KR20080036463A - Semiconductor memory device and test system thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명의 반도체 메모리 장치의 테스트 시스템은 외부 전원 전압을 인가받아 승압 전압을 내부적으로 발생하고 외부로부터 기준 전압을 인가받아 승압 전압과 기준 전압의 레벨을 비교하여 비교 결과 출력 신호를 출력하는 반도체 메모리 장치 및 기준 전압을 발생하고 비교 결과 출력 신호를 인가받아 반도체 메모리 장치의 패키지 테스트 공정에서 과도한 테스트용 전압이 인가되는지 여부를 모니터하는 테스트 장비를 구비하고, 본 발명의 반도체 메모리 장치는 외부 전원 전압을 인가받아 내부에서 필요로 하는 승압 전압을 발생하는 승압 전압 발생기, 외부로부터 모드 설정 신호를 인가받아 디코딩한 후에 테스트 모드 동작의 수행 여부를 결정하는 테스트 모드 설정 신호를 발생하는 모드 설정부, 양의 입력 단자에 승압 전압을 인가받고 음의 입력 단자에 기준 전압을 입력핀을 통해 인가받아 전압 레벨을 비교하여 비교 결과 출력 신호를 출력 핀을 통하여 출력하는 비교기를 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 의할 경우 번-인 테스트시 과도한 스트레스의 인가 및 급격한 과전류의 인가로 인한 래치 업 현상을 방지하고, 승압 전압 산포를 안정적으로 감소시켜 테스트 불량을 정확하게 해석하고 조기에 복구할 수 있다.The test system of the semiconductor memory device of the present invention generates a boosted voltage internally by receiving an external power supply voltage, and receives a reference voltage from the outside to compare the level of the boosted voltage and the reference voltage to output a comparison result output signal. And test equipment for generating a reference voltage and receiving an output signal as a result of the comparison to monitor whether an excessive test voltage is applied in a package test process of the semiconductor memory device, and the semiconductor memory device of the present invention applies an external power supply voltage. A booster voltage generator for generating a boost voltage required internally, a mode setting unit for generating a test mode setting signal for deciding whether to perform a test mode operation after receiving and decoding a mode setting signal from the outside, and a positive input terminal The negative mouth It characterized in that the receiving application via an input pin a reference voltage to the terminal compares a voltage level having a comparator for outputting a comparison result through the output pin of the output signal. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the latch-up phenomenon due to excessive stress and rapid overcurrent during burn-in test, and to stably reduce the boost voltage distribution to accurately analyze and recover the test failure early. have.
Description
도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 승압 전압을 직접 모니터링 하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도이다.1 is a schematic circuit diagram of a test system for directly monitoring a boosted voltage of a conventional semiconductor memory device.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압을 기준 전압과 비교하여 모니터링 하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도이다.2 is a schematic circuit diagram of a test system for monitoring a boosted voltage in comparison with a reference voltage at a package level of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압을 기준 전압과 비교하여 모니터링 하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도이다.3 is a schematic circuit diagram of a test system for monitoring a boosted voltage in comparison with a reference voltage at a package level of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압 레벨을 기준 전압과 비교하여 자체 조절하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도이다.4 is a schematic circuit diagram of a test system for self-adjusting a boosted voltage level at a package level of a semiconductor memory device compared to a reference voltage according to a third embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압을 기준 전압과 비교하여 자체 조절하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도이다.FIG. 5 is a schematic circuit diagram of a test system for self-adjusting a boosted voltage in comparison with a reference voltage at a package level of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 특히 패키지 상태에서 번-인 테스트시 승압 전압의 레벨을 모니터링 하여 불량 칩들이 과도한 스트레스에 의한 것인지 여부를 판단하여 테스트하는 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 테스트 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device and a test system for monitoring a level of a boosted voltage during a burn-in test in a package state to determine whether bad chips are caused by excessive stress. It is about.
일반적으로 반도체 메모리 장치의 테스트는 조립되기 전 웨이퍼 상태에서 이루어지는 웨이퍼 테스트(Wafer Test)와 조립 공정 이후에 패키지 상태로 이루어지는 패키지 테스트(Package Test)로 구분할 수 있다. 웨이퍼 테스트는 다시 레이저 수리 공정 전에 이루어지는 레이저 전 테스트와 레이저 수리 후에 이루어지는 EDS(Electronic Die Sorting) 테스트로 구분된다.Generally, a test of a semiconductor memory device may be classified into a wafer test performed in a wafer state before assembly and a package test performed in a package state after the assembly process. The wafer test is further divided into a pre-laser test before the laser repair process and an electronic die sorting (EDS) test after the laser repair.
패키지 형태로 변환된 반도체 메모리 장치는 조립 공정에서의 이상 유무를 판단하기 위한 DC 테스트를 실시한 후에 번-인(Burn In) 테스트를 실시한다. The semiconductor memory device converted into a package form undergoes a burn-in test after performing a DC test to determine whether there is an abnormality in an assembly process.
즉, 웨이퍼 테스트로 선별된 양품의 칩을 패키지로 조립하고 조립된 전체 반도체 메모리 장치에 대하여 자동 테스트 장비(Automatic Test Equipment : ATE)를 이용하여 조립 과정에서 결함이 발생한 불량 칩을 스크린하고, 반도체 메모리 장치의 초기 결함을 조기에 발견하기 위하여 전체의 반도체 메모리 장치에 대해서 전압과 주위 온도를 실제 사용 조건보다 더욱 혹독한 조건으로 스트레스(stress)를 가하여 번-인 테스트를 수행한다. That is, assembling the good chips selected by the wafer test into a package, and screening the defective chips in which the defects occur during the assembly process by using an automatic test equipment (ATE) for the assembled semiconductor memory device, and the semiconductor memory In order to detect early defects in the device, burn-in tests are performed on the entire semiconductor memory device by stressing the voltage and the ambient temperature to more severe conditions than actual use conditions.
상기 공정에서 양품으로 선별된 반도체 메모리 장치 Lot(일괄 처리되는 실리 콘 웨이퍼의 단위)에 대해 일정 개수의 샘플을 추출하여 장기적인 신뢰성을 확인하기 위하여 사용 조건을 더욱 가혹하게 하여 특별한 신뢰성 테스트를 한다. 이렇게 해서 문제가 있다고 판명된 Lot은 불량으로 판정해서 대상 Lot의 전체 반도체 메모리 장치가 불량품으로 되고 문제가 없다고 판명된 Lot만이 제품으로 출하된다. In the above process, a certain number of samples are extracted from the semiconductor memory device Lot (unit of the silicon wafer to be processed in batches) selected as a good product, and the use conditions are further severed to confirm long-term reliability. In this way, a lot determined to be a problem is judged to be defective, and the whole semiconductor memory device of the target lot becomes a defective product, and only a lot that turns out to be a problem is shipped as a product.
이와 같이 패키지 상에서의 신뢰성 검증을 위해 다수의 패키지된 반도체 메모리 장치를 번-인 보드(Burn-In Board)상의 소켓에 셋팅하여 이 보드 전체를 MBT 장비(Monitoring Burn-In Test System) 안에서 일정시간 동안 각각의 반도체 메모리 장치에 극한 환경 즉, 전기적 신호 및 열을 인가하여 반도체 메모리 장치 기능의 신뢰성을 검증하는 테스트를 "MBT 테스트" 라고 한다.In order to verify the reliability of the package, a plurality of packaged semiconductor memory devices are set in sockets on a burn-in board, and the entire board is kept in a monitoring burn-in test system for a predetermined time. The test for verifying the reliability of the semiconductor memory device function by applying an extreme environment, that is, an electrical signal and heat to each semiconductor memory device, is referred to as an "MBT test".
그런데, MBT 테스트를 완료하였을 때 EDS 분리(split) 등이 없음에도 불구하고 Lot별로 수율 편차가 심하게 나는 경우도 있고, MBT 테스트 이후에 나오는 불량 칩들이 정상적인 번-인 스트레스에 의한 것인지 아니면 과도한 전압의 오버 스트레스(over stress)에 의한 오버 킬(overkill) 현상인지의 여부가 논란이 되는 경우가 많다. 그러나 현재의 분석 방법으로는 이를 확인할 방법이 없어 페일된 칩에 대하여 정상적인 스트레스를 가했다는 가정 하에서 번-인 저하(degradation)로 결론짓는 경우가 대부분이고 설사 수율이 심하게 나빠져도 이를 감수하고 계속 패키지 상에서의 번-인을 진행하고 있는 실정이다. However, even when there is no EDS split when the MBT test is completed, there is a case in which the yield variation varies by lot, and the defective chips after the MBT test are caused by normal burn-in stress or excessive voltage It is often controversial whether it is an overkill phenomenon caused by over stress. However, current analytical methods do not have a way to confirm this, which often leads to burn-in degradation under the assumption that normal stress is applied to the failed chip. The situation is going on burn-in.
도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 승압 전압을 직접 모니터링 하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도로서, 반도체 메모리 장치(10), 자동 테스트 장비(20) 를 구비한다. 반도체 메모리 장치(10)는 승압 전압 발생기(11), 모드 설정부(12), 인버터(INV), 전송 게이트(13), 전원 전압 핀(10-1), 어드레스 핀(10-2), 승압 전압 출력 핀(10-3)을 구비하고, 전송 게이트(13)는 한 개의 PMOS 트랜지스터(P1)와 한 개의 NMOS 트랜지스터(N1)로 구성된다. 승압 전압 출력 핀(10-3)으로는 통상의 정상 동작시에 큰 역할을 수행하지 않는 핀으로서 본 실시예에서는 데이터 마스크(DM) 핀을 예시하여 설명한다.1 is a schematic circuit diagram of a test system for directly monitoring a boosted voltage of a conventional semiconductor memory device, and includes a
도 1에서 전송 게이트(13) 내 PMOS 트랜지스터(P1)의 소오스 및 벌크와 NMOS 트랜지스터(N1)의 드레인은 접속되어 승압 전압(VPP)이 인가되고, PMOS 트랜지스터(P1)의 드레인과 NMOS 트랜지스터(N1)의 소오스는 접속되어 승압 전압 출력 핀(10-3)에 연결된다. PMOS 트랜지스터(P1)의 게이트에는 인버터(INV)에 의해 반전된 테스트 모드 설정 신호(/TMRS)가 제어 신호로서 인가되고 NMOS 트랜지스터(N1)의 게이트에는 테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 제어 신호로서 인가된다.In FIG. 1, the source and bulk of the PMOS transistor P1 in the
도 1에 나타낸 종래의 반도체 메모리 장치의 내부에서 직접 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템의 각 블록들의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each block of the test system for directly monitoring the boost voltage in the conventional semiconductor memory device illustrated in FIG. 1 will be described below.
승압 전압 발생기(11)는 전원 전압 핀(10-1)을 통해 외부 전원 전압(VDD)을 인가받아 반도체 메모리 장치(10) 내 트랜지스터의 문턱 전압 손실을 보충하기 위하여 외부 전원 전압(VDD)보다 높은 승압 전압(VPP)을 발생한다.The
모드 설정부(12)는 어드레스 핀(10-2)을 통하여 인가되는 모드 설정 신호를 인가받아 내부 클럭신호에 응답하여 디코딩한 후에 테스트 모드 설정 신호(TMRS)를 발생한다.The
전송 게이트(13)는 승압 전압(VPP)을 인가받아 테스트 모드 설정 신호(TMRS)의 제어에 따라 스위칭 동작을 하여 승압 전압 출력 핀(10-3)으로 전달한다.The
자동 테스트 장비(20)는 반도체 메모리 장치들이 자동으로 테스트가 가능하도록 패키지를 다루고 테스트 항목의 목적에 따라 특별한 온도가 요구될 경우 요구되는 온도 환경을 제공한다.The
도 1에 나타낸 종래의 반도체 메모리 장치의 내부에서 직접 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the test system for directly monitoring the boosted voltage inside the conventional semiconductor memory device shown in FIG.
번-인 테스트 모드에 진입하기 위하여 승압 전압 발생기(11)는 외부 전원 전압(VDD)을 인가받아 일정한 전압 레벨 이상으로 전압을 승압시킨다. In order to enter the burn-in test mode, the
전송 게이트(13) 내 PMOS 트랜지스터(P1)와 NMOS 트랜지스터(N1)의 게이트에 인가되는 테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 만일 하이 레벨인 경우에는 PMOS 트랜지스터(P1)와 NMOS 트랜지스터(N1)가 모두 턴 온 되어 인가받은 승압 전압(VPP)을 승압 전압 출력 핀(10-3)으로 전달하고, 테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 로우 레벨인 경우에는 PMOS 트랜지스터(P1)와 NMOS 트랜지스터(N1)가 모두 턴 오프 되어 인가받은 승압 전압(VPP)이 승압 전압 출력 핀(10-3)으로 전달되지 못한다.If the test mode setting signal TMRS applied to the gates of the PMOS transistor P1 and the NMOS transistor N1 in the
자동 테스트 장비(20)는 승압 전압 출력 핀(10-3)을 통해 전달된 승압 전압(VPP)의 전압 레벨을 측정하여 계속 모니터링 하여 외부 전원 전압(VDD)을 통해 과도한 스트레스 전압이 인가되는 것을 방지하는 동시에 번-인 테스트 항목의 목적에 따라 요구되는 높은 온도 환경을 제공한다. The
그런데, 전송 게이트(13) 내 PMOS 트랜지스터(P1)의 벌크 전압으로 승압 전 압을 사용하는 경우 반도체 메모리 장치(10)를 동작시키기 위해 외부 전원 전압(VDD)을 인가하는 파워 업(Power up)시에 벌크 전압이 승압 전압 출력 핀(10-3)에 인가되는 외부 전원 전압(VDD)보다 낮은 전압 레벨이 되어 PMOS 트랜지스터(P1)의 드레인 측에서 소오스 측으로 누설 전류가 발생하는 문제점이 발생한다. However, in the case where the boost voltage is used as the bulk voltage of the PMOS transistor P1 in the
즉, 저전력의 절전 모드가 필요한 휴대용 전자 기기 등에 종래의 반도체 메모리 장치를 사용하는 경우 절전 모드에서 소오스 측인 승압 전압(VPP) 레벨이 하강하게 되면 외부 전원 전압(VDD)이 인가되는 드레인 측보다 소오스 측과 연결되어 있는 벌크 측이 더 낮은 전압 레벨이 되고 이에 따라 드레인 측에서 벌크 측으로 PN 접합 다이오드가 형성되어 직류의 누전 전류가 흐르게 되는 현상이 발생한다.That is, when using a conventional semiconductor memory device for a portable electronic device that requires a low power save mode, when the boosted voltage VPP level, which is the source side, decreases in the power save mode, the source side of the source side is more than the drain side to which the external power supply voltage VDD is applied. The bulk side connected to is at a lower voltage level, and thus a PN junction diode is formed from the drain side to the bulk side, causing a leakage current of DC to flow.
이에 따라 PMOS 트랜지스터(P1)의 게이트와 드레인간 전압이 감소되어 PMOS 트랜지스터의 문턱 전압보다 낮은 전압 레벨까지 감소됨으로써 턴 오프 상태에 있어야 하는 PMOS 트랜지스터(P1)가 비정상적으로 턴 온되는 오동작이 발생할 가능성이 있었다. As a result, the voltage between the gate and the drain of the PMOS transistor P1 is reduced to a voltage level lower than the threshold voltage of the PMOS transistor, thereby causing a malfunction in which the PMOS transistor P1, which should be turned off, may be abnormally turned on. there was.
만일 PMOS 트랜지스터(P1)의 벌크 전압으로 외부 전원 전압(VDD)을 사용하는 경우에는 PMOS 트랜지스터(P1)의 소오스 측에 승압 전압(VPP)이 인가되므로 번-인 테스트시 인가된 고전압이 워드 라인 드라이버와 같은 회로에서 이중 부트스트래핑(Bootstrapping)에 의하여 내부적으로 더욱 상승하여 과도한 스트레스 전압이 인가되게 되면 PMOS 트랜지스터(P1)의 소오스 측에서 게이트 측으로 과전류가 흐르게 되어 반도체 메모리 장치(10)가 파괴되는 래치 업 현상이 발생할 가능성이 있었다.If the external power supply voltage VDD is used as the bulk voltage of the PMOS transistor P1, the boosted voltage VPP is applied to the source side of the PMOS transistor P1, so that the high voltage applied during the burn-in test is a word line driver. In the same circuit as above, when the internal voltage is further increased by double bootstrapping, and an excessive stress voltage is applied, an overcurrent flows from the source side of the PMOS transistor P1 to the gate side, thereby causing latch-up of the
본 발명의 목적은 반도체 메모리 장치의 패키지 상태에서 번-인 테스트시 보다 안정적으로 승압 전압의 레벨을 모니터링 하여 불량 칩들이 과도한 스트레스에 의한 것인지 여부를 정확하게 판단하여 테스트하고, 외부로부터 인가되는 안정된 기준 전압과 비교하여 승압 전압 레벨을 자체적으로 조절하는 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 테스트 시스템을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to monitor the level of the boosted voltage more stably during the burn-in test in the package state of the semiconductor memory device, to accurately determine whether the bad chips are due to excessive stress, and to test the stable reference voltage applied from the outside. The present invention provides a semiconductor memory device and a test system for the device, which self-adjust the boosted voltage level.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 테스트 시스템은 외부 전원 전압을 인가받아 승압 전압을 내부적으로 발생하고 외부로부터 기준 전압을 인가받아 승압 전압과 기준 전압의 레벨을 비교하여 비교 결과 출력 신호를 출력하는 반도체 메모리 장치 및 기준 전압을 발생하고 비교 결과 출력 신호를 인가받아 반도체 메모리 장치의 패키지 테스트 공정에서 과도한 테스트용 전압이 인가되는지 여부를 모니터하는 테스트 장비를 구비하는 것을 특징으로 한다.The test system of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is to generate a boosted voltage internally by receiving an external power supply voltage and to compare the level of the boosted voltage and the reference voltage by receiving a reference voltage from the outside to compare the output signal. And a test equipment for generating a reference voltage and a reference voltage and receiving an output signal as a result of the comparison to monitor whether an excessive test voltage is applied in a package test process of the semiconductor memory device.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 외부 전원 전압을 인가받아 내부에서 필요로 하는 승압 전압을 발생하는 승압 전압 발생기, 외부로부터 모드 설정 신호를 인가받아 디코딩한 후에 테스트 모드 동작의 수행 여부를 결정하는 테스트 모드 설정 신호를 발생하는 모드 설정부, 양의 입력 단자에 승압 전압을 인가받고 음의 입력 단자에 기준 전압을 입력핀을 통해 인가받아 전압 레벨을 비교하여 비교 결과 출력 신호를 출력 핀을 통하여 출력하는 비교기를 구비하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is a boosted voltage generator for generating a boost voltage required internally by receiving an external power supply voltage, whether the test mode operation is performed after receiving and decoding a mode setting signal from the outside. A mode setting unit for generating a test mode setting signal for determining a voltage, by applying a boosted voltage to a positive input terminal and applying a reference voltage to a negative input terminal through an input pin, comparing the voltage levels, and outputting a comparison result output signal. It characterized in that it comprises a comparator for outputting through.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 일측이 승압 전압 발생기의 출력단에 연결되고 타측이 접지되어 있는 복수개의 직렬 저항들로 구 성되어, 복수개의 직렬 저항들 중 소정의 두 개의 저항들 사이의 접점에서 승압 전압을 분배하는 전압이 발생하여 비교기의 양의 입력 단자에 인가되는 전압 분배기를 더 구비할 수 있는 것을 특징으로 한다.The semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is composed of a plurality of series resistors, one side of which is connected to the output terminal of the boosted voltage generator and the other side of which is grounded, so that any two of the plurality of series resistors are selected. A voltage divider may be further generated at the contact point between the voltage divider and the voltage divider applied to the positive input terminal of the comparator.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 비교기는 승압 전압의 레벨이 기준 전압의 레벨보다 높으면 하이 레벨의 비교 결과 출력 신호를 발생하고 승압 전압의 레벨이 기준 전압의 레벨보다 낮으면 로우 레벨의 비교 결과 출력 신호를 발생하는 것을 특징으로 한다.The comparator of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object generates an output signal as a result of a high level comparison when the level of the boosted voltage is higher than the level of the reference voltage, and low level if the level of the boosted voltage is lower than the level of the reference voltage. The result of the comparison is characterized in that the output signal is generated.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 테스트 시스템의 테스트용 전압은 반도체 메모리 장치의 번-인 테스트 공정에서 초기 결함을 조기에 발견하기 위하여 외부 전원 전압을 실제 사용 조건보다 더욱 열악한 조건으로 인가하는 스트레스 전압인 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the test voltage of the test system of the semiconductor memory device of the present invention is set so that the external power supply voltage is worse than the actual use condition in order to detect an early defect early in the burn-in test process of the semiconductor memory device. Characterized in that the stress voltage to be applied.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 비교 결과 출력 신호의 제어에 따라 승압 전압 발생기에서 승압 전압의 감압 또는 승압 여부를 제어하는 승압 전압 조절 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is characterized in that it further comprises a boosting voltage adjusting control unit for controlling whether or not the boosting voltage of the boosted voltage in the boosted voltage generator according to the control of the output signal as a result of the comparison.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 승압 전압 조절 제어부는 비교 결과 출력 신호가 하이 레벨이면 승압 전압 발생기의 승압 전압을 감압시킨 후에 출력되게 하는 제1 제어 신호를 출력하고, 비교 결과 출력 신호 값이 로우 레벨이면 승압 전압을 승압시킨 후에 출력되게 하는 제2 제어 신호를 출력하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the boosted voltage adjusting control unit of the semiconductor memory device of the present invention outputs a first control signal to be output after reducing the boosted voltage of the boosted voltage generator when the comparison result output signal is at a high level, and outputs the comparison result. If the signal value is a low level, it is characterized in that for outputting the second control signal to be output after boosting the boosted voltage.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 반도체 메모리 장치의 테스트 시스템 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 테스트 시스템을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a test system of a semiconductor memory device, a semiconductor memory device using the same, and a test system of the device will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압을 기준 전압과 비교하여 모니터링 하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도로서, 반도체 메모리 장치(100), 자동 테스트 장비(200)를 구비한다. 반도체 메모리 장치(100)는 승압 전압 발생기(11), 모드 설정부(12), 비교기(130), 전원 전압 핀(100-1), 어드레스 핀(100-2), 기준 전압 입력 핀(100-3), 비교 결과 출력 핀(100-4)을 구비하고, 기준 전압 입력 핀(100-3)과 비교 결과 출력 핀(100-4)으로는 통상의 정상 동작시에 큰 역할을 수행하지 않는 핀들로서 본 실시예에서는 각각 클럭 인에이블 핀(CLE)과 데이터 마스크(DM) 핀을 예시하여 설명한다.FIG. 2 is a schematic circuit diagram of a test system for monitoring a boosted voltage in comparison with a reference voltage at a package level of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. The
도 2에 나타낸 본 발명의 제1 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템의 각 블록들의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each block of the test system for monitoring the boost voltage at the package level according to the first embodiment of the present invention shown in FIG.
승압 전압 발생기(11)는 전원 전압 핀(100-1)을 통해 외부 전원 전압(VDD)을 인가받아 반도체 메모리 장치 내 트랜지스터의 문턱 전압 손실을 보충하기 위하여 외부 전원 전압(VDD)보다 높은 승압 전압(VPP)을 발생한다.The boosted
모드 설정부(12)는 어드레스 핀(100-2)을 통하여 인가되는 모드 설정 신호(A[14:0])를 인가받아 내부 클럭신호에 응답하여 디코딩한 후에 테스트 모드 설정 신호(TMRS)를 발생한다.The
비교기(130)는 (+)입력 단자에 승압 전압 발생기(11)로부터 승압 전압(VPP) 을 인가받고 (-)입력 단자에 자동 테스트 장비(200)로부터 안정된 기준 전압(Vref)을 인가받아 테스트 모드 설정 신호(TMRS)의 제어에 따라 전압 레벨을 비교하여 플래그 출력 신호(flag)를 발생한다.The
자동 테스트 장비(200)는 반도체 메모리 장치(100)의 기준 전압 입력 핀(100-3)을 통하여 기준 전압(Vref)을 인가하고, 비교 결과 출력 핀(100-4)을 통하여 비교기(130)의 플래그 출력 신호(flag)를 인가받아 반도체 메모리 장치(100)의 패키지 테스트 공정에서 외부 전원 전압(VDD)을 통해 과도한 스트레스 전압이 인가되는지 여부를 모니터링 한다.The
도 2를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 2 describes the operation of the test system for monitoring the boosted voltage at the package level according to the first embodiment of the present invention.
모드 설정부(12)는 어드레스 핀(100-2)을 통하여 모드 설정 신호(A[14:0])를 인가받아 외부에서 인가되는 클럭 신호를 버퍼한 내부 클럭신호에 응답하여 디코딩한 후에 테스트 모드 동작의 수행 여부를 결정하는 테스트 모드 설정 신호(TMRS)를 발생한다.The
테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 정상 모드 동작인 코드 조합에서는 본 발명의 테스트 시스템이 작동하지 않고 테스트 모드 동작인 코드 조합에서만 본 발명의 테스트 시스템이 작동한다. In the code combination in which the test mode setting signal TMRS is the normal mode operation, the test system of the present invention operates only in the code combination in the test mode operation.
이하에서는 테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 테스트 모드 동작의 수행을 요구하는 코드 조합으로 인가된 것으로 설정하고 설명하기로 한다.Hereinafter, the test mode setting signal TMRS is set and applied as a code combination that requires the test mode operation to be performed.
번-인 테스트 모드에 진입하기 위하여 승압 전압 발생기(11)는 외부 전원 전 압(VDD)을 인가받아 일정한 전압 레벨 이상으로 전압을 승압시켜 출력하고, 자동 테스트 장비(200)는 반도체 메모리 장치(100)의 기준 전압 입력 핀(100-3)을 통하여 산포가 50 mV 이내인 안정된 기준 전압(Vref)을 인가한다.In order to enter the burn-in test mode, the boosted
비교기(130)는 승압 전압 발생기(11)로부터 승압 전압(VPP)을 인가받고 자동 테스트 장비(200)로부터 기준 전압(Vref)을 인가받아 테스트 모드 설정 신호(TMRS)의 제어에 따라 전압 레벨을 비교하여 플래그 출력 신호(flag)를 발생하는데, 승압 전압(VPP) 레벨이 기준 전압(Vref) 레벨보다 높으면 하이 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 발생하고 승압 전압(VPP) 레벨이 기준 전압(Vref) 레벨보다 낮으면 로우 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 발생한다.The
예를 들어, 자동 테스트 장비(200)에서 기준 전압 입력 핀(100-3)을 통하여 기준 전압(Vref)으로 2V 로 설정하여 인가하였는데 승압 전압 발생기(11)에서 4V 의 승압 전압(VPP)이 출력되었다고 가정한다.For example, the
비교기(130)의 제어단에는 테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 테스트 모드 동작의 수행을 요구하는 코드 조합으로 인가되고, (-) 입력단에는 2V의 기준 전압(Vref)이 인가되고 (+) 입력단에는 4V의 승압 전압(VPP)이 인가되어 크기를 비교하여 하이 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 출력한다. 자동 테스트 장비(200)는 다시 비교 결과 출력 핀(100-4)을 통하여 하이 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 인가받았으므로 외부 전원 전압(VDD)을 통해 과도한 스트레스 전압이 인가된 것으로 판별하게 된다.The test mode setting signal TMRS is applied to the control terminal of the
이에 따라 반도체 메모리 테스트 엔지니어는 패키지 번-인 테스트 공정에서 스트레스 전압을 하강시켜 외부 전원 전압(VDD)을 인가하여 적절한 스트레스 전압으로 반도체 메모리 장치를 테스트함으로써 칩의 불필요한 오버 킬(overkill) 현상을 방지하게 된다.As a result, semiconductor memory test engineers drop the stress voltage during the package burn-in test process to apply an external power supply voltage (VDD) to test the semiconductor memory device at an appropriate stress voltage to prevent unnecessary overkill of the chip. do.
다음으로, 도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압을 기준 전압과 비교하여 모니터링 하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도로서, 도 2에 나타낸 본 발명의 제1 실시예의 구성에서 승압 전압 발생기(11)와 비교기(130) 사이에 전압 분배기(140)를 추가하여 구비한다. 3 is a schematic circuit diagram of a test system for monitoring a boosted voltage in comparison with a reference voltage at a package level of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. In the example configuration, a
전압 분배기(140)는 2개 이상의 직렬 저항들로 구성되어 일측은 승압 전압 발생기(11)의 출력단에 연결되고 타측은 접지되어 있으며 소정의 2개의 저항들 사이의 접점에서 출력 전압이 발생하여 비교기(130)의 (+)단자에 인가된다. 도 3에서는 이해의 편의를 위하여 저항 값이 동일한 2개의 저항들(R1, R2)을 이용하여 승압 전압(VPP)을 2분주하는 전압 분배기(140)를 예시하여 설명한다.The
도 3에 나타낸 본 발명의 제2 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템의 각 블록들의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each block of the test system for monitoring the boosted voltage at the package level according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3 is as follows.
승압 전압 발생기(11)의 승압 전압(VPP) 발생, 모드 설정부(12)의 테스트 모드 설정 신호(TMRS) 발생, 비교기(130)의 승압 전압(VPP)과 기준 전압(Vref)의 레벨 비교 및 플래그 출력 신호(flag) 발생, 자동 테스트 장비(200)의 기준 전압(Vref) 인가 및 과도한 스트레스 전압의 인가 여부 모니터링 동작은 도 2에 나타낸 본 발명의 제1 실시예와 동일하므로 여기에서는 상세한 설명을 생략한다.Generation of boosted voltage VPP of boosted
차이점은 비교기(130)의 입력단에 고전압이 인가되므로 승압 전압(VPP)을 2 분주하는 전압 분배기(140)를 승압 전압 발생기(11)의 출력단과 비교기(130)의 입력단 사이에 삽입함으로써 비교기(130)에 인가될 승압 전압(VPP)을 1/2로 하강시켜 분배 전압(Vdiv)을 인가한다는 점이다. The difference is that since a high voltage is applied to the input terminal of the
따라서, 워드 라인 드라이버와 같은 회로에서 번-인 테스트시 인가된 고전압이 내부적으로 더욱 상승하여 과도한 스트레스 전압이 인가될 위험에 대하여 상기와 같은 전압 강하 수단을 별도로 구비하고 외부로부터 안정된 기준 전압을 인가받아 승압되는 전압을 계속 모니터링하면서 과도한 스트레스가 인가되는 것과 급격한 과전류의 인가로 인한 래치 업 현상을 방지할 수 있다.Therefore, in a circuit such as a word line driver, a high voltage applied during burn-in test is further increased internally to provide an excessive stress voltage and a voltage drop means as described above and a stable reference voltage are applied from the outside. Continuous monitoring of the boosted voltage prevents latching up due to excessive stress and rapid overcurrent.
본 실시예에서는 이해의 편의를 위하여 2개의 저항들을 이용하여 승압 전압을 2분주하는 전압 분배기를 예시하여 설명하였으나, 3개 이상의 저항들을 이용하여 고전압의 승압 전압을 3분주 이상의 저전압으로 분배하는 전압 분배기를 구현할 수 있음은 당연하다.In the present embodiment, for convenience of understanding, the voltage divider divides the boosted voltage by two resistors by using two resistors. However, the voltage divider divides the boosted voltage of the high voltage into three or more low voltages by using three or more resistors. Of course it can be implemented.
상기에서는 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압 발생기의 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템을 실시예로 하여 설명하였지만, 반도체 메모리 장치 내 승압 전압 발생기 외의 직류 전압 발생기의 직류 전압 또는 직류 전류 발생기의 직류 전류 등을 모니터링 하는 테스트 시스템을 구현할 수 있음은 당연하다.In the above, the test system for monitoring the boosted voltage of the boosted voltage generator at the package level of the semiconductor memory device has been described as an embodiment. However, the DC voltage of the DC voltage generator other than the boosted voltage generator in the semiconductor memory device or the DC current of the DC current generator, etc. Obviously, you can implement a test system to monitor this.
다음으로 도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압 레벨을 기준 전압과 비교하여 자체 조절하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도로서, 반도체 메모리 장치(100), 자동 테스트 장비(200)를 구비한다. 4 is a schematic circuit diagram of a test system for self-adjusting a boosted voltage level at a package level of a semiconductor memory device compared to a reference voltage according to a third embodiment of the present invention.
반도체 메모리 장치(100)는 승압 전압 발생기(110), 모드 설정부(12), 비교기(130), 승압 전압 조절 제어부(150), 전원 전압 핀(100-1), 어드레스 핀(100-2), 기준 전압 입력 핀(100-3), 비교 결과 출력 핀(100-4)을 구비하고, 기준 전압 입력 핀(100-3)과 비교 결과 출력 핀(100-4)으로는 통상의 정상 동작시에 큰 역할을 수행하지 않는 핀들로서 본 실시예에서는 각각 클럭 인에이블(CLE) 핀과 데이터 마스크(DM) 핀을 예시하여 설명한다.The
도 4에 나타낸 본 발명의 제3 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압 레벨을 자체 조절하는 테스트 시스템의 각 블록들의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each block of the test system for self-adjusting the boosted voltage level at the package level according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 4 is as follows.
도 4에서 모드 설정부(12), 비교기(130), 자동 테스트 장비(200)의 기능은 도 2에 나타낸 본 발명의 제1 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압을 모니터링 하는 테스트 시스템에서의 기능과 동일하므로 여기에서는 상세한 설명을 생략한다.In FIG. 4, the functions of the
차이점은 비교기(130)로부터 플래그 출력 신호(flag)를 인가받아 플래그 출력 신호(flag)의 제어에 따라 승압 전압 발생기(110)로 하여금 과도한 스트레스 전압을 발생하지 않도록 최적의 승압 전압(VPP)으로 승압 또는 감압하여 출력하도록 하는 제어 신호를 출력하는 승압 전압 조절 제어부(150)를 추가적으로 구비한다는 점과 승압 전압 발생기(110)가 승압 전압 조절 제어부(150)로부터 제어 신호(CON1, CON2)를 인가받아 최적의 승압 전압(VPP)으로 자체적으로 승압 전압(VPP)의 레벨을 조절하여 출력한다는 점이다. The difference is that the booster voltage generator 110 is boosted to the optimum booster voltage VPP so that the booster voltage generator 110 does not generate excessive stress under the control of the flag output signal from the
도 4를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압 레벨을 자체 조절하는 테스트 시스템의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 4, the operation of the test system for self-adjusting the boosted voltage level at the package level according to the third embodiment of the present invention will be described below.
통상의 경우 반도체 메모리 장치(100) 내 직류 발생기들(미도시)은 공정 전압 온도 산포(Process Voltage Temperature dispersion : PVT dispersion) 를 갖는데, 승압 전압 발생기(110)의 경우도 공정 산포로서 +/- 0.1V ~ 0.2V 정도를 갖는다. 이로 인하여 번-인 테스트시의 승압 전압(VPP)은 목표 레벨 대비 산포로 인한 오버 스트레스(over stress) 또는 언더 스트레스(under stress)가 발생할 가능성이 존재한다. In general, the DC generators (not shown) in the
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 웨이퍼 테스트 단계에서 승압 전압(VPP)의 측정 및 복구용 퓨즈를 이용한 레이저 복구를 통상 적용하고 있지만 본 발명의 패키지 레벨에서 승압 전압(VPP) 레벨을 모니터링 하는 테스트 시스템을 응용하면 보다 안정적인 복구가 가능하다. In order to solve such a problem, conventionally, laser recovery using a fuse for measuring and recovering a boosted voltage (VPP) is typically applied in a wafer test step, but a test system for monitoring a boosted voltage (VPP) level at a package level of the present invention. Application can be more stable recovery.
왜냐하면 자동 테스트 장비(200)에서 기준 전압(Vref)을 입력하는 경우 전압의 산포가 50 mV 이내로 안정적이므로 본 발명에서와 같이 이를 기준 전압(Vref)으로 하여 반도체 메모리 장치(100) 외부에서 인가받는다면 패키지 레벨에서 승압 전압(VPP) 레벨을 자체 조절하는 테스트 시스템의 구현이 가능하기 때문이다. Because when the reference voltage (Vref) is input from the
도 4에서 모드 설정부(12)의 테스트 모드 설정 신호(TMRS) 출력, 번-인 테스트 모드에 진입하기 위한 승압 전압 발생기(110)의 승압 전압(VPP) 출력, 자동 테스트 장비(200)의 기준 전압(Vref) 입력, 비교기(130)의 승압 전압(VPP)과 기준 전 압(Vref)의 전압 레벨 비교 및 플래그 출력 신호(flag) 발생 동작은 도 3에서 나타낸 본 발명의 제1 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압(VPP)을 모니터링 하는 테스트 시스템의 동작과 동일하므로 여기에서는 상세한 설명을 생략한다.In FIG. 4, the test mode setting signal TMRS output of the
승압 전압 조절 제어부(150)는 비교기(130)로부터 플래그 출력 신호(flag)를 인가받아 승압 전압 발생기(110)로 하여금 플래그 출력 신호(flag) 값이 하이 레벨이면 승압 전압(VPP)을 감압시킨 후에 출력되게 하는 제1 제어 신호(CON1)를 출력하고, 플래그 출력 신호(flag) 값이 로우 레벨이면 승압 전압(VPP)을 승압시킨 후에 출력되게 하는 제2 제어 신호(CON2)를 출력한다. The boosted
승압 전압 발생기(110)는 승압 전압 조절 제어부(150)로부터 제1 제어 신호(CON1)를 인가받아 승압 전압(VPP)을 감압시킨 후에 출력하여 과도한 스트레스 전압이 인가되지 않도록 하고, 제2 제어 신호(CON2)를 인가받아 승압 전압(VPP)을 승압시킨 후에 출력하여 일정 레벨 이하의 스트레스 전압이 인가되지 않도록 승압 전압(VPP)의 레벨을 자체적으로 조절한다.The boosted voltage generator 110 receives the first control signal CON1 from the boosted
예를 들어, 본 발명의 제1 실시예에서와 마찬가지로 자동 테스트 장비(200)에서 기준 전압 입력 핀(100-3)을 통하여 기준 전압(Vref)으로 2V 로 설정하여 인가하였는데 승압 전압 발생기(110)에서 4V 의 승압 전압(VPP)이 출력되었다고 가정한다.For example, as in the first exemplary embodiment of the present invention, the
비교기(130)의 제어단에는 테스트 모드 설정 신호(TMRS)가 테스트 모드 동작의 수행을 요구하는 코드 조합으로 인가되고, (-) 입력단에는 2V의 기준 전압(Vref)을 인가되며, (+) 입력단에는 4V의 승압 전압(VPP)이 인가되어 크기를 비 교하여 하이 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 출력한다. The test mode setting signal TMRS is applied to the control terminal of the
승압 전압 조절 제어부(150)는 비교기(130)로부터 하이 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 인가받았으므로 승압 전압 발생기(110)로 하여금 승압 전압(VPP)을 감압시킨 후에 출력하도록 하는 제1 제어 신호(CON1)를 출력한다. Since the boosted
승압 전압 발생기(110)는 승압 전압 조절 제어부(150)로부터 제1 제어 신호(CON1)를 인가받아 자체적으로 승압 전압(VPP)을 감압시킨 후에 출력함으로써 궁극적으로 번-인 테스트시의 승압 전압(VPP) 산포를 감소시킨다.The boosted voltage generator 110 receives the first control signal CON1 from the boosted
만일, 자동 테스트 장비(200)에서 기준 전압(Vref)으로 2V 로 설정하여 인가하였는데 승압 전압 발생기(110)에서 1.5V 의 승압 전압(VPP)이 출력되었다고 가정한다면 비교기(130)에서는 양 전압의 레벨을 비교하여 로우 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 출력한다. If the
승압 전압 조절 제어부(150)는 비교기(130)로부터 로우 레벨의 플래그 출력 신호(flag)를 인가받으므로 승압 전압 발생기(110)로 하여금 승압 전압(VPP)을 승압시킨 후에 출력하도록 하는 제2 제어 신호(CON2)를 출력한다. The boosted
승압 전압 발생기(110)는 승압 전압 조절 제어부(150)로부터 제2 제어 신호(CON2)를 인가받아 자체적으로 승압 전압(VPP)을 승압시킨 후에 출력함으로써 4V의 승압 전압(VPP)이 인가되었을 때와 마찬가지로 궁극적으로 번-인 테스트시의 승압 전압(VPP) 산포를 감소시킨다.When the boosted voltage generator 110 receives the second control signal CON2 from the boosted
이때 승압 전압 발생기(110) 내에 전기적 퓨즈나 레지스터 등을 내장하여 상기 승압 또는 감압되어 조절된 승압 전압(VPP)의 레벨을 영구적으로 고정시켜 저장 하여 번-인 테스트시의 승압 전압(VPP) 산포를 안정적으로 감소시킬 수 있음은 당연하다. At this time, the voltage booster voltage generator 110 includes an electric fuse or a resistor to permanently fix the voltage level of the boosted or decompressed voltage boosted voltage VPP to permanently fix and store the voltage boosted voltage VPP during burn-in test. Naturally, it can be reduced stably.
다음으로, 도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따라 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압을 기준 전압과 비교하여 자체 조절하는 테스트 시스템의 개략적인 회로도로서, 도 4에 나타낸 본 발명의 제3 실시예의 구성에서 승압 전압 발생기(110)와 비교기(130) 사이에 전압 분배기(140)를 추가하여 구비한다. Next, FIG. 5 is a schematic circuit diagram of a test system for self-adjusting a boosted voltage at a package level of a semiconductor memory device in comparison with a reference voltage according to a fourth embodiment of the present invention. In the configuration of the embodiment, a
전압 분배기(140)는 2개 이상의 직렬 저항들로 구성되어 일측은 승압 전압 발생기(110)의 출력단에 연결되고 타측은 접지되어 있으며 소정의 2개의 저항들 사이의 접점에서 출력 전압이 발생하여 비교기(130)의 (+)단자에 인가된다. 도 5에서는 이해의 편의를 위하여 저항 값이 동일한 2개의 저항들(R1, R2)을 이용하여 승압 전압(VPP)을 2분주하는 전압 분배기(140)를 예시하여 설명한다.The
도 5에 나타낸 본 발명의 제4 실시예에 따라 패키지 레벨에서 승압 전압 레벨을 자체 조절하는 테스트 시스템의 각 블록들의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each block of the test system for self-adjusting the boosted voltage level at the package level according to the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 5 is as follows.
승압 전압 발생기(110)의 승압 전압(VPP) 발생, 모드 설정부(12)의 테스트 모드 설정 신호(TMRS) 출력, 비교기(130)의 승압 전압(VPP)과 기준 전압(Vref)의 레벨 비교 및 플래그 출력 신호(flag) 발생, 자동 테스트 장비(200)의 기준 전압(Vref) 인가 및 과도한 스트레스 전압의 인가 여부 모니터링 동작은 도 4에 나타낸 본 발명의 제3 실시예와 동일하므로 여기에서는 상세한 설명을 생략한다. Generation of the boosted voltage VPP of the boosted voltage generator 110, output of the test mode setting signal TMRS of the
차이점은 비교기(130)의 입력단에 고전압이 인가되므로 승압 전압(VPP)을 2 분주하는 전압 분배기(140)를 승압 전압 발생기(110)의 출력단과 비교기(130)의 입력단 사이에 삽입함으로써 비교기(130)에 인가될 승압 전압(VPP)을 1/2로 하강시켜 분배 전압(Vdiv)을 인가한다는 점이다. The difference is that since a high voltage is applied to the input terminal of the
본 실시예에서도 제2 실시예와 마찬가지로 이해의 편의를 위하여 2개의 저항들을 이용하여 승압 전압을 2분주하는 전압 분배기를 예시하여 설명하였으나, 3개 이상의 저항들을 이용하여 고전압의 승압 전압을 3분주 이상의 저전압으로 분배하는 전압 분배기를 구현할 수 있음은 당연하다. In the present embodiment, like the second embodiment, for convenience of understanding, the voltage divider divides the boosted voltage by two using two resistors. For example, the voltage divider of the high voltage boosted voltage using three or more resistors is divided into three or more divisions. Naturally, a voltage divider can be implemented that distributes to low voltages.
따라서, 번-인 테스트시 인가된 고전압이 내부적으로 더욱 상승하여 과도한 스트레스 전압이 인가될 위험에 대하여 상기와 같은 전압 강하 제어 회로를 별도로 구비하고 외부로부터 안정된 기준 전압을 인가받아 승압되는 전압을 계속 모니터링하면서 승압 전압 레벨을 조절함으로써 번-인 테스트시의 승압 전압 산포를 안정적으로 감소시킬 수 있다. 이에 따라 번-인 테스트시 과도한 전압 스트레스나 미비한 전압 스트레스 없이 적정한 전압 스트레스의 인가로 패키지 레벨에서 보다 정확한 테스트와 불량 칩의 보다 안정적인 복구가 가능해진다. Therefore, the voltage drop control circuit as described above is separately provided for the risk of excessive stress voltage being applied internally during the burn-in test, and the voltage boosted by a stable reference voltage from the outside is continuously monitored. By adjusting the boost voltage level, the boost voltage distribution during the burn-in test can be stably reduced. This allows more accurate testing at package level and more reliable recovery of bad chips at the package level by applying the appropriate voltage stress without excessive or minor voltage stress during burn-in tests.
상기에서는 반도체 메모리 장치의 패키지 레벨에서 승압 전압 발생기의 승압 전압을 자체 조절하는 테스트 시스템을 실시예로 하여 설명하였지만, 반도체 메모리 장치 내 승압 전압 발생기 외의 직류 전압 발생기의 직류 전압 또는 직류 전류 발생기의 직류 전류 등을 자체 조절하는 테스트 시스템을 구현할 수 있음은 당연하다.In the above description, the test system for self-adjusting the boosted voltage of the boosted voltage generator at the package level of the semiconductor memory device has been described as an embodiment. However, the DC voltage of the DC voltage generator other than the boosted voltage generator in the semiconductor memory device or the DC current of the DC current generator is described. It's no surprise that you can implement a test system that self-adjusts your back.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.
본 발명의 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 테스트 시스템은 번-인 테스트시 고전압의 승압 전압을 강하시키는 수단을 별도로 구비하고 외부로부터 인가되는 안정된 기준 전압과 비교하여 승압되는 전압을 계속 모니터링하면서 과도한 스트레스의 인가 및 급격한 과전류의 인가로 인한 래치 업 현상을 방지하고, 승압 전압 레벨을 자체적으로 조절함으로써 승압 전압 산포를 안정적으로 감소시켜 테스트 불량을 정확하게 해석하고 조기에 복구할 수 있다.The semiconductor memory device of the present invention and the test system of the device are provided with a separate means for lowering the boost voltage of the high voltage during burn-in test, and the excessive stress is maintained while continuously monitoring the boosted voltage in comparison with the stable reference voltage applied from the outside. By preventing latch-up due to application and rapid overcurrent, and self-adjusting the boost voltage level, the boost voltage distribution can be reliably reduced to accurately interpret and fail the test early.
Claims (13)
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060103089A KR20080036463A (en) | 2006-10-23 | 2006-10-23 | Semiconductor memory device and test system thereof |
Publications (1)
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|---|---|---|---|
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20061023 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |