KR20160058113A

KR20160058113A - 유전체 미러

Info

Publication number: KR20160058113A
Application number: KR1020167007973A
Authority: KR
Inventors: 지오르지 비커
Original assignee: 센트르 룩셈부르크게오이 데 레체르체 푸으 르 베르 에 라 세라미끄 에스. 에이. (씨.알.브이.씨.)
Priority date: 2013-09-18
Filing date: 2014-09-17
Publication date: 2016-05-24
Also published as: EP3047314B1; CN106068467A; ES2723350T3; JP2016530580A; MX2016003499A; MX351278B; CN106068467B; RU2016114521A; PL3047314T3; RU2016114521A3; BR112016005618B1; RU2672043C2; TW201518082A; WO2015042157A1; EP3047314A1; TR201906051T4

Abstract

유전체 미러는 고굴절률층 및 저굴절률층을 갖는 코팅을 포함한다. 특정한 예의 실시형태에서, 미러 코팅은 Al 또는 Ag의 금속성 반사층을 포함하지 않고, 특정한 예의 실시형태에서, 필름측 및/또는 유리측 가시반사율이 약 50-90% (더 바람직하게 약 60-80% 가장 바람직하게 약 65-75%)이고 가시투과율이 약 10-50% (더 바람직하게 약 10-40% 또는 20-40%)일 수 있다.

Description

유전체 미러{DIELECTRIC MIRROR}

본 출원은 2013년 2월 13일에 출원된 미국 출원 제13/766,025의 일부 계속출원으로, 그 개시내용이 본원에 참조로 포함되어 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태는 유전체 미러 및/또는 이 제조 방법에 관한 것이다. 특정한 예의 실시형태는 필름측 및/또는 유리측 가시반사율 50-90%(더 바람직하게 약 60-80% 및 가장 바람직하게 약 65-75%) 및 가시투과율 약 10-50%(더 바람직하게 10-40%, 더욱 더 바람직하게 약 20-40%, 및 가장 바람직하게 약 25-35%)을 실현하는 유전체 미러에 관한 것이다.

미러는 오랜 기간 동안 존재해 왔고, 다수의 용도로 사용되어 왔다. 일반적으로, 미러는 (a) 뷰어와 지지하는 유리 기판 사이에 미러 코팅이 제공되는 제1표면 미러, 또는 (b) 뷰어와 미러 코팅 사이에 지지하는 유리 기판이 개재되는 제2표면 미러 중 하나이다. 예를 들면, 미국 특허 제7,276,289호 및 제7,678,459호; 미국 특허 공개 제2006/0077580호; 제2007/0178316호; 제2008/0073203호; 제2008/0164173호; 제2010/0229853호; 제2011/0176212호; 및 제2011/0176236호를 참조한다. 이러한 특허 문헌의 전체 내용이 본원에 참조로 포함되어 있다.

미러는 종종 금속성(Al 또는 Ag) 반사층의 사용을 필요로 한다. 그러나, Al 또는 Ag의 금속성 반사층이 필요하지 않은 미러가 제공되는 것이 바람직할 것이다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태는 유전체 미러 및/또는 그 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 특정한 예의 실시형태는, 금속성 반사층을 포함하지 않더라도(예를 들면, Ag 층 및 Al층을 포함하지 않더라도), 필름측 및/또는 유리측 가시반사율 약 50-90%(더 바람직하게 약 60-80%, 가장 바람직하게 약 65-75%) 및 가시투과율 약 10-50%(더 바람직하게 약 10-40%, 더 바람직하게 약 20-40%, 가장 바람직하게 약 25-35%)을 실현할 수 있는 유전체 미러에 관한 것이다. 특정한 예의 실시형태에서, 약간 산화되거나 상당히 산화될 수 있는 NiCr 등의 또는 이를 포함하는 층은, 특정한 예에서 제공될 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서 유전체 미러는, 유리측 반사율 및 필름측 반사율에 대해 우수한 성능을 제공하는 것이면, 제1표면 미러 또는 제2표면 미러일 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서, 미러는 열처리(예를 들면, 강화 및/또는 열 굽힘)되거나 열처리되지 않을 수 있다. 특정한 예의 경우에, 이러한 유전체 미러는 소비자, 상업적 및/또는 전자 간판 적용, 예를 들면, 사진 프레임, 욕실 미러, TV, 및/또는 전자장치에서 사용될 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 유리기판을 포함하는 유전체 미러가 제공되고, 코팅은, 유리 기판으로부터 순서대로, 두께가 약 70-140 nm인, 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고반사율층; 두께가 약 30-140 nm이고, 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층; 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고반사율층; 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층; 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층;을 포함하고, 니오븀 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, (a) 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층, 및/또는 (b) 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층 중 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고; 코팅은 Al 또는 Ag에 기초한 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고, 유전체 미러는, (i) 필름측 가시반사율 또는 유리측 가시반사율 50-90% 및 (ii) 가시투과율 약 10-40%이고; 미러의 유리측 가시반사율이 미러의 필름측 가시반사율보다 적어도 약 30% 높거나 낮다. 미러는 제3투명 유전체 고굴절률층 및 제5투명 유전체 고굴절률층 사이에 위치한 대칭 조절층을 더 포함할 수 있다. 대칭 조절층은 NiCr 등을 포함할 수 있고, 적어도 부분적으로 산화될 수 있다. 대칭 조절층은, 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층과, 제3투명 유전체 고굴절률층의 사이에 접촉해서 위치될 수 있거나, 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층과 제5투명 유전체 고굴절률층 사이에 접촉해서 위치될 수 있다. 미러의 필름측 및 유리측 사이에 가시반사율 비대칭을 달성하기 위하여, 대칭 조절층을 사용하는 것 대신에, 미러의 유리 기판이 회색 유리 기판일 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 기판을 포함하는 유전체 미러가 제공되고, 코팅은 유리 기판으로부터 순서대로, 굴절률(n)이 약 2.15 내지 2.5인 제1유전체층; 실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층; 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제3유전체층; 실리콘 산화물을 포함하는 제4유전체층; 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제5유전체층;을 포함하고; 제1유전체층은 제3유전체층 및/또는 제5유전체층의 하나 또는 둘 다보다 적어도 20 nm 얇고; 코팅은 임의의 금속성 반사층을 함유하지 않는다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 유리 기판을 포함하는 유전체 미러가 제공되고, 코팅은 유리 기판으로부터 순서대로, 두께가 약 70-140 nm이고, 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층; 두께가 약 30-140 nm이고, 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층; 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층; 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층; 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층;을 포함하고, 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층 및/또는 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층 중 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고; 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고; 유전체 미러는 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 50-90%이고, 가시투과율이 약 10-40%이다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 기판(예를 들면, 유리 기판)을 포함하는 미러가 제공되고, 코팅은 유리 기판으로부터 순서대로, 두께가 70-140 nm 이고 굴절률(n)이 약 2.15 내지 2.5인 제1유전체층; 실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층; 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제3유전체층; 실리콘 산화물을 포함하는 제4유전체층; 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제5유전체층;을 포함하고, 제1유전체층은 제3유전체층 및/또는 제5유전체층의 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고; 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고; 미러는 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 50-90%이고, 가시투과율이 약 20-40%이다

도 1은 본 발명의 예의 실시형태에 따른 유전체 미러의 단면도이고;
도 2는 도 1 실시형태의 일례에 따른 유전체 미러의 광학 특성을 도시하는 모델링된 파장 (nm) 대 가시투과율 (Ts), 필름측 반사율 (BRs), 유리측 반사율 (Ra)그래프이고;
도 3은 도 1 실시형태의 일례에 따른 유전체 미러의 반사된 색상의 각도 분포를 도시하는, 모델링된 각(°) 대 유리측 반사 a* 및 b* 색상값 그래프이다.
도 4는 본 발명의 예의 실시형태에 따른 유전체 미러의 단면도이다.
도 5a 및 5b는 본 발명의 예의 실시형태에 따른 유전체 미러의 단면도이다.

구체적으로 도면을 참조하고, 도면에서 참조 부호는 다수 뷰에서 유사한 부분/물질을 가리킨다.

도 1은 본 발명의 특정한 예의 실시형태에 따른 유전체 미러(100)의 단면도이다. 미러는 유리 기판(1) 상에 있는 유전체 코팅(150)을 포함한다. 유리 기판(1)은 소다라임 -실리카 기반 유리 또는 임의의 그 외의 적합한 형태의 유리일 수 있고, 본 발명의 예의 실시형태에서 두께는 약 1-10 mm이고, 더 바람직하게 약 2-6 mm일 수 있다. 또한, 기판(1)은 석영, 실리콘, 등일 수 있다. 미러 코팅(150)은, 니오븀 산화물(예를 들면, Nb₂O₅, NbO₂ 및/또는 NbO)의 또는 이를 포함하는 고굴절률 투명 유전체 층(2, 4 및 6) 및 실리콘 산화물(예를 들면, 알루미늄 및/또는 질소로 도프되거나 도프되지 않을 수 있는 SiO₂)의 또는 이를 포함하는 저굴절률 투명 유전체 층(3 및 5)을 포함한다. 특정한 예의 실시형태에서, 실리콘 산화물 층(3 및/또는 5)의 하나 또는 둘 다는 약 1-8% 알루미늄 및/또는 약 1-10% 질소와 같은 그 외의 물질로 도프될 수 있다. 특정한 예의 경우에 층(2, 4 및 6) 중 하나 이상은 그 외의 물질로 도프될 수 있다. 도 1 실시형태에서, 층(6) 은 코팅(150)의 최외층이고, 공기에 노출될 수 있다. 층(2-7)의 각각은, 독립적인 이들 층의 각각이 실질적으로 가시광에 대해 투명(예를 들면, 가시광에 대해 적어도 약 50% 투명하고, 더 바람직하게 적어도 약 60% 또는 70% 투명)하기 때문에, "투명"한 것으로 고려된다.

니오븀 산화물의 또는 이를 포함하는 고굴절률 투명 유전체 층(2, 4 및 6)은, 굴절률(n)이 (550 nm에서)약 2.15 내지 2.5이고, 더 바람직하게는 약 2.2 내지 2.4이고, 가장 바람직하게는 약 2.25 내지 2.35이다. 특정한 또 다른 실시형태에서, 고굴절률층 (2, 4 및/또는 6) 중 하나 이상에서 니오븀 산화물이, 티타늄 산화물 (예를 들면, TiO₂), 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물 (예를 들면, HfO₂), 세륨 산화물 (예를 들면, CeO₂), 아연 황화물, 또는 비스무트 산화물 (예를 들면, Bi₂O₃)로 대체될 수 있다. 따라서, 하나의 이러한 예에서, 층(6)은, 티타늄 산화물이거나 이를 포함할 수 있고, 층(2 및 4)은 니오븀 산화물이거나 이를 포함하고, 층(3 및 5)은 실리콘 산화물이거나 이를 포함한다. 실리콘 산화물의 또는 이를 포함하는 저굴절률 투명 유전체 층(3 및 5)은, 굴절률(n)이 약 1.4 내지 1.7이고, 더 바람직하게는 약 1.4 내지 1.6이고, 가장 바람직하게는 약 1.45 내지 1.55 이다(본원의 모든 굴절률 n 값은 550 nm에서 측정된다).

본 발명의 예의 실시형태에서 투명 유전체 층(2-6)은, 바람직하게 스퍼터링에 의해서 증착된다. 예를 들면, 니오븀 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(2, 4 및 6)은, Nb의 또는 이를 포함하는 적어도 하나의 스퍼터링 대상을 통해, 아르곤 및 반응성 산소 기체의 혼합물을 포함하는 분위기에서 스퍼터링을 통해, 스퍼터 증착될 수 있다. 예를 들면, 실리콘 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(3 및 5)은, Si 또는 SiAl의 또는 이를 포함하는 적어도 하나의 스퍼터링 대상을 통해, 아르곤 및 반응성 산소 기체의 혼합물을 포함하는 분위기에서 스퍼터링을 통해, 스퍼터 증착될 수 있다. 회전하는 C-Mag 스퍼터링 대상 또는 그 외의 형태의 대상이 사용될 수 있다. 스퍼터링 조작에서, 충분한 반응성 산소 기체를 사용해서 본원에 검토된 굴절률 값을 달성할 수 있다. 또한, 세라믹 대상을 사용하여 하나 이상의 이러한 층을 스퍼터 증착될 수 있다. 층(2-6)은 바람직하게 스퍼터링을 통해 증착되지만, 본 발명의 또 다른 실시형태에서 그 외의 기술을 통해 증착될 수 있다. 도 1 실시형태에서 미러 코팅(150)은 5개의 층으로 구성되지만, 또 다른 실시형태에서 추가의 층이 제공될 수 있다.

