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KR20080084271A - Glass Board Etching Equipment Using Trolley Conveyor - Google Patents

Glass Board Etching Equipment Using Trolley Conveyor Download PDF

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Publication number
KR20080084271A
KR20080084271A KR1020070025726A KR20070025726A KR20080084271A KR 20080084271 A KR20080084271 A KR 20080084271A KR 1020070025726 A KR1020070025726 A KR 1020070025726A KR 20070025726 A KR20070025726 A KR 20070025726A KR 20080084271 A KR20080084271 A KR 20080084271A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
etching
glass substrate
cassette
trolley conveyor
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
KR1020070025726A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박영규
Original Assignee
주식회사 와이아이테크닉스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 와이아이테크닉스 filed Critical 주식회사 와이아이테크닉스
Priority to KR1020070025726A priority Critical patent/KR20080084271A/en
Publication of KR20080084271A publication Critical patent/KR20080084271A/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075Cleaning of glass

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Abstract

본 발명은 평판 디스플레이에 사용되는 유리기판의 두께를 얇게 에칭하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유리기판이 탑재된 카세트를 각 에칭 공정부로 이동시 개별 유닛에 의해 제어 및 이동되는 것이 아닌 트롤리 컨베이어에 의해 원스톱(one stop) 방식으로 이루어지도록 함에 따라, 시스템의 설비 사이즈를 감소시킬 수 있음은 물론, 상기 개별 유닛의 구동을 위한 각종 센서나 모터의 수량을 감소시킬 수 있어 그 제어 및 유지보수가 용이한 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate etching system using a trolley conveyor for thinly etching a glass substrate used for a flat panel display, and more particularly, to control a cassette mounted with a glass substrate by an individual unit when moving the cassette to each etching process unit. By being made in one stop by a trolley conveyor rather than being moved, it is possible to reduce the system size of the system and to reduce the quantity of various sensors or motors for driving the individual units. The present invention relates to a glass substrate etching system using a trolley conveyor that is easy to control and maintain.

이를 위해, 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템은, 유리기판의 세척이 이루어지는 린싱(rinsing)부와, 상기 유리기판의 에칭이 이루어지는 에칭(etching)부 및 상기 유리기판이 적재된 카세트를 상기 에칭부와 린싱부로 이송시키는 트롤리 컨베이어를 포함하되, 상기 트롤리 컨베이어는 이송 레일과 상기 이송 레일을 따라 이동 가능하도록 상기 이송 레일에 설치되는 이송 암과 상기 유리기판이 탑재되는 카세트를 이송시킬 수 있도록 상기 이송 암의 일측 종단에 설치되는 행어를 포함하는 것을 특징으로 한다.To this end, the glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention, a rinsing portion (cleaning) of the glass substrate, the etching (etching) portion of the glass substrate is etched and the cassette on which the glass substrate is loaded It includes a trolley conveyor for transferring to the etching unit and the rinsing unit, the trolley conveyor can transfer the transfer rail and the cassette is mounted on the transfer rail and the glass substrate mounted on the transfer rail to move along the transfer rail and the transfer rail. It characterized in that it comprises a hanger which is installed at one end of the transfer arm.

Description

트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템{Etching system for glass panel using trolley conveyor}Etching system for glass panel using trolley conveyor}

도 1은 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템을 설명하기 위한 개략 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram illustrating a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템을 설명하기 위한 동작 상태도이다.2 is an operation state diagram for explaining a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 에칭부를 설명하기 위한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating an etching part of a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 에칭액 분사노즐을 설명하기 위한 사시도이다.Figure 4 is a perspective view for explaining the etching liquid injection nozzle of the glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 에칭부를 설명하기 위한 사시도이다.5 is a perspective view for explaining an etching portion of the glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 건조부를 설명하기 위한 구성도이다.6 is a configuration diagram illustrating a drying unit of the glass substrate etching system using the trolley conveyor according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

110: 트롤리 컨베이어 111: 이송 레일110: trolley conveyor 111: transfer rail

112: 이송 암 113: 행어112: transfer arm 113: hanger

120: 로딩부 130: 개폐부120: loading portion 130: opening and closing portion

140a, b: 린싱부 150: 에칭부140a, b: rinsing part 150: etching part

151: 에칭 배스 152: 이동로151: etching bath 152: transfer furnace

152': 실링수단 153: 배출박스152 ': sealing means 153: discharge box

160: 언로딩부 170: 카세트160: unloading unit 170: cassette

180: 유리기판 190: 건조부180: glass substrate 190: drying unit

본 발명은 평판 디스플레이에 사용되는 유리기판의 두께를 얇게 에칭하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 관한 것으로, 특히 유리기판이 탑재된 카세트를 각 에칭 공정부로 이동시 개별 유닛에 의해 제어 및 이동되는 것이 아니고 트롤리 컨베이어에 의해 원스톱(one stop) 방식으로 이루어지도록 함에 따라 시스템의 설비 사이즈를 감소시킬 수 있음은 물론, 상기 개별 유닛의 구동을 위한 각종 센서나 모터의 수량을 감소시킬 수 있어 그 제어 및 유지보수가 용이한 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate etching system using a trolley conveyor for thinly etching a glass substrate used for a flat panel display. In particular, it is controlled and moved by an individual unit when a cassette having a glass substrate is moved to each etching process unit. It is possible to reduce the system size of the system as well as to reduce the quantity of various sensors or motors for driving the individual units by being made in a one stop by a trolley conveyor. A glass substrate etching system using an easy-to-maintain trolley conveyor.

최근, LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(VacuumFluorescent Display) 등과 같은 평판 디스플레이장치가 다양한 분야에서 사용되어 지고 있으나, 이러한 평판디스플레이장치를 실제 채용함에 있어 해결되어야 할 제반 문제가 여러 가지 존재하고 있는 실정이다.Recently, flat panel display devices such as LCD (Liquid Crystal Display Device), PDP (Plasma Display Panel), ELD (Electroluminescent Display), and VFD (Vacuum Fluorescent Display) have been used in various fields. There are many problems that need to be solved.

