50 g of acetone were thoroughly mixed to prepare a coating liquid (R5) having a solid content concentration of 46.0% by mass. The composition of the coating liquid (R5) obtained is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (R5) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (R5) &quot;

도포액 (R5) 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (R5) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.A transparent film-forming substrate (R5) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (R5) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

여기서, 표면 처리 금속 산화물 입자가 함유된 실시예 1 의 투명 피막 형성 기재 (1) 과 비교하면, 투명 피막 형성 기재 (1) 쪽이 연필 경도, 내찰상성, 전광선 투과율 및 밀착성이 높고, 접촉각 및 컬링이 낮고, 외관도 양호한 것을 알 수 있었다.Compared with the transparent film-forming base material 1 of Example 1 in which the surface-treated metal oxide particles were contained, the transparent film-forming base material 1 had higher pencil hardness, scratch resistance, total light transmittance and adhesiveness, And the appearance was good.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

《투명 피막 형성용 도포액 (R6) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent coating film forming coating liquid (R6) &quot;

실리카 알루미나 졸 분산액 (닛키 촉매 화성 (주) 제조 ; OSCAL1132 ; 평균 입자경 12 ㎚, 고형분 농도 40.5 질량%, 분산매 : 메탄올 졸, 입자 굴절률 1.46) 59.26 g 과, EO 변성 아크릴레이트 바인더 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조 : NK 에스테르 A-DPH-18E) 16.00 g 과, 광 중합 개시제 (치바 재팬 (주) 제조 : 이르가큐어 184) 2.40 g 과 PGME 9.84 g 과 아세톤 12.50 g 을 충분히 혼합하여 고형분 농도 42.4 질량% 의 도포액 (R6) 을 조제하였다. 얻어진 도포액 (R6) 의 조성을 표 1 에 나타낸다.59.26 g of a silica alumina sol dispersion (OSCAL 1132, average particle diameter 12 nm, solid content concentration 40.5 mass%, dispersion medium: methanol sol, particle refractive index 1.46, manufactured by Nikki Catalysts Co., Ltd.) and an EO-modified acrylate binder (Shin Nakamura Chemical Industries 16.00 g of NK Ester A-DPH-18E) and 2.40 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Chiba Japan K.K.), 9.84 g of PGME and 12.50 g of acetone were sufficiently mixed to obtain a solid content concentration of 42.4 mass% % Of a coating liquid (R6). The composition of the obtained coating liquid (R6) is shown in Table 1.

《투명 피막 형성 기재 (R6) 의 조제》&Quot; Preparation of transparent film-forming base material (R6) &quot;

도포액 (R6) 을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 투명 피막 형성 기재 (R6) 를 제조하고, 평가하였다. 투명 피막의 막 두께는 8 ㎛ 였다.(R6) was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid (R6) was used. The thickness of the transparent coating film was 8 占 퐉.

Figure pat00001
Figure pat00001

Figure pat00002
Figure pat00002

Claims (5)

알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와,
금속 산화물 입자의 표면에 유기 규소 화합물이 형성되고, 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚ 인 표면 처리 금속 산화물 입자와,
유기 용매를 함유하고,
상기 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지는, (메트)아크릴레이트 관능기수가 3 ∼ 10, 알킬렌옥사이드기수가 3 ∼ 40 인 다관능 아크릴레이트 모노머 수지이고,
상기 유기 규소 화합물은, 상기 금속 산화물 입자 100 질량부에 대해, Rn-SiO(4-n)/2 (단, 식 중, R 은 탄소수 1 ∼ 10 의 비치환 또는 치환 탄화수소기이고, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. n 은 1 ∼ 3 의 정수) 로서 0.1 ∼ 50 질량부, 상기 표면 처리 금속 산화물 입자에 함유되고,
상기 표면 처리 금속 산화물 입자는, 상기 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 상기 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유되는 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성용 도포액.
An alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin,
A surface-treated metal oxide particle having an organosilicon compound formed on the surface of the metal oxide particle and having an average particle diameter of 5 to 500 nm,
An organic solvent,
The alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is a polyfunctional acrylate monomer resin having a (meth) acrylate functional group number of 3 to 10 and an alkylene oxide group number of 3 to 40,
Wherein the organosilicon compound is at least one selected from the group consisting of R n -SiO (4-n) / 2 (wherein R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, N is an integer of 1 to 3) and is contained in the surface-treated metal oxide particle,
Treated metal oxide particles are contained in an amount of 30 to 90% by mass based on the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface-treated metal oxide particles.
제 1 항에 있어서,
상기 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지가 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지인 것을 특징으로 하는 도포액.
The method according to claim 1,
Wherein the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin is an ethylene oxide-modified (meth) acrylate resin.
기재 상에 투명 피막이 형성된 투명 피막 형성 기재로서,
상기 투명 피막은, 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와, 금속 산화물 입자의 표면에 유기 규소 화합물이 형성된 표면 처리 금속 산화물 입자를 함유하고,
상기 표면 처리 금속 산화물 입자는, 평균 입자경이 5 ∼ 500 ㎚ 이고, 상기 알킬렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 수지와 상기 표면 처리 금속 산화물 입자의 고형분의 합계량에 대해 30 ∼ 90 질량% 함유되는 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성 기재.
1. A transparent film-forming substrate having a transparent film formed on a substrate,
The transparent coating film contains an alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and a surface-treated metal oxide particle having an organosilicon compound formed on the surface of the metal oxide particle,
The surface-treated metal oxide particles have an average particle diameter of 5 to 500 nm and are contained in an amount of 30 to 90 mass% with respect to the total amount of the solid components of the alkylene oxide-modified (meth) acrylate resin and the surface- To form a transparent film-forming substrate.
제 3 항에 있어서,
상기 투명 피막은, 물에 대한 접촉각이 70 °미만, 연필 경도가 3H 이상인 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성 기재.
The method of claim 3,
Wherein the transparent coating film has a contact angle with water of less than 70 ° and a pencil hardness of 3H or more.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 투명 피막의 접촉각이, 상기 표면 처리 산화물 입자를 함유하지 않는 투명 피막의 접촉각보다 낮은 것을 특징으로 하는 투명 피막 형성 기재.
The method according to claim 3 or 4,
Wherein the contact angle of the transparent coating film is lower than the contact angle of the transparent coating film not containing the surface treated oxide particles.
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