KR20130126465A

KR20130126465A - Pellicle frame

Info

Publication number: KR20130126465A
Application number: KR1020130034428A
Authority: KR
Inventors: 카즈토시 세키하라
Original assignee: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date: 2012-05-11
Filing date: 2013-03-29
Publication date: 2013-11-20
Anticipated expiration: 2033-03-29
Also published as: JP2013238637A; HK1188486A1; TWI457699B; CN103389618A; TW201400978A; CN103389618B; JP5746662B2; KR102070074B1

Abstract

[과제] 마스크 점착제의 두께를 균일하게 형성할 수 있는 펠리클 프레임을 제공한다.
[해결 수단] 네 모서리가 원호를 이루는 직사각형의 펠리클 프레임으로서, 한 쪽의 프레임면 전체 둘레를 걸쳐 펠리클 프레임의 내주 부근에 마스크 점착제의 도포된 면인 일련의 고단차가 형성되고, 외주 부근이 저단차가 되며, 네 모서리 원호부(B)에 있어서의 고단차의 폭(Wc)이 펠리클 프레임 직선부(A)에 있어서의 고단차의 폭(Ws)보다 큰 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임[Problem] Provided is a pellicle frame capable of uniformly forming a thickness of a mask adhesive.
[Solution] A rectangular pellicle frame having four corners arcing, a series of high steps are formed on the inner circumference of the pellicle frame over the entire circumference of one frame, and a high step is formed on the inner circumference of the pellicle frame. The width Wc of the high step in the four corner arc part B is larger than the width Ws of the high step in the pellicle frame linear part A. A pellicle frame characterized by the above-mentioned.

Description

Pellicle frame {PELLICLE FRAME}

본 발명은 펠리클을 포토 마스크에 탑재할 때에 이용가능한 마스크 점착제의 두께를 균일하게 형성할 수 있는 펠리클 프레임에 관한 것이다.The present invention relates to a pellicle frame capable of uniformly forming a thickness of a mask adhesive usable when mounting a pellicle on a photomask.

LSI나 초LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하는 리소그래피의 작업이 행하여진다. 이때, 포토 마스크 또는 레티클에 먼지가 부착되어 있으면 먼지가 사입(寫入)되어 전사한 패턴이 변형되거나 에지가 울퉁불퉁하게 되는 것 외에 하지가 검게 오염되는 등의 현상이 발생하는 일이 있다. 이 작업은 주로 클린룸에서 행해지고 있지만 포토 마스크를 항상 청정하게 유지하는 것은 어렵다. 예를 들면, 리소그래피시에 펠리클을 포토 마스크 상에 탑재해서 포토 마스크로의 먼지의 부착을 방지하면서 초점을 포토 마스크의 패턴 상에 맞추어 노광함으로써 펠리클막 상에 부착된 먼지에 의해 영향을 받지 않고 전사할 수 있다.In the manufacture of semiconductors such as LSI and ultra-LSI, or the manufacture of liquid crystal displays, a lithography operation is performed in which light is irradiated onto a semiconductor wafer or a liquid crystal display plate to form a pattern. At this time, when dust adheres to the photomask or reticle, dust may be inserted to deform or transfer the transferred pattern, or the edges may become rugged, and the lower surface may be contaminated. This operation is mainly done in a clean room, but it is difficult to keep the photo mask clean at all times. For example, during lithography, a pellicle is mounted on a photomask to prevent adhesion of dust to the photomask while exposing the focus to the pattern of the photomask to expose the transfer without being affected by the dust deposited on the pellicle film. can do.

펠리클을 포토 마스크에 탑재하기 위해서는 펠리클 프레임의 1프레임면에 설치된 마스크 점착제를 통해서 포토 마스크에 첩부(貼付)한다. 이때, 펠리클의 내측과 외측의 통기원(이하, 에어 패스로 함)이 없는 것이 요구되기 때문에 마스크 점착제와 포토 마스크 사이는 전체 둘레에 걸쳐서 균일하게 밀착되어 있어야만 한다. 특허문헌 1에는 에어 패스의 형성을 방지하는 방법이 기재되어 있다.In order to mount a pellicle in a photomask, it sticks to a photomask through the mask adhesive provided in the one frame surface of a pellicle frame. At this time, since it is required that there is no ventilation source (hereinafter referred to as an air path) inside and outside of the pellicle, the mask adhesive and the photomask should be kept in uniform contact over the entire circumference. Patent Document 1 describes a method of preventing the formation of an air path.

