KR20130050077A - Stacked Packages and Methods for Manufacturing the Same - Google Patents
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Abstract
스택 패키지는 제1 반도체 칩을 구비하는 제1 패키지 기판, 제1 패키지 기판 상부에 적층되며, 제2 반도체 칩을 구비하는 제2 패키지 기판, 제1 패키지 기판 및 제2 패키지 기판을 전기적으로 연결시키는 도전성 부재, 제2 패키지 기판의 외곽부의 상면 상에 구비되는 격벽 구조물 및 제2 패키지 기판의 상면 상에서 제2 반도체 칩을 커버하며, 격벽 구조물에 의해 형성 영역이 한정되는 몰딩 부재를 포함한다. 제2 패키지 기판의 외곽부에 격벽 구조물을 형성하여 휨 현상을 방지하고, 저온 경화되는 실리콘 봉지재를 사용하여 몰딩 부재를 형성함으로써 열변형을 최소화 할 수 있다.The stack package is stacked on the first package substrate having the first semiconductor chip, the first package substrate, and electrically connects the second package substrate having the second semiconductor chip, the first package substrate, and the second package substrate. A conductive member, a partition structure provided on an upper surface of an outer portion of the second package substrate, and a molding member covering a second semiconductor chip on an upper surface of the second package substrate, the forming region defined by the partition structure. By forming a barrier rib structure on the outer portion of the second package substrate to prevent warpage, and to form a molding member using a silicon encapsulant that is hardened at low temperature, thermal deformation may be minimized.
Description
본 발명은 스택 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 복수 개의 반도체 패키지가 적층된 스택 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a stack package and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a stack package in which a plurality of semiconductor packages are stacked and a method of manufacturing the same.
고밀도의 적층 반도체 패키지를 구현하기 위해 복수 개의 반도체 칩들이 적층된 패키지 상에 또 다른 패키지를 적층하는 패키지 온 패키지(package on package: POP) 기술이 개발되고 있다.In order to implement a high density stacked semiconductor package, a package on package (POP) technology is being developed in which another package is stacked on a package in which a plurality of semiconductor chips are stacked.
상기 POP 타입의 반도체 패키지는 제1 반도체 패키지 상에 제2 반도체 패키지가 적층되는 스택 패키지 구조를 가지며 상기의 각 반도체 패키지들은 각 반도체 기판에 실장된 반도체 칩들을 포함할 수 있다.The POP type semiconductor package may have a stack package structure in which a second semiconductor package is stacked on a first semiconductor package, and each of the semiconductor packages may include semiconductor chips mounted on each semiconductor substrate.
그러나, 상기의 반도체 패키지들은 서로 다른 열적, 기계적 특성을 가질 수 있으며, 상이한 특성을 갖는 상기 반도체 패키지들이 적층됨으로써 스트레스가 발생할 수 있다. 상기 스트레스는 상기 스택 패키지의 접촉 불량 등의 문제를 일으켜 최종 제품의 신뢰성을 저하시킬 수 있다.However, the semiconductor packages may have different thermal and mechanical properties, and stress may be generated by stacking the semiconductor packages having different properties. The stress may cause problems such as poor contact of the stack package, thereby lowering the reliability of the final product.
본 발명의 일 목적은 우수한 열적, 기계적 특성을 갖는 스택 패키지를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a stack package having excellent thermal and mechanical properties.
본 발명의 다른 목적은 우수한 열적, 기계적 특성을 갖는 스택 패키지의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for producing a stack package having excellent thermal and mechanical properties.
본 발명의 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따른 스택 패키지는 제1 반도체 칩을 구비하는 제1 패키지 기판, 상기 제1 패키지 기판 상부에 적층되며 제2 반도체 칩을 구비하는 제2 패키지 기판, 상기 제1 패키지 기판 및 상기 제2 패키지 기판을 전기적으로 연결시키는 도전성 부재, 상기 제2 패키지 기판의 외곽부의 상면 상에 구비되는 격벽 구조물 및 상기 제2 패키지 기판의 상면 상에서 상기 제2 반도체 칩을 커버하며, 상기 격벽 구조물에 의해 형성 영역이 한정되는 몰딩 부재를 포함한다.According to at least one example embodiment of the inventive concepts, a stack package includes a first package substrate having a first semiconductor chip, and a second stacked structure on the first package substrate. A package substrate, a conductive member electrically connecting the first package substrate and the second package substrate, a partition structure provided on an upper surface of an outer portion of the second package substrate, and the second semiconductor on an upper surface of the second package substrate. And a molding member covering the chip, the forming member being defined by the barrier rib structure.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 격벽 구조물은 상기 제2 패키지 기판보다 높은 모듈러스(modulus) 및 낮은 열팽창계수를 가질 수 있다.In example embodiments, the barrier rib structure may have a higher modulus and a lower coefficient of thermal expansion than the second package substrate.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 몰딩 부재는 실리콘 봉지재(silicone encapsulant)를 포함할 수 있다.In example embodiments, the molding member may include a silicon encapsulant.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 스택 패키지는 상기 제2 반도체 칩과 이격되어 상기 제2 패키지 기판 상면에 배치되는 제2 도전 패드들 및 상기 제2 패키지 기판 상면 및 상기 격벽 구조물 하부에 배치되며, 상기 제2 도전 패드들을 부분적으로 커버하는 절연 패턴을 더 포함할 수 있다.In example embodiments, the stack package may be disposed on the second conductive pads spaced apart from the second semiconductor chip and disposed on an upper surface of the second package substrate, and on an upper surface of the second package substrate and a lower portion of the barrier rib structure. The display device may further include an insulation pattern partially covering the second conductive pads.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 스택 패키지는 상기 격벽 구조물 및 상기 절연 패턴을 관통하여 상기 제2 도전 패드와 접촉하는 도전성 비아(via)를 더 포함할 수 있다.In example embodiments, the stack package may further include a conductive via penetrating the barrier rib structure and the insulating pattern to contact the second conductive pad.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 스택 패키지는 상기 도전성 비아를 매개로 상기 제2 패키지 기판 상부에 적층되는 반도체 패키지를 더 포함할 수 있다.In example embodiments, the stack package may further include a semiconductor package stacked on the second package substrate through the conductive via.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 스택 패키지는 상기 제1 패키지 기판 상면 상에 상기 제1 반도체 칩과 이격되어 배치되는 제1 도전 패드들을 더 포함하며, 상기 제1 반도체 칩은 도전성 와이어를 통해 상기 제1 도전 패드와 전기적으로 연결될 수 있다.In example embodiments, the stack package may further include first conductive pads spaced apart from the first semiconductor chip on an upper surface of the first package substrate, wherein the first semiconductor chip is formed through the conductive wire. It may be electrically connected to the first conductive pad.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 제1 반도체 칩은 도전성 범프들을 매개로 상기 제1 패키지 기판에 접합될 수 있다.In example embodiments, the first semiconductor chip may be bonded to the first package substrate through conductive bumps.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법에 따르면, 제1 반도체 칩을 포함하는 제1 패키지 기판을 형성한다. 제2 반도체 칩을 포함하는 제2 패키지 기판을 형성한다. 상기 제2 패키지 기판 외곽부에 상기 제2 반도체 칩을 둘러싸는 격벽 구조물을 형성한다. 상기 제2 패키지 기판 상에 상기 제2 반도체 칩을 커버하며 상기 격벽 구조물에 의해 한정되는 몰딩 부재를 형성한다. 상기 제1 패키지 기판 및 상기 제2 패키지 기판을 적층시킨다.According to a method of manufacturing a stack package according to embodiments of the present invention for achieving another object of the present invention, to form a first package substrate including a first semiconductor chip. A second package substrate including a second semiconductor chip is formed. A barrier rib structure surrounding the second semiconductor chip is formed at an outer portion of the second package substrate. A molding member is formed on the second package substrate to cover the second semiconductor chip and to be defined by the barrier rib structure. The first package substrate and the second package substrate are stacked.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 격벽 구조물은 상기 제2 패키지 기판보다 높은 모듈러스 및 낮은 열팽창계수를 갖는 물질을 사용하여 형성될 수 있다. 또한 상기 몰딩 부재는 실리콘 봉지재를 사용하여 형성될 수 있다.In example embodiments, the barrier rib structure may be formed using a material having a higher modulus and a lower coefficient of thermal expansion than the second package substrate. In addition, the molding member may be formed using a silicon encapsulant.
본 발명의 실시예들에 따르면, 반도체 패키지의 몰딩 부재로서 통상적으로 사용되는 에폭시 몰딩 컴파운드(epoxy molding compound: EMC) 대신 실리콘(silicone) 봉지재를 사용한다. 상기 실리콘 봉지재를 사용하는 경우 저온에서도 몰딩 공정이 가능하여 상기 반도체 패키지의 열변형을 최소화 할 수 있다. 또한, 열변형에 의한 휨 현상이 다발적으로 발생하는 상기 반도체 패키지의 가장 자리 부분에 격벽 구조물을 형성함으로써 상기 휨 현상을 방지함과 동시에 상기 실리콘 봉지재의 흐름을 방지할 수도 있다.According to embodiments of the present invention, a silicon encapsulant is used instead of an epoxy molding compound (EMC) which is commonly used as a molding member of a semiconductor package. In the case of using the silicon encapsulant, a molding process may be performed even at low temperature, thereby minimizing thermal deformation of the semiconductor package. In addition, by forming a barrier rib structure at an edge portion of the semiconductor package in which warpage due to thermal deformation occurs frequently, the warpage may be prevented and the flow of the silicon encapsulant may be prevented.
도 1a 내지 도 1c는 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지를 나타내는 단면도들이다.
도 2는 다른 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 3 내지 도 9는 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 10 내지 도 12는 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 13 내지 도 15는 다른 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.1A-1C are cross-sectional views illustrating a stack package in accordance with example embodiments.
2 is a cross-sectional view illustrating a stack package according to other exemplary embodiments.
3 to 9 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a stack package according to example embodiments.
10 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a stack package according to example embodiments.
13 to 15 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a stack package according to other exemplary embodiments.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 각 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.In the drawings of the present invention, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the present invention in order to clarify the present invention.
본 발명에서, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.In the present invention, the terms first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.
본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.
본 발명에 있어서, 각 층(막), 영역, 전극, 패턴 또는 구조물들이 대상체, 기판, 각 층(막), 영역, 전극 또는 패턴들의 "상에", "상부에" 또는 "하부"에 형성되는 것으로 언급되는 경우에는 각 층(막), 영역, 전극, 패턴 또는 구조물들이 직접 기판, 각 층(막), 영역, 또는 패턴들 위에 형성되거나 아래에 위치하는 것을 의미하거나, 다른 층(막), 다른 영역, 다른 전극, 다른 패턴 또는 다른 구조물들이 대상체나 기판 상에 추가적으로 형성될 수 있다.In the present invention, it is to be understood that each layer (film), region, electrode, pattern or structure may be formed on, over, or under the object, substrate, layer, Means that each layer (film), region, electrode, pattern or structure is directly formed or positioned below a substrate, each layer (film), region, or pattern, , Other regions, other electrodes, other patterns, or other structures may additionally be formed on the object or substrate.
본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.For the embodiments of the invention disclosed herein, specific structural and functional descriptions are set forth for the purpose of describing an embodiment of the invention only, and it is to be understood that the embodiments of the invention may be practiced in various forms, But should not be construed as limited to the embodiments set forth in the claims.
즉, 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
That is, the present invention may be modified in various ways and may have various forms. Specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.
스택 패키지Stack package
도 1a 내지 도 1c는 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지를 나타내는 단면도들이다.1A-1C are cross-sectional views illustrating a stack package in accordance with example embodiments.
도 1a를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지(100)는 제1 반도체 패키지(110) 및 제2 반도체 패키지(150)가 적층된 구조를 갖는다.Referring to FIG. 1A, a
제1 반도체 패키지(110)는 제1 패키지 기판(112), 제1 반도체 칩(114), 제1 몰딩 부재(118)와 제1 및 제2 패드들(124, 126)을 포함한다. 제1 반도체 패키지(110)는 스택 패키지(100)의 하부에 배치되는 패키지이며, 상부에 배치되는 반도체 패키지의 메모리 소자를 콘트롤하기 위한 로직 소자를 포함할 수 있다.The
제1 패키지 기판(112)은 상면에 해당하는 제1 면(112a) 및 저면에 해당하며 제1 면(110a)에 대향하는 제2 면(112b)을 구비한다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 패키지 기판(112)은 인쇄 회로 기판(printed circuit board: PCB)일 수 있다. 또한 제1 패키지 기판(112)은 내부에 다양한 배선, 비아 홀 등을 구비한 다층 회로 기판일 수 있다.The
제1 패키지 기판(112)의 상부의 중앙부에 제1 반도체 칩(114)이 배치될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 반도체 칩(114)은 LSI 로직 칩을 포함할 수 있다. 도시되지는 않았으나, 복수의 제1 반도체 칩들(114)이 순차적으로 적층될 수 있다.The
제1 반도체 칩(114)은 도전성 범프들(116)을 매개로 제1 패키지 기판(112)과 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 도전성 범프들(116)은 제1 반도체 칩(114)과 제1 패키지 기판(112) 사이에 배치된다. 도전성 범프들(116)과 접촉하는 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a) 상에는 전극과 같은 도전성 구조물들(도시되지 않음)이 구비될 수 있다.The
제1 몰딩 부재(118)는 제1 반도체 칩(118) 및 도전성 범프들(116)을 커버하도록 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a) 상에 형성된다. 제1 몰딩 부재(118)는 에폭시 몰딩 컴파운드(epoxy molding compound: EMC)를 포함할 수 있다. 제1 몰딩 부재(118)는 제1 반도체 칩(114)을 커버할 수 있도록 제1 패키지 기판(112)의 중앙부에 형성되며, 제1 패드들(124)이 형성된 제1 패키지 기판(112)의 측부까지는 연장되지 않을 수 있다.The
도 1a에 도시된 바와 같이 제1 몰딩 부재(118)는 평탄한 상면을 가질 수 있으며, 제1 반도체 칩(114)의 상면이 제1 몰딩 부재(118)의 상면을 통해 노출될 수 있다. 이와는 달리, 제1 몰딩 부재(118)는 제1 반도체 칩(114)의 상면을 완전히 덮도록 형성될 수도 있다.As illustrated in FIG. 1A, the
제1 패키지 기판(112)의 상면(112a)에는 복수의 제1 패드들(124)이 구비될 수 있다. 제1 패드들(124)은 제1 패키지 기판(112)의 측부 혹은 외곽부에 배치되어 제1 반도체 칩(114)을 둘러싸는 형상으로 배열될 수 있다. 제1 패드들(124)을 통해 전기적 신호들, 예를 들면, 파워 신호, 데이터 신호, 클락 신호 등과 같은 빠른 신호들이 전달될 수 있다.A plurality of
제1 패키지 기판(112)의 제2 면(112b)에는 제2 패드들(126)이 구비되며, 제2 패드들(126)과 각각 접촉하는 제1 도전성 볼들(130)이 제공될 수 있다. 예를 들어, 제1 도전성 볼들(130)은 솔더(solder) 볼일 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제1 도전성 볼들(130)은 외부 접속 단자로 제공될 수 있다.
도 1a를 참조로 설명한 제1 반도체 패키지(110)는 예시적인 것이며, 다양하게 변경될 수 있다.The
예를 들어, 도 1b를 참조하면, 제1 반도체 칩(114)은 도전성 범프들(116) 대신에 도전성 와이어(130) 및 패드(132)를 통해 제1 패키지 기판(112)과 전기적으로 연결될 수도 있다.For example, referring to FIG. 1B, the
또한, 도 1c를 참조하면, 제1 몰딩부재(118a)는 제2 도전성 볼들(140) 및 제1 패드들(124)이 배치되는 영역들을 노출시키면서 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a)을 전체적으로 커버할 수도 있다.In addition, referring to FIG. 1C, the
이하에서는 제1 반도체 패키지(110)가 도 1a의 구조를 갖는 경우를 예로 들어 설명한다.Hereinafter, the case where the
제2 반도체 패키지(150)는 제1 반도체 패키지(110) 상에 적층된다. 예를 들어, 제2 도전성 볼들(140)을 매개로 제1 및 제2 반도체 패키지(110, 150)가 서로 전기적으로 연결될 수 있다.The
제2 반도체 패키지(150)는 제2 패키지 기판(160), 제2 반도체 칩(164), 제2 몰딩 부재(180), 격벽 구조물(170)과 제3 및 제4 패드들(162, 168) 및 도전성 와이어(166)와 같은 도전성 부재들을 포함한다.The
제2 패키지 기판(160)은 상면에 해당하는 제3 면(160a) 및 저면에 해당하며 제3 면(160a)에 대향하는 제4 면(160b)을 구비한다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 패키지 기판(160)은 내부에 다양한 배선, 비아 홀 등을 구비한 다층 회로 기판일 수 있다.The
제2 패키지 기판(160)의 제4 면(160b)에는 제3 패드들(162)이 구비된다. 제3 및 제1 패드들(162, 124)은 제2 도전성 볼들(140)을 매개로 전기적으로 연결된다. 즉, 제3 패드들(162)을 통해 전기적 신호들, 예를 들면, 파워 신호, 데이터 신호, 클락 신호 등과 같은 빠른 신호들이 전달될 수 있다.
제2 도전성 볼들(140)은 솔더 볼들로 형성될 수 있으며, 제1 및 제2 패키지 기판들(112, 160)의 측부 혹은 외곽부에 배치된다.The second
제2 패키지 기판(160) 중앙부의 제3 면(160a) 상에는 제2 반도체 칩(164)이 구비된다. 예시적인 실시예들에 따르면, 복수의 제2 반도체 칩들(164) 순차적으로 적층될 수 있다. 제2 반도체 칩(164)은, 예를 들어 다수의 메모리 소자들을 포함할 수 있다. 상기 메모리 소자는 휘발성 메모리 소자 또는 비휘발성 메모리 소자를 포함할 수 있다. 상기 휘발성 메모리 소자의 예로서 DRAM, SRAM 등을 들 수 있으며, 상기 비휘발성 메모리 소자의 예로서, EPROM, EEPROM, Flash EEPROM 등을 들 수 있다. 제2 반도체 칩(164)상부에는 복수의 본딩 패드들(도시되지 않음)이 구비될 수 있다.The
제2 패키지 기판(160) 제3 면(160a) 상에는 제4 패드들(168)이 구비된다. 제4 패드들(168)은 제2 반도체 칩(164)과 이격되어 제2 반도체 칩(164)을 둘러싸는 형상으로 배열될 수 있다.Four
제2 반도체 칩(164)의 상기 본딩 패드와 제4 패드는(168) 도전성 와이어(166)를 매개로 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 도전성 와이어(166)는 금, 알루미늄 등의 금속 물질을 포함할 수 있다.The bonding pad and the fourth pad of the
제2 반도체 칩(164)의 외곽부의 제3 면(160a) 상에는 격벽 구조물(170)이 구비된다. 즉, 격벽 구조물(170)은 제2 반도체 칩(164)의 외곽을 둘러싸는 형상을 가질 수 있다.The
예시적인 실시예들에 따르면, 격벽 구조물(170)은 열적 스트레스가 계속하여 다발적으로 발생하는 제2 반도체 패키지(150) 혹은 제2 패키지 기판(160) 외곽부의 휨 현상 등을 방지하기 위해 높은 모듈러스(modulus)를 가지며 열팽창계수(coefficient of thermal expansion: CTE)가 낮은 고분자 물질 혹은 금속 물질을 포함할 수 있다. 즉, 격벽 구조물(170)은 제1 및/또는 제2 패키지 기판(112, 160) 보다 높은 모듈러스 및 낮은 CTE를 갖는 물질을 포함할 수 있다.According to example embodiments, the
예시적인 실시예들에 따르면, 제2 패키지 기판(160) 외곽부의 제3 면(160a) 상에 별도의 접착 부재(도시되지 않음)가 구비되고 상기 접착 부재를 매개로 격벽 구조물(170)이 제2 패키지 기판(160)상에 부착될 수 있다.According to exemplary embodiments, a separate adhesive member (not shown) is provided on the
격벽 구조물(170)이 형성됨에 따라, 격벽 구조물(170)에 의해 한정되며, 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 및 제2 반도체 칩(164)을 노출시키는 개구부(175)가 정의될 수 있다.As the
개구부(175) 내부를 채우는 제2 몰딩 부재(180)가 제2 반도체 칩(164), 도전성 와이어(166) 및 제4 패드(168)를 덮도록 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 상에 구비된다.The third surface of the
예시적인 실시예들에 따르면, 제2 몰딩 부재(180)는 실리콘 봉지재(silicone encapsulant)를 포함할 수 있다. 상기 실리콘 봉지재는 통상적인 몰딩 부재로 사용되는 EMC에 비해 흐름성이 좋고 저온에서 쉽게 경화되는 특징이 있다. 따라서, 고온에서 수행되는 몰딩 공정시 발생하는 열적 스트레스를 감소시켜 패키지 기판들(160, 112)의 휨 현상을 최소화 할 수 있다. 한편, 제2 패키지 기판(160)의 외곽부에는 격벽 구조물(170)이 구비되므로 상기 실리콘 봉지재가 측부로 흐르거나 퍼지는 현상을 방지할 수 있으며, 상기 외곽부에서 다발적으로 발생하는 열적 스트레스에 의한 휨 현상을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 휨 현상에 의해 발생되는 제2 도전성 볼들(140)의 접촉 불량 현상 등에 의한 스택 패키지의 신뢰성 저하를 방지할 수 있다.In example embodiments, the
도 2는 다른 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지를 나타내는 단면도이다. 도 1a에 도시된 스택 패키지와 실질적으로 동일하거나 유사한 구성 및/또는 부재들에 대한 상세한 설명은 생략한다.2 is a cross-sectional view illustrating a stack package according to other exemplary embodiments. Detailed description of components and / or members substantially the same as or similar to the stack package shown in FIG. 1A will be omitted.
도 2를 참조하면, 격벽 구조물(174) 하부에는 절연 패턴(172)이 구비될 수 있다. 절연 패턴(172)은 절연성 고분자 물질 등과 같은 솔더 레지스트(solder resist) 물질을 포함할 수 있다. 격벽 구조물(174)과 절연 패턴(172) 사이에는 별도의 접착 부재가 게재될 수도 있다.Referring to FIG. 2, an insulating
제4 패드(168a)는 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 상에 구비되며, 절연 패턴(172)에 의해 일부가 커버될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 복수의 제4 패드들(168a)은 제2 반도체 칩(164)과 이격되어, 제2 반도체 칩(164)을 둘러싸는 형상을 가질 수 있다. 제4 패드(168a)는 도전성 와이어(166a)에 의해 제2 반도체 칩(164)의 본딩 패드와 전기적으로 연결될 수 있다.The
일 실시예에 있어서, 격벽 구조물(174) 및 절연 패턴(172) 내부에는 배선, 콘택, 비아(via) 등과 같은 도전성 구조물(도시되지 않음)이 구비될 수 있다. 예를 들면, 격벽 구조물(174) 및 절연 패턴(172)을 관통하여 제4 패드(168a)와 접촉하는 비아(도시되지 않음)가 구비될 수 있다. 이 경우에, 상기 비아를 이용해 제2 반도체 패키지(150) 상부에 추가적인 반도체 패키지를 더 적층시킬 수도 있다.
In an embodiment, a conductive structure (not shown), such as wires, contacts, or vias, may be provided in the
스택 패키지의 제조 방법Manufacturing method of stack package
도 3 내지 도 9는 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 구체적으로, 도 1a에 도시된 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.3 to 9 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a stack package according to example embodiments. Specifically, cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the stack package illustrated in FIG. 1A are illustrated.
도 3을 참조하면, 제1 반도체 칩(114)을 실장하기 위한 제1 패키지 기판(112)을 마련한다. 제1 패키지 기판(112)은 내부에 다양한 배선, 비아 홀 등을 구비한 단일층 혹은 다층의 인쇄 회로 기판일 수 있다.Referring to FIG. 3, a
제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a)에 제1 패드들(124)을 형성한다. 또한, 제1 패키지 기판(112)의 제2 면(112b)에는 제2 패드들(126)을 형성한다.
제2 패드들(126) 표면 상에 제1 도전성 볼들(130)을 형성한다. 제1 도전성 볼들(130)은 솔더를 사용하여 형성될 수 있다. 제1 패키지 기판(112)의 제2 면(112b) 상에 제1 도전성 볼들(130)을 덮는 제1 임시 부착제(142)를 도포하고, 제1 도전성 볼들(130)을 보호하기 위한 제1 캐리어 기판(144)을 제1 임시 부착제(142) 상에 부착시킬 수 있다.First
제1 패키지 기판(112)의 중앙부의 제1 면(112a) 상에 복수의 도전성 범프들(116)을 배치한다. 도전성 범프들(116)은 제1 패드들(124)에 의해 둘러싸이도록 배치될 수 있다.A plurality of
제1 반도체 칩(114)을 도전성 범프들(116) 상에 배치한다. 이후, 리플로우 공정을 통해, 도전성 범프들(116)을 이용하여 제1 반도체 칩(114)과 제1 패키지 기판(112)을 접합시킬 수 있다. 이에 따라, 제1 반도체 칩(114)과 제1 패키지 기판(112)은 서로 전기적으로 연결될 수 있다.The
도 4를 참조하면, 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a) 상에 제1 반도체 칩(114)을 커버하는 제1 밀봉 부재(118)를 형성한다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 밀봉 부재(118)는 EMC를 사용하여 형성될 수 있다. 제1 밀봉 부재(118)는 제1 반도체 칩(114)의 상면을 노출시키도록 형성될 수 있으며, 이와는 달리, 제1 반도체 칩(114)의 상면을 완전히 커버하도록 형성될 수도 있다. 제1 밀봉 부재(118)가 형성됨으로써 제1 반도체 칩(114)이 외부로부터 보호될 수 있다.Referring to FIG. 4, the
상술한 공정들을 수행함으로써 제1 반도체 패키지(110)를 제조할 수 있다.The
도 5를 참조하면, 제2 반도체 칩(164)을 실장하기 위한 제2 패키지 기판(160)을 마련한다. 제2 패키지 기판(160)은 내부에 다양한 배선, 비아 홀 등을 구비한 단일층 혹은 다층의 인쇄 회로 기판일 수 있다.Referring to FIG. 5, a
제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a)에 제4 패드들(168)을 형성한다. 또한, 제2 패키지 기판(160)의 제4 면(160b)에는 제3 패드들(162)을 형성한다.
제3 패드들(162) 표면 상에 제2 도전성 볼들(140)을 형성한다. 제2 도전성 볼들(140)은 솔더를 사용하여 형성될 수 있다. 제2 패키지 기판(160)의 제4 면(160b) 상에 제2 도전성 볼들(140)을 덮는 제2 임시 부착제(146)를 도포하고, 제2 도전성 볼들(140)을 보호하기 위한 제2 캐리어 기판(148)을 제2 임시 부착제(146) 상에 부착시킬 수 있다.Second
제2 반도체 칩(164)을 제2 패키지 기판(160) 중앙부의 제3 면(160a) 상에 배치한다, 제2 반도체 칩(164)은 접착층(도시되지 않음)을 사용하여 제2 패키지 기판(160)에 부착될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 복수의 제2 반도체 칩들(164)이 적층되어 배치될 수 있으며, 제2 반도체 칩(164) 상부에는 본딩 패드들(도시되지 않음)이 형성될 수 있다. 제2 반도체 칩(164)은 제4 패드들(168)에 의해 둘러싸인 형상을 가질 수 있다.The
도 6을 참조하면, 도전성 와이어(166)를 이용하여 제2 반도체 칩(164) 상부에 형성된 상기 본딩 패드들과 제4 패드들(168)을 전기적으로 연결시킨다.Referring to FIG. 6, the bonding pads and the
이어서, 제1 패키지 기판(160) 외곽부의 제3 면(160a) 상에 격벽 구조물(170)을 형성한다. 예시적인 실시예들에 있어서, 격벽 구조물(170)은 제1 및/또는 제2 패키지 기판(112, 160) 보다 높은 모듈러스 및 낮은 CTE를 갖는 금속 혹은 고분자 재질의 물질을 사용하여 형성될 수 있다. 격벽 구조물(170)은 제2 패키지 기판(160) 외곽부의 제3 면(160a) 상에 별도의 접착 부재(도시되지 않음)를 형성하고 상기 접착 부재를 매개로 제2 패키지 기판(160)상에 부착될 수 있다. 격벽 구조물(170)이 형성됨에 따라, 격벽 구조물(170)에 의해 한정되며, 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 및 제2 반도체 칩(164)을 노출시키는 개구부(175)가 정의될 수 있다.Next, the
도 7을 참조하면, 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 상에 개구부(175)를 채우며 제2 반도체 칩(164) 및 도전성 와이어(166)를 덮는 제2 밀봉 부재(180)를 형성한다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 몰딩 부재(180)는 실리콘 봉지재를 사용하여 형성될 수 있다. 상기 실리콘 봉지재는 저온에서도 쉽게 경화되므로 낮은 온도에서 상기 몰딩 공정을 수행함으로써, 제2 패키지 기판(160) 및 제2 반도체 칩(164)의 열변형을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 7, the
상술한 공정들을 수행함으로써 제2 반도체 패키지(150)를 제조할 수 있다.The
도 8을 참조하면, 제2 패키지 기판(160)의 제4 면(160b)에 부착된 제2 임시 부착제(146) 및 제2 캐리어 기판(148)을 제거하여, 제2 도전성 볼들(140)을 노출시킨다. 이후, 제2 도전성 볼들(140)이 각각 제1 패드들(124)에 대향하도록 제2 반도체 패키지(150)를 제1 반도체 패키지(110) 상부에 배치한다.Referring to FIG. 8, by removing the second
도 9를 참조하면, 제2 도전성 볼들(140)에 대한 리플로우 공정을 수행하여, 제2 도전성 볼들(140)을 제1 패드들(124)에 접합시킨다. 따라서, 제1 반도체 패키지(110)의 제1 패드들(124)과 제2 반도체 패키지(150)의 제3 패드들(162)이 각각 전기적으로 연결된다. 이후, 제1 패키지 기판(112)의 제2 면(112b) 상에 부착된 제1 임시 부착제(142) 및 제1 캐리어 기판(144)은 제거되어 제1 도전성 볼들(130)이 노출될 수 있다. 이에 따라, 제1 및 제2 반도체 패키지(110, 150)들이 적층된 스택 패키지(100)를 제조할 수 있다.Referring to FIG. 9, the second
한편, 제1 반도체 패키지(110) 제조를 위한 공정시, 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a) 상에 도전성 범프(116) 대신에 패드들(132)을 형성하고 도전성 와이어(130)를 이용해 제1 반도체 칩(114) 상부에 구비된 본딩 패드들과 도전 패드들(132)을 전기적으로 연결시킴으로써 도 1b에 도시된 바와 같은 제1 반도체 패키지(110)를 제조할 수도 있다.Meanwhile, in the process of manufacturing the
이후, 도 5 내지 도 9를 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정들을 수행함으로써, 도 1b에 도시된 스택 패키지를 제조할 수 있다.Thereafter, the stack package illustrated in FIG. 1B may be manufactured by performing processes substantially the same as or similar to those described with reference to FIGS. 5 to 9.
도 10 내지 도 12는 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 구체적으로, 도 1c에 도시된 스택 패키지를 제조하는 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.10 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a stack package according to example embodiments. Specifically, cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the stack package shown in FIG. 1C are illustrated.
도 10을 참조하면, 도 3을 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정들을 수행한다. 구체적으로, 제1 및 제2 패드들(124, 1246 및 제1 도전성 볼들(130)이 구비된 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a) 상에 도전성 범프(116) 및 제1 반도체 칩(114)을 배치하고 리플로우 공정을 통해 제1 반도체 칩(114)과 제1 패키지 기판(112)을 접합시킨다.Referring to FIG. 10, the processes substantially the same as or similar to those described with reference to FIG. 3 are performed. Specifically, the
도 11을 참조하면, 제1 패키지 기판(112)의 제1 면(112a) 상에 제1 반도체 칩(114)을 커버하는 예비 제1 몰딩 부재(119)를 형성한다. 예시적인 실시예들에 따르면, 예비 제1 몰딩 부재(119)는 제1 반도체 칩(114)의 상면을 노출시키도록 형성될 수도 있으며, 제1 반도체 칩(114)을 완전히 매립할 수도 있다.Referring to FIG. 11, a preliminary
도 12를 참조하면, 예비 제1 몰딩 부재(119)의 일부를 제거하여 제1 패드(124)의 상면을 노출시키는 홀(hole)들(120)을 형성함으로써 제1 몰딩 부재(118a)를 형성한다. 홀들(120)은 레이저 조사 공정을 통해 형성될 수 있다.Referring to FIG. 12, the
이어서, 도 5 내지 도 9를 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정들을 수행함으로써 도 1c에 도시된 스택 패키지를 제조할 수 있다. 이 때, 제2 도전성 볼들(140)은 홀들(120)을 채우면서 제1 패드들(124)과 접합될 수 있다.Subsequently, the stack package illustrated in FIG. 1C may be manufactured by performing processes substantially the same as or similar to those described with reference to FIGS. 5 to 9. In this case, the second
도 13 내지 도 15는 다른 예시적인 실시예들에 따른 스택 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 구체적으로, 도 2에 도시된 스택 패키지를 제조하는 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.13 to 15 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a stack package according to other exemplary embodiments. Specifically, cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the stack package shown in FIG. 2.
우선, 도 3 및 도 4를 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정들을 수행함으로써, 제1 반도체 패키지(110)를 제조한다.First, the
도 13을 참조하면, 도 5를 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정을 수행한다. 구체적으로, 제3 및 제4 패드들(162, 168a), 제2 도전성 볼들(140)이 형성된 제2 패키지 기판(160) 중앙부의 제3 면(160a) 상에 제2 반도체 칩(164)을 접착층(도시되지 않음) 등을 이용해 부착시킨다.Referring to FIG. 13, a process substantially the same as or similar to those described with reference to FIG. 5 is performed. Specifically, the
단, 도 13에 도시된 제4 패드(168a)는 도 5에 도시된 제4 패드(168) 보다 제2 패키지 기판(160)의 외곽부에 더 인접하도록 배치될 수 있다.However, the
도 14를 참조하면, 제2 패키지 기판(160) 외곽부의 제3 면(160a) 상에 제4 패드(168a)를 부분적으로 커버하는 절연 패턴(172)을 형성한다. 절연 패턴(172)은 절연성 고분자 물질 등과 같은 솔더 레지스트(solder resist) 물질을 사용하여 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 절연 패턴(172)은 제2 반도체 칩(164)을 둘러싸는 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 14, an insulating
도 14를 참조하면, 절연 패턴(172)에 의해 노출된 제4 패드(168a) 부분과 제2 반도체 칩(164) 상부의 본딩 패드(도시되지 않음)를 도전성 와이어(166a)를 사용하여 전기적으로 연결시킨다.Referring to FIG. 14, the portion of the
절연 패턴(172) 상에는 격벽 구조물(174)을 형성한다. 격벽 구조물(174)은 제1 및/또는 제2 패키지 기판(112, 160) 보다 높은 모듈러스 및 낮은 CTE를 갖는 금속 혹은 고분자 재질의 물질을 사용하여 형성될 수 있다. 격벽 구조물(174)은 절연 패턴(172) 상에 별도의 접착 부재(도시되지 않음)를 형성하고 상기 접착 부재를 매개로 절연 패턴(172)상에 부착될 수 있다. 격벽 구조물(174)이 형성됨에 따라, 격벽 구조물(174) 및 절연 패턴(172)에 의해 한정되며, 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 및 제2 반도체 칩(164)을 노출시키는 개구부(175a)가 정의될 수 있다.The
격벽 구조물(174)을 형성한 후 제2 패키지 기판(160)의 제3 면(160a) 상에 개구부(175a)를 채우며 제2 반도체 칩(164) 및 도전성 와이어(166a)를 덮는 제2 밀봉 부재(180)를 형성한다. 예시적인 실시예들에 있어서, 제2 몰딩 부재(180)는 실리콘 봉지재를 사용하여 형성될 수 있다. 이에 따라, 예시적인 실시예들에 따른 제2 반도체 패키지(150)를 제조할 수 있다.After forming the
이어서, 도 8 및 도 9를 참조로 설명한 공정들과 실질적으로 동일하거나 유사한 공정을 수행함으로써 도 2에 도시된 바와 같은 제1 및 제2 반도체 패키지(110, 150)가 적층된 스택패키지를 제조할 수 있다.Subsequently, a stack package in which the first and
일 실시예에 있어서, 격벽 구조물(174) 및 절연 패턴(172) 내부에는 배선, 콘택, 비아(via) 등과 같은 도전성 구조물(도시되지 않음)을 더 형성할 수 있다. 예를 들면, 격벽 구조물(174) 및 절연 패턴(172)을 관통하여 제4 패드(168a)와 접촉하는 비아(도시되지 않음)를 형성할 수 있다. 이 경우에, 상기 비아를 이용해 제2 반도체 패키지(150) 상부에 추가적인 반도체 패키지를 더 적층시킬 수도 있다.In an embodiment, a conductive structure (not shown) such as wires, contacts, and vias may be further formed in the
본 발명의 실시예들에 따르면, 휨 현상, 접촉 불량 등의 결함이 감소된 고신뢰성의 스택 패키지를 수득할 수 있다. 상기 스택 패키지는 모바일 시스템, 통신 시스템, 개인용 컴퓨터, 대형 컴퓨터 등에 제공되는 고집적 반도체 패키지를 제공하는데 활용될 수 있다.According to embodiments of the present invention, it is possible to obtain a highly reliable stack package with reduced defects such as warpage and poor contact. The stack package may be utilized to provide a highly integrated semiconductor package provided in a mobile system, a communication system, a personal computer, a large computer, and the like.
상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the preferred embodiments of the present invention as described above, those skilled in the art that various modifications and changes within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims It will be appreciated that it can be changed.
100: 스택 패키지 110: 제1 반도체 패키지
112: 제1 패키지 기판 112a: 제1 면
112b: 제2 면 114: 제1 반도체 칩
116: 도전성 범프 118, 118a: 제1 몰딩 부재
119: 예비 제1 몰딩 부재 124: 제1 패드
126: 제2 패드 130: 제1 도전성 볼들
130: 도전성 와이어 132: 패드
140: 제2 도전성 볼들 142: 제1 임시 부착제
144: 제1 캐리어 기판 146: 제2 임시 부착제
148: 제2 캐리어 기판 150: 제2 반도체 패키지
160: 제2 패키지 기판 160a: 제3 면
160b: 제4 면 162: 제3 패드
164: 제2 반도체 칩 166, 166a: 도전성 와이어
168, 168a: 제4 패드 170, 174: 격벽 구조물
172: 절연 패턴 175, 175a: 개구부
180: 제2 몰딩 부재100: stack package 110: first semiconductor package
112:
112b: second surface 114: first semiconductor chip
116:
119: preliminary first molding member 124: first pad
126: second pad 130: first conductive balls
130: conductive wire 132: pad
140: second conductive balls 142: first temporary adhesive
144: first carrier substrate 146: second temporary adhesive
148: second carrier substrate 150: second semiconductor package
160:
160b: fourth side 162: third pad
164:
168, 168a:
172:
180: second molding member
Claims (10)
상기 제1 패키지 기판 상부에 적층되며, 제2 반도체 칩을 구비하는 제2 패키지 기판;
상기 제1 패키지 기판 및 상기 제2 패키지 기판을 전기적으로 연결시키는 도전성 부재;
상기 제2 패키지 기판의 외곽부의 상면 상에 구비되는 격벽 구조물; 및
상기 제2 패키지 기판의 상면 상에서 상기 제2 반도체 칩을 커버하며, 상기 격벽 구조물에 의해 형성 영역이 한정되는 몰딩 부재를 포함하는 스택 패키지.A first package substrate having a first semiconductor chip;
A second package substrate stacked on the first package substrate and having a second semiconductor chip;
A conductive member electrically connecting the first package substrate and the second package substrate;
A partition structure provided on an upper surface of an outer portion of the second package substrate; And
And a molding member covering the second semiconductor chip on an upper surface of the second package substrate, the molding member defining a region formed by the barrier rib structure.
상기 제2 반도체 칩과 이격되어 상기 제2 패키지 기판 상면에 배치되는 제2 도전 패드들; 및
상기 제2 패키지 기판 상면 및 상기 격벽 구조물 하부에 배치되며, 상기 제2 도전 패드들을 부분적으로 커버하는 절연 패턴을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스택 패키지.The method of claim 1,
Second conductive pads spaced apart from the second semiconductor chip and disposed on an upper surface of the second package substrate; And
The stack package further comprising an insulating pattern disposed on an upper surface of the second package substrate and a lower portion of the barrier rib structure and partially covering the second conductive pads.
상기 제1 반도체 칩은 도전성 와이어를 통해 상기 제1 도전 패드와 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 스택 패키지.The semiconductor device of claim 1, further comprising: first conductive pads spaced apart from the first semiconductor chip on an upper surface of the first package substrate.
And the first semiconductor chip is electrically connected to the first conductive pad through a conductive wire.
제2 반도체 칩을 포함하는 제2 패키지 기판을 형성하는 단계;
상기 제2 패키지 기판 외곽부에 상기 제2 반도체 칩을 둘러싸는 격벽 구조물을 형성하는 단계;
상기 제2 패키지 기판 상에 상기 제2 반도체 칩을 커버하며 상기 격벽 구조물에 의해 한정되는 몰딩 부재를 형성하는 단계; 및
상기 제1 패키지 기판 및 상기 제2 패키지 기판을 적층시키는 단계를 포함하는 스택 패키지의 제조 방법.Forming a first package substrate comprising a first semiconductor chip;
Forming a second package substrate including a second semiconductor chip;
Forming a barrier rib structure surrounding the second semiconductor chip at an outer portion of the second package substrate;
Forming a molding member covering the second semiconductor chip on the second package substrate and defined by the barrier rib structure; And
Stacking the first package substrate and the second package substrate.
상기 몰딩 부재는 실리콘 봉지재를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 스택 패키지의 제조 방법.The method of claim 9, wherein the barrier rib structure is formed using a material having a higher modulus and a lower coefficient of thermal expansion than the second package substrate.
The molding member is a manufacturing method of a stack package, characterized in that formed using a silicon encapsulant.
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|---|---|---|---|
| KR1020110115227A KR20130050077A (en) | 2011-11-07 | 2011-11-07 | Stacked Packages and Methods for Manufacturing the Same |
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| KR1020110115227A Withdrawn KR20130050077A (en) | 2011-11-07 | 2011-11-07 | Stacked Packages and Methods for Manufacturing the Same |
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| KR (1) | KR20130050077A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140143902A (en) * | 2013-06-10 | 2014-12-18 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor package and method of manufacturing the semiconductor package |
| KR20150088440A (en) * | 2014-01-24 | 2015-08-03 | 삼성전자주식회사 | Bump structure, method of manufacturing the same and semiconductor package inclunding the same |
| US9818707B2 (en) | 2014-12-22 | 2017-11-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Stacked memory chip having reduced input-output load, memory module and memory system including the same |
| KR20210026539A (en) * | 2019-08-30 | 2021-03-10 | 삼성전자주식회사 | Display module package |
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2011
- 2011-11-07 KR KR1020110115227A patent/KR20130050077A/en not_active Withdrawn
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|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20111107 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |