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KR20160036305A - Distribution Plate Device For Fluidizing Bed Reactor And Fluidizing Bed Reactor With The Same - Google Patents

Distribution Plate Device For Fluidizing Bed Reactor And Fluidizing Bed Reactor With The Same Download PDF

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KR20160036305A
KR20160036305A KR1020140128357A KR20140128357A KR20160036305A KR 20160036305 A KR20160036305 A KR 20160036305A KR 1020140128357 A KR1020140128357 A KR 1020140128357A KR 20140128357 A KR20140128357 A KR 20140128357A KR 20160036305 A KR20160036305 A KR 20160036305A
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KR
South Korea
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gas
bed reactor
raw material
fluidized bed
dispersion plate
Prior art date
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Ceased
Application number
KR1020140128357A
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Korean (ko)
Inventor
박현우
김욱영
윤광우
오유진
조동현
윤재근
손승용
김옥신
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020140128357A priority Critical patent/KR20160036305A/en
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Abstract

Provided is a distribution plate device for a fluidized-bed reactor. The distribution place device comprises: a distribution plate having a multiplicity of pores through which raw material gas flows; and a multiplicity of vapor spraying units installed in correspondence to the pores, wherein each vapor spraying unit includes a cap supported by at least two columns and sprays the raw material gas through gaps between the columns. Also, provided is a fluidized-bed reactor equipped with a distribution plate device of the present invention. The distribution plate device for fluidized-bed can prevent powder of reaction byproducts from depositing on a distribution plate, and can improve operating efficiency of a fluidized-bed reactor.

Description

유동층 반응기용 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기{Distribution Plate Device For Fluidizing Bed Reactor And Fluidizing Bed Reactor With The Same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor and a fluidized bed reactor having the same,

본 발명은 유동층 반응기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유동층 반응기용 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 분산판의 평면에 수평 방향으로 기체가 분사될 수 있고 반응 공간내에서 낙하하는 분체에 의하여 기체 분사 구멍이 폐쇄되는 현상이 방지될 수 있는 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fluidized bed reactor, and more particularly, to a dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor and a fluidized bed reactor having the same. Particularly, the present invention relates to a dispersion plate device capable of preventing the phenomenon that gas can be injected in the horizontal direction on the plane of the dispersion plate and that the gas injection hole is closed by powder falling in the reaction space, and a fluidized bed reactor .

유동층 반응기는 다양한 다중상(multiphase) 화학 반응을 수행하도록 이용될 수 있는 반응기 장치이다. 유동층 반응기에서는 유체(기체 또는 액체)가 미립자 상태의 고체 물질과 반응하게 되는데, 통상적으로 상기 고체 물질은 작은 구(sphere)의 형상을 가지는 촉매이고, 유체는 고체 물질을 부유시키기에 충분한 속도로 유동함으로써 고체 물질이 유체와 유사하게 거동하게 된다. Fluidized bed reactors are reactor devices that can be used to perform a variety of multiphase chemical reactions. In a fluidized bed reactor, a fluid (gas or liquid) reacts with a solid material in a particulate state, typically the solid material is a catalyst having the shape of a small sphere and the fluid is flowed at a rate sufficient to float the solid material So that the solid material behaves like a fluid.

한편, 탄소나노구조물(carbon nanostructures, CNS)은 나노튜브, 나노파이버, 풀러렌, 나노콘, 나노호른, 나노로드 등 다양한 형상을 갖는 나노크기의 탄소구조물을 지칭하며, 여러 가지 우수한 성질을 보유하기 때문에 다양한 기술분야에서 활용도가 높다. 대표적인 탄소나노구조물인 탄소나노튜브(Carbon nanotubes; CNT)는 서로 이웃하는 3 개의 탄소 원자가 육각형의 벌집 구조로 결합되어 탄소 평면을 형성하고, 상기 탄소 평면이 원통형으로 말려서 튜브의 형상을 가지는 소재이다. 탄소나노튜브는 구조에 따라서, 즉, 튜브의 지름에 따라서 도체가 되거나 또는 반도체가 되는 특성이 있으며, 다양한 기술 분야에서 광범위하게 응용될 수 있어서 신소재로 각광을 받는다. 예를 들어, 탄소나노튜브는 이차 전지, 연료 전지 또는 슈퍼 커패서티(super capacity)와 같은 전기 화학적 저장 장치의 전극, 전자파 차폐, 전계 방출 디스플레이, 또는 기체 센서 등에 적용될 수 있다.On the other hand, carbon nanostructures (CNS) refer to nano-sized carbon structures having various shapes such as nanotubes, nanofibers, fullerenes, nanocons, nanohorns, and nano-rods and have various excellent properties It is highly utilized in various technical fields. Carbon nanotubes (CNTs), which are typical carbon nanostructures, are formed by bonding three neighboring carbon atoms to each other in a hexagonal honeycomb structure to form a carbon plane, and the carbon plane is cylindrically shaped to have a tube shape. Carbon nanotubes have a characteristic of being a conductor or a semiconductor depending on the structure, that is, the diameter of the tube, and can be widely applied in various technical fields, and thus, they are popular as new materials. For example, the carbon nanotubes can be applied to an electrode of an electrochemical storage device such as a secondary cell, a fuel cell or a supercapacity, an electromagnetic wave shielding, a field emission display, or a gas sensor.

탄소나노구조물은 예를 들어 아크 방전법, 레이저 증발법, 화학 기상 성장법을 통하여 제조될 수 있다. 상기 열거된 제조 방법 중 화학 기상 성장법에서는 통상적으로 고온의 유동층 반응기 안에서 금속 촉매 입자와 탄화수소 계열의 원료 기체를 분산 및 반응됨으로써 탄소나노튜브가 생성된다. 즉, 금속 촉매는 원료 기체에 의해 유동층 반응기 안에서 부유(浮游)하면서 원료 기체와 반응하여 탄소나노튜브를 성장시킨다. The carbon nanostructure can be produced by, for example, an arc discharge method, a laser evaporation method, or a chemical vapor deposition method. Among the above-mentioned manufacturing methods, in the chemical vapor deposition method, carbon nanotubes are produced by dispersing and reacting metal catalyst particles and a hydrocarbon-based raw material gas in a fluidized bed reactor at a high temperature. That is, the metal catalyst reacts with the raw material gas to grow carbon nanotubes while floating in the fluidized bed reactor by the raw material gas.

도 1 에는 통상적인 유동층 반응기의 구성이 개략적으로 도시되어 있으며, 이러한 유동층 반응기는 예를 들어 탄소나노튜브의 제조에 이용될 수 있지만, 탄소나노튜브의 제조에만 한정된 것은 아니다. FIG. 1 schematically shows the construction of a conventional fluidized bed reactor, which can be used, for example, in the production of carbon nanotubes, but is not limited to the manufacture of carbon nanotubes.

도면을 참조하면, 유동층 반응기(1)는 반응기 본체(10)를 구비하며, 반응기 본체(10)의 하부는 테이퍼 영역(10a)으로 형성되어 있다. 반응기 본체(10)를 고온으로 가열하기 위해, 가열기(19)가 반응기 본체(10)의 외부에 구비되는 것이 바람직스럽다. Referring to the drawings, a fluidized bed reactor 1 has a reactor body 10, and a lower portion of the reactor body 10 is formed as a tapered region 10a. In order to heat the reactor body 10 to a high temperature, it is preferable that a heater 19 is provided outside the reactor body 10.

유동층 반응기(1)의 저부에 원료 기체 공급부(12)가 구비된다. 원료 기체는 예를 들어 탄소나노튜브를 제조하기 위한 탄화 수소 계열의 기체일 수 있다. 원료 기체는 원료 기체 공급부(12)에 연결된 원료 기체 공급관(21)을 통해 반응기 본체(10)의 내부로 공급된다. 원료 기체는 반응기 본체(10)의 내부로 공급되기 전에 예열기(17)에서 예열될 수 있다. 반응기 본체(10)의 내부에 형성된 반응 공간의 하측에 분산판(13)이 배치됨으로써, 분산판(13)을 통하여 반응기 본체(10)내의 반응 공간으로 원료 기체가 분산된다. A raw material gas supply unit 12 is provided at the bottom of the fluidized bed reactor 1. The feed gas may be, for example, a hydrocarbon-based gas for producing carbon nanotubes. The raw material gas is supplied to the inside of the reactor main body 10 through a raw material gas supply pipe 21 connected to the raw material gas supply unit 12. The feed gas may be preheated in the preheater 17 before being fed into the reactor body 10. The raw material gas is dispersed into the reaction space in the reactor main body 10 through the dispersing plate 13 by disposing the dispersing plate 13 below the reaction space formed inside the reactor main body 10.

반응기 본체(10)의 상부에는 신장부(11)가 구비된다. 신장부(expander, 11)에는 예를 들어 반응기 본체(10)로부터의 촉매와 반응 생성물(예를 들어, 카본 나노 튜브)이 외부로 배출되는 것을 막기 위한 분리기(미도시) 등이 구비될 수 있다. 신장부(11)에는 여과기(18)가 연결되며, 상기 여과기(18)에서 여과된 성분 기체는 이송관(23)을 통해 이송된다. 한편, 신장부(11)에는 재순환 배관(22)이 연결되어, 신장부(11)에서 배출된 혼합 기체의 일부를 재순환 배관(22)을 통해 원료 기체 공급관(21)으로 재순환시킨다.On the upper portion of the reactor body 10, a stretching portion 11 is provided. The expander 11 may be provided with a separator (not shown) for preventing the catalyst and the reaction product (for example, carbon nanotube) from being discharged to the outside, for example, from the reactor body 10 . A filter 18 is connected to the elongated portion 11 and the component gas filtered by the filter 18 is conveyed through the conveying pipe 23. On the other hand, a recirculation pipe 22 is connected to the expansion part 11 to recirculate part of the mixed gas discharged from the expansion part 11 to the raw material gas supply pipe 21 through the recirculation pipe 22.

반응기 본체(10)의 상부 일측에는 배관(24)을 통하여 분리기(14)가 연결되어 있다. 상기 분리기(14)는 반응기 본체(10)로부터 배출된 혼합 기체로부터 생성물을 분리하기 위한 것으로서, 예를 들어 탄소나노튜브와 혼합 기체를 분리하기 위한 것이다. 분리기(14)의 일측에는 탄소나노튜브와 같은 생성물을 회수하기 위한 회수기(15)가 연결되며, 분리기(14)는 배관(15)을 통해 반응기 본체(10)의 하부 일측에 연결된다. 한편, 촉매 공급기(16)는 배관(26)에 연결됨으로써 촉매가 배관(26)을 통해 반응기 본체(10)의 내부로 공급될 수 있다. 도면에 도시되지 않았으나, 배관(26)에는 송풍기(blower)가 구비됨으로써, 분리기(14)에서 분리된 혼합 기체와 촉매 공급기(16)에서 공급되는 촉매를 반응기 본체(10) 안으로 압송시킬 수 있다. A separator 14 is connected to one side of the upper portion of the reactor main body 10 through a pipe 24. The separator 14 is for separating the product from the mixed gas discharged from the reactor body 10, for example, for separating the mixed gas from the carbon nanotube. A separator 14 is connected to one side of the reactor main body 10 through a pipe 15. The separator 14 is connected to a lower portion of the reactor body 10 through a pipe 15 to collect products such as carbon nanotubes. On the other hand, the catalyst supplier 16 is connected to the pipe 26 so that the catalyst can be supplied to the inside of the reactor main body 10 through the pipe 26. Although not shown in the drawing, the pipe 26 is provided with a blower so that the mixed gas separated from the separator 14 and the catalyst supplied from the catalyst feeder 16 can be fed into the reactor main body 10.

