KR20070103764A - 세제 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 디아실 퍼옥사이드 형성의 조절을 가능하게 하는, 높은 효율의 리파제 효소, 6.5 초과의 높은 예비 알칼리도를 포함하는 특정 세제 제형 및 이용 가능한 산소 대 과산의 비가 1:1 내지 35:1이 되도록 과산화수소 공급원 및 과산 또는 이의 전구체를 포함하는 표백제를 함유하는 세제 조성물에 관한 것이다. 바람직한 제형은 알킬 에톡시화 설페이트 또는 MES 또는 비-이온성 계면활성제와 배합된 알킬 벤젠 설포네이트로부터 선택되는 계면활성제를 함유한다.
세제 조성물, 과산화수소 공급원, 소수성 과산, 예비 알칼리도, 야생형 리파제.
Description
본 발명은 세제 조성물, 특히 세탁 세제, 특히 지방 분해 효소 또는 리파제 효소를 포함하는 세제에 관한 것이다.
다수의 세제 조성물은 세척되는 용품의 얼룩 제거를 돕는 표백 시스템을 포함한다. 이들 표백 시스템은 대개 퍼보레이트 또는 퍼카보네이트와 같은 과산화수소 공급원을 포함한다. 과산화수소 표백제의 성능은 흔히 과산화수소(또는 산소 공급원) 외에 사전 형성될 수 있는 과산 또는 과산 전구체(종종 표백 활성제라고 함)의 사용에 의해 향상된다. 사용시, 표백 활성제는 과량의 과산화수소와 반응하여 과산 표백 화학종을 형성한다. 통상적인 세탁 제형에서는 과량의 과산화수소 공급원이 사용된다.
가장 일반적인 표백 활성제는 TAED(테트라 아세틸 에틸렌 디아민)로서, 과산화수소와의 반응시 형성되는 활성 표백제 화학종은 과아세트산이다. 기타 활성제는 보다 긴 탄소쇄를 가지며 소수성인 표백 화학종을 발생시킨다. 이들은 특히 유성 얼룩에 대한 효과적인 표백에 바람직하다.
이러한 소수성 표백 활성제의 잘 알려진 일례로는 노나노일 옥시벤젠 설포네이트(NOBS)가 있다. 이 표백 활성제는 반응하여 반응성 표백 화학종 퍼노난산을 형성한다. 그러나, 이 표백 화학종은 표백 활성제 그 자신과 반응하여 디-C9 아실 퍼옥사이드를 형성하며, 이와 동일하게 다른 소수성 표백 활성제가 반응하여 그의 상응하는 디아실 퍼옥사이드를 형성한다는 것이 밝혀졌다. 이들 화학종은 강력한 표백 화학종이며, 세척 과정에서 유용하지만, 불용성이다. 몇몇 유형의 세탁기에서, 이들 화합물은 세척수가 세탁기로부터 배수될 때 세탁기의 세탁조에 침강하는 경향이 있을 수도 있다. 따라서, 강력 표백제가 이들 영역에서 부자연스럽게 농축될 수도 있으며, 몇몇 유형의 세탁기에서는 시간이 지남에 따라 중합체 및/또는 고무 세탁조와 같은 상기 영역(여기서, 이들 영역에 사용되는 물질은 고수준의 표백제에 취약함)에서 세탁기에 손상이 야기될 수도 있다는 것이 밝혀졌다.
본 발명이 다루는 문제점은 어떻게 상기 문제점을 완화시켜 소수성 표백제의 효과를 달성하는 동시에 세척 장비에 대한 손상을 최소화하거나 방지할 수 있느냐는 것이다.
리파제 효소는 지방 오염물의 트리글라이세라이드로의 분해에 의한 지방 오염물의 제거를 위하여 1980년대 후반부터 세제에 사용되어 왔다.
상대적으로 최근까지, 리폴라제(Lipolase)[상표명: 노보자임즈(Novozymes)]와 같은 구매가능한 주요 리파제 효소는 세척 과정의 건조 단계의 보다 낮은 수분 수준에서 특히 효과적으로 작용하였다. 이들 효소는 제2 세척 단계에서만 현저한 세정을 나타내는 경향이 있는데, 그 이유는 효소의 활성 부위가 세척 과정 동안에 물에 의해 점유되어, 건조 단계 동안에 세탁된 의류에 잔존하는 오염물에서만 지방 분해가 현저하게 되고, 이때 분해된 지방이 다음의 세척 단계에서 제거되기 때문이다. 그러나, 더욱 최근에는, 세정 과정의 세척 단계 동안에도 또한 효과적으로 작용하여, 제2 세척 단계에서의 세정뿐만 아니라, 리파제 효소로 인한 세정 효과에 있어서의 현저한 향상을 제1 세척 사이클에서도 확인할 수 있는 고효율 리파제가 개발되었다. 이러한 효소의 예는 국제 공개공보 제WO 00/60063호 및 문헌[참조: Research Disclsoure IP6553D]에 설명되어 있는 바와 같다. 이러한 효소는 하기에서 제1 세척용 리파제로서 언급된다. 이러한 효소의 예로는 3차원 구조의 N-말단 부근에서 양성(positive) 아미노산으로의 하나 이상의 치환을 포함해야 하는 리폴라제(야생형 후미콜라 라누기노사(wild-type Humicola lanuginosa))의 소정 변이체를 포함한다. 변이체는 추가로 C-말단에서 펩티드 부가를 포함해야 하고/하거나 90-101 및 210 위치에서 전기적으로 하전된 아미노산에 대한 소정 제한 사항을 충족시켜야 한다. 본 발명자들은, 이들 제1 세척 효소와 특정 유형의 세제 제형의 조합물의 사용에 의해 이들 소수성 표백 활성제의 사용이 가능해져 우수한 얼룩 제거성이 달성됨과 동시에, 상기에 나타낸 모든 단점은 감소된다는 것을 알아 내었다.
발명의 정의
본 발명에 따르면, 과산화수소 공급원; 화학식 R-(C=O)-L의 소수성 과산(여기서, R은 탄소수 6 내지 14, 바람직하게는 8 내지 12의 알킬기이며, L은 이탈기이 다) 또는 이의 전구체; 및 (a) 후미콜라 라누기노사 주 DSM 4109로부터 유래된 야생형 리파제와의 동일성이 90% 이상이고, (b) 상기 야생형 리파제와 비교하여, E1 또는 Q249의 15Å 이내의 3차원 구조의 표면에서 전기적으로 중성이거나 음으로 하전된 아미노산이 양으로 하전된 아미노산으로 치환된 것을 포함하고, (c) C-말단에서 펩티드 부가를 포함하고/하거나, (d) N-말단에서 펩티드 부가를 포함하고/하거나, (e) i) 상기 야생형 리파제의 E210 위치에서 음성 아미노산을 포함하고, ii) 상기 야생형 리파제의 90-101 위치에 상응하는 영역에서 음으로 하전된 아미노산을 포함하며, iii) 상기 야생형 리파제의 N94에 상응하는 위치에서 중성 또는 음성 아미노산을 포함하고/하거나 상기 야생형 리파제의 90-101 위치에 상응하는 영역에서 음성이거나 중성인 순 전하를 갖는다는 제한 사항들을 충족시키는 아미노산 서열을 갖는 폴리펩티드인 리파제 효소를 포함하는 세제 조성물로서, 예비 알칼리도(reserve alkalinity)가 6.5를 초과하고, (과산화물 공급원으로부터의)이용 가능한 산소 및 과산 및/또는 이의 전구체의 양이, (과산화물 공급원으로부터의)이용 가능한 산소:과산의 몰 비를 1:1 내지 35:1로 세제 조성물에 제공하도록 하는 양인, 세제 조성물이 제공된다.
본 발명에 따르면, 과산화수소 공급원; 화학식 R-(C=O)-L의 소수성 표백 활성제(여기서, R은 탄소수 6 내지 14, 바람직하게는 8 내지 12의 알킬기이며, L은 이탈기이다); 및 하기에 설명한 라드 제1 세척 시험을 이용하여 WT 리폴라제(상표명, 노보자임즈)에 의해 생성되는 것보다 우수한 제1 세척 라드 제거 성능을 생성하는 리파제 효소를 함유하는 세제 조성물로서, 예비 알칼리도가 6.5를 초과하고, 산소 공급원과 과산의 양이, 세제 조성물에 (과산화물 공급원으로부터의)이용 가능한 산소:과산의 몰 비를 1:1 내지 35:1으로 제공하도록 하는 양인, 세제 조성물도 제공된다.
노보자임즈로부터의 WT 리폴라제는 미국 특허 제5,869,438호의 서열 번호 2에서 기술되어 있다.
본 발명자들은 제1의 세척용 리파제가 높은 예비 알칼리도와, 1:1 내지 35:1의 (과산화물 공급원으로부터의)이용 가능한 산소:과산의 몰 비와 함께 세제 조성물에서 사용될 때, 디아실 퍼옥사이드 형성은 이러한 유형의 소수성 과산 또는 과산 전구체의 단점이 완화되도록 조절된다는 것을 알아 내었다.
본 발명의 바람직한 양태에서, 본 발명의 세제 조성물은 알루미노실리케이트 (제올라이트) 증강제 및/또는 인산염 증강제로부터 선택된 증강제를 15중량% 미만 포함한다. 본 발명의 보다 바람직한 양태에서, 본 조성물은 제올라이트 및/또는 인산염 증강제를 10중량% 미만, 또는 5중량% 또는 4중량% 미만까지도 포함한다.
과산화물 공급원
무기 과수화물 염이 바람직한 과산화물 공급원이다. 바람직하게는, 이들 염은 세제 조성물을 기준으로 0.05 내지 40중량%, 보다 바람직하게는 1 내지 30중량%, 또는 2 내지 20중량%의 수준으로 존재한다. 무기 과수화물 염의 예에는 과붕산염, 과탄산염, 과황산염, 과인산염 및 과규산염이 포함된다. 과붕산염, 일반적으로 1수화물 또는 4수화물, 또는 더욱 특별하게는 과탄산염이 가장 바람직하다. 이들은 일반적으로 알칼리 금속염, 바람직하게는 나트륨염이다. 무기 과수화물 염은 통상적으로 결정질 고형물로서 본 발명의 세제 조성물 내로 혼입되며, 이는 예를 들어 보관 안정성의 개선을 위하여 임의로 피복될 수도 있다. 적합한 피막은 무기 염, 예를 들어 알칼리 금속 규산염, 탄산염 또는 붕산염, 또는 이들의 혼합물, 또는 유기 물질, 예를 들어 왁스, 오일 또는 지방 비누를 포함한다.
소수성
과산
또는
과산
전구체
적합한 화합물은 화학식 R-(C=O)O-O-M 또는 R-(C=O)-L의 화합물(여기서, R은 임의로 분지된 탄소수 6 내지 14, 보다 바람직하게는 8 내지 12의 알킬기이고, M은 대이온, 바람직하게는 나트륨, 칼륨 또는 수소이며, L은 이탈기이다)을 포함한다. 바람직한 이탈기는 벤조산 및 이의 유도체, 특히 벤젠 설포네이트이다.
적합한 예에는 데카노일 옥시벤조산 또는 이의 염, 도데카노닐 옥시벤젠 설포네이트의 나트륨 또는 칼륨 염, 데카노일 옥시벤젠설포네이트, 3,5,5-트리메틸 헥사노일옥시벤젠 설포네이트, 또는 보다더 바람직하게는 노나노일옥시벤젠 설포네이트(NOBS)가 포함된다.
과산 또는 과산 전구체는 일반적으로 세제 조성물을 기준으로 조성물 중에 0.5 내지 10중량%, 바람직하게는 0.5 내지 5중량%, 바람직하게는 0.5 내지 4중량%의 양으로 존재한다.
임의로, 소수성 과산 또는 과산 전구체 외에도, 친수성 과산 또는 과산 전구체가 본 발명의 세제 조성물 내로 또한 혼입될 수도 있다. 이들은 소수성 과산/전구체에 대하여 상기에 주어진 식의 물질을 포함하지만, R 기는 탄소수가 6 미만, 바람직하게는 4 미만이다. 바람직한 예로는 TAED가 있다. 이는 존재하는 경우, 일반적으로 7중량% 이하, 일반적으로 0.1 내지 5중량%의 양으로 존재할 것이다.
과산화수소 공급원과, 과산 또는 과산 전구체의 양은 (과산화물 공급원으로부터의)이용 가능한 산소 대 과산의 몰 비가 1:1 내지 35:1이 되도록 선택된다. 바람직한 몰 비는 2:1 내지 10:1, 또는 3:1 또는 심지어 5:1 내지 8:1까지도 될 수 있다.
리파제
효소
본 발명에 사용되는 참조 리파제는 후미콜라 라누기노사 균주 DSM 4109로부터 유래된 야생형 리파제다. 이것은 유럽 특허 제258068호 및 유럽 특허 제305216호에 설명되어 있으며 미국 특허 제5869438호의 서열 번호 2의 1-269 위치에 예시되어 있는 아미노산 서열(여기에 첨부됨)을 갖는다. 본 명세서에서, 참조 리파제는 또한 리폴라제로서 언급된다.
양성 아미노산에 의한 치환
본 발명의 리파제는 E1 또는 Q249 부근에서 전기적으로 중성이거나 음으로 하전된 아미노산의 양으로 하전된 아미노산, 바람직하게는 R로의 하나 이상(예를 들어, 2-4개, 특히 2개)의 치환을 포함한다.
상기 치환은 E1 또는 Q249의 15Å 이내의 3차원 구조의 표면에서, 예를 들어 1-11, 90, 95, 169, 171-175, 192-211, 213-226, 228-258, 260-262 위치들 중 임의의 위치에 존재한다.
상기 치환은 E1 또는 Q249의 10Å 이내, 예를 들어 1-7, 10, 175, 195, 197-202, 204-206, 209, 215, 219-224, 230-239, 242-254 위치들 중 임의의 위치에 존재할 수도 있다.
상기 치환은 E1의 15Å 이내, 예를 들어 1-11, 169, 171, 192-199, 217-225, 228-240, 243-247, 249, 261-262 위치들 중 임의의 위치에 존재할 수도 있다.
상기 치환은 E1의 10Å 이내, 예를 들어 1-7, 10, 219-224 및 230-239 위치들 중 임의의 위치에 존재하는 것이 가장 바람직하다.
따라서, 일부 바람직한 치환은 S3R, S224R, P229R, T231R, N233R, D234R 및 T244R이다.
C-말단에서의 펩티드 부가
리파제는 C-말단 L269에 부착된 펩티드 부가를 포함할 수도 있다. 펩티드 부가는 다양한 세제 내에서 제1의 세척 성능을 향상시킨다.
펩티드 부가는 바람직하게는 1-5개의 아미노산, 예를 들어 2, 3 또는 4개의 아미노산으로 이루어진다. 펩티드 부가의 아미노산에는 270, 271 등으로 번호가 부여될 것이다.
펩티드 부가는 전기적으로 중성(예를 들어, 소수성) 아미노산, 예를 들어 PGL 또는 PG로 이루어질 수도 있다. 대안적인 실시 형태에서, 리파제 펩티드 부가는 중성(예를 들어, 소수성) 아미노산 및 아미노산 C로 이루어지고, 리파제는 펩티드 부가의 C와 이황화 결합(disulfide bridge)을 형성하도록 적합한 위치에서 아미노산을 C로 치환하는 것을 포함한다. 예로는 하기와 같다:
G23C 또는 T37C에 연결된 270C
K24C, T37C, N26C 또는 R81C에 연결된 271C
D27C, T35C, E56C, T64C 또는 R81C에 연결된 272C.
90-101 및 210 위치에서의 아미노산
본 발명에 사용되는 리파제는 90-101 및 210 위치에서 전기적으로 하전된 아미노산에 대한 소정 제한 사항을 충족시키는 것이 바람직하다. 따라서, 아미노산 210은 음성일 수도 있다. E210은 변하지 않을 수도 있거나, 치환 E210D/C/Y, 특히 E210D를 가질 수도 있다.
리파제는 90-101(특히, 94-101) 위치들 중 임의의 위치, 예를 들어 D96 및/또는 E99 위치에서 음으로 하전된 아미노산을 포함할 수도 있다.
또한, 리파제는 N94 위치, 즉 N94(중성 또는 음성), 예를 들어 N94N/D/E에서 중성 또는 음성 아미노산을 포함할 수도 있다.
또한, 리파제는 90-101(특히 94-101) 영역에서 음성 또는 중성의 순 전하를 가질 수도 있는데, 즉 음성 아미노산의 개수가 양성 아미노산의 개수와 동일하거나 더 크다. 따라서, 상기 영역은 두 개의 음성 아미노산(D96 및 E99) 및 하나의 양성 아미노산(K98)을 갖고, 94 위치(N94)에서 중성 아미노산을 갖는 리폴라제로부터 변하지 않을 수도 있거나, 상기 영역은 하나 이상의 치환에 의해 변형될 수도 있다.
대안적으로, 3개의 아미노산 N94, N96 및 E99 중에서 2개가 음성 또는 변하지 않은 전하를 가질 수도 있다. 따라서, 모든 3개의 아미노산은 변하지 않을 수도 있거나, 보존적 또는 음성 치환, 즉 N94(중성 또는 음성), D(음성) 및 E99(음성)에 의해 변할 수도 있다. 예로는 N94D/E 및 D96E가 있다. 또한, 3개 중 하나는 전하를 증가시키기 위하여 치환, 즉 N94(양성), D96(중성 또는 양성) 또는 E99(중성 또는 양성)일 수도 있다. 예로는 N94K/R, D96I/L/N/S/W 또는 E99N/Q/K/R/H가 있다.
국제 공개공보 제WO 00/60063호에서 논의된 바와 같이, 중성 아미노산의 음성 아미노산으로의 치환(N94D/E)은 음이온성 세제의 성능을 향상시킬 수도 있다. 중성 아미노산의 양성 아미노산으로의 치환(N94K/R)은 음이온성 세제 및 음이온성/비이온성 세제(총 계면활성제 중 예컨대 40-70%가 음이온성 계면활성제인 세제) 모두에서 우수한 성능을 갖는 변이 리파제를 제공할 수도 있다. 치환 Q249R/K/H 및/또는 R209의 중성 또는 음성 아미노산으로의 치환(예컨대, R209P/S)이 유용할 수도 있다. 리파제는 임의로으로 치환 G91A를 포함할 수도 있다.
리파제는 임의로 하나 이상의 추가의 아미노산의 치환을 포함할 수도 있다. 이러한 치환은 예를 들어 당해 기술 분야에서 공지된 원리에 따라 이루어질 수도 있는데, 예를 들어 국제 공개공보 제WO 92/05249호, 제WO 94/25577호, 제WO 95/22615호, 제WO 97/04079호 및 제WO 97/07202호에 기재된 치환일 수도 있다. 치환들의 적합한 조합의 구체적인 예가 국제 공개공보 제WO 00/60063호의 표 연결 면인 제4면 및 제5면에 주어져 있다. 아미노산 변형에 대한 명명은 국제 공개공보 제WO 00/60063호에 기술된 바와 같다.
바람직한 리파제 효소가 국제 공개공보 제WO 00/60063호에 기술되어 있으며, 가장 바람직한 것은 리펙스(Lipex)(노보자임즈의 등록상표)인데, 이는 돌연변이 T231R 및 N233R을 갖는, 후미콜라 라누기노사(써모마이세스 라누기노수스(Thermomyces lanuginosus)) 리파제(리폴라제, 노보자임즈의 등록상표)의 변이체이다.
본 발명의 세제 조성물 내로 혼입되는 리파제 효소는 일반적으로 세제 조성물 1g 당 10 내지 20000LU 또는 심지어 100 내지 10000LU의 양으로 존재한다. 리파제 활성에 있어서 LU 단위는 제WO 99/42566호에 정의되어 있다. 세척 용액 내의 리파제 투입량은 통상적으로 0.01 내지 5㎎/L의 활성 리파제 단백질, 더 통상적으로는 효소 단백질로서 0.1 내지 2㎎/L이다.
리파제 효소는 임의의 편리한 형태, 일반적으로는 순정(non-dusting) 과립, 안정화된 액체 또는 보호된, 예를 들어 코팅된 효소 입자의 형태로 세제 조성물 내로 혼입될 수도 있다.
라드
제1 세척 시험
임의의 특정 라파아제 효소가 WT 리폴라제(노보자임즈로부터 입수, 미국 특허 제5869438호의 서열 번호 2에 기재됨)보다 더 우수한 제1의 세척 라드 제거 성능을 제공하는지 여부는 하기 시험에 따라 WT 리폴라제의 성능 결과를 특정 리파제 효소의 성능 결과와 비교함으로써 결정될 수 있다.
지방 분해 효소의 세척 성능을 자동 온도 조절 세척 시험기(Terg-O-Tometer, TOM) 내에서 수행되는 1 사이클 세척 시험 및 이후의 라인-건조(line-drying)에서 조사한다. 실험 조건은 다음과 같다:
세척액: 비이커 당 1000㎖
견본: 비이커 당 7개의 평평한 면 견본(9×9cm)(워윅-이퀘스트(Warwick-Equest)에서 공급)
얼룩: 수단 적색 염료(시그마(Sigma))에 의해 적색으로 착색된 라드(0.75 mg 수단 적색/g 라드). 70℃로 가열된 50㎕의 라드/수단 적색을 각각의 견본의 중앙에 도포한다. 얼룩 도포 후, 견본을 75℃에서 25분간 오븐 내에서 가열하고 나서 실온에서 하룻밤 보관한다.
세척액 제조를 위한 물: 3.2mM Ca2 +/Mg2 +(5:1의 비)
세제: 5g/ℓ의 세제 조성물 A.
세제 조성물 A:
알킬 설페이트(AS; C14 -16) 0.300g/ℓ
알코올 에톡실레이트(AEO; C12 -14, 6EO) 0.650g/ℓ
제올라이트 P 1.750g/ℓ
Na2CO3 0.145g/ℓ
소칼란(Sokalan) CP5(BASF) 0.020g/ℓ
CMC(카복시메틸셀룰로스) 0.050g/ℓ
세제 조성물 A 5g/ℓ를 부가된 경도(3.2 mM Ca2 +/Mg2 + (5:1))를 갖는 탈이온수 내에 혼합하고 NaOH를 첨가하여 pH를 10.2로 인위적으로 조절한다. 리파제 효소가 첨가된다.
지방 분해 효소의 농도: 0 및 12500LU/ℓ
세척 시간: 20분
세척 온도: 30℃
헹굼: 흐르는 수돗물에서 15분
건조: 실내 조건(약 20℃, 30 -40 % RH)에서 하룻밤.
평가: 460㎚에서 반사율을 측정하였다.
제거된 라드의 백분율은 하기로서 결정된다:
하기로서 정의된 델타 반사율(Delta reflectance, dR):
R(리파제를 함유한 세제로 세척된 견본) - R(리파제를 함유하지 않은 세제로 세척된 견본)
반사율(완화(remission)로도 불릴 수 있음)은, 2개의 크세논 전격 램프로 샘플을 비추고 완전 백색이 100% 반사율에 상응하고 완전 흑색이 0% 반사율에 상응하도록 반사광의 양을 측정하는 데이터칼라(Datacolor)로부터의 엘레포(Elrepho) 2000 장치 상에서 측정된다. 효소의 존재로 인한 라드 제거에 대한 결과를 비교한 결과, WT 리폴라제™ 보다 우수한 성능을 제공하는 리파제 효소가 본 발명의 조성물에 사용하기에 적합하다.
예비 알칼리도
본 명세서에 사용되는 바와 같이, "예비 알칼리도"라는 용어는, 즉 본 명세서에 정의된 바와 같이 예비 알칼리도를 계산하기 위하여, 세제 조성물의 1%(w/v) 용액을 염산을 이용하여 pH 7.5까지 적정함으로써 결정된 세제 조성물의 완충 능력의 척도(g/NaOH/100g 세제 조성물)이다:
제품 100g당 NaOH g의 알칼리%로서의 예비 알칼리도(pH 7.5까지) =
T = pH 7.5가 되게 하는 적정량
M = HCl의 몰 농도 = 0.2
40 = NaOH의 분자량
Vol = 총 부피(즉, 1000㎖)
W = 제품의중량(10g)
분취량 = (100㎖)
완전히 제형화된 세제 조성물로부터, 소수 둘째 자리까지 정확하게 무게를 잰 10g 샘플을 수득한다. 샘플은 더스트 캐비닛(dust cabinet) 안에서 파스칼 샘플러를 이용하여 수득되어야 한다. 10g의 샘플을 플라스틱 비이커에 첨가하고 200㎖의 이산화탄소-무함유 탈이온수를 첨가한다. 완전히 용해될 때까지 15분이상 동안 교반 플레이트 상의 자석 교반기(magnetic stirrer)를 이용하여 15.7 rad/s(150 rpm)으로 교반한다. 비이커의 내용물을 1 리터 용적의 플라스크에 옮기고 탈이온수로 1 리터를 만든다. 잘 혼합하고 100㎖ 피펫을 이용하여 100㎖ ±1㎖ 분취물을 즉시 취한다. 교반하면서, 온도를 21℃ ± 2℃로 유지하면서, ±0.01 pH 단위까지 판독할 수 있는 pH 미터를 이용하여 샘플의 pH 및 온도를 측정하고 기록한다. 교반하면서, pH가 정확히 7.5로 측정될 때까지, 0.2M 염산으로 적정한다. 사용된 염산의 밀리리터를 기록한다. 3개의 동일 반복의 평균 적정량을 취한다. pH 7.5까지의 RA를 계산하기 위하여 전술된 계산을 수행한다.
본 발명의 세제 조성물의 RA는 6.5 초과, 바람직하게는 7.5 초과일 것이다. RA는 8 초과 또는 심지어 9 초과 또는 9.5 이상일 수도 있다. RA는 최대 20 이상일 수도 있다.
적당한 예비 알칼리도는 예를 들면 하나 이상의 알칼리 금속 규산염(결정질 층상 규산염은 제외), 통상적으로는 비정질 규산염, 일반적으로는 1.2 내지 2.2 비의 나트륨 염, 알칼리 금속(통상적으로, 나트륨 - 카보네이트, 비카보네이트 및/또는 세스퀴카보네이트)에 의해 제공될 수도 있다. STPP와 퍼보레이트 및 퍼카보네이트 등의 과염(persalt) 또한 알칼리성에 기여한다. 완충(Buffering)은 오염물, 특히 리파제 효소에 의해 유리된 지방산의 산도(acidity)를 중화하여 세척 과정 동안에 알칼리성 pH를 유지하기 위하여 필요하다.
세제 조성물은 바람직하게는 0중량% 내지 50중량%의 규산염, 더 일반적으로는 5 내지 30중량%의 규산염, 또는 7 내지 20중량%의 규산염, 일반적으로는 규산나트륨을 포함한다.
요구되는 예비 알카리도를 제공하기 위하여, 본 발명의 세제 조성물은 탄산염, 통상적으로는 1중량% 내지 70중량%, 또는 5중량% 내지 50중량% 또는 10중량% 내지 30중량%의 탄산염을 포함할 수도 있다. 바람직한 탄산염은 탄산나트륨 및/또는 중탄산나트륨 및/또는 세스퀴탄산나트륨이다. 탄산염은 부르카이트(Burkeite)와 같은 혼합 염을 통해 전체로 혹은 부분적으로 세제 조성물 내에 혼입될 수도 있다. 매우 바람직한 탄산염은 탄산나트륨이다. 바람직하게는, 상기 조성물은 5중량% 내지 50중량%의 탄산나트륨, 또는 10 내지 40중량% 또는 심지어 15 내지 35중량%의 탄산나트륨을 포함할 수도 있다. 상기 조성물이 1중량% 내지 20중량%, 또는 심지어 2 내지 10 또는 8중량%의 중탄산나트륨을 포함하는 것 또한 바람직할 수도 있다.
제올라이트가 존재하는 경우, 탄산나트륨 및/또는 규산나트륨 대 제올라이트 증강제의 중량비가 5:1 이상, 바람직하게는 10:1 이상, 또는 15:1 이상, 또는 20:1 이상 또는 심지어 25:1 이상인 것이 바람직할 수도 있다.
탄산염 또는 적어도 이의 일부는 통상적으로 미립자 형태로 존재하며 이는 통상적으로 중량 평균 입자 크기가 200 내지 500㎛ 범위이다. 그러나, 탄산염 또는 적어도 이의 일부는 미분화된 미립자 형태로 존재하며 이는 통상적으로는 중량 평균 입자 크기가 4 내지 40㎛ 범위인 것이 바람직할 수도 있으며, 이는 탄산염 또는 적어도 이의 일부가 세척성 계면활성제, 예를 들어 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제와의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재할 때 특히 바람직하다.
요구되는 예비 알칼리도를 제공하기 위하여, 바람직하게는 탄산염 및/또는 규산염, 통상적으로는 탄산나트륨 및 규산나트륨의 수준은 조성물의 총 중량을 기준으로 10 내지 70중량%, 또는 10 또는 심지어 15 내지 50중량%일 것이다.
증강제
바람직하게는, 본 발명에 따르면, 인산염 및/또는 제올라이트 증강제로부터 선택되는 강력 증강제의 양은 세제 조성물의 총 중량을 기준으로 15중량% 미만, 바람직하게는 10중량% 미만, 또는 심지어 8 또는 5 또는 4 또는 3 또는 2중량% 미만이다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태에서, 층상 규산염(SKS-6), 시트르산, 시트르산염 및 니트릴로트리아세트산 또는 그의 염으로부터 선택된 약한 증강제의 총 수준은 세제 조성물의 총 중량을 기준으로 15중량% 미만, 보다 바람직하게는 8중량% 미만, 보다 바람직하게는 4중량% 미만 또는 심지어 3 또는 2중량% 미만이다. 통상적으로, 층상 규산염, 시트르산, 시트르산염 및 니트릴로트리아세트산 또는 그의 염 각각의 수준은 조성물의 총 중량을 기준으로 10중량% 미만 또는 심지어 5중량% 또는 중량% 미만일 것이다.
계면활성제
계면활성제는 본 발명의 조성물의 매우 바람직한 보조 성분이다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 계면활성제를 함유한다. 통상적으로, 본 세제 조성물은 (조성물의 중량을 기준으로)0% 내지 50%, 바람직하게는 5%, 보다 바람직하게는 10 또는 심지어 15중량%로부터 40%, 또는 30%, 또는 20%까지의 하나 이상의 계면활성제를 함유한다. 바람직한 계면활성제로는 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 이들의 혼합물이 있다.
음이온성
계면활성제
적합한 음이온성 계면활성제는 통상적으로 카보네이트, 포스페이트, 포스포네이트, 설페이트, 설포네이트, 카복실레이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 부분(moiety)을 포함한다. 음이온성 계면활성제는 C8 -18 알킬 설페이트 및 C8 -18 알킬 설포네이트 중 하나, 또는 이들 중 둘 이상의 혼합물일 수도 있다. 또한 본 발명의 조성물에 단독으로 또는 혼합물 형태로 혼입되는 적합한 음이온성 계면활성제는, C8 -18 알킬 설페이트 및/또는 C8 -18 알킬 설포네이트 1몰 당 1 내지 9몰의 C1 -4 알킬렌 옥사이드와 임의로 축합된 C8 -18 알킬 설페이트 및/또는 C8 -18 알킬 설포네이트이다. C8 -18 알킬 설페이트 및/또는 C8 -18 알킬 설포네이트의 알킬 쇄는 선형 또는 분지형일 수도 있으며, 바람직한 분지형 알킬 쇄는 C1 -6 알킬 기인 하나 이상의 분지형 부분을 포함한다. 더욱 구체적으로, 적합한 음이온성 계면활성제는, 통상적으로 화학식 CH3(CH2)xCH2-OSO3 - M+의 C10-C20 1급, 측쇄, 직쇄 및 임의-쇄 알킬 설페이트(AS)(여기서, M은 수소 또는 전하 중성을 제공하는 양이온, 바람직하게는 나트륨 및 암모늄 양이온이고, x는 7 이상, 바람직하게는 9 이상의 정수이다); 통상적으로 화학식 
의 C10-C18 2급 (2,3) 알킬 설페이트(여기서, M은 수소 또는 전하 중성을 제공하는 양이온, 바람직하게는 나트륨 및 암모늄 양이온이고, x는 7 이상, 바람직하게는 9 이상의 정수이고, y는 8 이상, 바람직하게는 9 이상의 정수이다); C10-C18 알킬 알콕시 카복실레이트; 미국 특허 제6,020,303호 및 미국 특허 제6,060,443호에 상세히 기재된 바와 같은 중쇄 분지형 알킬 설페이트; 국제 공개공보 제WO 99/05243호, 제WO 99/05242호, 제WO 99/05244호, 제WO 99/05082호, 제WO 99/05084호, 제WO 99/05241호, 제WO 99/07656호, 제WO 00/23549호 및 제WO 00/23548호에 더 상세하게 기재된 바와 같은 변형된 알킬벤젠 설포네이트(MLAS) 및 이들의 혼합물을 포함한다.
바람직한 음이온성 계면활성제는 C8 -18 알킬 벤젠 설페이트 및/또는 C8 -18 알킬 벤젠 설포네이트이다. C8 -18 알킬 벤젠 설페이트 및/또는 C8 -18 알킬 벤젠 설포네이트의 알킬 쇄는 선형 또는 분지형일 수도 있으며, 바람직한 분지형 알킬 쇄는 C1-6 알킬 기인 하나 이상의 분지형 부분을 포함한다.
기타 바람직한 음이온성 계면활성제는 C8 -18 알케닐 설페이트, C8 -18 알케닐 설포네이트, C8 -18 알케닐 벤젠 설페이트, C8 -18 알케닐 벤젠 설포네이트, C8 -18 알킬 디-메틸 벤젠 설페이트, C8 -18 알킬 디-메틸 벤젠 설포네이트, 지방산 에스테르 설포네이트, 디-알킬 설포석시네이트 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 본 발명에서 유용한 기타 음이온성 계면활성제는 통상적으로는 지방산 기의 탄소수가 6 내지 20이고 에스테르 기의 탄소수가 1 내지 10인 α-설폰화 지방산의 에스테르; 통상적으로 아실 기의 탄소수가 약 2 내지 9이고 알칸 부분의 탄소수가 약 9 내지 23인 2-아실옥시-알칸-1-설폰산 및 이의 염; 통상적으로 탄소수 약 12 내지 24의 α-올레핀 설포네이트(AOS); 및 통상적으로 알킬 기의 탄소수가 약 1 내지 3이고 알칸 부분의 탄소수가 약 8 내지 20인 β-알콕시 알칸 설포네이트를 포함한다. 통상적으로 알킬 기의 탄소수가 10 내지 20인 지방산 에스테르의 설폰화 산물이 또한 유용하다. C1 -4가 바람직하고, 메틸 에스테르 설포네이트가 가장 바람직하다. C16 -18 메틸 에스테르 설포네이트(MES)가 바람직하다.
음이온성 계면활성제는 염 형태로 존재할 수도 있다. 예를 들어, 음이온성 계면활성제(들)는 상기에 기술된 것들 중 어느 하나의 알칼리 금속 염일 수도 있다. 바람직한 알칼리 금속은 나트륨, 칼륨 및 이들의 혼합물이다.
바람직한 음이온성 세척성 계면활성제는 선형 또는 분지형의 치환 또는 비치환 C12 -18 알킬 설페이트; 선형 또는 분지형의 치환 또는 비치환 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트, 바람직하게는 선형 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트; 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 매우 바람직한 것은 선형 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트이다. 매우 바람직한 것은 구매가능한 선형 알킬 벤젠(LAB)을 설포네이트화함으로써 수득가능한, 바람직하게는 수득되는 선형 C10 -13 알킬벤젠 설포네이트이며, 적합한 LAB는 저급 2-페닐 LAB, 예를 들어 사솔에 의해 상표명 이소켐(Isochem)®으로 공급되는 것 또는 페트레사(Petresa)에 의해 상표명 페트레랩(Petrelab)®으로 공급되는 것을 포함하며, 기타 적합한 LAB는 고급 2-페닐 LAB, 예를 들어 사솔에 의해 상표명 하이블렌(Hyblene)®으로 공급되는 것을 포함한다.
음이온성 세척성 계면활성제는 칼슘 내성이 보다 커지도록 그리고 유리 칼슘 이온의 존재하에서 세척액으로부터 침전될 가능성이 덜하게 되도록 하는 방식으로 구조적으로 변경되는 것이 바람직할 수도 있다. 이러한 구조적 변경은 음이온성 세척성 계면활성제의 헤드 기(head group)의 부근에서 메틸 또는 에틸 부분의 도입일 수 있으며, 그 이유는 이것이 헤드 기의 입체 장애로 인해 보다 큰 칼슘 내성의 음이온성 세척성 계면활성제를 유도할 수 있기 때문인데, 이는 용액에서 침전을 야기하는 방식으로 유리 칼슘 양이온과 복합체를 형성하기 위한 음이온성 세척성 계면활성제의 친화도를 감소시킬 수도 있다. 다른 구조적 변경은 음이온성 세척성 계면활성제의 알킬 쇄에 있어서 아민 부분과 같은 작용성 부분의 도입을 포함하며, 이에 의해 음이온성 세척성 계면활성제의 알킬 쇄에서의 작용기의 존재가 음이온성 세척성 계면활성제의 바람직하지 못한 물리 화학적 특성을 최소화하여 세척액 중의 유리 칼슘 이온의 존재하에 평탄한 결정 구조를 형성하게 할 수도 있기 때문에 음이온성 세척성 계면활성제의 칼슘 내성이 보다 커질 수 있다. 이는 음이온성 세척성 계면활성제가 용액으로부터 침전되는 경향을 감소시킬 수도 있다.
알콕시화
음이온성
계면활성제
본 조성물은 알콕시화 음이온성 계면활성제를 포함할 수도 있다. 이러한 계면활성제는 존재하는 경우, 전체로서 세제 조성물을 기준으로 일반적으로 0.1중량% 내지 40중량%, 일반적으로 0.1 내지 10중량%의 양으로 존재할 것이다. 본 조성물이 3중량% 내지 5중량%의 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제를 함유하는 것이 바람직할 수도 있고, 또는 본 조성물이 1중량% 내지 3중량%의 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제를 함유하는 것이 바람직할 수도 있다.
바람직하게는, 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제는 평균 알콕시화도가 1 내지 30, 바람직하게는 1 내지 10인 선형 또는 분지형의 치환 또는 비치환 C12 -18 알킬 알콕시화 설페이트이다. 바람직하게는, 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제는 평균 에톡시화도가 1 내지 10인 선형 또는 분지형의 치환 또는 비치환 C12 -18 알킬 에톡시화 설페이트이다. 가장 바람직하게는, 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제는 평균 에톡시화도가 3 내지 7인 선형의 비치환 C12 -18 알킬 에톡시화 설페이트이다.
알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제는 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제가 유리 칼슘 양이온의 존재하에 용액으로부터 덜 침전되게 함으로써 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제의 활성을 또한 증가시킬 수도 있다. 바람직하게는, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제 대 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제의 중량비는 5:1 미만, 또는 3:1 미만, 또는 1.7:1 미만, 또는 심지어 1.5:1 미만이다. 이 비는 우수한 경성 내성 프로파일 및 우수한 거품 발생 프로파일과 더불어 최적의 백색 유지 성능을 제공한다. 그러나, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제 대 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제의 중량비가 5:1 초과, 또는 6:1 초과, 또는 7:1 초과, 또는 심지어 10:1 초과인 것이 바람직할 수도 있다. 이 비는 우수한 경성 내성 프로파일 및 우수한 거품 발생 프로파일과 더불어 그리시한 오염물에 대한 최적의 세정 능력을 제공한다. 적합한 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제로는 코그니스(Cognis)의 텍사판(Texapan) LESTTM; 사솔(Sasol)의 코스마콜(Cosmacol) AESTM; 스테판(Stephan)의 BES151TM; 엠피콜(Empicol) ESC70/UTM; 및 이들의 혼합물이 있다.
비이온성
세척성
계면활성제
본 발명의 조성물은 비이온성 계면활성제를 포함할 수도 있다. 이는 존재하는 경우, 조성물의 총 중량을 기준으로 일반적으로 0.5중량% 내지 20중량%, 더 통상적으로 0.5 내지 10중량%의 양으로 존재한다. 본 조성물은 1중량% 내지 7중량% 또는 2중량% 내지 4중량%의 비이온성 세척성 계면활성제를 포함할 수도 있다. 조성물 중의 비이온성 세척성 계면활성제의 함유는 특히 고온, 예를 들어 60℃ 또는 그 이상에서 세탁할 때 우수한 전체 세정 프로파일의 제공을 돕는다.
비이온성 세척성 계면활성제는 C12-C18 알킬 에톡실레이트, 예를 들어 쉘(Shell)의 네오돌(NEODOL)® 비이온성 계면활성제; C6-C12 알킬 페놀 알콕실레이트(여기서, 알콕실레이트 단위는 에틸렌옥시 단위 또는 프로필렌옥시 단위 또는 이들의 혼합물이다); 바스프(BASF)의 플루로닉(Pluronic)®과 같은 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 중합체와의 C12-C18 알코올 및 C6-C12 알킬 페놀의 축합물; 미국 특허 제6,150,322호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 C14-C22 중쇄 분지형 알코올, BA; 미국 특허 제6,153,577호, 미국 특허 제6,020,303호 및 미국 특허 제6,093,856호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 C14-C22 중쇄 분지형 알킬 알콕실레이트, BAEx(여기서, x는 1 내지 30이다); 미국 특허 제4,565,647호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 알킬폴리사카라이드, 구체적으로는 미국 특허 제4,483,780호 및 미국 특허 제4,483,779호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 알킬폴리글리코사이드; 미국 특허 제5,332,528호, 국제 공개공보 제WO 92/06162호, 제WO 93/19146호, 제WO 93/19038호 및 제WO 94/09099호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 폴리하이드록시 지방산 아미드; 미국 특허 제6,482,994호 및 제WO 01/42408호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 에테르 캡핑(capped) 폴리(옥시알킬화) 알코올 계면활성제; 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다.
비이온성 세척성 계면활성제는 알킬 폴리글루코사이드 및/또는 알킬 알콕시화 알코올일 수 있다. 바람직하게는, 비이온성 세척성 계면활성제는 평균 에톡시화도가 1 내지 50, 보다 바람직하게는 3 내지 40인 선형 또는 분지형의 치환 또는 비치환 C8 -18 알킬 에톡시화 알코올이다. 에톡시화도가 3 내지 9인 비이온성 계면활성제가 또한 특히 유용할 수도 있다. HLB 값이 13 내지 25인 비이온성 계면활성제, 예를 들어 평균 에톡시화도가 15 내지 50, 또는 심지어 20 내지 50인 C8-18 알킬 에톡시화 알코올이 또한 본 발명의 조성물에서 바람직한 비이온성 계면활성제일 수도 있다. 이들 후술한 비이온성 계면활성제의 예로는 루텐솔(Lutensol) AO30 및 국제 공개공보 제WO 04/041982호에 개시된 유사한 물질이 있다. 이들은 우수한 석회 비누 분산제 특성을 가지고 있어 유익할 수도 있다.
비이온성 세척성 계면활성제는 추가의 오염물의 세정 능력을 제공할 뿐만 아니라 음이온성 세척성 계면활성제가 유리 칼슘 양이온의 존재하에 용액으로부터 덜 침전되게 함으로써 음이온성 세척성 계면활성제의 활성을 증가시킬 수도 있다. 바람직하게는, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제 대 비이온성 세척성 계면활성제의 중량비는 8:1 미만, 또는 7:1 미만, 또는 6:1 미만 또는 5:1 미만, 바람직하게는 1:1 내지 5:1, 또는 2:1 내지 5:1, 또는 심지어 3:1 내지 4:1의 범위이다.
양이온성
세척성
계면활성제
본 발명의 하나의 측면에서, 세제 조성물은 양이온성 계면활성제를 함유하지 않는다. 그러나, 본 조성물은 임의로 0.1중량% 내지 10중량% 또는 5중량%의 양이온성 세척성 계면활성제를 포함할 수도 있다. 그러나, 본 조성물은 존재하는 경우, 0.5중량% 내지 3중량%, 또는 1% 내지 3중량%, 또는 심지어 1중량% 내지 2중량%의 양이온성 세척성 계면활성제를 포함하는 것이 바람직하다. 이는 우수한 세정성을 제공하기 위한 양이온성 세척성 계면활성제의 최적의 수준이다. 적합한 양이온성 세척성 계면활성제로는 알킬 피리디늄 화합물, 알킬 4급 암모늄 화합물, 알킬 4급 포스포늄 화합물 및 알킬 3급 설포늄 화합물이 있다. 양이온성 세척성 계면활성제는 미국 특허 제6,136,769호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 알콕실레이트 4급 암모늄(AQA) 계면활성제; 미국 특허 제6,004,922호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 디메틸 하이드록시에틸 4급 암모늄; 국제 공개공보 제WO 98/35002호, 제WO 98/35003호, 제WO 98/35004호, 제WO 98/35005호 및 제WO 98/35006호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 폴리아민 양이온성 계면활성제; 미국 특허 제4,228,042호, 미국 특허 제4,239,660호, 미국 특허 제4,260,529호 및 미국 특허 제6,022,844호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 양이온성 에스테르 계면활성제; 미국 특허 제6,221,825호 및 제WO 00/47708호에 더욱 상세하게 개시되어 있는 아미노 계면활성제, 구체적으로는 아미노 프로필디메틸 아민; 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 양이온성 세척성 계면활성제는 화학식 (R)(R1)(R2)(R3)N+ X-의 4급 암모늄 화합물[여기서, R은 선형 또는 분지형의 치환 또는 비치환 C6 -18 알킬 또는 알케닐 부분이고, R1 및 R2는 독립적으로 메틸 또는 에틸 부분으로부터 선택되고, R3은 하이드록실, 하이드록시메틸 또는 하이드록시에틸 부분이며, X는 전하 중성을 제공하는 음이온이고, 바람직한 음이온에는 할라이드(예를 들어, 클로라이드), 설페이트 및 설포네이트가 포함된다]이다. 바람직한 양이온성 세척성 계면활성제는 모노-C6 -18 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드이다. 매우 바람직한 양이온성 세척성 계면활성제는 모노-C8 -10 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드, 모노-C10 -12 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드 및 모노-C10 알킬 모노-하이드록시에틸 디메틸 4급 암모늄 클로라이드이다. 프라에파젠(Praepagen) HY(상표명 클라리안트(Clariant))와 같은 양이온성 계면활성제가 또한 거품 촉진제(suds booster)로서 유용할 수도 있다.
양이온성 세척성 계면활성제는 추가의 기름기 많은 오염물의 세정 능력을 제공한다. 그러나, 양이온성 세척성 계면활성제는 임의의 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제가 용액으로부터 침전되는 경향을 증가시킬 수도 있다. 바람직하게는, 양이온성 세척성 계면활성제 및 임의의 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제는 본 발명의 세제 조성물 중에서 분리되는데, 예를 들어 양이온성 계면활성제가 존재한다면, 바람직하게는 양이온성 및 임의의 음이온성 계면활성제, 특히 비-알콕시화 음이온성 계면활성제는 개별적인 입자로서 본 조성물 내에 존재할 것이다. 이는 임의의 양이온성 세척성 계면활성제가 음이온성 세척성 계면활성제의 바람직하지 못한 침전에 미칠 수도 있는 모든 영향을 최소화하며, 또한 물과의 접촉시 생성된 세척액이 탁해지지 않게 하는 것을 보장한다. 양이온성 계면활성제가 존재하는 경우, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제 대 양이온성 세척성 계면활성제의 중량비는 바람직하게는 5:1 내지 25:1, 보다 바람직하게는 5:1 내지 20:1 또는 6:1 내지 15:1, 또는 7:1 내지 10:1, 또는 심지어 8:1 내지 9:1의 범위 내이다.
통상적으로, 본 세제 조성물은 1 내지 50중량%, 더 통상적으로는 2 내지 40중량%의 음이온성 계면활성제를 포함한다. 알킬 벤젠 설포네이트가 바람직한 음이온성 계면활성제이다.
본 발명의 바람직한 조성물은 2개 이상의 서로 상이한 계면활성제를 조합으로 포함하는데, 하나 이상은 알킬 벤젠 설포네이트 및 MES 계면활성제를 포함하는 제1 그룹으로부터 선택되고; 하나 이상은 알콕시화 음이온성 계면활성제, MES 및 알콕시화 비이온성 계면활성제 및 알파 올레핀 설포네이트(AOS)를 포함하는 제2 그룹으로부터 선택된다. 특히 바람직한 조합은 MES와의 조합으로 알킬 벤젠 설포네이트, 바람직하게는 LAS를 포함한다. 더욱 특히 바람직한 조합은 알콕시화 음이온성 계면활성제, 바람직하게는 평균 알콕시화도가 1 내지 10인 C8 -18 알킬 알콕시화 설페이트와 함께 알킬 벤젠 설포네이트, 바람직하게는 LAS를 포함한다. 세 번째로 특히 바람직한 조합은 알콕시화 비이온성 계면활성제, 바람직하게는 알콕시화도가 15 내지 50, 바람직하게는 20 내지 40인 C8 -18 알킬 에톡시화 알코올과의 조합으로 알킬 벤젠 설포네이트, 바람직하게는 LAS를 포함한다.
제1 그룹으로부터 선택된 계면활성제 중량비 대 제2 그룹으로부터 선택된 계면활성제의 중량비는 통상적으로 1:5 내지 100:1, 바람직하게는 1:2 내지 100:1 또는 1:1 내지 50:1 또는 심지어 20:1 또는 10:1이다. 계면활성제의 수준은 특정 부류의 계면활성제에 대하여 전술한 바와 같다. 시스템 내에서의 AE3S 및/또는 MES의 존재는 이들의 예외적인 경도-내성 및 리파제에 의한 세척 동안에 형성되는 석회 비누를 분산시키는 능력으로 인해 바람직하다.
추가의 양태에서, 본 발명의 세제 조성물 중의 계면활성제는 3개 이상의 계면활성제, 즉 상기에 정의된 제1 그룹 및 제2 그룹 각각으로부터의 하나 이상의 계면활성제와, 또한 바람직하게는 상기에 정의된 제1 그룹 또는 제2 그룹으로부터의 추가의 제3 계면활성제를 포함한다.
본 발명의 세제 조성물은 놀랍게도 상대적으로 낮은 수준의 계면활성제를 포함할 수도 있지만, 리파제에 의해 제공되는 오염물 제거 기능성(functionality)으로 인해 여전히 우수한 세정 성능을 발휘하여서, 계면활성제의 전체 수준은 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 12중량% 미만, 또는 10중량% 또는 8중량% 미만일 수 있다.
본 발명의 바람직한 양태에서, 세제 조성물은 또한 조성물의 총 중량을 기준으로 통상적으로는 0.01 내지 10중량%의 양으로, 바람직하게는 0.02 내지 5중량%의 양으로 거품 촉진제를 포함한다. 적합한 거품 촉진제는 지방산 아미드, 지방산 알칼론아미드, 베타인, 설포베타인 및 아민 옥사이드를 포함한다. 특히 바람직한 물질은 코크아미도프로필 베타인, 코코모노에탄올아미드 및 아민 옥사이드이다. 적합한 아민 옥사이드는 앨버말(Albermarle)에 의해 공급되는 아드목스(Admox) 12이다.
석회 비누
분산제
이러한 리파제 효소들은 오염물을 세척수 내로 방출시키기 때문에, 본 발명의 세제 조성물이 부가적으로 재침착 방지 중합체, 예를 들어 하기에 기술한 중합체성 폴리카복실레이트를 포함하는 것이 특히 바람직할 수도 있다. 또한, 또는 대안적으로는, 카복시메틸 셀룰로스(CMC)와 같은 셀룰로스 에테르가 유용할 것이다. 적합한 CMC는 클라리안트에 의해 판매되는 타일로스(Tylose) CR1500 G2이다. 적합한 중합체가 또한 텍스틸란(Textilan)이라는 상표명으로 콜롬비아 소재의 앤더콜(Andercol)에 의해 판매된다.
석회 비누 분산 기능성을 갖는 첨가제, 예를 들어 전술한 MES, AES, 고 에톡시화 비이온성 계면활성제 또는 우수한 석회 비누 분산을 나타내는 중합체, 예를 들어 아큐솔(Acusol) 460N(롬 앤 하스(Rohm & Haas))을 포함하는 것이 특히 바람직하다. 적합한 석회 비누 분산제의 목록이 본 명세서에 인용된 하기 참조 문헌 및 문서에 제공되어 있다:
국제 공개공보 제WO 94/07974호(P&G), 제WO 94/07984호(P&G), 제WO 94/07985호(P&G), 제WO 95/04806호(P&G), 제WO 97/03379호(P&G), 미국 특허 제6770610호(클라리안트), 유럽 특허 제0324568호(롬 앤 하스), 유럽 특허 제0768370호(롬 앤 하스), 문헌[M.K. Nagarajan and W.F. Masler, Cosmetics and Toiletries, 1989, 104, pp71-73], 문헌[W. M. Linfield, Tenside Surf. Det, 1990, 27, pp159-161], 문헌[R.G. Bistline et al, J. Am. Oil Chem. Soc, 1972, 49, pp63-69]
방오 중합체(soil release polymer)의 존재는 특히 합성 섬유에 대한 개선하고자 하는 얼룩 제거 및 세정 효과를 더욱 강화하는 데 특히 효과적임을 알았다. 예를 들어 타일로스 MH50 G4 및 타일로스 MH300 G4로서 클라리안트에 의해 판매되는 것과 같은 메틸 하이드록시에틸 셀룰로스(MHEC) 등의 변형된 셀룰로스 에테르가 바람직하다. 폴리에스테르 기재 방오 중합체는 이들이 또한 석회 비누 분산제로서 효과적일 수 있기 때문에 특히 바람직하다. 적합한 물질의 예로는 레펠-o-텍스(Repel-o-Tex) PF(로디아(Rhodia)에 의해 공급됨), 텍스케어(Texcare) SRA100(클라리안트에 의해 공급됨) 및 소칼란 SR100(바스프)이 있다.
제형은 제1의 세척용 리파제 외에도 하나 이상의 다른 효소, 예를 들면 프로테아제, 아밀라제, 셀룰라제(특히 엔도글루카나제), 펙테이트 리아제(pectate lyase) 및/또는 만나나제(mannanase)를 포함할 수도 있다.
본 발명의 세제 조성물은 임의의 편리한 형태, 예를 들어 고형물, 예를 들어 분말형 또는 과립형 또는 정제형 고형물, 바아(bar), 또는 수성 또는 비-수성일 수도 있는 액체, 겔 또는 리퀴겔(liquigel)일 수도 있다. 이들 형태들 중 임의의 형태는 부분적으로 또는 완전히 캡슐화될 수도 있다. 그러나, 본 발명은 특히 고체 세제 조성물, 특히 과립형 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 세제 조성물이 고형물인 경우, 통상적으로, 계면활성제들은, 일반적으로 증강제인 고체 물질과 함께 응집물, 압출물 또는 분무 건조 입자 내로 혼입되고, 이들은 본 발명에 따른 완전히 제형화된 세제 조성물을 제조하기 위하여 혼합될 수도 있다. 과립 형태로 존재할 때 본 발명의 세제 조성물은 바람직하게는 전체 용적 밀도가 350 내지 1200g/ℓ, 보다 바람직하게는 450 내지 1000g/ℓ 또는 심지어 500 내지 900g/ℓ인 것들이다. 바람직하게는, 과립 형태의 세제 조성물의 세제 입자는 크기 평균 입자 크기가 200㎛ 내지 2000㎛, 바람직하게는 350㎛ 내지 600㎛이다.
일반적으로 본 발명의 세제 조성물은 응집물, 분무 건조 분말 및/또는 건식 첨가된 물질, 예를 들어 표백제, 효소 등의 조합을 포함하는 세제 입자들의 혼합물을 함유할 것이다.
본 발명의 하나의 측면에서, 본 발명의 세제 조성물은 상기 목록에 있는 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제인 음이온성 계면활성제를 포함하며, 이는 바람직하게는 예를 들면, 응집물, 분무 건조 분말, 압출물, 비드(bead), 누들(noodle), 니들(needle) 또는 박편(flake)을 통하여 특정 형태 내로 혼입된다. 분무 건조 입자가 바람직하다. 응집물을 통해 혼입되는 경우, 응집물은 바람직하게는 응집물의 중량을 기준으로 하여, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제를 20중량% 이상, 보다 바람직하게는 25중량% 내지 65중량% 함유한다. 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제의 일부는 분무 건조 분말(예를 들어, 취입 분말)의 형태로 존재하고, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제의 일부는 비-분무 건조 분말의 형태(예를 들어, 응집물, 또는 압출물, 또는 박편, 예를 들어 선형 알킬 벤젠 설포네이트 박편; 적합한 선형 알킬 벤젠 설포네이트 박편은 파일럿 케미칼(Pilot Chemical)에 의해 상표명 F90®으로 또는 스테판(Stepan)에 의해 상표명 나코놀(Nacconol) 90G®로 공급됨)로 존재하는 것이 바람직할 수도 있다. 이는 고수준의 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제를 조성물 중에 혼입하는 것이 바람직할 때 특히 바람직하다.
어떠한 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제라도 압출물, 응집물, 바람직하게는 응집물과 같은 비-분무 건조 분말의 분무 건조 입자를 통해 본 발명의 세제 조성물 내로 혼입될 수도 있다. 비-분무 건조 입자는 고수준의 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제를 조성물 중에 혼입하는 것이 바람직할 때 특히 바람직하다.
어떠한 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부라도 액체 스프레이-온(spray-on)의 형태로 조성물 내로 혼입될 수 있으며, 액체 형태(예를 들어, 고온-용융물의 형태)의 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 나머지의 조성물 상으로 분무된다. 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 본 발명의 세제 조성물 내로의 혼입을 위해 미립자 내에 포함될 수도 있고, 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 나머지의 조성물에 건조-부가될 수도 있다. 비이온성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 고체 담체 물질, 예를 들어 탄산염, 설페이트 염, 부르카이트(burkeite), 실리카 또는 이의 임의의 혼합물과의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재할 수도 있다.
어떠한 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부라도 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제 또는 양이온성 세척성 계면활성제와의 공-미립자 혼합물의 형태로 존재할 수도 있다. 비이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제, 비-알콕시화 음이온성 세척성 계면활성제 또는 양이온성 세척성 계면활성제와 함께 응집 또는 압출될 수도 있다.
양이온성 세척성 계면활성제는 존재하는 경우, 분무 건조 분말, 응집물, 압출물, 박편, 누들, 니들, 또는 이들의 임의의 조합과 같은 미립자 내로의 혼입에 의해 본 조성물 내로 혼입될 수도 있다. 바람직하게는, 양이온성 세척성 계면활성제 또는 적어도 이의 일부는 분무 건조 분말 또는 응집물의 형태로 존재한다.
임의의 세제 보조제
임의로, 세제 성분은 세척 행위를 돕거나 증강시키기 위하여, 세정할 기재의 처리를 위하여, 또는 세제 조성물의 미적 특성을 변형시키기 위하여 하나 이상의 다른 세제 보조제 또는 기타 물질을 포함할 수 있다. 세제 조성물의 일반적인 세제 보조제는 바스커빌(Baskerville) 등의 미국 특허 제3,936,537호 및 1997년 9월 24일자로 공개된 트라인(Trinh) 등의 영국 특허 출원 제9705617.0호에 나타내어져 있는 성분들을 포함한다. 이러한 보조제는 이들의 종래 기술 분야에서 정해진 통상적인 사용 수준, 일반적으로 계면활성제 성분의 0중량% 내지 약 80중량%, 바람직하게는 약 0.5중량% 내지 약 20중량%로 세제 조성물 내에 포함되고, 착색 스펙클(speckle), 거품 촉진제, 거품 억제제, 변색방지제(antitarnish) 및/또는 부식방지제, 오염물 현탁제(soil-suspending agent), 방오제, 염료, 충전제, 광학 증백제, 살균제, 알칼리성 공급원, 하이드로트로프(hydrotrope), 산화방지제, 효소, 효소 안정화제, 용제, 가용화제, 킬레이팅제, 점토 오염물 제거/재침착 방지제, 중합체성 분산제, 처리 보조제, 섬유 유연화 성분, 정전기 조절제, 표백제, 표백 활성제, 표백 안정화제, 이염 억제제, 응집제, 섬유 유연제, 거품 억제제, 직물 보전제(fabric integrity agent), 향료, 미백제, 광표백제, 알칼리 금속 설페이트 염, 설팜산, 황산나트륨 및 설팜산 복합체 등 및 이들의 배합물을 포함한다. 이러한 추가 성분의 정확한 성질 및 그의 혼입 수준은 조성물 또는 성분의 물리적 형태 및 그가 사용되는 세척 작업의 정확한 성질에 따라 달라질 것이다.
바람직한 쯔비터이온성 계면활성제는 하나 이상의 4급화된 질소원자와, 카보네이트, 포스페이트, 설페이트, 설포네이트 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 부분을 포함한다. 바람직한 쯔비터이온성 계면활성제는 알킬 베타인이다. 다른 바람직한 쯔비터이온성 계면활성제는 알킬 아민 옥사이드이다. 양이온성 계면활성제 및 음이온성 계면활성제를 포함하는 복합체인 양이온성 계면활성제가 또한 포함될 수도 있다. 통상적으로, 복합체 중 양이온성 계면활성제 대 음이온성 계면활성제의 몰 비는 1:1 초과여서, 복합체는 순 양전하를 갖는다.
본 발명의 조성물은 표백 촉진제를 함유할 수도 있다. 바람직한 표백 촉진제는 쯔비터이온성 이민, 음이온성 이민 다중 이온, 4급 옥사지리디늄 염 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 매우 바람직한 표백 촉진제는 아릴이미늄 쯔비터이온, 아릴이미늄 다중 이온 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 적합한 표백 촉진제가 미국 특허 제360568호, 미국 특허 제5360569호 및 미국 특허 제5370826호에 개시되어 있다.
바람직한 보조 성분으로는 재침착 방지제가 있다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 재침착 방지제를 함유한다. 바람직한 재침착 방지제로는 셀룰로스 중합체 성분, 가장 바람직하게는 카복시메틸 셀룰로스가 있다.
바람직한 보조 성분으로는 킬레이트제가 있다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 킬레이트제를 함유한다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 (조성물의 중량을 기준으로)0.01% 내지 10%의 킬레이트제, 또는 0.01 내지 5중량% 또는 4중량% 또는 2중량%의 킬레이트제를 포함한다. 바람직한 킬레이트제는: 하이드록시에탄-디메틸렌-포스폰산, 에틸렌 디아민 테트라(메틸렌 포스폰)산, 디에틸렌 트리아민 펜타세테이트, 에틸렌 디아민 테트라아세테이트, 디에틸렌 트리아민 펜타(메틸 포스폰)산, 에틸렌 디아민 디석신산 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
바람직한 보조 성분으로는 이염 억제제가 있다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 이염 억제제를 함유한다. 통상적으로, 이염 억제제는 염료 분자를 포획하고 이들을 세척액 중에 현탁시킴으로써 염료 분자를 보유하는 중합체성 성분이다. 바람직한 이염 억제제는 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐피리딘 N-옥사이드, 폴리비닐피롤리돈-폴리비닐이미다졸 공중합체 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
바람직한 보조 성분은 기타 효소를 포함한다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 부가적인 효소를 함유한다. 바람직한 효소는 아밀라제, 아라비노시다제, 카보하이드라제, 셀룰라제, 콘드로이티나제, 큐티나제, 덱스트라나제, 에스테라제, β-글루카나제, 글루코-아밀라제, 하이알루로니다아제, 케라타나제, 락카아제, 리그니나제, 리폭시게나제, 말라나제, 만나나제, 옥시다제, 펙티나제, 펜토사나제, 퍼옥시다아제, 페놀옥시다아제, 포스포리파제, 프로테아제, 풀룰라나제, 리덕타아제, 탄나제, 트랜스퍼라제, 자일라나제, 자일로글루카나제 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다. 바람직한 부가적인 효소는 아밀라제, 카보하이드라제, 셀룰라제, 프로테아제 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
바람직한 부가 성분으로는 직물 보전제가 있다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 직물 보전제를 함유한다. 통상적으로, 직물 보전제는 직물 표면 상에 침착되어 세탁 과정 동안 직물 손상을 방지하는 중합체성 성분이다. 바람직한 직물 보전제는 소수성으로 변형된 셀룰로스이다. 이러한 소수성으로 변형된 셀룰로스는 직물 마모를 감소시키고, 섬유-섬유 상호 작용을 향상시키며 직물로부터의 염료의 손실을 감소시킨다. 소수성으로 변형된 바람직한 셀룰로스가 국제특허공개 WO 99/14245호에 개시되어 있다. 기타 바람직한 직물 보전제로는 이미다졸 및 에피클로르하이드린의 축합 단계를 포함하는 공정에 의해 수득가능한, 바람직하게는 상기 방법에 의해 수득되는 중합체 성분 및/또는 올리고머 성분이다.
바람직한 보조 성분으로는 염이 있다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 염을 함유한다. 염은 알칼리성 부여제, 완충제, 증강제, 공-증강제, 퇴적 억제제, 충전제, pH 조절제, 안정제 및 이들의 배합물로 작용할 수 있다. 통상적으로, 본 세제 조성물은 (조성물의 중량을 기준으로)5% 내지 60%의 염을 함유한다. 바람직한 염은 알루미네이트, 탄산염, 염화물, 중탄산염, 질산염, 인산염, 규산염, 황산염 및 이들의 배합물의 알칼리 금속염이다. 다른 바람직한 염은 알루미네이트, 탄산염, 염화물, 중탄산염, 질산염, 인산염, 규산염, 황산염 및 이들의 배합물의 알칼리 토금속염이다. 특히 바람직한 염은 황산나트륨, 탄산나트륨, 중탄산나트륨, 규산나트륨, 황산나트륨 및 이들의 배합물이다. 임의로, 알칼리 금속염 및/또는 알칼리 토금속염은 무수물일 수도 있다.
바람직한 보조 성분으로는 방오제가 있다. 바람직하게는, 본 세제 조성물은 하나 이상의 방오제를 함유한다. 통상적으로, 방오제는 직물 표면을 변형시켜 직물 상의 오염물의 재침착을 방지하는 중합체성 화합물이다. 바람직한 방오제는 하나 이상의 테레프탈레이트 단위를 포함하는 공중합체, 바람직하게는 블록 공중합체이다. 바람직한 방오제는 디메틸테레프탈레이트, 1,2-프로필 글리콜 및 메틸 캡핑된(capped) 폴리에틸렌글리콜로부터 합성되는 공중합체이다. 다른 바람직한 방오제는 음이온성으로 말단 캡핑된 폴리에스테르이다.
본 발명의 조성물은 0.1중량% 이상, 또는 0.5중량% 이상, 또는 2 또는 3중량% 이상, 또는 심지어 5중량% 이상 30중량% 이하 또는 20중량% 이하 또는 10중량% 이하의 수준까지의 중합체성 폴리카복실레이트를 함유하는 것이 바람직할 수도 있다. 바람직한 중합체성 폴리카복실레이트는 폴리아크릴레이트 및 말레산과 아크릴산의 공중합체를 포함한다. 적합한 폴리카복실레이트는 소칼란 CP5, PA40 및 HP22와 같은 소칼란 CP, PA 및 HP 부류(BASF), 및 알코스퍼스(Alcosperse) 725, 747, 408, 412 및 420과 같은 알코스퍼스 중합체 부류(Alco)이다.
본 조성물은 오염물 분산제, 예를 들어 화학식 비스((C2H5O)(C2H4O)n)(CH3)-N+-CxH2x-N+-(CH3)-비스((C2H5O)(C2H4O)n)의 오염물 분산제(여기서, n은 20 내지 30이며, x는 3 내지 8이다)를 함유하는 것이 또한 바람직할 수도 있다. 기타 적합한 오염물 분산제는 화학식 설포네이트화 또는 설페이트화 비스((C2H5O)(C2H4O)n)(CH3)-N+-CxH2x-N+-(CH3)-비스((C2H5O)(C2H4O)n)의 설포네이트화 또는 설페이트화 오염물 분산제(여기서, n은 20 내지 30이며, x는 3 내지 8이다)이다. 바람직하게는, 본 조성물은 1중량% 이상, 또는 2중량% 이상, 또는 3중량% 이상의 오염물 분산제를 함유한다.
유연화 시스템
본 발명의 세제 조성물은 세척을 통한 유연화를 위한 유연제, 예를 들어, 점토를 임의로 응집제 및 효소와 또한 함께 포함할 수도 있다.
적합한 세제 성분에 대한 추가의 보다 구체적인 설명이 국제 특허공보 제WO 97/11151호에서 발견될 수 있다.
세탁방법
본 발명은 또한 직물을 본 발명의 세제 조성물을 포함하는 수용액과 접촉시키는 단계를 포함하는 직물 세탁방법을 포함한다. 본 발명은 낮은 수온, 예를 들어 30℃ 미만 또는 25℃ 또는 20℃ 미만에서 특히 유익할 수도 있다. 통상적으로, 수성 세척액은 100ppm 이상, 또는 500ppm 이상의 세제 조성물을 포함할 것이다.
하기는 본 발명의 실시예이다.
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<160> 1
<170> KopatentIn 1.71
<210> 1
<211> 291
<212> PRT
<213> Humicola lanuginosa
<400> 1
Met Arg Ser Ser Leu Val Leu Phe Phe Val Ser Ala Trp Thr Ala Leu
1 5 10 15
Ala Ser Pro Ile Arg Arg Glu Val Ser Gln Asp Leu Phe Asn Gln Phe
20 25 30
Asn Leu Phe Ala Gln Tyr Ser Ala Ala Ala Tyr Cys Gly Lys Asn Asn
35 40 45
Asp Ala Pro Ala Gly Thr Asn Ile Thr Cys Thr Gly Asn Ala Cys Pro
50 55 60
Glu Val Glu Lys Ala Asp Ala Thr Phe Leu Tyr Ser Phe Glu Asp Ser
65 70 75 80
Gly Val Gly Asp Val Thr Gly Phe Leu Ala Leu Asp Asn Thr Asn Lys
85 90 95
Leu Ile Val Leu Ser Phe Arg Gly Ser Arg Ser Ile Glu Asn Trp Ile
100 105 110
Gly Asn Leu Asn Phe Asp Leu Lys Glu Ile Asn Asp Ile Cys Ser Gly
115 120 125
Cys Arg Gly His Asp Gly Phe Thr Ser Ser Trp Arg Ser Val Ala Asp
130 135 140
Thr Leu Arg Gln Lys Val Glu Asp Ala Val Arg Glu His Pro Asp Tyr
145 150 155 160
Arg Val Val Phe Thr Gly His Ser Leu Gly Gly Ala Leu Ala Thr Val
165 170 175
Ala Gly Ala Asp Leu Arg Gly Asn Gly Tyr Asp Ile Asp Val Phe Ser
180 185 190
Tyr Gly Ala Pro Arg Val Gly Asn Arg Ala Phe Ala Glu Phe Leu Thr
195 200 205
Val Gln Thr Gly Gly Thr Leu Tyr Arg Ile Thr His Thr Asn Asp Ile
210 215 220
Val Pro Arg Leu Pro Pro Arg Glu Phe Gly Tyr Ser His Ser Ser Pro
225 230 235 240
Glu Tyr Trp Ile Lys Ser Gly Thr Leu Val Pro Val Thr Arg Asn Asp
245 250 255
Ile Val Lys Ile Glu Gly Ile Asp Ala Thr Gly Gly Asn Asn Gln Pro
260 265 270
Asn Ile Pro Asp Ile Pro Ala His Leu Trp Tyr Phe Gly Leu Ile Gly
275 280 285
Thr Cys Leu
290
Claims (10)
- 과산화수소 공급원; 화학식 R-(C=O)-L의 소수성 과산(여기서, R은 탄소수 6 내지 14, 바람직하게는 8 내지 12의 알킬기이고, L은 이탈기이다) 및/또는 이의 전구체; 및 (a) 후미콜라 라누기노사 균주 DSM 4109로부터 유래된 야생형 리파제와의 동일성이 90% 이상이고, (b) 상기 야생형 리파제와 비교하여, E1 또는 Q249의 15Å 이내의 3차원 구조의 표면에서 전기적으로 중성이거나 음으로 하전된 아미노산이 양으로 하전된 아미노산으로 치환된 것을 포함하고, (c) C-말단에서 펩티드 부가를 포함하고/하거나, (d) N-말단에서 펩티드 부가를 포함하고/하거나, (e) i) 상기 야생형 리파제의 E210 위치에서 음성 아미노산을 포함하고, ii) 상기 야생형 리파제의 90-101 위치에 상응하는 영역에서 음으로 하전된 아미노산을 포함하며, iii) 상기 야생형 리파제의 N94에 상응하는 위치에서 중성 또는 음성 아미노산을 포함하고/하거나 상기 야생형 리파제의 90-101 위치에 상응하는 영역에서 음성이거나 중성인 순 전하를 갖는다는 제한 사항들을 충족시키는, 아미노산 서열을 갖는 폴리펩티드인 리파제 효소를 포함하는 세제 조성물로서,예비 알칼리도(reserve alkalinity)가 6.5를 초과하고, (과산화물 공급원으로부터의) 이용 가능한 산소 및 과산 및/또는 이의 전구체의 양이, (과산화물 공급원으로부터의)이용 가능한 산소:과산의 몰 비를 1:1 내지 35:1로 세제 조성물에 제공하도록 하는 양인, 세제 조성물.
- 제1항에 있어서, 예비 알칼리도가 8을 초과하거나 9를 초과하는 세제 조성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 이용 가능한 산소:과산의 비가 2:1 내지 8:1인 세제 조성물.
- 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 소수성 표백 활성제가 노나노일옥시벤젠 설포네이트를 포함하는 세제 조성물.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 알콕시화 알킬 설페이트 계면활성제 0.1 내지 40중량% 및/또는 C1 -4 알킬 에스테르 설포네이트, 바람직하게는 메틸 에스테르 설포네이트(MES) 0.1 내지 40중량%를, 바람직하게는 알킬 벤젠 설포네이트 계면활성제 5 내지 40중량%와 함께 포함하는 세제 조성물.
- 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 바람직하게는 지방산 아미드, 지방산 알칸올아미드, 베타인, 설포베타인, 아민 옥사이드 및 이들의 혼합물로부터 선택된 거품 촉진제를 0.05 내지 2중량%의 양으로 포함하는 세제 조성물.
- 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 테트라 아세틸 에틸렌 디아민(TAED)을 0.05 내지 5중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1중량% 포함하는 세제 조성 물.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 고형, 바람직하게는 과립형인 세제 조성물.
- 직물 제품을 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 따르는 세제 조성물을 포함하는 수용액 중에서 세탁함을 포함하는, 세탁방법.
- 제9항에 있어서, 수용액의 온도가 30℃ 미만인, 세탁방법.
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