[go: up one dir, main page]

KR20080007333A - Dimonium Compounds and Uses thereof - Google Patents

Dimonium Compounds and Uses thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20080007333A
KR20080007333A KR1020077024348A KR20077024348A KR20080007333A KR 20080007333 A KR20080007333 A KR 20080007333A KR 1020077024348 A KR1020077024348 A KR 1020077024348A KR 20077024348 A KR20077024348 A KR 20077024348A KR 20080007333 A KR20080007333 A KR 20080007333A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
resin
dimonium
compound
dimonium compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
KR1020077024348A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
타카아키 쿠라타
Original Assignee
니폰 가야꾸 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 filed Critical 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤
Publication of KR20080007333A publication Critical patent/KR20080007333A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/244Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
    • G11B7/246Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/46Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography characterised by the light-to-heat converting means; characterised by the heat or radiation filtering or absorbing means or layers
    • B41M5/465Infrared radiation-absorbing materials, e.g. dyes, metals, silicates, C black
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/30Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having nitrogen atoms of imino groups quaternised
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B53/00Quinone imides
    • C09B53/02Indamines; Indophenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/02Dyestuff salts, e.g. salts of acid dyes with basic dyes
    • C09B69/06Dyestuff salts, e.g. salts of acid dyes with basic dyes of cationic dyes with organic acids or with inorganic complex acids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

과제: 안티몬이나 비소를 함유하지 않고 우수한 안정성, 특히 내열성, 내광성, 내습열성을 갖는 근적외선 흡수 화합물, 근적외선 흡수 화합물을 사용하여 제작된 내열성 등이 우수한 적외선 흡수 필터, 광기록 매체를 제공한다. PROBLEM: To provide an infrared absorption filter and an optical recording medium which do not contain antimony or arsenic and which have excellent stability, in particular, a near infrared absorbing compound having heat resistance, light resistance, and heat and moisture resistance, and heat resistance produced using a near infrared absorbing compound.

해결수단: 하기 화학식(1)로 표시되는 디이모늄 화합물 및 이것을 사용하여 얻을 수 있는 근적외선 흡수 필터: Solution: A dimonium compound represented by the following formula (1) and a near infrared absorption filter obtained by using the same:

Figure 112007075742398-PCT00011
(1)
Figure 112007075742398-PCT00011
(One)

식(1) 중에서, In formula (1),

R1~R8 은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기이고, R9~R10 은 각각 독립적으로 할로겐 원자를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기이며, R11은 치환 또는 비치환의 아릴 기를 나타내고, 또 R 1 to R 8 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a hydrogen atom or a substituent, R 9 to R 10 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, and R 11 is a substituted or unsubstituted aryl Represents a group,

고리 A 및 고리 B는 치환기를 가질 수 있다. Ring A and Ring B may have a substituent.

Description

디이모늄 화합물 및 그의 용도{DIIMONIUM COMPOUNDS AND USE THEREOF}Dimonium compound and its use {DIIMONIUM COMPOUNDS AND USE THEREOF}

본 발명은 근적외영역에 흡수를 갖는 디이모늄 화합물 및 그의 용도에 관한 것이다. 특히 독극물에 해당되지 않고 내열성, 내광성 및 용해도 등이 우수하며 그 용도가 확대된 디이모늄 화합물 및 이것을 사용한 근적외선 흡수 필터, 광기록 매체 및 그의 수지 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to dimonium compounds having absorption in the near infrared region and the use thereof. In particular, the present invention relates to a dimonium compound, a near-infrared absorbing filter using the same, an optical recording medium, and a resin composition thereof, which are not poisons and are excellent in heat resistance, light resistance, solubility, and the like.

종래 근적외선 흡수제로서의 디이모늄 화합물은 널리 알려져 있고(예컨대 특허문헌 1~3 참조), 근적외선 흡수 필터, 단열 필름 및 썬글래스 등에 널리 이용되고 있다. 그러나, 이들 화합물 중에서, 대이온이 육플루오르화 안티몬산 이온, 육플루오르화 비소 이온 등인 것이 내열성이 우수하고, 그중에서도 육플루오르화 안티몬산 이온의 화합물이 주로 사용되고 있었다. 그러나, 안티몬을 포함하는 화합물은 독극물에 해당하기 때문에 최근 중금속 등의 사용이 규제를 받는 산업 분야, 특히 전기재료 분야에서는 이들의 금속을 포함하지 않는 화합물이 요망되고 있었다. 이것을 해결하기 위한 수단으로서 과염소산 이온, 육플루오르화 인산 이온, 붕소플루오르화 이온 등을 대이온으로서 사용하는 방법이 있지만, 내열성 및 내습열성을 고려하면 이들의 대이온으로는 불충분하다. 또한 나프탈렌디설폰산 등의 유기 대이온을 사용한 화합물도 제안되어 있지만(예컨대 특허문헌 2 참조), 몰 흡광계수가 낮고, 화합물 자체가 녹미를 띄고 있기 때문에 실제로 사용될 수 없었다. 또한 트리플루오로메탄설폰산 이온, 비스(트리플루오로메탄)설폰산 이미드 등을 사용한 것도 알려져 있지만(예컨대 특허문헌 1 참조), 이들로는 아직 충분한 내열성 및 내습열성을 갖고 있다고 말할 수 없어(예컨대 특허문헌 4 및 5 참조), 여전히 우수한 재료가 요망되고 있다. Conventionally, the dimonium compound as a near-infrared absorber is widely known (for example, refer patent documents 1-3), and is used widely in a near-infrared absorption filter, a heat insulation film, and sunglasses. However, among these compounds, it is excellent in heat resistance that a counter ion is a hex fluoride antimony acid ion, a hexa hexafluoride ion, etc., The compound of the hexafluoride antimonic acid ion was mainly used. However, since compounds containing antimony correspond to poisons, compounds that do not contain these metals have recently been desired in industrial fields in which use of heavy metals is regulated, particularly in the field of electrical materials. As a means to solve this problem, there is a method of using perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, boron fluoride ions, etc. as counter ions, but these counter ions are insufficient in consideration of heat resistance and heat and moisture resistance. Moreover, although the compound using organic counterion, such as naphthalenedisulfonic acid, is also proposed (for example, refer patent document 2), since the molar extinction coefficient is low and the compound itself is lustrous, it cannot actually be used. It is also known to use trifluoromethanesulfonic acid ions, bis (trifluoromethane) sulfonic acid imides, and the like (see Patent Document 1, for example), but these cannot be said to have sufficient heat resistance and heat and humidity resistance. For example, see Patent Documents 4 and 5), still excellent materials are desired.

특허문헌 1: 일본 특공평 7-51555호 공보 Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-51555

특허문헌 2: 일본 특개평 10-316633호 공보 Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-316633

특허문헌 3: 일본 특공소 43-25335호 공보 Patent Document 3: JP 43-25335

특허문헌 4: 국제 공개번호 WO2004/068199 Patent Document 4: International Publication No. WO2004 / 068199

특허문헌 5: 국제공개번호 WO2004/048480 Patent Document 5: International Publication No. WO2004 / 048480

발명의 개시 Disclosure of the Invention

발명이 해결하고자 하는 과제 Problems to be Solved by the Invention

본 발명은 이와 같은 상황을 감안하여 실시된 것으로 본 발명의 목적은 안티몬을 함유하지 않고 우수한 안정성, 특히 내열성, 내광성, 내습열성을 갖는 근적외선 흡수성 화합물, 이와 같은 화합물을 사용한 용해도 등이 우수하고 그 용도가 확대된 근적외선 흡수 필터(특히 플라즈마 디스플레이 패널용)을 제공하는 것, 또한 내후성 등의 내성이 우수한 광기록매체 및 수지조성물을 제공하는 것에 있다. The present invention has been carried out in view of such a situation, and an object of the present invention is to contain an antimony-free, near-infrared absorptive compound having excellent stability, particularly heat resistance, light resistance, and moist heat resistance, and excellent solubility using such a compound and its use. To provide an enlarged near-infrared absorption filter (particularly for plasma display panels), and to provide an optical recording medium and a resin composition excellent in resistance to weathering and the like.

과제를 해결하기 위한 수단 Means to solve the problem

본 발명자들은 상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 예의 노력한 결과, 특정구조를 갖는 디이모늄 화합물이 상기 과제를 해결하는 것을 발견하고 본 발명을 완성하였다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnest effort in order to solve the above subjects, the present inventors discovered that the dimonium compound which has a specific structure solved the said subject, and completed this invention.

즉, 본 발명은 다음에 관한 것이다: That is, the present invention relates to:

(1) 하기 화학식(1)로 표시되는 디이모늄 화합물:(1) Dimonium compound represented by following General formula (1):

Figure 112007075742398-PCT00001
Figure 112007075742398-PCT00001

식(1) 중에서, In formula (1),

R1~R8 은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기이고, R9~R10 은 각각 독립적으로 할로겐 원자를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기이며, R11은 치환 또는 비치환의 아릴 기이고, 또 R 1 to R 8 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a hydrogen atom or a substituent, R 9 to R 10 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, and R 11 is a substituted or unsubstituted aryl And

고리 A 및 고리 B는 치환기를 가질 수 있다. Ring A and Ring B may have a substituent.

(2) 화학식(1)의 R9~R10 이 플루오르 원자를 갖는 지방족 탄화수소기인 상기 (1)에 기재된 디이모늄 화합물, (2) the dimonium compound according to the above (1), wherein R 9 to R 10 in the formula (1) are aliphatic hydrocarbon groups having a fluorine atom;

(3) 화학식(1)의 R9~R10 이 트리플루오로메틸기인 상기 (2)에 기재된 디이모 늄 화합물, (3) the dimonium compound according to the above (2), wherein R 9 to R 10 of the formula (1) are trifluoromethyl groups;

(4) 화학식(1)의 R11이 펜타플루오로페닐기인 상기 (1) ~ (3) 중 어느 하나에 기재된 디이모늄 화합물, (4) the dimonium compound according to any one of the above (1) to (3), wherein R 11 of the formula (1) is a pentafluorophenyl group;

(5) 화학식(1)의 R1~R8 중 어느 하나가 1개의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬 기인 상기 (1) ~ (4)중 어느 하나에 기재된 디이모늄 화합물, (5) The dimonium compound according to any one of (1) to (4), wherein any one of R 1 to R 8 of the formula (1) is a linear or branched alkyl group,

(6) 화학식(1)의 R1~R8 가 전부 n-부틸기 또는 이소부틸기인 상기 (5)에 기재된 디이모늄 화합물, (6) the dimonium compound according to the above (5), wherein all of R 1 to R 8 of the formula (1) are n-butyl groups or isobutyl groups;

(7) 상기 (1) ~(6) 중 어느 하나에 기재된 디이모늄 화합물 및 수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물, (7) A resin composition comprising the dimonium compound according to any one of the above (1) to (6) and a resin,

(8) 상기 (1) ~(6) 중 어느 하나에 기재된 디이모늄 화합물을 함유하는 층을 갖는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필터, (8) Near-infrared absorption filter which has a layer containing the dimonium compound in any one of said (1)-(6),

(9) 상기 (8)에 기재된 근적외선 흡수 필터를 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이, 및 (9) A plasma display comprising the near infrared absorption filter according to (8) above, and

(10) 상기 (1) ~(6) 중 어느 하나에 기재된 디이모늄 화합물을 기록층에 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체. (10) An optical information recording medium comprising the dimonium compound according to any one of (1) to (6) in a recording layer.