도 1 실시형태 및 그 외의 실시형태에서 유전체 미러(100)는 금속성 반사층을 포함하지 않지만(예를 들면, Ag 층 및 Al 층을 포함하지 않지만), 필름측 및/또는 유리측 가시반사율이 약 50-90% (더 바람직하게 약 60-80% 가장 바람직하게 약 65-75%)이고, 가시투과율이 약 10-50% (더 바람직하게 약 10-40%, 더욱 더 바람직하게 약 20-40%, 가장 바람직하게 약 25-35%)을 실현할 수 있다. 금속성 반사층을 포함하지 않더라도, 본원에 검토된 층 두께 값과 함께 코팅(150)에서 인접한 층들 사이에 큰 굴절률 차에 의해서 높은 반사율 값이 달성된다. 특정한 예의 실시형태에서, 유리측 반사율 (미러의 유리(1)측으로부터 측정된 반사율) 및 필름측 반사율 (미러의 필름(150) 측으로부터 측정된 반사율)은 실질적으로 대칭일 수 있다(예를 들면, 미러의 유리측 반사율 및 필름측 반사율은 약 10% 이하 정도 다를 수 있다). 본원의 굴절률 및 두께 값은 투과된 및 반사된 색상 값(예를 들면, a* 및/또는 b* 색상 값)이 실질적으로 중성이 되도록 조절될 수 있다. 유전체 미러(100)는 특정한 예의 실시형태에서 제1 또는 제2 표면 미러일 수 있다. 유전체 미러(100)는 예를 들면 빔스플리터로서 사용될 수 있다. 미러(100)은 특정한 예의 실시형태에서 열처리(예를 들면, 강화 및/또는 열 굽힘)되거나 되지 않을 수 있다. 특정한 예의 경우에, 이러한 유전체 미러(100)는 소비자, 상업적 및/또는 전자 간판 적용, 예를 들면, 사진 프레임, 욕실 미러, TV, 및/또는 전자장치에 사용될 수 있다. 이러한 미러는 소비자, 보안, 상업 및/또는 전자 간판 적용을 위한 숨은 TV 또는 전자 미러에 사용될 수 있다. 특정한 전자 장치에서, 디스플레이가 켜져 있는 경우, 유리(1)를 통해 스크린 화상을 볼 수 있고, 디스플레이가 꺼져 있는 경우, 미러(100)는, 본원에 검토된 미러의 반사율 및 가시투과율 값을 제공하는 것이면, 미러의 외관에 제공된다.

도 4는 본 발명의 또 다른 예의 실시형태에 따른 유전체 미러의 단면도이다. 도 4 실시형태는, 투명 유전체 배리어층(7)이 유리 기판(1)과 고굴절률층(2) 사이에 제공되는 것을 제외하고 도 1 실시형태와 동일하다. 배리어층(7)은 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서 실리콘 질화물(예를 들면, Si₃N₄)이거나 이를 포함한다. 특정한 예의 실시형태에서, 실리콘 질화물 기반 배리어층(7)은 약 1-8% 알루미늄 및/또는 약 1-10% 산소과 같은 그 외의 물질로 도프될 수 있다. 도 4 실시형태는 특히 열처리된(예를 들면, 강화된) 실시형태에서 유용한 것으로, 배리어층(7)은 고온 열처리 중에 원소(예를 들면, Na)가 유리기판으로부터 코팅으로 이동하는 것을 방지하거나 줄이는 것을 돕는다. 이러한 열처리(예를 들면, 강화)는, 예를 들면, 적어도 약 580 ℃, 더 바람직하게 적어도 약 600 ℃의 온도에서 오븐 등에서 코팅 제품을 가열하는 단계를 포함할 수 있다. 본 발명의 예의 실시형태에서 도 4 실시형태의 미러는 열처리(예를 들면, 강화)되거나 되지 않을 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 니오븀 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(2)은 두께가 약 70-140 nm이고, 더 바람직하게 약 80-130 nm, 더욱 더 바람직하게 약 90-120 nm이고, 예의 두께는 약 105 nm이다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 니오븀 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(4)은 두께가 약 20-90 nm이고, 더 바람직하게 약 30-80 nm, 더욱 더 바람직하게 약 40-65 nm일 수 있고, 예의 두께는 약 52 nm이다. 마찬가지로, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 니오븀 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(6)은 두께가 약 20-90 nm, 더 바람직하게 약 30-80 nm, 더욱 더 바람직하게 약 40-70 nm 일 수 있고, 예의 두께가 약 54 nm이다. 본원의 소망하는 반사율 및 투과율 값을 실현하기 위해서, 니오븀 산화물 기반 층(2) 은 바람직하게 니오븀 산화물 기반 층 (4 및 6)의 각각보다 실질적으로 두껍다. 예를 들면, 특정한 예의 실시형태에서, 니오븀 산화물 기반 층(2)은 두께가 니오븀 산화물 기반(층 4 및/또는 6)의 하나 또는 둘 다보다 적어도 약 10 nm 두껍다 (더 바람직하게 적어도 약 25 nm 두껍고, 가장 바람직하게 적어도 약 40 nm 두껍다).

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 실리콘 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(3)은, 두께가 약 30-140 nm, 더 바람직하게 약 40-120 nm, 더욱 더 바람직하게 약 60-120 nm, 더욱 더 바람직하게 약 75-100 nm일 수 있고, 예의 두께가 약 88 nm이다. 마찬가지로, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 실리콘 산화물의 또는 이를 포함하는 투명 유전체 층(5)은 두께가 약 30-140 nm, 더 바람직하게 약 40-120 nm, 더욱 더 바람직하게 약 60-120 nm, 더욱 더 바람직하게 약 75-100 nm일 수 있고, 예의 두께가 약 88 nm이다. 따라서, 실리콘 산화물 기반 층(3 및 5) 두께는, 특정한 예의 실시형태에서 실질적으로 동일할 수 있다 (즉, 특정한 예의 실시형태에서 실리콘 산화물 기반 층(3 및 5)의 두께는 약 20 nm 이하, 더 바람직하게 약 10 nm 이하 정도 다르다). 특정한 예의 실시형태에서, 실리콘 산화물 기반 층(3 및/또는 5)의 하나 또는 둘 다는, 니오븀 산화물 기반 층(2)보다 적어도 약 10 nm (더 바람직하게 적어도 약 15 nm) 얇고, 니오븀 산화물 기반 층(4 및/또는 6)보다 적어도 약 10 nm (더 바람직하게 적어도 약 20 nm) 두껍다.

특정한 예의 실시형태에서, 투명 유전체 배리어층(7) (스퍼터-증착될 수 있다)은 두께가 약 5-150 nm, 더 바람직하게 약 10-40 nm, 더욱 더 바람직하게 약 10-30 nm일 수 있고, 예의 두께가 약 20 nm이다. 특정한 예의 실시형태에서, 배리어층(7)은 굴절률이 약 1.95 내지 2.10, 더 바람직하게 약 2.0 내지 2.05일 수 있다.

실시예 1

본 발명의 일례인 예의 유전체 미러(100)는 다음과 같이 구성되었다:

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 105 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 88 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 53 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 88 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 53 nm

이러한 예의 미러의 광학 특성은 도 2-3에 도시되어 있다. 투명한 유리 기판이 사용되었다. 도 2는 이러한 예의 유전체 미러의 광학 특성을 도시하는 모델링된 파장 (nm) 대 가시투과율 (Ts), 필름측 반사율 (BRs), 유리측 반사율 (Ra) 그래프이고; 도 3은 이러한 예의 유전체 미러의 반사 색상의 각 분포를 도시하는 모델링된 각도(°) 대 유리측 반사 a* 및 b* 색상 값 그래프이다. 다음의 가시 광학 값 (L*, 가시투과율 값 (TY 또는 TaY), 가시반사율 값 (필름측 RfY 또는 BRa, 유리측 RgY 또는 Ra), 및 가시 투과율/반사 색상 값 a* 및 b*) 이 측정되었다.:

따라서, 상기 표 1로부터, 유전체 미러는 가시투과율이 30%, 가시 유리측 반사율이 70%, 가시 필름측 반사율이 68%인 (유리측 및 필름측 반사율이 실질적으로 동일하다) 것을 알 수 있다. 미러는 중성 (-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다. 도 3에서 반사된 a* 및 b* 색상 값의 각도 분포는 약 0-30 °에서 큰 변동이 없는 것을 알 수 있다.

미러의 이점은, 도 2에 도시된, 385 nm에서 자외선(UV) 투과율이 적어도 약 70%, 더 바람직하게 적어도 약 75%, 가장 바람직하게 적어도 약 80% 또는 85%이지만(385 nm에서 도 2에서 Ts 곡선을 주목한다), 가시투과율은 도 2에 도시된 바와 같이 약 40% 미만, 더 바람직하게 약 35% 미만이다. 낮은 가시투과율 및 높은 반사율 값과 함께 커플링된 이러한 높은 UV 투과율은, 미러가 높은 UV가 요구되는 특정한 적용에 적합하다.

실시예 2

본 발명의 일례인 또 다른 예의 유전체 미러(100)는 다음과 같이 구성된다:

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 108 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 88 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 55 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 90 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 53 nm

본 실시예 2 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다.

따라서, 상기 표 2로부터, 본 실시예의 유전체 미러는 가시투과율이 29%, 가시 유리측 반사율이 70%, 가시 필름측 반사율이 71% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성((-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 3

본 발명의 일례인 또 다른 예의 유전체 미러(100)는 다음과 같이 구성되었다:

투명한 유리 기판(1)

실리콘 질화물 층(7): 두께 20 nm

니오븀 산화물 층(2): 두께 98 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 88 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 55 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 90 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 53 nm

본 실시예 3 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다.

따라서, 상기 표 3으로부터, 본 실시예의 유전체 미러 (예를 들면, 도 4 참조)는, 가시투과율이 29%이고, 가시 유리측 반사율이 69%이고, 가시 필름측 반사율이 71%(유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 4

본 발명의 일례인 또 다른 예의 유전체 미러(100)는, 다음과 같이 구성되었다:

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 124 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 45 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 72 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 68 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 71 nm

실시예4 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 4로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율이 39%, 가시 유리측 반사율이 58%, 가시 필름측 반사율이 60% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 실질적으로 중성(-3.0 내지 +3.0) 유리측 및 필름측 반사 색상 값a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 5

투명한 유리 기판(1)

실리콘 질화물 층(7): 두께 21.4 nm

니오븀 산화물 층(2): 두께 106.6 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 43.3 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 59.4 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 80.1 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 67.3 nm

실시예 5 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 5로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율 39%, 가시 유리측 반사율 58%, 및 가시 필름측 반사율 60% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 6

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 19.5 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 27 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 59.1 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 91.8 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 57.6 nm

실시예 6 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 6으로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율 48%, 가시 유리측 반사율 50%, 가시필름측 반사율 51% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 7

투명한 유리 기판(1)

실리콘 질화물 층(7): 두께 20 nm

니오븀 산화물 층(2): 두께 8.4 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 20 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 55.6 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 89.4 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 56.3 nm

실시예 7 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 7로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율이 48%, 가시 유리측 반사율이 50%, 및 가시 필름측 반사율이 51% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 8

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 9 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 20 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 85 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 103 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 30 nm

실시예 8 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 8로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율 58%, 가시 유리측 반사율 40%, 가시 필름측 반사율 41% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

실시예 9

투명한 유리 기판(1)

실리콘 질화물 층(7): 두께 20 nm

니오븀 산화물 층(2): 두께 8.4 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 28.8 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 60.3 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 49 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 80.1 nm

실시예 9 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 9로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율 59%, 가시 유리측 반사율 38%, 가시 필름측 반사율 40% (유리측 및 필름측 가시반사율이 실질적으로 동일하다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다.

상기 기재된 본 발명에 따른 실시예 1-9는 투명한 유리 기판(1)이 사용되고 유리측 가시반사율이 실질적으로 필름측 가시반사율과 동일한 미러를 얻었다. 그러나, 본 발명의 또 다른 실시형태에서, 대칭 유리 및 필름측 가시반사율이 항상 바람직한 것은 아니다. 특정한 예에서, 미러에 대해 비대칭 유리측 및 필름측 가시반사율을 갖는 것이 바람직할 수 있다. 본 발명의 예의 실시형태에서 이것에 대한 다수의 접근 방법이 제공되었다. 제1접근 방법(예를 들면, 실시예 10 참조)은, 도 1-4 실시형태의 어느 하나에서 투명한 유리 기판 대신에 회색 유리 기판(1)을 사용하여, 비대칭 유리측 대 필름측 가시반사율이 얻어지는 것을 알 수 있었다. 제2접근 방법은, 유리측과 필름측 사이의 가시반사율의 대칭을 조절하기 위해서 디자인된 위치에서 스택 내에 (예를 들면, NiCr, NiCrOx, 등의 또는 이를 포함하는)대칭 조절층을 제공하는 것이다. 2개의 접근방법에 의해서, 미러는 미러의 필름측 가시반사율과 적어도 30% 다른 유리측 가시반사율을 얻을 수 있고, 더 바람직하게 적어도 40% 정도 다르다. 실시예 10은, 유리 기판을 조절하여 비대칭을 제공하는 제1접근방법의 일례이다.

실시예 10

회색 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 105 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 110 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 40 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 110 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 45 nm

실시예 10 미러의 광학 특성은, 가시투과율 (Ts 또는 TY), 가시반사율 (필름측 RfY 및 유리측 RgY 가시반사율), 및 0도 시야각에서 색상 값 a*, b*에 대해 다음과 같다:

따라서, 상기 표 10으로부터, 본 실시예의 유전체 미러는, 가시투과율 14%, 가시 유리측 반사율 69%, 가시 필름측 반사율 18% (유리측 및 필름측 가시반사율은 비대칭이고 실질적으로 다르다)인 것을 알 수 있다. 미러는 중성(-2 내지 +2) 유리측 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖는 것을 알 수 있다. 이들은 Ill. C, 2 °에 따라 측정되었다. 놀랍게도, 실시예 10의 회색 유리 기판을 제공하는 것은 비대칭 가시반사율 값을 제공하고 특정한 예에서 유리할 수 있다. 따라서, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 미러에 대해 유리측 가시반사율은 필름측 가시반사율보다 적어도 약 30% 다르고, 더 바람직하게 적어도 약 40% 다르다.

실시예 11 및 12은, 유리측과 필름측 사이의 가시반사율의 대칭을 조절하기 위해서 디자인된 위치에서 미러 스택 내에 (예를 들면, NiCr, NiCrOx, 등의 또는 이를 포함하는)대칭 조절층이 제공되어 비대칭하게 되는 제2접근 방법의 일례이다. 실시예 11의 미러는 도 5a에 도시되고, 실시예 12의 미러는 일반적으로 도 5b에 도시되어 있다. 도 5a 및 5b 실시형태는 추가의 대칭조절층(8)이 스택 내에 제공된 것을 제외하고 상기 검토된 도 1-4 실시형태와 동일하다. 물론, 또한 필요에 따라 선택적으로 실리콘 질화물 함유 층(7)이 도 5a-5b에 제공될 수 있다.

실시예 11

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 130 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 41 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 67 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 93 nm

NiCr 대칭 조절층(8): 두께 20 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 35.5 nm

실시예 12

투명한 유리 기판(1)

니오븀 산화물 층(2): 두께 102 nm

실리콘 산화물 층(3): 두께 95 nm

니오븀 산화물 층(4): 두께 52 nm

NiCr 대칭 조절층(8): 두께 10 nm

실리콘 산화물 층(5): 두께 49 nm

니오븀 산화물 층(6): 두께 65 nm

NiCr 포함 대칭 조절층(8)을 제공하는 것은, 실시예 10으로 상기 입증된 것과 유사한, 필름측과 유리측 사이의 비대칭 가시반사율이 얻어진다. 그러나, 도 5a 및 5b에 도시된 위치 사이에서 (약간 또는 상당히 산화될 수 있는)NiCr 대칭 조절층(8)의 위치의 변경에 의해서 비대칭을 전환하는 것을 알 수 있었다. 즉, 높은 유리측 가시반사율 및 낮은 필름측 가시반사율은 층(8) 위치 중 하나를 사용해서 달성될 수 있고, 낮은 유리측 가시반사율 및 높은 필름측 가시반사율은 그 외의 층(8) 위치를 사용해서 달성될 수 있다. 실시예 11-12의 둘 다에서, 미러는 가시투과율이 약 18-20%이다. 그러나, 2개의 실시예 중 하나의 실시예에서 유리측 가시반사율은 66% 이고 필름측 가시반사율은 10%이었고, 2개의 실시예 중 다른 하나의 실시예에서 유리측 가시반사율은 30%이고 필름측 가시반사율은 73%이었다. 따라서, NiCr 기반 층(8)은 반사를 일으키는 층이 아니지만(대신, NiCr 기반 층(8)은 NiCr 기반 층(8)이 위치하는 측 중 하나로부터 반사를 줄인다), 유리측과 필름측 사이에서 가시반사율이 비대칭하게 되고, 특정한 예에서 바람직할 수 있다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, (산화되거나 산화되지 않을 수 있는 NiCr의 또는 이를 포함하는)대칭 조절층(8)은 두께가 3 내지 50 nm, 더 바람직하게 약 5-45 nm, 더욱 더 바람직하게 약 5 내지 30 nm, 가장 바람직하게 약 10 내지 20 nm이다.

가시투과율, a* 및 b* 값, 유리측 가시반사율, 및 필름측 가시반사율과 같은 광학 특성은 본원에서 측정되는데, 미러에 적용되거나 미러를 수용하는 임의의 선택적 페인트층 또는 물리적 백킹은 고려되지 않는 것을 유의한다.

층, 층 시스템, 코팅 등은 기판, 층, 층 시스템, 코팅 등 "상에" 있거나 이것"에 의해서 지지되는" 것으로 기재되어 있지만, 그 외의 층이 그 사이에 제공될 수 있다. 따라서, 예를 들면, 상기 기재된 코팅 또는 층은, 그 외의 층이 사이에 제공되는 경우에도, 기판 및/또는 그 외의 코팅 또는 층 "상에서" 및 "이것에 의해서" 지지되는 것으로 고려될 수 있다

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 유리 기판(1)을 포함하는 유전체 미러가 제공되고, 상기 코팅은 상기 유리 기판으로부터 순서대로, 두께가 약 70-140 nm이고, 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층(2); 두께가 약 30-140 nm이고, 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층(3); 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층(4); 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층(5); 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층(6);을 포함하고, 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, (a) 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층, 및/또는 (b) 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층 중 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고; 상기 코팅은, Al 또는 Ag에 기반한 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고; 상기 유전체 미러는, (i) 필름측 가시반사율 또는 유리측 가시반사율이 약 50-90%이고, (ii) 가시투과율이 약 10-40%이고, 상기 미러의 유리측 가시반사율은, 상기 미러의 필름측 가시반사율보다 적어도 약 30% 높거나 적어도 약 30% 낮다.

선행하는 단락의 미러에서, 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 및 상기 제5투명 유전체 고굴절률층의 둘 다보다 적어도 10 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 및/또는 상기 제5투명 유전체 고굴절률층의 하나 또는 둘 다 보다 적어도 25 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 및 상기 제5투명 유전체 고굴절률층의 둘 다 보다 적어도 25 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층과 상기 제5투명 유전체 고굴절률층 사이에 위치하는 대칭 조절층(8)을 더 포함할 수 있다. 상기 대칭 조절층은 NiCr 등을 포함하고 적어도 부분적으로 산화될 수 있다. 상기 대칭 조절층(8)은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층과 실리콘 산화물을 포함하는 상기 제4투명 유전체 저굴절률층 사이에 접촉해서 위치하거나, 상기 제5투명 유전체 고굴절률층과 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층 사이에 접촉해서 위치할 수 있다. 또한, 상기 4개의 단락 중 어느 하나의 미러의 유리 기판은 회색 유리 기판일 수 있다.

선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제1투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하거나 필수적으로 구성될 수 있다.

선행하는 6개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하거나 필수적으로 구성될 수 있다,

선행하는 7개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제5투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하거나 필수적으로 구성될 수 있다.

선행하는 8개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층은 두께가 약 30-80 nm일 수 있다.

선행하는 9개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층은 두께가 약 40-120 nm일 수 있다.

선행하는 10개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제5투명 유전체 고굴절률층은 두께가 약 30-80 nm일 수 있다.

선행하는 11개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제1투명 유전체 고굴절률층은 상기 유리 기판에 바로 접촉하거나, 또한 실리콘 질화물을 포함하는 층(7)이 상기 유리 기판(1)과 상기 제1투명 유전체 고굴절률층(2) 사이에 접촉해서 위치할 수 있다.

선행하는 12개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층은, 상기 제1투명 유전체 고굴절률층과 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 사이에 바로 접촉해서 위치할 수 있다.

선행하는 13개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 모든 층은 스퍼터-증착된 층일 수 있다.

선행하는 14개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은, 알루미늄으로 도프될 수 있다.

선행하는 15개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 제1, 제3, 및 제5투명 유전체 고굴절률층 각각은 굴절률이 약 2.15 내지 2.5일 수 있다.

선행하는 16개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층 각각은 굴절률이 약 1.4 내지 1.7일 수 있다.

선행하는 17개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은, 각각 (i) 상기 제1투명 유전체 고굴절률층보다 얇고, (ii) 상기 제3 및 제5투명 유전체 고굴절률층 중 적어도 하나보다 두꺼울 수 있다.

선행하는 18개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 미러는 강화될 수 있다.

선행하는 19개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 미러는 중성 유리측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖고, 상기 유리측 반사 a* 및 b* 값의 각각이 약 -2 내지 +2일 수 있다.

선행하는 20개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 미러는 중성 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖고, 상기 필름측 반사 a* 및 b* 값의 각각이 약 -2 내지 +2일 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 기판을 포함하는 유전체 미러가 제공되고, 상기 코팅은 상기 기판으로부터 순서대로, 굴절률(n)이 약 2.15 내지 2.5인 제1유전체층(2); 실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층(3); 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제3유전체층(4); 실리콘 산화물을 포함하는 제4유전체층(5); 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제5유전체층(6); 을 포함하고, 상기 제1유전체층은, 상기 제3유전체층 및/또는 상기 제5유전체층의 하나 또는 둘 다보다 적어도 20 nm 얇고; 상기 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않을 수 있다.

선행하는 단락의 미러는 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 40-90%이고, 가시투과율이 약 20-60%일 수 있다.

선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 니오븀 산화물을 포함할 수 있다.

선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 티타늄 산화물을 포함할 수 있다.

선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 제1유전체층은 상기 제3 및 제5유전체층의 둘 다보다 적어도 20 nm 얇을 수 있다.

선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4유전체층은 각각: (i) 상기 제1유전체층보다 두껍고, (ii) 상기 제3 및 제5유전체층의 각각보다 얇을 수 있다.

선행하는 6개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 미러의 유리측 및 필름측 가시반사율은 실질적으로 동일할 수 있다.

선행하는 7개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 미러는 중성 유리측 및/또는 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖고, 상기 유리측 및/또는 필름측 반사 a* 및 b* 값의 각각은 약 -2 내지 +2이다.

선행하는 8개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 미러는, 상기 기판과 상기 제1유전체층 사이에 위치한 실리콘 질화물을 포함하는 층을 더 포함할 수 있다.

선행하는 9개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 제1유전체층은 제3유전체층 및 제5유전체층의 둘 다보다 적어도 40 nm 얇을 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 유리 기판을 포함하는 유전체 미러가 제공되고, 상기 코팅은 상기 유리 기판으로부터 순서대로, 두께가 약 70-140 nm이고, 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층; 두께가 약 30-140 nm이고, 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층; 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층; 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층; 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층;을 포함하고, 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층, 및/또는 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층 중 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고; 상기 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고; 상기 유전체 미러는, 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 50-90%이고, 가시투과율이 약 10-40%이다.

선행하는 단락의 미러에서, 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층 및 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층의 둘 다보다 적어도 10 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층 및/또는 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층의 하나 또는 둘 다 보다 적어도 25 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층 및 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층의 둘 다 보다 적어도 25 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 제1, 제3 및 제5 층 중 하나, 둘, 또는 셋 모두는 필수적으로 니오븀 산화물로 구성될 수 있다.

선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 유전체 미러는 가시 필름측 반사율이 약 60-80%이고 가시 유리측 반사율이 약 60-80%일 수 있다.

선행하는 6개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 유전체 미러는 가시투과율이 약 25-35%일 수 있다.

선행하는 7개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층은 두께가 약 30-80 nm일 수 있다.

선행하는 8개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층은 두께가 약 40-120 nm일 수 있다.

선행하는 9개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층은 두께가 약 30-80 nm일 수 있다.

선행하는 10개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 코팅은 필수적으로 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 층으로 구성될 수 있다.

선행하는 11개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은 유리 기판에 바로 접촉할 수 있다.

선행하는 12개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층과 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층 사이에 바로 접촉해서 위치될 수 있다.

선행하는 13개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층과 니오븀 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층 사이에 바로 접촉해서 위치할 수 있다.

선행하는 14개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5 층은 스퍼터 증착된 층일 수 있다.

선행하는 15개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은, 알루미늄 및/또는 질소로 도프될 수 있다.

선행하는 16개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 니오븀 산화물을 포함하는 제1, 제3, 및 제5투명 유전체 고굴절률층은 굴절률이 약 2.15 내지 2.5이고, 더 바람직하게 약 2.2 내지 2.4일 수 있다.

선행하는 17개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은 굴절률이 약 1.4 내지 1.7이고, 더 바람직하게 약 1.4 내지 1.6일 수 있다.

선행하는 18개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은, 각각 (i) 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층보다 얇고, (ii) 상기 니오븀 산화물을 포함하는 제3 및 제5투명 유전체 고굴절률층 중 적어도 하나보다 두꺼울 수도 있다.

선행하는 19개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 미러는 385 nm에서 자외선(UV) 투과율이 적어도 약 75%, 더 바람직하게 적어도 약 80%일 수 있다.

선행하는 20개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 상기 미러는 열처리(예를 들면, 강화)될 수 있다.

선행하는 21개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 제5층은 코팅의 최외층일 수 있다.

선행하는 22개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 미러는 중성 유리측 및/또는 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖고, 유리측 및/또는 필름측 반사 a* 및 b* 값의 각각은 약 -2 내지 +2이다.

선행하는 23개의 단락 중 어느 하나의 미러는, 적어도 제3유전체층과 제5유전체층 사이에 위치한 NiCr을 포함하는 층을 더 포함할 수 있다. NiCr을 포함하는 층은 적어도 일부 산소를 포함하거나 포함하지 않을 수 있고, 제3 및 제4유전층 사이에 접촉해서 위치하거나, 제4 및 제5유전체층 사이에 접촉해서 위치할 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅을 지지하는 기판을 포함하는 미러가 제공되고, 상기 코팅은 상기 기판으로부터 순서대로, 두께가 약 70-140 nm이고 굴절률(n)이 약 2.15 내지 2.5인 제1유전체층; 실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층; 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제3유전체층; 실리콘 산화물을 포함하는 제4유전체층; 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제5유전체층; 을 포함하고, 상기 제1유전체층은, 상기 제3유전체층 및/또는 상기 제5유전체층의 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고; 상기 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고, 미러는 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 50-90%이고, 가시투과율이 약 20-40%일 수 있다.

선행하는 단락의 미러에서, (i)상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 니오븀 산화물을 포함하거나 필수적으로 구성될 수 있고, 및/또는 (ii)제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 티타늄 산화물을 포함하거나 필수적으로 구성될 수 있다.

선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 제1유전체층은 제3 및 제5유전체층의 둘 다보다 적어도 10 nm 두꺼울 수 있다.

선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 코팅은 필수적으로 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 층으로 구성될 수 있다.

선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4유전체층은, (i) 제1유전체층보다 얇고, (ii)제3 및 제5유전체층의 둘 다보다 두꺼울 수 있다.

선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 미러에서, 미러는 385 nm에서 자외선(UV) 투과율이 적어도 약 75%, 더 바람직하게 적어도 약 80% 또는 85%일 수 있다.

본 발명은 현재 가장 실용적이고 바람직한 실시형태인 것으로 고려되는 것에 대해서 기재되지만, 본 발명은 개시된 실시형태로 제한되지 않는 것으로 이해되고, 수반하는 청구범위의 사상 및 범위 내에서 포함된 다양한 변경 및 등가 배열을 포함하는 것으로 의도된다.

