KR20090114950A - Board Carrier - Google Patents
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Abstract
본 발명은 평판표시소자용 기판 제조에서 습식 현상(Wet development) 작업에 이용될 수 있으며, 특히 기판의 반송 중에 현상액이 인접하여 배치된 다른 챔버로 유입되지 않도록 기판 위에 있는 현상액을 효과적으로 제거하는 기판 반송장치를 개시한다.The present invention can be used for wet development in the manufacture of substrates for flat panel display devices, and in particular, the substrate transfer effectively removes the developer on the substrate so that the developer does not flow into another chamber disposed adjacently during the transfer of the substrate. Start the device.
본 발명의 기판 반송장치는, 기판을 반송하는 제1 반송부, 제1 반송부와 일정한 거리가 떨어져 배치되는 제2 반송부, 제1 반송부와 제2 반송부 사이를 연결하며 기판이 이동되는 방향을 중심으로 사이드 측에 비하여 중앙부 측의 높이가 더 높게 배치되는 제3 반송부, 그리고 제3 반송부의 경사각도를 조절하는 경사조절부를 포함한다.The board | substrate conveying apparatus of this invention is a 1st conveyance part which conveys a board | substrate, a 2nd conveyance part arrange | positioned at a fixed distance from a 1st conveyance part, and connects between a 1st conveyance part and a 2nd conveyance part, and a board | substrate is moved It includes a third conveying portion is disposed in the height of the center portion side higher than the side side around the direction, and the inclination adjusting portion for adjusting the inclination angle of the third conveying portion.
Description
본 발명은 평판표시소자용 기판 제조에서 습식 현상(Wet development) 작업에 이용될 수 있으며, 특히 기판의 반송 중에 현상액이 인접하여 배치되는 다른 챔버로 유입되지 않도록 기판 위에 있는 현상액을 효과적으로 제거하는 기판 반송장치에 관한 것이다.The present invention can be used for wet development in the manufacture of substrates for flat panel display devices, and in particular, the substrate transfer effectively removes the developer on the substrate so that the developer does not flow into another chamber disposed adjacently during the transfer of the substrate. Relates to a device.
평판소자용 기판을 제조할 때 회로 패턴을 기판 위에 형성하는 작업으로 포토리소그라피(Photo lithography) 기술이 널리 사용된다. 이러한 포토리소그라피 기술은 기판에 노광된 레지스트막을 현상액으로 현상하는 습식 현상 작업을 포함하여 이루어진다.Photolithography is widely used to form a circuit pattern on a substrate when manufacturing a substrate for a flat panel device. This photolithography technique includes a wet developing operation for developing a resist film exposed on a substrate with a developer.
이러한 습식 작업은 노광 처리된 기판의 레지스트막에 현상액을 도포하는 단계, 기판을 세정하는 단계, 그리고 기판을 건조하는 단계를 포함한다. 이러한 작업 단계들은 반송 장치에 의하여 챔버 내부에서 기판이 일방향으로 반송되는 중에 각각 순차적으로 진행된다.This wet operation includes applying a developer to a resist film of an exposed substrate, cleaning the substrate, and drying the substrate. These working steps are sequentially carried out while the substrate is conveyed in one direction in the chamber by the conveying apparatus.
상기 반송장치는 대부분 반송용 롤러의 회전에 의해 기판을 반송하는 통상의 롤러 컨베이어 타입으로 이루어지며, 기판의 반송 중에 현상액의 회수와 재활용 효 율을 높일 수 있도록 기판에서 현상액 등의 처리액을 제거하는 경사 반송 구간을 구비한다.The conveying apparatus is mostly made of a conventional roller conveyor type for conveying the substrate by the rotation of the conveying roller, and removes the processing liquid such as the developing solution from the substrate so as to increase the recovery and recycling efficiency of the developing solution during conveyance of the substrate. An inclined conveyance section is provided.
이러한 경사 반송 구간을 구비한 장치는 대한민국 특허공개 제10-2007-0093343호에 개시되어 있다. 상술한 공보에는 기판 전체 반송 구간 중에서 현상 구간과 세정 구간 사이에 현상액을 기판에서 제거할 수 있는 경사 반송 구간을 제공하고 있다. 이러한 경사 반송 구간은 기판이 현상 구간을 벗어날 때 상향의 경사 반송 구간을 따라 반송되면서 세정 구간으로 진입할 때는 하향의 경사 반송 구간을 따라 반송될 수 있다.An apparatus having such an inclined conveying section is disclosed in Korean Patent Publication No. 10-2007-0093343. The above publication provides an inclined conveyance section in which the developer can be removed from the substrate between the developing section and the cleaning section among the entire substrate transport sections. Such an inclined conveyance section may be conveyed along a downward inclined conveyance section when entering the cleaning section while the substrate is conveyed along an upward inclined conveyance section when it leaves the developing section.
이와 같이 기판 전체 반송 구간 내에 기판의 현상액을 제거할 수 있는 경사 반송 구간을 형성하면, 기판이 상향으로 기울어져 반송되는 동안 기판에 있는 현상액이 낙하되면서 현상 영역(챔버)으로 회수될 수 있다.In this way, when the inclined conveyance section capable of removing the developer of the substrate is formed in the entire conveyance section of the substrate, while the substrate is inclined upward, the developer on the substrate may fall and be recovered to the developing region (chamber).
그러나 종래의 기판 반송장치는 기판의 일끝에서 다른 끝까지 자연적으로 흘러내리는 방식을 사용하여 현상액을 기판에서 제거하게 되는데, 이때 현상액이 흘러내리는 시간이 증가되어 현상액이 충분히 제거되지 않아 현상액의 사용량이 증대되는 문제점이 있다.However, the conventional substrate transfer apparatus removes the developer from the substrate by using a method that naturally flows from one end of the substrate to the other end, at which time the developer flows down and the developer is not sufficiently removed, thereby increasing the amount of developer used. There is a problem.
또한, 종래의 기판 반송장치는 일측으로 경사된 상태로 현상액을 제거할 경우 기판의 상단부와 하단부에서 각각 현상액이 제거되는 시간이 달라지게 되어 기판 현상 공정에서 불량이 발생할 수 있는 문제점이 있다. In addition, the conventional substrate transfer apparatus has a problem that when the developer is removed in an inclined state to one side, the time taken to remove the developer from the upper end and the lower end of the substrate is changed, thereby causing a defect in the substrate developing process.
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 현상액이 기판에서 자연적으로 흘러내리면서 제거되어도 빠른 시간에 제거(회수)할 수 있어 현상액의 소비를 줄일 수 있는 기판 반송장치를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to remove (recover) the developer in a short time even when the developer is naturally flowing down from the substrate, thereby reducing the consumption of the developer. It is to provide a conveying apparatus.
또한, 본 발명은 기판의 전 영역에서 현상액이 존재하는 시간 차이를 줄여 기판 현상 공정에서 발생할 수 있는 불량 줄이는 기판 반송장치를 제공하는데 있다.In addition, the present invention is to provide a substrate transport apparatus for reducing defects that may occur in the substrate development process by reducing the time difference that the developer is present in the entire area of the substrate.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 기판을 반송하는 제1 반송부, 상기 제1 반송부와 일정한 거리가 떨어져 배치되는 제2 반송부, 상기 제1 반송부와 제2 반송부 사이를 연결하며 상기 기판이 이동되는 방향을 기준으로 사이드 측에 비하여 중앙부 측의 높이가 더 높게 배치되는 제3 반송부, 그리고 상기 제3 반송부의 경사각도를 조절하는 경사조절부를 포함하는 기판 반송장치를 제공한다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to achieve the above objective, this invention provides the 1st conveyance part which conveys a board | substrate, the 2nd conveyance part arrange | positioned apart by a fixed distance from the said 1st conveyance part, and the said 1st conveyance part and the 2nd conveyance part A substrate conveying apparatus including a third conveying portion connected to each other and having a higher height at the center portion than a side side with respect to a direction in which the substrate is moved, and a tilt adjusting portion for adjusting an inclination angle of the third conveying portion; To provide.
상기 제1 반송부와 제2 반송부는 구동원, 상기 구동원에 의하여 회전하며 수평을 이루며 일정한 간격으로 다수가 배치되는 이송롤러들을 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the first conveying unit and the second conveying unit include a driving source, and conveying rollers which are rotated by the driving source and are horizontally arranged at a predetermined interval.
상기 제3 반송부는 챔버의 사이드에 힌지 결합되는 제1 지지부재, 상기 제1 지지부재에 결합되며 구동원에 의하여 회전하는 다수의 이송롤러를 포함하는 제1 경사부, 상기 제1 지지부재가 설치된 반대측 챔버의 사이드에 힌지 결합되는 제2 지지부재, 상기 제2 지지부재에 결합되며 또 다른 구동원에 의하여 회전하는 다수의 이송롤러를 포함하는 제2 경사부로 이루어지는 것이 바람직하다.The third conveying part includes a first support member hinged to a side of the chamber, a first inclination part including a plurality of feed rollers coupled to the first support member and rotating by a driving source, and an opposite side on which the first support member is installed. Preferably, the second inclined portion includes a second support member hinged to the side of the chamber, and a plurality of transfer rollers coupled to the second support member and rotated by another driving source.
상기 경사 조절부는 실린더와 상기 실린더를 따라 이동하여 길이가 가변하는 피스톤 로드 또는 모터와 상기 모터에 의하여 구동하는 로드로 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the inclination adjusting unit is made of a cylinder rod and a piston rod or motor that is variable in length by moving along the cylinder and a rod driven by the motor.
상기 제3 반송부의 이송롤러들은 상기 구동원에 의하여 회전하는 다수의 구동기어와, 상기 이송롤러들이 결합되는 회전축의 끝단에 설치되고 상기 구동기어에 직교로 치합되는 피동기어들의 동력전달에 의하여 회전하는 것이 바람직하다.The conveying rollers of the third conveying part are rotated by power transmission of a plurality of drive gears rotated by the drive source and driven gears installed at an end of the rotating shaft to which the feed rollers are coupled and meshed perpendicularly to the drive gears. desirable.
이와 같은 본 발명은 기판이 제3 이동부를 이동할 때 양쪽 사이드 측에 비하여 중앙부가 높은 위치에 있는 상태로 경사져 이동되므로 현상액이 중앙부에서 사이드 측으로 흘러내리면서 신속하게 현상액이 챔버로 회수되면서 현상액의 소비를 줄일 수 있는 효과가 있다.In the present invention as described above, when the substrate moves to the third moving part, the center part is inclined and moved in a state where the center part is higher than both side sides. There is an effect that can be reduced.
또한, 본 발명은 기판에서 현상액이 제거될 때 최대한 짧은 시간 안에 전 영역에서 제거가 이루어지므로 기판의 현상 불량을 방지할 수 있는 효과를 가진다.In addition, the present invention has the effect of preventing the development failure of the substrate since the removal is made in the entire area in the shortest time when the developer is removed from the substrate.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위한 기판 반송장치의 전체적인 구성도이고, 도 2는 도 1의 A-A부를 잘라서 본 단면도로, 기판 반송장치를 도시하고 있 다. 본 발명의 실시 예의 기판 반송장치는 현상 챔버의 내부에 설치되는 현상구간(A), 경사 반송구간(B), 그리고 세정 챔버에 설치되는 세정구간(C)을 포함한다.FIG. 1 is an overall configuration diagram of a substrate transfer apparatus for explaining an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 1 and illustrates the substrate transfer apparatus. The substrate transfer apparatus according to the embodiment of the present invention includes a developing section A, an inclined conveying section B, and a cleaning section C provided in the cleaning chamber.
현상구간(A)에는 기판(G)을 이송시키는 제1 반송부(1)가 제공되고, 세정구간(C)에는 제2 반송부(3)가 제공되고, 제1 반송부(1)와 제2 반송부(3) 사이에 배치되는 경사 반송구간(B)에는 제3 반송부(5)가 제공된다.The developing section A is provided with a first conveying section 1 for conveying the substrate G, the cleaning section C is provided with a
현상구간(A)의 기판 반송장치인 제1 반송부(1)는, 다수의 이송롤러(R)들이 모터(M) 등의 구동원에 의하여 수평으로 회전하는 구조를 가진다. 제1 반송부(1)는 이송롤러(R)들이 수평으로 배치되어 기판(G)을 이동시킨다. 이때 현상액 공급기(도시생략)에 의하여 기판(G)에 현상액이 공급되면서 현상 공정이 이루어진다.The 1st conveyance part 1 which is the board | substrate conveyance apparatus of the developing section A has a structure in which many conveyance rollers R rotate horizontally by the drive source, such as the motor M. As shown in FIG. In the first conveying unit 1, the conveying rollers R are horizontally disposed to move the substrate G. At this time, the developing process is performed while the developing solution is supplied to the substrate G by the developing solution supplier (not shown).
경사 반송구간(B)의 기판 반송장치인 제3 반송부(5)는, 서로 대향하는 위치에 배치되는 제1 경사부(11)와 제2 경사부(13)를 포함한다. 제1 경사부(11)와 제2 경사부(13)는 중앙부가 사이드 측에 비하여 더 높이 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 구조는 기판(G)에 있던 현상액이 중앙부에서 갈라져 양 사이드 측으로 흘러 내려 신속하게 제거될 수 있다. 이러한 구성은 현상액을 절감할 수 있을 뿐만 아니라 기판의 전 영역에서 현상액이 존재하는 시간 차이를 줄여 현상 불량을 방지할 수 있다.The
제1 경사부(11)는 챔버의 내벽 측에 제1 지지부재(15)들이 힌지 결합된다. 그리고 이 지지부재(15)들에는 회전축(S)이 결합되고, 이 회전축(S)에 이송롤러(R)들이 결합된다.The first
제1 지지부재(15)들에는 이송롤러(R)들이 수평을 기준으로 일정한 각도로 기 울어질 수 있도록 경사 조절부(17)가 제공된다. 경사 조절부(17)는 실린더(19)를 따라 피스톤 로드(21)가 이동하는 통상의 공기압 또는 유압 액추에이터로 이루어질 수 있다. 즉, 제1 지지부재(15, 도 2에 도시하고 있음)에는 피스톤 로드(21)가 힌지 결합되어 있고, 실린더(19)가 챔버의 내벽에 힌지 결합될 수 있다. The
또한, 제2 지지부재(31)들에는 이송롤러(R)들이 수평을 기준으로 일정한 각도로 기울어질 수 있도록 또 다른 경사 조절부(33)가 제공된다. 이러한 경사 조절부(33)는 상술한 제1 지지부재(15)에 제공된 경사 조절부(17)의 구조와 동일하게 실린더와 피스톤 로드로 구성될 수 있다. In addition, the
본 발명의 실시 예에서는 경사 조절부(17, 33)들이 실린더와 피스톤 로드로 구성된 예를 도시하여 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 모터와 이 모터에 의하여 구동하는 로드로 이루어진 구조로도 이루어질 수 있다.In the exemplary embodiment of the present invention, the
제3 반송부(5)의 이송 롤러(R)들은 기판(G)이 이송되는 방향을 기준으로 사이드 측에 비하여 중앙부 측에 배치되는 이송 롤러(R)들이 더 높이 배치되는 것이 바람직하다. 그리고 이송 롤러(R)들은 현상구간(A)에 인접하여 배치된 것에서 기판(G)이 이송되는 방향을 기준으로 중앙부로 갈수록 수평을 기준으로 그 높이가 점점 더 높아지는 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 즉, 이송롤러(R)들이 결합된 축은, 도 3에 도시하고 있는 바와 같이, 수평 방향을 기준으로 기판이 이송되는 방향으로 점점 더 큰 각도(a1, a2, a3, a4, a5)를 가진다. 그리고 이송롤러(R)가 결합되는 축은 중앙부에서 최고의 각도(a5)를 가지고 다시 점점 더 작아지는 각도(a4, a3, a2, a1)를 가지는 것이 바람직하다. 이와 같이 이송롤러(R)의 위치 조절은 상 술한 경사 조절부(17, 33)들에 의하여 각각의 이송롤러(R)를 연결하는 회전축의 각도를 가변시킬 수 있다.It is preferable that the conveying rollers R of the third conveying
한편, 상술한 제3 반송부(5)들에 제공된 이송롤러(R)들이 결합된 축이 연장되어 헬리컬 기어(101)가 설치되고, 이 헬리컬 기어(101)에 직교하는 방향으로 또 다른 헬리컬 기어(103)들이 치합된다. 그리고 헬리컬 기어(103)들은 동일한 축에 결합되어 있고, 별도의 모터(M, 도 3에 도시하고 있음) 등의 구동원에 의하여 회전할 수 있다. 따라서 모터(M, 도 3에 도시하고 있음)가 구동하면 헬리컬 기어(103, 101)들이 함께 회전하면 이송롤러(R)를 구동시킬 수 있는 것이다.On the other hand, the
본 발명의 실시 예에서는 헬리컬 기어들을 이용하여 이송롤러들을 회전하는 예를 도시하여 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 동력전달구조를 사용하여 이송롤러를 원활하게 회전시킴으로써 본 발명을 실시 할 수 있다.In the embodiment of the present invention has been described by showing an example of rotating the feed rollers using helical gears, but is not limited to this can be carried out by smoothly rotating the feed roller using a variety of power transmission structure. .
그리고 세정구간(C)의 기판 반송장치인 제2 반송부(3)는 상술한 제1 반송부(1)와 동일한 구조를 이룬다. 즉, 세정구간(C)의 기판 반송장치인 제1 반송부(3)는, 다수의 이송롤러(R)들이 또 다른 모터(M) 등의 구동원에 의하여 수평으로 회전하는 구조를 가진다. 제2 반송부(3)는 이송롤러(R)들이 수평으로 배치되어 기판(G)을 이동시킨다. 이때 세정액 공급기(도시생략)에 의하여 기판(G)에 세정액이 공급되면서 세정 공정이 이루어진다. And the
이와 같이 이루어지는 기판 반송장치는, 현상 구간(A)에서 제1 반송부(1)에 의하여 기판(G)이 이동되는 동안 현상이 이루어진다. 그리고 기판(G)이 제3 반송부(5)에 의하여 이동된다. 이때 제3 반송부(5)는 경사 조절부(17, 33)에 의하여 기 판(G)이 이동되는 방향을 따라 점차적으로 경사각도가 크게 이루어진다. 그러면 기판(G)은 이동하는 방향을 기준으로 중앙부의 높이(h2)가 사이드 측의 높이(h1) 보다 더 높게 이루어진다. 즉, 대형 기판(G)은 중앙부에 비하여 양 사이드 측에 처지는 상태로 이동되는 것이다. In the board | substrate conveying apparatus comprised in this way, image development takes place while the board | substrate G is moved by the 1st conveyance part 1 in the image development section A. FIG. And the board | substrate G is moved by the
이때 기판(G) 위에 있던 현상액이 중앙부를 기준으로 양측으로 갈라지면서 제거되어 챔버 내부로 모이게 된다. 따라서 기판 전체를 기울여 현상액을 제거하는 것에 비하여 자연적으로 현상액의 제거가 가능하면서도 더욱 신속하게 기판(G)에 존재하는 현상액을 제거할 수 있는 것이다.At this time, the developing solution on the substrate G is removed while splitting to both sides with respect to the center part and collected in the chamber. Therefore, the developer can be naturally removed as compared to removing the developer by tilting the entire substrate, and the developer present in the substrate G can be removed more quickly.
따라서 신속하게 대부분의 현상액이 챔버로 회수되고 다음 챔버로 현상액이 이동하는 것을 방지하여 과다하게 소비되는 현상액의 양을 줄일 수 있다.Therefore, most of the developer is quickly recovered to the chamber and the developer is prevented from moving to the next chamber, thereby reducing the amount of developer consumed excessively.
그리고 기판(G)이 제3 반송부(5)의 중심을 지나서는 이송롤러(R)의 축이 이루는 각도가 점점 작아지도록 배치되므로 제2 반송부(3)로 전달될 수 있도록 한다. 그러면 기판(G)이 제2 반송부(3)를 통과하면서 세정이 이루어진다.And since the angle formed by the axis of the feed roller (R) passing through the center of the third conveying unit (5) gradually becomes smaller so that the substrate (G) can be transferred to the second conveying unit (3). Then, the cleaning is performed while the substrate G passes through the
도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위한 구성도이다.1 is a configuration diagram for explaining an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 도 1의 Ⅱ-Ⅱ부를 잘라서 주요 구성을 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a main configuration by cutting the II-II part of FIG. 1 to describe an exemplary embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 경사 반송구간의 일부를 상세하게 도시한 도면이다.3 is a view showing in detail a part of the inclined conveyance section in order to explain the embodiment of the present invention.
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|---|---|---|---|
| KR1020080040849A KR20090114950A (en) | 2008-04-30 | 2008-04-30 | Board Carrier |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080040849A KR20090114950A (en) | 2008-04-30 | 2008-04-30 | Board Carrier |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090114950A true KR20090114950A (en) | 2009-11-04 |
Family
ID=41556128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080040849A Ceased KR20090114950A (en) | 2008-04-30 | 2008-04-30 | Board Carrier |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20090114950A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102219116A (en) * | 2010-04-15 | 2011-10-19 | 株式会社太星技研 | Sheet glass conveying device |
| KR101151776B1 (en) * | 2010-11-29 | 2012-05-31 | 주식회사 케이씨텍 | Processing device for large area substrate |
| CN117864769A (en) * | 2022-11-02 | 2024-04-12 | 江苏弘光显示技术有限公司 | Transparent screen production process and device |
-
2008
- 2008-04-30 KR KR1020080040849A patent/KR20090114950A/en not_active Ceased
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102219116A (en) * | 2010-04-15 | 2011-10-19 | 株式会社太星技研 | Sheet glass conveying device |
| KR101151776B1 (en) * | 2010-11-29 | 2012-05-31 | 주식회사 케이씨텍 | Processing device for large area substrate |
| CN117864769A (en) * | 2022-11-02 | 2024-04-12 | 江苏弘光显示技术有限公司 | Transparent screen production process and device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20080430 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20130404 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20080430 Comment text: Patent Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20140228 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20140822 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20140228 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |