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KR20070113812A - LCD panel - Google Patents

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KR20070113812A
KR20070113812A KR1020060047575A KR20060047575A KR20070113812A KR 20070113812 A KR20070113812 A KR 20070113812A KR 1020060047575 A KR1020060047575 A KR 1020060047575A KR 20060047575 A KR20060047575 A KR 20060047575A KR 20070113812 A KR20070113812 A KR 20070113812A
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KR
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electrode
opening pattern
sub
liquid crystal
domain
Prior art date
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Withdrawn
Application number
KR1020060047575A
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Korean (ko)
Inventor
여용석
박원상
김재현
조용석
이재영
이승규
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
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Abstract

표시 품질을 향상시키기 위한 액정표시패널이 개시된다. 액정표시패널은 표시 기판과 대향 기판 및 액정층을 포함한다. 표시 기판은 제1 도메인 및 제2 도메인으로 구획된 화소부 상에 형성되고, 제1 도메인에 대응하는 제1 서브 전극과 제1 서브 전극에 전기적으로 연결되며, 제2 도메인에 대응하는 제2 서브 전극을 포함한다. 대향 기판은 표시 기판에 대향하여 배치되며, 제1 서브 전극의 중앙부에 대응하는 제1 홀 및 제2 서브 전극의 중앙부에 대응하는 제2 홀이 형성된 공통 전극을 포함한다. 액정층은 표시 기판과 대향 기판 사이에 개재된다. 이때, 제1 서브 전극에는 평면상에서 제1 홀을 둘러싸는 제1 개구 패턴이 형성되고, 공통 전극에는 제1 개구 패턴을 둘러싸는 제2 개구 패턴이 형성된다. 이에 따라, 화소부 내에 형성되는 전기력선 간의 간격이 좁아지므로, 액정층의 응답 속도 지연 구간을 감소시킬 수 있다.A liquid crystal display panel for improving display quality is disclosed. The liquid crystal display panel includes a display substrate, an opposing substrate, and a liquid crystal layer. The display substrate is formed on the pixel portion partitioned into the first domain and the second domain, and electrically connected to the first sub electrode and the first sub electrode corresponding to the first domain, and the second sub corresponding to the second domain. An electrode. The opposing substrate is disposed to face the display substrate, and includes a common electrode having a first hole corresponding to the center portion of the first sub electrode and a second hole corresponding to the center portion of the second sub electrode. The liquid crystal layer is interposed between the display substrate and the opposing substrate. In this case, a first opening pattern surrounding the first hole is formed in the first sub-electrode, and a second opening pattern surrounding the first opening pattern is formed in the common electrode. Accordingly, the interval between electric field lines formed in the pixel portion is narrowed, so that the response speed delay section of the liquid crystal layer can be reduced.

Description

액정표시패널{LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL}Liquid Crystal Display Panel {LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL}

도 1은 본 발명의 실시예에 따는 액정표시패널을 도시한 평면도이다. 1 is a plan view illustrating a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 I-I'선을 따라 절단한 단면도이다. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 액정표시패널에서 화소 전극만을 분리하여 도시한 평면도이다.3 is a plan view illustrating only a pixel electrode separated from the liquid crystal display panel of FIG. 1.

도 4는 도 1에 도시된 액정표시패널에서 공통 전극만을 분리하여 도시한 평면도이다.FIG. 4 is a plan view illustrating only a common electrode separated from the liquid crystal display panel shown in FIG. 1.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 표시 기판 110 : 제1 투명 기판100 display substrate 110 first transparent substrate

120 : 게이트 전극 130 : 게이트 절연층120: gate electrode 130: gate insulating layer

140 : 채널층 154 : 소스 전극140: channel layer 154: source electrode

156 : 드레인 전극 157 : 가교 전극156: drain electrode 157: crosslinked electrode

158 : 스토리지 전극 160 : 패시베이션층158: storage electrode 160: passivation layer

170 : 유기 절연층 180 : 화소 전극170: organic insulating layer 180: pixel electrode

200 : 대향 기판 210 : 제2 투명 기판200: opposing substrate 210: second transparent substrate

220 : 차광층 230 : 컬러 필터층220: light shielding layer 230: color filter layer

240 : 오버 코트층 250 : 공통 전극240: overcoat layer 250: common electrode

본 발명은 액정표시패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표시품질을 향상시키기 위한 액정표시패널에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display panel, and more particularly, to a liquid crystal display panel for improving display quality.

일반적으로, 액정표시패널은 각 화소의 구동을 스위칭 하는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된 어레이 기판과, 공통 전극이 형성된 대향 기판과, 두 기판 사이에 밀봉된 액정층으로 구성된다. 상기 액정표시패널은 상기 액정층에 전압을 인가하여 광의 투과율을 제어하는 방식으로 화상을 표시한다. In general, a liquid crystal display panel includes an array substrate on which a thin film transistor (TFT) for switching driving of each pixel is formed, an opposing substrate on which a common electrode is formed, and a liquid crystal layer sealed between the two substrates. The liquid crystal display panel displays an image by applying a voltage to the liquid crystal layer to control light transmittance.

상기 액정표시패널은 상기 두 기판 사이에 전압이 인가되지 않을 경우 액정분자가 수직 방향으로 배열되어 블랙을 표시하는 VA 모드가 개발된 바 있다. 최근에는, 상기 VA 모드의 시야각을 개선하기 위해 공통 전극과 화소 전극 내에 개구 패턴을 형성하여, 각각의 화소 내에 다중 도메인을 정의하는 PVA 모드가 개발되고 있다. In the liquid crystal display panel, a VA mode has been developed in which liquid crystal molecules are arranged in a vertical direction to display black when no voltage is applied between the two substrates. Recently, in order to improve the viewing angle of the VA mode, a PVA mode has been developed in which opening patterns are formed in the common electrode and the pixel electrode to define multiple domains in each pixel.

한편, 상기 PVA 모드는 전기력선이 생성되는 도메인 가장자리영역과 상기 개구 패턴에 인접하는 영역에서는 액정의 응답 속도가 빠르나, 상기 가장자리 영역과 상기 개구 패턴 사이에 해당하는 중간 영역에서는 전기력선과의 거리가 멀어지므로 액정의 응답 속도가 상대적으로 느려지는 단점이 있다. 특히, 화소 내에 정의되는 도메인의 수가 적을 경우, 상기 중간 영역의 폭이 증가하므로, 상기 중간 영역에서의 액정의 응답 속도가 더욱 느려지는 문제점이 있다. 이에 따라, 액정의 응답 속 도를 향상시키기 위하여 화소 내에 정의하는 도메인 수를 증가시킬 경우, 화소의 개구율이 저하되어 표시 화면의 휘도가 감소하는 단점이 있다. On the other hand, in the PVA mode, the response speed of the liquid crystal is high in the domain edge region where the electric field lines are generated and the region adjacent to the opening pattern, but the distance from the electric field line becomes far in the middle region corresponding to the edge region and the opening pattern. There is a disadvantage that the response speed of the liquid crystal is relatively slow. In particular, when the number of domains defined in the pixel is small, the width of the intermediate region is increased, and thus, the response speed of the liquid crystal in the intermediate region is further slowed. Accordingly, when the number of domains defined in the pixel is increased to improve the response speed of the liquid crystal, the aperture ratio of the pixel is lowered, thereby reducing the luminance of the display screen.

이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 액정층의 응답속도를 균일하게 함으로써 표시 품질을 향상시키기 위한 액정표시패널을 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem of the present invention is to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel for improving display quality by making the response speed of the liquid crystal layer uniform.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위하여 일실시예에 따른 액정표시패널은, 표시 기판, 대향 기판 및 액정층을 포함하다. 표시 기판은 제1 도메인 및 제2 도메인으로 구획된 화소부 상에 형성되고, 상기 제1 도메인에 대응하는 제1 서브 전극과, 상기 제1 서브 전극에 전기적으로 연결되며 상기 제2 도메인에 대응하는 제2 서브 전극을 포함한다. 상기 대향 기판은 상기 표시 기판에 대향하여 배치되며, 상기 제1 서브 전극의 중앙부에 대응하는 제1 홀 및 상기 제2 서브 전극의 중앙부에 대응하는 제2 홀이 형성된 공통 전극을 포함한다. 상기 액정층은 상기 표시 기판과 대향 기판 사이에 개재된다. 상기 제1 서브 전극에는 평면상에서 상기 제1 홀을 둘러싸는 제1 개구 패턴이 형성되고, 상기 공통 전극에는 상기 제1 개구 패턴을 둘러싸는 제2 개구 패턴이 형성된다.In order to achieve the above object of the present invention, a liquid crystal display panel includes a display substrate, an opposing substrate, and a liquid crystal layer. The display substrate is formed on the pixel portion partitioned into a first domain and a second domain, and is electrically connected to the first sub-electrode corresponding to the first domain and the first sub-electrode and corresponding to the second domain. It includes a second sub electrode. The opposing substrate may be disposed to face the display substrate and include a common electrode having a first hole corresponding to a center portion of the first sub-electrode and a second hole corresponding to a center portion of the second sub-electrode. The liquid crystal layer is interposed between the display substrate and the opposing substrate. A first opening pattern surrounding the first hole is formed in the first sub-electrode, and a second opening pattern surrounding the first opening pattern is formed in the common electrode.

이러한 액정표시패널에 의하면, 각 도메인에 배치된 액정층의 응답속도지연구간을 감소시킬 수 있다.According to such a liquid crystal display panel, it is possible to reduce the response speed study between the liquid crystal layers disposed in each domain.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한 다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따는 액정표시패널을 도시한 평면도이다. 1 is a plan view illustrating a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 I-I'선을 따라 절단한 단면도이다. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 액정표시장치(400)는 표시 기판(100), 상기 표시 기판(100)에 대향하는 대향 기판(200) 및 상기 표시 기판(100)과 대향 기판(200) 사이에 개재된 액정층(300)을 포함한다. 1 and 2, the liquid crystal display device 400 may include a display substrate 100, an opposing substrate 200 facing the display substrate 100, and a gap between the display substrate 100 and the opposing substrate 200. It includes a liquid crystal layer 300 interposed therein.

상기 표시 기판(100)은 제1 투명 기판(110)을 포함한다. 상기 제1 투명 기판(110) 상에는 제1 방향으로 연장된 복수의 게이트 배선(GLn-1,GLn..)과 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장된 복수의 소스 배선들(DLm-1,DLm..)이 형성된다. 상기 소스 배선들과 게이트 배선들에 의해 상기 제1 투명 기판(110) 상에는 복수의 화소부들이 정의된다. The display substrate 100 includes a first transparent substrate 110. On the first transparent substrate 110, a plurality of gate lines GLn-1 and GLn .. extending in a first direction and a plurality of source lines DLm− extending in a second direction crossing the first direction. 1, DLm ..) is formed. A plurality of pixel parts is defined on the first transparent substrate 110 by the source wirings and the gate wirings.

구체적으로, 각 화소부(P)에는 제n 번째 게이트 배선(GLn)에 연결된 게이트 전극(120)과, 제m 번째 소스 배선(DLm)에 연결된 소스 전극(154) 및 상기 소스 전극(154)으로부터 소정 간격 이격된 드레인 전극(156)을 포함하는 스위칭 소자(TFT)가 형성된다.Specifically, each pixel portion P includes a gate electrode 120 connected to the nth gate line GLn, a source electrode 154 connected to the mth source line DLm, and the source electrode 154. A switching element TFT including the drain electrodes 156 spaced apart from each other is formed.

상기 스위칭 소자(TFT)의 게이트 전극(120)과 소스 및 드레인 전극(154,156) 사이에는 게이트 절연층(130) 및 반도체층(140)이 순차적으로 형성된다. 상기 게이트 절연층(130)은 상기 제1 투명 기판(110) 전면에 대응하여 형성된다. 상기 게이트 절연층(130)은 일례로 실리콘 질화막(SiNx)으로 형성되며, 플라즈마 화학 기상 증착 방식(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)으로 형성할 수 있 다. The gate insulating layer 130 and the semiconductor layer 140 are sequentially formed between the gate electrode 120 and the source and drain electrodes 154 and 156 of the switching element TFT. The gate insulating layer 130 is formed to correspond to the entire surface of the first transparent substrate 110. For example, the gate insulating layer 130 may be formed of silicon nitride (SiNx), and may be formed by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD).

상기 반도체(140)층은 상기 게이트 전극(120)과 중첩되도록 상기 게이트 절연층(130) 상에 형성되며, 활성층(140a) 및 저항성 접촉층(140b)이 적층된 구조로 형성된다. 일례로, 상기 활성층(140a)은 비정질 실리콘(a-Si:H)으로 이루어지며, 상기 저항성 접촉층(140b)은 n 형 불순물이 고농도로 도핑된 비정질 실리콘(n+ a-Si:H)으로 이루어진다. 이때, 상기 소스 전극(154)과 상기 드레인 전극(156)의 이격부에서는 상기 저항성 접촉층(140b)이 제거되어 상기 활성층(140a)이 노출된다. The semiconductor 140 layer is formed on the gate insulating layer 130 to overlap the gate electrode 120, and has a structure in which an active layer 140a and an ohmic contact layer 140b are stacked. For example, the active layer 140a is made of amorphous silicon (a-Si: H), and the ohmic contact layer 140b is made of amorphous silicon (n + a-Si: H) doped with a high concentration of n-type impurities. . In this case, the ohmic contact layer 140b is removed from the source electrode 154 and the drain electrode 156 to expose the active layer 140a.

상기 드레인 전극(156)은 상기 화소부(P) 내에서 상기 제n 번째 게이트 배선(GLn)과 평행하도록 상기 제1 방향으로 연장되어 형성된다. 따라서, 상기 드레인 전극(156)은 화소부(P)의 제n 번째 게이트 배선(GLn)에 인접한 일단부를 커버한다.The drain electrode 156 extends in the first direction to be parallel to the nth gate line GLn in the pixel portion P. Therefore, the drain electrode 156 covers one end portion adjacent to the n-th gate line GLn of the pixel portion P.

상기 n-1 번째 게이트 배선(GLn-1)과 n 번째 게이트 배선(GLn) 사이에는 상기 제1 방향으로 연장된 스토리지 공통배선(STL)이 형성된다. 상기 게이트 배선들(GLn-1,GLn) 및 상기 스토리지 공통배선(STL)은 동일층에 제1 금속 패턴으로 형성되며, 상기 스토리지 공통배선(STL)은 상기 화소부(P)를 제1 도메인(A1)과 제2 도메인(A2)으로 구획한다. 이때, 상기 제1 도메인(A1)과 상기 제2 도메인(A2)은 동일한 면적으로 구획되는 것이 바람직하다.The storage common line STL extending in the first direction is formed between the n−1 th gate line GLn−1 and the n th gate line GLn. The gate lines GLn−1 and GLn and the storage common line STL are formed on the same layer in a first metal pattern, and the storage common line STL defines the pixel portion P as a first domain. It partitions into A1) and the 2nd domain A2. In this case, it is preferable that the first domain A1 and the second domain A2 are divided into the same area.

상기 화소부(P) 내에 형성된 상기 스토리지 공통배선(STL) 상에는 상기 게이트 절연층(130)을 사이에 두고 스토리지 전극(158)이 형성된다. 상기 스토리지 전극(158)은 가교 전극(157)을 통해 상기 드레인 전극(156)과 전기적으로 연결된다. 상기 소스 배선들(DLm-1,DLm), 스토리지 전극(158), 가교 전극(157) 및 드레인 전 극(156)은 제2 금속 패턴으로 동일층에 형성된다. The storage electrode 158 is formed on the storage common line STL formed in the pixel portion P with the gate insulating layer 130 interposed therebetween. The storage electrode 158 is electrically connected to the drain electrode 156 through a bridged electrode 157. The source wirings DLm-1 and DLm, the storage electrode 158, the bridged electrode 157, and the drain electrode 156 are formed on the same layer in a second metal pattern.

상기 스토리지 공통배선(STL)과 상기 스토리지 전극(158)은 상기 게이트 절연층(130)을 유전체로 하여 스토리지 캐패시터(CST)를 형성한다. 상기 스토리지 캐패시터(CST)에는 한 프레임 동안의 영상을 유지하기에 충분한 화소 전압이 충전된다.The storage common line STL and the storage electrode 158 form a storage capacitor CST using the gate insulating layer 130 as a dielectric. The storage capacitor CST is charged with a pixel voltage sufficient to hold an image for one frame.

상기 제2 금속 패턴이 형성된 게이트 절연층(130) 상에는 패시베이션층(160) 및 유기 절연층(170)이 순차적으로 형성된다. 상기 패시베이션층(160)은 실리콘 질화막(SiNx) 또는 실리콘 산화막(SiOx)으로 이루어지며, 화학 기상 증착 방식으로 형성할 수 있다. 상기 유기 절연층(170)은 일례로 투명한 재질의 감광성 유기 조성물로 이루어지며, 상기 스위칭 소자(TFT)가 형성된 표시 기판(100)을 평탄화시킨다. 상기 패시베이션층(160) 및 상기 유기 절연층(170)에는 상기 스토리지 전극(158)의 일부를 노출시키는 콘택홀(172)이 형성된다. 각각의 스토리지 전극(158) 상에 형성되는 상기 콘택홀(172)들은 복수개로 형성될 수도 있다. The passivation layer 160 and the organic insulating layer 170 are sequentially formed on the gate insulating layer 130 on which the second metal pattern is formed. The passivation layer 160 may be formed of a silicon nitride layer (SiNx) or a silicon oxide layer (SiOx), and may be formed by chemical vapor deposition. For example, the organic insulating layer 170 may be formed of a photosensitive organic composition made of a transparent material, and planarize the display substrate 100 on which the switching element TFT is formed. A contact hole 172 exposing a portion of the storage electrode 158 is formed in the passivation layer 160 and the organic insulating layer 170. A plurality of contact holes 172 formed on each storage electrode 158 may be formed.

각 화소부(P)에 대응하는 상기 유기 절연층(170) 상에는 화소 전극(180)이 형성된다. 상기 화소 전극(180)은 도 1 내지 도 3을 참조하여 상세하게 설명하도록 한다. The pixel electrode 180 is formed on the organic insulating layer 170 corresponding to each pixel portion P. The pixel electrode 180 will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3.

도 3은 도 1에 도시된 액정표시패널에서 화소 전극만을 분리하여 도시한 평면도이다.3 is a plan view illustrating only a pixel electrode separated from the liquid crystal display panel of FIG. 1.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 화소 전극(180)은 광이 투과할 수 있는 투명한 도전성 물질로 이루어진다. 예를 들어, 상기 화소 전극(180)은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)등으로 이루어지며, 사진-식각 공정에 의하여 각 화소부(P)에 대응하도록 패터닝(patterning)된다. 서로 인접하는 화소부에 형성된 화소 전극들 간의 이격 간격은 대략 4㎛ 인 것이 바람직하다.1 to 3, the pixel electrode 180 is made of a transparent conductive material through which light can pass. For example, the pixel electrode 180 is made of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or the like, and is patterned to correspond to each pixel portion P by a photo-etching process. It is preferable that the separation interval between the pixel electrodes formed in the adjacent pixel portions is approximately 4 μm.

구체적으로, 상기 화소부(P)에 형성된 화소 전극(180)은 상기 제1 도메인(A1)에 대응하는 제1 서브 전극(S1), 상기 제2 도메인(A2)에 대응하는 제2 서브 전극(S2) 및 상기 제1 서브 전극(S1)과 제2 서브 전극(S2)을 연결시키는 제3 서브 전극(S3)을 포함한다.In detail, the pixel electrode 180 formed in the pixel portion P may include a first sub-electrode S1 corresponding to the first domain A1 and a second sub-electrode corresponding to the second domain A2. S2) and a third sub-electrode S3 connecting the first sub-electrode S1 and the second sub-electrode S2.

상기 제1 서브 전극(S1)은 상기 대향 기판(200)에 형성된 공통 전극(250)과 전계를 형성하여 상기 제1 도메인(A1)에 대응하는 액정층(300)의 액정 분자를 배열시킨다.The first sub-electrode S1 forms an electric field with the common electrode 250 formed on the counter substrate 200 to arrange liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 300 corresponding to the first domain A1.

마찬가지로, 상기 제2 서브 전극(S2)은 상기 대향 기판(200)에 형성된 공통 전극(250)과 전계를 형성하여 상기 제2 도메인(A2)에 대응하는 액정층(300)의 액정 분자를 배열시킨다. Similarly, the second sub-electrode S2 forms an electric field with the common electrode 250 formed on the counter substrate 200 to arrange liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 300 corresponding to the second domain A2. .

상기 제3 서브 전극(S3)은 상기 스토리지 공통 배선(STL) 상에 형성되며, 상기 제1 서브 전극(S1)과 제2 서브 전극(S2)을 연결시킨다. 이때, 상기 제3 서브 전극(S3)은 상기 제1 서브 전극(S1)과 제2 서브 전극(S2)을 뚜렷하게 구분하기 위하여 상기 제1 및 제2 서브 전극(S1,S2) 보다 좁은 폭으로 형성된다. The third sub-electrode S3 is formed on the storage common line STL and connects the first sub-electrode S1 and the second sub-electrode S2. In this case, the third sub-electrode S3 is formed to have a narrower width than the first and second sub-electrodes S1 and S2 to clearly distinguish the first sub-electrode S1 and the second sub-electrode S2. do.

또한 상기 제3 서브 전극(S3)은 상기 콘택홀(172)을 통해 상기 스토리지 전극(158)과 접촉하며, 상기 스위칭 소자(TFT)로부터 제공된 화소 전압을 인가 받는다. 상기 제3 서브 전극(S3)에 인가된 화소 전압은 상기 제1 서브 전극(S1) 및 제2 서브 전극(S2)으로 제공된다.In addition, the third sub-electrode S3 contacts the storage electrode 158 through the contact hole 172 and receives a pixel voltage provided from the switching element TFT. The pixel voltage applied to the third sub electrode S3 is provided to the first sub electrode S1 and the second sub electrode S2.

한편, 상기 제1 서브 전극(S1)과, 상기 제2 서브 전극(S2) 내에는 각각 제1 개구 패턴(181) 및 제2 개구 패턴(182)이 형성된다. 상기 제1 개구 패턴(181)은 평면상에서 공통 전극(250)에 형성된 제1 홀(H1)을 둘러싸도록 형성된다. Meanwhile, a first opening pattern 181 and a second opening pattern 182 are formed in the first sub electrode S1 and the second sub electrode S2, respectively. The first opening pattern 181 is formed to surround the first hole H1 formed in the common electrode 250 on a plane.

상기 제1 개구 패턴(181)은 일례로 3 내지 4㎛의 폭으로 형성된다. 상기 제1 개구 패턴(181)은 상기 제1 서브 전극(S1)을 제1 내부 전극(IE1)과, 상기 제1 내부 전극(IE1)을 둘러싸는 제1 외부 전극(OE1)으로 구획한다. 이때, 상기 제1 내부 전극(IE1)과 상기 제1 외부 전극(OE1) 사이에는 제1 연결 전극(BE1)이 형성되어 상기 제1 내부 전극(IE1)과 제1 외부 전극(OE2)을 전기적으로 연결시킨다. 한편, 상기 제1 연결 전극(BE1)은 서로 대칭되는 부위에 복수 개로 형성될 수도 있다. The first opening pattern 181 is formed to have a width of 3 to 4 μm, for example. The first opening pattern 181 divides the first sub-electrode S1 into a first internal electrode IE1 and a first external electrode OE1 surrounding the first internal electrode IE1. In this case, a first connection electrode BE1 is formed between the first internal electrode IE1 and the first external electrode OE1 to electrically connect the first internal electrode IE1 and the first external electrode OE2. Connect it. The first connection electrode BE1 may be formed in plural in symmetrical areas.

상기 제2 개구 패턴(182)은 평면상에서 상기 공통 전극(250)에 형성된 제2 홀(H2)을 둘러싸도록 형성된다. 상기 제2 개구 패턴(182)은 상기 제1 개구 패턴(181)과 동일한 폭으로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 제2 개구 패턴(182)에 의해 상기 제2 서브 전극은 상기 제2 개구 패턴(182)의 내측에 형성된 제2 내부 전극(IE2)과 상기 제2 내부 전극(IE2)을 둘러싸는 제2 외부 전극(OE2)으로 구획된다. 상기 제2 내부 전극(IE2)과 상기 제2 외부 전극(OE2) 사이에는 제2 연결 전극(BE2)이 형성되어 상기 제2 내부 전극(IE2)과 상기 제2 외부 전극(OE2)을 전기적으로 연결시킨다. The second opening pattern 182 is formed to surround the second hole H2 formed in the common electrode 250 on a plane. The second opening pattern 182 may be formed to have the same width as the first opening pattern 181. The second sub-electrode is formed by the second opening pattern 182 to surround the second internal electrode IE2 and the second internal electrode IE2 formed inside the second opening pattern 182. It is partitioned by the electrode OE2. A second connection electrode BE2 is formed between the second internal electrode IE2 and the second external electrode OE2 to electrically connect the second internal electrode IE2 and the second external electrode OE2. Let's do it.

한편, 도 1 및 도 3에서는 상기 제1 및 제2 개구 패턴(181,182)을 사각형으로 도시하였으나, 상기 제1 및 제2 개구 패턴(181,182)의 형상은 이에 한정되지 않 으며, 원형, 타원형 및 다각형으로 형성될 수도 있다. 1 and 3 illustrate the first and second opening patterns 181 and 182 in a quadrangular shape, but the shapes of the first and second opening patterns 181 and 182 are not limited thereto. It may be formed as.

한편, 표시 기판(100)은 상기 소스 배선들(DLm-1,DLm,DLm+1)의 하부에 상기 소스 배선들(DLm-1,DLm)보다 넓은 폭으로 형성된 제1 및 제2 차광 패턴(122,124)을 더 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 차광 패턴(122,124)은 상기 게이트 배선들(GLn-1, GLn) 및 스토리지 공통배선(STL)과 동일한 제1 금속 패턴으로 형성된다. 상기 제1 및 제2 차광 패턴(122,124)은 제1 방향으로 인접하는 화소부(P)들 간에 화소 전극(180)이 덮이지 않은 영역으로 배면광이 제공되는 것을 방지한다. 구체적으로, 상기 제1 차광 패턴(122)은 상기 제1 서브 전극(S1)들 사이에 형성된다. 상기 제2 차광 패턴(124)은 상기 제2 서브 전극(S2)들 사이에 형성된다. 이에 따라, 제1 방향으로 인접하는 화소부들(P1,P2) 간의 화소 전극(180)이 덮이지 않은 영역에서 발생하는 액정의 비정상적인 동작에 의한 누설광을 방지할 수 있다. The display substrate 100 may include first and second light blocking patterns formed at a lower width of the source lines DLm-1, DLm, and DLm + 1 than the source lines DLm-1 and DLm. 122, 124). The first and second light blocking patterns 122 and 124 may be formed of the same first metal pattern as the gate lines GLn-1 and GLn and the storage common line STL. The first and second light blocking patterns 122 and 124 prevent back light from being provided to areas where the pixel electrode 180 is not covered between the pixel parts P adjacent in the first direction. In detail, the first light blocking pattern 122 is formed between the first sub electrodes S1. The second light blocking pattern 124 is formed between the second sub electrodes S2. Accordingly, it is possible to prevent leakage light due to abnormal operation of the liquid crystal generated in the region where the pixel electrode 180 between the pixel portions P1 and P2 adjacent in the first direction is not covered.

도시하지는 않았으나, 상기 표시 기판(100)은 상기 화소 전극(180)이 형성된 제1 투명 기판(110) 상에 형성되며, 상기 액정층(300)을 배향하기 위한 제1 배향막을 더 포함할 수도 있다. Although not illustrated, the display substrate 100 may be formed on the first transparent substrate 110 on which the pixel electrode 180 is formed, and may further include a first alignment layer for aligning the liquid crystal layer 300. .

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 대향 기판(200)은 제2 투명 기판(210)을 포함한다. 상기 표시 기판(100)과 대향하는 상기 제2 투명 기판(210)의 대향면 상에는 차광층(220), 컬러필터층(230), 오버 코트층(240) 및 공통 전극(250)이 순차적으로 형성된다.1 and 2, the opposing substrate 200 includes a second transparent substrate 210. The light blocking layer 220, the color filter layer 230, the overcoat layer 240, and the common electrode 250 are sequentially formed on the opposite surface of the second transparent substrate 210 facing the display substrate 100. .

상기 차광층(220)은 상기 게이트 배선(GL), 소스 배선(DL), 스위칭 소자(TFT)에 대응하여 형성되며, 서로 인접하는 화소부(P)들 사이에 화소 전극(180) 이 형성되지 않은 영역에서 발생하는 누설광을 차단한다. 상기 차광층(220)은 일례로 광을 차단할 수 있는 재질의 감광성 유기 조성물로 이루어지며, 일련의 사진 공정(photolithography)을 통해 패터닝할 수 있다.The light blocking layer 220 is formed to correspond to the gate line GL, the source line DL, and the switching element TFT, and the pixel electrode 180 is not formed between the pixel portions P adjacent to each other. Blocks leaked light from unseen areas. The light blocking layer 220 is formed of, for example, a photosensitive organic composition of a material capable of blocking light, and may be patterned through a series of photolithography.

상기 컬러필터층(230)은 각 화소부(P)에 대응하여 형성된 복수의 컬러 필터들을 포함하며, 일례로, 적색, 녹색 및 청색의 컬러 필터로 형성된다. 상기 컬러 필터들은 상기 차광층(220) 상에서 소정간격 중첩되도록 형성될 수 있다.The color filter layer 230 includes a plurality of color filters formed corresponding to each pixel unit P. For example, the color filter layer 230 is formed of a color filter of red, green, and blue. The color filters may be formed to overlap a predetermined interval on the light blocking layer 220.

상기 오버 코트층(240)은 상기 차광층(220) 및 상기 컬러필터층(230)이 형성된 제2 투명 기판(210)을 평탄화시킨다. 상기 오버 코트층(240)은 투명한 재질로 형성되는 것이 바람직하다. 한편, 상기 오버 코트층(240)은 생략될 수도 있다.The overcoat layer 240 flattens the second transparent substrate 210 on which the light blocking layer 220 and the color filter layer 230 are formed. The overcoat layer 240 is preferably formed of a transparent material. On the other hand, the overcoat layer 240 may be omitted.

상기 공통전극(250)은 도 1, 도 2 및 도 4를 참조하여 상세하게 설명하도록 한다. The common electrode 250 will be described in detail with reference to FIGS. 1, 2, and 4.

도 4는 도 1에 도시된 액정표시패널에서 공통 전극만을 분리하여 도시한 평면도이다.FIG. 4 is a plan view illustrating only a common electrode separated from the liquid crystal display panel shown in FIG. 1.

도 1, 도 2 및 도 4 참조하면, 상기 공통 전극(250)은 상기 대향 기판(200) 전면에 대응하여 상기 오버 코트층(240) 상에 형성되며, 상기 각 화소부(P)에 대응하여 소정의 개구 패턴이 형성된다. 1, 2 and 4, the common electrode 250 is formed on the overcoat layer 240 to correspond to the entire surface of the opposing substrate 200, and correspond to the pixel portion P. The predetermined opening pattern is formed.

구체적으로, 상기 공통 전극(250)에는 상기 화소부(P)의 제1 도메인(A1)에 대응하여 제1 홀(H1) 및 제3 개구 패턴(251)이 형성된다. 상기 제1 홀(H1)은 상기 제1 도메인(A1)의 중앙부이자, 상기 제1 내부 전극(IE1)의 중앙부에 대응하여 형성된다. 상기 제1 홀(H1)은 약 10㎛의 지름을 갖도록 형성되는 것이 바람직하다.In detail, a first hole H1 and a third opening pattern 251 are formed in the common electrode 250 to correspond to the first domain A1 of the pixel portion P. The first hole H1 is formed at the center of the first domain A1 and corresponds to the center of the first internal electrode IE1. The first hole H1 is preferably formed to have a diameter of about 10 μm.

상기 제3 개구 패턴(251)은 평면상에서 상기 제1 개구 패턴(181)을 둘러싸도록 형성되며, 상기 제1 개구 패턴(181)으로부터 소정 간격의 이격 폭을 갖도록 형성될 수도 있고, 상기 제1 개구 패턴(181)과 인접하게 형성될 수도 있다. 이때, 상기 제3 개구 패턴(251)은 상기 제1 개구 패턴(181)과 동일한 폭으로 형성되는 것이 바람직하다. The third opening pattern 251 is formed to surround the first opening pattern 181 on a plane, and may be formed to have a width spaced apart from the first opening pattern 181 by a predetermined interval, or the first opening. It may be formed adjacent to the pattern 181. In this case, the third opening pattern 251 may be formed to have the same width as the first opening pattern 181.

한편, 도시하지는 않았으나 상기 제3 개구 패턴(251)은 상기 제1 개구 패턴(181)의 내측으로 형성될 수도 있다. Although not shown, the third opening pattern 251 may be formed inside the first opening pattern 181.

상기 화소부(P)의 제2 도메인(A2)에 대응하는 공통 전극(250)에는 제2 홀(H1) 및 제4 개구 패턴(252)이 형성된다. 상기 제2 홀(H2)은 상기 제2 도메인(A1)의 중앙부이자, 상기 제2 내부 전극(IE2)의 중앙부에 대응하여 형성된다. 상기 제2 홀은(H2) 상기 제1 홀(H1)과 동일한 크기로 형성된다.A second hole H1 and a fourth opening pattern 252 are formed in the common electrode 250 corresponding to the second domain A2 of the pixel portion P. The second hole H2 is formed at the center of the second domain A1 and corresponding to the center of the second internal electrode IE2. The second hole H2 is formed to have the same size as the first hole H1.

상기 제4 개구 패턴(252)은 평면상에서 상기 제2 개구 패턴(182)을 둘러싸도록 형성되며, 상기 제2 개구 패턴(182)으로부터 소정 간격의 이격 폭을 갖도록 형성될 수도 있고, 상기 제2 개구 패턴(182)과 인접하게 형성될 수도 있다. 이때 상기 제4 개구 패턴(252)은 상기 제2 개구 패턴(182)과 동일한 폭으로 형성되는 것이 바람직하다. The fourth opening pattern 252 is formed to surround the second opening pattern 182 on a plane, and may be formed to have a predetermined width spaced apart from the second opening pattern 182. It may be formed adjacent to the pattern 182. In this case, the fourth opening pattern 252 is preferably formed to have the same width as the second opening pattern 182.

한편, 도시하지는 않았으나 상기 제4 개구 패턴(252)은 상기 제2 개구 패턴(182)의 내측으로 형성될 수도 있다.Although not illustrated, the fourth opening pattern 252 may be formed inside the second opening pattern 182.

이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 상기 액정층(300)에 포함된 액정 분자들의 배열을 개념적으로 설명하도록 한다. 상기 액정 분자들은 표시 기판(100)과 대향 기판(200) 사이에 전계가 형성되지 않을 경우 수직 배향 상태로 존재하며, 이 때에는 빛이 통과하지 않는다. 이하, 표시 기판(100)과 대향 기판(200) 사이에 전계가 형성될 경우를 상기 제1 도메인(A1)을 예로 들어 설명하도록 한다. Hereinafter, an arrangement of liquid crystal molecules included in the liquid crystal layer 300 will be conceptually described with reference to FIGS. 1 and 2. The liquid crystal molecules exist in a vertical alignment state when no electric field is formed between the display substrate 100 and the counter substrate 200, and light does not pass through the liquid crystal molecules. Hereinafter, a case in which an electric field is formed between the display substrate 100 and the counter substrate 200 will be described using the first domain A1 as an example.

화소 전극(180)과 공통 전극(250)에 전압이 인가될 때, 상기 제1 홀(H1)의 가장자리 영역에는 사선 방향으로 전기력선이 형성되며, 이에 인접한 액정 분자들부터 빠르게 응답한다. 이에 따라, 상기 제1 홀(H1) 주변에서는 상기 전기력선에 수직 또는 수평이 되는 방향으로 액정 분자들이 재배열되어 광을 투과시킨다. When voltage is applied to the pixel electrode 180 and the common electrode 250, an electric force line is formed in an oblique direction in the edge region of the first hole H1, and quickly responds to liquid crystal molecules adjacent thereto. Accordingly, liquid crystal molecules are rearranged in a direction perpendicular to or horizontal to the electric line of force around the first hole H1 to transmit light.

마찬가지로, 상기 제1 서브 전극(S1)의 가장자리 영역에서도 사선 방향으로 전기력이 형성되며, 이에 인접한 액정 분자들부터 빠르게 응답한다. 이에 따라, 상기 가장자리 영역에는 상기 전기력선에 수직 또는 수평이 되는 방향으로 액정분자들이 재배열되어 광을 투과시킨다.Similarly, an electric force is formed in an oblique direction in the edge region of the first sub-electrode S1, and responds quickly to liquid crystal molecules adjacent thereto. Accordingly, liquid crystal molecules are rearranged in the edge region in a direction perpendicular to or horizontal to the electric field line to transmit light.

한편, 상기 제1 홀(H1)과 상기 제1 서브 전극(S1)의 가장자리 영역 간의 간격이 넓기 때문에 제1 도메인(A1) 내 형성된 전기력선 간의 간격 또한 넓어진다. 이에 따라, 전기력선과 전기력선 사이에 배치된 액정분자들은 전기력선에 인접한 액정분자들에 비해 상대적으로 응답 속도가 느려진다. Meanwhile, since the distance between the edge area of the first hole H1 and the first sub-electrode S1 is wide, the distance between electric field lines formed in the first domain A1 also increases. Accordingly, the liquid crystal molecules disposed between the electric force lines and the electric force lines have a relatively slow response speed compared to the liquid crystal molecules adjacent to the electric force lines.

따라서, 본 발명에서는 상기 제1 홀(H1)과 상기 제1 서브 전극(S1)의 가장자리 영역 사이에 제1 개구 패턴(181) 및 제3 개구 패턴(251)을 형성한다. 상기 제1 개구 패턴(181)과 제3 개구 패턴(251)은 서로 어긋나게 형성되므로, 상기 제1 개구 패턴(181)과 제3 개구 패턴(251) 사이에도 사선 방향으로 전기력선이 형성된다. 따라서, 상기 제1 개구 패턴(181)과 제3 개구 패턴(251)에 인접한 액정 분자들이 상 기 사선 방향의 전기력선에 수직, 또는 수평이 되는 방향으로 빠르게 재배열되어 광을 투과시킨다. Therefore, in the present invention, the first opening pattern 181 and the third opening pattern 251 are formed between the first hole H1 and the edge region of the first sub-electrode S1. Since the first opening pattern 181 and the third opening pattern 251 are formed to be offset from each other, an electric force line is also formed in an oblique direction between the first opening pattern 181 and the third opening pattern 251. Therefore, the liquid crystal molecules adjacent to the first opening pattern 181 and the third opening pattern 251 are quickly rearranged in a direction perpendicular to or horizontal to the electric line of the diagonal line to transmit light.

즉, 상기 제1 홀(H1)로부터 상기 제1 서브 전극(S1)의 가장자리 영역 사이에 상기 제1 개구 패턴(181)과 제3 개구 패턴(251)을 형성함으로써, 제1 도메인(A1) 내에 생성되는 전기력선 간의 간격을 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 제1 도메인(A1)에 배치된 액정 분자들의 응답 속도를 전체적으로 균일하게 할 수 있으므로, 표시 품질을 향상시킬 수 있다.That is, the first opening pattern 181 and the third opening pattern 251 are formed between the first hole H1 and the edge area of the first sub-electrode S1 in the first domain A1. The spacing between electric field lines generated can be reduced. Accordingly, the response speed of the liquid crystal molecules disposed in the first domain A1 can be made uniform throughout, and display quality can be improved.

한편, 상기 제2 도메인(A2)에서의 액정 배열도 제1 도메인(A1)에서의 액정배열과 대동소이하므로, 이에 대한 설명은 생략하도록 한다. The liquid crystal array in the second domain A2 is also substantially the same as the liquid crystal array in the first domain A1, and thus description thereof will be omitted.

본 실시예에서는 상기 제1, 제2 , 제3 및 제4 개구 패턴(181,182,251,252)을 한 화소부(P)에 각각 하나씩 형성하였으나, 상기 제1, 제2 , 제3 및 제4 개구 패턴(181,182,251,252)은 각각 복수개로 형성될 수도 있다.In the present exemplary embodiment, the first, second, third and fourth opening patterns 181, 182, 251, and 252 are formed in one pixel portion P, respectively. ) May be formed in plural numbers, respectively.

이상에서 설명한 바와 같이, 화소부 내에 복수의 도메인을 정의하는 PVA모드에서, 각 도메인 내에 형성된 공통 전극과 화소 전극에 서로 미중첩되는 개구 패턴을 형성함으로써 각 도메인 내에 생성되는 전기력선 간의 간격을 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 각 도메인에 배치된 액정 분자들의 응답 속도를 전체적으로 균일하게 할 수 있으므로, 액정표시패널의 표시 품질을 향상시킬 수 있다. As described above, in the PVA mode in which a plurality of domains are defined in the pixel portion, the gap between the electric field lines generated in each domain can be reduced by forming opening patterns that are not overlapped with each other in the pixel electrode and the common electrode formed in each domain. have. Accordingly, since the response speed of the liquid crystal molecules disposed in each domain can be made uniform, the display quality of the liquid crystal display panel can be improved.

이상에서는 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the embodiments, those skilled in the art can be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand.

Claims (5)

제1 도메인 및 제2 도메인으로 구획된 화소부 상에 형성되고, 상기 제1 도메인에 대응하는 제1 서브 전극과 상기 제1 서브 전극에 전기적으로 연결되며, 상기 제2 도메인에 대응하는 제2 서브 전극을 포함하는 표시 기판;A second sub electrode formed on the pixel portion partitioned into a first domain and a second domain, electrically connected to a first sub electrode corresponding to the first domain and the first sub electrode, and corresponding to the second domain; A display substrate including an electrode; 상기 표시 기판에 대향하여 배치되며, 상기 제1 서브 전극의 중앙부에 대응하는 제1 홀 및 상기 제2 서브 전극의 중앙부에 대응하는 제2 홀이 형성된 공통 전극을 포함하는 대향 기판; 및An opposing substrate disposed opposite the display substrate and including a common electrode having a first hole corresponding to a central portion of the first sub electrode and a second hole corresponding to a central portion of the second sub electrode; And 상기 표시 기판과 대향 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며,A liquid crystal layer interposed between the display substrate and the opposite substrate, 상기 제1 서브 전극에는 평면상에서 상기 제1 홀을 둘러싸는 제1 개구 패턴이 형성되고, 상기 공통 전극에는 상기 제1 개구 패턴을 둘러싸는 제2 개구 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시패널. And a first opening pattern that surrounds the first hole on the first sub-electrode and a second opening pattern that surrounds the first opening pattern on the common sub-electrode. 제1항에 있어서, 상기 제1 서브 전극은 The method of claim 1, wherein the first sub-electrode 상기 제1 개구 패턴을 기준으로 내측에 배치된 제1 내부 전극;First internal electrodes disposed inside the first opening pattern; 상기 제1 개구 패턴을 기준으로 외측에 배치된 제1 외부 전극; 및A first external electrode disposed outside the first opening pattern; And 상기 제1 내부 전극과 상기 제1 외부 전극을 연결하는 제1 연결 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널. And a first connection electrode connecting the first internal electrode and the first external electrode. 제1항에 있어서, 상기 제1 개구 패턴 및 상기 제2 개구 패턴은 동일 폭으로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.The liquid crystal display panel of claim 1, wherein the first opening pattern and the second opening pattern are formed to have the same width. 제3항에 있어서, 상기 제1 개구 패턴 및 상기 제2 개구 패턴은 3 내지 4 ㎛의 폭으로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.The liquid crystal display panel of claim 3, wherein the first opening pattern and the second opening pattern have a width of 3 to 4 μm. 제1항에 있어서, 상기 제2 서브 전극에는 평면상에서 상기 제2 홀을 둘러싸는 제3 개구 패턴이 형성되고, 상기 공통 전극에는 상기 제3 개구 패턴을 둘러싸는 제4 개구 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시패널. The method of claim 1, wherein a third opening pattern is formed in the second sub-electrode to surround the second hole, and a fourth opening pattern is formed in the common electrode to enclose the third opening pattern. LCD panel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105974690A (en) * 2016-07-22 2016-09-28 京东方科技集团股份有限公司 Mask plate, array substrate, display panel and display device

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