위에 설명된 바와 같은 유동층 반응기에 구비된 분산판(13)은 원료 기체를 유동층 반응기 본체(10)의 내부로 균일하게 분산시키고 촉매 입자 또는 반응에 의해 생성된 분체가 유동층 반응기의 저부로 낙하하는 것을 방지하기 위하여 구비된다. 통상적으로 기체-고체 유동층 반응기에서는 분산판 위에 촉매와 같은 고체 입자를 올려놓고 분산판(13)에 형성된 구멍을 통하여 원료 기체를 하부로부터 송풍하면 촉매가 유동층 반응기 본체(10)의 분산판(13) 상부 공간에서 유동하면서 반응이 발생된다. 그러나, 예를 들어 탄소나노튜브의 제조에 이용되는 유동층 반응기에서는 원료 기체가 분산판(13)을 통과하기 전에 탄소 입자로 분해되는 현상이 발생될 수 있으며, 그에 따라서 탄소 입자가 분산판의 구멍을 막아버리므로 유동층 반응기의 성능을 현저하게 저하시킨다. 또한 반응에 의해 생성된 분체 입자도 분산판에 낙하하여 분산판의 구멍을 막을 수 있다. The dispersion plate 13 provided in the fluidized bed reactor as described above uniformly disperses the raw material gas into the fluidized bed reactor body 10 and the powder produced by the catalyst particles or the reaction drops to the bottom of the fluidized bed reactor . In a gas-solid fluidized bed reactor, solid particles such as a catalyst are placed on a dispersion plate and a raw gas is blown from below through a hole formed in the dispersion plate 13, so that the catalyst is dispersed in the dispersion plate 13 of the fluidized bed reactor body 10, The reaction occurs while flowing in the upper space. However, in a fluidized bed reactor used, for example, in the production of carbon nanotubes, the raw material gas may be decomposed into carbon particles before passing through the dispersing plate 13, The performance of the fluidized bed reactor is remarkably lowered. In addition, the powder particles produced by the reaction can also fall on the dispersion plate to close the holes of the dispersion plate.

도 2 는 도 1 에 도시된 유동층 반응기의 반응기 본체내에 설치된 분산판을 확대시켜 도시한 개략적인 단면도이다. 2 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged dispersion plate installed in a reactor body of the fluidized bed reactor shown in FIG.

도면을 참조하면, 반응기 본체의 외벽(10a)의 내측에 분산판(13)이 설치되고, 분산판(13)은 다수의 구멍들이 형성된 다공성의 구조를 가진다. 분산판(13)의 하부에서는 원료 기체(G)가 분산판(13)에 형성된 구멍을 통하여 분산판(13)의 상부로 압송된다. 분산판(13)의 상부에서는 원료 기체와 촉매의 반응에 의해 분체(R) 및 포말(B)이 생성된다. 위에 설명된 바와 같이, 원료 기체가 분산판(13)의 구멍을 통과하기 전에 탄소 입자로 분해되는 현상이 발생될 수 있으며, 그에 따라서 탄소 입자가 분산판(13)의 구멍을 막을 수 있다. 또한 반응에 의하여 생성된 분체(R)가 낙하시에 분산판(13)의 구멍을 막을 수 있다. Referring to the drawings, a dispersion plate 13 is installed inside an outer wall 10a of a reactor body, and the dispersion plate 13 has a porous structure in which a plurality of holes are formed. In the lower part of the dispersion plate 13, the raw material body G is pressure-fed to the upper part of the dispersion plate 13 through a hole formed in the dispersion plate 13. At the upper part of the dispersion plate 13, the powder R and the foam B are produced by the reaction of the raw material gas and the catalyst. As described above, a phenomenon that the raw material gas is decomposed into carbon particles before passing through the holes of the dispersion plate 13 may occur, so that the carbon particles can block the holes of the dispersion plate 13. In addition, when the powder R generated by the reaction falls, the holes of the dispersion plate 13 can be closed.

상기와 같은 문제점을 개선하기 위하여 버블 캡(bubble cap) 또는 노즐을 이용하여 분산판을 구성하는 것이 제안되었다. 예를 들어, 특허 공개 10-2008-00944218 호에는 노즐을 분산판에 배치함으로써 냉각수를 노즐에 공급할 수 있도록 구성된 분산판이 개시되어 있다. 그러나 상기 문헌에 개시된 분산판은 구성이 복잡할 뿐만 아니라, 작용 효과가 제한적이라는 문제점이 있다. In order to solve the above problems, it has been proposed to construct a dispersion plate by using a bubble cap or a nozzle. For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-2008-00944218 discloses a dispersion plate configured to supply cooling water to a nozzle by disposing the nozzle on the dispersion plate. However, the dispersion plate disclosed in the above document is not only complicated in construction, but also has a problem that the effect is limited.

한편, 특허 출원 공개 10-2009-0027377 에는 필터 유닛을 구비한 탄소나노튜브 제조 장치가 개시되어 있고, 특허 출원 공개 10-2010-0108599 에는 탄소나노튜브를 외부로 유도하는 배출관이 구비된 탄소나노튜브 제조 장치가 개시되어 있으나, 상기 문헌들에는 분산판의 구조에 관해서 구체적으로 개시된 바가 없다. Patent Application Publication No. 10-2009-0027377 discloses a device for manufacturing a carbon nanotube having a filter unit. Patent Application Publication No. 10-2010-0108599 discloses a device for manufacturing a carbon nanotube having a filter unit, A manufacturing apparatus has been disclosed, but the above documents have not specifically disclosed the structure of the dispersion plate.

한편, 특허 출원 10-2009-0036693 에는 다수의 분산홀이 형성되고 뿔 형상을 가지는 분산판을 구비한 탄소나노튜브 제조 장치가 개시되어 있으나, 상기 분산판에서도 분산홀 자체가 막히는 현상을 방지할 수 없다. On the other hand, the patent application 10-2009-0036693 discloses a carbon nanotube production apparatus having a dispersion plate having a plurality of dispersion holes and a horn shape, but it is also possible to prevent the dispersion hole itself from being clogged none.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 개선된 유동층 반응기용 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide an improved dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor and a fluidized bed reactor having the same.

본 발명의 다른 목적은 반응 생성물의 분체가 분산판 위에 침적되는 것을 방지할 수 있는 유동층 반응기용 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor capable of preventing powder of a reaction product from being deposited on a dispersion plate and a fluidized bed reactor having the same.