Claims

코팅을 지지하는 유리 기판을 포함하는 유전체 미러로서, 상기 코팅은 상기 유리 기판으로부터 순서대로,
두께가 약 70-140 nm이고, 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층;
두께가 약 30-140 nm이고, 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층;
니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층;
실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층;
니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층;을 포함하고,
상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, (a) 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제3투명 유전체 고굴절률층, 및/또는 (b) 상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제5투명 유전체 고굴절률층 중 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고;
상기 코팅은, Al 또는 Ag에 기반한 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고;
상기 유전체 미러는, (i) 필름측 가시반사율 또는 유리측 가시반사율이 약 50-90%이고, (ii) 가시투과율이 약 10-40%이고,
상기 미러의 유리측 가시반사율은, 상기 미러의 필름측 가시반사율보다 적어도 약 30% 높거나 적어도 약 30% 낮은, 유전체 미러.
제1항에 있어서,
상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 및 상기 제5투명 유전체 고굴절률층의 둘 다보다 적어도 10 nm 두꺼운, 미러.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 및/또는 상기 제5투명 유전체 고굴절률층의 하나 또는 둘 다 보다 적어도 25 nm 두꺼운, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 니오븀 산화물 및/또는 티타늄 산화물을 포함하는 제1투명 유전체 고굴절률층은, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 및 상기 제5투명 유전체 고굴절률층의 둘 다 보다 적어도 25 nm 두꺼운, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제3투명 유전체 고굴절률층과 상기 제5투명 유전체 고굴절률층 사이에 위치하는 대칭 조절층을 더 포함하는, 미러.
제5항에 있어서,
상기 대칭 조절층은 NiCr을 포함하는, 미러.
제6항에 있어서,
상기 NiCr을 포함하는 대칭 조절층은 적어도 부분적으로 산화되는, 미러.
제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대칭 조절층은, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층과, 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 사이에 접촉해서 위치하는, 미러.
제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대칭 조절층은, 상기 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층과, 상기 제5투명 유전체 고굴절률층 사이에 접촉해서 위치하는, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 유리 기판은 회색 유리 기판인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제1투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하는, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제3투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하는, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제5투명 유전체 고굴절률층은 니오븀 산화물을 포함하는, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제3투명 유전체 고굴절률층은 두께가 약 30-80 nm인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제4투명 유전체 저굴절률층은 두께가 약 40-120 nm인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제5투명 유전체 고굴절률층은 두께가 약 30-80 nm인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제1투명 유전체 고굴절률층은 상기 유리 기판에 바로 접촉하는, 미러.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유리 기판과 상기 제1투명 유전체 고굴절률층 사이에 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2투명 유전체 저굴절률층은, 상기 제1투명 유전체 고굴절률층과 상기 제3투명 유전체 고굴절률층 사이에 바로 접촉해서 위치하는, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제1, 제2, 제3, 제4, 및 제5층은 스퍼터-증착된 층인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은, 알루미늄으로 도프된, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제1, 제3, 및 제5투명 유전체 고굴절률층 각각은 굴절률이 약 2.15 내지 2.5인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층 각각은 굴절률이 약 1.4 내지 1.7인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4투명 유전체 저굴절률층은, 각각 (i) 상기 제1투명 유전체 고굴절률층보다 얇고, (ii) 상기 제3 및 제5투명 유전체 고굴절률층 중 적어도 하나보다 두꺼운, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 미러는 강화된, 미러,
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 미러는 중성 유리측 반사 색상 값 a* 및 b*를 갖고, 상기 유리측 반사 a* 및 b* 값의 각각이 약 -2 내지 +2인, 미러.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 미러는 중성 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖고, 상기 필름측 반사 a* 및 b* 값의 각각이 약 -2 내지 +2인, 미러.
코팅을 지지하는 기판을 포함하는 유전체 미러로서, 상기 코팅은 상기 기판으로부터 순서대로,
두께가 약 70-140 nm이고 굴절률(n)이 약 2.15 내지 2.5인 제1유전체층;
실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층;
굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제3유전체층;
실리콘 산화물을 포함하는 제4유전체층;
굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제5유전체층; 을 포함하고,
상기 제1유전체층은, 상기 제3유전체층 및/또는 상기 제5유전체층의 하나 또는 둘 다보다 적어도 10 nm 두껍고;
상기 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않고;
상기 미러는 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 50-90%이고, 가시투과율이 약 10-50%인, 유전체 미러.
제28항에 있어서,
상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 니오븀 산화물을 포함하는, 미러.
제28항에 있어서,
상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 티타늄 산화물을 포함하는, 미러.
제28항에 있어서,
상기 제1유전체층은 상기 제3 및 제5유전체층의 둘 다보다 적어도 10 nm 두꺼운, 미러.
제28항에 있어서,
상기 코팅은 필수적으로 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5층으로 구성되는, 미러.
제28항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2 및 제4유전체층은 각각: (i) 상기 제1유전체층보다 얇고, (ii) 상기 제3 및 제5유전체층의 둘 다보다 두꺼운, 미러.
제28항에 있어서,
상기 미러는 중성 유리측 반사 및 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖고, 상기 유리측 및 필름측 반사 a* 및 b* 값의 각각은 약 -2 내지 +2인, 미러.
제28항에 있어서,
상기 미러는, 상기 기판과 상기 제1유전체층 사이에 위치한 실리콘 질화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 미러.
코팅을 지지하는 기판을 포함하는 유전체 미러로서, 상기 코팅은 상기 기판으로부터 순서대로:
굴절률(n)이 약 2.15 내지 2.5인 제1유전체층;
실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층;
굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제3유전체층;
실리콘 산화물을 포함하는 제4유전체층;
굴절률이 약 2.15 내지 2.5인 제5유전체층;을 포함하고
상기 제1유전체층은 상기 제3유전체층 및/또는 상기 제5유전체층의 하나 또는 둘 다보다 적어도 20 nm 얇고;
상기 코팅은 임의의 금속성 반사층을 포함하지 않은, 유전체 미러.
제36항에 있어서,
상기 미러는 가시 필름측 반사율 및/또는 가시 유리측 반사율이 약 40-90%이고 가시투과율이 약 20-60%인, 미러.
제36항에 있어서,
상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 니오븀 산화물을 포함하는, 미러.
제36항에 있어서,
상기 제1, 제3 및 제5유전체층의 적어도 하나는 티타늄 산화물을 포함하는, 미러.
제36항에 있어서,
상기 제1유전체층은 상기 제3 및 제5유전체층의 둘 다보다 적어도 20 nm 얇은, 미러.
제36항에 있어서,
상기 실리콘 산화물을 포함하는 제2유전체층은: (i) 상기 제1유전체층보다 두껍고, (ii) 상기 제3 및 제5유전체층의 각각보다 얇은, 미러.
제36항에 있어서,
상기 미러의 유리측 및 필름측 가시반사율은 실질적으로 동일한, 미러.
제36항에 있어서,
상기 미러는 중성 유리측 및/또는 필름측 반사 색상 값 a* 및 b*을 갖고, 상기 유리측 및/또는 필름측 반사 a* 및 b* 값은 각각 약 -2 내지 +2인, 미러.
제36항에 있어서,
상기 미러는, 상기 기판과 상기 제1유전체층 사이에 위치한 실리콘 질화물을 포함한 층을 더 포함하는, 미러.
제36항에 있어서,
상기 제1유전체층은, 상기 제3유전체층 및 상기 제5유전체층의 둘 다보다 적어도 40 nm 얇은, 미러.