마스크 점착제는 양면 테이프를 이용할 경우를 제외하고 공압식의 디스펜서를 탑재한 3축 직교 로봇 등을 이용해서 펠리클 프레임에 마스크 점착제를 도포함으로써 형성된다. 특허문헌 2에는 펠리클 프레임에 마스크 점착제를 도포하는 방법이 기재되어 있다.A mask adhesive is formed by apply | coating a mask adhesive to a pellicle frame using the triaxial orthogonal robot etc. which mounted a pneumatic dispenser except when using a double-sided tape. Patent Document 2 describes a method of applying a mask pressure sensitive adhesive to a pellicle frame.

일본 특허 공개 평10-239831 호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 10-239831 일본 특허 공개 제 2011-164402 호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2011-164402

본 발명은 마스크 점착제의 두께를 균일하게 형성할 수 있고, 에어 패스의 발생이 없는 펠리클 프레임, 및 그 펠리클 프레임을 이용한 펠리클을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of this invention is to provide the pellicle frame which can form the thickness of a mask adhesive uniformly, and the air path does not generate | occur | produce, and the pellicle frame using this pellicle frame.

상기의 목적을 달성하기 위해서 이루어진 특허청구의 범위의 청구항 1에 기재된 펠리클 프레임은 네 모서리가 원호를 이루는 직사각형의 펠리클 프레임으로서, 한 쪽의 프레임면 전체 둘레에 걸쳐 펠리클 프레임의 내주 부근에 마스크 점착제가 도포될 면인 일련의 고단차가 형성되고, 외주 부근이 저단차로 되며, 네 모서리 원호부에 있어서의 고단차의 폭이 펠리클 프레임 직선부에 있어서의 고단차의 폭보다 큰 것을 특징으로 한다.The pellicle frame according to claim 1 of the claims made in order to achieve the above object is a rectangular pellicle frame having four corners arced, and a mask adhesive is provided around the inner circumference of the pellicle frame over the entire circumference of one frame. A series of high steps, which are surfaces to be coated, are formed, and the outer periphery becomes a low step, and the width of the high steps in the four corner arc portions is larger than the width of the high steps in the pellicle frame straight portion.

청구항 2에 기재된 펠리클 프레임은 단차는 원호부와 직선부가 매끄럽게 연결되어서 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The pellicle frame according to claim 2 is characterized in that the step is formed by smoothly connecting an arc portion and a straight portion.

청구항 3에 기재된 펠리클은 청구항 1 또는 2에 기재의 펠리클 프레임의 다른쪽의 프레임면 측에 펠리클막이 첩부되어 있는 것을 특징으로 한다.The pellicle of Claim 3 is a pellicle film affixed on the other frame surface side of the pellicle frame of Claim 1 or 2, It is characterized by the above-mentioned.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

본 발명의 펠리클 프레임은 원호부에 있어서의 마스크 점착제의 두께와 직선부에 있어서의 마스크 점착제의 두께의 차의 요구 정밀도를 충족시킨다. 이 펠리클 프레임을 이용한 펠리클은 포토 마스크에 탑재했을 때에 에어 패스가 발생하지 않는다.The pellicle frame of the present invention satisfies the required accuracy of the difference between the thickness of the mask adhesive in the arc portion and the thickness of the mask adhesive in the straight portion. The pellicle using this pellicle frame does not generate an air pass when mounted on a photomask.

도 1은 본 발명에 의한 펠리클 프레임을 이용한 펠리클의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 2는 펠리클 프레임의 X-X로 바라본 단면도이다.
도 3은 펠리클 프레임의 원호부(B)를 확대한 평면도이다.
도 4는 펠리클 프레임의 원호부(B)의 다른 예를 나타내는 평면도이다.
도 5는 펠리클 프레임에 도포된 마스크 점착제의 부풀어오름 상태를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing an example of a pellicle using a pellicle frame according to the present invention.
2 is a sectional view taken along the line XX of the pellicle frame.
3 is an enlarged plan view of the arc portion B of the pellicle frame.
4 is a plan view illustrating another example of the arc portion B of the pellicle frame.
5 is a perspective view illustrating a swelling state of a mask adhesive applied to a pellicle frame.

본 발명에 의한 펠리클 프레임을 이용해서 제작된 펠리클의 일례를 도 1에 나타낸다. 펠리클(1)은 네 모서리가 원호 형상인 직사각형의 펠리클 프레임(2)의 하면에 펠리클막(5)이 팽팽히 체결하여 첩부되어 있고 상면에는 리소그래피 등에 이용되는 포토 마스크(도시 생략)에 첩부하기 위한 마스크 점착제(4)가 형성되어 있다. 펠리클 프레임(2)에는 단차(3)가 형성되어 있다.An example of the pellicle produced using the pellicle frame which concerns on this invention is shown in FIG. The pellicle 1 is a mask for affixing a pellicle film 5 on the lower surface of a rectangular pellicle frame 2 having an arc shape of four corners and being attached to the photomask (not shown) used for lithography or the like on the upper surface. The adhesive 4 is formed. A step 3 is formed in the pellicle frame 2.

도 2에 도 1의 X-X로 바라본 단면도를 나타낸다. 도 2(a)에 나타낸 바와 같이 펠리클 프레임(2)에는 그 내주(C)와 외주(D) 사이에 단차(3)가 형성되고, 그 단면 형상은 도 2(a)~(c)에 나타낸 바와 같이 내주 부근에 고단차부가, 외주 부근에 저단차부가 형성되어 있다. 고단차부에는 마스크 점착제(4)가 형성되어 있다. 단차(3)는 고단차부에 도포된 마스크 점착제(4)가 유동하는 범위를 제한하는 것으로서, 마스크 점착제(4)를 원하는 폭으로 형성하기 위한 것이다. 단차(3)의 단면 형상은 그 외에도 오목 형상 또는 V자 형상의 홈으로 할 수도 있다. 마스크 점착제(4)의 단면 형상은 도 2(a)에 나타내는 원호 형상의 외에 도 2(b)에 나타내는 모서리가 둥근 형상 또는 도 2(c)에 나타내는 사각형 형상으로 할 수 있지만 첩부 하중의 저감과 에어 패스 형성 방지의 관점에서 도 2(a)의 원호 형상이 바람직하다.2 is a cross-sectional view taken along the line X-X of FIG. 1. As shown in Fig. 2 (a), the step 3 is formed between the inner circumference C and the outer circumference D of the pellicle frame 2, and the cross-sectional shape thereof is shown in Figs. As described above, a high step portion is formed near the inner circumference and a low step portion is formed near the outer circumference. The mask adhesive 4 is formed in the high step part. The step 3 is to limit the range in which the mask adhesive 4 applied to the high step portion flows, and is for forming the mask adhesive 4 in a desired width. In addition, the cross-sectional shape of the step | step 3 can also be made into recessed or V-shaped groove. The cross-sectional shape of the mask adhesive 4 can be not only circular arc shape shown in FIG. 2 (a) but also rounded corner shape shown in FIG. 2 (b), or rectangular shape shown in FIG. The circular arc shape of FIG. 2 (a) is preferable from the viewpoint of preventing air path formation.

또한, 마스크 점착제(4)의 편측을 펠리클 프레임(2)의 내주(C)를 따라 형성함으로써 포토 마스크에 탑재했을 때 펠리클 내측에 펠리클 프레임 표면이 노출되지 않게 되어 먼지의 발생을 방지할 수 있다.Further, by forming one side of the mask adhesive 4 along the inner circumference C of the pellicle frame 2, the surface of the pellicle frame is not exposed to the inside of the pellicle when mounted on the photomask, thereby preventing the generation of dust.

도 3에 펠리클 프레임(2)의 원호를 이루는 네 모서리의 하나를 확대한 평면도를 나타낸다. 펠리클 프레임(2)의 고단차부의 폭은 원호부(B)에 있어서 가장 큰 Wc가 직선부(A)의 Ws보다도 크게 형성되어 있다. 마스크 점착제는 도포 후 유동하지만 원호부(B)의 고단차부의 폭을 크게 함으로써 표면 장력에 의해 원호부(B)의 내주(C)에 집중해서 유동할 일이 없고 고단차부 전체에 퍼지기 때문에 두께가 국소적으로 두꺼워질 일이 없다.3 shows an enlarged plan view of one of the four corners forming the arc of the pellicle frame 2. As for the width | variety of the high step part of the pellicle frame 2, the largest Wc in the arc part B is formed larger than Ws of the linear part A. FIG. Although the mask adhesive flows after application, the width of the high stepped portion of the arc portion B is increased so that the thickness does not concentrate and flow in the inner circumference C of the arc portion B due to the surface tension, and spreads throughout the high step portion. It does not thicken locally.

또한, 여기서 원호부는 직사각형의 펠리클 프레임의 내주와 외주 각각의 서로 이웃하는 두 변을 원의 일부를 가지고 이어나갔을 때에 원호 형상을 한 내주와 외주에 의해 끼워진 영역을 말하고, 직선부는 직사각형의 펠리클 프레임 각 변의 내주와 외주에 의해 끼워진 영역을 말한다.Here, the circular arc portion refers to an area sandwiched by an inner circumference and an outer circumference having an arc shape when two adjacent sides of each of the inner and outer circumferences of the rectangular pellicle frame are carried along with a part of the circle, and the straight portion is the rectangular pellicle frame angle. Refers to the area sandwiched by the inner and outer circumferences of the sides.

도 3에 있어서의 고단차부의 폭은 도포하는 마스크 점착제의 점도를 고려해서 설정한다. 특별히 한정되지 않지만 직선부(A)에 있어서의 Ws는 보통 3~10mm이고, 원호부(B)에 있어서의 Wc가 Ws의 110~150%인 것이 바람직하다.The width | variety of the high step part in FIG. 3 is set in consideration of the viscosity of the mask adhesive to apply | coat. Although it does not specifically limit, Ws in linear part A is 3-10 mm normally, It is preferable that Wc in circular arc part B is 110 to 150% of Ws.

마스크 점착제(4)의 두께는 특별히 한정되지 않지만 보통 1~3mm이고, 원호부(B)에 있어서의 평균 두께와 직선부(A)에 있어서의 평균 두께의 차는 10% 이내인 것이 바람직하고, 5% 이내인 것이 보다 바람직하다.Although the thickness of the mask adhesive 4 is not specifically limited, Usually, it is 1-3 mm, and it is preferable that the difference of the average thickness in circular arc part B, and the average thickness in linear part A is less than 10%, 5 More preferably, it is within%.

도 4에 원호부(B)에 있어서의 단차(3)의 형상의 다른 예를 나타낸다. 도 4(a)와 같이 네모진 형상이라도 좋고, 도 4(b)와 같이 일부를 돌출시킨 것과 같은 형상이라도 좋다.4 shows another example of the shape of the step 3 in the arc portion B. FIG. The shape may be square as shown in FIG. 4 (a), or may be the shape which protruded a part like FIG. 4 (b).

마스크 점착제(4)의 형성 후는 이것을 찌부러뜨려서 두께를 균일하게 하는 평탄화를 행할 경우도 있지만 본 발명에 있어서는 평탄화를 필요로 하지 않고 평탄화를 행한 경우이여도 두께 차가 더욱 발생하기 어려워진다는 이점이 있다.After formation of the mask adhesive 4, the thickness of the mask adhesive 4 may be crushed to make the thickness uniform. However, in the present invention, even when the surface is flattened without the need for flattening, there is an advantage that the thickness difference becomes less likely to occur.

[실시예][Example]

이하, 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하지만 본 발명의 범위는 이들의 실시예에 한정되는 것이 아니다.Hereinafter, although the Example of this invention is described in detail, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

도 1에 나타낸 바와 같은 외측 치수 785×1338mm, 내측 치수 767×1320mm, 높이 3.8mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임(2)을 기계 가공에 의해 제작했다. 펠리클 프레임(2)의 일면측 전체 둘레의 내주 부근에 마스크 점착제 도포 영역인 고단차부를, 높이를 0.2mm, 직선부(A)에 있어서의 폭(Ws)을 4mm, 원호부(B)에 있어서의 가장 큰 폭(Wc)을 6mm로 한 단차(3)을 형성했다(도 3 참조).An aluminum alloy pellicle frame 2 having an outer dimension of 785 × 1338 mm, an inner dimension of 767 × 1320 mm, and a height of 3.8 mm as shown in FIG. 1 was produced by machining. In the high step part which is a mask adhesive application area | region to the inner periphery of the whole periphery of one surface side of the pellicle frame 2, 0.2 mm in height, 4 mm in width Ws in a straight part A, and circular arc part B, A step 3 having a largest width Wc of 6 mm was formed (see FIG. 3).

펠리클 프레임(2)을 이용해서 도 1에 나타내는 펠리클(1)을 제작했다. 클래스(10)의 클린룸 내에 있어서 순수와 계면활성제로 잘 세정하고 완전히 건조시켰다. 마스크 점착제(4)가 펠리클 프레임(2)의 고단차부의 영역에 미도포 없이 넓게 도포되도록 토출량을 설정한 에어 가압식 디스펜서를 이용해서 실리콘 점착제[신에쓰 가가꾸 고교(주) 제]를 도포했다. 또한, 도포된 펠리클막 접착층을 통해서 펠리클막(5)을 첩부하고 마스크 점착제(4)의 보호용 세퍼레이터, 통기공용 필터 등을 설치하여 펠리클(1)을 완성시켰다. 이 펠리클의 마스크 점착제(4)의 원호부를 관찰한 결과 부풀어오름은 일체 발견되지 않았다.The pellicle 1 shown in FIG. 1 was produced using the pellicle frame 2. In a clean room of class 10, it was well cleaned with pure water and surfactant and dried completely. The silicone adhesive [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] was apply | coated using the air pressurized dispenser which set discharge amount so that the mask adhesive 4 may be apply | coated widely to the area | region of the high step part of the pellicle frame 2 without unapplied. Furthermore, the pellicle film 5 was affixed through the apply | coated pellicle film adhesive layer, the protective separator of the mask adhesive 4, the ventilation filter, etc. were installed, and the pellicle 1 was completed. As a result of observing the arc part of the mask adhesive 4 of this pellicle, swelling was not found at all.

마스크 점착제(4)의 두께를 다이얼 게이지로 측량한 결과 직선부(A)에 있어서의 두께는 평균 1.25mm, 원호부에 있어서의 두께는 평균 1.29mm 이었다. 또한, 잘 세정한 평활한 석영 유리판에 이 펠리클을 첩부하고 유리면측으로부터 마스크 점착제(4)의 외관을 관찰했다. 그 결과, 마스크 점착제(4)는 전체 둘레에 걸쳐 거의 동등 폭으로 첩부되어 있고 국소적인 가느다람이나 뜨는 것은 관찰되지 않았다.When the thickness of the mask adhesive 4 was measured by the dial gauge, the thickness in the linear part A was 1.25 mm on the average, and the thickness in the arc part was 1.29 mm on the average. Moreover, this pellicle was affixed on the smooth quartz glass plate which wash | cleaned well, and the external appearance of the mask adhesive 4 was observed from the glass surface side. As a result, the mask adhesive 4 was affixed in substantially equal width over the whole circumference, and local slenderness and floating were not observed.

[비교예][Comparative Example]

고단차부의 직선부(A)에 있어서의 폭(Ws)과 원호부(B)에 있어서의 가장 큰 폭(Wc)을 모두 4mm로 한 것 이외는 실시예로 동일한 펠리클 프레임에 마스크 점착제를 도포했다. 도포 후 얼마 후에 도 5에 나타낸 바와 같이 표면 장력에 의해 원호부의 외주 영역으로부터 펠리클 프레임(2)의 내주(C)로 마스크 점착제(4)가 유동하고, 부풀어오름부(10)가 형성된 것을 눈으로 확인했다. 이것은 마스크 점착제(4)과 포토 마스크 사이에 에어 패스가 발생하기 때문에 펠리클로서 사용할 수 없는 것이었다.The mask adhesive was apply | coated to the same pellicle frame in the Example except having set both the width Ws in the linear part A of the high step part, and the largest width Wc in the arc part B to 4 mm. . Shortly after application, as shown in FIG. 5, the mask adhesive 4 flowed from the outer circumferential region of the arc portion to the inner circumference C of the pellicle frame 2 due to the surface tension, and the swelling portion 10 was formed. Confirmed. This could not be used as a pellicle because an air path was generated between the mask adhesive 4 and the photo mask.

1 : 펠리클 2 : 펠리클 프레임
3 : 단차 4 : 마스크 점착제
5 : 펠리클막 10 : 마스크 점착제의 부풀어오름부
A : 펠리클 프레임의 직선부 B : 펠리클 프레임의 원호부
C : 펠리클 프레임의 내주 D : 펠리클 프레임의 외주
Wc : 원호부에 있어서의 고단차부의 최대폭
Ws : 직선부에 있어서의 고단차부의 폭1: pellicle 2: pellicle frame
3: step 4: mask adhesive
5: pellicle film 10: swelling portion of mask adhesive
A: Straight part of pellicle frame B: Circular arc part of pellicle frame
C: Inner circumference of the pellicle frame D: Outer circumference of the pellicle frame
Wc: maximum width of the high stepped portion in the arc portion
Ws: width of the high stepped portion in the straight portion

Claims

A rectangular pellicle frame with four corners forming an arc, a series of high steps are formed on the inner circumference of the pellicle frame over the entire circumference of one frame surface, and a low step is formed around the outer circumference, and the four corner arcs The width of the high step | step in a part is larger than the width of the high step | step in a pellicle frame linear part, The pellicle frame characterized by the above-mentioned.

The method of claim 1,
Stepped pellicle frame, characterized in that the arc portion and the straight portion is formed by smoothly connected.

A pellicle film is affixed to the other frame surface side of the pellicle frame of Claim 1 or 2. The pellicle characterized by the above-mentioned.