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KR20070005965A - 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치 - Google Patents

표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치 Download PDF

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KR20070005965A
KR20070005965A KR1020050060043A KR20050060043A KR20070005965A KR 20070005965 A KR20070005965 A KR 20070005965A KR 1020050060043 A KR1020050060043 A KR 1020050060043A KR 20050060043 A KR20050060043 A KR 20050060043A KR 20070005965 A KR20070005965 A KR 20070005965A
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KR
South Korea
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line
gate
data line
substrate
wiring
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Withdrawn
Application number
KR1020050060043A
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English (en)
Inventor
서종현
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
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Priority to TW094139736A priority patent/TW200703655A/zh
Priority to US11/280,591 priority patent/US20070007520A1/en
Priority to CNA2005101297618A priority patent/CN1893090A/zh
Priority to JP2005356098A priority patent/JP2007017935A/ja
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Abstract

구동 불량을 방지할 수 있는 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치가 개시되어 있다. 표시 기판은 플라스틱 기판, 게이트 배선, 액티브층, 데이터 배선 및 드레인 배선을 포함한다. 게이트 배선은 플라스틱 기판 상에 형성되며, 게이트 라인 및 게이트 전극부를 포함한다. 액티브층은 게이트 전극부에 대응하여 게이트 절연막 상에 형성된다. 데이터 배선은 게이트 절연막 상에 게이트 배선과 교차되도록 형성된 데이터 라인 및 데이터 라인과 평행하게 형성되고 데이터 라인과 전기적으로 연결된 리페어 라인을 포함한다. 드레인 배선은 데이터 라인과 리페어 라인 사이에 형성된다. 따라서, 플라스틱 기판의 미세한 크랙을 통해 유발되는 데이터 라인의 단선으로 인한 구동 불량을 방지할 수 있다.

Description

표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치{DISPLAY SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF AND DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판을 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절단한 표시 기판의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라스틱 기판을 나타낸 단면도이다.
도 4 내지 도 7은 도 1 및 도 2에 도시된 표시 기판의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 나타낸 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 표시 기판 110 : 플라스틱 기판
120 : 게이트 배선 122 : 게이트 라인
124 : 게이트 전극부 130 : 게이트 절연막
140 : 액티브층 150 : 데이터 배선
152 : 데이터 라인 153 : 데이터 전극부
154 : 리페어 라인 156 : 연결 라인
160 : 드레인 배선 162 : 드레인 전극부
164 : 콘택부 170 : 보호막
172 : 콘택홀 180 : 화소 전극
200 : 표시 장치 300 : 대향 기판
330 : 공통 전극 400 : 액정층
본 발명은 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 데이터 라인의 단선으로 인한 구동 불량을 방지할 수 있는 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 이동통신 단말기, 디지털 카메라, 노트북, 모니터 등 여러 가지 전자기기에는 영상을 표시하기 위한 표시 장치가 구비된다. 표시 장치로는 전자기기의 특성상 평판 형상을 갖는 액정표시장치(Liquid Crystal Display) 또는 유기 EL(electro luminescence) 등이 주로 사용된다.
액정표시장치 또는 유기 EL 등의 표시 장치는 다수의 화소들을 독립적으로 구동하기 위한 표시 기판을 포함한다. 표시 기판은 절연 기판 및 절연 기판 상에 형성된 신호 배선 및 박막 트랜지스터 등의 구동 소자들을 포함한다.
종래의 표시 기판은 경질의 유리 기판을 절연 기판으로 주로 사용하였다. 그러나, 최근에는 제품의 경량화 및 박형화를 위하여 플렉서블한 플라스틱 기판을 절연 기판으로 사용하는 기술에 대한 연구가 진행되고 있다.
일반적으로, 플라스틱 기판은 베이스 기판과 베이스 기판의 상면 및 하면에 형성된 베리어층으로 이루어진다. 베리어층은 외부로부터의 수분이나 가스가 베이스 기판에 침투되어 확산되는 것을 방지하기 위하여 베이스 기판의 상면 및 하면에 필수적으로 형성된다.
그러나, 플라스틱 기판을 사용할 경우, 베이스 기판과 베리어층 간의 열팽창 계수의 차이로 인하여 열 공정 중에 부득이하게 미세한 크랙이 발생되는 문제점이 발생된다. 발생되는 미세한 크랙은 보통 30㎛ ~ 50㎛ 정도의 직경을 가지므로, 데이터 라인의 단선을 유발시키며, 이로 인해 표시 기판의 구동 불량이 발생되는 문제점이 발생된다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명은 데이터 라인의 단선으로 인한 구동 불량을 방지할 수 있는 표시 기판을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기한 표시 기판의 제조 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기한 표시 기판을 갖는 표시 장치를 제공한다.
본 발명의 일 특징에 따른 표시 기판은 플라스틱 기판, 게이트 배선, 액티브층, 데이터 배선 및 드레인 배선을 포함한다.
상기 게이트 배선은 상기 플라스틱 기판 상에 형성되며, 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 연결된 게이트 전극부를 포함한다.
상기 게이트 절연막은 상기 게이트 배선이 형성된 상기 플라스틱 기판 상에 형성된다.
상기 액티브층은 상기 게이트 전극부에 대응하여 상기 게이트 절연막 상에 형성된다.
상기 데이터 배선은 상기 게이트 절연막 상에 상기 게이트 배선과 교차되도록 형성된 데이터 라인 및 상기 데이터 라인과 평행하게 형성되고 상기 데이터 라인과 전기적으로 연결된 리페어 라인을 포함한다.
상기 드레인 배선은 상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인 사이에 형성된다.
상기 데이터 배선은 상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인을 전기적으로 연결하는 연결 라인을 더 포함한다.
본 발명의 일 특징에 따른 표시 기판의 제조 방법은 플라스틱 기판 상에 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 연결된 게이트 전극부를 포함하는 게이트 배선을 형성하는 단계, 상기 게이트 배선이 형성된 상기 플라스틱 기판 상에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극부에 대응하여 상기 게이트 절연막 상에 액티브층을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 상에 데이터 라인, 상기 데이터 라인과 평행한 리페어 라인 및 상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인을 연결하는 연결 라인을 포함하는 데이터 배선을 형성하는 단계, 및 상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인 사이에 드레인 배선을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 특징에 따른 표시 장치는 표시 기판, 상기 표시 기판과 대향하는 대향 기판 및 상기 표시 기판과 상기 대향 기판 사이에 배치된 액정층을 포함한다.
상기 표시 기판은 플라스틱 기판, 게이트 배선, 액티브층, 데이터 배선 및 드레인 배선을 포함한다. 상기 게이트 배선은 상기 플라스틱 기판 상에 형성되며, 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 연결된 게이트 전극부를 포함한다. 상기 게이트 절연막은 상기 게이트 배선이 형성된 상기 플라스틱 기판 상에 형성된다. 상기 액티브층은 상기 게이트 전극부에 대응하여 상기 게이트 절연막 상에 형성된다. 상기 데이터 배선은 상기 게이트 절연막 상에 상기 게이트 배선과 교차되도록 형성된 데이터 라인 및 상기 데이터 라인과 평행하게 형성되고 상기 데이터 라인과 전기적으로 연결된 리페어 라인을 포함한다. 상기 드레인 배선은 상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인 사이에 형성된다.
이러한 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치에 따르면, 플라스틱 기판의 미세한 크랙을 통해 유발되는 데이터 라인의 단선으로 인한 구동 불량을 방지할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판을 나타낸 평면도이며, 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절단한 표시 기판의 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판(100)은 플라스틱 기판(110), 플라스틱 기판(110) 상에 형성된 게이트 배선(120), 게이트 절연막(130), 액티브층(140), 데이터 배선(150) 및 드레인 배선(160)을 포함한다.
플라스틱 기판(110)은 유연성을 갖는 얇은 필름 형태를 갖는다. 플라시틱 기판(110)은 광이 투과될 수 있는 투명한 합성 수지로 이루어진다.
게이트 배선(120)은 플라스틱 기판(110) 상에 형성되며, 게이트 라인(122) 및 게이트 라인(122)과 연결된 게이트 전극부(124)를 포함한다.
게이트 배선(120)은 가로 방향으로 연장되도록 형성된다. 게이트 전극부(124)는 게이트 라인(122)과 연결되며, 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 단자를 구성한다.
게이트 절연막(130)은 게이트 배선(120)이 형성된 플라스틱 기판(110) 상에 형성된다. 게이트 절연막(130)은 예를 들어, 실리콘 질화막(SiNx) 또는 실리콘 산화막(SiOx)으로 이루어진다.
액티브층(140)은 게이트 전극부(124)에 대응하여 게이트 절연막(130) 상에 형성된다. 액티브층(140)은 반도체층(142) 및 오믹 콘택층(144)을 포함한다. 반도체층(142)은 비정질 실리콘(amorphous Silicon : 이하, a-Si)으로 이루어지며, 오믹 콘택층(144)은 n형 불순물이 고농도로 도핑된 비정질 실리콘(이하, n+a-Si)으로 이루어진다.
데이터 배선(150)은 게이트 절연막(130) 상에 형성되며, 데이터 라인(152) 및 데이터 라인(152)과 평행하게 형성된 리페어 라인(154)을 포함한다. 데이터 라인(152) 및 리페어 라인(154)은 게이트 배선(120)과 교차되도록 세로 방향으로 형성된다.
데이터 라인(152)은 액티브층(140)과 중첩되는 소오스 전극부(153)를 포함한다. 소오스 전극부(153)는 박막 트랜지스터(TFT)의 소오스 단자를 구성한다.
데이터 배선(150)은 데이터 라인(152)과 리페어 라인(154)을 전기적으로 연 결하는 연결 라인(156)을 더 포함한다. 연결 라인(156)은 게이트 배선(120)과 나란하게 형성된다. 연결 라인(156)은 표시 기판(100)의 개구율을 떨어뜨리지 않기 위하여 게이트 배선(120)과 인접한 영역에 형성되는 것이 바람직하다.
드레인 배선(160)은 게이트 절연막 상의 데이터 라인(152)과 리페어 라인(154) 사이에 형성된다. 드레인 배선(160)은 액티브층(140)과 중첩되는 드레인 전극부(162)를 포함한다. 드레인 전극부(164)는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 단자를 구성한다.
소오스 전극부(153)와 드레인 전극부(162)는 액티브층(140) 상에 서로 이격되도록 배치되어 박막 트랜지스터(TFT)의 채널을 형성한다.
드레인 배선(160)은 화소 전극(180)과의 연결을 위한 콘택부(164)를 더 포함한다.
데이터 배선(150)과 드레인 배선(160)은 동일한 금속 물질로 이루어지며, 한번의 공정을 통해 동시에 형성된다.
한편, 표시 기판(100)은 보호막(170) 및 화소 전극(180)을 더 포함한다.
보호막(170)은 데이터 배선(150) 및 드레인 배선(160)이 형성된 게이트 절연막(130) 상에 형성된다. 보호막(170)은 드레인 배선(160)의 콘택부(164)의 일부를 노출시키기 위한 콘택홀(172)을 갖는다.
화소 전극(180)은 드레인 배선(160)의 콘택부(164)와 중첩되도록 보호막(170) 상에 형성된다. 화소 전극(180)은 광이 투과할 수 있는 투명한 도전성 물질로 이루어진다. 예를 들어, 화소 전극(180)은 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO) 또는 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO)로 이루어진다.
화소 전극(180)은 보호막(170)에 형성된 콘택홀(172)을 통해 드레인 배선(160)의 콘택부(164)와 전기적으로 연결된다.
한편, 도시되지는 않았으나, 표시 기판(100)은 표시 기판(100)의 평탄화를 위하여 보호막(170)과 화소 전극(180) 사이에 형성되는 유기막을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 표시 기판(100)은 베리어층을 갖는 플라스틱 기판(110)을 사용하기 때문에, 공정의 진행 도중에 미세한 크랙이 발생되며, 크랙으로 인해 데이터 라인(152)의 단선이 발생될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 표시 기판(100)은 데이터 라인(152)의 단선을 고려하여 데이터 라인(152)과 전기적으로 연결된 리페어 라인(154)을 더 구비하는 구조를 갖는다.
데이터 라인(152)에 단선이 발생된 경우, 입력되는 데이터 신호는 단선 영역 전단의 연결 라인(156), 리페어 라인(152) 및 단선 영역 후단의 연결 라인(156)의 경로를 통해 전송된다. 따라서, 데이터 라인(152)의 단선으로 인한 라인 불량을 제거할 수 있다.
한편, 본 실시예에 따른 표시 기판(100)은 데이터 라인(152)의 단선을 고려하여 데이터 라인(152)과 연결되는 리페어 라인(154)을 구비한 데이터 라인(152) 리페어 구조를 가지나, 이와 동일한 방식으로 게이트 라인(122)과 연결되는 리페어 라인을 더 추가함으로써, 게이트 라인(122)의 단선에 대한 리페어 구조를 가질 수 도 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라스틱 기판을 나타낸 단면도이다.
도 3을 참조하면, 플라스틱 기판(110)은 베이스 기판(112) 및 베이스 기판(112)의 상면 및 하면에 각각 형성된 제1 베리어층(114) 및 제2 베리어층(116)을 포함한다.
베이스 기판(112)은 광이 투과될 수 있는 투명한 합성 수지로 이루어진다. 예를 들어, 베이스 기판(112)은 폴리에테르설폰(polyethersulphone : PES), 폴리카보네이트(polycarbonate : PC), 폴리이미드(polyimide : PI), 폴레에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthelate : PEN) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephehalate : PET) 등의 합성 수지로 이루어진다.
제1 베리어층(114) 및 제2 베리어층(116)은 외부로부터의 수분이나 가스가 베이스 기판(112)에 침투되어 확산되는 것을 방지하기 위하여 베이스 기판(112)의 상면 및 하면에 형성된다.
제1 베리어층(114) 및 제2 베리어층(116)은 베이스 기판(112)보다 상대적으로 열 팽창율이 작은 물질로 이루어진다. 예를 들어, 제1 베리어층(114) 및 제2 베리어층(116)은 아크릴계열의 수지로 이루어진다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법에 대하여 도 4 내지 도 7을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
도 4 내지 도 7은 도 1 및 도 2에 도시된 표시 기판의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
도 1 및 도 4를 참조하면, 플라스틱 기판(110) 상에 제1 금속막을 증착한 후, 사진 식각 공정을 통해 게이트 라인(122) 및 게이트 라인(122)과 연결된 게이트 전극부(124)를 포함하는 게이트 배선(120)을 형성한다.
게이트 배선(120)은 가로 방향으로 연장되도록 형성된다. 게이트 전극부(124)는 게이트 라인(122)과 연결되며, 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 단자를 구성한다. 게이트 배선(120)은 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al) 및 몰리브덴(Mo)이 차례로 적층된 3층막 구조를 갖는다.
이후, 게이트 배선(120)이 형성된 플라스틱 기판(110) 상에 게이트 절연막(130)을 형성한다. 게이트 절연막(130)은 예를 들어, 실리콘 질화막(SiNx) 또는 실리콘 산화막(SiOx)으로 이루어진다.
다음 도 1 및 도 5를 참조하면, 게이트 절연막(130) 상에 a-Si층 및 n+a-Si층을 차례로 적층한 후, 사진 식각 공정을 통해 게이트 전극부(124)에 대응되도록 액티브층(140)을 형성한다.
액티브층(140)은 반도체층(142) 및 오믹 콘택층(144)으로 이루어진다. 반도체층(142)은 a-Si으로 이루어지며, 오믹 콘택층(144)은 n형 불순물이 고농도로 도핑된 n+a-Si으로 이루어진다.
다음 도 1 및 도 6을 참조하면, 게이트 절연막(130) 및 액티브층(140) 상에 제2 금속막을 증착한 후, 사진 식각 공정을 통해 데이터 배선(150) 및 드레인 배선(160)을 형성한다.
데이터 배선(150)은 데이터 라인(152), 데이터 라인(152)과 평행하게 형성된 리페어 라인(154) 및 데이터 라인(152)과 리페어 라인(154)을 전기적으로 연결하는 연결 라인(156)을 포함한다. 데이터 라인(152)은 액티브층(140)과 중첩되는 소오스 전극부(153)를 포함한다.
데이터 라인(152) 및 리페어 라인(154)은 게이트 배선(120)과 교차되도록 세로 방향으로 형성된다. 연결 라인(156)은 데이터 라인(152)과 리페어 라인(154)을 연결하기 위하여 게이트 배선(120)과 나란하게 형성된다. 연결 라인(156)은 표시 기판(100)의 개구율을 떨어뜨리지 않기 위하여 게이트 배선(120)과 인접한 영역에 형성되는 것이 바람직하다.
드레인 배선(160)은 데이터 라인(152)과 리페어 라인(154) 사이에 형성된다. 드레인 배선(160)은 액티브층(140)과 중첩되는 드레인 전극부(162) 및 게이트 절연막(130) 상에 형성된 콘택부(164)를 포함한다.
데이터 배선(150)의 소오스 전극부(153)는 박막 트랜지스터(TFT)의 소오스 단자를 구성하며, 드레인 배선(160)의 드레인 전극부(164)는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 단자를 구성한다. 소오스 전극부(153)와 드레인 전극부(162)는 액티브층(140) 상에 서로 이격되도록 배치되어 박막 트랜지스터(TFT)의 채널을 형성한다.
데이터 배선(150)과 드레인 배선(160)은 동일한 금속 물질로 이루어지며, 한번의 공정을 통해 동시에 형성된다. 예를 들어, 데이터 배선(150) 및 드레인 배선(160)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al) 및 몰리브덴(Mo)이 차례로 적층된 3층막 구조를 갖는다.
이후, 소오스 전극부(153)와 드레인 전극부(162) 사이에 위치한 오믹 콘택층 (144)을 식각하여, 반도체층(142)을 노출시킨다.
다음 도 1 및 도 7을 참조하면, 데이터 배선(150) 및 드레인 배선(160)이 형성된 게이트 절연막(130) 상에 보호막(170)을 형성한다. 이후, 사진 식각 공정을 통해 드레인 배선(160)의 콘택부(163)를 노출시키기 위한 콘택홀(172)을 형성한다.
다음 도 1 및 도 2를 참조하면, 보호막(170) 상에 투명한 도전층을 형성한 후, 사진 식각 공정을 통해 화소 전극(180)을 형성한다.
화소 전극(180)은 광이 투과할 수 있는 투명한 도전성 물질로 이루어진다. 예를 들어, 화소 전극(180)은 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO) 또는 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO)로 이루어진다.
화소 전극(180)은 보호막(170)에 형성된 콘택홀(172)을 통해 드레인 배선(160)의 콘택부(164)와 전기적으로 연결된다.
한편, 본 실시예에 따른 표시 기판(100)의 제조 방법은 표시 기판(100)의 평탄화를 위하여 보호막(170)과 화소 전극(180) 사이에 유기막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치를 나타낸 단면도이다. 본 실시예에서, 표시 기판은 도 2에 도시된 것과 동일한 구조를 가지므로, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 사용하며, 그 중복되는 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(200)는 표시 기판(100), 표시 기판(100)과 대향하는 대향 기판(300) 및 표시 기판(100)과 대향 기판 (300) 사이에 배치된 액정층(400)을 포함한다.
대향 기판(300)은 플라스틱 기판(310), 컬러필터층(320) 및 공통 전극(330)을 포함한다.
플라스틱 기판(310)은 유연성을 갖는 얇은 필름 형태를 갖는다. 플라시틱 기판(310)은 광이 투과될 수 있는 투명한 합성 수지로 이루어진다. 예를 들어, 플라스틱 기판(310)은 표시 기판(100)의 플라스틱 기판(110)과 동일한 구성을 갖는다.
컬러필터층(320)은 표시 기판(100)과 마주하는 플라스틱 기판(310)의 대향면에 형성된다. 컬러필터층(320)은 색을 구현하기 위하여 레드, 그린 및 블루 색화소(R, G, B)들을 포함한다. 한편, 컬러필터층(520)은 표시 기판(100) 상에 형성될 수 있다.
공통 전극(330)은 표시 기판(100)의 화소 전극(180)과 마주하도록 플라스틱 기판(310)의 컬러필터층(320) 상에 형성된다. 공통 전극(330)은 광의 투과를 위하여 투명한 도전성 물질로 이루어진다. 예를 들어, 공통 전극(330)은 화소 전극(180)과 동일한 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO) 또는 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO)로 이루어진다.
액정층(400)은 이방성 굴절률, 이방성 유전율 등의 광학적, 전기적 특성을 갖는 액정 분자들이 일정한 형태로 배열된 구조를 갖는다. 액정층(400)은 화소 전극(180)과 공통 전극(330) 사이에 형성되는 전계에 의하여 액정 분자들의 배열이 변화되고, 액정 분자들의 배열 변화에 따라서 통과하는 광의 투과율을 제어한다.
이러한 구성을 갖는 표시 장치(200)는 게이트 라인(122)을 통해 게이트 전극부(124)에 게이트 신호가 인가되면 박막 트랜지스터(TFT)가 턴-온(turn on)된다. 박막 트랜지스터(TFT)의 턴-온에 따라, 데이터 라인(152)을 통해 인가되는 데이터 신호는 소오스 전극부(153) 및 드레인 전극부(162)를 거쳐 화소 전극(180)에 인가된다. 한편, 대향 기판(300)의 공통 전극(330)에는 공통 전압이 인가된다.
따라서, 화소 전극(180)과 공통 전극(330) 사이에는 데이터 신호와 공통 전압간의 차이에 해당하는 전계가 형성되며, 이러한 전계에 의한 액정 분자들의 배열 변화에 따라서 외부로부터 공급되는 광의 투과도가 변경되어 원하는 계조의 영상을 표시하게 된다.
이와 같은 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치에 따르면, 데이터 라인의 단선을 고려하여 각각의 화소 영역에 데이터 라인과 전기적으로 연결된 리페어 라인을 형성한다.
따라서, 플라스틱 기판의 미세한 크랙을 통해 유발되는 데이터 라인의 단선이 별도의 추가 공정 없이도 리페어됨으로 인해 데이터 라인의 구동 불량을 방지할 수 있다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (22)

  1. 플라스틱 기판;
    상기 플라스틱 기판 상에 형성되며, 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 연결된 게이트 전극부를 포함하는 게이트 배선;
    상기 게이트 배선이 형성된 상기 플라스틱 기판 상에 형성된 게이트 절연막;
    상기 게이트 전극부에 대응하여 상기 게이트 절연막 상에 형성된 액티브층;
    상기 게이트 절연막 상에 상기 게이트 배선과 교차되도록 형성된 데이터 라인 및 상기 데이터 라인과 평행하게 형성되고 상기 데이터 라인과 전기적으로 연결된 리페어 라인을 포함하는 데이터 배선; 및
    상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인 사이에 형성된 드레인 배선을 포함하는 표시 기판.
  2. 제1항에 있어서, 상기 데이터 배선은
    상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인을 전기적으로 연결하는 연결 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  3. 제2항에 있어서, 상기 연결 라인은 상기 게이트 배선과 나란하게 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 데이터 라인은 상기 액티브층과 중첩되는 소오스 전극부를 포함하며,
    상기 드레인 배선은 상기 액티브층과 중첩되는 드레인 전극부를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 게이트 배선 및 드레인 배선이 형성된 상기 게이트 절연막 상에 형성된 보호막; 및
    상기 보호막 상에 형성된 화소 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  6. 제5항에 있어서, 상기 드레인 배선은 상기 화소 전극과의 연결을 위한 콘택부를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  7. 제6항에 있어서, 상기 화소 전극은 상기 보호막에 형성된 콘택홀을 통해 상기 콘택부와 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  8. 제1항에 있어서, 상기 플라스틱 기판은
    베이스 기판;
    상기 베이스 기판의 상면 및 하면에 형성된 베리어층을 포함하는 것을 특징 으로 하는 표시 기판.
  9. 제8항에 있어서, 상기 베이스 기판은
    폴리에테르설폰(polyethersulphone : PES), 폴리카보네이트(polycarbonate : PC), 폴리이미드(polyimide :PI),폴레에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthelate : PEN) 및 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephehalate : PET)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  10. 제8항에 있어서, 상기 베리어층은 아크릴 계열의 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시 기판.
  11. 플라스틱 기판 상에 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 연결된 게이트 전극부를 포함하는 게이트 배선을 형성하는 단계;
    상기 게이트 배선이 형성된 상기 플라스틱 기판 상에 게이트 절연막을 형성하는 단계;
    상기 게이트 전극부에 대응하여 상기 게이트 절연막 상에 액티브층을 형성하는 단계;
    상기 게이트 절연막 상에 데이터 라인, 상기 데이터 라인과 평행한 리페어 라인 및 상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인을 연결하는 연결 라인을 포함하는 데이터 배선을 형성하는 단계; 및
    상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인 사이에 드레인 배선을 형성하는 단계를 포함하는 표시 기판의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 데이터 라인 및 리페어 라인은 상기 게이트 배선과 교차되도록 형성되며,
    상기 연결 라인은 상기 게이트 배선과 나란하게 형성된 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 데이터 라인은 상기 액티브층과 중첩되는 소오스 전극부를 포함하며,
    상기 드레인 배선은 상기 액티브층과 중첩되는 드레인 전극부를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 데이터 배선 및 상기 드레인 배선이 형성된 상기 게이트 절연막 상에 보호막을 형성하는 단계; 및
    상기 보호막 상에 화소 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 드레인 배선은 상기 화소 전극과의 연결을 위한 콘택부를 더 포함하며,
    상기 화소 전극은 상기 보호막에 형성된 콘택홀을 통해 상기 콘택부와 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 데이터 배선 및 상기 드레인 배선은 동일한 물질로 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
  17. 제11항에 있어서, 상기 플라스틱 기판은
    베이스 기판;
    상기 베이스 기판의 상면 및 하면에 형성된 베리어층을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
  18. 표시 기판;
    상기 표시 기판과 대향하는 대향 기판; 및
    상기 표시 기판과 상기 대향 기판 사이에 배치된 액정층을 포함하며,
    상기 표시 기판은
    제1 플라스틱 기판,
    상기 제1 플라스틱 기판 상에 형성되며, 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 연결된 게이트 전극부를 포함하는 게이트 배선,
    상기 게이트 배선이 형성된 상기 제1 플라스틱 기판 상에 형성된 게 이트 절연막,
    상기 게이트 전극부에 대응하여 상기 게이트 절연막 상에 형성된 액 티브층,
    상기 게이트 절연막 상에 상기 게이트 배선과 교차되도록 형성된 데 이터 라인 및 상기 데이터 라인과 평행하게 형성되고 상기 데이터 라인과 전 기적으로 연결된 리페어 라인을 포함하는 데이터 배선, 및
    상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인 사이에 형성된 드레인 배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 데이터 배선은
    상기 데이터 라인과 상기 리페어 라인을 전기적으로 연결하는 연결 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
  20. 제18항에 있어서, 상기 제1 플라스틱 기판은
    베이스 기판; 및
    상기 베이스 기판의 상면 및 하면에 형성된 베리어층을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
  21. 제18항에 있어서, 상기 표시 기판은
    상기 데이터 배선 및 상기 드레인 배선이 형성된 상기 게이트 절연막 상에 형성된 보호막; 및
    상기 보호막 상에 형성된 화소 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
  22. 제20항에 있어서, 상기 대향 기판은
    제2 플라스틱 기판; 및
    상기 제2 플라스틱 기판 상에 상기 화소 전극과 마주하도록 형성된 공통 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
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