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KR20130125900A - Roll-to-roll sputtering apparatus - Google Patents

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KR20130125900A
KR20130125900A KR1020120049518A KR20120049518A KR20130125900A KR 20130125900 A KR20130125900 A KR 20130125900A KR 1020120049518 A KR1020120049518 A KR 1020120049518A KR 20120049518 A KR20120049518 A KR 20120049518A KR 20130125900 A KR20130125900 A KR 20130125900A
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South Korea
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roll
rollers
flexible substrate
sputtering apparatus
sputter
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Application number
KR1020120049518A
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Korean (ko)
Inventor
오정홍
Original Assignee
삼성코닝정밀소재 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

본 발명은 롤투롤 스퍼터링 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 플렉시블 기판 상에 스퍼터링 증착법에 의해 증착막을 형성하는 롤투롤 스퍼터링 장치에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 플렉시블 기판 상에 증착막을 형성하는 롤투롤(roll-to-roll) 스퍼터링 장치에 있어서, 쿨링(cooling) 드럼 또는 복수 개의 롤러(roller)가 선택적으로 탈·부착 가능하게 장착되는 이송부; 및 상기 이송부 주위에 배치되어 상기 이송부에 의해 이송되는 플렉시블 기판의 일면으로 타겟 물질을 스퍼터링 하는 스퍼터를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치를 제공한다.The present invention relates to a roll-to-roll sputtering apparatus, and more particularly, to a roll-to-roll sputtering apparatus for forming a vapor-deposited film on a flexible substrate by a sputtering deposition method.
To this end, the present invention is a roll-to-roll sputtering apparatus for forming a deposition film on a flexible substrate, the cooling drum or a plurality of rollers (roller) is selectively mounted detachably Transfer unit; And a sputter disposed around the conveying part to sputter a target material onto one surface of the flexible substrate conveyed by the conveying part.

Description

롤투롤 스퍼터링 장치{ROLL-TO-ROLL SPUTTERING APPARATUS}[0001] ROLL-TO-ROLL SPUTTERING APPARATUS [0002]

본 발명은 롤투롤 스퍼터링 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 플렉시블 기판 상에 스퍼터링 증착법에 의해 증착막을 형성하는 롤투롤 스퍼터링 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a roll-to-roll sputtering apparatus, and more particularly, to a roll-to-roll sputtering apparatus for forming a vapor-deposited film on a flexible substrate by a sputtering deposition method.

일반적으로 플렉시블 디스플레이의 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, E-ink 등에서 액정을 싸고 있는 기판은 유연성이 좋은 고분자 박막 필름을 사용하고 있다.In general, a liquid crystal display of a flexible display, an organic EL display, an E-ink, and the like are used as a substrate that surrounds a liquid crystal, and a polymer thin film having good flexibility is used.

이와 같은 고분자 박막 필름에는 롤투롤(rool-to roll) 스퍼터링 장치에 의해 ITO, ZnO, SnO2, In2O3, Nb2O5, SiOx 등으로 이루어진 투명 도전막 또는 기능성 코팅층 등이 형성된다.A transparent conductive film or a functional coating layer made of ITO, ZnO, SnO 2 , In 2 O 3 , Nb 2 O 5 , SiO x , or the like is formed on the polymer thin film by a roll-to-roll sputtering apparatus .

종래의 롤투롤 스퍼터링 장치는 기판으로 사용되는 고분자 박막 필름이 가지는 내열성이 취약하다는 특성 상 스퍼터링 증착법에 의한 증착막 형성 공정 중 고분자 박막 필름이 녹거나 열에 의해 변형되는 현상을 방지하기 위해 쿨링 드럼을 구비하고 있다.Conventional roll-to-roll sputtering apparatus has a cooling drum to prevent the polymer thin film from melting or deformation due to heat during the deposition film formation process by the sputtering deposition method due to the poor heat resistance of the polymer thin film used as a substrate have.

한편, 최근 디스플레이 및 관련 IT 산업 등이 발달함에 따라 다양한 디바이스(device)가 개발되고 있고, 이에 따라 고분자 플라스틱 필름을 대신하여 박판 글라스(glass)를 이용하여 기판을 제조하는 기술이 개발되고 있다.Meanwhile, with the recent development of displays and related IT industries, various devices have been developed. Accordingly, technology for manufacturing substrates using thin glass instead of polymer plastic films has been developed.

그러나, 이와 같은 박판 글라스에 투명 도전막 또는 기능성 층을 코팅하기 위해서 종래의 롤투롤 스퍼터링 장치를 사용하는 경우, 쿨링 드럼에 의한 박판 글라스의 냉각에 의해 박판 글라스 기판 상에 형성되는 증착막의 비저항이나 투과특성이 저하된다는 문제가 발생한다.
However, when a conventional roll-to-roll sputtering apparatus is used to coat a transparent conductive film or a functional layer on such thin glass, the resistivity or permeation of the deposited film formed on the thin glass substrate by cooling the thin glass by a cooling drum There arises a problem that the characteristics are deteriorated.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 스퍼터링 증착법에 의한 증착막을 형성함에 있어서, 기판으로 고분자 박막 필름 및 박판 글라스을 사용할 수 있는 하이브리드(hybrid)형 롤투롤 스퍼터링 장치를 제공하는 것이다.
The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention in forming a deposition film by the sputtering deposition method, a hybrid type that can use a polymer thin film and thin glass as a substrate It is to provide a roll-to-roll sputtering apparatus.

이를 위해, 본 발명은 플렉시블 기판 상에 증착막을 형성하는 롤투롤(roll-to-roll) 스퍼터링 장치에 있어서, 쿨링(cooling) 드럼 또는 복수 개의 롤러(roller)가 선택적으로 탈·부착 가능하게 장착되는 이송부; 및 상기 이송부 주위에 배치되어 상기 이송부에 의해 이송되는 플렉시블 기판의 일면으로 타겟 물질을 스퍼터링 하는 스퍼터를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치를 제공한다.To this end, the present invention is a roll-to-roll sputtering apparatus for forming a deposition film on a flexible substrate, the cooling drum or a plurality of rollers (roller) is selectively mounted detachably Transfer unit; And a sputter disposed around the conveying part to sputter a target material onto one surface of the flexible substrate conveyed by the conveying part.

여기서, 상기 이송부는, 상기 복수 개의 롤러가 장착되되, 상기 복수 개의 롤러에 의해 이송되고, 일면에 증착막이 형성되는 플렉시블 기판의 타면 측에 구비되는 히터(heater)를 포함할 수 있다.The transfer unit may include a heater mounted on the other surface of the flexible substrate, on which the plurality of rollers are mounted, being transferred by the plurality of rollers, and having a deposition film formed on one surface thereof.

그리고, 상기 복수 개의 롤러는 원형으로 배치될 수 있으며, 바람직하게는, 상기 복수 개의 롤러는 상기 쿨링 드럼의 외경과 동일한 외경을 갖는 원형으로 배치될 수 있다.The plurality of rollers may be disposed in a circular shape, and preferably, the plurality of rollers may be disposed in a circular shape having an outer diameter equal to an outer diameter of the cooling drum.

또한, 상기 플렉시블 기판은 박판 글라스 또는 고분자 박막 필름일 수 있으며, 상기 고분자 박막 필름은 PET(Polyethylene Terephthalate), PES(Polyether Sulfone), PI(Polyimide), PEN(Polyethylene Naphthalate), PAR(Polyarylate), PC(polycarbonate) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다. In addition, the flexible substrate may be a thin glass or a polymer thin film, the polymer thin film is PET (Polyethylene Terephthalate), PES (Polyether Sulfone), PI (Polyimide), PEN (Polyethylene Naphthalate), PAR (Polyarylate), PC (polycarbonate) can be made of any one.

그리고, 상기 스퍼터는 복수 개일 수 있으며, 이때, 상기 이송부는, 상기 복수 개의 롤러가 장착되되, 상기 복수 개의 롤러에 의해 이송되고, 일면에 증착막이 형성되는 플렉시블 기판의 타면 측에 배치되어, 상기 복수 개의 스터퍼 각각에 의해 스퍼터링된 타겟 물질이 다른 스퍼터로 날아가는 것을 방지하는 가스 분리 블록을 포함을 포함할 수 있다.In addition, the plurality of sputters may be provided, wherein the transfer unit is mounted on the other surface side of the flexible substrate on which the plurality of rollers are mounted and is transported by the plurality of rollers and a deposition film is formed on one surface thereof. And a gas separation block that prevents the target material sputtered by each of the four sputters from flying to another sputter.

여기서, 상기 가스 분리 블록은 각 롤러들 사이에 배치될 수 있으며, 히터로 이루어질 수 있다.Here, the gas separation block may be disposed between the rollers, it may be made of a heater.

또한, 상기 쿨링 드럼은 증착막이 형성되는 플렉시블 기판을 일정온도로 유지시키기 위해 내부에 냉각수가 흐르는 유로를 가질 수 있다.In addition, the cooling drum may have a flow path through which cooling water flows to maintain the flexible substrate on which the deposition film is formed at a predetermined temperature.

또한, 상기 롤투롤 스퍼터링 장치는, 상기 이송부 및 스퍼터가 복수 쌍으로 이루어질 수 있다.
In addition, the roll-to-roll sputtering apparatus, the transfer unit and the sputter may be made of a plurality of pairs.

본 발명에 따르면, 이송부가 증착막을 형성할 플렉시블 기판의 종류에 따라 쿨링 드럼 또는 복수 개의 롤러를 선택적으로 장착할 수 있도록 구성됨으로써, 하나의 롤투롤 스퍼터링 장치로 고분자 박막 필름 및 박판 글라스에 우수한 물리적/화학적 특성을 갖는 증착막을 형성할 수 있다.According to the present invention, the transfer unit is configured to selectively mount a cooling drum or a plurality of rollers according to the type of the flexible substrate on which the deposition film is to be formed, so that one roll-to-roll sputtering device has excellent physical / A vapor deposition film having chemical properties can be formed.

또한, 본 발명에 따르면, 플렉시블 기판(글라스 또는 고분자 필름)의 시장 상황에 따라 설비를 운용할 수 있고, 설비 투자 감소 및 프로세스 다양성을 확보할 수 있다.
In addition, according to the present invention, it is possible to operate the equipment according to the market situation of the flexible substrate (glass or polymer film), it is possible to reduce the equipment investment and ensure process diversity.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤투롤 스퍼터링 장치를 개략적으로 나타낸 개략도.1 to 3 is a schematic view showing a roll-to-roll sputtering apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 롤투롤(roll-to-roll) 스퍼터링 장치에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a roll-to-roll sputtering apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

아울러, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략한다.In the following description of the present invention, detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 롤투롤 스퍼터링 장치를 나타낸 개략도이다.1 and 2 is a schematic view showing a roll-to-roll sputtering apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 롤투롤 스퍼터링 장치는 언와인더롤(unwinder roll)(10), 와인더 롤(winder roll)(20), 복수 개의 가이드 롤러(10a, 20a), 이송부(100), 및 스퍼퍼(200)를 포함하여 이루어질 수 있다.1 and 2, the roll-to-roll sputtering apparatus according to the present invention includes an unwinder roll 10, a winder roll 20, a plurality of guide rollers 10a and 20a, It may include a transfer unit 100, and the spur 200.

언와인더 롤(10) 및 와이더 롤(20)은 상호 간의 회전운동에 의해 플렉시블 기판을 풀거나(unwinding), 감도록(winding) 한다. The unwinder roll 10 and the winder roll 20 unwind or wind the flexible substrate by mutual rotational movements.

복수 개의 가이드 롤러(10a, 20a)는 일정 간격으로 배열되어 플렉시블 기판이 롤링(rolling) 될 때 장력 제어를 원할 하게 한다. 이때 가이드 롤러에는 롤링되는 플렉시블 기판이 일정한 장력을 가지고 롤링될 수 있도록 장력 조절 장치 및 장력 제어 센서가 부착될 수 있다.
The plurality of guide rollers 10a and 20a are arranged at regular intervals so that the tension control is desired when the flexible substrate is rolled. In this case, a tension adjusting device and a tension control sensor may be attached to the guide roller so that the flexible substrate is rolled with a constant tension.

플렉시블 기판은 언와이더 롤(10), 와인더 롤(20), 및 복수의 가이드 롤러(10a, 20a)의 상호 기계적 작동에 의해 이송부(100)에 연속해서 이송되게 된다.The flexible substrate is continuously conveyed to the transfer part 100 by the mutual mechanical operation of the unwinder roll 10, the winder roll 20, and the plurality of guide rollers 10a and 20a.

여기서 이송되는 플렉시블 기판은 박판 글라스 또는 고분자 박막 필름일 수 있으며, 고분자 박막 필름은 PET(Polyethylene Terephthalate), PES(Polyether Sulfone), PI(Polyimide), PEN(Polyethylene Naphthalate), PAR(Polyarylate), PC(polycarbonate) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
The flexible substrate to be transferred may be thin glass or a polymer thin film, and the polymer thin film may be a polyethylene terephthalate (PET), a polyether sulfate (PES), a polyimide (PI), a polyethylene naphthalate (PEN), a polylate (PAR), or a PC ( polycarbonate).

이송부(100)에는 쿨링 드럼(110) 또는 복수 개의 롤러(120)가 선택적으로 탈·부착 가능하게 장착되어 플렉시블 기판을 이송한다. 여기서, 복수 개의 롤러(120)는 다수의 롤러(120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 120f)가 일정한 간격으로 배치되어 이루어질 수 있으며, 롤러의 수는 특별히 제한되지 않는다.The cooling drum 110 or the plurality of rollers 120 are selectively mounted on the transfer unit 100 so as to be detachably attached to and transferred from the flexible substrate. Here, the plurality of rollers 120 may be formed by arranging a plurality of rollers 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, and 120f at regular intervals, and the number of rollers is not particularly limited.

그리고, 이송부(100)에서는 이송부(100)에 선택적으로 장착된 쿨링 드럼(110) 또는 복수 개의 롤러(120)에 의해 이송되는 플렉시블 기판의 일면에 후술할 스퍼터(200)에 의해 방출되는 타겟 물질의 구성 원자가 증착되는 증착 공정이 진행된다.In the transfer unit 100, a target material discharged by the sputter 200 to be described later on one surface of the flexible substrate transferred by the cooling drum 110 or the plurality of rollers 120 selectively mounted on the transfer unit 100. A deposition process is performed in which constituent atoms are deposited.

바람직하게는, 증착막이 형성될 플렉시블 기판이 고분자 박막 필름인 경우 이송부(100)에 쿨링 드럼(110)이 장착되고, 증착막이 형성될 플렉시블 기판이 박판 글라스인 경우 이송부(100)에 복수 개의 롤러(120)가 장착될 것이다. Preferably, when the flexible substrate on which the deposition film is to be formed is a polymer thin film, the cooling drum 110 is mounted on the transfer part 100, and when the flexible substrate on which the deposition film is to be formed is thin glass, a plurality of rollers ( 120 will be mounted.

이와 같이, 이송부(100)가 증착막을 형성할 플렉시블 기판의 종류에 따라 쿨링 드럼(110) 또는 복수 개의 롤러(120)를 선택적으로 장착할 수 있도록 구성됨으로써, 하나의 롤투롤 스퍼터링 장치로 고분자 박막 필름 및 박판 글라스에 우수한 박막 특성을 갖는 증착막을 형성할 수 있다. 즉, 내열성이 약한 고분자 박막 필름에 증착막을 형성시킬 경우 쿨링 드럼(110)을 장착하여 스퍼터링 증착 공정 중 열에 의해 고분자 박막 필름이 녹거나 열 변형되는 것을 방지하고, 내열성이 우수한 박판 글라스에 증착막을 형성시킬 경우 복수 개의 롤러(120)를 장착하여 박판 글라스가 냉각되는 것을 방지함으로써 박판 글라스에 증착되는 증착막의 결정성을 높여 증착막의 비저항 및 투과특성을 향상시킬 수 있다. As such, the transfer unit 100 may be configured to selectively mount the cooling drum 110 or the plurality of rollers 120 according to the type of the flexible substrate on which the deposition film is to be formed. And a deposition film having excellent thin film characteristics on the thin glass. That is, when the deposition film is formed on the polymer film having low heat resistance, the cooling drum 110 is mounted to prevent the polymer film from being melted or thermally deformed by heat during the sputter deposition process, and the deposition film is formed on the thin glass having excellent heat resistance. In this case, by mounting the plurality of rollers 120 to prevent the thin glass from cooling, the crystallinity of the deposited film deposited on the thin glass may be increased, thereby improving the resistivity and transmission characteristics of the deposited film.

쿨링 드럼(100) 또는 복수 개의 롤러(120)는 플렉시블 기판과의 접촉에 의해 플렉시블 기판에 스크래치가 발생하는 것을 방지하기 위해 표면이 매끄럽게 연마처리 될 수 있다. 또한, 플렉시블 기판의 이송속도와 쿨링 드럼(110) 또는 복수 개의 롤러(120)의 회전속도가 일치되도록 제어될 수 있다.The cooling drum 100 or the plurality of rollers 120 may be smoothly polished to prevent scratches on the flexible substrate due to contact with the flexible substrate. In addition, the transfer speed of the flexible substrate and the rotation speed of the cooling drum 110 or the plurality of rollers 120 may be controlled to match.

한편, 쿨링 드럼(110)의 내부에는 증착막이 형성 공정에서 발생하는 열에너지를 분산 또는 제거하여 플렉시블 기판, 바람직하게는 고분자 박막 필름을 일정온도로 유지시키기 위한 냉각수가 흐를 수 있는 유로(미도시)가 형성될 수 있다.On the other hand, the cooling drum 110 has a flow path (not shown) through which cooling water can flow to maintain or maintain a flexible substrate, preferably a polymer thin film, by dispersing or removing thermal energy generated in a deposition process. Can be formed.

그리고, 이송부(100)에 장착되는 복수 개의 롤러(120)는 원형으로 배치될 수 있으며, 바람직하게는 쿨링 드럼(110)의 외경과 동일한 외경을 갖는 원형 형태로 배치될 것이다. 이와 같이 복수 개의 롤러(120)가 쿨링 드럼(110)의 외경과 동일한 외경을 갖는 원형 형태로 배치됨으로써, 롤투롤 스퍼터링 장치에 설치된 다른 유닛들(예를 들어, 가이드 롤러(10a, 20a), 스퍼터(200) 등)의 설치 변경 없이 쿨링 드럼(110) 또는 복수 개의 롤러(120)만을 선택적으로 장착하는 것으로, 신속하고 간단하게 롤투롤 스퍼터링 장치를 가동시킬 수 있다.
In addition, the plurality of rollers 120 mounted on the transfer part 100 may be disposed in a circular shape, and preferably, the rollers 120 may be disposed in a circular shape having the same outer diameter as the outer diameter of the cooling drum 110. As such, the plurality of rollers 120 are disposed in a circular shape having the same outer diameter as that of the cooling drum 110, thereby providing other units (eg, guide rollers 10a and 20a and sputters) installed in the roll-to-roll sputtering apparatus. By selectively mounting only the cooling drum 110 or the plurality of rollers 120 without changing the installation of the 200, etc., the roll-to-roll sputtering device can be operated quickly and simply.

또한, 이송부(100)에 복수 개의 롤러(120)가 장착되는 경우, 이송부(100)는 복수 개의 롤러(120)에 의해 이송되며 후술할 스퍼터(200)에 의해 일면에 증착막이 형성되는 플렉시블 기판의 타면 측에 히터(heater)(미도시)를 구비할 수 있다. 복수 개의 롤러(120)가 원형으로 배치되는 경우는 복수 개의 롤러(120)가 이루는 원형의 내부에 히터(미도시)가 구비될 것이다.In addition, when the plurality of rollers 120 are mounted on the transfer unit 100, the transfer unit 100 may be transferred by the plurality of rollers 120, and a sputtered film 200 may be formed on one surface by a sputter 200 to be described later. A heater (not shown) may be provided on the other surface side. When the plurality of rollers 120 are arranged in a circle, a heater (not shown) may be provided in a circle formed by the plurality of rollers 120.

즉, 이송부(100)는 복수 개의 롤러(120)에 의해 이송되어 일면에 증착막이 형성되는 플랙시블 기판, 바람직하게는 박판 글라스, 의 반대 면을 가열하기 위한 히터(미도시)를 더 포함할 수 있다. 이와 같이, 히터(미도시)가 증착막이 형성되는 박판 글라스의 증착막 형성 반대 면을 가열함으로써, 증착막의 결정성을 높일 수 있고, 이에 의해 증착막의 비저항 및 투과특성을 향상시킬 수 있다.
That is, the transfer unit 100 may further include a heater (not shown) for heating the opposite side of the flexible substrate, preferably thin glass, which is transferred by the plurality of rollers 120 and has a deposition film formed on one surface thereof. have. In this way, the heater (not shown) heats the opposite side of the deposition film formation of the thin glass on which the deposition film is formed, thereby increasing the crystallinity of the deposition film, thereby improving the resistivity and transmission characteristics of the deposition film.

스퍼터(200)는 증착막을 형성할 물질인 타겟(target)과 타겟의 구성 원자를 방출시키기 위한 전원인 캐소드를 포함하여 구성되고, 이송부(100) 주위에 배치되어 이송부(100)에 의해 이송되는 플렉시블 기판의 일면으로 타겟 물질을 스퍼터링한다.The sputter 200 includes a target, which is a material for forming a deposition film, and a cathode, which is a power source for releasing constituent atoms of the target, and is disposed around the transfer unit 100 and is transferred by the transfer unit 100. Sputtering the target material on one side of the substrate.

타겟은 ITO(Indium Tin Oxide), SnO2, ZnO, CdSnO4, IZO(Indium zinc oxide), Si, SiO2, NbOx 중 어느 하나의 물질로 이루어질 수 있다.The target may be made of any one material of indium tin oxide (ITO), SnO 2 , ZnO, CdSnO 4 , indium zinc oxide (IZO), Si, SiO 2 , and NbO x .

스퍼터(200)는 DC 스퍼터링, MF 스퍼터링, RF 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링 등 다양한 방법으로 타겟 물질을 스퍼터링할 수 있다.The sputter 200 may sputter the target material by various methods such as DC sputtering, MF sputtering, RF sputtering, magnetron sputtering, and the like.

그리고, 본 발명에 따른 스퍼터(200)는 복수 개일 수 있다. 즉, 복수 개의 스퍼터(210, 220, 230, 240, 250)가 이송부(100)의 주위에 배치되어 이송부(100)에 의해 이송되는 플렉시블 기판의 일면에 연속적으로 빠르게 증착막을 형성할 수 있다.In addition, the sputter 200 according to the present invention may be a plurality. That is, the plurality of sputters 210, 220, 230, 240, and 250 may be disposed around the transfer part 100 to form a deposition film continuously and rapidly on one surface of the flexible substrate transferred by the transfer part 100.

다만, 이와 같이 스퍼터가 복수 개(210, 220, 230, 240, 250)인 경우, 이송부에 복수 개의 롤러(120)가 장착되면, 각 스퍼터(210, 220, 230, 240, 250)에서 스퍼터링된 타겟 물질이 다른 스퍼터로 날아가게 되고, 이에 의해 다른 스퍼터에 의한 스퍼터링에 영향을 줄 수가 있다. 일반적으로 스퍼터를 구성하는 타겟은 증착막이 형성되는 플렉시블 기판보다 그 폭이 넓으므로, 타겟에서 방출된 일부 타겟 물질은 플렉시블 기판을 지나쳐 다른 스퍼터 쪽으로 날아가게 되기 때문이다. 그러나, 이송부에 쿨링 드럼이 장착된 경우는, 일반적으로 쿨링 드럼의 폭이 타겟의 폭보다 넓어 이와 같은 문제가 발생하지 않는다.However, when the plurality of sputters (210, 220, 230, 240, 250) in this way, when the plurality of rollers 120 is mounted in the transfer unit, sputtered in each sputter (210, 220, 230, 240, 250) The target material may fly to another sputter, thereby affecting the sputtering by the other sputter. In general, since the target constituting the sputter is wider than the flexible substrate on which the deposition film is formed, some target materials emitted from the target will pass through the flexible substrate and fly toward the other sputter. However, in the case where the cooling drum is attached to the transfer section, the width of the cooling drum is generally wider than the width of the target, so this problem does not occur.

이에 본 발명의 일 실시예에 따른 이송부(100)는 이송부(100)에 복수 개의 롤러(120)가 장착되고, 스퍼터가 복수 개(210, 220, 230, 240, 250)인 경우, 복수 개의 롤러(120)에 의해 이송되고, 일면에 증착막이 형성되는 플렉시블 기판의 타면 측에 배치되어, 각 스퍼터(210, 220, 230, 240, 250)에 의해 스퍼터링된 타겟 물질이 다른 스퍼터로 날아가는 것을 방지하는 가스 분리 블록(gas separation block)(300)을 더 포함하여 이루어질 수 있다.Thus, the transfer unit 100 according to an embodiment of the present invention, when a plurality of rollers 120 is mounted on the transfer unit 100, the plurality of sputters 210, 220, 230, 240, 250, a plurality of rollers It is disposed on the other side of the flexible substrate which is transported by the 120 and the deposition film is formed on one surface, to prevent the target material sputtered by each sputter 210, 220, 230, 240, 250 from flying to another sputter. It may further comprise a gas separation block (gas separation block) (300).

이와 같이, 가스 분리 블록(300)이 각 스퍼터(210, 220, 230, 240, 250)에 의해 스퍼터링된 타겟 물질이 다른 스퍼터로 날아가는 것을 방지함으로써, 각 스퍼터(210, 220, 230, 240, 250)에 의한 스퍼터링 증착 공정이 원활이 이루어질 수 있을 것이다.As such, the gas separation block 300 prevents the target material sputtered by each sputter 210, 220, 230, 240, 250 from flying to another sputter, thereby preventing each sputter 210, 220, 230, 240, 250. Sputter deposition process by) will be able to be made smoothly.

여기서, 가스 분리 블록(300)은 복수 개의 가스 분리 블록(301, 302, 303, 304, 305)이 도 3에 도시된 바와 같이 각 롤러들(120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 120f) 사이에 각각 배치될 수 있다.Herein, the gas separation block 300 includes a plurality of gas separation blocks 301, 302, 303, 304, and 305 between the rollers 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, and 120f as shown in FIG. 3. May be arranged respectively.

또한, 가스 분리 블록(300)이 히터로 이루어질 수 있을 것이다.
In addition, the gas separation block 300 may be made of a heater.

또한, 본 발명에 따른 롤투롤 스퍼터링 장치는 이송부(100) 및 스퍼터(200)가 복수 쌍으로 이루어질 수 있다.
In addition, in the roll-to-roll sputtering apparatus according to the present invention, the transfer unit 100 and the sputter 200 may be formed in a plurality of pairs.

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. This is possible.

그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
Therefore, the scope of the present invention should not be limited by the described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims as well as the appended claims.

10: 언와인더 롤 20: 와인더 롤
10a, 20a: 가이드 롤러 100: 이송부
110: 쿨링 드럼 120: 복수 개의 롤러
200: 스퍼터 300: 가스 분리 블록10: unwinder roll 20: winder roll
10a, 20a: guide roller 100: transfer section
110: cooling drum 120: a plurality of rollers
200: sputter 300: gas separation block

Claims (12)

플렉시블 기판 상에 증착막을 형성하는 롤투롤(roll-to-roll) 스퍼터링 장치에 있어서,
상기 롤투롤 스퍼터링 장치는,
쿨링(cooling) 드럼 또는 복수 개의 롤러(roller)가 선택적으로 탈·부착 가능하게 장착되는 이송부; 및
상기 이송부 주위에 배치되어 상기 이송부에 의해 이송되는 플렉시블 기판의 일면으로 타겟 물질을 스퍼터링 하는 스퍼터를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
In a roll-to-roll sputtering apparatus for forming a deposition film on a flexible substrate,
The roll-to-roll sputtering device,
A conveying unit to which a cooling drum or a plurality of rollers are selectively detachably mounted; And
And a sputter disposed around the conveying portion to sputter the target material onto one surface of the flexible substrate conveyed by the conveying portion.
제1항에 있어서,
상기 이송부는,
상기 복수 개의 롤러가 장착되되,
상기 복수 개의 롤러에 의해 이송되고, 일면에 증착막이 형성되는 플렉시블 기판의 타면 측에 구비되는 히터(heater)를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 1,
The transfer unit
The plurality of rollers are mounted,
Roll-to-roll sputtering apparatus, characterized in that it comprises a heater which is transferred by the plurality of rollers, and provided on the other surface side of the flexible substrate having a deposition film formed on one surface.
제1항에 있어서,
상기 복수 개의 롤러는 원형으로 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 1,
Roll to roll sputtering device, characterized in that the plurality of rollers are arranged in a circular shape.
제3항에 있어서,
상기 복수 개의 롤러는 상기 쿨링 드럼의 외경과 동일한 외경을 갖는 원형으로 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 3,
Roll to roll sputtering apparatus, characterized in that the plurality of rollers are arranged in a circular shape having an outer diameter equal to the outer diameter of the cooling drum.
제1항에 있어서,
상기 플렉시블 기판은 박판 글라스 또는 고분자 박막 필름인 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 1,
The flexible substrate is a roll-to-roll sputtering apparatus, characterized in that the thin glass or polymer thin film.
제5항에 있어서,
상기 고분자 박막 필름은 PET(Polyethylene Terephthalate), PES(Polyether Sulfone), PI(Polyimide), PEN(Polyethylene Naphthalate), PAR(Polyarylate), PC(polycarbonate) 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 5,
The polymer thin film is a PET (Polyethylene Terephthalate), PES (Polyether Sulfone), PI (Polyimide), PEN (Polyethylene Naphthalate), PAR (Polyarylate), PC (polycarbonate) roll-to-roll sputtering device, characterized in that made of any one.
제1항에 있어서,
상기 스퍼터는 복수 개인 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 1,
Roll-to-roll sputtering apparatus characterized in that the plurality of sputters.
제7항에 있어서,
상기 이송부는,
상기 복수 개의 롤러가 장착되되,
상기 복수 개의 롤러에 의해 이송되고, 일면에 증착막이 형성되는 플렉시블 기판의 타면 측에 배치되어, 상기 복수 개의 스퍼터 각각에 의해 스퍼터링된 타겟 물질이 다른 스퍼터로 날아가는 것을 방지하는 가스 분리 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 7, wherein
The transfer unit
The plurality of rollers are mounted,
A gas separation block which is transported by the plurality of rollers and disposed on the other side of the flexible substrate having a deposition film formed on one surface thereof, to prevent the target material sputtered by each of the plurality of sputters from flying to another sputter; Roll to roll sputtering device characterized in that.
제8항에 있어서,
상기 가스 분리 블록은 각 롤러들 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
9. The method of claim 8,
Roll to roll sputtering device, characterized in that the gas separation block is disposed between each roller.
제8항에 있어서,
상기 가스 분리 블록은 히터인 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
9. The method of claim 8,
Roll to roll sputtering apparatus, characterized in that the gas separation block is a heater.
제1항에 있어서,
상기 쿨링 드럼은 증착막이 형성되는 플렉시블 기판을 일정온도로 유지시키기 위해 내부에 냉각수가 흐르는 유로를 갖는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 1,
Wherein the cooling drum has a flow path through which cooling water flows in order to maintain a flexible substrate on which a vapor deposition film is formed at a predetermined temperature.
제1항에 있어서,
상기 롤투롤 스퍼터링 장치는,
상기 이송부 및 스퍼터가 복수 쌍으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤투롤 스퍼터링 장치.
The method of claim 1,
The roll-to-roll sputtering device,
Roll-to-roll sputtering apparatus, characterized in that the transfer portion and the sputter is composed of a plurality of pairs.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017051935A1 (en) * 2015-09-21 2017-03-30 (주)브이앤아이솔루션 Web substrate treating system
KR102136701B1 (en) 2019-02-18 2020-07-22 주식회사 테토스 Auxiliary rollers for roll―to―roll processes
KR20200100288A (en) 2019-02-18 2020-08-26 주식회사 테토스 Roll­to­roll sputtering apparatus
CN111607778A (en) * 2020-07-09 2020-09-01 北京载诚科技有限公司 Cooling equipment for coating, coating equipment and method and roll-to-roll film
CN112126905A (en) * 2020-09-25 2020-12-25 桂林电子科技大学 A multi-source magnetron sputtering deposition system
KR20220057711A (en) 2020-10-30 2022-05-09 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum deposition monitoring system using optical inspection module
KR20220057710A (en) 2020-10-30 2022-05-09 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum evaporation device with optical inspection module
KR20230031510A (en) 2021-08-27 2023-03-07 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum deposition monitoring system using optical inspection module
KR20230031509A (en) 2021-08-27 2023-03-07 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum deposition device equipped with artificial intelligence-based optical inspection module
KR102662969B1 (en) * 2023-05-08 2024-05-03 태영에스티 주식회사 Stick for cigarette-type electronic cigarette
KR102662973B1 (en) * 2023-05-08 2024-05-03 태영에스티 주식회사 Stick for cigarette-type electronic cigarette

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017051935A1 (en) * 2015-09-21 2017-03-30 (주)브이앤아이솔루션 Web substrate treating system
KR102136701B1 (en) 2019-02-18 2020-07-22 주식회사 테토스 Auxiliary rollers for roll―to―roll processes
KR20200100288A (en) 2019-02-18 2020-08-26 주식회사 테토스 Roll­to­roll sputtering apparatus
CN111607778B (en) * 2020-07-09 2023-11-03 北京载诚科技有限公司 Cooling equipment for coating, coating equipment, method and roll-to-roll film
CN111607778A (en) * 2020-07-09 2020-09-01 北京载诚科技有限公司 Cooling equipment for coating, coating equipment and method and roll-to-roll film
CN112126905A (en) * 2020-09-25 2020-12-25 桂林电子科技大学 A multi-source magnetron sputtering deposition system
KR20220057711A (en) 2020-10-30 2022-05-09 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum deposition monitoring system using optical inspection module
KR20220057710A (en) 2020-10-30 2022-05-09 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum evaporation device with optical inspection module
KR20230031510A (en) 2021-08-27 2023-03-07 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum deposition monitoring system using optical inspection module
KR20230031509A (en) 2021-08-27 2023-03-07 (주)제이비에이치 Roll-to-roll vacuum deposition device equipped with artificial intelligence-based optical inspection module
KR102662969B1 (en) * 2023-05-08 2024-05-03 태영에스티 주식회사 Stick for cigarette-type electronic cigarette
KR102662973B1 (en) * 2023-05-08 2024-05-03 태영에스티 주식회사 Stick for cigarette-type electronic cigarette
WO2024232616A1 (en) * 2023-05-08 2024-11-14 태영에스티 주식회사 Stick for electronic cigarette
WO2024232617A1 (en) * 2023-05-08 2024-11-14 태영에스티 주식회사 Stick for cigarette-type electronic cigarette

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