본 발명의 다른 목적은 분산판의 구멍이 분체에 의해 막히는 현상을 방지함으로써 유동층 반응기의 가동 효율을 향상시킬 수 있는 유동층 반응기용 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor capable of improving the operation efficiency of a fluidized bed reactor by preventing a hole of the dispersion plate from being clogged by powder and a fluidized bed reactor having the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, In order to achieve the above object, according to the present invention,

원료 기체가 유동하는 다수의 구멍들이 형성된 분산판; 및, A dispersion plate on which a plurality of holes through which the raw material gas flows are formed; And

상기 다수의 구멍들에 대응하여 설치된 다수의 기체 분사부로서, 각각의 기체 분사부는 2 개 이상의 기둥에 의해 지지된 캡을 구비하고 기둥 사이의 간격부를 통하여 상기 원료 기체가 분사될 수 있는, 기체 분사부;를 포함하는, 유동층 반응기용 분산판 장치가 제공된다.And a plurality of gas injecting portions provided corresponding to the plurality of holes, wherein each gas injecting portion has a cap supported by two or more pillars, and a plurality of gas injecting portions, each of which is capable of injecting the raw material gas through an interval between the columns, A dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor, comprising:

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 기둥은 상기 기둥의 저면이 상기 다수의 구멍들 각각의 가장자리에 대응하도록 만곡된 판의 형태를 가지고, 상기 캡은 원추 또는 각추의 형태를 가진다. According to an aspect of the present invention, the column has the form of a plate curved such that the bottom surface of the column corresponds to the edge of each of the plurality of holes, and the cap has the shape of a cone or a pyramid.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 기둥은 상기 다수의 구멍들 각각의 가장자리를 따라서 등간격으로 배치된 3 개의 기둥을 포함함으로써, 상기 3 개의 기둥 사이에 3 개의 간격부가 형성된다.According to another aspect of the present invention, the column includes three columns arranged at regular intervals along the edge of each of the plurality of holes, so that three spacers are formed between the three columns.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 다수의 구멍들 각각을 통하여 유동하는 상기 원료 기체는 상기 분산판의 상부 표면에 대하여 수직 방향으로의 유동이 상기 캡에 의해 방지되고, 상기 간격부를 통해 분사되는 원료 기체는 상기 분산판의 상부 표면에 평행하게 유동한다.According to another aspect of the present invention, the raw material gas flowing through each of the plurality of holes is prevented from flowing in a direction perpendicular to the upper surface of the dispersion plate by the cap, The gas flows parallel to the upper surface of the dispersion plate.

또한 본 발명의 다른 목적에 따르면, According to another aspect of the present invention,

반응기 본체;A reactor body;

상기 반응기 본체의 내부에 설치되며, 다수의 구멍들이 형성된 분산판; 및, A dispersion plate installed inside the reactor body and having a plurality of holes; And

상기 다수의 구멍들에 대응하여 설치된 다수의 기체 분사부로서, 각각의 기체 분사부는 2 개 이상의 기둥에 의해 지지된 캡을 구비하고 기둥 사이의 간격부를 통하여 상기 원료 기체가 분사될 수 있는, 기체 분사부;를 포함하는, 유동층 반응기가 제공된다. And a plurality of gas injecting portions provided corresponding to the plurality of holes, wherein each gas injecting portion has a cap supported by two or more pillars, and a plurality of gas injecting portions, each of which is capable of injecting the raw material gas through an interval between the columns, A fluidized bed reactor is provided.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 기둥은 상기 기둥의 저면이 상기 다수의 구멍들 각각의 가장자리에 대응하도록 만곡된 판의 형태를 가지고, 상기 캡은 원추의 형태를 가진다. According to another aspect of the present invention, the column has a shape of a plate curved such that a bottom surface of the column corresponds to an edge of each of the plurality of holes, and the cap has a conical shape.

또한 본 발명의 또 다른 목적에 따르면,According to another aspect of the present invention,

상기 유동층 반응기에 촉매를 공급하는 단계;Supplying a catalyst to the fluidized bed reactor;

상기 반응기에 탄소원, 환원성 기체 및 불활성기체를 포함하는 원료기체를 반응기 본체 내부의 분산판 하부로 공급하는 단계;Supplying a raw material gas containing a carbon source, a reducing gas and an inert gas into the reactor below the dispersion plate in the reactor main body;

상기 촉매와 반응기체가 반응기 본체 내부의 반응 공간에서 반응하여 탄소 나노구조물을 생성하는 단계; 및Reacting the catalyst and the reaction gas in a reaction space inside the reactor body to produce a carbon nanostructure; And

생성된 탄소나노구조물을 회수하는 단계를 포함하며,And recovering the carbon nanostructure produced,

상기 원료기체가 상기 분산판의 기체분사부를 통해 반응기 본체 내부의 반응 공간으로 분사되는 것을 특징으로 하는 탄소나노구조물 제조 방법이 제공된다. And the raw material gas is injected into the reaction space inside the reactor body through the gas injection part of the dispersion plate.

본 발명에 따른 유동층 반응기용 분산판 장치 및 그것을 구비한 유동층 반응기에서는 분산판의 구멍을 통하여 분산판의 상부로 유입되는 원료 기체를 분산판의 평면에 대하여 평행하게 수평 방향으로 분사시킴으로써 반응 생성물인 분체를 분산시킬 수 있으므로, 분체가 분산판의 상부에 침적되는 현상을 방지할 수 있고 분산판의 구멍이 분체로 인하여 막히는 현상을 방지할 수 있다. 본 발명에 따른 유동층 반응기는 분체에 의하여 분산판이 가동 불능에 빠지는 현상이 방지되거나 또는 지연될 수 있으므로 유동층 반응기의 가동 효율이 향상될 수 있다. In the fluidized bed reactor for a fluidized bed reactor according to the present invention and the fluidized bed reactor equipped with the same, the raw material gas flowing into the upper part of the dispersion plate through the holes of the dispersion plate is sprayed in a horizontal direction parallel to the plane of the dispersion plate, It is possible to prevent the phenomenon that the powder is immersed in the upper part of the dispersion plate and the phenomenon that the hole of the dispersion plate is clogged due to the powder can be prevented. The fluidized bed reactor according to the present invention can prevent or delay the failure of the dispersion plate due to the powder, and thus the operation efficiency of the fluidized bed reactor can be improved.

도 1 은 통상적인 유동층 반응기의 개략적인 구성도이다.
도 2 는 도 1 에 도시된 유동층 반응기의 반응기 본체 내에 설치된 분산판을 확대시켜 도시한 개략적인 단면도이다.
도 3 은 본 발명에 따른 유동층 반응기용 분산판 장치의 전체적인 사시도이다.
도 4 는 도 3 에 도시된 유동층 반응기용 분산판 장치의 일부를 확대하여 도시한 분해 사시도이다.
1 is a schematic block diagram of a conventional fluidized bed reactor.
2 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged dispersion plate installed in a reactor body of the fluidized bed reactor shown in FIG.
3 is an overall perspective view of a dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor according to the present invention.
FIG. 4 is an exploded perspective view showing an enlarged view of a part of the dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor shown in FIG. 3;

이하, 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 본 발명의 실시예들을 참조하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정 실시 형태로 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술사상 및 범위에 포함되는 변형물, 균등물 또는 대체물을 모두 포함하는 것으로 이해되어야 한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will be described in more detail with reference to the embodiments of the invention shown in the accompanying drawings. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, or alternatives falling within the spirit and scope of the present invention.

각 도면에서 유사한 참조부호는 유사한 구성요소에 대하여 사용하였다.In the drawings, like reference numerals are used for similar elements.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 “연결되어” 있다거나 “접속되어” 있다고 언급된 때에는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 접속되어 있거나 또는 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it is to be understood that other elements may be directly connected or connected, or intervening elements may be present.

단수의 표현은 달리 명시하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다.The singular expressions include plural expressions unless otherwise specified.

본 명세서에 기재된 "구비한다", “포함한다” 또는 “가진다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 수치, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합이 존재함을 지칭하는 것이고, 언급되지 않은 다른 특징, 수치, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합이 존재하거나 부가될 수 있는 가능성을 배제하지 않는다.It is to be understood that the terms "comprises", "includes", or "having", etc., as used herein are intended to mean that a feature, a numerical value, a step, an operation, an element, a component, Does not exclude the possibility that other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof may be present or added.

도 3 은 본 발명에 따른 유동층 반응기에 구비되는 유동층 반응기용 분산판 장치의 사시도이다.3 is a perspective view of a dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor provided in a fluidized bed reactor according to the present invention.

도면을 참조하면, 분산판 장치는 다수의 구멍(31a)들이 형성된 분산판(31) 및, 상기 다수의 구멍(31a, 도 4)들에 대응하여 설치된 다수의 기체 분사부(35)를 구비한다. 상기 기체 분사부(35)는 이후에 보다 상세하게 설명되는 바와 같이 기체를 분산판(31)의 상부 표면에 대하여 수평 방향으로 분사시킬 수 있으며, 분산판(31)의 상부 공간에서 낙하하는 분체에 의하여 분산판(31)의 구멍(31a)이 폐쇄되는 현상을 방지할 수 있도록 구성되어 있다. Referring to the drawings, a dispersion plate device includes a dispersion plate 31 formed with a plurality of holes 31a, and a plurality of gas injection portions 35 provided corresponding to the plurality of holes 31a (FIG. 4) . The gas injecting section 35 can inject the gas in the horizontal direction with respect to the upper surface of the dispersing plate 31 as will be described later in detail, Thereby preventing the hole 31a of the dispersion plate 31 from being closed.

도 4 는 도 3 에 도시된 다수의 기체 분사부들 중 하나만을 도시한 개략적인 분해 사시도이다. 4 is a schematic exploded perspective view showing only one of the plurality of gas injecting portions shown in Fig.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 기체 분사부(35)는 분산판(31)에 형성된 구멍(31a)의 주위에 배치된 적어도 2 개 이상의 기둥(41), 상기 2 개 이상의 기둥(41)에 의해 지지된 캡(42)을 구비하며, 상기 2 개 이상의 기둥(41) 사이에는 원료 기체를 분사할 있는 간격부(41a)가 형성된다. Referring to the drawings, a gas injector 35 according to the present invention includes at least two columns 41 disposed around a hole 31a formed in a dispersing plate 31, at least two columns 41, And a gap (41a) for spraying the raw material gas is formed between the two or more pillars (41).

도면에 도시된 실시예에서, 각각의 기둥(41)은 구멍(31a)의 가장자리를 따라서 배치된다. 구멍(31a)이 원형으로 형성될 경우에, 각각의 기둥(41)의 저면은 구멍(31a)의 가장자리에 대응하도록, 기둥(41)은 만곡된 얇은 판의 형태를 가지는 것이 바람직스럽다. 기둥(41)이 만곡된 판의 형태를 가지면서 구멍(31a)의 가장자리를 따라서 배치됨으로써, 분체가 구멍(31a)에 접근하는 것을 기둥(41) 자체가 방지할 수 있다. 도시된 실시예에서 기둥(41)은 등간격으로 3 개가 배치되어 있으며, 그에 따라서 3 개의 간격부(41a)가 기둥(41)들 사이에 형성된다. In the embodiment shown in the figures, each column 41 is disposed along the edge of the hole 31a. When the hole 31a is formed in a circular shape, it is preferable that the bottom surface of each column 41 corresponds to the edge of the hole 31a, and the column 41 has a curved thin plate shape. The pillars 41 can prevent the powder from approaching the hole 31a itself by arranging the pillars 41 along the edge of the hole 31a in the form of a curved plate. In the illustrated embodiment, three pillars 41 are arranged at regular intervals, and three spacing portions 41a are thus formed between the pillars 41. As shown in Fig.

캡(42)은 기둥(41)에 의해 지지된다. 캡(42)은 도면에 도시된 바와 같이 속이 빈 원추 형태를 가지는 것이 바람직스럽지만 제한되지 않으며, 각뿔 형상도 가능하다. 캡(42)의 원형 저면은 구멍(32a)을 완전히 덮을 수 있을 정도의 크기를 가지는 것이 바람직스럽다. 분산판(31)의 상부 공간으로부터 낙하하는 분체가 구멍(32a)에 진입하거나 구멍(31a)의 주변에 낙하하는 것을 방지하도록, 캡(42)의 저면이 구멍(31a) 보다 더 큰 것이 더욱 바람직스럽다.The cap 42 is supported by the column 41. The cap 42 preferably has a hollow cone shape as shown in the drawing, but is not limited, and a pyramid shape is also possible. It is preferable that the circular bottom surface of the cap 42 has a size enough to completely cover the hole 32a. It is more preferable that the bottom surface of the cap 42 is larger than the hole 31a so as to prevent the powder falling from the upper space of the dispersion plate 31 from entering the hole 32a or dropping around the hole 31a It is.

분산판(31)의 하부 공간으로부터 구멍(31a)을 통해 상부로 유동하는 원료 기체는 기둥(41)들 사이의 간격부(41a)를 통해 분산판(31)의 상부 공간으로 진입할 수 있다. 도면에 도시된 예에서 3 개의 기둥(41) 사이에 3 개의 간격부(41a)가 형성되어 있다. 기둥(41)의 상부에 배치된 캡(42)은 원료 기체가 구멍(31a)을 통해 수직으로 유동하는 것을 방지한다. 원료 기체는 캡(42)의 평탄한 저면에 의해 수직 방향으로의 유동이 차단되고, 기둥(41) 사이의 간격부(41a)를 통하여 분산판(31)의 평면에 평행하게 수평 방향으로 유동할 수 있다. 따라서 원료 기체의 유동은 분산판(31)의 표면에 쌓인 분체를 측방향으로 밀어낼 수 있으며, 분체가 구멍(31a)에 가까운 곳에 쌓이거나 구멍(31a)을 막는 현상을 방지할 수 있다. The raw material gas flowing upward from the lower space of the dispersion plate 31 through the hole 31a can enter the upper space of the dispersion plate 31 through the gap 41a between the columns 41. [ Three spacers 41a are formed between the three pillars 41 in the example shown in the figure. The cap 42 disposed on the top of the column 41 prevents the raw material gas from flowing vertically through the hole 31a. The flow of the raw material gas in the vertical direction is blocked by the flat bottom surface of the cap 42 and can flow in the horizontal direction parallel to the plane of the dispersion plate 31 through the interval portion 41a between the columns 41 have. Therefore, the flow of the raw material gas can push the powder accumulated on the surface of the dispersing plate 31 laterally, and prevent the powder from accumulating near the hole 31a or blocking the hole 31a.

예를 들어, 캡(41)이 도면에 도시된 바와 같이 원추형으로 형성되는 경우에, 원추의 저면으로부터 정점까지의 높이와 기둥(41)의 높이는 약 3~5:1인 것이 바람직스럽지만 이에 한정되는 것은 아니다.For example, when the cap 41 is formed in a conical shape as shown in the drawing, the height from the bottom of the cone to the apex and the height of the column 41 is preferably about 3 to 5: 1, It is not.

또한, 원추의 저면 직경은 분산판(31)에 형성된 구멍(31a)의 직경 보다 약간 큰 것이 바람직스럽다, 구체적으로 원추 저면 직경과 분산판에 형성된 구명의 직경은 약 1~1.5:1 인 것이 바람직하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. It is preferable that the bottom diameter of the cone is slightly larger than the diameter of the hole 31a formed in the dispersion plate 31. Specifically, it is preferable that the diameter of the cone bottom diameter and the life span formed on the dispersion plate is about 1 to 1.5: 1 However, the present invention is not limited thereto.

또한, 간격부(41a)의 원주를 따른 간격은, 간격 대 원주의 비율이 약 1: 3~6일 수 있으나, 이에 한정되지 않으며 구체적인 장치 설계에 따라 적절히 수정할 수 있다. The spacing along the circumference of the spacing portion 41a may be approximately 1: 3 to 6, but the present invention is not limited thereto and can be appropriately modified according to the specific device design.

도면에 도시된 예에서 기둥(41)은 만곡된 판의 형태를 가진 것으로 설명되었으나, 다른 형태의 기둥이 제공될 수 있다. 예를 들어, 핀 형태의 기둥, 만곡되지 않은 각기둥, 단면이 삼각형 또는 다각형 형태인 기둥이 제공될 수 있다. 즉, 캡(42)을 지지함과 동시에, 기둥과 기둥 사이에 간격부가 형성됨으로써 원료 기체를 분산판(31)의 상부 공간으로 배출될 수 있게 하는 그 어떤 형태의 기둥이라도 가능하다. In the example shown in the figure, the pillars 41 are described as being in the form of curved plates, but other types of pillars may be provided. For example, pillars in the form of a pin, a non-bent prism, a triangular or polygonal cross-section may be provided. That is, any type of column that supports the cap 42 and allows a gap to be formed between the column and the column to allow the raw material gas to be discharged to the upper space of the dispersion plate 31 is possible.

또한 캡(42)은 원추 형태 이외에 삼각추 또는 사각추의 형태도 가능하다. 즉, 상부의 정점과 하부의 저면을 가진 그 어떤 기하 형상이라도 가능하다. 캡(42)을 원추 형태 또는 다른 삼각추 또는 사각추의 형태로 구성함으로써, 분체가 캡(42)이 표면에 쌓이는 것을 방지할 수 있다. 즉, 캡(42)은 상부에 정점을 가지므로 분체는 캡(42)의 정점에 쌓일 수 없다. 또한 정점으로부터 저면으로 이어지는 표면은 경사면으로 형성되므로, 분체는 경사면에도 머무를 수 없다. 따라서 캡(42)은 분체가 기둥 사이의 간격부(41a) 측면으로 낙하하게 하고, 이때 간격부(41a)를 통해 분사되는 원료 기체는 분체를 수평 방향으로 분산시켜서 분체의 침적을 방지할 수 있다. In addition to the conical shape, the cap 42 may also be a triangular shape or a triangular shape. That is, any geometric shape having a vertex at the top and a bottom at the bottom is possible. By configuring the cap 42 in the form of a cone or other triangle or bezel, powder can prevent the cap 42 from accumulating on the surface. That is, since the cap 42 has a vertex at the top, the powder can not accumulate at the apex of the cap 42. Further, the surface extending from the apex to the bottom surface is formed as an inclined surface, so that the powder can not stay on the inclined surface. Therefore, the cap 42 allows the powder to fall to the side of the interval portion 41a between the pillars, and the raw material gas injected through the interval portion 41a at this time can disperse the powder in the horizontal direction to prevent deposition of the powder .

본 발명에 따른 유동층 반응기는 탄소 나노구조물을 제조하는데 이용될 수 있다. 예를 들어 본 발명에 따른 탄소 나노구조물의 제조방법은 상술한 바와 같은 반응기에 탄소원, 환원성 기체 및 불활성기체를 포함하는 원료기체를 반응기 본체 내부의 분산판 하부로 공급하는 단계; 상기 촉매와 반응기체가 반응기 본체 내부의 반응 공간에서 반응하여 탄소 나노구조물을 생성하는 단계; 및 생성된 탄소나노구조물을 회수하는 단계를 포함하며, 상기 원료기체가 상기 분산판의 기체분사부를 통해 반응기 본체 내부의 반응 공간으로 분사되는 것이다. The fluidized bed reactor according to the present invention can be used to produce carbon nanostructures. For example, a method for producing a carbon nanostructure according to the present invention includes: supplying a raw material gas containing a carbon source, a reducing gas, and an inert gas to a lower portion of a dispersion plate in a reactor body as described above; Reacting the catalyst and the reaction gas in a reaction space inside the reactor body to produce a carbon nanostructure; And recovering the carbon nanostructure, wherein the raw material gas is injected into the reaction space inside the reactor body through the gas injecting part of the dispersion plate.

이하, 본 발명에 따른 유동층 반응기의 작용을 간단히 설명하기로 한다. Hereinafter, the operation of the fluidized bed reactor according to the present invention will be described briefly.

본 발명에 따른 유동층 반응기의 전체적인 구조는 도 1 에 도시된 바와 같은 유동층 반응기와 유사하며, 다만 도 1 에 도시된 분산판(13)이 도 3 에 도시된 분산판(31)으로 대체된 것으로 이해될 수 있다. The overall structure of the fluidized bed reactor according to the present invention is similar to that of the fluidized bed reactor as shown in Figure 1 except that the diffuser plate 13 shown in Figure 1 is replaced by the diffuser plate 31 shown in Figure 3 .

유동층 반응기의 저부에 배치된 원료 기체 공급부(12)로부터 공급되는 원료 기체는 도 3 및 도 4 에 도시된 분산판(31)의 구멍(31a)을 통하여 분산판(31)의 상부에 해당하는 반응 공간으로 진입한다. 도 1 을 참조하여 설명된 바와 같이, 반응기 본체(10)의 반응 공간에는 촉매 공급기(16)로부터 촉매가 공급되며, 가열기에 의해서 반응 공간이 미리 결정된 온도로 가열된다. 따라서 반응 공간 내에서 원료 기체와 촉매가 상호 반응함으로써 분체 형태의 생성물이 생성될 수 있다. The raw material gas supplied from the raw material gas supply unit 12 disposed at the bottom of the fluidized bed reactor is supplied to the reaction vessel 31 through the hole 31a of the dispersion plate 31 shown in FIGS. Enters the space. As described with reference to Fig. 1, the reaction space of the reactor body 10 is fed with a catalyst from the catalyst feeder 16, and the reaction space is heated to a predetermined temperature by the heater. Therefore, in the reaction space, the raw material gas and the catalyst may react with each other to produce a powdery product.

본 발명에 따라서 원료 기체가 분산판(31)의 구멍(31a)을 통과하여 반응 공간으로 유입되는데, 원료 기체는 기둥(41) 사이의 간격부(41a)를 통해 반응 공간으로 배출될 수 있다. 이때 캡(42)의 저면부에 의해 수직 방향으로의 원료 기체의 유동이 방지되기 때문에, 원료 기체는 분산판(31)의 평면에 평행하게 유동할 수 있다. 따라서 구멍(31a)의 가장자리에 분체가 낙하하여 쌓이는 현상을 방지할 수 있다. 또한 기둥(41) 자체가 구멍(31a)의 가장자리를 따라서 배치되므로 분체가 구멍(31a)에 접근하는 것을 방지할 수 있다. According to the present invention, the raw material gas flows into the reaction space through the hole 31a of the dispersion plate 31. The raw material gas can be discharged to the reaction space through the interval portion 41a between the columns 41. [ At this time, since the bottom of the cap 42 prevents the flow of the raw material gas in the vertical direction, the raw material gas can flow in parallel to the plane of the dispersion plate 31. Therefore, it is possible to prevent the phenomenon that the powder falls and accumulates on the edge of the hole 31a. In addition, since the column 41 itself is disposed along the edge of the hole 31a, it is possible to prevent the powder from approaching the hole 31a.

한편, 캡(42)의 상부 정점에 낙하한 분체는 캡(42)의 경사진 표면을 따라서 미끌어져서 분산판(31)의 상부 표면으로 낙하한다. 이때 분체가 캡(42)의 경사진 표면으로부터 벗어나면 기둥 사이의 간격부(41a)로부터 분사된 원료 기체에 의한 압력을 받게 되므로, 분체는 원료 기체의 압력에 의해 수평 방향으로 분산될 수 있다. 또한 캡(42)의 저면 가장자리는 기둥(41)의 외측 표면을 벗어나 있으므로, 분체가 캡(42)의 경사진 표면으로부터 벗어나면 기둥(41)의 외측 표면 바깥 쪽으로 낙하하게 된다. 더욱이, 도 3 에 도시된 바와 같이 기체 분사부(35)는 분산판(31)의 상부 표면에 규칙적으로 다수가 인접하게 배치되므로, 분산판(35)의 상부 표면에 낙하한 분체는 인접한 기체 분사부(35)로부터 분사되는 원료 기체의 영향을 예외 없이 받게 된다. On the other hand, the powder falling on the upper vertex of the cap 42 slides along the inclined surface of the cap 42 and drops onto the upper surface of the dispersion plate 31. At this time, when the powder is displaced from the inclined surface of the cap 42, pressure is applied by the raw material gas injected from the interval portion 41a between the columns, so that the powder can be dispersed in the horizontal direction by the pressure of the raw material gas. Further, since the bottom edge of the cap 42 is out of the outer surface of the column 41, the powder falls off the outer surface of the column 41 when it deviates from the inclined surface of the cap 42. 3, since the gas ejecting portions 35 are arranged adjacent to the upper surface of the dispersing plate 31 in regular order, the powder falling on the upper surface of the dispersing plate 35 is separated from the adjacent gas distributing portion 35, The effect of the raw material gas injected from the yarn 35 is received without exception.

10. 반응기 본체 11. 신장부
12. 원료 기체 공급부 13. 분산판
31. 분산판 31a. 구멍
41. 기둥 42. 캡
10. Reactor body 11. Extension portion
12. Raw gas supply 13. Dispersion plate
31. Dispersion Plate 31a. hole
41. Column 42. Cap

Claims (7)

원료 기체가 유동하는 다수의 구멍들이 형성된 분산판; 및,
상기 다수의 구멍들에 대응하여 설치된 다수의 기체 분사부로서, 각각의 기체 분사부는 2 개 이상의 기둥에 의해 지지된 캡을 구비하고 기둥 사이의 간격부를 통하여 상기 원료 기체가 분사될 수 있는, 기체 분사부;를 포함하는, 유동층 반응기용 분산판 장치.
A dispersion plate on which a plurality of holes through which the raw material gas flows are formed; And
And a plurality of gas injecting portions provided corresponding to the plurality of holes, wherein each gas injecting portion has a cap supported by two or more columns, and the gas injecting portion, which is capable of injecting the raw material gas through an interval between the columns, Wherein the dispersion plate apparatus for a fluidized bed reactor comprises:
제 1 항에 있어서,
상기 기둥은 상기 기둥의 저면이 상기 다수의 구멍들 각각의 가장자리에 대응하도록 만곡된 판의 형태를 가지고,
상기 캡은 원추 또는 각추의 형태를 가지는 것인, 유동층 반응기용 분산판 장치.
The method according to claim 1,
The column having the shape of a plate curved such that the bottom surface of the column corresponds to the edge of each of the plurality of holes,
Wherein the cap has the shape of a cone or a pyramid.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기둥은 상기 다수의 구멍들 각각의 가장자리를 따라서 등간격으로 배치된 3 개의 기둥을 포함함으로써, 상기 3 개의 기둥 사이에 3 개의 간격부가 형성되는 것인, 유동층 반응기용 분산판 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the column includes three columns arranged at regular intervals along the edges of each of the plurality of holes so that three spaced portions are formed between the three columns.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 다수의 구멍들 각각을 통하여 유동하는 상기 원료 기체는 상기 분산판의 상부 표면에 대하여 수직 방향으로의 유동이 상기 캡에 의해 방지되고, 상기 간격부를 통해 분사되는 원료 기체는 상기 분산판의 상부 표면에 평행하게 유동하는 것인, 유동층 반응기용 분산판 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the raw material gas flowing through each of the plurality of holes is prevented from flowing in a direction perpendicular to the upper surface of the dispersing plate by the cap and the raw material gas injected through the spacing portion passes through the upper surface Wherein the fluidized bed reactor is a fluidized bed reactor.
반응기 본체;
상기 반응기 본체의 내부에 설치되며, 다수의 구멍들이 형성된 분산판; 및,
상기 다수의 구멍들에 대응하여 설치된 다수의 기체 분사부로서, 각각의 기체 분사부는 2 개 이상의 기둥에 의해 지지된 캡을 구비하고 기둥 사이의 간격부를 통하여 상기 원료 기체가 분사될 수 있는, 기체 분사부;를 포함하는, 유동층 반응기.
A reactor body;
A dispersion plate installed inside the reactor body and having a plurality of holes; And
And a plurality of gas injecting portions provided corresponding to the plurality of holes, wherein each gas injecting portion has a cap supported by two or more columns, and the gas injecting portion, which is capable of injecting the raw material gas through an interval between the columns, A fluidized bed reactor comprising: a fluidized bed reactor;
제 5 항에 있어서,
상기 기둥은 상기 기둥의 저면이 상기 다수의 구멍들 각각의 가장자리에 대응하도록 만곡된 판의 형태를 가지고,
상기 캡은 원추의 형태를 가지는 것인, 유동층 반응기.
6. The method of claim 5,
The column having the shape of a plate curved such that the bottom surface of the column corresponds to the edge of each of the plurality of holes,
Wherein the cap has the shape of a cone.
제 5 항 또는 제 6 항의 유동층 반응기에 촉매를 공급하는 단계;
상기 반응기에 탄소원, 환원성 기체 및 불활성기체를 포함하는 원료기체를 반응기 본체 내부의 분산판 하부로 공급하는 단계;
상기 촉매와 반응기체가 반응기 본체 내부의 반응 공간에서 반응하여 탄소 나노구조물을 생성하는 단계; 및
생성된 탄소나노구조물을 회수하는 단계를 포함하며,
상기 원료기체가 상기 분산판의 기체분사부를 통해 반응기 본체 내부의 반응 공간으로 분사되는 것을 특징으로 하는 탄소나노구조물 제조 방법.
Supplying a catalyst to the fluidized bed reactor of claim 5 or 6;
Supplying a raw material gas containing a carbon source, a reducing gas and an inert gas into the reactor below the dispersion plate in the reactor main body;
Reacting the catalyst and the reaction gas in a reaction space inside the reactor body to produce a carbon nanostructure; And
And recovering the carbon nanostructure produced,
Wherein the raw material gas is injected into the reaction space inside the reactor body through the gas injection part of the dispersion plate.
KR1020140128357A 2014-09-25 2014-09-25 Distribution Plate Device For Fluidizing Bed Reactor And Fluidizing Bed Reactor With The Same Ceased KR20160036305A (en)

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