특히, 휴대용 텔레비젼, 노트북 컴퓨터, 및 PDA 등과 같이 휴대용장치들에 있어서는 그 중량을 줄일 수 있도록 하는 것이 주요하여 이를 위한 여러 가지 방법이 제시되고 있지만, 현재로서는 전극 및 전자부품 등과 같은 필수 구성부품의 중량이나 크기를 줄이는 것에는 한계가 있어, 평판디스플레이장치의 전면 및/또는 후면에 설치되는 유리기판 자체의 중량을 줄일 수 있도록 하는 노력들이 이루어지고 있다.In particular, in portable devices such as portable televisions, notebook computers, and PDAs, it is important to reduce the weight thereof, and various methods have been suggested. However, the weight of essential components such as electrodes and electronic components is currently proposed. However, there are limitations in reducing the size, and efforts are being made to reduce the weight of the glass substrate itself installed on the front and / or rear of the flat panel display device.

한편, 상술한 바와 같은 노력의 일환으로 유리기판의 두께, 즉 중량을 줄이기 위해서 에칭액을 이용하여 상기 유리기판의 표면이 에칭 되도록 하거나, 매우 작은 입자를 가진 모래 등과 같은 연마재를 유리기판 표면에 분사하여 연마하는 방법 등이 사용되고 있으며, 일반적으로 이러한 에칭을 위해서는 유리기판의 표면에 잔존하는 이물질 등을 세척하기 위한 린싱 공정과, 린싱 공정 후 유리기판 및 유리기판을 적재하는 카세트에 남아 있는 세척액을 건조하는 건조 공정, 및 에칭액 또는 연마재 등을 이용하여 유리기판의 표면을 에칭하는 에칭 공정 등을 거친다.Meanwhile, in order to reduce the thickness of the glass substrate, that is, the weight of the glass substrate, the surface of the glass substrate may be etched using an etching solution, or an abrasive such as sand having very small particles may be sprayed onto the surface of the glass substrate in order to reduce the thickness of the glass substrate. A method of polishing is used, and in order to perform such etching, a rinsing process for washing foreign substances remaining on the surface of the glass substrate and a cleaning solution remaining in the cassette for loading the glass substrate and the glass substrate after the rinsing process are performed. A drying step and an etching step of etching the surface of the glass substrate using an etching solution, an abrasive or the like are performed.

이에, 종래에는 유리기판 자체 또는 당해 유리기판이 적재된 카세트(이하, '카세트'라 함)를 상기 각 공정부로 이송시켜 유리기판의 에칭이 이루어질 수 있도 록, 상기 각 공정부들 사이에 이송 로울러를 설치하고, 그 이송 로울러를 따라 카세트를 이송시키고 있다.Thus, in the related art, a glass roller or a cassette (hereinafter, referred to as a "cassette") on which the glass substrate is loaded is transferred to each process unit so that the etching of the glass substrate may be performed. It installs and conveys a cassette along the conveyance roller.

그러나, 상술한 바와 같이 이송 로울러를 사용하여 카세트를 각 공정부로 이송시키면서 유리기판을 에칭할 경우, 각 공정부 사이에 상술한 바와 같은 이송 로울러를 설치하여야 함에 따라 당해 이송 로울러의 공간만큼 전체 설비 사이즈가 증가한다는 문제점이 있었다.However, when etching a glass substrate while transferring a cassette to each process part using a transfer roller as mentioned above, the overall installation size should be as large as the space of the said transfer roller, as the above-mentioned transfer rollers should be provided between each process part. There was a problem that increases.

또한, 이송 로울러 상에 놓여진 카세트를 이송 암을 이용하여 들어올려 상술한 바와 같은 공정부들 중 어느 하나에 카세트를 투입하고, 그 공정부에서의 공정이 마쳐지면 이송 암을 이용하여 카세트를 꺼내어 다시 이송 로울러에 올려놓아 다음 공정부로 이송시키는 등 각 공정간의 연속성이 저하된다는 문제점이 있었다.In addition, the cassette placed on the transfer roller is lifted up using the transfer arm, and the cassette is put into any one of the above-described process units, and when the process is completed, the cassette is taken out by the transfer arm and transferred again. There was a problem in that the continuity between the processes, such as put on the rollers and transported to the next process unit is reduced.

나아가, 유리기판이 탑재된 카세트를 각 에칭 공정부로 이동시 개별 유닛에 의해 제어 및 이동이 이루어짐에 따라, 상기 개별 유닛의 구동을 위한 각종 센서나 모터 역시 개별적으로 구비하여야 함은 물론, 그에 따른 제어 및 유지보수 역시 어렵다는 문제점이 있었다.Furthermore, as the cassettes mounted with glass substrates are moved and controlled by individual units when the cassettes are moved to each etching process unit, various sensors or motors for driving the individual units must be separately provided, as well as the control and Maintenance was also difficult.

따라서, 본 발명에서는 전술한 바와 같은 문제점을 해결하여, 평판 디스플레이에 사용되는 유리기판의 두께를 얇게 에칭할 수 있도록 하되, 유리기판이 탑재된 카세트를 각 에칭 공정부로 이동시 개별 유닛에 의해 제어 및 이동되는 것이 아닌 트롤리 컨베이어에 의해 원스톱 방식으로 이루어지도록 함에 따라, 시스템의 설비 사이즈를 감소시킬 수 있음은 물론, 상기 개별 유닛의 구동을 위한 각종 센서나 모터의 수량을 감소시킬 수 있어 그 제어 및 유지보수가 용이한 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템을 제공하고자 한다.Therefore, in the present invention to solve the problems described above, it is possible to thinly etch the thickness of the glass substrate used for the flat panel display, the control and movement by the individual unit when moving the cassette mounted glass substrate to each etching process unit By being made in one-stop manner by a trolley conveyor, the size of the system can be reduced, as well as the quantity of various sensors or motors for driving the individual units can be controlled and maintained. The present invention provides a glass substrate etching system using an easy-to-repair trolley conveyor.

이를 위해, 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템은, 유리기판의 세척이 이루어지는 린싱부와, 상기 유리기판의 에칭이 이루어지는 에칭부 및 상기 유리기판이 적재된 카세트를 상기 에칭부와 린싱부로 이송시키는 트롤리 컨베이어를 포함하는 것을 특징을 한다.To this end, in the glass substrate etching system using the trolley conveyor according to the present invention, the rinsing portion for cleaning the glass substrate, the etching portion for etching the glass substrate and the cassette on which the glass substrate is loaded, the rinsing portion with the etching portion It characterized in that it comprises a trolley conveyor for transferring to the wealth.

이때, 상기 트롤리 컨베이어는, 이송 레일과, 상기 이송 레일을 따라 이동 가능하도록 상기 이송 레일에 설치되는 이송 암 및 상기 유리기판이 탑재되는 카세트를 이송시킬 수 있도록 상기 이송 암의 일측 종단에 설치되는 행어를 포함하는 것이 바람직하다.At this time, the trolley conveyor, a hanger is installed at one end of the transfer arm to transfer the transfer rail, the transfer arm is installed on the transfer rail and the cassette on which the glass substrate is mounted so as to be movable along the transfer rail. It is preferable to include.

또한, 상기 카세트의 진행방향 상에 위치하는 상기 린싱부와 에칭부의 각 측부에는 개폐부가 설치되어 있고, 상기 행어에 의해 이송되는 상기 카세트는 상기 개폐부를 통과하도록 설치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that opening and closing portions are provided at each side of the rinsing portion and the etching portion positioned in the advancing direction of the cassette, and the cassette conveyed by the hanger is provided to pass through the opening and closing portion.

또한, 상기 린싱부와 에칭부의 상부면에는 상기 카세트를 고정하는 행어가 이동할 수 있는 이동로가 형성되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the upper surface of the rinsing portion and the etching portion is preferably formed with a moving path for moving the hanger for fixing the cassette.

또한, 상기 이동로에는 실링수단이 설치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that sealing means is provided in the moving path.

또한, 상기 에칭부의 상부면에는 상기 에칭부 내의 유해물질을 배출할 수 있 는 배출부가 형성되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the upper surface of the etching portion is preferably formed with a discharge portion for discharging the harmful substances in the etching portion.

또한, 상기 린싱부와 에칭부는 각각 린싱 또는 에칭이 이루어지는 배스 및 상기 각 배스의 내측에 설치되어 상기 유리기판에 세척액 또는 에칭액을 분사하는 분사노즐을 포함하는 것이 바람직하다.The rinsing unit and the etching unit may further include a bath in which the rinsing or etching is performed, and a spray nozzle installed inside the respective baths and spraying a cleaning liquid or an etching liquid onto the glass substrate.

또한, 상기 분사노즐은 회동 가능하도록 설치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the injection nozzle is preferably provided so as to be rotatable.

또한, 상기 에칭부는 복수개인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the said etching part is plural.

또한, 상기 복수개의 에칭부 중 적어도 하나 이상은 그 외 에칭부와 비교하여 서로 다른 에칭 특성을 갖는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that at least one or more of the plurality of etching portions have different etching characteristics as compared with other etching portions.

또한, 상기 카세트를 상기 트롤리 컨베이어에 로딩하기 위한 로딩부와 상기 카세트를 상기 트롤리 컨베이어로부터 언로딩하기 위한 언로딩부를 더 포함하되, 상기 로딩부와 언로딩부에는 각각 상기 카세트를 승하강 시키는 승하강 플레이트가 설치되어 있는 것이 바람직하다.The apparatus may further include a loading part for loading the cassette on the trolley conveyor and an unloading part for unloading the cassette from the trolley conveyor, wherein the loading part and the unloading part respectively move the cassette up and down. It is preferable that a plate is provided.

또한, 상기 린싱부는, 상기 유리기판의 에칭이 이루어지기 전 및/또는 후에 상기 유리판을 세척할 수 있도록, 적어도 하나 이상 설치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the rinsing unit, it is preferable that at least one or more is provided so as to wash the glass plate before and / or after the etching of the glass substrate.

또한, 상기 유리기판 및 카세트를 건조할 수 있도록, 상기 에칭부 또는 린싱부에 인접 설치된 건조부를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to further include a drying unit provided adjacent to the etching portion or the rinsing portion to dry the glass substrate and the cassette.

또한, 상기 건조부에는 열풍이 인입되는 열풍공급부와 상기 인입된 열풍이 배출되는 열풍배출부가 장치되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the drying unit is preferably provided with a hot air supply unit for introducing hot air and a hot air discharge unit for discharging the introduced hot air.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 대해 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템을 설명하기 위한 개략 구성도이며, 도 2는 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템을 설명하기 위한 동작 상태도이다.1 is a schematic configuration diagram for explaining a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention, Figure 2 is an operational state diagram for explaining a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 1 및 도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 유리기판(180) 에칭 시스템(100)은, 유리기판(180)이 적재되어 있는 카세트(170)가 트롤리 컨베이어(trolley conveyor, 110)에 로딩될 수 있도록 하는 로딩부(120)와, 유리기판(180)의 세척(rinsing)이 이루어지는 린싱부(140a, 140b)와, 상기 린싱부(140a, 140b)를 거친 유리기판(180)과 카세트(170)에 잔존하는 세척액을 건조시키기 위한 건조부(도 6의 190 참조)와, 카세트(170)에 적재되어 있는 유리기판(180)을 얇게 식각하기(etching) 위한 에칭부(150)와, 상기 카세트(170)가 진행하는 경로에 해당하는 상기 린싱부(140a, 140b), 건조부(190), 및 에칭부(150)의 각 측부에 설치되며 도어 열림 및 닫힘 동작이 이루어지는 개폐부(130)와, 상기 린싱부(140a, 140b)와 건조부(190) 및 에칭부(150)로 상기 카세트(170)를 이송시키기 위한 트롤리 컨베이어(110), 및 에칭 공정을 마친 다음 카세트(170)를 다시 언로드 하기 위한 언로딩부(160)를 그 주요 구성으로 한다.1 and 2, in the etching system 100 of the glass substrate 180 according to the present invention, the cassette 170 on which the glass substrate 180 is loaded is a trolley conveyor 110. And the loading unit 120 to be loaded on, the rinsing unit (140a, 140b) to the rinsing (rinsing) of the glass substrate 180, the glass substrate 180 passed through the rinsing unit (140a, 140b) and A drying unit (see 190 in FIG. 6) for drying the remaining washing liquid in the cassette 170, an etching unit 150 for etching the glass substrate 180 loaded on the cassette 170 thinly, and The opening and closing unit 130 is installed at each side of the rinsing unit 140a, 140b, the drying unit 190, and the etching unit 150 corresponding to a path through which the cassette 170 proceeds, and the door opening and closing operation is performed. And a trolley conveyor for transferring the cassette 170 to the rinsing parts 140a and 140b, the drying part 190 and the etching part 150. 110, and the unloading portion 160 for unloading the cassette 170 after the etching process is the main configuration.

즉, 로딩부(120)에서 유리기판(180)이 적재된 카세트(170)가 트롤리 컨베이어(110)에 로딩된 다음 린싱부(140a)의 좌측부(L)에 설치된 개폐부(130)가 열리면, 트롤리 컨베이어(110)가 상기 개폐부(130)를 통과하여 린싱부(140a)의 내측으로 카세트(170)를 이송하고, 외부와의 차폐를 위해 상기 좌측부(L)에 설치된 개폐부(130)가 다시 닫히면 린싱부(140a)에서 유리기판(180)을 세척하는 공정을 수행할 수 있도록 구성된다.That is, when the cassette 170 in which the glass substrate 180 is loaded in the loading unit 120 is loaded on the trolley conveyor 110 and then the opening and closing unit 130 installed at the left side L of the rinsing unit 140a is opened, the trolley Conveyor 110 passes through the opening and closing portion 130 to transfer the cassette 170 to the inside of the rinsing portion (140a), when the opening and closing portion 130 installed in the left portion (L) to shield the outside is closed It is configured to perform the process of washing the glass substrate 180 in the singer 140a.

또한, 세척 공정이 마쳐지면 상술한 바와 유사하게 상기 린싱부(140a)의 우측부(R)와 에칭부(150)의 좌측부(L') 사이에 설치된 개폐부(130)를 열어 카세트(170)를 에칭부(150)의 내측으로 이송하여 유리기판(180)의 두께를 얇게 식각하는 에칭 공정을 수행할 수 있도록 구성된다.In addition, when the cleaning process is completed, the cassette 170 is opened by opening and closing the opening and closing unit 130 provided between the right side R of the rinsing unit 140a and the left side L ′ of the etching unit 150. Transferring to the inside of the etching unit 150 is configured to perform an etching process of etching the thickness of the glass substrate 180 thin.

나아가, 상술한 바와 유사한 방식으로 카세트(170)를 이송하면서 유리기판(180)을 복수개의 에칭부(150)에서 반복하여 에칭한 다음 린싱부(140b)에서 세척 공정을 다시 한번 거침에 따라 에칭 공정이 마쳐지면 언로딩부(160)에서 카세트(170)를 언로드 할 수 있도록 구성된다.Furthermore, the glass substrate 180 is repeatedly etched in the plurality of etching units 150 while the cassette 170 is transferred in a manner similar to the above, and then the etching process is performed again in the rinsing unit 140b. When finished, the unloading unit 160 is configured to unload the cassette 170.

단, 필요에 따라서는 상기 린싱부(140a 또는 140b)와 에칭부(150) 사이에 건조부(190)를 더 포함하여, 유리기판(180) 및 카세트(170)의 건조 역시 가능하도록 구성하는 것이 바람직할 것이다.However, if necessary, the apparatus may further include a drying unit 190 between the rinsing unit 140a or 140b and the etching unit 150 to allow drying of the glass substrate 180 and the cassette 170. Would be desirable.

따라서, 유리기판(180)이 내장된 카세트(170)를 트롤리 컨베이어(110)에 의해 각 공정부(140a, 150, 140b, 160)로 이송하여 유리기판(180)의 에칭 공정을 원스톱(one stop) 방식으로 이루어지도록 함에 따라, 에칭 공정 시간을 단축시킬 수 있게 됨은 물론, 각 공정부(140a, 150, 140b, 160)의 상측에 상기 트롤리 컨베이어(110)를 별도로 설치하여 카세트(170)를 이송시킴에 따라 설비 사이즈를 감소시 킬 수 있게 된다.Accordingly, the cassette 170 having the glass substrate 180 is transferred to each process unit 140a, 150, 140b, and 160 by the trolley conveyor 110, thereby providing a one-stop process of etching the glass substrate 180. By the stop method, the etching process time can be shortened, and the trolley conveyor 110 is separately installed on the upper side of each process unit 140a, 150, 140b, 160 to install the cassette 170. By transporting, the size of the plant can be reduced.

이하, 상술한 바와 같이 에칭 공정 시간 및 설비 사이즈를 감소시킬 수 있도록 하는 본 발명의 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 대해 좀더 상세히 살펴본다.Hereinafter, the glass substrate etching system using the trolley conveyor of the present invention to reduce the etching process time and equipment size as described above in more detail.

도 3은 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 에칭부를 설명하기 위한 단면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 에칭액 분사노즐을 설명하기 위한 사시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 에칭부를 설명하기 위한 사시도이며, 도 6은 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템의 건조부를 설명하기 위한 구성도이다.3 is a cross-sectional view for explaining an etching portion of a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention, Figure 4 is a perspective view for explaining the etching liquid injection nozzle of the glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention, 5 is a perspective view illustrating an etching part of a glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention, and FIG. 6 is a configuration diagram illustrating a drying part of the glass substrate etching system using a trolley conveyor according to the present invention.

도 3 내지 도 6을 도 1 및 도 2를 참조하여 설명하면, 먼저 로딩부(120)는 유리기판(180)이 적재된 카세트(170)가 트롤리 컨베이어(110)에 로딩될 수 있도록 하기 위한 것으로, 상기 카세트(170)가 안착되는 카세트 테이블(121) 및 상기 카세트 테이블(121)의 상단에 설치되되 도시 생략된 유압 실린더 등에 의해 승하강 되는 승하강 플레이트(122)를 포함하여, 카세트 테이블(121)에 유리기판(180)이 적재된 카세트(170)가 놓여지면 승하강 플레이트(122)가 상승하여 카세트(170)를 상승시키고 트롤리 컨베이어(110)의 행어(113)에 카세트(170)의 상단이 고정될 수 있도록 구성된다.3 to 6 with reference to FIGS. 1 and 2, first, the loading unit 120 is to allow the cassette 170 on which the glass substrate 180 is loaded to be loaded on the trolley conveyor 110. The cassette table 121 includes a cassette table 121 on which the cassette 170 is seated, and a lifting plate 122 installed at an upper end of the cassette table 121 and lifted up and down by a hydraulic cylinder (not shown). When the cassette 170 having the glass substrate 180 loaded thereon is placed, the elevating plate 122 is raised to raise the cassette 170 and the upper end of the cassette 170 on the hanger 113 of the trolley conveyor 110. It is configured to be fixed.

린싱부(140a, 140b)는 유리기판(180)의 표면에 부착된 이물질에 의해 후속의 에칭 공정시 당해 유리기판(180)의 표면이 불균일하게 에칭되는 것을 방지할 수 있도록 세척액을 이용하여 유리기판(180)의 표면을 세척하기 위한 것으로, 도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 유리기판(180)의 세척이 이루어지는 린싱 배스(bath, 141a, 141b) 및 상기 린싱 배스(141a, 141b)에 카세트(170)가 공급되면 당해 카세트(170)에 적재되어 있는 유리기판(180)에 증류수(DI: Distilled water) 등과 같은 세척액을 분사할 수 있도록, 린싱 배스(141a, 141b)의 내측에서 설치되되 카세트(170)에 적재된 유리기판(180)들 사이에 각각 복수개 배치된 세척액 분사부(145a, 145b)를 포함한다.The rinsing parts 140a and 140b may use a glass substrate by using a cleaning solution to prevent the surface of the glass substrate 180 from being unevenly etched in a subsequent etching process due to foreign matter attached to the surface of the glass substrate 180. For cleaning the surface of the 180, as shown in Figure 3, the cleaning of the glass substrate 180 (bath, 141a, 141b) and the rinsing bath (141a, 141b) cassette ( When the 170 is supplied to the glass substrate 180 loaded on the cassette 170, the washing liquid such as distilled water (DI) may be sprayed to the inside of the rinsing baths 141a and 141b. It includes a plurality of washing liquid injection unit (145a, 145b) disposed between each of the glass substrate 180 loaded on 170.

이때, 세척액 분사부(145a, 145b)는, 도 4에 도시되어 있는 바와 같이, 도시생략된 공급 펌프 등의 작동에 의해 세척액을 공급받는 공급관(146a, 146b)과 상기 공급관(146a, 146b)의 일측에 설치되어 세척액이 유리기판(180)에 미세한 입자의 상태로 분사될 수 있도록 하는 분사노즐(147a, 147b) 등으로 이루어진다. At this time, the cleaning liquid injection unit (145a, 145b), as shown in Figure 4, of the supply pipe 146a, 146b and the supply pipe 146a, 146b to receive the cleaning liquid by the operation of the feed pump, etc. not shown in the figure Installed on one side, the cleaning solution is made of a spray nozzle (147a, 147b) and the like to be sprayed to the glass substrate 180 in the form of fine particles.

단, 공급관(146a, 146b)은 그 중심축을 회전축으로 하여 회동 가능하도록 설치됨에 따라 분사노즐 역시 소정 각도(θ)로 회동 되도록 하여, 적은 양의 세척액을 이용하여도 유리기판(180)의 표면에 고르게 당해 세척액이 분사될 수 있도록 하는 것이 바람직할 것이다.However, as the supply pipes 146a and 146b are installed to be rotatable using their central axis as the rotation axis, the spray nozzles are also rotated at a predetermined angle θ, so that the surface of the glass substrate 180 can be used even with a small amount of cleaning liquid. It would be desirable to allow the wash solution to be evenly sprayed.

또한, 도시하지는 않았지만 상기 린싱 배스(141a, 141b)의 하단에는 유리기판(180)의 이물질을 제거하는데 사용된 세척액을 외부로 배출하는 배출구 등이 장치되어 있을 것이나, 이러한 구성들은 이미 공지된 기술이므로 그 상세한 설명은 생략하도록 한다.In addition, although not shown, the lower end of the rinsing baths (141a, 141b) will be provided with an outlet for discharging the cleaning liquid used to remove foreign substances on the glass substrate 180 to the outside, but such a configuration is already known technology The detailed description thereof will be omitted.

건조부(190)는 린싱 공정이 마쳐진 유리기판(180)과 상기 유리기판(180)을 적재하기 위한 카세트(170)에 남아 있는 세척액을 건조시킴에 따라, 잔존하는 세척액과 에칭액의 혼합으로 인한 상기 에칭액 농도의 변화 등에 의해 유리기판(180) 표면의 에칭 특성이 각 부분(즉, 세척액이 잔존하는 부분과 잔존하지 않는 부분)별로 달라지는 것 등을 방지할 수 있도록 하기 위한 것으로, 도 6에 참고로 도시되어 있는 바와 같이, 그 건조가 이루어지는 건조실(191)과, 상기 건조실(191)에 열풍(hot air)을 공급하는 열풍공급(192a)부, 및 공급된 열풍에 의해 유리기판(180)과 상기 유리기판(180)이 적재된 카세트(170)를 동시에 건조시킨 후 상기 열풍을 배출시킬 수 있도록 하기 위한 열풍배출부(192b)를 포함한다.The drying unit 190 drys the cleaning liquid remaining in the glass substrate 180 and the cassette 170 for loading the glass substrate 180 after the rinsing process, and thus the mixing of the remaining washing liquid and the etching liquid In order to prevent the etching characteristics of the surface of the glass substrate 180 from being changed for each part (that is, the remaining portion and the remaining portion of the cleaning liquid) due to the change of the etchant concentration, etc., see FIG. 6. As shown in the drawing, the drying chamber 191 is dried, the hot air supply (192a) for supplying hot air (hot air) to the drying chamber 191, and the glass substrate 180 by the supplied hot air and And a hot air discharge unit 192b for discharging the hot air after simultaneously drying the cassette 170 on which the glass substrate 180 is loaded.

단, 이러한 건조부(190)에도 카세트(170)가 진행하는 경로 상에는 상술한 바와 같은 개폐부(130)를 설치하여 트롤리 컨베이어(110)에 의해 원스톱 방식으로 진행될 수 있도록 구성되는 것이 바람직함은 당업자 수준에서 자명할 것이다.However, it is preferable that the drying unit 190 may be configured to be progressed in a one-stop manner by the trolley conveyor 110 by installing the opening and closing unit 130 as described above on the path through which the cassette 170 proceeds. Will be self-evident in the level.

에칭부(150)는 실리카가 다량 포함된 유리기판(180)의 표면에 불산(HF) 등과 같은 에칭액을 분사함에 따라 당해 유리기판(180)의 표면을 에칭하여 그 두께를 얇게 할 수 있도록 하기 위한 것으로, 도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 유리기판(180)의 에칭이 이루어지는 에칭 배스(151)와, 상기 에칭 배스(151)에 카세트(170)가 공급되면 당해 카세트(170)에 적재된 유리기판(180)에 에칭액을 분사할 수 있도록 에칭 배스(151)의 내측에 소정 간격마다 복수개 설치된 에칭액 분사부(155)를 포함한다.The etching unit 150 is to etch the surface of the glass substrate 180 by spraying an etchant such as hydrofluoric acid (HF) on the surface of the glass substrate 180 containing a large amount of silica to thin the thickness thereof. As shown in FIG. 3, when the cassette 170 is supplied to the etching bath 151 to which the glass substrate 180 is etched and the etching bath 151 is loaded on the cassette 170. The etching solution spraying unit 155 is provided at a plurality of predetermined intervals inside the etching bath 151 to spray the etching liquid onto the substrate 180.

단, 에칭액 분사부(155)는, 도 4에 도시되어 있는 바와 같이, 공급 펌프 등의 작동에 의한 에칭액을 공급하는 공급관(156)과 상기 공급관(156)의 일측에 설치되어 세척액이 유리기판(180)에 미세한 입자의 상태로 분사될 수 있도록 하는 분사노즐(157) 등으로 이루어지되, 이미 위에서 설명한 바와 같이 분사노즐(157)이 소정 각도(θ)로 회동 되도록 하여, 적은 양의 에칭액을 이용하여도 유리기판(180)의 표면에 고르게 당해 에칭액이 분사될 수 있도록 하는 것이 바람직할 것이다.However, as shown in FIG. 4, the etching solution injection unit 155 is provided at one side of the supply pipe 156 for supplying the etching liquid by an operation such as a supply pump and the supply pipe 156 so that the cleaning liquid is formed in the glass substrate ( It is made of a spray nozzle 157 or the like to be sprayed in the state of the fine particles to 180, but as described above, the spray nozzle 157 is rotated at a predetermined angle (θ), using a small amount of etching solution Even if it is preferable that the etching solution may be evenly sprayed on the surface of the glass substrate 180.

또한, 상기한 바와 같은 에칭부(150)는 에칭 공정이 이루어지는 라인을 따라서 복수개 구비하여, 일 예로 농도가 상대적으로 낮은 에칭액을 이용하여 여러 번에 나누어 유리기판(180)의 에칭이 이루어지도록 하는 등, 여러 번에 걸친 유리기판(180)의 에칭이 이루어지도록 함에 따라 당해 유리기판(180)이 과도하게 에칭되는 것을 방지함은 물론, 유리기판(180)의 전체 표면에 걸쳐 균일한 에칭이 이루어질 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, the etching unit 150 as described above is provided with a plurality of lines along which the etching process is performed, for example, the etching of the glass substrate 180 is divided into several times using an etchant having a relatively low concentration. As the glass substrate 180 is etched several times, the glass substrate 180 may be prevented from being excessively etched, and uniform etching may be performed over the entire surface of the glass substrate 180. It is desirable to.

아울러, 상기 복수개의 에칭부(150) 중 적어도 하나 이상은 그 외 에칭부(150)와 비교하여 서로 다른 에칭 특성을 갖는 것이 더욱더 바람직하다. 예컨대, 복수개의 에칭부(150) 중 어느 하나 이상은 에칭액의 농도, 에칭액의 온도, 및 에칭액이 분사되는 에칭 시간 등을 서로 다르게 설정하여 유리기판(180)의 에칭 정도를 적응적으로 제어 가능하도록 하는 것이 바람직할 것이다.In addition, it is even more preferable that at least one or more of the plurality of etching units 150 have different etching characteristics compared to other etching units 150. For example, at least one of the plurality of etching units 150 may be configured to differently control the etching degree of the glass substrate 180 by differently setting the concentration of the etching solution, the temperature of the etching solution, and the etching time for spraying the etching solution. It would be desirable to.

나아가, 도시하지는 않았지만 상기 에칭 배스(151)의 하단에는 유리기 판(180)의 에칭에 이용된 에칭액을 배출하기 위한 배출관과, 각종 이물질을 제거하여 순수한 에칭액만을 수집할 수 있도록 상기 배출관에 설치된 필터와, 재활용을 위해 상기 필터를 통해 정화된 에칭액을 임시 보관하는 버퍼 탱크와, 상기 버퍼 탱크는 물론 외부로부터 직접 에칭액을 공급받아 상기 공급관으로 에칭액을 공급하는 공급 탱크, 및 상기 공급 탱크에 저장되어 있는 에칭액의 온도 및 농도 등을 감시하는 감시부 등을 설치할 수 있을 것이나, 이러한 구성들은 이미 공지된 기술이므로 그 상세한 설명은 생략하도록 한다.Furthermore, although not shown, a lower end of the etching bath 151 may include a discharge pipe for discharging the etchant used to etch the glass substrate 180, a filter installed in the discharge pipe to remove only foreign matter, and collect only pure etchant. A buffer tank for temporarily storing the etchant purified through the filter for recycling, a supply tank receiving the etchant directly from the outside as well as the buffer tank and supplying the etchant to the supply pipe, and an etchant stored in the supply tank The monitoring unit for monitoring the temperature and the concentration of the like may be installed, but such a configuration is already known, so the detailed description thereof will be omitted.

한편, 유리기판(180)이 적재된 카세트(170)를 상술한 바와 같은 각 공정부(140a, 150, 140b, 160)에 원스톱 방식으로 이송할 수 있도록, 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템(100)의 트롤리 컨베이어(110)는, 도 1 및 도 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 각 공정부(140a, 150, 140b, 160)를 따라서 그 상측부에 설치된 이송 레일(111)과, 상기 이송 레일(111)을 따라 이동이 가능하도록 이송 레일(111)에 맞물려 설치되되 구동장치(미도시)에 의해 이송 레일(111)의 궤도를 자동으로 순환하며 카세트(170)를 상기 각 공정부(140a, 150, 140b, 160)가 위치한 곳으로 이송시키는 이송 암(112), 및 후크(hook) 등과 같이 카세트(170)의 상단부 일측과 탈부착 가능한 구성으로 이루어져 상기 이송 암(112)의 일측 종단에 설치되는 행어(113)를 포함한다.On the other hand, the glass 170 using the trolley conveyor according to the present invention, so that the cassette 170 on which the glass substrate 180 is loaded can be transferred to each process unit 140a, 150, 140b, 160 as described above in a one-stop manner. As can be seen from FIGS. 1 and 2, the trolley conveyor 110 of the substrate etching system 100 has a transfer rail 111 provided at an upper portion thereof along the process portions 140a, 150, 140b, 160. And, it is installed in engagement with the transfer rail 111 so as to move along the transfer rail 111, and automatically circulates the trajectory of the transfer rail 111 by a driving device (not shown) and the cassette 170 is The transfer arm 112, which is transferred to the place where the process unit 140a, 150, 140b, 160 is located, and a detachable configuration with one side of the upper end of the cassette 170, such as a hook, etc. of the transfer arm 112 It includes a hanger 113 is installed at one end.

이와 같은 구성에 의하면, 유리기판(180)이 적재된 카세트(170)가 로딩부(120)의 카세트 테이블(121)에 놓여진 다음 승하강 플레이트(122)가 상승함에 따 라 상기 행어(113)에 카세트(170)가 로딩되면, 이송 암(112)이 이송 레일(111)의 궤도를 따라 순환을 시작하고, 이때 도 5에 도시되어 있는 바와 같이 상기 카세트(170)가 이송되는 경로에 해당하는 린싱 배스(141a, 141b), 에칭 배스(151), 및 건조실(191)의 각 측부에는 카세트(170)가 이송될 수 있도록 상술한 바와 같이 개폐부(130)가 각각 설치되어 있고, 그와 동시에 린싱 배스(141a, 141b), 에칭 배스(151), 및 건조실(191)의 상부면에는 상기 카세트(170)가 로딩된 행어(113)가 이송될 수 있도록 이동로(152)가 형성되어 있어 유리기판(180)이 적재된 상기 카세트(170)를 각 공정부(140a, 150, 140b, 160)로 평행이동 할 수 있게 된다.According to this configuration, the cassette 170 on which the glass substrate 180 is loaded is placed on the cassette table 121 of the loading unit 120 and then the lifting plate 122 is raised to the hanger 113 as it is raised. When the cassette 170 is loaded, the transfer arm 112 starts circulation along the trajectory of the transfer rail 111, at which time the rinsing corresponding to the path where the cassette 170 is conveyed as shown in FIG. 5. Each side of the baths 141a, 141b, the etching bath 151, and the drying chamber 191 is provided with opening and closing portions 130 as described above so that the cassette 170 can be transferred, and at the same time, the rinsing bath (141a, 141b), the etching bath 151, and the upper surface of the drying chamber 191, the movement path 152 is formed so that the hanger 113 loaded with the cassette 170 can be transferred to a glass substrate ( The cassette 170 loaded with 180 may be parallelly moved to each of the process units 140a, 150, 140b, and 160.

이때, 이동로(152)에는 행어(113)의 이동을 방해하지 않으면서도 외부환경과의 차단을 위한 각종 실링수단(152')이 설치되는 것이 바람직하며, 이러한 실링수단(152')으로는 브러시(brush) 등이 사용될 수 있다. At this time, the movement path 152 is preferably provided with various sealing means 152 'for blocking the external environment without hindering the movement of the hanger 113, such a sealing means 152' brush (brush) and the like can be used.

나아가, 필요에 따라서는 에칭 배스(151)의 상부면에 각종 유해물질을 배출할 수 있는 배출부(153)가 형성되어 있는 것이 바람직한데, 이러한 배출부(153)에는 상술한 바와 유사한 이송로가 형성되어 있고, 그 이송로 상에는 브러시 등과 같은 실링수단(153a)이 설치되어 있으며, 일측부에는 배기펌프(미도시)에 의해 에칭 배스(151) 내부의 유해물질을 흡입하여 외부로 배출시키는 배출관(153b)이 설치되어 있다.Furthermore, if necessary, it is preferable that a discharge part 153 is formed on the upper surface of the etching bath 151 to discharge various harmful substances, and the discharge part 153 has a transfer path similar to that described above. It is formed, and the sealing means 153a such as a brush is provided on the transfer path, the discharge pipe for inhaling the harmful substances inside the etching bath 151 by the exhaust pump (not shown) on one side ( 153b) is provided.

또한, 이상과 같은 트롤리 컨베이어(110)는 복수개의 카세트(170)를 동시에 이동시키면서 유리기판(180)을 에칭할 수 있도록, 이송레일(111)에 설치된 한 조의 이송 암(112) 및 행어(113)를 복수개 구비하는 것이 바람직할 것이나, 본 발명은 이에 한정하지 아니하고 단위 시간당 생산율을 고려하지 않는다면 한 조의 이송 암(112) 및 행어(113)만을 이송 레일(111)에 설치하여 한번에 하나의 카세트(170)를 이송 레일(111)을 따라 순환시키면서 유리기판(180)을 에칭할 수도 있을 것이다.In addition, the trolley conveyor 110 as described above has a set of transfer arms 112 and hangers 113 installed on the transfer rails 111 so as to etch the glass substrate 180 while simultaneously moving the plurality of cassettes 170. It is preferable to have a plurality of), but the present invention is not limited thereto, and only one set of the transfer arm 112 and the hanger 113 is installed on the transfer rail 111 so that one cassette ( The glass substrate 180 may be etched while the 170 is circulated along the transfer rail 111.

이상에서 본 발명에 의한 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 대해 설명하였다. 이러한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.The glass substrate etching system using the trolley conveyor according to the present invention has been described above. Such a technical configuration of the present invention will be understood by those skilled in the art that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention.

그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것으로서 이에 한정하는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하고, 본 발명은 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Therefore, the above-described embodiments are to be understood in all respects as illustrative and not restrictive, and the present invention is represented by the following claims rather than the foregoing description, and the meaning and scope of the claims. And all changes or modifications derived from the equivalent concept should be construed as being included in the scope of the present invention.

이상과 같이 본 발명에 따른 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템에 의하면, 트롤리 컨베이어를 이용하여 유리기판이 탑재된 카세트를 각 에칭 공정부로 이동시킴에 따라 각 공정부들 사이에 별도의 이송 로울러가 필요하지 않게 되므로, 시스템의 설비 사이즈를 감소시켜 작업 공간의 활용도를 높일 수 있게 된 다.As described above, according to the glass substrate etching system using the trolley conveyor according to the present invention, as the cassette having the glass substrate is moved to each etching process unit using the trolley conveyor, a separate transfer roller is not required between the process units. As a result, the system size of the system can be reduced, thereby increasing the utilization of the work space.

또한, 각 공정부 사이에 설치된 상기 이송 로울러 등 개별 유닛의 구동을 위한 각종 센서나 모터의 수량을 감소시킬 수 있게 됨은 물론, 그 제어 및 유지보수 역시 용이하게 할 수 있게 된다.In addition, the number of sensors and motors for driving individual units such as the transfer rollers installed between the process units can be reduced, as well as the control and maintenance can be facilitated.

Claims (14)

유리기판의 세척이 이루어지는 린싱(rinsing)부와;A rinsing unit for cleaning the glass substrate; 상기 유리기판의 에칭이 이루어지는 에칭(etching)부; 및An etching unit for etching the glass substrate; And 상기 유리기판이 적재된 카세트를 상기 에칭부와 린싱부로 이송시키는 트롤리 컨베이어를 포함하는 것을 특징을 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.And a trolley conveyor for transferring the cassette loaded with the glass substrate to the etching unit and the rinsing unit. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 트롤리 컨베이어는, 이송 레일과, 상기 이송 레일을 따라 이동 가능하도록 상기 이송 레일에 설치되는 이송 암 및 상기 유리기판이 탑재되는 카세트를 이송시킬 수 있도록 상기 이송 암의 일측 종단에 설치되는 행어(hanger)를 포함하는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.The trolley conveyor is a hanger installed at one end of the transfer arm to transfer a transfer rail, a transfer arm installed on the transfer rail so as to move along the transfer rail, and a cassette on which the glass substrate is mounted. Glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that it comprises a). 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 카세트의 진행방향 상에 위치하는 상기 린싱부와 에칭부의 각 측부에는 개폐부가 설치되어 있고, 상기 행어에 의해 이송되는 상기 카세트는 상기 개폐부를 통과하도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.Opening and closing portions are provided on each side of the rinsing portion and the etching portion positioned in the moving direction of the cassette, and the cassette conveyed by the hanger is provided to pass through the opening and closing portion. Substrate etching system. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 린싱부와 에칭부의 상부면에는 상기 카세트를 고정하는 행어가 이동할 수 있는 이동로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.The upper surface of the rinsing portion and the etching portion is a glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the movement path for moving the hanger for fixing the cassette is formed. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 이동로에는 실링수단이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.Glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the moving means is provided with a sealing means. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 에칭부의 상부면에는 상기 에칭부 내의 유해물질을 배출할 수 있는 배출부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.The upper surface of the etching portion is a glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the discharge portion for discharging the harmful substances in the etching portion is formed. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 린싱부와 에칭부는 각각 린싱 또는 에칭이 이루어지는 배스 및 상기 각 배스의 내측에 설치되어 상기 유리기판에 세척액 또는 에칭액을 분사하는 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.And the rinsing part and the etching part respectively include a bath to be rinsed or etched, and a spray nozzle installed inside the respective baths to spray a cleaning liquid or an etching liquid onto the glass substrate. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 분사노즐은 회동 가능하도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.The spray nozzle is a glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the rotatable installation. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 에칭부는 복수개인 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.Glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the plurality of etching portion. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 복수개의 에칭부 중 적어도 하나 이상은 그 외 에칭부와 비교하여 서로 다른 에칭 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에 칭 시스템.And at least one of the plurality of etching portions has different etching characteristics compared to other etching portions. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 카세트를 상기 트롤리 컨베이어에 로딩하기 위한 로딩부와 상기 카세트를 상기 트롤리 컨베이어로부터 언로딩하기 위한 언로딩부를 더 포함하되, 상기 로딩부와 언로딩부에는 각각 상기 카세트를 승하강 시키는 승하강 플레이트가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.And a loading part for loading the cassette onto the trolley conveyor and an unloading part for unloading the cassette from the trolley conveyor, wherein the loading part and the unloading part respectively have a lifting plate for lifting the cassette up and down. Glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the installation. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 린싱부는, 상기 유리기판의 에칭이 이루어지기 전 및/또는 후에 상기 유리판을 세척할 수 있도록, 적어도 하나 이상 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.The rinsing unit, at least one glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the at least one is installed so as to clean the glass plate before and / or after the etching of the glass substrate. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나의 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 유리기판 및 카세트를 건조할 수 있도록, 상기 에칭부 또는 린싱부에 인접 설치된 건조부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.And a drying unit provided adjacent to the etching unit or the rinsing unit to dry the glass substrate and the cassette. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 건조부에는 열풍(hot air)이 인입되는 열풍공급부와 상기 인입된 열풍이 배출되는 열풍배출부가 장치되어 있는 것을 특징으로 하는 트롤리 컨베이어를 이용한 유리기판 에칭 시스템.The drying unit is a glass substrate etching system using a trolley conveyor, characterized in that the hot air (hot air) is introduced into the hot air supply unit and the hot air discharge unit is discharged is discharged.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101068113B1 (en) * 2011-05-31 2011-09-27 주식회사 아바텍 Glass Substrate Etching Equipment
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