발명의 효과 Effects of the Invention

본 발명의 근적외선 흡수성의 디이모늄 화합물은 안티몬 및 비소 등을 함유하지 않아 독극물에 해당되지 않으므로 몰 흡광계수가 9만 이상으로 높고, 내열성, 내광성 및 용해도 등이 우수한 화합물이다. 또한 종래의 육플루오르화 인산 이온, 과염소산 이온 또는 육플루오로화 이온을 갖는 디이모늄 염에 비하여 특히 내열성, 내습열성이 우수하다. 본 발명의 디이모늄 화합물을 사용한 근적외선 흡수 필터는 안티몬 등을 함유하지 않고, 내열성이 극히 우수한 근적외선 흡수 필터이고, 열에 의한 분해 등의 반응을 유발하기 어렵고, 가시부의 착색이 거의 확인되지 않는다. 이와 같은 특징을 갖는 점에서 본 발명의 디이모늄 화합물은 근적외선 흡수 필터나 예컨대 단열 필름 및 썬글래스와 같은 근적외선 흡수 필름에 적합하게 사용할 수 있고, 특히 플라즈마 디스플레이용 근적외선 흡수 필터에 적합하다. The near-infrared absorptive dimonium compound of the present invention does not contain antimony, arsenic, or the like and is not a poison, and thus has a high molar extinction coefficient of 90,000 or more, and is excellent in heat resistance, light resistance, and solubility. Moreover, compared with the conventional dimonium salt which has a hexafluorophosphate ion, a perchlorate ion, or a hexafluoride ion, it is especially excellent in heat resistance and heat and moisture resistance. The near-infrared absorption filter using the dimonium compound of this invention is a near-infrared absorption filter which does not contain antimony etc. and is extremely excellent in heat resistance, hardly induces reactions, such as decomposition | disassembly by heat, and coloring of a visible part is hardly confirmed. In view of such characteristics, the dimonium compound of the present invention can be suitably used for a near infrared absorbing filter or a near infrared absorbing film such as a heat insulating film and a sunglass, and is particularly suitable for a near infrared absorbing filter for a plasma display.

또한 본 발명의 광정보 기록매체는 종래의 디이모늄 화합물을 함유하는 광정보기록매체에 비하여 내광성을 대폭적으로 향상시킬 수 있다. 또한 이들 디이모늄 화합물은 광정보기록매체를 제조함에 있어서 용해도도 충분하고 가공성도 우수하다. 또한 예컨대 광정보기록매체의 기록층에 해당하는 유기색소 박막에 이 화합물을 함유시킨 경우, 반복 재생에서 내구성, 내광안정성을 현저히 향상시킨 광정보기록매체를 제공할 수 있다. In addition, the optical information recording medium of the present invention can significantly improve the light resistance compared to the optical information recording medium containing the conventional dimonium compound. These dimonium compounds also have sufficient solubility and excellent processability in producing an optical information recording medium. Further, in the case where the compound is contained in the organic dye thin film corresponding to the recording layer of the optical information recording medium, for example, an optical information recording medium having remarkably improved durability and light stability in repeated reproduction can be provided.

발명을 실시하기Implement the invention 위한 최선의 형태  Best form for

본 발명의 디이모늄 화합물은 디이모늄 양이온과 대이온으로서의 2개의 아릴비스(알킬설포닐)카르보닐 음이온을 갖는 염이고 상기 화학식(1)로 표시된다. The dimonium compound of the present invention is a salt having a dimonium cation and two arylbis (alkylsulfonyl) carbonyl anions as counter ions and is represented by the above formula (1).

상기 화학식(1)에서, R1~R8은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기를 나타낸다. 지방족 탄화수소기라는 것은 포화 및 불포화 직쇄, 분기쇄 및 환상의 지방족 탄화수소로부터 수소원자 1개를 제외한 기를 의 미한다. 탄소수로서는 통상 1 내지 36개, 바람직하게는 탄소수가 1 내지 20인 것을 들 수 있다. In formula (1), R 1 to R 8 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group which may have a hydrogen atom or a substituent. Aliphatic hydrocarbon group means a group excluding one hydrogen atom from saturated and unsaturated linear, branched and cyclic aliphatic hydrocarbons. The carbon number is usually 1 to 36, preferably those having 1 to 20 carbon atoms.

치환기를 갖지 않는 포화 지방족 탄화수소 기 또는 불포화 지방족 탄화수소기의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n- 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, tert-펜틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 옥타데실기, 이소프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 비닐기, 아릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헥사디에닐기, 이소프로페닐기, 이소헥세닐기, 시클로헥세닐기, 시클로펜타디에닐기, 에티닐기, 프로피닐기, 펜티닐기, 헥시닐기, 이소헥시닐기, 시클로헥시닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것으로는 메틸기, 에틸기, n- 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, tert-펜틸기, 비닐기, 아릴기, 프로페닐기, 펜티닐기, 이소펜티닐기, tert-펜티닐기, 비닐기, 아릴기, 프로페닐기, 펜티닐기 등의 C1-C5의 직쇄, 분기쇄의 포화 지방족 탄화수소기 또는 불포화 지방탄화수소기 등을 들 수 있다. Specific examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group or unsaturated aliphatic hydrocarbon group having no substituent include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n- Pentyl group, isopentyl group, tert-pentyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, isopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, vinyl group, aryl group, propenyl group, butenyl group, pente Neyl group, hexenyl group, hexadienyl group, isopropenyl group, iso hexenyl group, cyclohexenyl group, cyclopentadienyl group, ethynyl group, propynyl group, pentynyl group, hexynyl group, isohexynyl group, cyclohexynyl group Etc. can be mentioned. Preferred among them are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group and tert-pentyl group C1-C5 straight, branched, saturated aliphatic hydrocarbon groups or unsaturated groups such as vinyl, aryl, propenyl, pentynyl, isopentinyl, tert-pentynyl, vinyl, aryl, propenyl and pentynyl groups Fatty hydrocarbon group etc. are mentioned.

본 발명에서 R1~R8 중 적어도 1개가 직쇄 또는 분기쇄 (C1-C6) 알킬기인 것, 또한 R1~R8 중 적어도 1개가 직쇄(C1-C3) 알킬기인 것이 바람직하고, 또 R1~R8 중 적어도 1개가 분기쇄의 알킬기인 것, 특히 R1~R8 가 전부 말단에서 분기되어 있는 알킬기인 것이 바람직하다. R1~R8 가 전부 말단에서 분기되어 있는 알킬기인 것으로 서는 R1~R8 가 전부 이소부틸기인 것이 특히 바람직하다. In the present invention, it is preferable that at least one of R 1 to R 8 is a straight chain or branched (C1-C6) alkyl group, and at least one of R 1 to R 8 is a straight chain (C1-C3) alkyl group, and R 1 It is preferable that at least 1 of -R <8> is a branched alkyl group, in particular, R <1> -R <8> is the alkyl group which is branched at the whole terminal. R 1 ~ R 8 R standing by is a group which is branched from all terminal 1 ~ R 8 all are iso-butyl group is especially preferred.

치환기를 갖는 지방족 탄화수소기에 따른 치환기로서는 예컨대 할로겐 원자(예, F,Cl, Br), 히드록실기, 알콕시 기(예컨대 메톡시기, 에톡시, 이소부톡시기 등), 알콕시알콕시기(예, 메톡시에톡시기 등), 아릴기(예, 페닐기, 나프틸기 등, 이 아릴기는 또한 치환기를 가질 수 있다), 아릴옥시기(예, 페녹시 기 등), 아실옥시 기(예, 아세틸옥시기, 부틸옥시기, 헥실옥시기, 벤조일옥시기 등, 아릴옥시기, 및 벤조일옥시기 포함하는 아릴로일 옥시기는 또한 치환기를 가져도 좋다), 아미노기, 알킬 치환 아미노기(예, 메틸아미노기, 디메틸아미노기 등), 시아노 기, 니트로기, 카르복실기, 카본아미드기, 알콕시카르보닐기(예, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등), 아실기, 아실아미드기(예, 아세트아미드 기 등), 설폰아미드 기(예, 메탄설폰아미드기 등), 설포기를 들 수 있다. 이들 치환기 중, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 히드록실기, 카르복실기, 카본아미드기, 알콕시카르보닐기, 아실기, 아릴기 또는 알콕시 기 등이 바람직하다. Substituents according to aliphatic hydrocarbon groups having a substituent include, for example, halogen atoms (e.g., F, Cl, Br), hydroxyl groups, alkoxy groups (e.g., methoxy groups, ethoxy, isobutoxy groups, etc.), alkoxyalkoxy groups (e.g., methoxy Ethoxy groups, etc.), aryl groups (e.g., phenyl groups, naphthyl groups, such aryl groups may also have substituents), aryloxy groups (e.g., phenoxy groups, etc.), acyloxy groups (e.g., acetyloxy groups, The aryloxy group including the butyloxy group, hexyloxy group, benzoyloxy group, and the benzoyloxy group may further have a substituent, an amino group, an alkyl substituted amino group (e.g., methylamino group, dimethylamino group, etc.) ), Cyano group, nitro group, carboxyl group, carbonamide group, alkoxycarbonyl group (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), acyl group, acylamide group (e.g. acetamide group, etc.), sulfonamide group (e.g. , Methanesulfonamide groups, etc.), sulfo groups Can be mentioned. Among these substituents, a halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, carboxyl group, carbonamide group, alkoxycarbonyl group, acyl group, aryl group or alkoxy group is preferable.

이들의 치환기는 각각 독립하여 존재할 수 있고, 예컨대 1개의 아미노기에 무치환의 직쇄 알킬기와 시아노 치환 알킬기가 치환된 것, 무치환의 분기쇄 알킬기와 시아노 치환 알킬기가 치환된 것, 무치환의 직쇄 알킬기 또는 무치환의 분기쇄 알킬기가 치환된 것이어도 좋다. These substituents may be present independently of each other, for example, an unsubstituted linear alkyl group and a cyano substituted alkyl group substituted with one amino group, an unsubstituted branched alkyl group and a cyano substituted alkyl group substituted, an unsubstituted The linear alkyl group or the unsubstituted branched alkyl group may be substituted.

치환기를 갖는 지방족 탄화수소기의 구체예로서는 시아노메틸기, 2-시아노에틸기, 3-시아노프로필기, 2-시아노프로필기, 4-시아노부틸기, 3-시아노부틸기, 2- 시아노부틸기, 5-시아노펜틸기, 4-시아노펜틸기, 3-시아노펜틸기, 2-시아노펜틸기, 3,4-디시아노부틸기 등의 시아노 치환(C1-C6) 알킬기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 3-메톡시프로필기, 3-에톡시프로필기, 4-메톡시부틸기, 4-에톡시부틸기, 5-에톡시펜틸기, 5-메톡시펜틸기 등의 알콕시 치환(C1~C6) 알킬기, 트리플루오로메틸기, 모노플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 테트라플루오로에틸기, 트리플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로부틸에틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로헥실에틸기, 퍼플루오로옥틸기, 퍼플루오로옥틸에틸기 등의 플루오르화(C1~C8) 알킬기 등을 들 수 있다. Specific examples of the aliphatic hydrocarbon group having a substituent include cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 3-cyanobutyl group, 2-cya Cyano-substituted (C1-C6) alkyl groups such as nobutyl group, 5-cyanopentyl group, 4-cyanopentyl group, 3-cyanopentyl group, 2-cyanopentyl group, 3,4-dicyanobutyl group, methoxy Alkoxy such as ethyl group, ethoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 4-ethoxybutyl group, 5-ethoxypentyl group, 5-methoxypentyl group Substituted (C1-C6) alkyl group, trifluoromethyl group, monofluoromethyl group, pentafluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorobutylethyl group Fluorinated (C1-C8) alkyl groups such as perfluorohexyl group, perfluorohexylethyl group, perfluorooctyl group, and perfluorooctylethyl group The can.

화학식(1)에서 R9~R10 은 서로 독립적으로 할로겐 원자를 가질 수 있는 지방족 탄화수소를 나타낸다. 지방족 탄화수소기로서는 포화 및 불포화 직쇄, 분기쇄 및 환상의 알킬기를 들 수 있고, 탄소수는 1 내지 36이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 치환기를 가질 수 있는 포화의 직쇄 알킬기로서 탄소수는 1 내지 20인 것을 들 수 있으며, 탄소수 1 내지 4개가 가장 바람직하다. 할로겐 원자로서는 플루오르, 염소, 브롬, 요오드 원자가 바람직하고, 또 플루오르, 염소, 브롬 원자가 바람직하며, 플루오르 원자가 가장 바람직하다. 구체적으로 예를 들면 R9~R10 이 각각 독립적으로 메틸기, 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 모노플루오로메틸기, 디클로로메틸기, 모노클로로메틸기, 디브로모메틸기, 디플루오로클로로메틸기, 에틸기, 펜타플루오로에틸기, 테트라플루오로에틸기, 트리플루오로에틸기, 트리플루오로클로로에틸기, 디플루오로에틸기, 모노플루오로에틸기, 트리플루오로요오도에 틸기, 프로필기, 헵타플루오로프로필기, 헥사플루오로프로필기, 펜타플루오로프로필기, 테트라플루오로프로필기, 트리플루오로프로필기, 디플루오로프로필기, 모노플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로옥틸기, 퍼플루오로옥틸에틸기 등의 포화 직쇄 알킬기, 아릴기, 테트라플루오로아릴기, 트리플루오로비닐기, 퍼플루오로부틸비닐기 등의 불포화 알킬기, 이소프로필기, 펜타플루오로이소프로필기, 헵타플루오로이소프로필기, 퍼플루오로-3-메틸부틸기, 퍼플루오로-3-메틸헥실기 등의 분기쇄 알킬기, 시클로헥실 기 등의 환상 알킬기 등을 들 수 있고, R9~R10 이 동일한 것이 바람직하다. 또한 R9및 R10 가 결합하여 환상의 알킬기를 형성할 수 있다. In formula (1), R 9 to R 10 represent an aliphatic hydrocarbon which may have a halogen atom independently of each other. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include saturated and unsaturated linear, branched, and cyclic alkyl groups, and the carbon number is preferably 1 to 36, more preferably a saturated straight chain alkyl group which may have a substituent. And 1-4 carbon atoms are the most preferable. As the halogen atom, fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms are preferred, fluorine, chlorine and bromine atoms are preferred, and fluorine atoms are most preferred. Specifically, for example, R 9 to R 10 each independently represent a methyl group, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, monofluoromethyl group, dichloromethyl group, monochloromethyl group, dibromomethyl group, difluorochloromethyl group, and ethyl group. Pentafluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, trifluoroethyl group, trifluorochloroethyl group, difluoroethyl group, monofluoroethyl group, trifluoroiodoethyl group, propyl group, heptafluoropropyl group, hexa Fluoropropyl group, pentafluoropropyl group, tetrafluoropropyl group, trifluoropropyl group, difluoropropyl group, monofluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluorohexyl group, perfluoro Unsaturated, such as saturated straight chain alkyl groups, such as an octyl group and a perfluorooctyl ethyl group, an aryl group, a tetrafluoroaryl group, a trifluorovinyl group, and a perfluoro butyl vinyl group Branched alkyl groups such as alkyl groups, isopropyl groups, pentafluoroisopropyl groups, heptafluoroisopropyl groups, perfluoro-3-methylbutyl groups, perfluoro-3-methylhexyl groups, and cyclohexyl groups A cyclic alkyl group etc. are mentioned, It is preferable that R <9> -R <10> is the same. In addition, R 9 and R 10 may be bonded to form a cyclic alkyl group.

R9~R10 가 공히 플루오르 원자를 갖는 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하고, 그의 구체예로서는 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 모노플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 테트라플루오로에틸기, 트리플루오로에틸기, 디플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 헥사플루오로프로필기, 펜타플루오로프로필기, 테트라플루오로프로필기, 트리플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 트리플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 테트라플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기 등이고, 또한 바람직하게는 트리플루오로메틸기이다. 상기 각 기에서 특히 한정되지 않는 한 알킬 부분은 직쇄이다. It is preferable that R 9 to R 10 are all an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, and specific examples thereof include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, monofluoromethyl group, pentafluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, and trifluoroethyl group. , Difluoroethyl group, heptafluoropropyl group, hexafluoropropyl group, pentafluoropropyl group, tetrafluoropropyl group, trifluoropropyl group, perfluorobutyl group, etc. are preferable. Trifluoromethyl group, difluoromethyl group, pentafluoroethyl group, trifluoroethyl group, heptafluoropropyl group, tetrafluoropropyl group, perfluorobutyl group and the like, and are preferably trifluoromethyl group. The alkyl moiety is straight chain unless specifically defined in each of the above groups.

R11은 치환 또는 비치환의 아릴 기를 나타내고, 그의 구체예로서는 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 크메닐기, 메시틸기, 크실릴기, 4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2,4,6-(트리플루오로메틸)페닐기, 펜타플루오로페닐기, 4-(펜타플루오로페닐)-2,3,5,6-테트라플루오로페닐기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 전자흡인성 아릴기인 4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2,4,6-(트리플루오로메틸)페닐기, 펜타플루오로페닐기, 4-(펜타플루오로페닐)-2,3,5,6-테트라플루오로페닐기를 들 수 있고, 특히 바람직하게는 펜타플루오로페닐기이다. R 11 represents a substituted or unsubstituted aryl group, and specific examples thereof include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a kmenyl group, a mesityl group, a xylyl group and a 4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2,4,6- (tri Fluoromethyl) phenyl group, pentafluorophenyl group, 4- (pentafluorophenyl) -2,3,5,6-tetrafluorophenyl group, etc. are mentioned. Preferably, 4- (trifluoromethyl) phenyl group, 2,4,6- (trifluoromethyl) phenyl group, pentafluorophenyl group, 4- (pentafluorophenyl) -2,3, which are electron-withdrawing aryl groups, 5,6-tetrafluorophenyl group is mentioned, Especially preferably, it is a pentafluorophenyl group.

화학식(1)에서 고리 A 및 고리 B는 각각 1,4-위치 이외에 1 내지 4개의 치환기를 가질 수 있다. 결합할 수 있는 치환기로서는 예컨대 할로겐 원자, 히드록실기, 저급 알콕시기, 시아노 기, 저급 알킬기를 들 수 있다. 할로겐 원자로서는 예컨대 플루오르 원자, 염소원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다. 알콕시 기로서는 예컨대 메톡시기, 에톡시기 등의 C1~C5의 알콕시 기를 들 수 있고, 저급 알킬기로서는 예컨대 메틸기, 에틸기 등의 C1~C5의 알킬기를 들 수 있다. 고리 A 및 고리 B가 함께 치환기를 갖고 있지 않든지 또는 할로겐 원자(특히 염소원자, 브롬원자, 플루오르 원자), 메틸기 또는 시아노 기로 치환되어 있는 것이 바람직하다. In Formula (1), Ring A and Ring B may each have 1 to 4 substituents in addition to the 1,4-position. As a substituent which can couple | bond, a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkoxy group, a cyano group, a lower alkyl group is mentioned, for example. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned, for example. As an alkoxy group, C1-C5 alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group, are mentioned, for example, As a lower alkyl group, C1-C5 alkyl groups, such as a methyl group and an ethyl group, are mentioned, for example. It is preferable that Ring A and Ring B both have no substituent or are substituted with a halogen atom (especially a chlorine atom, bromine atom, fluorine atom), a methyl group or a cyano group.

또한 고리 B에 치환기를 갖는 경우는 4개의 B 고리가 전부 동일한 것, 또는 치환기의 위치는 A 고리의 페닐렌 디아민 골격에 결합되는 질소원자에 대하여 m-위치인 것이 바람직하다. 또한 고리 A 및 B는 1,4-위치 이외에 치환기를 갖고 있지 않은 것이 바람직하다. In the case where the ring B has a substituent, the four B rings are all the same, or the position of the substituent is preferably the m-position to the nitrogen atom bonded to the phenylene diamine skeleton of the A ring. Moreover, it is preferable that ring A and B do not have a substituent other than a 1, 4-position.

본 발명의 화학식(1)로 표시되는 디이모늄 화합물은 에컨대 특허문헌 3에 기 재된 방법에 준한 방법으로 얻을 수 있다. 즉, p-페닐렌디아민과 1-클로로-4-니트로벤젠을 울만 반응시켜 얻은 생성물을 환원하는 것에 의해 얻을 수 있는 하기 화학식(4)The dimonium compound represented by General formula (1) of this invention can be obtained by the method according to the method of patent document 3, for example. That is, the following general formula (4) obtained by reducing the product obtained by wool-reacting p-phenylenediamine and 1-chloro-4-nitrobenzene

Figure 112007075742398-PCT00002
(4)
Figure 112007075742398-PCT00002
(4)

로 표시되는 화합물을 유기 용매 중, 바람직하게는 DMF(디메틸포름아미드), DMI(디메틸이미다졸리디논) 또는 NMP(N-메틸피롤리돈) 등의 수용성 극성 용매 중, 30~160℃, 바람직하게는 50~140℃에서 소망하는 R1~R8 에 대응하는 할로겐 화합물(예컨대 R1~R8 가 n-C4H9 인 경우는 n-C4H9Br)과 반응시켜서 모든 치환기 (R1~R8)가 동일한 화합물(이하, 전 치환체로 칭함)(화학식(2))를 얻을 수 있다. 또한 R1~R8 전부가 동일 치환기인 화합물 이외의 화학식(2)의 화합물을 합성하는 경우(예컨대 하기 화합물 번호 19의 화합물의 전구체)에는 먼저 소정 몰수(상기 화학식(4) 1몰당 4 몰)의 시약(n-C4H9Br)과 반응시켜 R1~R8 중 4개에 n-부틸기를 도입한 후 나머지 치환기(이소부틸기)를 도입할 때 필요한 몰수 (상기 화학식(4)의 아미노체 1몰 당 4몰)의 대응하는 시약(이소-C4H9Br)과 반응시키는 것에 의해 하기 화학식(2)의 화합 물은 합성될 수 있다. 예시한 번호 19의 화합물의 제조방법과 동일한 방법에 의해 전 치환체 이외의 임의의 화합물을 얻을 수 있다. The compound represented by is 30 to 160 ° C in an organic solvent, preferably in a water-soluble polar solvent such as DMF (dimethylformamide), DMI (dimethylimidazolidinone) or NMP (N-methylpyrrolidone). Preferably, at 50 to 140 ° C., a halogen compound corresponding to the desired R 1 to R 8 (e.g., nC 4 H 9 Br when R 1 to R 8 is nC 4 H 9 ) is reacted with all substituents (R 1 to R 8 ) The same compound (henceforth a full substituent) (formula (2)) can be obtained. In addition, when synthesize | combining the compound of General formula (2) other than the compound whose all R <1> -R <8> is the same substituent (for example, the precursor of the compound of following compound number 19), a predetermined mole number (4 mol per 1 mol of said Formula (4)) The number of moles required to introduce the n-butyl group to 4 of R 1 to R 8 by reacting with the reagent (nC 4 H 9 Br) and then to introduce the remaining substituent (isobutyl group) (amino body of formula (4) Compounds of formula (2) can be synthesized by reacting with 4 moles per mole of the corresponding reagent (iso-C 4 H 9 Br). Arbitrary compounds other than the whole substituent can be obtained by the method similar to the manufacturing method of the compound of illustrated number 19.

Figure 112007075742398-PCT00003
(2)
Figure 112007075742398-PCT00003
(2)

상기에서 합성한 화합물을 유기용매 중, 바람직하게는 DMF, DMI, NMP 등의 수용성 극성 용매 중, 0~100℃, 바람직하게는 5~70℃, 하기 화학식(3)에 대응하는 산화제(예컨대 은염)을 2당량 첨가하여 산화반응을 실시한다. 또한 상기에서 합성한 화합물을 아세트산은, 과염소산은, 염화제이동 등의 산화제로 산화시킨 후, 그의 반응액에 화학식(3)의 음이온의 산 또는 염을 첨가하여 반응시키는 방법에 의해 화학식(1)로 표시되는 디이모늄 화합물을 합성할 수 있다. The compound synthesized above is oxidizing agent (e.g., silver salt) in an organic solvent, preferably in a water-soluble polar solvent such as DMF, DMI, NMP, etc., from 0 to 100 ° C, preferably from 5 to 70 ° C, ) 2 equivalents is added to carry out the oxidation reaction. The compound synthesized above is oxidized with an acetic acid such as silver acetate or silver perchlorate, and then the reaction product is added with an acid or salt of the anion of formula (3) to the reaction solution. The dimonium compound represented by can be synthesized.

Figure 112007075742398-PCT00004
(3)
Figure 112007075742398-PCT00004
(3)

다음에, 화학식(1)로 표시되는 본 발명의 디이모늄 화합물의 구체예를 표 1에 나타낸다. 표 중, R1~R8 에 관하여 i는 "이소-"와 같은 분기쇄를 나타내며, Ph는 페닐기를 나타낸다. 고리 A 및 B에 관하여 1,4-위치 이외가 무치환인 경우는 "4H" 라 표기하고, 치환 위치는 A환의 페닐렌디아민 골격에 결합되는 질소원자에 대한 위치이다. 또한 R1~R8 에 관하여, R1~R8 가 전부 n-부틸기인 경우에는 "4(n-C4H9, n-C4H9)"로 약기하고, 또 예컨대 1개가 이소-펜틸기이고 나머지가 n-부틸기인 경우, 즉, 4조의 치환기의 조합의 하나에 이소-펜틸기를 포함하고 나머지 3조가 전부 n-부틸기인 경우에는 "3(n-C4H9, n-C4H9)(n-C4H9, i-C5H11)"로 약기한다. 또한 cy는 시클로를 의미한다. 또 R9~R10 에서 탄소수 3 이상의 알킬 부분은 모두 직쇄이다. 또한 R11에서 X는 펜타플루오로페닐기를 나타내고, Y는 4-(펜타플루오로페닐)-2,3,5,6-테트라플루오로페닐기를 나타내며, Z는 2,4,6-(트리플루오로메틸)페닐기를 의미한다. Next, the specific example of the dimonium compound of this invention represented by General formula (1) is shown in Table 1. In the table, with respect to R 1 to R 8 , i represents a branched chain such as "iso-" and Ph represents a phenyl group. With respect to the rings A and B, when unsubstituted except 1,4-position is unsubstituted, "4H" is indicated, and the substitution position is a position with respect to the nitrogen atom bonded to the phenylenediamine skeleton of the A ring. In addition, with respect to R 1 to R 8 , when R 1 to R 8 are all n-butyl groups, the abbreviation is referred to as “4 (nC 4 H 9 , nC 4 H 9 )”, and for example, one iso-pentyl group and the other is Is an n-butyl group, i.e., if one of the combinations of the 4 groups of substituents contains an iso-pentyl group and the remaining 3 groups are all n-butyl groups, "3 (nC 4 H 9 , nC 4 H 9 ) (nC 4 H 9 , iC 5 H 11 ). Cy also means cyclo. Moreover, the alkyl part of C3 or more in R <9> -R <10> is all linear. In R 11 , X represents a pentafluorophenyl group, Y represents a 4- (pentafluorophenyl) -2,3,5,6-tetrafluorophenyl group, and Z represents a 2,4,6- (trifluoro) group. Romethyl) phenyl group.

Figure 112007075742398-PCT00005
Figure 112007075742398-PCT00005

본 발명의 수지 조성물은 수지 및 화학식(1)로 표시되는 본 발명의 디이모늄 화합물을 함유하는 것이다. The resin composition of this invention contains resin and the dimonium compound of this invention represented by General formula (1).

사용할 수 있는 수지의 구체예로서는 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산에스테르, 폴리아세트산비닐, 폴리아크릴로니트릴, 폴리염화비닐, 폴리플루오르화 비닐 등의 비닐 화합물의 부가중합체, 폴리메타크릴산, 폴리메타크릴산 에스테르, 폴리염화비닐리덴, 폴리플루오르화 비닐리덴, 폴리시안화 비닐리덴, 플루오르화 비닐리덴/트리플루오로에틸렌 공중합체, 플루오르화 비닐리덴/테트라플루오로에틸렌 공중합체, 시안화 비닐리덴/아세트산 비닐 공중합체 등의 비닐화합물 또는 플루오르계 화합물의 공중합체, 폴리트리플루오로에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리헥사플루오로프로필렌 등의 플루오르를 포함하는 수지, 나일론 6, 나일론 66 등의 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리펩티드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리옥시메틸렌 등의 폴리에테르, 에폭시 수지, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 부틸알 등을 들 수 있다. Specific examples of the resin that can be used include addition polymers of polyvinyl compounds such as polyethylene, polystyrene, polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, polyvinyl acetate, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride, polymethacrylic acid, and polymethacryl. Krylic acid esters, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polyvinylidene fluoride, vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, vinylidene fluoride / tetrafluoroethylene copolymer, vinylidene cyanide / vinyl acetate Vinyl compounds such as copolymers or copolymers of fluorine-based compounds, resins containing fluorine such as polytrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene, polyhexafluoropropylene, polyamides such as nylon 6 and nylon 66, and poly Mead, polyurethane, polypeptide, polyethylene terephthalate And the like can be given of polyester, polycarbonates, polyethers, epoxy resins such as polyoxymethylene, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral and the like.

본 발명의 수지 조성물을 제작하는 방법으로서는 특히 한정되지 않지만, 예컨대 다음과 같은 그 자체 공지 방법을 이용할 수 있다. Although it does not specifically limit as a method of manufacturing the resin composition of this invention, For example, the following well-known method itself can be used.

(1) 수지에 본 발명의 디이모늄 화합물을 혼련하고 가열 성형하여 수지판 또는 필름을 제작하는 방법, (1) a method of kneading and heating molding the dimonium compound of the present invention in a resin to produce a resin plate or film,

(2) 본 발명의 디이모늄 화합물과 수지 단량체 또는 수지 단량체의 예비중합체를 중합촉매의 존재하에 캐스트 중합하여 수지판 또는 필름을 제작하는 방법, (2) a method of producing a resin plate or film by cast polymerization of the dimonium compound of the present invention with a resin monomer or a prepolymer of a resin monomer in the presence of a polymerization catalyst,

(3) 본 발명의 수지 조성물을 함유하는 도료를 제작하고 투명수지판, 투명필름, 또는 투명 유리판에 코팅하는 방법, (3) a method of preparing a coating material containing the resin composition of the present invention and coating it on a transparent resin plate, a transparent film, or a transparent glass plate,

(4) 본 발명의 디이모늄 화합물 및 접착제 수지를 함유시킨 수지 조성물을 사용하여 합쳐진 수지판, 합쳐진 수지 필름, 또는 합쳐진 유리판을 제작하는 방법 등이다. (4) It is the method of manufacturing the combined resin plate, the combined resin film, or the combined glass plate using the resin composition containing the dimonium compound of this invention, and adhesive resin.

상기(1)의 제작방법으로서는 사용되는 수지에 따라서 가공온도, 필름화(수지판화) 조건 등이 다소 상이하지만, 통상 본 발명의 디이모늄 화합물을 기재 수지의 분체 또는 펠릿에 첨가하고, 150 내지 350℃로 가열하고, 용해시킨 후 성형하여 수지판을 제작하는 방법, 또는 압출기에 의해 필름화 (수지판화)하는 방법 등을 사용할 수 있다. 본 발명의 디이모늄 화합물의 첨가량은 제작하는 수지판 또는 필름의 두께, 흡수 강도, 가시광 투과율 등에 따라서 상이하지만, 통상 기재 수지의 중량에 대하여 0.01 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.03 내지 15 중량% 사용된다. Although the processing temperature, film forming (resin engraving) conditions, etc. differ somewhat as a manufacturing method of said (1), the dimonium compound of this invention is normally added to the powder or pellet of a base resin, and is 150- The method of heating to 350 degreeC, making it melt | dissolving, and shape | molding, and manufacturing a resin plate, or the method of film-forming (resin engraving) by an extruder can be used. The addition amount of the dimonium compound of the present invention varies depending on the thickness, absorption strength, visible light transmittance, etc. of the resin plate or film to be produced, but is usually 0.01 to 30% by weight, preferably 0.03 to 15% by weight, based on the weight of the base resin. Used.

상기 (2)의 방법으로는 상기 화합물과 수지 단량체 또는 수지 단량체의 예비중합체를 중합 촉매의 존재하에서 형 내에 주입하고 반응시켜 경화시키든가 또는 금형에 유입시켜 형 내에서 경화 제품으로 될 때까지 고화시켜 성형한다. 많은 수지가 이 방법으로 성형가능하고, 이와 같은 방법을 채용할 수 있는 수지의 구체예로서는 아크릴 수지, 디에틸렌글리콜 비스(아릴카보네이트) 수지, 에폭시 수지, 페놀포름알데히드 수지, 폴리스틸벤 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도 경도, 내열성, 내약품성이 우수한 아크릴레이트를 얻을 수 있는 아크릴산 메틸의 괴상 중합에 의한 캐스팅법이 바람직하다. In the method of (2), the compound and the resin monomer or the prepolymer of the resin monomer are injected into the mold in the presence of a polymerization catalyst, reacted and cured or flowed into the mold to solidify until it becomes a cured product in the mold. Mold. Many resins can be molded by this method, and specific examples of the resin which can employ such a method include acrylic resins, diethylene glycol bis (arylcarbonate) resins, epoxy resins, phenolformaldehyde resins, polytilbene resins, and silicone resins. Etc. can be mentioned. Especially, the casting method by the bulk polymerization of methyl acrylate which can obtain the acrylate excellent in hardness, heat resistance, and chemical resistance is preferable.

중합 촉매로서는 공지의 라디칼 열중합개시제가 이용될 수 있고, 예컨대 벤조일퍼옥시드, p-클로로벤조일퍼옥시드, 디이소프로필퍼옥시카보네이트 등의 과산화물, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물을 들 수 있다. 그 사용량은 혼합물의 총량에 대하여 일반적으로 0.01 내지 5 중량%이다. 열중합에 따른 가열온도는 통상 40 내지 200℃이고, 중합시간은 통상 30분 내지 8시간 정도이다. 또한 열중합 이외에 광중합 개시제나 증감제를 첨가하여 광중합하는 방법도 채용할 수 있다. A well-known radical thermal polymerization initiator can be used as a polymerization catalyst, For example, Azo compounds, such as peroxides, such as a benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, and azobisisobutyronitrile, are mentioned. have. The amount used is generally 0.01 to 5% by weight based on the total amount of the mixture. The heating temperature according to thermal polymerization is 40-200 degreeC normally, and polymerization time is about 30 minutes-about 8 hours normally. Moreover, the method of photopolymerizing by adding a photoinitiator or a sensitizer other than thermal polymerization can also be employ | adopted.

상기 (3)의 방법으로서는 본 발명의 디이모늄 화합물을 바인더 수지 및 유기 용매에 용해시켜서 도료화하는 방법, 상기 화합물을 수지의 존재하에서 미립자화하여 분산시키고 수계 도료로 하는 방법 등이 있다. 이와 같이 본 발명의 디이모늄 화합물을 바인더 수지 및 유기 용매에 용해시켜 도료화하는 방법으로는 예컨대 지방족 에스테르 수지, 아크릴계 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 방향족 에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐 계 수지, 지방족 폴리올레핀 수지, 방향족 폴리올레핀 수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리비닐 변성 수지 등 또는 이들의 공중합 수지를 바인더로서 사용할 수 있다. As a method of said (3), the dimonium compound of this invention is melt | dissolved in binder resin and an organic solvent, and the coating method is carried out, The compound is made to disperse | distribute and disperse | distribute the compound in presence of resin, and to make it an aqueous coating material. As such, the method of dissolving the dimonium compound of the present invention in a binder resin and an organic solvent to form a paint includes, for example, an aliphatic ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an aromatic ester resin, a polycarbonate resin, and a polyvinyl resin. , An aliphatic polyolefin resin, an aromatic polyolefin resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl modified resin, or the like or a copolymer resin thereof can be used as the binder.

용매로서는 할로겐계, 알코올계, 케톤계, 에스테르계, 지방족 탄화수소계, 방향족 탄화수소계, 에테르계의 용매, 또는 이들의 혼합물의 용매를 사용할 수 있다. 본 발명의 디이모늄 화합물의 농도는 제작하는 코팅의 두께, 흡수 강도, 가시광 투과율에 따라 상이하지만, 바인더 수지에 대하여 일반적으로 0.1 내지 30 중량%이다. As the solvent, a solvent of halogen, alcohol, ketone, ester, aliphatic hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, ether solvent, or a mixture thereof can be used. The concentration of the dimonium compound of the present invention varies depending on the thickness, absorption strength and visible light transmittance of the coating to be produced, but is generally 0.1 to 30% by weight relative to the binder resin.

이와 같이 제작한 도료를 사용하여 투명 수지 필름, 투명 수지판, 투명 유리 등의 위에 스핀 코터, 바 코터, 롤 코터, 스프레이 등으로 코팅하여 근적외선 흡수 필터를 얻을 수 있다. The near-infrared absorption filter can be obtained by coating with a spin coater, a bar coater, a roll coater, a spray, etc. on the transparent resin film, the transparent resin plate, transparent glass, etc. using the coating material produced in this way.

상기 (4)의 방법에서 접착제용의 수지로서는 실리콘계, 우레탄 계, 아크릴계 등의 수지용, 또는 합쳐진 유리용의 폴리비닐 부티랄 접착제, 에틸렌-아세트산 비닐 계 접착제 등의 합쳐진 유리용의 공지의 투명 접착제를 사용할 수 있다. 본 발명의 디이모늄 화합물을 0.1 내지 30 중량%의 첨가한 접착제를 사용하여 투명한 수지판 끼리, 수지판과 수지 필름, 수지판과 유리, 수지 필름 끼리, 수지 필름과 유리, 또는 유리 끼리를 접착시켜 필터를 제작한다. As the resin for the adhesive in the method of the above (4), a known transparent adhesive for the combined glass such as a polyvinyl butyral adhesive for a resin such as silicone, urethane, acrylic or the like, or a combined glass, an ethylene-vinyl acetate adhesive, etc. Can be used. Bonding transparent resin plates, resin plates and resin films, resin plates and glasses, resin films, resin films and glasses, or glasses using an adhesive obtained by adding 0.1 to 30% by weight of the dimonium compound of the present invention To make a filter.

각각의 방법으로 혼련, 혼합할 때, 자외선흡수제, 가소제 등 수지성형에 사용되는 통상의 첨가제를 부가할 수 있다. When kneading and mixing by each method, the usual additives used for resin molding, such as a ultraviolet absorber and a plasticizer, can be added.

다음에 본 발명의 근적외선 흡수 필터에 관하여 설명한다. Next, the near-infrared absorption filter of this invention is demonstrated.

본 발명의 근적외선 흡수 필터는 본 발명의 디이모늄 화합물을 함유하는 수지층을 기재 상에 설치한 것도 좋고, 또는 기재 자체가 근적외선 흡수 화합물을 함유하는 수지 조성물(또는 그의 경화물)로 이루어진 층이어도 좋다. 기재로서는 일반적으로 근적외선 흡수 필터에 사용될 수 있는 것이라면 특별히 제한되지 않지만, 통상, 수지제의 기재가 사용된다. 본 발명의 디이모늄 화합물을 함유하는 층의 두께는 통상 0.1 ㎛ 내지 10 mm 정도이지만, 근적외선 컷트율 등의 목적에 따라서 적절히 결정된다. 또한 본 발명의 디이모늄 화합물의 함유량도 목적으로 하는 근적외선 컷트율에 따라서 적절히 결정할 수 있다. 사용할 수 있는 수지로서는 수지 조성물과 동일한 수지를 들 수 있고, 수지판 또는 수지 필름으로 성형한 경우, 가능한 한 투명성이 높은 것이 바람직하다. 근적외선 흡수 필터를 제작하는 방법으로서는 상기 수지 조성물의 제조와 동일한 방법을 들 수 있다. The near-infrared absorption filter of this invention may be provided with the resin layer containing the dimonium compound of this invention on a base material, or the layer itself consists of a resin composition (or hardened | cured material thereof) containing a near-infrared absorption compound. good. The substrate is generally not particularly limited as long as it can be used in a near infrared absorption filter. Usually, a substrate made of a resin is used. Although the thickness of the layer containing the dimonium compound of this invention is about 0.1 micrometer-about 10 mm normally, it determines suitably according to the objectives, such as a near-infrared cut rate. Moreover, content of the dimonium compound of this invention can also be suitably determined according to the target near-infrared cut rate. As resin which can be used, the same resin as a resin composition is mentioned, When shape | molding with a resin plate or a resin film, it is preferable that transparency is as high as possible. As a method of producing a near-infrared absorption filter, the method similar to manufacture of the said resin composition is mentioned.

본 발명의 근적외선 흡수 필터는 근적외선 흡수 화합물로서 본 발명의 화학식(1)의 디이모늄 화합물만을 함유하여도 좋지만, 2종 이상의 본 발명의 디이모늄 화합물을 병용하는 것도 좋고, 이들 화합물과 본 발명의 디이모늄 화합물 이외의 근적외선 흡수 화합물을 병용하여 제작하여도 좋다. 병용할 수 있는 다른 근적외선 흡수 화합물로서는 예컨대 프탈로시아닌계 색소, 시아닌계 색소, 디티올니켈 착물 등을 들 수 있다. 또한 병용할 수 있는 무기 금속의 근적외선 흡수 화합물의 예로서는 예컨대 금속 구리 또는 황화 구리, 산화 구리 등의 구리 화합물, 산화아연을 주성분으로 하는 금속 혼합물, 텅스텐 화합물, ITO, ATO 등을 들 수 있다. Although the near-infrared absorption filter of this invention may contain only the dimonium compound of General formula (1) of this invention as a near-infrared absorption compound, it may also use 2 or more types of dimonium compounds of this invention together, These compounds and this invention You may produce by using together a near-infrared absorption compound other than the dimonium compound of this. As another near-infrared absorption compound which can be used together, a phthalocyanine pigment | dye, a cyanine pigment | dye, a dithiol nickel complex, etc. are mentioned, for example. Examples of near-infrared absorbing compounds of inorganic metals that can be used in combination include copper compounds such as metal copper or copper sulfide and copper oxide, metal mixtures containing zinc oxide as a main component, tungsten compounds, ITO and ATO.

또 필터의 색조를 변화시키기 위하여 가시영역에 흡수를 가진 색소(조색용 색소)를 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 부가하여도 좋다. 또 조색용 색소만을 함유하는 필터를 제작하고, 후에 본 발명의 근적외선 흡수 필터를 접합시킬 수도 있다. Moreover, in order to change the color tone of a filter, you may add the pigment | dye (coloring dye) which has absorption in a visible region in the range which does not impair the effect of this invention. Moreover, the filter containing only coloring pigment | dye can be produced, and the near-infrared absorption filter of this invention can also be bonded later.

이와 같은 근적외선 흡수 필터는 플라즈마 디스플레이의 전면판에 사용되는 경우에는 가시광의 투과율은 높을 수록 좋고, 적어도 40% 이상, 바람직하게는 50% 이상의 투과율이 필요하다. 근적외선의 컷트 영역은 바람직하게는 750 내지 1200 nm, 보다 바람직하게는 800 내지 1000 nm 이고, 그 영역의 근적외선의 평균 투과율이 50% 이하, 보다 바람직하게는 30% 이하, 더욱 바람직하게는 20% 이하, 특히 바람직하게는 10% 이하로 되는 것이 바람직하다. When such a near-infrared absorption filter is used for the front panel of a plasma display, the higher the transmittance of visible light is, the better, at least 40% or more, preferably 50% or more is required. The cut region of the near infrared ray is preferably 750 to 1200 nm, more preferably 800 to 1000 nm, and the average transmittance of the near infrared ray in the region is 50% or less, more preferably 30% or less, even more preferably 20% or less. Especially preferably, it becomes 10% or less.

본 발명의 근적외선 흡수 필터는 디스플레이의 전면판과 같은 용도에 한정되지 않고, 적외선을 컷트할 필요가 있는 필터나 필름, 예컨대 단열 필름, 광학제품, 썬글래스 등에도 사용할 수 있다. The near-infrared absorption filter of this invention is not limited to the use like the front plate of a display, It can be used also for the filter and film which need to cut infrared rays, such as a heat insulation film, an optical product, sunglass, etc.

본 발명의 근적외선 흡수 필터는 가시광 영역이 매우 높은 투과율이고, 안티몬이나 비소를 함유하지 않고 환경적으로 우수하며 근적외 영역은 폭넓게 흡수하는 우수한 근적외선 흡수 필터이다. 또한 종래의 안티몬을 함유하지 않는 과염소산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 붕소플루오르화 이온을 함유하는 근적외선 흡수 필터에 비하여 안정성이 우수하다. 또한 용해도도 충분하고 가공성도 우수하다. 특히 본 발명의 근적외선 흡수 필터는 내열성, 내습열성, 내광성에서 매우 우수하고 열에 의한 분해 등의 반응을 일으키기 어렵기 때문에 가시부의 착색이 거의 일어나지 않는 근적외선 흡수 필터를 얻을 수 있다. 이와 같은 특징을 갖고 있기 때문에 근적외선 흡수 필터나 예컨대 단열 필름 및 썬글래스와 같은 근적외선 흡수 필름에 적합하게 사용될 수 있고, 특히 플라즈마 디스플레이용의 근적외선 흡수 필터에 적합하다. The near-infrared absorption filter of the present invention is an excellent near-infrared absorption filter having a very high transmittance in the visible light region, containing no antimony or arsenic, and being environmentally superior, and broadly absorbing the near infrared region. Moreover, it is excellent in stability compared with the near-infrared absorption filter containing perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, and boron fluoride ion which does not contain the conventional antimony. It also has sufficient solubility and excellent processability. In particular, the near-infrared absorption filter of the present invention is very excellent in heat resistance, heat-and-moisture resistance, and light resistance, and hardly causes a reaction such as decomposition by heat, so that a near-infrared absorption filter with little coloration of visible parts can be obtained. Since it has such a characteristic, it can be used suitably for a near-infrared absorption filter or a near-infrared absorption film, such as a heat insulation film and sunglass, and is especially suitable for a near-infrared absorption filter for plasma displays.

특히 본 발명의 광정보기록매체에 관하여 설명한다. In particular, the optical information recording medium of the present invention will be described.

본 발명의 광정보기록매체는 기판상에 기록층을 갖는 것이고, 상기 기록층이 본 발명의 디이모늄 화합물을 함유하는 것을 특징으로 한다. 이 기록층은 디이모늄 화합물만으로 구성하여도 좋고, 또 바인더 등의 각종 첨가제와 혼합하여 함유되어도 좋다. 이 경우, 본 발명의 디이모늄 화합물에 의해 정보가 기록된다. An optical information recording medium of the present invention is characterized by having a recording layer on a substrate, wherein the recording layer contains the dimonium compound of the present invention. This recording layer may be comprised only with a dimonium compound, and may be mixed and contained with various additives, such as a binder. In this case, information is recorded by the dimonium compound of the present invention.

또한 본 발명의 디이모늄 화합물과 이 이외의 유기 색소를 함유하는 혼합물을 상기 유기 색소에 의해 정보가 기록되는 광정보 기록매체의 기록층에 함유시킨 것에 의해 광정보 기록매체의 내광성을 향상시킬 수 있다. 이와 같은 광정보 기록매체에서 정보의 기록에 제공되는 유기 색소로서는 예컨대 시아닌계 색소, 스크와릴륨계 색소, 인도아닐린게 색소, 프탈로시아닌계 색소, 아조계 색소, 메로시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 나프토퀴논계 색소, 피릴륨계 색소 등을 들 수 있다. In addition, the light resistance of the optical information recording medium can be improved by containing the dimonium compound of the present invention and a mixture containing other organic dyes in the recording layer of the optical information recording medium on which information is recorded by the organic dyes. have. As such organic pigments provided for recording information in such optical information recording media, for example, cyanine dyes, scarylium pigments, inaniline crab dyes, phthalocyanine dyes, azo dyes, merocyanine dyes, and polymethine dyes. And naphthoquinone dyes and pyryllium dyes.

이와 같은 방법에서 본 발명의 디이모늄 화합물은 이들 유기 색소 1몰에 대하여 통상 0.01 내지 10몰, 바람직하게는 0.03 내지 3몰 사용된다. In such a method, the dimonium compound of the present invention is usually used in an amount of 0.01 to 10 mol, preferably 0.03 to 3 mol, with respect to 1 mol of these organic dyes.

본 발명의 광정보 기록매체는 기판 상에 본 발명의 디이모늄 화합물 및 소망에 따라 이 이외의 색소를 함유하는 기록층을 설치한 것으로, 필요에 따라서, 반사층, 보호층이 설치된다. 기판으로서는 공지의 것을 임의로 사용할 수 있다. 예컨대 유리판, 금속판 또는 플라스틱판 또는 필름을 들 수 있고, 이들을 제조하기 위한 플라스틱으로서는 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 메타크릴 수지, 폴리설폰 수지, 폴리이미드 수지, 비정질 폴리올레핀 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리프로필렌 수지 등을 들 수 있다. 기판의 형상으로서는 디스크상, 카드상, 시트상, 롤 필름상 등 각종의 것을 들 수 있다. The optical information recording medium of the present invention is provided with a dimonium compound of the present invention and a recording layer containing other dyes as desired on the substrate, and a reflective layer and a protective layer are provided as necessary. As a board | substrate, a well-known thing can be used arbitrarily. A glass plate, a metal plate, a plastic plate, or a film is mentioned, for example, As a plastic for manufacturing these, an acrylic resin, a polycarbonate resin, methacryl resin, a polysulfone resin, a polyimide resin, an amorphous polyolefin resin, a polyester resin, a polypropylene resin Etc. can be mentioned. As a shape of a board | substrate, various things, such as a disk form, a card form, a sheet form, and a roll film form, are mentioned.

유리 또는 플라스틱 기판상에는 기록시의 트랙킹을 용이하게 하기 위하여 안내구를 형성하여도 좋다. 또한 유리 또는 플라스틱 기판에는 플라스틱 바인더 또는 무기 산화물, 무기 황화물 등의 하도층을 설치하여도 좋고, 하도층은 기판 보다 열전도율이 낮은 것이 바람직하다. Guides may be formed on glass or plastic substrates to facilitate tracking during recording. A glass binder or an undercoat layer such as an inorganic oxide or an inorganic sulfide may be provided on the glass or plastic substrate, and the undercoat layer is preferably lower in thermal conductivity than the substrate.

본 발명의 광정보기록매체에서 기록층은 예컨대 본 발명의 디이모늄 화합물 및 보다 바람직하게는 본 발명의 디이모늄 화합물과 다른 유기 색소를 공지의 유기 용매, 예컨대 테트라플루오로프로파놀(TFP), 옥타플루오로펜타놀(OFP), 디아세톤알코올, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 디클로로에탄, 이소보론, 시클로헥사논 등에 용해되며, 필요에 따라서 바인더를 가하여 그의 용액을 스핀 코터, 바 코터, 롤 코터 등에 의해 기판 상에 도포하는 것에 의해 얻을 수 있다. 그 외 방법으로서는 진공 증착법, 스퍼터링법, 닥터 블레이드법, 캐스트법 또는 기판을 용액 중에 침지하는 디핑법에 의해서도 얻을 수 있다. 여기에서 바인더로서는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시 계 수지 등을 사용할 수 있다. In the optical information recording medium of the present invention, the recording layer is, for example, the dimonium compound of the present invention and more preferably, the dimonium compound of the present invention and other organic dyes are known in organic solvents such as tetrafluoropropanol (TFP). , Octafluoropentanol (OFP), diacetone alcohol, methanol, ethanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dichloroethane, isoboron, cyclohexanone, etc. The solution can be obtained by applying onto a substrate with a spin coater, bar coater, roll coater or the like. As another method, it can also be obtained by the vacuum vapor deposition method, the sputtering method, the doctor blade method, the casting method, or the dipping method which immerses a board | substrate in solution. As the binder, acrylic resins, urethane resins, epoxy resins and the like can be used.

기록층의 막 두께는 기록감도나 반사율을 고려하면, 바람직하게는 0.01 ㎛ 내지 5㎛, 더욱 바람직하게는 0.02 ㎛ 내지 3㎛이다. The film thickness of the recording layer is preferably 0.01 µm to 5 µm, more preferably 0.02 µm to 3 µm, in consideration of recording sensitivity and reflectance.

본 발명의 광정보 기록매체에는 필요에 따라 기록층의 아래에 하도층을, 또 기록층 상에 보호층을 설치할 수 있고, 또한 기록층과 보호층의 사이에 반사층을 설치할 수 있다. 반사층을 설치하는 경우, 반사층은 금, 은, 구리, 알루미늄 등, 바람직하게는 금, 은 또는 알루미늄의 금속으로 구성되며, 이들 금속은 단독으로 사용하여도 좋고, 2종 이상의 합금으로서도 좋다. 이 층은 진공증착법, 스퍼터링법, 이온 플레팅법 등으로 형성된다. 이와 같은 반사층의 두께는 통상 0.02 내지 2 ㎛이다. 반사층의 위에 설치되는 보호층은 통상 자외선 경화수지를 스핀 코트법으로 도포한 후 자외선을 조사하여 도막을 경화시켜서 형성되는 것이다. 그외, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지, 우레탄 수지 등도 보호층의 성형재료에 사용된다. 이와 같은 보호막의 두께는 통상 0.01 내지 100㎛이다. The optical information recording medium of the present invention can be provided with a lower layer under the recording layer and a protective layer on the recording layer, if necessary, and a reflective layer can be provided between the recording layer and the protective layer. When providing a reflection layer, a reflection layer is comprised from gold, silver, copper, aluminum, etc., Preferably, metal of gold, silver, or aluminum, These metals may be used independently and may be used as 2 or more types of alloys. This layer is formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like. The thickness of such a reflection layer is 0.02-2 micrometers normally. The protective layer provided on the reflective layer is usually formed by applying an ultraviolet curable resin by spin coating and then irradiating ultraviolet rays to cure the coating film. In addition, an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, a urethane resin, etc. are also used for the molding material of a protective layer. The thickness of such a protective film is 0.01-100 micrometers normally.

본 발명의 광정보 기록매체에서 정보의 기록, 또는 화상의 형성은 레이저, 예컨대 반도체 레이저, 헬륨 네온 레이저, He-Cd 레이저, YAG 레이저, Ar 레이저 등의 집광된 스포트 상의 고 에너지 빔을 기판을 통하여 또는 기판과 반사측으로부터 기록층에 조사하는 것에 의해 실시되며, 정보 또는 화상의 독출은 저출력의 레이저 빔을 조사하는 것에 의해 핏트부와 핏트가 형성되어 있지 않은 부분의 반사광량 또는 투과 광량의 차를 검출하는 것에 의해 실시된다. In the optical information recording medium of the present invention, the recording of information or the formation of an image is carried out through a substrate by a high energy beam on a focused spot such as a laser, for example, a semiconductor laser, a helium neon laser, a He-Cd laser, a YAG laser, an Ar laser, or the like. Or by irradiating the recording layer from the substrate and the reflection side, and reading out information or an image by irradiating a low-power laser beam to determine the difference between the amount of reflected light or the amount of transmitted light between the fit portion and the portion where the fit is not formed. By detecting it.

본 발명의 디이모늄 화합물을 최대 흡수 파장이 900 nm 이상이고 몰 흡광계수가 수만 내지 수십만으로 큰 값을 가지고 있다. 또한 내열성, 내광성, 내습열성 등의 안정성 시험의 결과로부터 종래의 것과 비교하여 변색이 적고 안정성이 우수하며 또 용해성 시험으로부터 충분한 용매 용해성을 갖고 있고, 가공성이 양호한 적외선 흡수제로서 사용할 수 있다. The dimonium compound of the present invention has a maximum absorption wavelength of 900 nm or more and a molar extinction coefficient of tens of thousands to hundreds of thousands. Moreover, from the result of stability tests, such as heat resistance, light resistance, and heat and humidity resistance, it can be used as an infrared absorber which has less discoloration compared to the conventional thing, excellent stability, sufficient solvent solubility from a solubility test, and a processability.

본 발명의 디이모늄 화합물을 사용한 근적외선 흡수 필터는, 종래의 디이모늄 화합물을 사용한 근적외 흡수 필터에 비하여, 용해도도 높고 가공성이 우수하며 또 내열성 내습열성 등의 안정성이 우수하다. 특히 이들의 안정성 시험에서 분해 등의 반응이 일어나기 어렵고 가시부의 착색이 거의 일어나지 않는 내열성, 내습열성, 내광성이 우수한 근적외선 흡수 필터이다. 이와 같은 특징을 갖고 있기 때문에 근적외선 흡수 필터나 예컨대 단열 필름 및 썬글래스와 같은 근적외선 흡수 필름으로서 적합하게 사용될 수 있고, 특히 플라즈마 디스플레이용의 근적외선 흡수 필터에 적합하다. The near-infrared absorption filter using the dimonium compound of this invention is high in solubility, excellent workability, and excellent stability, such as heat resistance, moisture-heat resistance, and the like compared with the near-infrared absorption filter using the conventional dimonium compound. In particular, it is a near-infrared absorption filter which is excellent in heat resistance, heat-and-moisture resistance, and light resistance in which reactions, such as decomposition, hardly occur in these stability tests and coloring of visible parts hardly occur. Since it has such a characteristic, it can be used suitably as a near-infrared absorption filter or a near-infrared absorption film, such as a heat insulation film and sunglasses, for example, and is especially suitable for the near-infrared absorption filter for plasma displays.

본 발명의 광정보 기록매체는, 종래의 디이모늄 화합물로 이루어진 광정보 기록매체에 비하여, 내광안정성이 우수하다. 또한 본 발명의 디이모늄 화합물은 광정보 기록매체를 제조함에 있어 용해도도 충분하고 가공성도 우수하다. 또한 예컨대 광정보기록매체의 기록층에 상당하는 유기 색소 박막에 이들의 화합물을 광안정화제로서 함유시킨 경우, 반복하여 재생할 때 내구성, 내광안정성을 현저하게 향상시킨 광정보 기록매체를 제공할 수 있다. The optical information recording medium of the present invention is excellent in light stability as compared to the optical information recording medium made of a conventional dimonium compound. In addition, the dimonium compound of the present invention has sufficient solubility and excellent processability in producing an optical information recording medium. Further, for example, when the organic dye thin film corresponding to the recording layer of the optical information recording medium contains these compounds as a light stabilizer, it is possible to provide an optical information recording medium with remarkably improved durability and light stability when repeatedly reproduced.

이하 본 발명을 실시예에 의해 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되지 않는다. 실시예 중, "부" 및 "%"는 특히 한정되지 않는 한 중량기준이다. EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by these Examples. In the examples, "part" and "%" are by weight unless otherwise specified.

실시예 1 (합성예 1)Example 1 (Synthesis Example 1)

(표 1에서 번호 1의 화합물의 합성) (Synthesis of Compound of Number 1 in Table 1)

DMF 20부 중에 N,N,N',N'-테트라키스(p-디(n-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디아민 1부를 부가하고, 60℃에서 가열 용해시킨 후 1-[비스(트리플루오로메탄설포닐)메틸]-2,3,4,5,6-펜타플루오로벤젠 1부를 부가하였다. 이어서 DMF 10부에 용해시킨 질산은 0.4부를 부가하고, 30분간 가열 교반하였다. 불용해분을 여과한 후 반응액에 물, 메탄올을 부가하고, 석출한 결정을 여과하고, 메탄올 세정하며, 수세시 건조하여 번호 1의 화합물 0.9부를 얻었다. 1 part of N, N, N ', N'- tetrakis (p-di (n-butyl) aminophenyl) -p-phenylenediamine is added to 20 parts of DMF, and it melt | dissolves at 60 degreeC, and 1- [bis 1 part of (trifluoromethanesulfonyl) methyl] -2,3,4,5,6-pentafluorobenzene was added. Next, 0.4 part of silver nitric acid dissolved in 10 parts of DMF was added, and it stirred for 30 minutes by heating. After insoluble fractions were filtered, water and methanol were added to the reaction solution, and the precipitated crystals were filtered out, washed with methanol, and washed with water to obtain 0.9 part of the compound of No. 1.

λmax 1103 nm (디클로로메탄) λmax 1103 nm (dichloromethane)

몰 흡광계수(ε) 107,000 Molar extinction coefficient (ε) 107,000

융해점 202-208℃Melting point 202-208 ℃

실시예 2 (합성예 2) Example 2 (Synthesis Example 2)

(표 1에서 번호 2의 화합물의 합성) (Synthesis of Compound of Number 2 in Table 1)

DMF 20부 중에 N,N,N',N'-테트라키스(p-디(이소-부틸)아미노페닐)-p-페닐렌디아민 1부를 부가하고, 60℃에서 가열 용해시킨 후 1-[비스(트리플루오로메탄설포닐)메틸]-2,3,4,5,6-펜타플루오로벤젠 1부를 부가하였다. 이어서 DMF 15부에 용해시킨 질산은 0.4부를 부가하고, 60분간 가열 교반하였다. 불용해분을 여과한 후 반응액에 물을 부가하였다. 석출한 결정을 여과하고, 메탄올 세정하며, 수세하고 건 조시켜 번호 2의 화합물 1.3부를 얻었다. 1 part of N, N, N ', N'- tetrakis (p-di (iso-butyl) aminophenyl) -p-phenylenediamine is added to 20 parts of DMF, and it melt | dissolves at 60 degreeC, and 1- [bis 1 part of (trifluoromethanesulfonyl) methyl] -2,3,4,5,6-pentafluorobenzene was added. Next, 0.4 part of silver nitric acid dissolved in 15 parts of DMF was added, and it stirred for 60 minutes by heating. After insoluble fractions were filtered, water was added to the reaction solution. The precipitated crystals were filtered, washed with methanol, washed with water and dried to obtain 1.3 parts of the compound of No. 2.

λmax 1108 nm (디클로로메탄) λmax 1108 nm (dichloromethane)

몰 흡광계수(ε) 108,000 Molar extinction coefficient (ε) 108,000

융해점 186-191℃Melting Point 186-191 ℃

그 외의 화합물에 관해서도 상기 합성예 1과 동일하게 대응하는 페닐디아민 유도체를 대응하는 음이온의 존재하에 산화제로 산화하는 것에 의해 또는 산화제로 산화시킨 후 대응하는 음이온과 반응시키는 것에 의해 합성할 수 있다. Other compounds can also be synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 by oxidizing a corresponding phenyldiamine derivative with an oxidizing agent in the presence of a corresponding anion or by oxidizing with an oxidizing agent and reacting with a corresponding anion.

실시예 3 (근적외선 흡수 필터 및 내열안정성 시험) Example 3 (Near Infrared Absorption Filter and Thermal Stability Test)

MEK(메틸에틸케톤) 18.8 부에 실시예 1에서 얻은 디이모늄 화합물 1.2부를 용해시켰다. 이 용해액에 MEK 75부 중에 아크릴계 수지(미쓰비시 레이욘사 제조, 다이야날 BR-80) 25부를 부가하여 용해시킨 수지액 80부를 혼합하고, 도포용 용액을 얻었다. 이것을 폴리에스테르 필름에 두께 2 내지 4 ㎛로 되도록 도포하고, 80℃에서 건조시켜 본 발명의 근적외선 흡수 필터를 얻었다. 1.2 parts of the dimonium compounds obtained in Example 1 were dissolved in 18.8 parts of MEK (methyl ethyl ketone). 80 parts of resin liquids which added and melt | dissolved 25 parts of acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., diamond BR-80) in MEK 75 parts were melt | dissolved in this solution, and the coating solution was obtained. This was apply | coated to a polyester film so that it might become thickness 2-4 micrometers, and it dried at 80 degreeC, and obtained the near-infrared absorption filter of this invention.

얻어진 근적외선 흡수 필터를 100℃의 오븐 중에서 250 시간 방치하고, 내열안정성 시험을 실시하였다. 시험 전후에 그 필터를 분광광도계((주) 시마즈 세이사꾸쇼 제조, UV-3150)로 측정하고 최대 흡수 파장에서 흡광도의 변화에 의해 색소 잔존율의 평가를 실시하였다. 또한 상기 분광광도계에 의해 L* 값(명도), a* 값, b* 값 (색도)를 측색하고 b* 값의 변화로부터 안정성 평가를 실시하였다. 결과를 표 2- 1 및 표 2-2에 나타낸다. The obtained near-infrared absorption filter was left to stand in 100 degreeC oven for 250 hours, and the heat stability test was done. Before and after the test, the filter was measured with a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3150), and the pigment residual ratio was evaluated by the change in absorbance at the maximum absorption wavelength. Moreover, L * value (brightness), a * value, and b * value (chromaticity) were measured with the said spectrophotometer, and stability evaluation was performed from the change of b * value. The results are shown in Table 2-1 and Table 2-2.

비교예 1 ~ 2 Comparative Examples 1 and 2

디이모늄 화합물로서 N,N,N',N'-테트라키스{p-디(n-부틸)아미노페닐}페닐렌디이모늄의 육플루오르화 안티몬산염 (비교예 1, 화합물 번호 21로 한다), N,N,N',N'-테트라키스{p-디(n-부틸)아미노페닐}페닐렌디이모늄의 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산염(비교예 2, 화합물번호 22로 한다)을 사용한 이외는 실시예 3과 동일하게 하여 필터를 제작하여 평가하고 결과를 표 2-1 및 표 2-2에 나타내었다. Hexafluorinated antimonate of N, N, N ', N'-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenedimonium as dimonium compound (Comparative Example 1, compound number 21) , Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide salt of N, N, N ', N'-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenedimonium (Comparative Example 2, compound number 22 A filter was produced and evaluated in the same manner as in Example 3 except for the use of the same), and the results are shown in Table 2-1 and Table 2-2.

Figure 112007075742398-PCT00006
Figure 112007075742398-PCT00006

Figure 112007075742398-PCT00007
Figure 112007075742398-PCT00007

표 2-1 및 표 2-2로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 디이모늄 화합물을 함유하는 근적외선 흡수 필터는 비교 시험에 대하여 색소 잔존율이 높고 또한 b* 값의 변화가 작은 점에서 고온 조건하에서의 물성이 우수한 것으로 판단된다. As is apparent from Tables 2-1 and 2-2, the near-infrared absorption filter containing the dimonium compound of the present invention has a high pigment residual ratio and a small change in b * value for the comparative test under high temperature conditions. The physical properties are considered to be excellent.

실시예 4 (근적외선 흡수 필터 및 내습열안정성 시험) Example 4 (Near Infrared Absorption Filter and Moisture Heat Stability Test)

실시예 3과 동일하게하여 얻은 근적외선 흡수 필터를 85℃, 85% RH의 조건하에서 항온항습기중에서 250시간 동안 방치하여 내습열안정성 시험을 실시하였다. 실험 전후에 그 필터를 분광광도계((주)시마즈 세이사꾸쇼 제조, UV-3150)에 의해 측정하고, 최대 흡수 파장에서 흡광도의 변화로부터 색소잔존율의 평가를 실시하였다. 또한 상기 분광광도계에 의해 L* 값(명도), a* 값, b* 값(색도)를 측정하고, b* 값의 변화로부터 안정성 평가를 실시하였다. 결과를 표 3-1 및 표 3-2에 나타낸다. The near-infrared absorption filter obtained in the same manner as in Example 3 was allowed to stand in a thermo-hygrostat for 250 hours under a condition of 85 ° C. and 85% RH, and then subjected to a heat and humidity resistance test. Before and after the experiment, the filter was measured with a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3150), and the pigment residual ratio was evaluated from the change in absorbance at the maximum absorption wavelength. Moreover, L * value (brightness), a * value, and b * value (chromaticity) were measured with the said spectrophotometer, and stability evaluation was performed from the change of b * value. The results are shown in Table 3-1 and Table 3-2.

비교예 3 ~ 4 Comparative Examples 3 to 4

디이모늄 화합물로서 N,N,N',N'-테트라키스{p-디(n-부틸)아미노페닐}페닐렌디이모늄의 육플루오르화 안티몬산염(비교예 3, 화합물번호 21), N,N,N',N'-테트라키스{p-디(n-부틸)아미노페닐}페닐렌디이모늄의 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드산염(비교예 4, 화합물 번호 22)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 하여 필터를 제작하여 평가하고 결과를 표 3-1 및 표 3-2에 나타내었다. Hexafluorinated antimonate of N, N, N ', N'-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenedimonium as dimonium compound (Comparative Example 3, Compound No. 21), N Bis (trifluoromethanesulfonyl) imide salt of (N, N ', N'-tetrakis {p-di (n-butyl) aminophenyl} phenylenedimonium) (Comparative Example 4, Compound No. 22) A filter was prepared and evaluated in the same manner as in Example 4 except for the use, and the results are shown in Tables 3-1 and 3-2.

Figure 112007075742398-PCT00008
Figure 112007075742398-PCT00008

Figure 112007075742398-PCT00009
Figure 112007075742398-PCT00009

표 3-1 및 표 3-2로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 디이모늄 화합물을 함유하는 근적외선 흡수 필터는 비교시료에 대하여 색소잔존율이 높고, 또한 b* 값의 변화가 적은 점에서 고온고습 조건하에서의 내성이 우수한 것을 알 수 있다. As is apparent from Tables 3-1 and 3-2, the near-infrared absorption filter containing the dimonium compound of the present invention has a high pigment residual ratio with respect to the comparative sample and high temperature and high humidity in that the change in b * value is small. It turns out that resistance under conditions is excellent.

Claims (10)

하기 화학식(1)로 표시되는 디이모늄 화합물:Dimonium compound represented by following General formula (1):
Figure 112007075742398-PCT00010
(1)
Figure 112007075742398-PCT00010
(One)
식(1) 중에서, In formula (1), R1~R8 은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기이고, R9~R10 은 각각 독립적으로 할로겐 원자를 가질 수 있는 지방족 탄화수소기이며, R11은 치환 또는 비치환의 아릴 기이고, 또 R 1 to R 8 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a hydrogen atom or a substituent, R 9 to R 10 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, and R 11 is a substituted or unsubstituted aryl And 고리 A 및 고리 B는 치환기를 가질 수 있다. Ring A and Ring B may have a substituent.
청구항 1에 있어서, 화학식(1)의 R9~R10 이 플루오르 원자를 갖는 지방족 탄화수소기인 디이모늄 화합물. The dimonium compound according to claim 1, wherein R 9 to R 10 in formula (1) are aliphatic hydrocarbon groups having a fluorine atom. 청구항 2에 있어서, 화학식(1)의 R9~R10 이 트리플루오로메틸기인 디이모늄 화합물. The dimonium compound according to claim 2, wherein R 9 to R 10 in formula (1) are trifluoromethyl groups. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 화학식(1)의 R11이 펜타플루오로페닐기인 디이모늄 화합물. The dimonium compound according to any one of claims 1 to 3, wherein R 11 in formula (1) is a pentafluorophenyl group. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 화학식(1)의 R1~R8 중 어느 하나가 1개의 직쇄 또는 분기쇄의 알킬 기인 디이모늄 화합물. The dimonium compound according to any one of claims 1 to 4, wherein any one of R 1 to R 8 of formula (1) is one linear or branched alkyl group. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 화학식(1)의 R1~R8 가 전부 n-부틸기 또는 이소부틸기인 디이모늄 화합물. The dimonium compound according to any one of claims 1 to 4, wherein all of R 1 to R 8 in formula (1) are n-butyl groups or isobutyl groups. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 디이모늄 화합물 및 수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물. The dimonium compound and resin of any one of Claims 1-6 are contained, The resin composition characterized by the above-mentioned. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 디이모늄 화합물을 함유하는 층을 갖는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필터. The near-infrared absorption filter which has a layer containing the dimonium compound in any one of Claims 1-6. 청구항 8에 기재된 근적외선 흡수 필터를 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이. The near-infrared absorption filter of Claim 8 was provided, The plasma display characterized by the above-mentioned. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 디이모늄 화합물을 기록층에 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보 기록매체. An optical information recording medium comprising the dimonium compound according to any one of claims 1 to 6 in a recording layer.
KR1020077024348A 2005-05-13 2006-04-25 Dimonium Compounds and Uses thereof Withdrawn KR20080007333A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005140629 2005-05-13
JPJP-P-2005-00140629 2005-05-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080007333A true KR20080007333A (en) 2008-01-18

Family

ID=37396398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077024348A Withdrawn KR20080007333A (en) 2005-05-13 2006-04-25 Dimonium Compounds and Uses thereof

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4908414B2 (en)
KR (1) KR20080007333A (en)
CN (1) CN101175716A (en)
TW (1) TW200642994A (en)
WO (1) WO2006120888A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012091379A3 (en) * 2010-12-28 2012-09-27 에스케이케미칼주식회사 Diimmonium-based component and near infrared absorption filter using same

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007148595A1 (en) * 2006-06-20 2007-12-27 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Diimonium compound and use thereof
JP5469841B2 (en) * 2008-09-01 2014-04-16 東京応化工業株式会社 Resist composition, resist pattern forming method, novel compound, and acid generator
CN102395642A (en) * 2009-04-14 2012-03-28 株式会社日本触媒 Near infrared ray-absorbable adhesive composition
JP5824386B2 (en) * 2012-02-29 2015-11-25 富士フイルム株式会社 Infrared absorbing composition and infrared cut filter
WO2015198782A1 (en) * 2014-06-25 2015-12-30 ソニー株式会社 Infrared blocking filter, solid-state imaging element and imaging device
JP6536589B2 (en) 2014-12-04 2019-07-03 Jsr株式会社 Solid-state imaging device
TWI675907B (en) 2015-01-21 2019-11-01 日商Jsr股份有限公司 Solid imaging device
WO2016181987A1 (en) * 2015-05-12 2016-11-17 旭硝子株式会社 Optical filter and imaging device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005049848A (en) * 2003-07-16 2005-02-24 Asahi Glass Co Ltd Optical film
EP1787978B1 (en) * 2004-09-06 2011-06-22 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Diimmonium compound and use thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012091379A3 (en) * 2010-12-28 2012-09-27 에스케이케미칼주식회사 Diimmonium-based component and near infrared absorption filter using same
KR101251898B1 (en) * 2010-12-28 2013-04-08 에스케이케미칼주식회사 Diimmonium type compound and near infrared ray absorption filter using the same
US9158048B2 (en) 2010-12-28 2015-10-13 Sk Chemicals Co., Ltd. Diimmonium-based component and near infrared absorption filter using same

Also Published As

Publication number Publication date
TW200642994A (en) 2006-12-16
JPWO2006120888A1 (en) 2008-12-18
CN101175716A (en) 2008-05-07
JP4908414B2 (en) 2012-04-04
WO2006120888A1 (en) 2006-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4800769B2 (en) Diimonium salt compounds and uses thereof
JP4825676B2 (en) Diimonium compounds and uses thereof
JP3699464B2 (en) Diimonium salt compound, near-infrared absorption filter using the same, and optical information recording medium
KR100603897B1 (en) Aluminum salts or dimonium salt compounds and uses thereof
JP4361481B2 (en) Mixture of diimonium salt compound, mixture of aminium salt compound and use thereof
JP2005336150A (en) Diimmonium compound and use of the same
KR20080007333A (en) Dimonium Compounds and Uses thereof
JP5250415B2 (en) Diimonium compounds and uses thereof
JP4895549B2 (en) Aminium compounds and uses thereof
JP2000229931A (en) Aluminum salt, and photorecording medium and infrared cutting filter using the same
CN100430374C (en) Diimonium salt compounds and uses thereof
JP2006347938A (en) Diimmonium compound and use of the same
JP2008297502A (en) Diimmonium compound and its use
JP4252961B2 (en) Diimonium salt compound, near-infrared absorbing filter and optical information recording medium using the same
JP2002275134A (en) Infrared light-absorbing compound and its use

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20071023

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
PC1203 Withdrawal of no request for examination
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid