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KR20120022617A - Patterned retarder and manufacturing method of the same - Google Patents

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KR20120022617A
KR20120022617A KR1020110078232A KR20110078232A KR20120022617A KR 20120022617 A KR20120022617 A KR 20120022617A KR 1020110078232 A KR1020110078232 A KR 1020110078232A KR 20110078232 A KR20110078232 A KR 20110078232A KR 20120022617 A KR20120022617 A KR 20120022617A
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liquid crystal
pattern
curable resin
base substrate
layer
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이주원
장인택
주성민
김기준
배윤주
이웅상
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미래나노텍(주)
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Abstract

본 발명은 베이스 기재; 상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어지고, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층; 및 상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈과 제2홈에 내재된 경화형 액정물질에 의해 각각 형성된 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층;을 포함하는 패턴화된 광위상 변조판을 제공한다. 이때, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판은 액정층 표면에 형성된 패턴에 의해 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 구조의 종전의 패턴화된 광위상 변조판과 달리 경화형 수지 패턴층에 내재된 액정물질로 형성된 액정물질 패턴층에 의해 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 구조를 가지기 때문에 광 마스크의 사용을 최소화하고 별도의 에칭 공정 없이 제조가 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판은 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 제조될 수 있어서, 단순화된 공정으로 대량 생산이 가능하다. 아울러, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판을 디스플레이 화면의 전면에 부착하는 경우 시청자에게 고품위의 3차원 입체 영상을 제공할 수 있다.The present invention is a base substrate; A curable resin pattern layer made of a curable resin coated on the base substrate, the curable resin pattern layer having patterns in which first and second grooves having different depths are alternately arranged; And a liquid crystal material pattern layer formed of a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer respectively formed by the curable liquid crystal material in the first and second grooves of the curable resin pattern layer. To provide. In this case, the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are characterized in that the phase of the light is delayed differently.
The patterned photophase modulation plate according to the present invention is a liquid crystal material inherent in the curable resin pattern layer, unlike the conventional patterned photophase modulation plate having a structure that delays the phase of light differently by a pattern formed on the surface of the liquid crystal layer. Since the liquid crystal material pattern layer has a structure that delays the phase of light differently, it is possible to minimize the use of the photo mask and to manufacture without a separate etching process. In addition, the patterned photophase modulation plate according to the present invention can be manufactured in a roll-to-roll manner, thereby enabling mass production in a simplified process. In addition, when the patterned optical phase modulation plate according to the present invention is attached to the front of the display screen, it is possible to provide a viewer with a high quality three-dimensional stereoscopic image.

Description

패턴화된 광위상 변조판 및 이의 제조방법{Patterned retarder and manufacturing method of the same}Patterned optical phase modulator and manufacturing method thereof

본 발명은 패턴화된 광위상 변조판 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 내재된 액정물질에 의해 형성된 액정물질 패턴층을 포함하는 광위상 변조판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a patterned optical phase modulation plate and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an optical phase modulation plate including a liquid crystal material pattern layer formed by an embedded liquid crystal material and a method for manufacturing the same.

오늘날 초고속 정보 통신망을 근간으로 구축될 정보의 고속화를 위해 실현될 서비스들은 현재의 전화와 같이 단순히 듣고 말하는 서비스로부터 문자, 음성, 영상을 고속 처리하는 디지털 단말을 중심으로 한 보고 듣는 멀티 미디어형 서비스로 발전하고 궁극적으로는 시?공간을 초월하여 실감 있고 입체적으로 보고 느끼고 즐기는 초공간형 실감 3차원 입체 정보통신 서비스로 발전할 것으로 예상된다.The services to be realized for the high speed of information to be built on the high-speed information communication network today are the multimedia service centered on the digital terminal which processes text, voice, and video at high speed from the simple listening and speaking service like the current telephone. It is expected to develop and ultimately develop into a super-spatial realistic 3D stereoscopic information communication service that can see, feel and enjoy realistic and three-dimensionally beyond time and space.

일반적으로 3차원을 표현하는 입체 화상은 두 눈을 통한 스테레오 시각의 원리에 의하여 이루어지게 되는데 두 눈의 시차 즉, 두 눈이 약 65㎜ 정도 떨어져서 존재하기 때문에 나타나게 되는 양안 시차가 입체감의 가장 중요한 요인이라 할 수 있다. 즉, 좌/우의 눈은 각각 서로 다른 2차원 화상을 보게 되고, 이 두 화상이 망막을 통해 뇌로 전달되면 뇌는 이를 정확히 서로 융합하여 본래 3차원 영상의 깊이감과 실제감을 재생하는 것이다. 이러한 능력을 통상 스테레오그라피(stereography)라 한다.In general, three-dimensional images representing a three-dimensional image is made by the principle of stereo vision through two eyes. The parallax of two eyes, that is, binocular disparity which appears because the eyes are about 65 mm apart, is the most important factor of the three-dimensional effect. This can be called. In other words, the left and right eyes see different two-dimensional images, and when these two images are delivered to the brain through the retina, the brain accurately fuses them to reproduce the depth and reality of the original three-dimensional image. This ability is commonly referred to as stereography.

전술한 3차원 입체 영상을 표시하는 기술은 크게 양안 시차 방식(stereoscopic technique)과, 복합 시차 방식(autostereoscopic technique)으로 분류할 수 있소, 이 중 양안 시차 방식은 가장 입체효과가 큰 좌우 눈의 시차 영상을 이용하는 것으로서, 안경 방식과 무안경 방식이 있다. 안경 방식은 좌우 영상을 분리하는 것을 이용하는 것으로서, 공간분할 방식(또는 편광 방식)과 시간분할 방식으로 나누어지며, 공간분할 방식은 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)을 사용하고, 시간분할 방식은 셔터 안경(shutter glass)을 사용한다.The above-described three-dimensional stereoscopic image display technology can be largely classified into a binocular parallax method and a compound parallax method. Among them, the binocular parallax method has a parallax image of the left and right eyes having the largest stereoscopic effect. By using, there are a glasses method and a glasses-free method. The glasses method is to separate the left and right images, and is divided into a spatial division method (or polarization method) and a time division method, and the spatial division method uses a patterned patterned retarder and a time division method. Uses shutter glasses.

공간분할 방식(또는 편광 방식)은 편광 현상을 이용하는 것으로서, 디스플레이 화면의 전면에 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)이라는 필름을 붙여서 좌우 영상을 공간적으로 분리한다. 현재 널리 사용되는 것은 광위상 변조판(Patterned retarder)의 라인별로 좌우 영상을 배치하는 방식으로, 예를 들어 수직방향을 기준으로 홀수 라인에는 좌 영상을, 짝수 라인에는 우 영상을 배치한다. 이때 시청자는 편광 안경을 착용하고 디스플레이 화면에서 분리된 좌 영상과 우 영상을 분리 수용하여 입체 영상을 즐기게 된다.The spatial division method (or polarization method) uses a polarization phenomenon, and spatially separates left and right images by attaching a patterned patterned patterned film (Patterned retarder) to the front of the display screen. Currently, the left and right images are arranged for each line of the patterned retarder. For example, the left image is disposed on the odd lines and the right image is placed on the even lines. In this case, the viewer wears polarized glasses and separately receives the left image and the right image separated from the display screen to enjoy a stereoscopic image.

도 1은 종래의 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder) 제조 공정을 나타낸 것이다. 도 1에서 보이는 바와 같이 종래의 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder) 제조 공정은 먼저 베이스 기재(10) 위에 광경화형 액정물질(20)을 도포하는 단계(S10); 도포된 광경화형 액정물질에 광을 조사하고 경화시켜 제1액정물질층(30)을 형성하는 단계(S20); 제1액정물질층위에 광경화형 액정물질(40)을 도포하는 단계(S30); 소정의 패턴을 갖는 광 마스크(45, photo mask)를 대고 광을 조사하고 마스크 되지 않은 광경화형 액정물질을 경화시키는 단계(S40); 및 경화되지 않은 액정물질을 유기용매로 에칭으로 제거하여 소정의 패턴을 가지는 제2액정물질층(50)을 형성하는 단계(S50);로 구성된다. 이때 제1액정물질층은 광의 위상을 λ/4 만큼 지연시키는 두께를 가지며, 제2액정물질층은 광의 위상을 λ/2 만큼 지연시키는 두께를 가진다. 결과적으로 제1액정물질층만을 통과하는 광은 λ/4 만큼 위상이 지연되고, 제1액정물질층과 제2액정물질층을 순차적으로 통과하는 광은 3λ/4 만큼 위상이 지연된다.1 illustrates a conventional patterned retarder manufacturing process. As shown in FIG. 1, a conventional patterned retarder manufacturing process includes first applying a photocurable liquid crystal material 20 on a base substrate 10 (S10); Irradiating and curing the coated photocurable liquid crystal material to form a first liquid crystal material layer 30 (S20); Applying a photocurable liquid crystal material 40 on the first liquid crystal material layer (S30); Irradiating light with a photo mask 45 having a predetermined pattern and curing the unmasked photocurable liquid crystal material (S40); And removing the uncured liquid crystal material with an organic solvent by etching to form a second liquid crystal material layer 50 having a predetermined pattern (S50). At this time, the first liquid crystal material layer has a thickness for retarding the phase of light by λ / 4, and the second liquid crystal material layer has a thickness for retarding the phase of light by λ / 2. As a result, the light passing through only the first liquid crystal material layer is delayed in phase by λ / 4, and the light passing through the first liquid crystal material layer and the second liquid crystal material layer in sequence is delayed by 3λ / 4.

그러나 종래의 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder) 제조 공정은 액정물질의 패턴 형성을 위해 광 마스크를 사용하기 때문에, 정확한 패턴 형성을 위해서는 광 마스크의 정렬(photo mask align)이 높은 치수정밀도로 이루어져야 한다. 이 경우 정렬 공정에서 택타임(tact time)이 길어질 뿐만 아니라, 마스크 정렬 장치(mask aligner)와 같은 고가의 설비를 필요로 한다. 또한, 종래의 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder) 제조 공정은 위상 지연 차를 제어하기 위해 별도의 에칭 공정이 필요하고, 이 경우 공정이 복잡해져서 수율 및 양산성이 낮은 단점이 있다.However, the conventional patterned retarder manufacturing process uses a photo mask for pattern formation of liquid crystal material, so that the photo mask alignment of the photo mask aligns with high dimensional accuracy for accurate pattern formation. Should be done. In this case, not only the tact time is long in the alignment process but also requires expensive equipment such as a mask aligner. In addition, the conventional patterned retarder manufacturing process (patterned retarder) manufacturing process requires a separate etching process to control the phase delay difference, in this case, the process is complicated, there is a disadvantage in low yield and mass productivity.

본 발명은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 일 목적은 광 마스크의 사용을 최소화하고 별도의 에칭 공정 없이 제조 가능한 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)을 제공하는데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the conventional problems, and an object of the present invention is to provide a patterned patterned retarder capable of minimizing the use of a photo mask and manufacturing without a separate etching process. .

또한, 본 발명의 다른 목적은 광 마스크를 사용하지 않고, 별도의 에칭 공정 없이 단순화된 공정으로 대량 생산이 가능한 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조방법을 제공하는데에 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a patterned retarder (patterned retarder) that can be mass-produced in a simplified process without using a photo mask, without a separate etching process.

본 발명의 일 목적을 해결하기 위하여, 본 발명은 베이스 기재; 상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어지고, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층; 및 상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈과 제2홈에 내재된 경화형 액정물질에 의해 각각 형성된 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층;을 포함하는 패턴화된 광위상 변조판을 제공한다. 이때, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다.In order to solve one object of the present invention, the present invention is a base substrate; A curable resin pattern layer made of a curable resin coated on the base substrate, the curable resin pattern layer having patterns in which first and second grooves having different depths are alternately arranged; And a liquid crystal material pattern layer formed of a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer respectively formed by the curable liquid crystal material in the first and second grooves of the curable resin pattern layer. To provide. In this case, the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are characterized in that the phase of the light is delayed differently.

또한, 상기 베이스 기재는 바람직하게는 투명 기재인 것을 특징으로 하고, 구체적으로 투명 유리 기재가 있다. 또한, 상기 베이스 기재는 보다 바람직하게는 가요성 필름인 것을 특징으로 하며, 이 경우 패턴화된 광위상 변조판을 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 제조할 수 있다.In addition, the base substrate is preferably characterized in that the transparent substrate, specifically, there is a transparent glass substrate. In addition, the base substrate is more preferably characterized in that the flexible film, in this case it is possible to manufacture a patterned optical phase modulation plate in a roll to roll (Roll to Roll) method.

또한, 상기 경화형 수지는 열경화형 수지 또는 광경화형 수지에서 선택되고, 바람직하게는 자외선 경화형 수지인 것을 특징으로 한다.In addition, the curable resin is selected from a thermosetting resin or a photocurable resin, characterized in that the ultraviolet curable resin.

또한, 상기 경화형 액정물질은 바람직하게는 광경화형 액정물질인 것을 특징으로 하고, 보다 바람직하게는 자외선 경화형 액정물질인 것을 특징으로 한다.In addition, the curable liquid crystal material is preferably characterized in that the photocurable liquid crystal material, more preferably characterized in that the ultraviolet curable liquid crystal material.

또한, 상기 제1액정층은 광의 위상을 (n-3/4)λ(n은 양의 정수) 만큼 지연시키고, 제2액정층은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것이 바람직하고, 이때, 상기 제1액정층 및 제2액정층을 통과한 광의 하나는 좌원편광 특성을 가지고 다른 하나는 우원편광 특성을 가지는 것을 특징으로 한다.
In addition, the first liquid crystal layer delays the phase of light by (n-3 / 4) λ (n is a positive integer), and the second liquid crystal layer delays the phase of light by (n-1 / 4) λ, n is preferably a positive integer, wherein one of the light passing through the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer has a left circular polarization characteristic and the other has a right circular polarization characteristic.

본 발명의 일 목적을 해결하기 위하여, 본 발명은 베이스 기재; 상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어지고, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층; 및 상기 경화형 수지 패턴층 상에 도포된 액정물질에 의해 형성된 서로 다른 두께의 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층; 을 포함하는 패턴화된 광위상 변조판을 제공한다. 그리고, 상기 제1액정층의 일부는 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격 영역의 위에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다.
In order to solve one object of the present invention, the present invention is a base substrate; A curable resin pattern layer made of curable resin coated on the base substrate and having a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals; And a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer having different thicknesses formed by the liquid crystal material applied on the curable resin pattern layer. It provides a patterned optical phase modulation plate comprising a. A portion of the first liquid crystal layer corresponds to the groove, and a second liquid crystal layer corresponds to the gap region of the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer retard the phase of light differently. .

본 발명의 다른 목적을 해결하기 위하여, 본 발명은 베이스 기재 위에 경화형 수지를 도포하는 단계; 상기 도포된 경화형 수지를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터로 가압하고 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계; 및 상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈과 제2홈에 경화형 액정물질을 충전하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계;를 포함하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법을 제공한다. 이때, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법은 상기 제1액정층 및 제2액정층의 미세한 두께 조절을 위해 바람직하게는 상기 액정물질 패턴층을 평탄화시키는 단계;를 더 포함할 수 있다.In order to solve the other object of the present invention, the present invention comprises the steps of applying a curable resin on the base substrate; The applied curable resin is pressurized and cured by an imprint master formed on one surface of patterns in which first protrusions and second protrusions having different heights are alternately formed, thereby alternately forming first and second grooves of different depths. Forming a curable resin pattern layer having an arrayed pattern; And forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by filling and curing a curable liquid crystal material in the first and second grooves of the curable resin pattern layer. Provided is a method of manufacturing a phase modulation plate. In this case, the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are characterized in that the phase of the light is delayed differently. In addition, the method of manufacturing a patterned optical phase modulation plate according to the present invention preferably further comprises the step of flattening the liquid crystal material pattern layer for fine adjustment of the thickness of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer; Can be.

또한, 상기 베이스 기재는 디스플레이 화면에서 방출되는 광을 투과시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 바람직하게는 투명 기재인 것을 특징으로 하고, 구체적으로 투명 유리 기재가 있다. 또한, 상기 베이스 기재는 보다 바람직하게는 가요성 필름인 것을 특징으로 하며, 이 경우 패턴화된 광위상 변조판을 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 제조할 수 있다.In addition, as long as the base substrate can transmit light emitted from the display screen, the material and shape thereof are not particularly limited, and preferably, the base substrate is a transparent substrate, and specifically, there is a transparent glass substrate. In addition, the base substrate is more preferably characterized in that the flexible film, in this case it is possible to manufacture a patterned optical phase modulation plate in a roll to roll (Roll to Roll) method.

또한, 상기 임프린트용 마스터는 통상적인 평판형 압축 방식에 사용되는 것일 수도 있으나, 바람직하게는 롤투롤(Roll to Roll) 방식에 적합한 것을 특징으로 하면, 구체적으로 후술하는 마스터 롤, 스탬퍼 롤, 필름 형상의 성형 몰드 등이 있다.In addition, the imprint master may be used in a conventional flat compression method, but preferably characterized in that suitable for a roll-to-roll (roll to roll) method, specifically described later master roll, stamper roll, film shape Molding molds and the like.

상기 베이스 기재가 가요성 필름인 경우 상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 구성될 수 있으며, 구체적으로 다음과 같은 3가지의 실시예를 들 수 있다.When the base substrate is a flexible film, the step of applying the curable resin and the step of forming the curable resin pattern layer may be configured in a roll-to-roll method, and specifically, the following three embodiments Can be mentioned.

상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계의 제1실시예는 (a1) 베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 표면에 형성된 임프린트용 마스터 롤에 이송시키는 단계; (a2) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 마스터 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 마스터 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계; (a3) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 마스터 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및 (a4) 상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 마스터 롤과 분리시키는 단계;로 구성된다. 이때, 상기 임프린트용 마스터 롤은 원통형의 금속 표면에 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴 형상이 가공된 것을 특징으로 한다.The first embodiment of the step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer is (a1) for the imprint formed on the surface of the pattern in which the first projection and the second projection of the different height alternately arranged base substrate Transferring to a master roll; (a2) filling the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint master roll by injecting a curable resin into an area where one surface of the base substrate and the pattern formed on the surface of the imprint master roll are in close contact with each other; ; (a3) Curable resin pattern having a pattern in which first and second grooves of different depths are alternately arranged by closely contacting one surface of the base substrate with the surface of the imprint master roll having the pattern formed thereon and curing the curable resin. Forming a layer and attaching to one side of the base substrate; And (a4) separating the base substrate to which the curable resin pattern layer is attached from the master roll for imprint. At this time, the imprint master roll is characterized in that the pattern shape in which the first projection and the second projection of the different height alternately arranged on the cylindrical metal surface is processed.

상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계의 제2실시예는 (b1) 베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 표면에 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤에 이송시키는 단계; (b2) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계; (b3) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및 (b4) 상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 스탬퍼 롤과 분리시키는 단계;로 구성된다. 이때, 상기 임프린트용 스탬퍼 롤은 원통형의 지지체 표면에 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴을 가진 스탬퍼가 밀착 고정된 것을 특징으로 한다.The second embodiment of the step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer (b1) for the imprint formed on the surface of the pattern in which the first substrate and the second projection of the different height alternately arranged on the base substrate Transferring to a stamper roll; (b2) filling the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint stamper roll by injecting a curable resin into a region where one surface of the base substrate and the pattern formed on the surface of the imprint stamper roll are in close contact with each other; ; (b3) a curable resin pattern having a pattern in which first and second grooves of different depths are alternately arranged by closely contacting one surface of the base substrate with a surface of an imprint stamper roll on which the pattern is formed, and curing the curable resin. Forming a layer and attaching to one side of the base substrate; And (b4) separating the base substrate to which the curable resin pattern layer is attached from the stamper roll for imprinting. In this case, the stamper roll for imprint is characterized in that the stamper having a pattern in which the first projection and the second projection of different heights are alternately arranged on the surface of the cylindrical supporter in close contact.

상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계의 제3실시예는 (c1) 베이스 기재를 가이드 롤을 통해 패턴 롤로 이송시키는 단계; (c2) 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드를 패턴 가이드 롤을 통해 패턴 롤로 이송시키는 단계; (c3) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 성형 몰드의 일면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 성형 몰드의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계; (c4) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 성형 몰드의 일면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및 (c5) 상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 성형 몰드와 분리시키는 단계;로 구성된다. 이때, 상기 필름 형상의 성형 몰드는 필름 형상의 기재층; 및 상기 기재층의 일면에 형성되고, 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴을 가진 패턴층;을 포함하고, 바람직하게는 상기 기재층의 다른 일면에 형성되고, 상기 롤의 표면과의 마찰력을 증가시키기 위한 마찰부;를 더 포함할 수 있다. 성형 몰드의 상기 기재층은 바람직하게는 PET 필름으로 이루어진 것을 특징으로 한다. 또한, 성형 몰드의 상기 패턴층은 고분자 수지로 이루어진 것을 특징으로 한다. 또한, 성형 몰드의 상기 마찰부는 다수의 미세한 요철로 이루어지거나, 탄성 재료로 형성된 박막 필름으로 이루어진 것을 특징으로 한다.
The third embodiment of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer may include: (c1) transferring the base substrate to the pattern roll through the guide roll; (c2) transferring the forming mold having a film shape formed on one surface of patterns having alternately arranged first and second protrusions having different heights to the pattern roll through the pattern guide roll; (c3) filling the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the molding mold by injecting the curable resin into an area where one surface of the base substrate and the pattern formed on one surface of the molding mold are in close contact; (c4) a curable resin pattern layer having a pattern in which first and second grooves of different depths are alternately arranged by closely contacting one surface of the base substrate with one surface of the molding mold on which the pattern is formed and curing the curable resin. Forming and attaching to one side of the base substrate; And (c5) separating the base substrate with the curable resin pattern layer from the molding mold. At this time, the film-shaped molding mold is a film-shaped base layer; And a pattern layer formed on one surface of the substrate layer and having a pattern in which first and second protrusions having different heights are alternately arranged. Preferably, the pattern layer is formed on the other surface of the substrate layer. It may further include a; friction portion for increasing the frictional force with the surface of the. The base layer of the molding mold is preferably characterized in that the PET film. In addition, the pattern layer of the molding mold is characterized in that made of a polymer resin. In addition, the friction portion of the molding mold is made of a plurality of fine irregularities, characterized in that made of a thin film formed of an elastic material.

본 발명의 다른 목적을 해결하기 위하여, 본 발명은 베이스 기재 위에 경화형 수지를 도포하는 단계; 상기 도포된 경화형 수지를 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터로 가압하고 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계; 및 상기 경화형 수지 패턴층 상에 경화형 액정물질을 도포하고 경화시켜 서로 다른 두께의 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계; 를 포함하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법을 제공한다. 그리고, 상기 제1액정층은 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다.In order to solve the other object of the present invention, the present invention comprises the steps of applying a curable resin on the base substrate; The coated curable resin is pressed and cured by an imprint master, in which a plurality of protrusions having a predetermined thickness and arranged at predetermined intervals are molded on one surface thereof, so that a plurality of grooves having a predetermined depth have a pattern arranged at predetermined intervals. Forming a curable resin pattern layer; And forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer having different thicknesses by coating and curing the curable liquid crystal material on the curable resin pattern layer. It provides a method of manufacturing a patterned optical phase modulation plate comprising a. The first liquid crystal layer corresponds to the groove, the second liquid crystal layer corresponds to the gap between the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are characterized in that the phase of the light is different from each other.

본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판은 액정층 표면에 형성된 패턴에 의해 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 구조의 종전의 패턴화된 광위상 변조판과 달리 경화형 수지 패턴층에 내재된 액정물질로 형성된 액정물질 패턴층에 의해 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 구조를 가지기 때문에 광 마스크의 사용을 최소화하고 별도의 에칭 공정 없이 제조가 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판은 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 제조될 수 있어서, 단순화된 공정으로 대량 생산이 가능하다. 아울러, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판을 디스플레이 화면의 전면에 부착하는 경우 시청자에게 고품위의 3차원 입체 영상을 제공할 수 있다.The patterned photophase modulation plate according to the present invention is a liquid crystal material inherent in the curable resin pattern layer, unlike the conventional patterned photophase modulation plate having a structure that delays the phase of light differently by a pattern formed on the surface of the liquid crystal layer. Since the liquid crystal material pattern layer has a structure that delays the phase of light differently, it is possible to minimize the use of the photo mask and to manufacture without a separate etching process. In addition, the patterned photophase modulation plate according to the present invention can be manufactured in a roll-to-roll manner, thereby enabling mass production in a simplified process. In addition, when the patterned optical phase modulation plate according to the present invention is attached to the front of the display screen, it is possible to provide a viewer with a high quality three-dimensional stereoscopic image.

도 1은 종래의 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder) 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 분해 단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 결합 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제1실시예를 나타낸 것이다.
도 7은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제2실시예에 사용된 임프린트용 스탬퍼 롤의 단면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예를 나타낸 것이다.
도 9는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 또 다른 제3실시예를 나타낸 것이다.
도 10은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예에 사용된 성형 몰드의 단면도이고, 도 11은 다른 성형 몰드의 단면도이고, 도 12는 또 다른 성형 몰드의 단면도이다.
도 13은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 사시도이고, 도 14는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 분해 단면도이며, 도 15는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 결합 단면도이다.
도 16은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 17은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제1실시예를 나타낸 것이다.
도 18은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제2실시예에 사용된 임프린트용 스탬퍼 롤의 단면도이다.
도 19는 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예를 나타낸 것이다.
도 20은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 또 다른 제3실시예를 나타낸 것이다.
도 21은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예에 사용된 성형 몰드의 단면도이고, 도 22는 다른 성형 몰드의 단면도이고, 도 23은 또 다른 성형 몰드의 단면도이다.
도 24는 본 발명의 또다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 결합 단면도이다.1 illustrates a conventional patterned retarder manufacturing process.
2 is a perspective view of a patterned patterned retarder according to the present invention, FIG. 3 is an exploded cross-sectional view of a patterned patterned retarder according to the present invention, and FIG. A cross-sectional view of a patterned patterned retarder in accordance with FIG.
5 shows a process for producing a patterned retarder of patterned light according to the present invention.
FIG. 6 shows a first embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention.
FIG. 7 is a stamper for imprint used in a second embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. It is a cross-sectional view of a roll.
FIG. 8 shows a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention.
FIG. 9 shows another third embodiment constituting the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned patterned retarder according to the present invention.
FIG. 10 illustrates a molding mold used in a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. It is sectional drawing, FIG. 11 is sectional drawing of another molding mold, and FIG. 12 is sectional drawing of another molding mold.
13 is a perspective view of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention, and FIG. 14 is an exploded cross-sectional view of a patterned patterned retarder according to the present invention. 15 is a cross sectional view of a combined patterned retarder according to the present invention.
FIG. 16 illustrates a manufacturing process of a patterned pattern retarder according to another preferred embodiment of the present invention.
FIG. 17 illustrates a first embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. will be.
FIG. 18 is used in a second embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. Section of the imprinted stamper roll.
FIG. 19 illustrates a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. will be.
FIG. 20 is a third embodiment of the method for applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. It is shown.
FIG. 21 is used in a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. 22 is a sectional view of another molding mold, and FIG. 23 is a sectional view of another molding mold.
24 is a cross sectional view of a combined patterned retarder according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 첨가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 또한, 이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명할 것이나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고 당업자에 의해 실시될 수 있음은 물론이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used as much as possible even if displayed on different drawings. In addition, detailed description is abbreviate | omitted when it is judged that it may obscure the summary of this invention. In addition, preferred embodiments of the present invention will be described below, but the technical idea of the present invention may be implemented by those skilled in the art without being limited or limited thereto.

먼저, 도 1 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 바람직한 일 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판 및 패턴화된 광위상 변조판 제조방법에 대하여 설명한다.First, a patterned photophase modulation plate and a patterned photophase modulation plate manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 12.

본 발명의 일 측면은 패턴화된 광위상 변조판에 관한 것이다.One aspect of the invention relates to a patterned photophase modulator.

도 2는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 분해 단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 결합 단면도이다.2 is a perspective view of a patterned patterned retarder according to the present invention, FIG. 3 is an exploded cross-sectional view of a patterned patterned retarder according to the present invention, and FIG. A cross-sectional view of a patterned patterned retarder in accordance with FIG.

도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 100)은 베이스 기재(110), 경화형 수지 패턴층(120), 및 액정물질 패턴층(130)을 포함한다.As shown in FIGS. 2 to 4, the patterned optical phase modulator 100 according to the present invention includes a base substrate 110, a curable resin pattern layer 120, and a liquid crystal material pattern layer 130. It includes.

베이스 기재(110)는 광을 투과시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 광의 원활한 투과를 위해 투명 기재인 것이 바람직하다. 투명 기재의 구체적인 예로 투명 유리 기재, 투명 플라스틱 기재가 있다. 또한, 베이스 기재는 보다 바람직하게는 가요성 필름인 것을 특징으로 하는데, 이 경우 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판을 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 제조할 수 있다.As long as the base substrate 110 can transmit light, the material and shape thereof are not particularly limited, and the base substrate 110 is preferably a transparent substrate for smooth transmission of light. Specific examples of the transparent substrate include a transparent glass substrate and a transparent plastic substrate. In addition, the base substrate is more preferably characterized in that the flexible film, in this case, the patterned photophase modulation plate according to the present invention can be produced in a roll to roll (Roll to Roll) method.

경화형 수지 패턴층(120)은 상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어진다. 또한, 경화형 수지 패턴층은 그 표면에 서로 다른 깊이의 제1홈(121)과 제2홈(122)이 교대로 배열된 일련의 패턴을 가진다. 일 예로 제1홈의 깊이가 1㎛일때 제2홈의 깊이는 3㎛이며, 이 경우 후술하는 제1액정층의 두께는 1㎛이고, 제2액정층의 두께는 3㎛이다. 경화형 수지는 광을 투과시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 열경화형 수지 또는 광경화형 수지 등 공지의 경화형 수지가 사용될 수 있고, 바람직하게는 광경화형 수지인 것을 특징으로 하며, 상업적인 측면에서 보다 바람직하게는 자외선 경화형 수지인 것을 특징으로 한다. 경화형 수지 패턴층의 표면에는 서로 다른 깊이의 제1홈(121)과 제2홈(122)이 교대로 배열된 일련의 패턴이 베이스 기재를 기준으로 세로 방향 또는 가로 방향으로 형성되는데,이때 패턴은 후술하는 임프린트(Imprint) 방식에 의해 형성된다. 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 100)은 후술하는 액정물질 패턴층을 구성하는 제1액정층과 제2액정층의 두께가 경화형 수지 패턴층의 제1홈 및 제2홈의 깊이에 의해 조절되는 것을 특징으로 한다.Curable resin pattern layer 120 is made of a curable resin coated on the base substrate. In addition, the curable resin pattern layer has a series of patterns in which the first grooves 121 and the second grooves 122 of different depths are alternately arranged on the surface thereof. For example, when the depth of the first groove is 1 μm, the depth of the second groove is 3 μm. In this case, the thickness of the first liquid crystal layer described later is 1 μm, and the thickness of the second liquid crystal layer is 3 μm. As long as the curable resin can transmit light, its material and shape are not particularly limited, and well-known curable resins such as thermosetting resins or photocurable resins can be used, and are preferably photocurable resins. From a commercial point of view, more preferably an ultraviolet curable resin. On the surface of the curable resin pattern layer, a series of patterns in which the first grooves 121 and the second grooves 122 of different depths are alternately arranged is formed in the vertical direction or the horizontal direction based on the base substrate. It is formed by an imprint method described later. The patterned optical phase modulation plate 100 according to the present invention has a thickness of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer constituting the liquid crystal material pattern layer, which will be described later. It is characterized by being controlled by the depth of the groove.

액정물질 패턴층(130)은 서로 다른 두께를 가지고 교대로 배열된 일련의 제1액정층(131)과 제2액정층(132)으로 이루어진다. 또한, 제1액정층은 상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈에 내재된 경화형 액정물질에 의해 형성되고, 제2액정층은 상기 경화형 수지 패턴층의 제2홈에 내재된 경화형 액정물질에 의해 형성되며, 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다. 상기 경화형 액정물질은 소정의 두께에 따라 광위 위상을 다르게 지연시키고, 광의 편광 특성을 변화시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 구체적인 예로 네마틱상(Nematic phase), 디스코틱상(Discotic phases), 및 콜레스테릭상[Cholesteric phase, 또는 카이럴 네마틱상(Chiral nematic phase)이라 부른다.] 으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 또한, 상기 경화형 액정물질은 바람직하게는 광경화형 액정물질인 것을 특징으로 하며, 상업적인 측면에서 보다 바람직하게는 자외선 경화형 액정물질인 것을 특징으로 한다. 광 경화형 액정물질은 자외선 등의 광을 조사하면 광가교 반응에 의해 경화되는 액정물질이다. 디스플레이 화면, 예를 들어 LCD, PDP, EL, FED 표면에 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 100)을 부착하는 경우 입체 영상 표시 장치를 구성할 수 있다. 보다 구체적으로 디스플레이 화면에서 방출된 출사광은 서로 다른 두께를 가지고 교대로 배열된 일련의 제1액정층(131)과 제2액정층(132)을 통과하면서 광의 위상이 서로 다르게 지연되고, 제1액정층(131)과 제2액정층(132)을 통과한 광은 서로 다른 편광 특성을 나타낸다. 시청자는 서로 다른 편광 특성에 대응되는 2개의 편광렌즈가 구비된 편광안경을 통하여 양안에서 각기 다른 특성의 광을 인식하게 되고 입체 영상을 느낄 수 있다. 이때, 액정층을 통과하는 광은 액정층의 두께, 및 액정물질의 굴절율 이방성에 의해 광위상 변조특성이 달라지게 되는데, 그 관계는 하기의 수학식 1과 같다.The liquid crystal material pattern layer 130 includes a series of first liquid crystal layers 131 and second liquid crystal layers 132 alternately arranged with different thicknesses. The first liquid crystal layer is formed of a curable liquid crystal material embedded in a first groove of the curable resin pattern layer, and the second liquid crystal layer is formed of a curable liquid crystal material embedded in a second groove of the curable resin pattern layer. The first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are characterized by retarding the phase of light differently. As long as the curable liquid crystal material may retard the phase of light differently according to a predetermined thickness and change the polarization characteristic of light, the material or shape thereof is not particularly limited. Specific examples thereof include a nematic phase and a discotic phase. phases), and a cholesteric phase (called a Cholesteric phase, or chiral nematic phase). In addition, the curable liquid crystal material is preferably characterized in that the photocurable liquid crystal material, more preferably from the commercial aspect is characterized in that the ultraviolet curable liquid crystal material. The photocurable liquid crystal material is a liquid crystal material that is cured by a photocrosslinking reaction when irradiated with light such as ultraviolet rays. When the patterned retarder 100 according to the present invention is attached to a display screen, for example, an LCD, a PDP, an EL, or a FED surface, a stereoscopic image display device may be configured. More specifically, the emitted light emitted from the display screen is delayed differently from each other while passing through a series of first liquid crystal layer 131 and a second liquid crystal layer 132 which are alternately arranged with different thicknesses. Light passing through the liquid crystal layer 131 and the second liquid crystal layer 132 exhibits different polarization characteristics. The viewer may recognize light having different characteristics in both eyes through a polarizing glasses having two polarizing lenses corresponding to different polarization characteristics, and may feel a stereoscopic image. At this time, the light passing through the liquid crystal layer is changed in the optical phase modulation characteristics by the thickness of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy of the liquid crystal material, the relationship is shown in Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

광의 위상 지연값 = Δn × tPhase retardation of light = Δn × t

여기서, Δn은 액정물질의 굴절율 이방성(optical anisotropy)이고, t는 액정층의 두께이다.Here, Δn is the refractive anisotropy of the liquid crystal material, and t is the thickness of the liquid crystal layer.

본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 100)의 액정물질 패턴층을 구성하는 제1액정층은 광의 위상을 (n-3/4)λ(n은 양의 정수) 만큼 지연시키고, 제2액정층은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것이 바람직한데, 이 경우 상기 제1액정층 및 제2액정층을 통과한 광의 하나는 좌원편광 특성을 가지고 다른 하나는 우원편광 특성을 가지게 된다. 좌원편광을 선택적으로 통과시키는 좌안렌즈와 우원편광을 선택적으로 통과시키는 우안렌즈를 구비한 편광안경을 통해 시청자는 고품위의 입체 영상을 느낄 수 있게 된다. 보다 구체적으로 사용된 액정물질의 굴절율 이방성인 Δn이 0.17일때, 제1액정층에 의해 광의 위상을 λ/4(여기서 λ는 광의 파장으로서, 예를 들어 λ/4는 137.5㎚이다.)만큼 지연시키고 제2액정층에 의해 광의 위상을 3λ/4(여기서 λ는 광의 파장으로서, 예를 들어 3λ/4는 412.5㎚이다.)만큼 지연시키기 위해서는 제1액정층 및 제2액정층의 두께가 각각 0.808㎛ 및 2.426㎛ 이어야 한다. 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 100)의 액정물질 패턴층을 구성하는 제1액정층 및 제2액정층의 두께는 마이크로 미터 또는 나노 미터와 같은 미세수준에서 제어될 필요가 있으며, 이러한 액정층 두께의 미세 제어는 임프린트에 의해 마이크로 미터 또는 나노 미터와 같은 미세수준의 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층에 의해 달성될 수 있다.The first liquid crystal layer constituting the liquid crystal material pattern layer of the patterned retarder 100 according to the present invention delays the phase of light by (n-3 / 4) λ (n is a positive integer). And the second liquid crystal layer retards the phase of light by (n-1 / 4) λ, where n is a positive integer, in which case one of the light passing through the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer is a left circle. The polarization characteristic and the other has the right circular polarization characteristic. Through polarized glasses having a left eye lens for selectively passing left circular polarization and a right eye lens for selectively passing right circular polarization, viewers can feel high-quality stereoscopic images. More specifically, when the refractive index anisotropy Δn of the liquid crystal material used is 0.17, the phase of light is delayed by λ / 4 (where λ is the wavelength of light, for example, λ / 4 is 137.5 nm) by the first liquid crystal layer. In order to delay the phase of the light by 3λ / 4 (where λ is the wavelength of light, for example, 3λ / 4 is 412.5 nm) by the second liquid crystal layer, the thicknesses of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are respectively It should be 0.808 μm and 2.426 μm. The thicknesses of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer constituting the liquid crystal material pattern layer of the patterned retarder 100 according to the present invention need to be controlled at a micro level such as micrometer or nanometer. Fine control of the thickness of the liquid crystal layer may be achieved by a curable resin pattern layer having a pattern of a fine level such as micrometer or nanometer by imprint.

상기에서 본 발명의 일 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판에 대하여 설명함에 있어서 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지층에 제1홈과 제2홈이 형성되고 제1홈과 제2홈 내에 제1액정층과 제2액정층이 형성된 것을 그 예로 하였지만 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 일 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판은 제1홈과 제2홈이 베이스 기재의 일면에 형성되고 베이스 기재의 제1홈과 제2홈 내에 제1액정층과 제2액정층이 형성되는 등, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 예가 가능하다.
In the above description of the patterned optical phase modulation plate according to an embodiment of the present invention, the first groove and the second groove are formed in the curable resin layer coated on the base substrate, and the first groove and the second groove are formed in the first groove and the second groove. Although the liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are formed as an example, the present invention is not limited thereto. In the patterned optical phase modulation plate according to an embodiment of the present invention, the first groove and the second groove may be formed on one surface of the base substrate. Various examples are possible without departing from the gist of the present invention, such that the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer are formed in the first groove and the second groove of the base substrate.

본 발명의 다른 측면은 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to a method of manufacturing a patterned photophase modulation plate.

도 5는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정을 나타낸 것이다.5 shows a process for producing a patterned retarder of patterned light according to the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조방법은 베이스 기재(110) 위에 경화형 수지를 도포하는 단계(S100); 상기 도포된 경화형 수지를 서로 다른 높이의 제1돌기(116)와 제2돌기(117)가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터(115)로 가압하고 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈(121)과 제2홈(121)이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층(120)을 형성하는 단계(S200, S300); 및 상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈과 제2홈에 경화형 액정물질을 충전하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층(130)을 형성하는 단계(S400);를 포함한다. 이때, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법은 도 5에 도시되지는 않았지만 상기 제1액정층 및 제2액정층의 미세한 두께 조절을 위해 바람직하게는 상기 액정물질 패턴층을 화학 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP) 장치 등을 이용하여 평탄화시키는 단계;를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조방법에서 액정물질은 스핀 코팅, 롤 코팅, 디스펜싱 코팅, 또는 그라비아 코팅 등의 방법에 의해 충전될 수 있으며, 이때 액정 물질은 고분자 용매에 희석되어 사용될 수 있다. 액정물질을 코팅하는 방법은 용매의 종류와 희석 비율에 의해 결정되는 것이 일반적이다. 또한, 충전된 액정물질 위에 자외선과 같은 광을 조사하고 광가교 반응시키면 액정층을 형성하는데, 액정층의 광위상 변조 특성은 액정층의 두께, 액정물질의 굴절율 이방성에 의해 달라지게 되며, 액정층의 두께는 크게 제한되지 않으나, 수 마이크로미터 이하의 두께를 가지는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 5, the method for manufacturing a patterned patterned retarder according to the present invention includes applying a curable resin on the base substrate 110 (S100); The applied curable resin is pressurized and cured by the imprint master 115 formed on one surface of patterns in which the first protrusions 116 and the second protrusions 117 of different heights are alternately arranged. Forming a curable resin pattern layer 120 having a pattern in which the first grooves 121 and the second grooves 121 are alternately arranged (S200 and S300); And forming a liquid crystal material pattern layer 130 including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by filling and curing the curable liquid crystal material in the first and second grooves of the curable resin pattern layer (S400). Include. In this case, the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer may be configured to delay the phase of light differently. In addition, although the method of manufacturing the patterned photophase modulation plate according to the present invention is preferably not shown in FIG. 5, the liquid crystal material pattern layer is preferably chemically controlled for fine thickness control of the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer. The method may further include planarization using a chemical mechanical polishing (CMP) device or the like. In the method of manufacturing a patterned patterned retarder according to the present invention, the liquid crystal material may be filled by a method such as spin coating, roll coating, dispensing coating, or gravure coating, wherein the liquid crystal material is a polymer. It can be used diluted in a solvent. The method of coating the liquid crystal material is generally determined by the type of solvent and the dilution ratio. The liquid crystal layer is formed by irradiating light such as ultraviolet light and photocrosslinking on the filled liquid crystal material. The optical phase modulation characteristic of the liquid crystal layer is changed by the thickness of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy of the liquid crystal material. The thickness of is not particularly limited, but preferably has a thickness of several micrometers or less.

한편, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는 임프린트 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하며, 베이스 기재의 재료나 형태에 의해 평판 타입의 임프린트용 마스터를 사용하는 평판 압축 성형 방식을 이용할 수도 있고, 바람직하게는 롤 타입의 임프린트용 마스터를 사용하는 롤투롤(Roll to Roll) 방식을 이용할 수도 있다. 특히 롤투롤(Roll to Roll) 방식을 이용을 이용하는 경우 제조공정의 단순화, 생산성의 향상 및 대면적으로 미세형상의 경화형 수지 패턴층 성형이 가능하다. 보다 구체적으로 상기 베이스 기재가 가요성 필름인 경우 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판을 제조할 수 있으며, 이때, 상기 임프린트용 마스터는 후술하는 마스터 롤, 스탬퍼 롤, 필름 형상의 성형 몰드 등이 있다.On the other hand, the step of applying the curable resin and the step of forming the curable resin pattern layer in the manufacturing method of the patterned optical phase modulation plate according to the invention is characterized in that made by the imprint method, By this, a flat plate compression molding method using a flat type imprint master may be used, and preferably, a roll to roll type using a roll type imprint master may be used. In particular, when using a roll-to-roll method, it is possible to simplify the manufacturing process, improve productivity, and form a curable resin pattern layer having a fine shape in a large area. More specifically, when the base substrate is a flexible film, it is possible to manufacture a patterned optical phase modulation plate according to the present invention by a roll to roll method, wherein the master for imprint is a master roll to be described later, Stamper rolls, film-shaped molds, and the like.

도 6은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제1실시예를 나타낸 것이다. 도 6에서 보이는 바와 같이 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제1실시예는 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤(240)을 사용하는데, 임프린트용 마스터 롤은 원통형의 금속 표면에 서로 다른 높이의 제1돌기(241)와 제2돌기(242)가 교대로 배열된 패턴 형상이 가공된 것으로서 제조장치에 직접 장착 후 사용된다. 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤(240)을 사용하는 경화형 수지 패턴층 형성 장치는 필름 형태의 베이스 기재(210)가 감겨진 제1롤(220)과 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(212)가 감기는 제2롤(250)이 양측에 구비되어 베이스 기재(210)을 지지 구동시키고, 제1롤과 제2롤 사이에는 베이스 기재를 이송시키는 가이드 롤(230a 내지 230d)과 베이스 기재에 경화형 수지 패턴층을 성형하기 위한 임프린트용 마스터 롤(240)이 구비된다. 또한, 베이스 기재(210)가 임프린트용 마스터 롤(240)에 인입되는 지점에는 경화형 수지(262)을 공급하는 경화형 수지 주입수단(260)이 구비되고, 임프린트용 마스터 롤(240)의 주변으로는 베이스 기재에 도포된 경화형 수지를 경화시키기 위한 경화수단(270)이 구비된다. 베이스 기재(210)는 제1롤(220)에서 풀리면서 가이드 롤(230a 내지 230d)을 따라 이송되어 임프린트용 마스터 롤(240)과 접촉하게 된다. 이때, 베이스 기재가 임프린트용 마스터 롤(240)에 인입되는 지점으로 경화형 수지 주입수단(260)으로부터 경화형 수지(260)가 주입되고, 주입된 경화형 수지는 상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 마스터 롤 표면의 밀착에 의해 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴 모양으로 베이스 기재(210)에 도포되게 되며, 베이스 기재에 도포된 경화형 수지는 임프린트용 마스터 롤(240)의 주변에 설치된 경화수단(270)으로부터 발산되는 열 또는 자외선에 의해 경화된다. 이때, 베이스 기재(210)를 임프린트용 마스터 롤(240)에 인입시키는 가이드 롤(230b)은 베이스 기재에 성형되는 경화형 수지 패턴층의 갭을 조절하는 역할을 한다. 즉, 가이드 롤(230b)을 임프린트용 마스터 롤(240)에 밀착시키면 베이스 기재가 임프린트용 마스터 롤(240)에 밀착하게 되므로 성형되는 경화형 수지 패턴층의 두께가 얇아지고, 반대로 가이드 롤(230b)을 임프린트용 마스터 롤(240)과 거리를 두면 베이스 기재와 임프린트용 마스터 롤(240) 사이의 간격이 넓어져 경화형 수지가 많이 유입되므로 경화형 수지 패턴층의 두께가 두꺼워진다. 임프린트용 마스터 롤(240)을 거치면서 서로 다른 깊이의 제1홈(213)과 제2홈(214)이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(212)는 가이드 롤(230c)에 의해 이끌려 임프린트용 마스터 롤(240)과 분리되고, 이후 이송되어 제2롤(250)에 감기게 된다.FIG. 6 shows a first embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. As shown in FIG. 6, the first embodiment constituting the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer uses an imprint master roll 240 as an imprint master, wherein the imprint master roll is cylindrical The first projections 241 and the second projections 242 having different heights are alternately arranged on the metal surface of the metal, and are used after being directly mounted on the manufacturing apparatus. In the curable resin pattern layer forming apparatus using the imprint master roll 240 as the imprint master, the first roll 220 on which the base substrate 210 in a film form is wound and the base substrate 212 on which the curable resin pattern layer is molded The second roll 250 is wound on both sides to support and drive the base substrate 210, and to the guide rolls 230a to 230d and the base substrate to transfer the base substrate between the first roll and the second roll. An imprint master roll 240 for molding the curable resin pattern layer is provided. In addition, at the point where the base substrate 210 enters the master roll 240 for imprint, a curable resin injecting means 260 for supplying the curable resin 262 is provided, and around the imprint master roll 240. Curing means 270 for curing the curable resin applied to the base substrate is provided. The base substrate 210 is moved along the guide rolls 230a to 230d while being released from the first roll 220 to be in contact with the master roll 240 for imprint. In this case, the curable resin 260 is injected from the curable resin injecting means 260 to a point where the base substrate is introduced into the master roll 240 for imprint, and the injected curable resin has an imprint on which one surface of the base substrate and the pattern are formed. The first and second grooves having different depths are applied to the base substrate 210 in a pattern pattern in which the first grooves and the second grooves of different depths are alternately arranged by the adhesion of the master roll surface, and the curable resin applied to the base substrate is a master roll for imprint ( It is cured by heat or ultraviolet rays emitted from the hardening means 270 provided around the 240. At this time, the guide roll 230b for introducing the base substrate 210 into the master roll 240 for imprint serves to adjust the gap of the curable resin pattern layer formed on the base substrate. That is, when the guide roll 230b is in close contact with the master roll for imprint 240, the base substrate is in close contact with the master roll 240 for imprint, and thus the thickness of the curable resin pattern layer to be formed is thin, and conversely, the guide roll 230b is used. When the distance from the imprint master roll 240 to a distance between the base substrate and the imprint master roll 240 is widened, the curable resin flows a lot, the thickness of the curable resin pattern layer becomes thick. The base substrate 212 formed with a curable resin pattern layer having a pattern in which the first grooves 213 and the second grooves 214 of different depths are alternately arranged while passing through the master roll for imprint 240 is a guide roll. It is drawn by the 230c and separated from the master roll 240 for imprint, and then transported to be wound on the second roll (250).

또한, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제2실시예는 임프린트용 마스터로 제1실시예의 임프린트용 마스터 롤 대신 임프린트용 스탬퍼 롤을 사용한다. 도 7은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제2실시예에 사용된 임프린트용 스탬퍼 롤의 단면도이다. 도 7에서 보이는 바와 같이 임프린트용 스탬퍼 롤(340)은 원통형의 지지체(344) 표면에 서로 다른 높이의 제1돌기(342)와 제2돌기(343)가 교대로 배열된 패턴을 가진 스탬퍼(341)가 밀착 고정된 것이다. 상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계의 제2실시예는 (b1) 베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 표면에 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤에 이송시키는 단계; (b2) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계; (b3) 상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및 (b4) 상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 스탬퍼 롤과 분리시키는 단계;로 구성된다.In addition, the second embodiment constituting the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned pattern retarder (patterned retarder) according to the present invention is a first imprint master An imprint stamper roll is used instead of the imprint master roll of the embodiment. FIG. 7 is a stamper for imprint used in a second embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. It is a cross-sectional view of a roll. As shown in FIG. 7, the stamper roll 340 for imprint has a stamper 341 having a pattern in which first protrusions 342 and second protrusions 343 having different heights are alternately arranged on a cylindrical support 344 surface. ) Is tightly fixed. The second embodiment of the step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer (b1) for the imprint formed on the surface of the pattern in which the first substrate and the second projection of the different height alternately arranged on the base substrate Transferring to a stamper roll; (b2) filling the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint stamper roll by injecting a curable resin into a region where one surface of the base substrate and the pattern formed on the surface of the imprint stamper roll are in close contact with each other; ; (b3) a curable resin pattern having a pattern in which first and second grooves of different depths are alternately arranged by closely contacting one surface of the base substrate with a surface of an imprint stamper roll on which the pattern is formed, and curing the curable resin. Forming a layer and attaching to one side of the base substrate; And (b4) separating the base substrate to which the curable resin pattern layer is attached from the stamper roll for imprinting.

본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계에서 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤을 사용하는 제1실시예는 제품의 형성품질이 비교적 우수하다는 장점이 있는 반면, 생산성을 고려하면 패턴의 가공면적이 최소한 직경 500㎜ 이상의 대면적을 가공해야 하므로 패턴가공 비용이 기하급수적으로 증가하게 되는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 중량과 부피가 커져서 취급이 어려울 뿐만 아니라, 제품생산시 작업불량으로 부분적인 오염이 발생할 수 있고, 스크래치 등으로 인한 유지보수와 마모에 의한 수명 문제로 제조 비용이 상승하는 문제가 발생할 수 있다. 한편, 임프린트용 마스터로 임프린트용 스탬퍼 롤을 사용하는 제2실시예는 스탬퍼 자체의 제조공정이 까다롭고, 대면적화할수록 제조에 소요되는 기간이 장기화되고 균일한 두께의 스탬퍼를 제작하기가 어려우며, 취급과정에서 접히거나 변형이 발생하면 복원이 불가능한 문제가 발생할 수 있다. 일반적으로 스탬퍼는 주로 소형, 평판 타입의 압축 성형에 사용된다. 롤투롤(Roll to Roll) 방식에서는 스탬퍼를 지지체에 장착하면서 양 끝단 간에 이음매(346a)가 발생하므로, 이음매 부분에서 패턴 불량이 발생할 뿐만 아니라 불량 위치의 주기가 짧아서 수율을 크게 저하시키는 문제가 발생할 수 있다. 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계에서 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤 내지 임프린트용 스탬퍼 롤을 사용할 때 발생할 수 있는 문제점은 후술하는 임프린트용 마스터로 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드를 사용함으로써 극복할 수 있다.First embodiment using an imprint master roll as an imprint master in the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned pattern retarder (patterned retarder) according to the present invention While there is an advantage that the formation quality of the product is relatively excellent, in consideration of productivity, since the processing area of the pattern should be processed at least a large area of at least 500 mm in diameter, there may be a problem that the pattern processing cost increases exponentially. In addition, it is difficult to handle due to the increase in weight and volume, and may also cause partial contamination due to work defects during production of the product, and increase in manufacturing cost due to maintenance and wear caused by scratches. . On the other hand, in the second embodiment using the imprint stamper roll as the imprint master, the manufacturing process of the stamper itself is more difficult, the longer the area is required, the longer the time required for manufacturing and the more difficult it is to produce a stamper with a uniform thickness. Folding or deformation in the process can lead to problems that cannot be restored. In general, stampers are mainly used for compact, flat type compression molding. In the roll-to-roll method, the joint 346a is generated between both ends while the stamper is mounted on the support, so that not only a pattern defect occurs at the joint portion but also a short period of the defective position, which may greatly reduce the yield. have. It may occur when using an imprint master roll or an imprint stamper roll as an imprint master in the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned patterned retarder. The problem can be overcome by using a film-shaped molding mold having a pattern in which first protrusions and second protrusions having different heights are alternately arranged as an imprint master to be described later.

도 8은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예를 나타낸 것으로서, 임프린트용 마스터로 필름 형상의 성형 몰드를 사용한 것이다. 임프린트용 마스터로 제1돌기(443)와 제2돌기(444)가 교대로 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드(442)를 사용하는 경화형 수지 패턴층 형성 장치는 베이스 기재(410)가 감겨져 있는 제1롤(420)과 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(412)가 감기는 제2롤(450)이 양측에 구비되고, 베이스 기재 및 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재를 이송시키는 가이드 롤(430a 내지 430e)이 제1롤(420)과 제2롤(450) 사이에 구비된다. 또한, 가이드 롤(430c)과 가이드 롤(430d) 사이에는 베이스 기재(410)에 경화형 수지 패턴층을 성형하기 위한 패턴 몰딩부(440)가 근접 배치된다. 패턴 몰딩부(440)는 패턴 형상이 구현된 필름 형상의 성형몰드(442), 주입되는 경화형 수지를 성형 몰드에 압착시킴으로써 성형 몰드에 구현된 패턴대로 경화형 수지를 패턴 성형하여 베이스 기재에 도포시키는 패턴 롤(445) 및 성형 몰드를 이송시키는 패턴 가이드 롤(446a, 446b)로 이루어진다. 상기의 성형 몰드(442)는 필름 형상의 기재층 위에 패턴이 구현된 패턴층이 도포된 것으로서 길쭉한 밸트 타입으로 형성된다. 도 8에서는 성형 몰드의 패턴층에 구현된 패턴을 일부만 도시한 것으로, 실제 실시상으로는 성형 몰드 전체에 걸쳐 패턴이 구현된다. 성형 몰드(442)를 장착함에 있어서, 패턴 롤(445)과 패턴 가이드 롤(446a, 446b)을 연결하는 연장선 상을 성형 몰드로 감싼 후 성형 몰드의 양 끝단을 연결하게 된다. 이때, 성형 몰드(442)의 양 끝단 연결로 인해 생기는 이음매는 스탬퍼 롤의 이음매보다 주기가 현저하게 길어지므로, 이음매 부분에서 발생하는 패턴 불량의 주기 또한 길어져 완성된 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(412)의 수율을 크게 개선할 수 있게 된다. 이음매의 주기를 보다 늘리기 위해서는 성형 몰드(442)를 보다 길게 형성하고 패턴 롤(445)과 패턴 가이드 롤(446a, 446b) 사이 간격을 보다 늘리면 될 것이다. 베이스 기재(410)가 패턴 몰딩부(440)에 인입되는 지점에는 경화형 수지를 주입하기 위한 경화형 수지 주입수단(460)이 구비되고, 베이스 기재와 성형 몰드(442)가 밀착 이동되는 지점에는 열 또는 자외선을 조사하여 경화형 수지를 경화시키기 위한 경화수단(470)이 구비된다. 한편, 도 8에서 가이드 롤(430a 내지 430e) 및 패턴 가이드 롤(446a, 446b)의 개수와 위치 등은 실시 상태에 따라 변경될 수 있음은 물론이다. 먼저, 제1롤(420)에 감긴 베이스 기재(410)는 가이드 롤(430a 내지 430c)에 의해 이송된다. 이때, 패턴 몰딩부(440)의 성형 몰드(442) 역시 패턴 롤(445)과 패턴 가이드 롤(446a, 446b)에 감긴채 이송/회전하는 상태가 된다. 이때, 패턴 롤(445)은 가이드 롤(430c 및 430d)에 맞물려 있으므로, 베이스 기재(410)는 가이드 롤(430c)에 이끌려 성형 몰드(442)에 맞물리게 된다. 여기서, 가이드 롤(430c)은 베이스 기재에 성형되는 경화형 수지 패턴층의 두께를 조절하는 갭 조절 기능을 수행하게 된다. 보다 구체적으로, 가이드 롤(430c)이 패턴 롤(445)에 밀착하면 경화형 수지 패턴층을 보다 얇게 형성할 수 있고, 반대로 가이드 롤(430c)을 패턴 롤과 좀더 떨어지게 할 경우 경화형 수지 패턴층을 보다 두껍게 형성할 수 있다. 이러한 경화형 수지 패턴층의 두께는, 가이드 롤(430c)과 패턴 롤(445) 사이의 간격 이외에도, 경화형 수지의 점도, 패터닝 속도 및 베이스 기재의 장력 등에 의해 조절 가능하다. 한편, 가이드 롤(430c)과 패턴 롤(445)이 맞물린 지점으로는 경화형 수지 주입수단(460)에 의해 경화형 수지가 주입되어 베이스 기재(410)와 성형 몰드(442)의 패턴 사이로 밀려 들어가 충전되고, 가이드 롤(430c)과 패턴 롤(445) 사이의 압력에 의해 균일하게 분포되어 패턴 성형된다. 베이스 기재(410)와 성형 몰드(442)의 패턴 사이에 분포된 경화형 수지는 경화수단(470)으로부터 방출되는 열 또는 자외선에 의해 경화된다. 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재는 가이드 롤(430d)에 이끌려 나오면서 성형 몰드(442)와 분리되고, 완성된 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(412)는 가이드 롤(430e)에 의해 이송되어 제2롤(450)에 감기게 된다. 여기서, 가이드 롤(430d)은 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(412)를 성형 몰드(442)와 분리시키는 박리 기능을 수행하게 된다. 또한, 도 8에서는 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(412)의 일부만을 도시한 것으로, 실제로는 제2롤(450)에도 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(412)가 감긴 상태로 존재한다.8 shows a third embodiment constituting the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned pattern retarder (patterned retarder) according to the present invention, The film-forming molding mold is used as the master. As the imprint master, the curable resin pattern layer forming apparatus using the film-shaped molding mold 442 having a pattern in which the first protrusions 443 and the second protrusions 444 are alternately arranged is formed on the base substrate 410. The second roll 450 on which the first roll 420 wound and the base substrate 412 on which the curable resin pattern layer is formed is wound is provided on both sides, and the base substrate and the base substrate on which the curable resin pattern layer is formed are formed. Guide rolls 430a to 430e for feeding are provided between the first roll 420 and the second roll 450. In addition, a pattern molding portion 440 for forming a curable resin pattern layer on the base substrate 410 is disposed between the guide roll 430c and the guide roll 430d. The pattern molding part 440 is a film-shaped molding mold 442 in which a pattern shape is implemented, and a pattern for molding the curable resin as a pattern embodied in the molding mold by applying the curable resin to the molding mold to apply the pattern to the base substrate. It consists of the roll 445 and the pattern guide rolls 446a and 446b for conveying a molding mold. The molding mold 442 is formed as an elongated belt type by applying a pattern layer on which a pattern is implemented on a film-shaped base layer. In FIG. 8, only a part of the pattern implemented in the pattern layer of the molding mold is illustrated, and in practice, the pattern is implemented throughout the molding mold. In mounting the molding mold 442, an extension line connecting the pattern roll 445 and the pattern guide rolls 446a and 446b is wrapped with the molding mold, and then both ends of the molding mold are connected. At this time, the joint formed by connecting both ends of the molding mold 442 has a significantly longer period than the joint of the stamper roll, so the period of pattern defects occurring at the joint portion is also longer, and the base substrate on which the completed curable resin pattern layer is molded. The yield of 412 can be greatly improved. In order to further increase the period of the seam, the molding mold 442 may be formed longer and the gap between the pattern roll 445 and the pattern guide rolls 446a and 446b may be increased. At the point where the base substrate 410 is introduced into the pattern molding unit 440, a curable resin injection unit 460 for injecting the curable resin is provided, and at the point where the base substrate and the molding mold 442 are closely moved, heat or Curing means 470 is provided to cure the curable resin by irradiating ultraviolet rays. Meanwhile, in FIG. 8, the number and position of the guide rolls 430a to 430e and the pattern guide rolls 446a and 446b may be changed depending on the embodiment. First, the base substrate 410 wound on the first roll 420 is transferred by the guide rolls 430a to 430c. At this time, the molding mold 442 of the pattern molding part 440 is also in a state of being transferred / rotated while being wound around the pattern roll 445 and the pattern guide rolls 446a and 446b. At this time, since the pattern roll 445 is engaged with the guide rolls 430c and 430d, the base substrate 410 is drawn by the guide roll 430c to be engaged with the molding mold 442. Here, the guide roll 430c is to perform the gap control function to adjust the thickness of the curable resin pattern layer molded on the base substrate. More specifically, when the guide roll 430c is in close contact with the pattern roll 445, the curable resin pattern layer may be formed thinner. On the contrary, when the guide roll 430c is further away from the pattern roll, the curable resin pattern layer may be more thin. Can form thick. The thickness of such a curable resin pattern layer can be adjusted by the viscosity of the curable resin, the patterning speed, the tension of the base substrate, and the like, in addition to the gap between the guide roll 430c and the pattern roll 445. On the other hand, at the point where the guide roll 430c and the pattern roll 445 are engaged, the curable resin is injected by the curable resin injecting means 460 to be pushed in between the pattern of the base substrate 410 and the molding mold 442 to be filled. The pattern is uniformly distributed by the pressure between the guide roll 430c and the pattern roll 445. The curable resin distributed between the base substrate 410 and the pattern of the molding mold 442 is cured by heat or ultraviolet rays emitted from the curing means 470. The base substrate on which the curable resin pattern layer is molded is separated from the molding mold 442 while being drawn by the guide roll 430d, and the base substrate 412 on which the completed curable resin pattern layer is molded is transferred by the guide roll 430e. It is wound on the second roll 450. Here, the guide roll 430d performs a peeling function of separating the base substrate 412 on which the curable resin pattern layer is formed from the molding mold 442. In addition, FIG. 8 illustrates only a part of the base substrate 412 on which the curable resin pattern layer is formed, and in reality, the base substrate 412 on which the curable resin pattern layer is formed is also wound on the second roll 450.

도 9는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 또 다른 제3실시예를 나타낸 것이다. 도 9에 도시된 또 다른 제3실시예는 도 8에 도시된 패턴 몰딩부(440)의 구성을 변형한 실시예로서, 구체적으로 제1돌기(543)와 제2돌기(544)가 교대로 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드(542)를 베이스 기재(510)의 길이만큼 길게 롤 타입으로 형성함으로써 완성된 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(512)에 이음매가 없도록 한 실시예이다. 도 9에 의하면 또 다른 제3실시예를 수행하기 위한 경화형 수지 패턴층 형성 장치는 베이스 기재(510)가 감겨져 있는 제1롤(520)과 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(512)가 감기는 제2롤(550)이 양측에 구비되고, 베이스 기재 및 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재를 이송시키는 가이드 롤(530a 내지 530f)이 제1롤(520)과 제2롤(550) 사이에 구비된다. 또한, 가이드 롤(530c)과 가이드 롤(530d) 사이에는 베이스 기재(510)에 경화형 수지 패턴층을 성형하기 위하여 패턴 몰딩부(540)의 패턴 롤(546)이 밀착된다. 여기서 가이드 롤(530a 내지 530f)의 개수와 위치 등은 실시 상태에 따라 변경 가능함은 물론이다. 패턴 몰딩부(540)는 패턴이 구현된 필름 형상의 성형 몰드(542), 성형 몰드가 감겨져 있는 제3롤(545), 주입되는 경화형 수지를 성형 몰드에 압착시켜 성형 몰드의 패턴대로 경화형 수지를 패턴성형하고 이를 베이스 기재(510)에 도포시키는 패턴 롤(546), 성형 몰드를 이송시키는 패턴 가이드 롤(547a 내지 547d) 및 이송된 성형 몰드가 감기는 제4롤(548)로 이루어진다. 패턴 가이드 롤(547a 내지 547d)의 개수와 위치 등은 실시 상태에 따라 변경할 수 있음은 물론이다. 상기의 성형 몰드(542)는, 도 8의 실시예와 달리 제3롤(545)에 감긴 채 패턴 롤(546) 및 패턴 가이드 롤(547a 내지 547d)에 의해 이송되면서 베이스 기재(510)에 경화형 수지로 이루어진 패턴층을 성형한 후 제4롤(548)에 감기게 된다. 이때, 성형 몰드(542)는 베이스 기재(510)과 동일한 길이로 형성하는 것이 바람직하며, 이를 통해 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(512)에 이음매로 인한 패턴 불량이나 패턴의 끊김이 없이 전 영역에 걸쳐 패턴이 고르게 형성되게 된다. 도 9에서는 성형 몰드의 패턴층에 구현된 패턴을 일부만 도시하였으나, 실제 실시상으로는 성형 몰드 전체에 걸쳐 패턴이 구현된다. 베이스 기재(510)가 패턴 몰딩부(540)에 인입되는 지점, 즉 가이드 롤(530c)과 패턴 롤(546)이 밀착되는 지점에는 경화형 수지를 주입하기 위한 경화형 수지 주입수단(560)이 구비되고, 베이스 기재와 성형 몰드(542)가 밀착 이동하는 지점에는 열 또는 자외선을 조사하여 경화형 수지를 경화시키기 위한 경화수단(570)이 구비된다. 먼저, 제1롤(520)에 감긴 베이스 기재(510)는 가이드 롤(530a 내지 530c)에 의해 이송되어 가이드 롤(530c)과 패턴 롤(546)이 맞물리는 지점으로 인입된다. 이때, 패턴 몰딩부(540)의 성형 몰드(542) 역시 제3롤(545)로부터 풀려 패턴 가이드 롤(547a)에 의해 이송되어 패턴 롤(546)과 가이드 롤(530c) 사이로 인입되어 베이스 기재(510)과 밀착하게 된다. 여기서, 가이드 롤 (530c)은 베이스 기재의 일면에 형성되는 경화형 수지 패턴층의 두께를 조절하는 갭 조절 기능을 수행하게 된다. 한편, 베이스 기재(510)가 인입되는 가이드 롤(530c)과 패턴 롤(546) 사이 지점에는 경화형 수지 주입수단(560)에 의해 경화형 수지가 주입되므로, 경화형 수지는 베이스 기재의 일면과 성형 몰드(542)의 패턴 사이로 밀려 들어가 충전되고 가이드 롤(530c)과 패턴 롤(546) 간의 압력에 의해 균일하게 분포된 후 경화수단(570)으로부터 방출되는 열 또는 자외선에 의해 경화된다. 따라서, 경화형 수지는 패턴이 형성된 상태로 베이스 기재(510)에 도포 된다. 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재는 가이드 롤(530d) 및 가이드 롤 (530e)에 의해 이송되고, 성형 몰드(542) 역시 가이드 롤(530d) 및 패턴 가이드 롤(547b)에 의해 이송된다. 따라서, 가이드 롤(530d)과 가이드 롤 (530e) 사이 또는 가이드 롤(530d)과 패턴 가이드 롤(547b) 사이 구간에는 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재와 성형 몰드(542)가 밀착된 상태로 함께 이송되게 된다. 이후에, 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(512)는 가이드 롤(530f)에 의해 이끌려 이송된 후 제2롤(550)에 감기게 된다. 또한, 성형 몰드(542)는 패턴 가이드 롤(547c와 547d)에 이끌려 이송된 후 제4롤(548)에 감기게 된다. 여기서 가이드 롤(530e)과 패턴 가이드 롤(547b)은 각기 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(512)와 성형 몰드(542)를 분리시키는 박리기능을 하게 된다. 한편, 상기한 바와 같이, 성형 몰드(542)의 길이와 베이스 기재(510)의 길이를 동일하게 구성할 경우, 성형 몰드가 제3롤(545)에서 풀려 나와 제4롤(548)에 다시 감길 때까지 베이스 기재의 전면에 걸쳐 경화형 수지 패턴층을 성형시킬 수 있으며, 이때 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재에는 이음매로 인한 패턴 불량이 발생하지 않는다. 또한, 도 9에서는 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(512)의 일부만을 도시한 것으로, 실제로는 제2롤(550)에도 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(512)가 감긴 상태로 존재한다.FIG. 9 shows another third embodiment constituting the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned patterned retarder according to the present invention. The third embodiment shown in FIG. 9 is an embodiment in which the configuration of the pattern molding part 440 shown in FIG. 8 is modified. Specifically, the first protrusion 543 and the second protrusion 544 alternately. The film-formed molding mold 542 formed on one surface of the arrayed pattern is formed in a roll type as long as the length of the base substrate 510 so that the completed curable resin pattern layer is seamlessly formed on the molded base substrate 512. Yes. Referring to FIG. 9, the curable resin pattern layer forming apparatus for performing another third embodiment may include a first roll 520 on which the base substrate 510 is wound and a base substrate 512 on which the curable resin pattern layer is formed. The second roll 550 is provided on both sides, and the guide rolls 530a to 530f for transferring the base substrate on which the base substrate and the curable resin pattern layer are formed are disposed between the first roll 520 and the second roll 550. Is provided. In addition, the pattern roll 546 of the pattern molding part 540 is in close contact between the guide roll 530c and the guide roll 530d to form a curable resin pattern layer on the base substrate 510. Here, the number and position of the guide rolls 530a to 530f can be changed depending on the embodiment. The pattern molding part 540 compresses the curable resin according to the pattern of the molding mold by pressing the film-shaped molding mold 542 in which the pattern is realized, the third roll 545 on which the molding mold is wound, and the curable resin to be injected into the molding mold. A pattern roll 546 for pattern forming and applying it to the base substrate 510, pattern guide rolls 547a to 547d for transferring the molding mold, and a fourth roll 548 for winding the transferred molding mold. The number and position of the pattern guide rolls 547a to 547d can be changed depending on the embodiment. Unlike the embodiment of FIG. 8, the molding mold 542 is hardened to the base substrate 510 while being transferred by the pattern roll 546 and the pattern guide rolls 547a to 547d while being wound around the third roll 545. After molding the pattern layer made of resin is wound on the fourth roll (548). At this time, the molding mold 542 is preferably formed to have the same length as the base substrate 510, through which the curable resin pattern layer is formed on the base substrate 512 on which the curable resin pattern layer is formed, without pattern defects or disconnection of the pattern. The pattern is evenly formed over the area. In FIG. 9, only a part of the pattern implemented in the pattern layer of the molding mold is illustrated, but in practice, the pattern is implemented throughout the molding mold. At the point where the base substrate 510 is inserted into the pattern molding part 540, that is, the point at which the guide roll 530c and the pattern roll 546 come into close contact with each other, the curable resin injecting means 560 for injecting the curable resin is provided. At the point where the base substrate and the molding mold 542 move closely, curing means 570 for curing the curable resin by irradiating heat or ultraviolet rays is provided. First, the base substrate 510 wound on the first roll 520 is transferred by the guide rolls 530a to 530c to be introduced into the point where the guide roll 530c and the pattern roll 546 mesh with each other. At this time, the molding mold 542 of the pattern molding part 540 is also unwound from the third roll 545 and transferred by the pattern guide roll 547a to be drawn between the pattern roll 546 and the guide roll 530c to form a base substrate ( 510). Here, the guide roll 530c performs a gap adjusting function for adjusting the thickness of the curable resin pattern layer formed on one surface of the base substrate. On the other hand, since the curable resin is injected by the curable resin injecting means 560 at a point between the guide roll 530c into which the base substrate 510 is inserted and the pattern roll 546, the curable resin is formed on one surface of the base substrate and the molding mold ( It is pushed through the pattern of 542 and filled and uniformly distributed by the pressure between the guide roll 530c and the pattern roll 546 and then cured by heat or ultraviolet light emitted from the hardening means 570. Therefore, the curable resin is applied to the base substrate 510 in a state where a pattern is formed. The base substrate on which the curable resin pattern layer is formed is conveyed by the guide roll 530d and the guide roll 530e, and the molding mold 542 is also conveyed by the guide roll 530d and the pattern guide roll 547b. Accordingly, the base substrate and the molding mold 542 in which the curable resin pattern layer is formed are in close contact with each other between the guide roll 530d and the guide roll 530e or between the guide roll 530d and the pattern guide roll 547b. Will be transferred. Thereafter, the base substrate 512 having the curable resin pattern layer formed thereon is guided by the guide roll 530f and then wound around the second roll 550. In addition, the molding mold 542 is drawn to the fourth roll 548 after being transported by the pattern guide rolls 547c and 547d. Here, the guide roll 530e and the pattern guide roll 547b each have a peeling function of separating the base substrate 512 and the molding mold 542 on which the curable resin pattern layer is formed. Meanwhile, as described above, when the length of the molding mold 542 and the length of the base substrate 510 are the same, the mold is released from the third roll 545 and rewound on the fourth roll 548. The curable resin pattern layer may be molded over the entire surface of the base substrate until the pattern base material due to the seam does not occur in the base substrate on which the curable resin pattern layer is formed. In FIG. 9, only a part of the base substrate 512 on which the curable resin pattern layer is formed is illustrated, and in fact, the base substrate 512 on which the curable resin pattern layer is formed is also wound on the second roll 550.

도 10은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예에 사용된 성형 몰드의 단면도이고, 도 11은 다른 성형 몰드의 단면도이고, 도 12는 또 다른 성형 몰드의 단면도이다. 도 8 내지 도 9에서 사용된 필름 형상의 성형 몰드는 경화형 수지 주입수단에 의해 주입되는 경화형 수지에 패턴을 성형하기 위한 것으로서, 고분자로 구성된 수지에 패턴 형상이 구현된 유연성이 있는 필름 형상으로 이루어진다. 구체적으로는 도 10 내지 도 12에 도시된 바와 같이 성형 몰드(442, 642, 742)는 비교적 균일한 두께의 연속적인 평탄면을 갖는 기재층(442a, 642a, 742a)과 상기 기재층의 일면에 형성되고, 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴을 가진 패턴층(442b, 642b, 742b)으로 구성되는 2층 구조를 갖는다. 또한, 성형 몰드는 바람직하게는 도 11 내지 도 12에 도시된 바와 같이 상기 기재층의 다른 일면에 형성되고, 상기 롤의 표면과의 마찰력을 증가시키기 위한 마찰부(642c, 742c)를 더 포함할 수 있다. 성형 몰드의 기재층의 재질로는 투명하고 유연성이 있으며 소정의 인장 강도 및 내구성이 있는 필름을 사용하도록 하며, PET 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 패턴층을 구성하는 수지 재료로는 올리고머(Oligomer) 또는 경화개시제 등 고분자 재료를 배합하여 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 성형 몰드의 제조방법의 일례를 들면 다음과 같다. 먼저, 금속 또는 박막형태를 갖는 마스터를 고정시키고 마스터 위에 몰드용 고분자 레진(resin, 수지)을 도포한다. 다음으로, 고분자 수지가 도포된 마스터 위에 성형 몰드용 기재필름을 덮은 후 그 위로 원통형의 롤러를 이동시킴으로써 소정의 압력을 골고루 가한다. 이때, 도포된 고분자 수지가 마스터의 패턴 사이로 밀려 들어가 충전되고 롤러의 압력에 의해 소정의 두께로 균일하게 분포되게 된다. 이후에 수지의 특성에 따라 마스터와 기재필름 사이에 수지가 충전된 접촉 상태에서 열 또는 자외선을 조사하여 경화시킨 후 기재필름을 마스터로부터 분리하면 된다. 여기서, 기재필름으로는 필요에 따라 몰드용 고분자 수지와 부착력을 갖도록 표면 처리된 것을 사용할 수 있다. 성형 몰드는 상기의 제조방법 이외에도 다양한 방법으로 제조 가능하다. 한편, 도 8 및 도 9에 도시한 바와 같이 패턴 롤과 패턴 가이드 롤에 성형 몰드를 장착함에 있어서, 패턴 롤 또는 패턴 가이드 롤의 표면과 성형 몰드 사이에 기포나 이물질이 없도록 밀착 고정시키는 것이 중요하다. 이때, 작업성을 좋게 하기 위해서는 패턴 롤과 패턴 가이드 롤의 표면에 일정 간격으로 미세 홀을 형성하여 기포가 자연적으로 소멸되도록 할 수 있다. 또한, 경화형 수지 패턴층 성형 장치를 구동시킴에 있어서 완성된 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재의 패턴 불량 등을 줄이고 품질을 향상시키기 위하여, 패턴 롤 및 패턴 가이드 롤의 표면과 성형 몰드 사이에 미끌림이 발생하는 것을 방지하여야 하는데, 이를 위해 도 11 내지 도 12에 도시된 바와 같이 성형 몰드의 기재층의 다른 일면에 마찰부를 형성하는 것이 바람직하다. 도 11에 도시된 성형 몰드(642)는 기재층(642a)의 저면에 형성된 수 마이크로미터 크기의 요철(642c)을 다수 개 구비한다. 패턴 롤 또는 패턴 가이드 롤의 표면과 성형 몰드의 요철 사이에 생기는 높은 마찰력은 성형 몰드가 미끄러지는 것을 방지한다. 이때, 요철(642c)은 고무나 실리콘 등 탄성 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 도 12에 도시된 성형 몰드(742)는 기재층(742a)의 저면에 형성된 박막필름(742c)을 구비하여 패턴 롤 또는 패턴 가이드 롤의 표면과의 마찰력을 높이도록 한다. 이때, 박막필름(742c) 역시 고무나 실리콘 등 탄성 재질을 사용하도록 한다. 한편, 상기에서 제시한 것 이외에도 성형 몰드의 미끌림 방지를 위한 다양한 변형/실시가 가능함은 물론이다.FIG. 10 illustrates a molding mold used in a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. It is sectional drawing, FIG. 11 is sectional drawing of another molding mold, and FIG. 12 is sectional drawing of another molding mold. The film-shaped molding mold used in FIGS. 8 to 9 is for molding a pattern on the curable resin injected by the curable resin injecting means, and has a flexible film shape in which the pattern shape is realized on the resin. Specifically, as shown in FIGS. 10 to 12, the molding molds 442, 642, and 742 may be formed on substrate layers 442a, 642a, and 742a having a continuous flat surface having a relatively uniform thickness, and on one surface of the substrate layer. It is formed and has a two-layer structure consisting of pattern layers 442b, 642b, 742b having a pattern in which the first projections and the second projections of different heights are alternately arranged. In addition, the molding mold is preferably formed on the other side of the substrate layer, as shown in Figures 11 to 12, and further comprises a friction portion (642c, 742c) for increasing the friction with the surface of the roll Can be. The material of the base layer of the molding mold is to use a film that is transparent, flexible, and has a predetermined tensile strength and durability, and it is preferable to use a PET film. In addition, it is preferable to mix | blend and use a polymeric material, such as an oligomer or a curing initiator, as a resin material which comprises a pattern layer. An example of the manufacturing method of such a molding mold is as follows. First, the master having a metal or thin film is fixed and a polymer resin (resin) for a mold is applied on the master. Next, a predetermined pressure is evenly applied by covering the base film for molding mold on the master coated with the polymer resin and then moving the cylindrical roller thereon. At this time, the applied polymer resin is pushed in between the patterns of the master and filled and uniformly distributed to a predetermined thickness by the pressure of the roller. Thereafter, according to the properties of the resin, the base film is separated from the master after curing by irradiating heat or ultraviolet rays in a contact state filled with a resin between the master and the base film. Here, as the base film, those surface-treated to have an adhesive force with a polymer resin for a mold may be used as necessary. The molding mold can be manufactured by various methods in addition to the above production method. Meanwhile, as shown in FIGS. 8 and 9, in mounting the molding mold to the pattern roll and the pattern guide roll, it is important to closely fix the surface of the pattern roll or the pattern guide roll and the molding mold so that there are no bubbles or foreign substances. . At this time, in order to improve the workability, by forming fine holes at predetermined intervals on the surface of the pattern roll and the pattern guide roll, bubbles may naturally disappear. In addition, in driving the curable resin pattern layer molding apparatus, slippage is formed between the surface of the pattern roll and the pattern guide roll and the molding mold in order to reduce pattern defects and the like of the base substrate on which the completed curable resin pattern layer is formed. It should be prevented from occurring, for this purpose it is preferable to form a friction portion on the other side of the base layer of the molding mold, as shown in Figure 11 to 12. The molding mold 642 shown in FIG. 11 includes a plurality of micrometer-sized unevenness 642c formed on the bottom of the base layer 642a. The high frictional force generated between the surface of the pattern roll or the pattern guide roll and the unevenness of the molding mold prevents the molding mold from slipping. At this time, it is preferable that the uneven | corrugated 642c uses elastic materials, such as rubber | gum and silicone. In addition, the molding mold 742 illustrated in FIG. 12 includes a thin film 742c formed on the bottom surface of the base layer 742a to increase friction with the surface of the pattern roll or the pattern guide roll. At this time, the thin film 742c also uses an elastic material such as rubber or silicon. On the other hand, in addition to the above, it is a matter of course that various modifications / implements are possible to prevent slipping of the molding mold.

상기에서 본 발명의 일 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판 제조방법에 대하여 설명함에 있어서 베이스 기재 위에 도포된 경화형 수지를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터로 가압하고 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하는 것을 그 예로 하였지만 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 일 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판 제조방법은 베이스 기재에 열을 가한 후에, 상기 베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 형성하거나, 또는 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드에 열을 가한 후에 베이스 기재를 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 형성하는 등, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 예가 가능하다.
In the above description of a method for manufacturing a patterned optical phase modulation plate according to an embodiment of the present invention, a pattern of alternately arranged first and second protrusions of different curable resins applied on a base substrate may be provided on one surface. Pressing and curing with a molded imprint master to form a curable resin pattern layer having a pattern in which the first grooves and the second grooves of different depths are alternately arranged, but the present invention is not limited thereto. In the method of manufacturing a patterned optical phase modulation plate according to an embodiment of the present invention, after applying heat to a base substrate, patterns of alternately arranged first and second protrusions having different heights are formed on one surface. Pressing with a mold to form a pattern in which the first groove and the second groove of different depths are arranged alternately in the base substrate, or the first projection and the second projection of different height The present invention provides a pattern in which the first and second grooves of different depths are alternately arranged in the base substrate by pressing the base substrate with a mold after applying heat to a mold in which the patterns arranged as described above are formed on one surface. Various examples are possible without departing from the gist of the subject matter.

이하에서는, 도 13 내지 도 23을 참조하여 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판 및 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a patterned photophase modulation plate and a patterned photophase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 13 to 23.

먼저, 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판에 대하여 설명하면 다음과 같다.First, a patterned optical phase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention will be described.

도 13은 본 발명의 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 사시도이고, 도 14는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 분해 단면도이며, 도 15는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 결합 단면도이다.FIG. 13 is a perspective view of a patterned patterned retarder according to another example of the present invention. FIG. 14 is an exploded cross-sectional view of a patterned patterned retarder according to the present invention. Is a combined cross sectional view of a patterned retarder according to the present invention.

도 13 내지 도 15에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 800)은 베이스 기재(810), 경화형 수지 패턴층(820), 및 액정물질 패턴층(830)을 포함한다.As shown in FIGS. 13 to 15, the patterned pattern retarder 800 according to the present invention includes a base substrate 810, a curable resin pattern layer 820, and a liquid crystal material pattern layer 830. It includes.

베이스 기재(810)는 광을 투과시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 광의 원활한 투과를 위해 투명 기재인 것이 바람직하다. 투명 기재의 구체적인 예로 투명 유리 기재, 투명 플라스틱 기재가 있다. 또한, 베이스 기재는 보다 바람직하게는 가요성 필름인 것을 특징으로 하는데, 이 경우 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판을 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 제조할 수 있다.As long as the base substrate 810 can transmit light, the material and shape thereof are not particularly limited, and the base substrate 810 is preferably a transparent substrate for smooth transmission of light. Specific examples of the transparent substrate include a transparent glass substrate and a transparent plastic substrate. In addition, the base substrate is more preferably characterized in that the flexible film, in this case, the patterned photophase modulation plate according to the present invention can be produced in a roll to roll (Roll to Roll) method.

경화형 수지 패턴층(820)은 상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어진다. 또한, 경화형 수지 패턴층(820)은 그 표면에 소정 깊이의 다수의 홈(822)이 소정 간격을 두고 배열된 일련의 패턴을 가진다. 경화형 수지는 광을 투과시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 열경화형 수지 또는 광경화형 수지 등 공지의 경화형 수지가 사용될 수 있고, 바람직하게는 광경화형 수지인 것을 특징으로 하며, 상업적인 측면에서 보다 바람직하게는 자외선 경화형 수지인 것을 특징으로 한다. 경화형 수지 패턴층(820)의 표면에는 소정 깊이의 다수의 홈(822)이 소정 간격을 두고 배열된 일련의 패턴이 베이스 기재를 기준으로 세로 방향 또는 가로 방향으로 형성되는데, 이때 패턴은 후술하는 임프린트(Imprint) 방식에 의해 형성된다.Curable resin pattern layer 820 is made of a curable resin coated on the base substrate. In addition, the curable resin pattern layer 820 has a series of patterns in which a plurality of grooves 822 having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals on the surface thereof. As long as the curable resin can transmit light, its material and shape are not particularly limited, and well-known curable resins such as thermosetting resins or photocurable resins can be used, and are preferably photocurable resins. From a commercial point of view, more preferably an ultraviolet curable resin. On the surface of the curable resin pattern layer 820, a series of patterns in which a plurality of grooves 822 having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals is formed in the vertical direction or the horizontal direction with respect to the base substrate. It is formed by the (Imprint) method.

액정물질 패턴층(830)은 서로 다른 두께를 가지고 교대로 배열된 일련의 제1액정층(832)과 제2액정층(831)으로 이루어진다. 또한, 제1액정층(832)은 상기 경화형 수지 패턴층(820)의 홈(822)의 내부 영역과 홈(822)의 내부 영역의 위에 도포된 경화형 액정물질에 의해 형성되고, 제2액정층(831)은 상기 경화형 수지 패턴층(820)의 홈(822)들의 간격 영역의 위에 도포된 경화형 액정물질에 의해 형성되며, 제1액정층(832) 및 제2액정층(831)은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다. 상기 경화형 액정물질은 소정의 두께에 따라 광위 위상을 다르게 지연시키고, 광의 편광 특성을 변화시킬 수 있는 것이라면, 그 재료나 형상이 크게 제한되지 않으며, 구체적인 예로 네마틱상(Nematic phase), 디스코틱상(Discotic phases), 및 콜레스테릭상[Cholesteric phase, 또는 카이럴 네마틱상(Chiral nematic phase)이라 부른다.] 으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 또한, 상기 경화형 액정물질은 바람직하게는 광경화형 액정물질인 것을 특징으로 하며, 상업적인 측면에서 보다 바람직하게는 자외선 경화형 액정물질인 것을 특징으로 한다. 광 경화형 액정물질은 자외선 등의 광을 조사하면 광가교 반응에 의해 경화되는 액정물질이다. 디스플레이 화면, 예를 들어 LCD, PDP, EL, FED 표면에 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 800)을 부착하는 경우 입체 영상 표시 장치를 구성할 수 있다. 보다 구체적으로 디스플레이 화면에서 방출된 출사광은 서로 다른 두께를 가지고 교대로 배열된 일련의 제1액정층(832)과 제2액정층(831)을 통과하면서 광의 위상이 서로 다르게 지연되고, 제1액정층(832)과 제2액정층(831)을 통과한 광은 서로 다른 편광 특성을 나타낸다. 시청자는 서로 다른 편광 특성에 대응되는 2개의 편광렌즈가 구비된 편광안경을 통하여 양안에서 각기 다른 특성의 광을 인식하게 되고 입체 영상을 느낄 수 있다. 이때, 액정층을 통과하는 광은 액정층의 두께, 및 액정물질의 굴절율 이방성에 의해 광위상 변조특성이 달라지게 되는데, 그 관계는 상기 수학식 1과 같다.The liquid crystal material pattern layer 830 includes a series of first liquid crystal layers 832 and second liquid crystal layers 831 alternately arranged with different thicknesses. In addition, the first liquid crystal layer 832 is formed of a curable liquid crystal material applied on the inner region of the groove 822 and the inner region of the groove 822 of the curable resin pattern layer 820, and the second liquid crystal layer 831 is formed of a curable liquid crystal material applied over the gap regions of the grooves 822 of the curable resin pattern layer 820, and the first liquid crystal layer 832 and the second liquid crystal layer 831 are phases of light. It is characterized by delaying each differently. As long as the curable liquid crystal material may retard the phase of light differently according to a predetermined thickness and change the polarization characteristic of light, the material or shape thereof is not particularly limited. Specific examples thereof include a nematic phase and a discotic phase. phases), and a cholesteric phase (called a Cholesteric phase, or chiral nematic phase). In addition, the curable liquid crystal material is preferably characterized in that the photocurable liquid crystal material, more preferably from the commercial aspect is characterized in that the ultraviolet curable liquid crystal material. The photocurable liquid crystal material is a liquid crystal material that is cured by a photocrosslinking reaction when irradiated with light such as ultraviolet rays. When the patterned retarder 800 according to the present invention is attached to a display screen, for example, an LCD, a PDP, an EL, or a FED surface, a stereoscopic image display device may be configured. More specifically, the emitted light emitted from the display screen is delayed differently from each other while passing through a series of first liquid crystal layer 832 and a second liquid crystal layer 831 alternately arranged with different thicknesses. Light passing through the liquid crystal layer 832 and the second liquid crystal layer 831 exhibits different polarization characteristics. The viewer may recognize light having different characteristics in both eyes through a polarizing glasses having two polarizing lenses corresponding to different polarization characteristics, and may feel a stereoscopic image. At this time, the light passing through the liquid crystal layer is the optical phase modulation characteristic is changed by the thickness of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy of the liquid crystal material, the relationship is as shown in Equation (1).

본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 800)의 액정물질 패턴층(830)을 구성하는 제1액정층(832)은 광의 위상을 (n-3/4)λ(n은 양의 정수) 만큼 지연시키고, 제2액정층(831)은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것이 바람직한데, 이 경우 상기 제1액정층(832) 및 제2액정층(831)을 통과한 광의 하나는 좌원편광 특성을 가지고 다른 하나는 우원편광 특성을 가지게 된다. 좌원편광을 선택적으로 통과시키는 좌안렌즈와 우원편광을 선택적으로 통과시키는 우안렌즈를 구비한 편광안경을 통해 시청자는 고품위의 입체 영상을 느낄 수 있게 된다. 보다 구체적으로 사용된 액정물질의 굴절율 이방성인 Δn이 0.17일때, 제1액정층(832)에 의해 광의 위상을 λ/4(여기서 λ는 광의 파장으로서, 예를 들어 λ/4는 137.5㎚이다.)만큼 지연시키고 제2액정층(831)에 의해 광의 위상을 3λ/4(여기서 λ는 광의 파장으로서, 예를 들어 3λ/4는 412.5㎚이다.)만큼 지연시키기 위해서는 제1액정층(832) 및 제2액정층(831)의 두께가 각각 0.808㎛ 및 2.426㎛ 이어야 한다. 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder, 800)의 액정물질 패턴층(830)을 구성하는 제1액정층(832) 및 제2액정층(831)의 두께는 마이크로 미터 또는 나노 미터와 같은 미세수준에서 제어될 필요가 있으며, 이러한 액정층 두께의 미세 제어는 임프린트에 의해 마이크로 미터 또는 나노 미터와 같은 미세수준의 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층에 의해 달성될 수 있다.The first liquid crystal layer 832 constituting the liquid crystal material pattern layer 830 of the patterned retarder 800 according to the present invention has a phase of (n-3 / 4) λ (n A positive integer), and the second liquid crystal layer 831 delays the phase of light by (n-1 / 4) λ, and n is a positive integer. In this case, the first liquid crystal layer 832 And one of the light passing through the second liquid crystal layer 831 has a left circular polarization characteristic and the other has a right circular polarization characteristic. Through polarized glasses having a left eye lens for selectively passing left circular polarization and a right eye lens for selectively passing right circular polarization, viewers can feel high-quality stereoscopic images. More specifically, when the refractive index anisotropy Δn of the liquid crystal material used is 0.17, the phase of the light is λ / 4 (where λ is the wavelength of the light, for example, λ / 4 is 137.5 nm) by the first liquid crystal layer 832. ) And the phase of the light by the second liquid crystal layer 831 by 3λ / 4 (where λ is the wavelength of the light, for example, 3λ / 4 is 412.5 nm). And the thicknesses of the second liquid crystal layer 831 should be 0.808 μm and 2.426 μm, respectively. The thicknesses of the first liquid crystal layer 832 and the second liquid crystal layer 831 constituting the liquid crystal material pattern layer 830 of the patterned retarder 800 according to the present invention are micrometers or nanometers. It is necessary to be controlled at a fine level such as a meter, and such fine control of the liquid crystal layer thickness can be achieved by a curable resin pattern layer having a fine level pattern such as micrometer or nanometer by imprint.

상기에서 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판에 대하여 설명함에 있어서 베이스 기재 상에 형성된 경화형 수지층에 다수의 홈이 형성되고 상기 홈에 일부가 대응되는 제1액정층과 상기 홈들의 간격 영역의 위에 대응되는 제2액정층이 형성된 것을 그 예로 하였지만 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판은 도 24에 도시한 바와 같이 다수의 홈이 베이스 기재(1610)의 일면에 형성되고 상기 베이스 기재(1610)의 홈에 일부가 대응되는 제1액정층(1632)과 상기 베이스 기재(1610)의 홈들의 간격 영역의 위에 대응되는 제2액정층(1631)이 형성되는 등, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 예가 가능하다.
In the above description of the patterned optical phase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention, a plurality of grooves are formed in the curable resin layer formed on the base substrate, and the first liquid crystal layer corresponding to a part of the grooves and the Although the second liquid crystal layer corresponding to the gap region of the grooves is formed as an example, the present invention is not limited thereto, and the patterned optical phase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention is illustrated in FIG. 24. A plurality of grooves are formed on one surface of the base substrate 1610 and correspond to the first liquid crystal layer 1632 corresponding to a portion of the groove of the base substrate 1610 and the gap region of the grooves of the base substrate 1610. Various examples are possible within the range which does not deviate from the summary of this invention, such as the 2nd liquid crystal layer 1163 being formed.

이하, 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing a patterned optical phase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention will be described.

도 16은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정을 나타낸 것이다.FIG. 16 shows a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention.

도 16에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조방법은 베이스 기재(810) 위에 경화형 수지를 도포하는 단계(S1000); 상기 도포된 경화형 수지를 소정 두께의 다수의 돌기(817)가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터(815)로 가압하고 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈(822)이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층(820)을 형성하는 단계(S2000, S3000); 및 상기 경화형 수지 패턴층(820) 상에 경화형 액정물질을 도포하고 경화시켜 서로 다른 두께의 제1액정층(832)과 제2액정층(831)으로 이루어진 액정물질 패턴층(830)을 형성하는 단계(S4000);를 포함한다. 이때, 상기 제1액정층(832) 및 제2액정층(831)은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법은 도 16에 도시되지는 않았지만 상기 제1액정층(832) 및 제2액정층(831)의 미세한 두께 조절을 위해 바람직하게는 상기 액정물질 패턴층(830)을 화학 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP) 장치 등을 이용하여 평탄화시키는 단계;를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조방법에서 액정물질은 스핀 코팅, 롤 코팅, 디스펜싱 코팅, 또는 그라비아 코팅 등의 방법에 의해 충전될 수 있으며, 이때 액정 물질은 고분자 용매에 희석되어 사용될 수 있다. 액정물질을 코팅하는 방법은 용매의 종류와 희석 비율에 의해 결정되는 것이 일반적이다. 또한, 충전된 액정물질 위에 자외선과 같은 광을 조사하고 광가교 반응시키면 액정층을 형성하는데, 액정층의 광위상 변조 특성은 액정층의 두께, 액정물질의 굴절율 이방성에 의해 달라지게 되며, 액정층의 두께는 크게 제한되지 않으나, 수 마이크로미터 이하의 두께를 가지는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 16, the method of manufacturing a patterned patterned retarder according to the present invention includes applying a curable resin on a base substrate 810 (S1000); The coated curable resin is pressed and cured by the imprint master 815 formed on one surface of a pattern in which a plurality of protrusions 817 having a predetermined thickness are arranged at predetermined intervals, so that a plurality of grooves 822 of a predetermined depth are formed. Forming a curable resin pattern layer 820 having patterns arranged at predetermined intervals (S2000, S3000); And forming a liquid crystal material pattern layer 830 formed of a first liquid crystal layer 832 and a second liquid crystal layer 831 having different thicknesses by coating and curing the curable liquid crystal material on the curable resin pattern layer 820. It includes; step (S4000). In this case, the first liquid crystal layer 832 and the second liquid crystal layer 831 are characterized in that the phase of the light is differently delayed. In addition, although the method of manufacturing the patterned optical phase modulation plate according to the present invention is not shown in FIG. 16, it is preferable that the first liquid crystal layer 832 and the second liquid crystal layer 831 be finely adjusted for thickness. The liquid crystal material pattern layer 830 may be planarized by using a chemical mechanical polishing (CMP) device. In the method of manufacturing a patterned patterned retarder according to the present invention, the liquid crystal material may be filled by a method such as spin coating, roll coating, dispensing coating, or gravure coating, wherein the liquid crystal material is a polymer. It can be used diluted in a solvent. The method of coating the liquid crystal material is generally determined by the type of solvent and the dilution ratio. The liquid crystal layer is formed by irradiating light such as ultraviolet light and photocrosslinking on the filled liquid crystal material. The optical phase modulation characteristic of the liquid crystal layer is changed by the thickness of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy of the liquid crystal material. The thickness of is not particularly limited, but preferably has a thickness of several micrometers or less.

한편, 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는 임프린트 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하며, 베이스 기재의 재료나 형태에 의해 평판 타입의 임프린트용 마스터를 사용하는 평판 압축 성형 방식을 이용할 수도 있고, 바람직하게는 롤 타입의 임프린트용 마스터를 사용하는 롤투롤(Roll to Roll) 방식을 이용할 수도 있다. 특히 롤투롤(Roll to Roll) 방식을 이용을 이용하는 경우 제조공정의 단순화, 생산성의 향상 및 대면적으로 미세형상의 경화형 수지 패턴층 성형이 가능하다. 보다 구체적으로 상기 베이스 기재가 가요성 필름인 경우 롤투롤(Roll to Roll) 방식으로 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판을 제조할 수 있으며, 이때, 상기 임프린트용 마스터는 후술하는 마스터 롤, 스탬퍼 롤, 필름 형상의 성형 몰드 등이 있다.On the other hand, the step of applying the curable resin and the step of forming the curable resin pattern layer in the manufacturing method of the patterned optical phase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention is characterized in that by the imprint method, Depending on the material and the form, a flat plate compression molding method using a flat type imprint master may be used, and preferably a roll to roll type using a roll type imprint master may be used. In particular, when using a roll-to-roll method, it is possible to simplify the manufacturing process, improve productivity, and form a curable resin pattern layer having a fine shape in a large area. More specifically, when the base substrate is a flexible film, it is possible to manufacture a patterned optical phase modulation plate according to the present invention by a roll to roll method, wherein the master for imprint is a master roll to be described later, Stamper rolls, film-shaped molds, and the like.

도 17은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제1실시예를 나타낸 것이다. 도 17에서 보이는 바와 같이 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제1실시예는 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤(940)을 사용하는데, 임프린트용 마스터 롤(940)은 원통형의 금속 표면에 소정 높이의 다수의 돌기(942)가 소정 간격을 두고 배열된 패턴 형상이 가공된 것으로서 제조장치에 직접 장착 후 사용된다. 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤(940)을 사용하는 경화형 수지 패턴층 형성 장치는 필름 형태의 베이스 기재(910)가 감겨진 제1롤(920)과 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(912)가 감기는 제2롤(950)이 양측에 구비되어 베이스 기재(910)을 지지 구동시키고, 제1롤(920)과 제2롤(950) 사이에는 베이스 기재(910)를 이송시키는 가이드 롤(930a 내지 930d)과 베이스 기재(910)에 경화형 수지 패턴층을 성형하기 위한 임프린트용 마스터 롤(940)이 구비된다. 또한, 베이스 기재(910)가 임프린트용 마스터 롤(940)에 인입되는 지점에는 경화형 수지(962)을 공급하는 경화형 수지 주입수단(960)이 구비되고, 임프린트용 마스터 롤(940)의 주변으로는 베이스 기재(910)에 도포된 경화형 수지를 경화시키기 위한 경화수단(970)이 구비된다. 베이스 기재(910)는 제1롤(920)에서 풀리면서 가이드 롤(930a 내지 930d)을 따라 이송되어 임프린트용 마스터 롤(940)과 접촉하게 된다. 이때, 베이스 기재(910)가 임프린트용 마스터 롤(940)에 인입되는 지점으로 경화형 수지 주입수단(960)으로부터 경화형 수지(960)가 주입되고, 주입된 경화형 수지는 상기 베이스 기재(910)의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 마스터 롤(940) 표면의 밀착에 의해 소정 깊이의 다수의 홈(913)이 소정 간격을 두고 배열된 패턴 모양으로 베이스 기재(910)에 도포되게 되며, 베이스 기재(910)에 도포된 경화형 수지는 임프린트용 마스터 롤(940)의 주변에 설치된 경화수단(970)으로부터 발산되는 열 또는 자외선에 의해 경화된다. 이때, 베이스 기재(910)를 임프린트용 마스터 롤(940)에 인입시키는 가이드 롤(930b)은 베이스 기재(910)에 성형되는 경화형 수지 패턴층의 갭을 조절하는 역할을 한다. 즉, 가이드 롤(930b)을 임프린트용 마스터 롤(940)에 밀착시키면 베이스 기재(910)가 임프린트용 마스터 롤(940)에 밀착하게 되므로 성형되는 경화형 수지 패턴층의 두께가 얇아지고, 반대로 가이드 롤(930b)을 임프린트용 마스터 롤(940)과 거리를 두면 베이스 기재(910)와 임프린트용 마스터 롤(940) 사이의 간격이 넓어져 경화형 수지가 많이 유입되므로 경화형 수지 패턴층의 두께가 두꺼워진다. 임프린트용 마스터 롤(940)을 거치면서 소정 깊이의 홈(813)이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(912)는 가이드 롤(930c)에 의해 이끌려 임프린트용 마스터 롤(940)과 분리되고, 이후 이송되어 제2롤(950)에 감기게 된다.FIG. 17 illustrates a first embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. will be. As shown in FIG. 17, a first embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer uses an imprint master roll 940 as an imprint master, and an imprint master roll 940. ) Is a pattern shape in which a plurality of protrusions 942 having a predetermined height are arranged at predetermined intervals on a cylindrical metal surface, and is used after directly mounting on a manufacturing apparatus. In the curable resin pattern layer forming apparatus using the imprint master roll 940 as the imprint master, the first roll 920 on which the base substrate 910 in a film form is wound and the base substrate 912 on which the curable resin pattern layer is molded The second roll 950 is wound on both sides to support and drive the base substrate 910, the guide roll for transferring the base substrate 910 between the first roll 920 and the second roll 950 930a to 930d and an imprint master roll 940 for molding the curable resin pattern layer on the base substrate 910 are provided. In addition, at the point where the base substrate 910 enters the master roll 940 for imprinting, the curable resin injecting means 960 for supplying the curable resin 962 is provided, and around the imprint master roll 940. Curing means 970 for curing the curable resin applied to the base substrate 910 is provided. The base substrate 910 is unwinded from the first roll 920 to be transported along the guide rolls 930a to 930d to contact the imprint master roll 940. At this time, the curable resin 960 is injected from the curable resin injecting means 960 to the point where the base substrate 910 is inserted into the master roll 940 for imprint, and the injected curable resin is one surface of the base substrate 910. And a plurality of grooves 913 having a predetermined depth are applied to the base substrate 910 in a pattern shape arranged at a predetermined interval by closely contacting the surface of the imprint master roll 940 on which the pattern is formed, and the base substrate 910 ) Is cured by heat or ultraviolet rays emitted from the curing means 970 provided around the master roll 940 for imprint. At this time, the guide roll 930b for introducing the base substrate 910 into the imprint master roll 940 serves to adjust the gap of the curable resin pattern layer formed on the base substrate 910. That is, when the guide roll 930b is in close contact with the master roll 940 for imprint, the base substrate 910 is in close contact with the master roll 940 for imprint, and thus the thickness of the curable resin pattern layer to be molded becomes thin, and conversely, the guide roll When the distance between the imprint master roll 940 and the 930b 930b is widened, the gap between the base substrate 910 and the imprint master roll 940 increases, so that a large amount of curable resin flows in, and thus the thickness of the curable resin pattern layer is increased. The base substrate 912, in which the curable resin pattern layer is formed, having a pattern in which grooves 813 having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals while passing through the master roll 940 for imprint, is drawn by the guide roll 930c for imprint. Separated from the master roll 940, and then transported to be wound on the second roll (950).

또한, 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제2실시예는 임프린트용 마스터로 제1실시예의 임프린트용 마스터 롤 대신 임프린트용 스탬퍼 롤을 사용한다. 도 18은 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제2실시예에 사용된 임프린트용 스탬퍼 롤의 단면도이다. 도 18에서 보이는 바와 같이 임프린트용 스탬퍼 롤(1040)은 원통형의 지지체(1044) 표면에 소정 높이의 다수의 돌기(1042)가 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가진 스탬퍼(1041)가 밀착 고정된 것이다. 상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계의 제2실시예는, 베이스 기재를 소정 높이의 다수의 돌기(1043)가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 표면에 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤(1044)에 이송시키는 단계; 상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤(344)의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤(344)의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계; 상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤(344)의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및 상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 스탬퍼 롤(1044)과 분리시키는 단계;로 구성된다.In addition, the second embodiment constituting the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned patterned retarder (patterned retarder) according to another preferred embodiment of the present invention An imprint stamper roll is used as the master instead of the imprint master roll of the first embodiment. FIG. 18 is a stamper for imprint used in a second embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. It is a cross-sectional view of a roll. As shown in FIG. 18, the stamper roll 1040 for imprint is a stamper 1041 having a pattern in which a plurality of protrusions 1042 having a predetermined height are arranged on a surface of a cylindrical support 1044 in close contact with each other. . In the second embodiment of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer, an imprint stamper having a pattern on which a plurality of protrusions 1043 having a predetermined height are arranged at predetermined intervals is formed on a surface of the base substrate. Transferring to roll 1044; A curable resin is injected into a region where one surface of the base substrate and a pattern formed on the surface of the imprint stamper roll 344 are in close contact with each other to form a curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint stamper roll 344. Charging; One surface of the base substrate and the surface of the imprint stamper roll 344 in which the pattern is formed are brought into close contact with each other, and the curable resin is cured to form a curable resin pattern layer having a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals. Attaching to one side of the base substrate; And separating the base substrate to which the curable resin pattern layer is attached from the stamper roll 1044 for imprinting.

본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계에서 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤을 사용하는 제1실시예는 제품의 형성품질이 비교적 우수하다는 장점이 있는 반면, 생산성을 고려하면 패턴의 가공면적이 최소한 직경 500㎜ 이상의 대면적을 가공해야 하므로 패턴가공 비용이 기하급수적으로 증가하게 되는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 중량과 부피가 커져서 취급이 어려울 뿐만 아니라, 제품생산시 작업불량으로 부분적인 오염이 발생할 수 있고, 스크래치 등으로 인한 유지보수와 마모에 의한 수명 문제로 제조 비용이 상승하는 문제가 발생할 수 있다. 한편, 임프린트용 마스터로 임프린트용 스탬퍼 롤을 사용하는 제2실시예는 스탬퍼 자체의 제조공정이 까다롭고, 대면적화할수록 제조에 소요되는 기간이 장기화되고 균일한 두께의 스탬퍼를 제작하기가 어려우며, 취급과정에서 접히거나 변형이 발생하면 복원이 불가능한 문제가 발생할 수 있다. 일반적으로 스탬퍼는 주로 소형, 평판 타입의 압축 성형에 사용된다. 롤투롤(Roll to Roll) 방식에서는 스탬퍼를 지지체에 장착하면서 양 끝단 간에 이음매(1046a)가 발생하므로, 이음매 부분에서 패턴 불량이 발생할 뿐만 아니라 불량 위치의 주기가 짧아서 수율을 크게 저하시키는 문제가 발생할 수 있다. 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계에서 임프린트용 마스터로 임프린트용 마스터 롤 내지 임프린트용 스탬퍼 롤을 사용할 때 발생할 수 있는 문제점은 후술하는 임프린트용 마스터로 소정 높이의 다수의 돌기ㅏ 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드를 사용함으로써 극복할 수 있다.Using the imprint master roll as the imprint master in the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned pattern retarder (patterned retarder) according to another preferred embodiment of the present invention While the first embodiment has the advantage that the formation quality of the product is relatively excellent, in consideration of productivity, the processing area of the pattern must be processed at least 500 mm in diameter, so that the pattern processing cost increases exponentially. May occur. In addition, it is difficult to handle due to the increase in weight and volume, and may also cause partial contamination due to work defects during production of the product, and increase in manufacturing cost due to maintenance and wear caused by scratches. . On the other hand, in the second embodiment using the imprint stamper roll as the imprint master, the manufacturing process of the stamper itself is more difficult, the longer the area is required, the longer the time required for manufacturing and the more difficult it is to produce a stamper with a uniform thickness. Folding or deformation in the process can lead to problems that cannot be restored. In general, stampers are mainly used for compact, flat type compression molding. In the roll to roll method, the seam 1046a is generated between both ends while the stamper is mounted on the support, so that not only the pattern defect occurs at the joint portion but also a short period of the defective position, which may greatly reduce the yield. have. It may occur when using an imprint master roll or an imprint stamper roll as an imprint master in the step of applying the curable resin and forming the curable resin pattern layer during the manufacturing process of the patterned patterned retarder. The problem can be overcome by using a film-shaped molding mold in which patterns arranged at a plurality of protrusions of a predetermined height at predetermined intervals are formed on one surface by an imprint master to be described later.

도 19는 본 발명에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예를 나타낸 것으로서, 임프린트용 마스터로 필름 형상의 성형 몰드를 사용한 것이다. 임프린트용 마스터로 소정 높이의 다수의 돌기(1144)가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드(1142)를 사용하는 경화형 수지 패턴층 형성 장치는 베이스 기재(1110)가 감겨져 있는 제1롤(1120)과 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(1112)가 감기는 제2롤(1150)이 양측에 구비되고, 베이스 기재 및 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재를 이송시키는 가이드 롤(1130a 내지 1130e)이 제1롤(1120)과 제2롤(1150) 사이에 구비된다. 또한, 가이드 롤(1130c)과 가이드 롤(1130d) 사이에는 베이스 기재(1110)에 경화형 수지 패턴층을 성형하기 위한 패턴 몰딩부(1140)가 근접 배치된다. 패턴 몰딩부(440)는 패턴 형상이 구현된 필름 형상의 성형몰드(1142), 주입되는 경화형 수지를 성형 몰드에 압착시킴으로써 성형 몰드에 구현된 패턴대로 경화형 수지를 패턴 성형하여 베이스 기재에 도포시키는 패턴 롤(1145) 및 성형 몰드를 이송시키는 패턴 가이드 롤(1146a, 1146b)로 이루어진다. 상기의 성형 몰드(1142)는 필름 형상의 기재층 위에 패턴이 구현된 패턴층이 도포된 것으로서 길쭉한 밸트 타입으로 형성된다. 도 19에서는 성형 몰드의 패턴층에 구현된 패턴을 일부만 도시한 것으로, 실제 실시상으로는 성형 몰드 전체에 걸쳐 패턴이 구현된다. 성형 몰드(1142)를 장착함에 있어서, 패턴 롤(1145)과 패턴 가이드 롤(1146a, 1146b)을 연결하는 연장선 상을 성형 몰드로 감싼 후 성형 몰드의 양 끝단을 연결하게 된다. 이때, 성형 몰드(1142)의 양 끝단 연결로 인해 생기는 이음매는 스탬퍼 롤의 이음매보다 주기가 현저하게 길어지므로, 이음매 부분에서 발생하는 패턴 불량의 주기 또한 길어져 완성된 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(1112)의 수율을 크게 개선할 수 있게 된다. 이음매의 주기를 보다 늘리기 위해서는 성형 몰드(1142)를 보다 길게 형성하고 패턴 롤(1145)과 패턴 가이드 롤(1146a, 1146b) 사이 간격을 보다 늘리면 될 것이다. 베이스 기재(1110)가 패턴 몰딩부(1140)에 인입되는 지점에는 경화형 수지를 주입하기 위한 경화형 수지 주입수단(1160)이 구비되고, 베이스 기재(1110)와 성형 몰드(1142)가 밀착 이동되는 지점에는 열 또는 자외선을 조사하여 경화형 수지를 경화시키기 위한 경화수단(1170)이 구비된다. 한편, 도 19에서 가이드 롤(1130a 내지 1130e) 및 패턴 가이드 롤(1146a, 1146b)의 개수와 위치 등은 실시 상태에 따라 변경될 수 있음은 물론이다. 먼저, 제1롤(1120)에 감긴 베이스 기재(1110)는 가이드 롤(1130a 내지 1130c)에 의해 이송된다. 이때, 패턴 몰딩부(1140)의 성형 몰드(1142) 역시 패턴 롤(1145)과 패턴 가이드 롤(1146a, 1146b)에 감긴채 이송/회전하는 상태가 된다. 이때, 패턴 롤(1145)은 가이드 롤(1130c 및 1130d)에 맞물려 있으므로, 베이스 기재(1110)는 가이드 롤(1130c)에 이끌려 성형 몰드(1142)에 맞물리게 된다. 여기서, 가이드 롤(1130c)은 베이스 기재에 성형되는 경화형 수지 패턴층의 두께를 조절하는 갭 조절 기능을 수행하게 된다. 보다 구체적으로, 가이드 롤(1130c)이 패턴 롤(1145)에 밀착하면 경화형 수지 패턴층을 보다 얇게 형성할 수 있고, 반대로 가이드 롤(1130c)을 패턴 롤과 좀더 떨어지게 할 경우 경화형 수지 패턴층을 보다 두껍게 형성할 수 있다. 이러한 경화형 수지 패턴층의 두께는, 가이드 롤(1130c)과 패턴 롤(1145) 사이의 간격 이외에도, 경화형 수지의 점도, 패터닝 속도 및 베이스 기재의 장력 등에 의해 조절 가능하다. 한편, 가이드 롤(1130c)과 패턴 롤(1145)이 맞물린 지점으로는 경화형 수지 주입수단(1160)에 의해 경화형 수지가 주입되어 베이스 기재(1110)와 성형 몰드(1142)의 패턴 사이로 밀려 들어가 충전되고, 가이드 롤(1130c)과 패턴 롤(1145) 사이의 압력에 의해 균일하게 분포되어 패턴 성형된다. 베이스 기재(1110)와 성형 몰드(1142)의 패턴 사이에 분포된 경화형 수지는 경화수단(1170)으로부터 방출되는 열 또는 자외선에 의해 경화된다. 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재는 가이드 롤(1130d)에 이끌려 나오면서 성형 몰드(1142)와 분리되고, 완성된 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(1112)는 가이드 롤(1130e)에 의해 이송되어 제2롤(1150)에 감기게 된다. 여기서, 가이드 롤(1130d)은 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1112)를 성형 몰드(1142)와 분리시키는 박리 기능을 수행하게 된다. 또한, 도 19에서는 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1112)의 일부만을 도시한 것으로, 실제로는 제2롤(1150)에도 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1112)가 감긴 상태로 존재한다.FIG. 19 is a view illustrating a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to the present invention. The film-forming molding mold is used as the master. In the curable resin pattern layer forming apparatus using the film-shaped molding mold 1142 having a pattern in which a plurality of protrusions 1144 having a predetermined height are arranged at predetermined intervals as an imprint master, the base substrate 1110 is wound. The first roll 1120 and the second roll 1150 to which the base substrate 1112 on which the curable resin pattern layer is formed are wound are provided on both sides, and the base substrate and the base resin on which the curable resin pattern layer is formed are transferred. Guide rolls 1130a to 1130e are provided between the first roll 1120 and the second roll 1150. In addition, a pattern molding part 1140 for molding the curable resin pattern layer is disposed close to the base substrate 1110 between the guide roll 1130c and the guide roll 1130d. The pattern molding part 440 is a film-shaped molding mold 1142 having a pattern shape, and a pattern for molding the curable resin according to the pattern embodied in the molding mold by applying the curable resin to the molding mold and applying the pattern to the base substrate. It consists of the pattern guide rolls 1146a and 1146b which convey the roll 1145 and the shaping | molding mold. The molding mold 1142 is formed of an elongated belt type as a pattern layer on which a pattern is applied is applied on a film-shaped base layer. In FIG. 19, only a part of the pattern implemented in the pattern layer of the molding mold is illustrated. In practice, the pattern is implemented throughout the molding mold. In mounting the molding mold 1142, an extension line connecting the pattern roll 1145 and the pattern guide rolls 1146a and 1146b is wrapped with the molding mold, and then both ends of the molding mold are connected. At this time, the joint formed by connecting both ends of the molding mold 1142 has a significantly longer period than the joint of the stamper roll, so that the period of pattern defects occurring at the joint portion is also longer, and thus the base substrate on which the completed curable resin pattern layer is molded. The yield of 1112 can be greatly improved. In order to further increase the period of the seam, the molding mold 1142 may be formed longer and the interval between the pattern roll 1145 and the pattern guide rolls 1146a and 1146b may be increased. At the point where the base substrate 1110 is introduced into the pattern molding part 1140, a curable resin injecting means 1160 for injecting the curable resin is provided, and a point at which the base substrate 1110 and the molding mold 1142 move in close contact with each other. Curing means 1170 for curing the curable resin by irradiation with heat or ultraviolet rays is provided. Meanwhile, in FIG. 19, the number and position of the guide rolls 1130a to 1130e and the pattern guide rolls 1146a and 1146b may be changed depending on the embodiment. First, the base substrate 1110 wound on the first roll 1120 is transferred by the guide rolls 1130a to 1130c. At this time, the molding mold 1142 of the pattern molding part 1140 is also in a state of being transferred / rotated while being wound around the pattern roll 1145 and the pattern guide rolls 1146a and 1146b. At this time, since the pattern roll 1145 is engaged with the guide rolls 1130c and 1130d, the base substrate 1110 is led by the guide roll 1130c to be engaged with the molding mold 1142. Here, the guide roll 1130c is to perform a gap control function to adjust the thickness of the curable resin pattern layer molded on the base substrate. More specifically, when the guide roll 1130c is in close contact with the pattern roll 1145, the curable resin pattern layer may be formed thinner. On the contrary, when the guide roll 1130c is further away from the pattern roll, the curable resin pattern layer may be more thin. Can form thick. The thickness of such a curable resin pattern layer can be adjusted by the viscosity of the curable resin, the patterning speed, the tension of the base substrate, and the like, in addition to the gap between the guide roll 1130c and the pattern roll 1145. On the other hand, at the point where the guide roll 1130c and the pattern roll 1145 are engaged, the curable resin is injected by the curable resin injecting means 1160 to be pushed and filled between the pattern of the base substrate 1110 and the molding mold 1142. The pattern is uniformly distributed by the pressure between the guide roll 1130c and the pattern roll 1145. The curable resin distributed between the base substrate 1110 and the pattern of the molding mold 1142 is cured by heat or ultraviolet rays emitted from the curing means 1170. The base substrate on which the curable resin pattern layer is formed is separated from the molding mold 1142 while being drawn by the guide roll 1130d, and the base substrate 1112 on which the completed curable resin pattern layer is molded is transferred by the guide roll 1130e. It is wound on the second roll 1150. Here, the guide roll 1130d performs a peeling function of separating the base substrate 1112 on which the curable resin pattern layer is formed from the molding mold 1142. 19 illustrates only a part of the base substrate 1112 on which the curable resin pattern layer is formed, and in reality, the base substrate 1112 on which the curable resin pattern layer is formed is also wound on the second roll 1150.

도 20은 본 발명의 다른에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 또 다른 제3실시예를 나타낸 것이다. 도 20에 도시된 또 다른 제3실시예는 도 8에 도시된 패턴 몰딩부(1240)의 구성을 변형한 실시예로서, 구체적으로 소정 높이의 다수의 돌기(1244)가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드(1242)를 베이스 기재(1210)의 길이만큼 길게 롤 타입으로 형성함으로써 완성된 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(1212)에 이음매가 없도록 한 실시예이다. 도 20에 의하면 또 다른 제3실시예를 수행하기 위한 경화형 수지 패턴층 형성 장치는 베이스 기재(1210)가 감겨져 있는 제1롤(1220)과 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(1212)가 감기는 제2롤(1250)이 양측에 구비되고, 베이스 기재 및 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재를 이송시키는 가이드 롤(1230a 내지 1230f)이 제1롤(1220)과 제2롤(1250) 사이에 구비된다. 또한, 가이드 롤(1230c)과 가이드 롤(1230d) 사이에는 베이스 기재(1210)에 경화형 수지 패턴층을 성형하기 위하여 패턴 몰딩부(1240)의 패턴 롤(1246)이 밀착된다. 여기서 가이드 롤(1230a 내지 1230f)의 개수와 위치 등은 실시 상태에 따라 변경 가능함은 물론이다. 패턴 몰딩부(1240)는 패턴이 구현된 필름 형상의 성형 몰드(1242), 성형 몰드가 감겨져 있는 제3롤(1245), 주입되는 경화형 수지를 성형 몰드에 압착시켜 성형 몰드의 패턴대로 경화형 수지를 패턴성형하고 이를 베이스 기재(1210)에 도포시키는 패턴 롤(1246), 성형 몰드를 이송시키는 패턴 가이드 롤(1247a 내지 1247d) 및 이송된 성형 몰드가 감기는 제4롤(1248)로 이루어진다. 패턴 가이드 롤(1247a 내지 1247d)의 개수와 위치 등은 실시 상태에 따라 변경할 수 있음은 물론이다. 상기의 성형 몰드(1242)는, 도 19의 실시예와 달리 제3롤(1245)에 감긴 채 패턴 롤(1246) 및 패턴 가이드 롤(1247a 내지 1247d)에 의해 이송되면서 베이스 기재(1210)에 경화형 수지로 이루어진 패턴층을 성형한 후 제4롤(1248)에 감기게 된다. 이때, 성형 몰드(1242)는 베이스 기재(1210)과 동일한 길이로 형성하는 것이 바람직하며, 이를 통해 경화형 수지 패턴층이 성형된 베이스 기재(1212)에 이음매로 인한 패턴 불량이나 패턴의 끊김이 없이 전 영역에 걸쳐 패턴이 고르게 형성되게 된다. 도 20에서는 성형 몰드의 패턴층에 구현된 패턴을 일부만 도시하였으나, 실제 실시상으로는 성형 몰드 전체에 걸쳐 패턴이 구현된다. 베이스 기재(1210)가 패턴 몰딩부(1240)에 인입되는 지점, 즉 가이드 롤(1230c)과 패턴 롤(1246)이 밀착되는 지점에는 경화형 수지를 주입하기 위한 경화형 수지 주입수단(1260)이 구비되고, 베이스 기재와 성형 몰드(1242)가 밀착 이동하는 지점에는 열 또는 자외선을 조사하여 경화형 수지를 경화시키기 위한 경화수단(1270)이 구비된다. 먼저, 제1롤(520)에 감긴 베이스 기재(1210)는 가이드 롤(1230a 내지 1230c)에 의해 이송되어 가이드 롤(1230c)과 패턴 롤(1246)이 맞물리는 지점으로 인입된다. 이때, 패턴 몰딩부(1240)의 성형 몰드(1242) 역시 제3롤(1245)로부터 풀려 패턴 가이드 롤(1247a)에 의해 이송되어 패턴 롤(1246)과 가이드 롤(1230c) 사이로 인입되어 베이스 기재(1210)과 밀착하게 된다. 여기서, 가이드 롤 (1230c)은 베이스 기재(1210)의 일면에 형성되는 경화형 수지 패턴층의 두께를 조절하는 갭 조절 기능을 수행하게 된다. 한편, 베이스 기재(1210)가 인입되는 가이드 롤(1230c)과 패턴 롤(1246) 사이 지점에는 경화형 수지 주입수단(1260)에 의해 경화형 수지가 주입되므로, 경화형 수지는 베이스 기재의 일면과 성형 몰드(1242)의 패턴 사이로 밀려 들어가 충전되고 가이드 롤(1230c)과 패턴 롤(1246) 간의 압력에 의해 균일하게 분포된 후 경화수단(1270)으로부터 방출되는 열 또는 자외선에 의해 경화된다. 따라서, 경화형 수지는 패턴이 형성된 상태로 베이스 기재(1210)에 도포 된다. 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재는 가이드 롤(1230d) 및 가이드 롤 (1230e)에 의해 이송되고, 성형 몰드(1242) 역시 가이드 롤(1230d) 및 패턴 가이드 롤(1247b)에 의해 이송된다. 따라서, 가이드 롤(1230d)과 가이드 롤 (1230e) 사이 또는 가이드 롤(1230d)과 패턴 가이드 롤(1247b) 사이 구간에는 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재와 성형 몰드(1242)가 밀착된 상태로 함께 이송되게 된다. 이후에, 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1212)는 가이드 롤(1230f)에 의해 이끌려 이송된 후 제2롤(1250)에 감기게 된다. 또한, 성형 몰드(1242)는 패턴 가이드 롤(1247c와 1247d)에 이끌려 이송된 후 제4롤(1248)에 감기게 된다. 여기서 가이드 롤(1230e)과 패턴 가이드 롤(1247b)은 각기 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1212)와 성형 몰드(1242)를 분리시키는 박리기능을 하게 된다. 한편, 상기한 바와 같이, 성형 몰드(1242)의 길이와 베이스 기재(1210)의 길이를 동일하게 구성할 경우, 성형 몰드가 제3롤(1245)에서 풀려 나와 제4롤(1248)에 다시 감길 때까지 베이스 기재(1210)의 전면에 걸쳐 경화형 수지 패턴층을 성형시킬 수 있으며, 이때 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1212)에는 이음매로 인한 패턴 불량이 발생하지 않는다. 또한, 도 9에서는 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1212)의 일부만을 도시한 것으로, 실제로는 제2롤(1250)에도 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재(1212)가 감긴 상태로 존재한다.FIG. 20 illustrates another third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another aspect of the present invention. will be. 20 is a modified example of the configuration of the pattern molding part 1240 illustrated in FIG. 8. In detail, a plurality of protrusions 1244 having a predetermined height are arranged at predetermined intervals. This is an embodiment in which the formed curable resin pattern layer is seamless on the molded base substrate 1212 by forming a film-shaped molding mold 1242 formed on one surface in a roll type as long as the length of the base substrate 1210. . Referring to FIG. 20, in the curable resin pattern layer forming apparatus for carrying out another third embodiment, the first roll 1220 on which the base substrate 1210 is wound and the base substrate 1212 on which the curable resin pattern layer is formed are wound. The second roll 1250 is provided at both sides, and the guide rolls 1230a to 1230f for conveying the base substrate on which the base substrate and the curable resin pattern layer are formed are disposed between the first roll 1220 and the second roll 1250. Is provided. In addition, the pattern roll 1246 of the pattern molding part 1240 is in close contact between the guide roll 1230c and the guide roll 1230d to form a curable resin pattern layer on the base substrate 1210. The number and position of the guide rolls 1230a to 1230f may be changed depending on the embodiment. The pattern molding part 1240 compresses a molding mold 1242 having a film shape, a third roll 1245 on which the molding mold is wound, and a curable resin to be injected into the molding mold to form a curable resin according to a pattern of the molding mold. A pattern roll 1246 for pattern forming and applying it to the base substrate 1210, pattern guide rolls 1247a to 1247d for transferring the molding mold, and a fourth roll 1248 for winding the transferred molding mold. The number and position of the pattern guide rolls 1247a to 1247d can be changed depending on the embodiment. Unlike the embodiment of FIG. 19, the forming mold 1242 is wound on the third roll 1245 and transferred to the base substrate 1210 while being transferred by the pattern roll 1246 and the pattern guide rolls 1247a to 1247d. After molding the pattern layer made of resin is wound on the fourth roll (1248). At this time, the molding mold 1242 is preferably formed to have the same length as that of the base substrate 1210, and through this, the base mold 1212 on which the curable resin pattern layer is molded may be transferred without pattern defects or patterns caused by seams. The pattern is evenly formed over the area. In FIG. 20, only a part of the pattern implemented in the pattern layer of the molding mold is illustrated, but in practice, the pattern is implemented throughout the molding mold. At the point where the base substrate 1210 is introduced into the pattern molding part 1240, that is, the point at which the guide roll 1230c and the pattern roll 1246 are in close contact with each other, the curable resin injecting means 1260 for injecting the curable resin is provided. At the point where the base substrate and the molding mold 1242 closely move, curing means 1270 for curing the curable resin by irradiating heat or ultraviolet rays is provided. First, the base substrate 1210 wound on the first roll 520 is transferred by the guide rolls 1230a to 1230c to be introduced into the point where the guide roll 1230c and the pattern roll 1246 are engaged. At this time, the molding mold 1242 of the pattern molding part 1240 is also unwound from the third roll 1245 and transferred by the pattern guide roll 1247a to be drawn between the pattern roll 1246 and the guide roll 1230c to form the base substrate ( 1210). Here, the guide roll 1230c performs a gap adjustment function for adjusting the thickness of the curable resin pattern layer formed on one surface of the base substrate 1210. On the other hand, since the curable resin is injected by the curable resin injecting means 1260 between the guide roll 1230c and the pattern roll 1246 into which the base substrate 1210 is inserted, the curable resin is formed on one surface of the base substrate and the molding mold ( It is pushed through the pattern of 1242 to be filled and uniformly distributed by the pressure between the guide roll 1230c and the pattern roll 1246 and then cured by heat or ultraviolet light emitted from the hardening means 1270. Accordingly, the curable resin is applied to the base substrate 1210 in a state where a pattern is formed. The base substrate on which the curable resin pattern layer is formed is conveyed by the guide roll 1230d and the guide roll 1230e, and the molding mold 1242 is also conveyed by the guide roll 1230d and the pattern guide roll 1247b. Accordingly, the base substrate and the molding mold 1242 in which the curable resin pattern layer is formed are in close contact with each other between the guide roll 1230d and the guide roll 1230e or between the guide roll 1230d and the pattern guide roll 1247b. Will be transferred. Thereafter, the base substrate 1212 having the curable resin pattern layer formed thereon is guided by the guide roll 1230f and then wound around the second roll 1250. In addition, the molding mold 1242 is driven by the pattern guide rolls 1247c and 1247d and then wound around the fourth roll 1248. Here, the guide roll 1230e and the pattern guide roll 1247b each have a peeling function of separating the base substrate 1212 and the molding mold 1242 on which the curable resin pattern layer is formed. Meanwhile, as described above, when the length of the molding mold 1242 and the length of the base substrate 1210 are the same, the molding mold is released from the third roll 1245 and wound on the fourth roll 1248 again. The curable resin pattern layer may be molded over the entire surface of the base substrate 1210 until the pattern defect due to the seam does not occur in the base substrate 1212 on which the curable resin pattern layer is formed. In FIG. 9, only a part of the base substrate 1212 on which the curable resin pattern layer is formed is shown, and in fact, the base substrate 1212 on which the curable resin pattern layer is formed also exists on the second roll 1250.

도 21은 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판(Patterned retarder)의 제조 공정 중 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계를 구성하는 제3실시예에 사용된 성형 몰드의 단면도이고, 도 22는 다른 성형 몰드의 단면도이고, 도 23은 또 다른 성형 몰드의 단면도이다. 도 19 내지 도 20에서 사용된 필름 형상의 성형 몰드는 경화형 수지 주입수단에 의해 주입되는 경화형 수지에 패턴을 성형하기 위한 것으로서, 고분자로 구성된 수지에 패턴 형상이 구현된 유연성이 있는 필름 형상으로 이루어진다. 구체적으로는 도 21 내지 도 23에 도시된 바와 같이 성형 몰드(1342, 1442, 1542)는 비교적 균일한 두께의 연속적인 평탄면을 갖는 기재층(1342a, 1442a, 1542a)과 상기 기재층의 일면에 형성되고, 소정 높이의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가진 패턴층(1342b, 1442b, 1542b)으로 구성되는 2층 구조를 갖는다. 또한, 성형 몰드는 바람직하게는 도 22 내지 도 23에 도시된 바와 같이 상기 기재층의 다른 일면에 형성되고, 상기 롤의 표면과의 마찰력을 증가시키기 위한 마찰부(1442c, 1542c)를 더 포함할 수 있다. 성형 몰드의 기재층의 재질로는 투명하고 유연성이 있으며 소정의 인장 강도 및 내구성이 있는 필름을 사용하도록 하며, PET 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 패턴층을 구성하는 수지 재료로는 올리고머(Oligomer) 또는 경화개시제 등 고분자 재료를 배합하여 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 성형 몰드의 제조방법의 일례를 들면 다음과 같다. 먼저, 금속 또는 박막형태를 갖는 마스터를 고정시키고 마스터 위에 몰드용 고분자 레진(resin, 수지)을 도포한다. 다음으로, 고분자 수지가 도포된 마스터 위에 성형 몰드용 기재필름을 덮은 후 그 위로 원통형의 롤러를 이동시킴으로써 소정의 압력을 골고루 가한다. 이때, 도포된 고분자 수지가 마스터의 패턴 사이로 밀려 들어가 충전되고 롤러의 압력에 의해 소정의 두께로 균일하게 분포되게 된다. 이후에 수지의 특성에 따라 마스터와 기재필름 사이에 수지가 충전된 접촉 상태에서 열 또는 자외선을 조사하여 경화시킨 후 기재필름을 마스터로부터 분리하면 된다. 여기서, 기재필름으로는 필요에 따라 몰드용 고분자 수지와 부착력을 갖도록 표면 처리된 것을 사용할 수 있다. 성형 몰드는 상기의 제조방법 이외에도 다양한 방법으로 제조 가능하다. 한편, 도 19 및 도 20에 도시한 바와 같이 패턴 롤과 패턴 가이드 롤에 성형 몰드를 장착함에 있어서, 패턴 롤 또는 패턴 가이드 롤의 표면과 성형 몰드 사이에 기포나 이물질이 없도록 밀착 고정시키는 것이 중요하다. 이때, 작업성을 좋게 하기 위해서는 패턴 롤과 패턴 가이드 롤의 표면에 일정 간격으로 미세 홀을 형성하여 기포가 자연적으로 소멸되도록 할 수 있다. 또한, 경화형 수지 패턴층 성형 장치를 구동시킴에 있어서 완성된 경화형 수지 패턴층이 형성된 베이스 기재의 패턴 불량 등을 줄이고 품질을 향상시키기 위하여, 패턴 롤 및 패턴 가이드 롤의 표면과 성형 몰드 사이에 미끌림이 발생하는 것을 방지하여야 하는데, 이를 위해 도 22 내지 도 23에 도시된 바와 같이 성형 몰드의 기재층의 다른 일면에 마찰부를 형성하는 것이 바람직하다. 도 22에 도시된 성형 몰드(1442)는 기재층(1442a)의 저면에 형성된 수 마이크로미터 크기의 요철(1442c)을 다수 개 구비한다. 패턴 롤 또는 패턴 가이드 롤의 표면과 성형 몰드의 요철 사이에 생기는 높은 마찰력은 성형 몰드가 미끄러지는 것을 방지한다. 이때, 요철(1442c)은 고무나 실리콘 등 탄성 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 도 23에 도시된 성형 몰드(1542)는 기재층(1542a)의 저면에 형성된 박막필름(1542c)을 구비하여 패턴 롤 또는 패턴 가이드 롤의 표면과의 마찰력을 높이도록 한다. 이때, 박막필름(1542c) 역시 고무나 실리콘 등 탄성 재질을 사용하도록 한다. 한편, 상기에서 제시한 것 이외에도 성형 몰드의 미끌림 방지를 위한 다양한 변형/실시가 가능함은 물론이다.FIG. 21 is used in a third embodiment constituting a step of applying a curable resin and forming a curable resin pattern layer during a manufacturing process of a patterned patterned retarder according to another preferred embodiment of the present invention. 22 is a sectional view of another molding mold, and FIG. 23 is a sectional view of another molding mold. The film-shaped molding mold used in FIGS. 19 to 20 is for molding a pattern on the curable resin injected by the curable resin injecting means, and has a flexible film shape in which a pattern shape is realized on a resin composed of a polymer. Specifically, as shown in FIGS. 21 to 23, the molding molds 1342, 1442, and 1542 may be formed on substrate layers 1342a, 1442a, and 1542a having a continuous flat surface having a relatively uniform thickness and on one surface of the substrate layer. It is formed and has a two-layer structure consisting of pattern layers 1342b, 1442b, and 1542b having a pattern in which a plurality of protrusions of a predetermined height are arranged at predetermined intervals. In addition, the molding mold is preferably formed on the other side of the base layer as shown in Figs. 22 to 23, and further includes a friction portion (1442c, 1542c) for increasing the friction with the surface of the roll Can be. The material of the base layer of the molding mold is to use a film that is transparent, flexible, and has a predetermined tensile strength and durability, and it is preferable to use a PET film. In addition, it is preferable to mix | blend and use a polymeric material, such as an oligomer or a curing initiator, as a resin material which comprises a pattern layer. An example of the manufacturing method of such a molding mold is as follows. First, the master having a metal or thin film is fixed and a polymer resin (resin) for a mold is applied on the master. Next, a predetermined pressure is evenly applied by covering the base film for molding mold on the master coated with the polymer resin and then moving the cylindrical roller thereon. At this time, the applied polymer resin is pushed in between the patterns of the master and filled and uniformly distributed to a predetermined thickness by the pressure of the roller. Thereafter, according to the properties of the resin, the base film is separated from the master after curing by irradiating heat or ultraviolet rays in a contact state filled with a resin between the master and the base film. Here, as the base film, those surface-treated to have an adhesive force with a polymer resin for a mold may be used as necessary. The molding mold can be manufactured by various methods in addition to the above production method. On the other hand, as shown in Fig. 19 and 20, in mounting the molding mold to the pattern roll and the pattern guide roll, it is important to tightly fixed so that there is no bubble or foreign matter between the surface of the pattern roll or pattern guide roll and the molding mold. . At this time, in order to improve the workability, by forming fine holes at predetermined intervals on the surface of the pattern roll and the pattern guide roll, bubbles may naturally disappear. In addition, in driving the curable resin pattern layer molding apparatus, slippage is formed between the surface of the pattern roll and the pattern guide roll and the molding mold in order to reduce pattern defects and the like of the base substrate on which the completed curable resin pattern layer is formed. It should be prevented from occurring, for this purpose it is preferable to form a friction portion on the other side of the base layer of the molding mold, as shown in FIGS. The molding mold 1442 illustrated in FIG. 22 includes a plurality of micrometer-sized unevennesses 1442c formed on the bottom of the base layer 1442a. The high frictional force generated between the surface of the pattern roll or the pattern guide roll and the unevenness of the molding mold prevents the molding mold from slipping. At this time, it is preferable that the unevenness 1442c uses an elastic material such as rubber or silicon. In addition, the molding mold 1542 illustrated in FIG. 23 includes a thin film 1542c formed on the bottom surface of the base layer 1542a to increase friction with the surface of the pattern roll or the pattern guide roll. At this time, the thin film 1542c also uses an elastic material such as rubber or silicon. On the other hand, in addition to the above, it is a matter of course that various modifications / implements are possible to prevent slipping of the molding mold.

상기에서 본 발명의 바람직한 다른 예에 따른 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법에 대하여 설명함에 있어서 베이스 기재 위에 도포된 경화형 수지를 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터로 가압하고 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하는 것을 그 예로 하였지만 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 열을 가한 베이스 기재를 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 형성하거나, 또는 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드에 열을 가한 후에 상기 베이스 기재를 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 형성하는 등, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 예가 가능하다.
In the above description of a method for manufacturing a patterned optical phase modulation plate according to another preferred embodiment of the present invention, a pattern in which a plurality of protrusions having a predetermined thickness are arranged at one side of the curable resin coated on the base substrate Pressing and curing with a molded imprint master to form a curable resin pattern layer having a pattern in which a plurality of grooves of a predetermined depth are arranged at predetermined intervals, but the present invention is not limited thereto. The base substrate is pressed with a mold in which a plurality of protrusions having a predetermined thickness and arranged at predetermined intervals is molded on one surface, thereby forming a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals, or predetermined The base having a plurality of protrusions of thickness arranged at predetermined intervals after applying heat to a mold formed on one surface thereof. Various examples are possible within the range which does not deviate from the summary of this invention, such as pressurizing a base material with a mold and forming the pattern in which the several groove | channel of predetermined depth is arrange | positioned at predetermined intervals in a base base material.

이제까지 본 발명을 바람직한 실시예들을 중심으로 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 개시된 실시예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점들은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.So far, the present invention has been described with reference to the preferred embodiments. Those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in a modified form without departing from the essential features of the present invention. Therefore, the disclosed embodiments should be considered in descriptive sense only and not for purposes of limitation. The scope of the present invention is shown in the claims rather than the foregoing description, and all differences within the scope will be construed as being included in the present invention.

Claims (50)

베이스 기재;
상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어지고, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층; 및
상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈과 제2홈에 내재된 경화형 액정물질에 의해 각각 형성된 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층;을 포함하고,
상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.Base substrate;
A curable resin pattern layer made of a curable resin coated on the base substrate, the curable resin pattern layer having patterns in which first and second grooves having different depths are alternately arranged; And
And a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer each formed by a curable liquid crystal material embedded in the first and second grooves of the curable resin pattern layer.
And the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer each retard the phase of light differently. 베이스 기재;
상기 베이스 기재 위에 코팅된 경화형 수지로 이루어지고, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층; 및
상기 경화형 수지 패턴층 상에 도포된 액정물질에 의해 형성된 서로 다른 두께의 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층;
을 포함하며, 상기 제1액정층의 일부는 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격 영역의 위에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.Base substrate;
A curable resin pattern layer made of curable resin coated on the base substrate and having a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals; And
A liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer having different thicknesses formed by the liquid crystal material applied on the curable resin pattern layer;
Wherein a portion of the first liquid crystal layer corresponds to a groove, a second liquid crystal layer corresponds to an upper portion of the gap region of the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer respectively delay phases of light differently. A patterned optical phase modulation plate. 제 2 항에 있어서, 상기 제1액정층은 홈의 내부 영역과 홈의 내부 영역의 위에 도포된 경화형 액정물질에 의해 형성되고, 상기 제2액정층은 홈들의 간격 영역의 위에 도포된 경화형 액정물질에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.3. The curable liquid crystal material of claim 2, wherein the first liquid crystal layer is formed of a curable liquid crystal material applied on an inner region of the groove and an inner region of the groove, and the second liquid crystal layer is applied on the gap region of the grooves. A patterned photophase modulation plate, characterized in that formed by. 제 1항과 제 2항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스 기재는 투명 기재인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.The patterned photophase modulation plate of claim 1, wherein the base substrate is a transparent substrate. 제 4항에 있어서, 상기 투명 기재는 유리 기재인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.5. The patterned photophase modulation plate of claim 4, wherein the transparent substrate is a glass substrate. 제 1항과 제 2항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.The patterned photophase modulation plate of claim 1, wherein the base substrate is a flexible film. 제 1항과 제 2항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 경화형 수지는 열경화형 수지 또는 광경화형 수지인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.The patterned optical phase modulation plate of claim 1, wherein the curable resin is a thermosetting resin or a photocurable resin. 제 7항에 있어서, 상기 광경화형 수지는 자외선 경화형 수지인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.8. The patterned photophase modulation plate of claim 7, wherein the photocurable resin is an ultraviolet curable resin. 제 1항과 제 2항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 경화형 액정물질은 광경화형 액정물질인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.The patterned photophase modulation plate of claim 1, wherein the curable liquid crystal material is a photocurable liquid crystal material. 제 9항에 있어서, 상기 광경화형 액정물질은 자외선 경화형 액정물질인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.10. The patterned photophase modulation plate of claim 9, wherein the photocurable liquid crystal material is an ultraviolet curable liquid crystal material. 제 1항과 제 2항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 제1액정층은 광의 위상을 (n-3/4)λ 만큼 지연시키고, 제2액정층은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.The liquid crystal layer of claim 1, wherein the first liquid crystal layer delays the phase of light by (n-3 / 4) λ, and the second liquid crystal layer reduces the phase of light by (n-1 / 4). delayed by [lambda], and n is a positive integer. 제 11항에 있어서, 상기 제1액정층 및 제2액정층을 통과한 광의 하나는 좌원편광 특성을 가지고 다른 하나는 우원편광 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.12. The patterned optical phase modulation plate of claim 11, wherein one of the light passing through the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer has a left circular polarization characteristic and the other has a right circular polarization characteristic. 베이스 기재 위에 경화형 수지를 도포하는 단계;
상기 도포된 경화형 수지를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터로 가압하고 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층의 제1홈과 제2홈에 경화형 액정물질을 충전하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.Applying a curable resin on the base substrate;
The applied curable resin is pressurized and cured by an imprint master formed on one surface of patterns in which first protrusions and second protrusions having different heights are alternately formed, thereby alternately forming first and second grooves of different depths. Forming a curable resin pattern layer having an arrayed pattern; And
And forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by filling and curing a curable liquid crystal material in the first and second grooves of the curable resin pattern layer.
And the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer retard the phase of light differently. 베이스 기재 위에 경화형 수지를 도포하는 단계;
상기 도포된 경화형 수지를 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터로 가압하고 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층 상에 경화형 액정물질을 도포하고 경화시켜 서로 다른 두께의 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계;
를 포함하며, 상기 제1액정층은 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 광위상 변조판의 제조방법.Applying a curable resin on the base substrate;
The coated curable resin is pressed and cured by an imprint master, in which a plurality of protrusions having a predetermined thickness and arranged at predetermined intervals are molded on one surface thereof, so that a plurality of grooves having a predetermined depth have a pattern arranged at predetermined intervals. Forming a curable resin pattern layer; And
Forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer having different thicknesses by coating and curing the curable liquid crystal material on the curable resin pattern layer;
Wherein the first liquid crystal layer corresponds to the groove, the second liquid crystal layer corresponds to the gap between the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer respectively delay the phase of light differently. Method of manufacturing a modulating plate. 제 13항과 제 14항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스 기재는 투명 기재인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.15. A method according to any one of claims 13 and 14, wherein the base substrate is a transparent substrate. 제 15항에 있어서, 상기 투명 기재는 유리 기재인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.16. The method of claim 15, wherein the transparent substrate is a glass substrate. 제 13항과 제 14항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.15. A method according to any one of claims 13 and 14, wherein said base substrate is a flexible film. 제 13항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름이며,
상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는,
베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 표면에 형성된 임프린트용 마스터 롤에 이송시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 마스터 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 마스터 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 마스터 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 마스터 롤과 분리시키는 단계;로 구성되고,
상기 임프린트용 마스터 롤은 원통형의 금속 표면에 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴 형상이 가공된 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 13, wherein the base substrate is a flexible film,
The step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer,
Transferring the base substrate to an imprint master roll having patterns on which surfaces of first and second protrusions having different heights are alternately arranged;
Filling the curable resin into an area where one surface of the base substrate and the pattern formed on the surface of the imprint master roll are in close contact with each other to fill the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint master roll;
One surface of the base substrate and the surface of the imprint master roll formed with the pattern are brought into close contact with each other to cure the curable resin, thereby forming a curable resin pattern layer having a pattern in which first and second grooves having different depths are alternately arranged. Attaching to one side of the base substrate; And
Comprising the step of separating the base substrate with the curable resin pattern layer and the imprint master roll;
The method for manufacturing a patterned optical phase modulation plate is characterized in that the master roll for imprint is processed in a pattern shape in which the first projection and the second projection of different heights are alternately arranged on the cylindrical metal surface. 제 13항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름이며,
상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는,
베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 표면에 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤에 이송시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 스탬퍼 롤과 분리시키는 단계;로 구성되고,
상기 임프린트용 스탬퍼 롤은 원통형의 지지체 표면에 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴을 가진 스탬퍼가 밀착 고정된 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 13, wherein the base substrate is a flexible film,
The step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer,
Transferring the base substrate to an imprint stamper roll having patterns on the surface of which first and second protrusions having different heights are alternately arranged;
Filling a curable resin into an area where one surface of the base substrate and a pattern formed on a surface of the imprint stamper roll are in close contact with each other to fill the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint stamper roll;
One surface of the base substrate and the surface of the imprint stamper roll having the pattern are brought into close contact with each other, and the curable resin is cured to form a curable resin pattern layer having patterns in which first and second grooves having different depths are alternately arranged. Attaching to one side of the base substrate; And
And separating the base substrate to which the curable resin pattern layer is attached from an imprint stamper roll.
The stamper roll for imprinting is a method of manufacturing a patterned optical phase modulation plate characterized in that the stamper having a pattern in which the first projection and the second projection of different heights are arranged in close contact with the cylindrical support surface. 제 13항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름이며,
상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는,
베이스 기재를 가이드 롤을 통해 패턴 롤로 이송시키는 단계;
서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드를 패턴 가이드 롤을 통해 패턴 롤로 이송시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 성형 몰드의 일면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 성형 몰드의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 성형 몰드의 일면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 성형 몰드와 분리시키는 단계;로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 13, wherein the base substrate is a flexible film,
The step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer,
Transferring the base substrate to the pattern roll through the guide roll;
Transferring the film-shaped molding mold formed on one surface of patterns having alternately arranged first and second protrusions having different heights to a pattern roll through a pattern guide roll;
Filling a curable resin into an area where one surface of the base substrate and a pattern formed on one surface of the molding mold are in close contact with each other to fill the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the molding mold;
One surface of the base substrate and one surface of the molding mold in which the pattern is formed are brought into close contact with each other, and the curable resin is cured to form a curable resin pattern layer having a pattern in which the first grooves and the second grooves of different depths are alternately arranged. Attaching to one side of the substrate; And
Separating the base substrate with the curable resin pattern layer from a molding mold; and manufacturing the patterned optical phase modulation plate. 제 20항에 있어서, 상기 필름 형상의 성형 몰드는,
필름 형상의 기재층; 및
상기 기재층의 일면에 형성되고, 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴을 가진 패턴층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 20, wherein the film-shaped molding mold,
Film-shaped base material layers; And
And a pattern layer formed on one surface of the base layer, the pattern layer having a pattern in which first and second protrusions having different heights are alternately arranged. 제 21항에 있어서, 상기 필름 형상의 성형 몰드는,
상기 기재층의 다른 일면에 형성되고, 상기 롤의 표면과의 마찰력을 증가시키기 위한 마찰부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 21, wherein the film-shaped molding mold,
Formed on the other side of the base layer, the friction portion for increasing the friction force with the surface of the roll; manufacturing method of a patterned optical phase modulation plate further comprises. 제 22항에 있어서, 상기 기재층이 PET 필름으로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.23. The method of claim 22, wherein the base layer is made of a PET film. 제 22항에 있어서, 상기 패턴층이 고분자 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.23. The method of claim 22, wherein the pattern layer is made of a polymer resin. 제 22항에 있어서, 상기 마찰부가,
다수의 미세한 요철로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 22, wherein the friction portion,
Method for producing a patterned optical phase modulation plate, characterized in that consisting of a plurality of fine irregularities. 제 22항에 있어서, 상기 마찰부가,
탄성 재료로 형성된 박막 필름으로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 22, wherein the friction portion,
A method of manufacturing a patterned photophase modulation plate, comprising a thin film formed of an elastic material. 제 14항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름이며,
상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는,
베이스 기재를 소정 높이의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 임프린트용 마스터 롤에 이송시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 마스터 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 마스터 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 마스터 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 마스터 롤과 분리시키는 단계;로 구성되고,
상기 임프린트용 마스터 롤은 원통형의 금속 표면에 소정 높이의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴 형상이 가공된 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 14, wherein the base substrate is a flexible film,
The step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer,
Transferring the base substrate to an imprint master roll in which a plurality of protrusions of a predetermined height are arranged at predetermined intervals and molded on one surface thereof;
Filling the curable resin into an area where one surface of the base substrate and the pattern formed on the surface of the imprint master roll are in close contact with each other to fill the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint master roll;
One surface of the base substrate and the surface of the imprint master roll on which the pattern is formed are brought into close contact with each other, and the curable resin is cured to form a curable resin pattern layer having a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals. Attaching to one side of the; And
Comprising the step of separating the base substrate with the curable resin pattern layer and the imprint master roll;
The method for manufacturing a patterned optical phase modulation plate is characterized in that the master roll for imprint is processed in a pattern shape in which a plurality of protrusions of a predetermined height are arranged at predetermined intervals on a cylindrical metal surface. 제 14항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름이며,
상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는,
베이스 기재를 소정 높이의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤에 이송시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 임프린트용 스탬퍼 롤의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 임프린트용 스탬퍼 롤의 표면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 임프린트용 스탬퍼 롤과 분리시키는 단계;로 구성되고,
상기 임프린트용 스탬퍼 롤은 원통형의 지지체 표면에 소정 높이의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가진 스탬퍼가 밀착 고정된 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 14, wherein the base substrate is a flexible film,
The step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer,
Transferring the base substrate to an imprint stamper roll having a plurality of protrusions of a predetermined height arranged at predetermined intervals on one surface thereof;
Filling a curable resin into an area where one surface of the base substrate and a pattern formed on a surface of the imprint stamper roll are in close contact with each other to fill the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the imprint stamper roll;
One surface of the base substrate and the surface of the imprint stamper roll on which the pattern is formed are brought into close contact with each other to cure the curable resin, thereby forming a curable resin pattern layer having a pattern in which a plurality of grooves of a predetermined depth are arranged at predetermined intervals, and the base substrate. Attaching to one side of the; And
And separating the base substrate to which the curable resin pattern layer is attached from an imprint stamper roll.
The imprint stamper roll is a method for manufacturing a patterned optical phase modulation plate, characterized in that the stamper having a pattern in which a plurality of protrusions of a predetermined height are arranged at predetermined intervals on the cylindrical support surface. 제 14항에 있어서, 상기 베이스 기재는 가요성 필름이며,
상기 경화형 수지를 도포하는 단계 및 경화형 수지 패턴층을 형성하는 단계는,
베이스 기재를 가이드 롤을 통해 패턴 롤로 이송시키는 단계;
소정 높이의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 형성된 필름 형상의 성형 몰드를 패턴 가이드 롤을 통해 패턴 롤로 이송시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 성형 몰드의 일면에 형성된 패턴이 밀착되는 영역으로 경화형 수지를 주입하여 상기 베이스 수지의 일면과 상기 성형 몰드의 패턴 사이에 경화형 수지를 충전시키는 단계;
상기 베이스 기재의 일면과 상기 패턴이 형성된 성형 몰드의 일면을 밀착시키고 경화형 수지를 경화시켜, 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 경화형 수지 패턴층을 형성하고 베이스 기재의 일면에 부착시키는 단계; 및
상기 경화형 수지 패턴층이 부착된 베이스 기재를 성형 몰드와 분리시키는 단계;로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 14, wherein the base substrate is a flexible film,
The step of applying the curable resin and the step of forming a curable resin pattern layer,
Transferring the base substrate to the pattern roll through the guide roll;
Transferring a film-shaped molding mold having a pattern having a plurality of protrusions of a predetermined height arranged at predetermined intervals on one surface thereof through a pattern guide roll to a pattern roll;
Filling a curable resin into an area where one surface of the base substrate and a pattern formed on one surface of the molding mold are in close contact with each other to fill the curable resin between one surface of the base resin and the pattern of the molding mold;
One surface of the base substrate and one surface of the molding mold in which the pattern is formed are brought into close contact with each other, and the curable resin is cured to form a curable resin pattern layer having a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals, and one surface of the base substrate. Attaching to; And
Separating the base substrate with the curable resin pattern layer from a molding mold; and manufacturing the patterned optical phase modulation plate. 제 29항에 있어서, 상기 필름 형상의 성형 몰드는,
필름 형상의 기재층; 및
상기 기재층의 일면에 형성되고, 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가진 패턴층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.30. The method of claim 29, wherein the film-shaped molding mold,
A film-shaped base material layer; And
And a pattern layer formed on one surface of the base layer and having a pattern in which a plurality of protrusions having a predetermined thickness are arranged at predetermined intervals. 제 30항에 있어서, 상기 필름 형상의 성형 몰드는,
상기 기재층의 다른 일면에 형성되고, 상기 롤의 표면과의 마찰력을 증가시키기 위한 마찰부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 30, wherein the film-shaped molding mold,
Formed on the other side of the base layer, the friction portion for increasing the friction force with the surface of the roll; manufacturing method of a patterned optical phase modulation plate further comprises. 제 30항에 있어서, 상기 기재층이 PET 필름으로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.31. The method of claim 30, wherein the base layer is made of a PET film. 제 30항에 있어서, 상기 패턴층이 고분자 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.31. The method of claim 30, wherein the pattern layer is made of a polymer resin. 제 30항에 있어서, 상기 마찰부가,
다수의 미세한 요철로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 30, wherein the friction portion,
Method for producing a patterned optical phase modulation plate, characterized in that consisting of a plurality of fine irregularities. 제 30항에 있어서, 상기 마찰부가,
탄성 재료로 형성된 박막 필름으로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 30, wherein the friction portion,
A method of manufacturing a patterned photophase modulation plate, comprising a thin film formed of an elastic material. 제 13항, 제 14항, 제16항 및 제18항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정물질 패턴층을 평탄화시키는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method according to any one of claims 13, 14, 16 and 18 to 35,
Planarizing the liquid crystal material pattern layer; the method of manufacturing a patterned photo-phase modulation plate further comprising. 제 13항, 제 14항, 제16항 및 제18항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화형 수지는 열경화형 수지 또는 광경화형 수지인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method according to any one of claims 13, 14, 16 and 18 to 35,
The curable resin is a thermosetting resin or a photocurable resin, characterized in that the manufacturing method of the patterned photo-phase modulation plate. 제 37항에 있어서,
상기 광경화형 수지는 자외선 경화형 수지인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method of claim 37, wherein
And said photocurable resin is an ultraviolet curable resin. 제 13항, 제 14항, 제16항 및 제18항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화형 액정물질은 광경화형 액정물질인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method according to any one of claims 13, 14, 16 and 18 to 35,
Wherein the curable liquid crystal material is a photocurable liquid crystal material. 제 39항에 있어서,
상기 광경화형 액정물질은 자외선 경화형 액정물질인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.40. The method of claim 39,
And the photocurable liquid crystal material is a UV curable liquid crystal material. 제 13항, 제 14항, 제16항 및 제18항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1액정층은 광의 위상을 (n-3/4)λ 만큼 지연시키고, 제2액정층은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method according to any one of claims 13, 14, 16 and 18 to 35,
Wherein the first liquid crystal layer delays the phase of light by (n-3 / 4) λ, the second liquid crystal layer delays the phase of light by (n-1 / 4) λ, and n is a positive integer. Method of manufacturing a patterned photophase modulation plate. 제 41항에 있어서,
상기 제1액정층 및 제2액정층을 통과한 광의 하나는 좌원편광 특성을 가지고 다른 하나는 우원편광 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.42. The method of claim 41 wherein
Wherein one of the light passing through the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer has left circularly polarized light and the other has right circularly polarized light. 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 가지는 베이스 기재; 및
상기 베이스 기재의 제1홈과 제2홈에 내재된 경화형 액정물질에 의해 각각 형성된 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층;
을 포함하고, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.A base substrate having a pattern in which first grooves and second grooves having different depths are alternately arranged; And
A liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer each formed by a curable liquid crystal material embedded in the first and second grooves of the base substrate;
And the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer each retard the phase of light differently. 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 가지는 베이스 기재; 및
상기 베이스 기재 상에 도포된 액정물질에 의해 형성된 서로 다른 두께의 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층;
을 포함하고, 상기 제1액정층의 일부는 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격 영역의 위에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.A base substrate having a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals; And
A liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer having different thicknesses formed by the liquid crystal material applied on the base substrate;
And a portion of the first liquid crystal layer corresponds to a groove, and a second liquid crystal layer corresponds to an upper portion of the gap region of the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer respectively delay phases of light differently. A patterned optical phase modulation plate. 제 43항과 제 44항 중에 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 제1액정층은 광의 위상을 (n-3/4)λ 만큼 지연시키고, 제2액정층은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판.45. The method of any one of claims 43 and 44, wherein the first liquid crystal layer delays the phase of light by (n-3 / 4) λ, and the second liquid crystal layer reduces the phase of light by (n-1 / 4). delayed by [lambda], and n is a positive integer. 베이스 기재에 열을 가하는 단계;
상기 베이스 기재를 서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 제1홈과 제2홈에 경화형 액정물질을 충전하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계; 를 포함하고,
상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.Applying heat to the base substrate;
The pattern in which the first and second protrusions of different heights are alternately arranged by pressing a mold formed on one surface thereof, and the first and second grooves of different depths are alternately arranged on the base substrate. Forming a; And
Forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by filling and curing a curable liquid crystal material in the first groove and the second groove; Including,
And the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer retard the phase of light differently. 베이스 기재를 준비하는 단계;
서로 다른 높이의 제1돌기와 제2돌기가 교대로 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드를 준비하는 단계;
상기 몰드에 열을 가한 후에 상기 베이스 기재를 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 서로 다른 깊이의 제1홈과 제2홈이 교대로 배열된 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 제1홈과 제2홈에 경화형 액정물질을 충전하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계;
를 포함하고, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.Preparing a base substrate;
Preparing a mold in which patterns having first heights and second protrusions having different heights are alternately arranged on one surface thereof;
Pressing the base substrate with a mold after applying heat to the mold to form a pattern in which the first grooves and the second grooves of different depths are alternately arranged in the base substrate; And
Forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by filling and curing a curable liquid crystal material in the first groove and the second groove;
Wherein the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer retard the phase of light differently from each other. 베이스 기재에 열을 가하는 단계;
상기 베이스 기재를 소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 형성하는 단계; 및
홈이 형성된 상기 베이스 기재 상에 경화형 액정물질을 도포하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계;
를 포함하고, 상기 제1액정층은 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 광위상 변조판의 제조방법.Applying heat to the base substrate;
Pressing the base substrate with a mold in which a plurality of protrusions having a predetermined thickness and arranged at predetermined intervals are molded on one surface to form a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals in the base substrate; And
Forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by coating and curing a curable liquid crystal material on the groove formed with the base substrate;
Wherein the first liquid crystal layer corresponds to the groove and the second liquid crystal layer corresponds to the gap between the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer respectively delay the phase of light differently. Method of manufacturing a modulating plate. 베이스 기재를 준비하는 단계;
소정 두께의 다수의 돌기가 소정 간격을 두고 배열된 패턴이 일면에 성형된 몰드를 준비하는 단계;
상기 몰드에 열을 가한 후에 상기 베이스 기재를 몰드로 가압하여, 베이스 기재에 소정 깊이의 다수의 홈이 소정 간격을 두고 배열된 패턴을 형성하는 단계; 및
홈이 형성된 상기 베이스 기재 상에 경화형 액정물질을 도포하고 경화시켜 제1액정층과 제2액정층으로 이루어진 액정물질 패턴층을 형성하는 단계;
를 포함하며, 상기 제1액정층은 홈에 대응되고 제2액정층은 홈들의 간격에 대응되며, 상기 제1액정층 및 제2액정층은 광의 위상을 각각 다르게 지연시키는 것을 특징으로 하는 광위상 변조판의 제조방법.Preparing a base substrate;
Preparing a mold in which a pattern having a plurality of protrusions of a predetermined thickness arranged at predetermined intervals is molded on one surface;
Pressing the base substrate with a mold after applying heat to the mold to form a pattern in which a plurality of grooves having a predetermined depth are arranged at predetermined intervals in the base substrate; And
Forming a liquid crystal material pattern layer including a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer by coating and curing a curable liquid crystal material on the groove formed with the base substrate;
Wherein the first liquid crystal layer corresponds to the groove, the second liquid crystal layer corresponds to the gap between the grooves, and the first liquid crystal layer and the second liquid crystal layer respectively delay the phase of light differently. Method of manufacturing a modulating plate. 제 46항 내지 제 49항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1액정층은 광의 위상을 (n-3/4)λ 만큼 지연시키고, 제2액정층은 광의 위상을 (n-1/4)λ 만큼 지연시키며, n은 양의 정수인 것을 특징으로 하는 패턴화된 광위상 변조판의 제조방법.The method according to any one of claims 46 to 49,
Wherein the first liquid crystal layer delays the phase of light by (n-3 / 4) λ, the second liquid crystal layer delays the phase of light by (n-1 / 4) λ, and n is a positive integer. Method of manufacturing a patterned photophase modulation plate.
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