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KR20060069273A - Manufacturing method of oxime - Google Patents

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KR20060069273A
KR20060069273A KR1020050122821A KR20050122821A KR20060069273A KR 20060069273 A KR20060069273 A KR 20060069273A KR 1020050122821 A KR1020050122821 A KR 1020050122821A KR 20050122821 A KR20050122821 A KR 20050122821A KR 20060069273 A KR20060069273 A KR 20060069273A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reaction
titanosilicate
mww
catalyst
oxime
Prior art date
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Ceased
Application number
KR1020050122821A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
미유키 오이카와
마사미 후카오
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Publication of KR20060069273A publication Critical patent/KR20060069273A/en
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C249/00Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
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Abstract

본 발명은 격자면 간격 표시로 하기 위치에 피크를 갖는 X선 회절 패턴을 나타내는 티타노실리케이트의 존재 하에, 케톤을 과산화물 및 암모니아에 의해 암목심화 반응을 시킴으로써 옥심의 제조 방법을 제공한다. The present invention provides a method for producing an oxime by subjecting ketones to darkening reactions with peroxides and ammonia in the presence of titanosilicates exhibiting an X-ray diffraction pattern having peaks at the following positions as the lattice spacing display.

격자면 간격 d (Å):Grid spacing d (Å):

13.2±0.6,13.2 ± 0.6,

12.3±0.3,12.3 ± 0.3,

11.0±0.3,11.0 ± 0.3,

9.0±0.3,9.0 ± 0.3,

6.8±0.3,6.8 ± 0.3,

3.9±0.2,3.9 ± 0.2,

3.5±0.1, 및3.5 ± 0.1, and

3.4±0.1.3.4 ± 0.1.

Description

옥심의 제조 방법{PROCESS FOR PRODUCING OXIME}Production method of oxime {PROCESS FOR PRODUCING OXIME}

도 1 은 실시예 1 에서 조제하여 사용한 티타노실리케이트 (Ti-MWW 전구체) 의 X선 회절 패턴을 나타내는 차트이다.1 is a chart showing an X-ray diffraction pattern of titanosilicate (Ti-MWW precursor) prepared and used in Example 1. FIG.

도 2 는 실시예 1 에서 조제한 티타노실리케이트를 소성함으로써 얻어진 티타노실리케이트 (Ti-MWW) 의 X선 회절 패턴을 나타내는 차트이다.FIG. 2 is a chart showing an X-ray diffraction pattern of titanosilicate (Ti-MWW) obtained by firing the titanosilicate prepared in Example 1. FIG.

도 3 은 비교예 1 에서 사용한 티타노실리케이트 (TS-1) 의 X선 회절 패턴을 나타내는 차트이다.3 is a chart showing an X-ray diffraction pattern of titanosilicate (TS-1) used in Comparative Example 1. FIG.

[특허문헌 1] 일본 공개특허공보 소62-59256호[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-59256

[특허문헌 2] 국제공개 제03/074421호 팜플렛[Patent Document 2] International Publication No. 03/074421 Pamphlet

본 발명은 케톤의 암목심화 반응 (ammoximation reaction) 에 의해 옥심을 제조하는 방법에 관한 것이다. 옥심은 예를 들어, 아미드 또는 락탐의 원료 등으로서 유용하다.The present invention relates to a process for preparing oximes by ammoximation reaction of ketones. Oxime is useful as a raw material of amide or lactam, for example.

옥심을 제조하는 방법의 하나로서, 티타노실리케이트를 촉매에 사용하여, 케 톤을 암목심화 반응시키는 방법이 알려져 있다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 소62-59256호 (특허문헌 1) 에는 MFI 구조를 갖는 티타노실리케이트 (티탄실리카라이트 TS-1) 를 촉매에 사용하여, 상기 암목심화 반응을 행하는 것이 개시되어 있다. 또한, 국제 공개 제03/074421호 팜플렛 (특허문헌 2) 에는 MWW 구조를 갖는 티타노실리케이트를 촉매에 사용하여, 상기 암목심화 반응을 행하는 것이 개시되어 있다.As one of the methods for producing an oxime, a method is known in which a ketone is subjected to a deepening reaction using a titanosilicate as a catalyst. For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 62-59256 (Patent Document 1) discloses using the titanosilicate having a MFI structure (titanium silicalite TS-1) as a catalyst to carry out the darkening reaction. In addition, International Publication No. 03/074421 pamphlet (Patent Document 2) discloses using the titanosilicate having a MWW structure as a catalyst to perform the above-described deepening reaction.

그러나, 특허문헌 1 에 개시된 방법에서는, 촉매의 성능이 충분하지 못하기 때문에, 케톤의 전화율이나 옥심의 선택률의 관점에서 만족할 수 없는 경우가 있다. 또한, 특허문헌 2 에 개시된 방법에서는, 촉매의 조제 공정이 길고 복잡하기 때문에, 비용면에서 만족할 수 없는 경우가 있다. 그래서, 본 발명의 목적은 우수한 성능을 갖고, 비용적으로도 유리하게 조제할 수 있는 촉매를 사용하여, 상기 암목심화 반응을 행함으로써, 고수율로 저렴하게 옥심을 제조할 수 있는 방법을 제공하는 데에 있다.However, in the method disclosed in Patent Document 1, since the performance of the catalyst is not sufficient, it may not be satisfactory in view of the conversion ratio of ketone and the selectivity of oxime. Moreover, in the method disclosed by patent document 2, since the preparation process of a catalyst is long and complicated, it may not be satisfied in terms of cost. Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing an oxime at low cost with high yield by performing the above-described deepening reaction using a catalyst which has excellent performance and can be advantageously prepared in a cost-effective manner. There is.

본 발명은 격자면 간격 표시로 하기 위치에 피크를 갖는 X선 회절 패턴을 나타내는 티타노실리케이트의 존재 하에, 케톤을 과산화물 및 암모니아에 의해 암목심화 반응시키는 것을 특징으로 하는 옥심의 제조 방법을 제공하는 것이다:The present invention provides a method for producing an oxime characterized in that the ketones are subjected to darkening reaction with peroxide and ammonia in the presence of a titanosilicate showing an X-ray diffraction pattern having a peak at the following positions with a lattice spacing display:

격자면 간격 d (Å):Grid spacing d (Å):

13.2±0.6,13.2 ± 0.6,

12.3±0.3,12.3 ± 0.3,

11.0±0.3,11.0 ± 0.3,

9.0±0.3,9.0 ± 0.3,

6.8±0.3,6.8 ± 0.3,

3.9±0.2,3.9 ± 0.2,

3.5±0.1, 및3.5 ± 0.1, and

3.4±0.1.3.4 ± 0.1.

발명을 실시하기To practice the invention 위한 최선의 형태 Best form for

본 발명에서 암목심화 반응의 촉매에 사용하는 티타노실리케이트는, 골격을 구성하는 원소로서 티탄, 규소 및 산소를 함유하는 결정성의 티타노실리케이트이며, 실질적으로 티탄, 규소 및 산소만으로 골격이 구성되는 것이어도 되고, 골격을 구성하는 원소로서 추가로 붕소, 알루미늄, 갈륨, 철, 크롬 등, 티탄, 규소 및 산소 이외의 원소를 함유하는 것이어도 된다. 또한, 이 티타노실리케이트는 바인더를 사용하거나 또는 사용하지 않고, 입자형이나 펠릿형 등으로 성형하여 사용해도 되고, 담체에 담지하여 사용해도 된다.In the present invention, the titanosilicate used in the catalyst for the deepening reaction is a crystalline titanosilicate containing titanium, silicon, and oxygen as the constituent elements of the skeleton, and the skeleton may consist essentially of titanium, silicon, and oxygen. And an element other than titanium, silicon, and oxygen, such as boron, aluminum, gallium, iron, and chromium, may also be included as an element which comprises a skeleton. In addition, this titanosilicate may be used, molded or pelletized, with or without a binder, or supported on a carrier.

상기 티타노실리케이트에 있어서, 티탄의 함유량은, 규소에 대한 원자비 (Ti/Si) 로 나타내어, 바람직하게는 0.0001 이상, 보다 바람직하게는 0.005 이상이고, 또한 바람직하게는 0.1 이하, 보다 바람직하게는 0.05 이하이다. 또, 이 티타노실리케이트가 티탄, 규소 및 산소 이외의 원소를 함유하는 경우, 그 원소의 함유량은 규소에 대한 원자비로 나타내어, 통상 0.05 이하, 바람직하게는 0.02 이 하이다. 또한, 산소는 산소 이외의 각 원소의 함유량 및 산화수에 대응하여 존재할 수 있다. 이러한 티타노실리케이트의 전형적인 조성은 규소를 기준 (=1) 으로 하여 다음 식으로 나타낼 수 있다.In the said titanosilicate, content of titanium is represented by the atomic ratio (Ti / Si) with respect to silicon, Preferably it is 0.0001 or more, More preferably, it is 0.005 or more, More preferably, it is 0.1 or less, More preferably, 0.05 It is as follows. In addition, when this titanosilicate contains elements other than titanium, silicon, and oxygen, content of the element is represented by the atomic ratio with respect to silicon, and is 0.05 or less normally, Preferably it is 0.02 or less. In addition, oxygen may exist corresponding to content of each element other than oxygen, and oxidation number. A typical composition of such titanosilicate can be represented by the following formula on the basis of silicon (= 1).

SiO2·xTiO2·yMnOn /2 SiO 2 xTiO 2 yM n O n / 2

(식중, M 은 규소, 티탄 및 산소 이외의 적어도 1종의 원소를 나타내고, n 은 그 원소의 산화수이고, x 는 0.0001∼0.1 이고, y 는 0∼0.05 이다.)(Wherein, M represents at least one element other than silicon, titanium and oxygen, n is the oxidation number of the element, x is 0.0001 to 0.1 and y is 0 to 0.05.)

또한, 본 발명에서 사용하는 티타노실리케이트는 그 X선 회절 패턴에 있어서, 격자면 간격 d〔Å (옹스트롬)〕 표시로, 하기 위치에 피크를 갖는 것이다. 이러한 특정 X선 회절 패턴을 나타내는 티타노실리케이트는 케톤의 암목심화 반응에 있어서의 촉매로서의 활성 및 선택성, 즉 케톤의 전화율 및 옥심의 선택률의 점에서 우수하다.In addition, in the X-ray diffraction pattern, the titanosilicate used in the present invention has a peak at the following position by the lattice plane spacing d [Å (angstrom)]. Titanosilicates exhibiting this particular X-ray diffraction pattern are excellent in terms of activity and selectivity as catalysts in the deepening reaction of ketones, that is, conversion of ketones and selectivity of oximes.

격자면 간격 d (Å):Grid spacing d (Å):

13.2±0.6,13.2 ± 0.6,

12.3±0.3,12.3 ± 0.3,

11.0±0.3,11.0 ± 0.3,

9.0±0.3,9.0 ± 0.3,

6.8±0.3,6.8 ± 0.3,

3.9±0.2,3.9 ± 0.2,

3.5±0.1, 및3.5 ± 0.1, and

3.4±0.1.3.4 ± 0.1.

이 X선 회절 패턴은 구리 K-알파 방사선을 사용한 일반적인 X선 회절 장치에 의해 얻을 수 있다. 즉, 구리 K-알파 방사선을 사용한 경우, d=13.2±0.6Å 의 피크는 2θ(θ 는 Bragg각; 이하 동일)=6.7°부근 (6.4∼7.0°); d=12.3±0.3Å 의 피크는 2θ=7.2°부근 (7.0∼7.4°); d=11.0±0.3Å 의 피크는 2θ=8.0 부근 (7.8∼8.3°); d=9.0±0.3Å 의 피크는 2θ=9.8°부근 (9.5∼10.2°); d=6.8±0.3Å 의 피크는 2θ=13.0°부근 (12.5∼13.6°); d=3.9±0.2Å 의 피크는 2θ=22.8°부근 (21.6∼24.0°); d=3.5±0.1Å 의 피크는 2θ=25.4°부근 (24.7∼26.2°); d=3.4±0.1Å 의 피크는 2θ=26.2°부근 (25.4∼27.0°); 에 각각 관측된다.This X-ray diffraction pattern can be obtained by a general X-ray diffraction apparatus using copper K-alpha radiation. That is, when copper K-alpha radiation was used, the peak of d = 13.2 ± 0.6 Hz was 2θ (θ is the Bragg angle; the same below) = 6.7 ° (nearly 6.4 to 7.0 °); the peak of d = 12.3 ± 0.3 Hz is around 2θ = 7.2 ° (7.0-7.4 °); the peak of d = 11.0 ± 0.3 Hz is around 2θ = 8.0 (7.8∼8.3 °); the peak of d = 9.0 ± 0.3 Hz is around 2θ = 9.8 ° (9.5-10.2 °); the peak of d = 6.8 ± 0.3 Hz is around 2θ = 13.0 ° (12.5-13.6 °); the peak of d = 3.9 ± 0.2 Hz is around 2θ = 22.8 ° (21.6-24.0 °); a peak of d = 3.5 ± 0.1 Hz is around 2θ = 25.4 ° (24.7-26.2 °); the peak of d = 3.4 ± 0.1 Hz is around 2θ = 26.2 ° (25.4-27.0 °); Are observed respectively.

또, 이 X선 회절 패턴에 있어서, 상기 이외의 피크의 존재는 임의적이다. 또한, 상기 각 피크는 통상, 그 격자면 간격에 있어서 극대치를 나타내지만, 다른 피크와 겹쳐, 숄더 피크로서 검출되는 경우도 있다.Moreover, in this X-ray diffraction pattern, presence of the peak of that excepting the above is arbitrary. In addition, although each said peak usually shows the maximum value in the lattice spacing, it overlaps with other peak and may be detected as a shoulder peak.

상기와 같은 특정 X선 회절 패턴을 나타내는 티타노실리케이트는 MWW 구조를 갖는 티타노실리케이트 (이하, Ti-MWW 라고 하는 경우가 있다) 를 조제할 때에, 그 전구체로서 얻을 수 있다. 즉, 예를 들어, 케미스트리·레터즈 (Chemistry Letters), 2000년, p.774-775 나, 일본 공개특허공보 2002-102709호 등에는, 직접 합성법에 의한 Ti-MWW 의 조제법으로서, 구조 규정제 (템플레이트), 티탄 화합물, 붕소 화합물, 규소 화합물 및 물을 혼합하여 가열한 후, 필요에 따라 산처리하고, 얻어진 전구체를 소성하여 Ti-MWW 를 조제하는 것이 기재되어 있는데, 이 전구체는 본 발명에서 사용하는 상기 특정 티타노실리케이트에 상당하는 것이다. 또한, 케미컬·커뮤니케이션즈 (Chemical Communications), (영국), 2002년, p.1026-1027 이나, 일본 공개특허공보 2003-327425호, 국제공개 제03/074421호 팜플렛 (특허문헌 2) 등에는 포스트신세시스법에 의한 Ti-MWW 의 조제법으로서, 구조 규정제, 붕소 화합물, 규소 화합물 및 물을 혼합하여 가열한 후, 필요에 따라 소성하고, 이어서 산처리함으로써 일단 실리케이트를 얻고, 이 실리케이트를 구조 규정제, 티탄 화합물 및 물과 혼합하여 가열한 후, 필요에 따라 산처리하여, 얻어진 전구체를 소성하여 Ti-MWW 를 조제하는 것이 기재되어 있는데, 이 전구체는 본 발명에서 사용하는 상기 특정 티타노실리케이트에 상당하는 것이다. 이와 같이, 본 발명에서 사용하는 티타노실리케이트 (Ti-MWW 전구체) 는 Ti-MWW 를 조제할 때에 소성 전의 전구체로서 얻어지는 것이고, Ti-MWW 에 비하여, 그 소성에 요하는 설비나 에너지, 시간 등을 삭감할 수 있어, 저비용으로 조제할 수 있는 것이다. 따라서, 본 발명에 의한 Ti-MW 전구체를 촉매에 사용하는 암목심화 반응은 특허문헌 2 에 개시되는 바와 같은 Ti-MWW 를 촉매에 사용하는 암목심화 반응에 비하여, 촉매의 조제 비용의 관점에서 유리하여 옥심을 보다 저렴하게 제조할 수 있다.The titanosilicate showing the above-mentioned specific X-ray diffraction pattern can be obtained as a precursor when preparing titanosilicate (hereinafter sometimes referred to as Ti-MWW) having an MWW structure. That is, for example, Chemistry Letters, 2000, p.774-775, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-102709, and the like, as a preparation method of Ti-MWW by a direct synthesis method, a structural regulator (Template), a titanium compound, a boron compound, a silicon compound and water are mixed and heated, followed by acid treatment as needed, and the obtained precursor is calcined to prepare Ti-MWW, which is described in the present invention. It corresponds to the said specific titanosilicate used. In addition, Chemical Communications, (UK), 2002, p. 1026-1027, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-327425, International Publication No. 03/074421 pamphlet (Patent Document 2), etc. As a method for preparing Ti-MWW by the method, a structural regulator, a boron compound, a silicon compound, and water are mixed and heated, and then fired as necessary, followed by acid treatment to obtain a silicate. It is described to prepare Ti-MWW by mixing the titanium compound and water, heating and then acid treatment as necessary to calcinate the obtained precursor, which precursor corresponds to the specific titanosilicate used in the present invention. . As described above, the titanosilicate (Ti-MWW precursor) used in the present invention is obtained as a precursor before firing when Ti-MWW is prepared, and compared to Ti-MWW, the equipment, energy and time required for the firing are reduced. We can do it and can prepare at low cost. Therefore, the deepening reaction using the Ti-MW precursor according to the present invention as a catalyst is advantageous from the viewpoint of the preparation cost of the catalyst as compared with the deepening reaction using Ti-MWW for the catalyst as disclosed in Patent Document 2. Oximes can be made cheaper.

여기서, 상기 조제법에 있어서 사용되는 구조 규정제로서는 피페리딘이나 헥사메틸렌이민 등을 들 수 있고, 티탄 화합물로서는 테트라-n-부틸오르토티타네이트의 같은 테트라알킬오르토티타네이트나, 과산화티탄산테트라프로필암모늄과 같은 과산화티탄산염, 할로겐화티탄 등을 들 수 있고, 붕소 화합물로서는 붕산 등을 들 수 있고, 규소 화합물로서는 테트라에틸오르토실리케이트와 같은 테트라알킬오르토실리케이트나, 퓸드 실리카 등을 들 수 있다.Here, as a structural regulator used in the said preparation method, a piperidine, a hexamethylene imine, etc. are mentioned, As a titanium compound, tetraalkyl ortho titanate like tetra- n-butyl ortho titanate, and tetra titanate peroxide are mentioned. Titanium peroxide, such as propyl ammonium, a titanium halide, etc. are mentioned, As a boron compound, boric acid etc. are mentioned, As a silicon compound, tetraalkyl orthosilicate like tetraethyl orthosilicate, fumed silica, etc. are mentioned.

또한, 상기 조제법에 있어서의 각 혼합물의 가열 조건은 가열 온도가 통상 100∼200℃ 이고, 가열 시간이 통상 2∼240시간이고, 가열 온도까지의 승온 속도는 통상 0.01∼2℃/분이다. 이 가열 방법으로서는 혼합물의 자체 압력 하에 실시되는 수열 합성법이 일반적으로 채용되고, 배치 방식이어도 되고, 유통 방식이어도 되고, 또한 이 가열시, MWW 구조를 갖는 제올라이트 등을 종결정으로서 첨가하거나, 불산을 첨가하거나 해도 된다.In addition, the heating conditions of each mixture in the said preparation method are a heating temperature of 100-200 degreeC normally, a heating time is 2 to 240 hours normally, and the temperature increase rate to a heating temperature is 0.01-2 degreeC / min normally. As this heating method, the hydrothermal synthesis method carried out under the pressure of the mixture is generally employed, and may be a batch method or a circulation method. In addition, during heating, a zeolite having a MWW structure or the like is added as seed crystal or hydrofluoric acid is added. You may do it.

또, 상기 조제법에 있어서, 산처리는 구조 규정제나 붕소, 골격외 티탄 등을 제거하기 위해서 행해지고, 이 산에는 질산이나 황산이 바람직하게 사용된다.In addition, in the said preparation method, acid treatment is performed in order to remove a structural regulator, boron, extra-skeletal titanium, etc., and nitric acid and sulfuric acid are used suitably for this acid.

상기 조제법에 의해 얻어지는 Ti-MWW 전구체는 필요에 따라 수세한 후, 건조시켜 사용되고, 이 건조 방법으로서는 건조기로 가열하는 방법, 가열한 가스를 송풍하는 방법, 스프레이 드라이어를 사용하는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도 스프레이 드라이어를 사용하는 방법은 건조와 동시에, 입경 1∼1000μm 정도의 입자로 성형할 수도 있어 바람직하다.The Ti-MWW precursor obtained by the said preparation method is used after washing with water, if necessary, after drying, As this drying method, the method of heating with a dryer, the method of blowing the heated gas, the method of using a spray dryer, etc. are mentioned. . Especially, the method of using a spray dryer is preferable because it can also shape into particle | grains of about 1-1000 micrometers of particle sizes at the same time as drying.

건조 온도는 너무 높게 하면, 에너지 비용이 많이 들고, 또한 Ti-MWW 전구체로부터 Ti-MWW 로의 구조 변환이 일어나는 소성의 온도 영역에 들어가게 되고, 한편 너무 낮게 하면, 건조에 시간이 걸려 생산 효율이 낮아지기 때문에 적절히 조정된다. 상기 언급된 일본 공개특허공보 2002-102709호나 일본 공개특허공보 2003-327425호 등에, Ti-MWW 전구체로부터 Ti-MWW 로의 구조 변환을 행하기 위한 소성 온도가, 바람직하게는 200∼700℃, 보다 바람직하게는 300∼650℃, 가장 바람직하게는 400∼600℃ 로 기재되어 있는 것을 고려하면, 건조 온도는 보다 저렴한 에너지 비용을 위해서는 200℃ 미만으로 하는 것이 좋고, 또한 생산 효율의 관점에서, 통상 20℃ 이상이다.If the drying temperature is too high, the energy cost is high, and the temperature conversion of the Ti-MWW precursor to the Ti-MWW takes place in the firing temperature range. On the other hand, if the drying temperature is too low, drying takes time, resulting in low production efficiency. Adjusted accordingly. In the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-102709 or Japanese Patent Laid-Open No. 2003-327425 or the like, the firing temperature for performing a structural conversion from Ti-MWW precursor to Ti-MWW is preferably 200 to 700 ° C, more preferably. Preferably, considering that it is described as 300 to 650 ° C, most preferably 400 to 600 ° C, the drying temperature is preferably lower than 200 ° C for a lower energy cost, and is usually 20 ° C in view of production efficiency. That's it.

소성에 의한 Ti-MWW 전구체로부터 Ti-MWW 로의 구조 변환은, 구체적으로는 층형 티타노실리케이트인 Ti-MWW 전구체의 층간이 탈수 축합되어, MWW 구조로의 결정화가 일어나는 것에 기인하는데, 이것은 X선 회절 패턴의 변화에 의해 확인할 수 있다. 즉, 도 1 은 후술하는 실시예 1 에서 조제하여 사용한 Ti-MWW 전구체의 구리 K-알파 방사선에 의한 X선 회절 패턴의 차트이고, 도 2 는 이 Ti-MWW 전구체를 530℃ 에서 6시간 소성함으로써 얻어진 Ti-MWW 의 구리 K-알파 방사선에 의한 X선 회절 패턴의 차트인데, 이 소성에 의한 Ti-MWW 전구체로부터 Ti-MWW 로의 구조 변환의 결과, 본 발명에서 규정하는 피크의 하나인 격자면 간격 d=13.2±0.6Å (2θ=6.7°부근) 이 소실되어 있음을 확인할 수 있다. 이 피크는 예를 들어, 촉매, 2001년, 제43권, p.158 에 기재되어 있는 바와 같이, 002면 유래의 피크이고, Ti-MWW 와의 대비의 점에서는 Ti-MWW 전구체의 층구조에 특유의 것이다.The structure conversion from the Ti-MWW precursor to the Ti-MWW by firing is specifically caused by the dehydration and condensation of the interlayer of the Ti-MWW precursor, which is a layered titanosilicate, to crystallize into the MWW structure, which is an X-ray diffraction pattern. This can be confirmed by the change of. That is, FIG. 1 is a chart of the X-ray diffraction pattern by the copper K-alpha radiation of the Ti-MWW precursor prepared and used in Example 1 described later, and FIG. 2 is fired at 530 ° C. for 6 hours by firing the Ti-MWW precursor. It is a chart of the X-ray diffraction pattern by the obtained copper K-alpha radiation of Ti-MWW, The lattice spacing which is one of the peaks prescribed | regulated by this invention as a result of the structural conversion from Ti-MWW precursor to Ti-MWW by this baking. It can be seen that d = 13.2 ± 0.6 Hz (near 2θ = 6.7 °) is lost. This peak is, for example, a peak derived from plane 002, as described in Catalyst, 2001, Vol. 43, p.158, and is specific to the layer structure of the Ti-MWW precursor in terms of contrast with Ti-MWW. Will.

이상 설명한 Ti-MWW 전구체의 티타노실리케이트를 촉매에 사용하고, 이 촉매의 존재 하에, 케톤을 과산화물 및 암모니아에 의해 암목심화 반응시킴으로써, 옥심을 고수율로 제조할 수 있다. 이 암목심화 반응에 있어서, 촉매의 티타노실리케이트는 반응 혼합물의 액상에 현탁시켜 고상으로서 존재시키는 것이 좋고, 그 비율은 촉매 활성이나 분산성 등을 고려하여 적절히 조정되지만, 액상에 대하여 통상 0.1∼10중량% 정도이다. 또한, 티타노실리케이트의 촉매 활성의 저하를 억제하는 것 등을 목적으로 하여, 실리카 겔, 규산, 결정성 실리카 등의 티타노실리 케이트 이외의 규소 화합물을 공존시켜도 된다.An oxime can be produced in high yield by using the titanosilicate of the Ti-MWW precursor described above in a catalyst and subjecting ketone to peroxide and ammonia in the presence of the catalyst. In this deepening reaction, the titanosilicate of the catalyst is preferably suspended in the liquid phase of the reaction mixture and is present as a solid phase. The ratio is appropriately adjusted in consideration of catalyst activity, dispersibility, etc., but is usually 0.1 to 10% by weight relative to the liquid phase. About%. Moreover, you may make silicon compounds other than titanosilicates, such as a silica gel, silicic acid, and crystalline silica, coexist for the purpose of suppressing the fall of the catalyst activity of titanosilicate.

원료인 케톤은 지방족 케톤이어도 되고, 지환식 케톤이어도 되고, 방향족 케톤이어도 되고, 필요에 따라 그들의 2종 이상을 사용해도 된다. 케톤의 구체예로서는 아세톤, 메틸에틸케톤, 이소부틸메틸케톤과 같은 디알킬케톤; 메시틸옥사이드와 같은 알킬알케닐케톤; 아세토페논과 같은 알킬아릴케톤; 벤조페논과 같은 디아릴케톤; 시클로펜타논, 시클로헥사논, 시클로옥타논, 시클로도데카논과 같은 시클로알카논; 시클로펜테논, 시클로헥세논과 같은 시클로알케논 등을 들 수 있다. 그 중에서도 시클로알카논이 본 발명의 바람직한 대상이 된다.The ketone as a raw material may be an aliphatic ketone, an alicyclic ketone, an aromatic ketone, or two or more of them may be used if necessary. Specific examples of the ketones include dialkyl ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and isobutyl methyl ketone; Alkyl alkenyl ketones such as mesityl oxide; Alkylaryl ketones such as acetophenone; Diaryl ketones such as benzophenone; Cycloalkanones such as cyclopentanone, cyclohexanone, cyclooctanone, and cyclododecanone; Cycloalkenone, such as cyclopentenone and cyclohexenone, etc. are mentioned. Especially, cycloalkanone becomes a preferable object of this invention.

원료인 케톤은 예를 들어, 알칸의 산화에 의해 얻어진 것이어도 되고, 2급 알코올의 산화 (탈수소) 에 의해 얻어진 것이어도 되고, 알켄의 수화 및 산화 (탈수소) 에 의해 얻어진 것이어도 된다.The ketone which is a raw material may be, for example, one obtained by oxidation of an alkane, one obtained by oxidation (dehydrogenation) of a secondary alcohol, or one obtained by hydration and oxidation (dehydrogenation) of an alkene.

과산화물의 예로서는 과산화수소 외에, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드와 같은 유기 과산화물을 들 수 있다. 그 중에서도 과산화수소가 바람직하게 사용된다. 과산화수소는 통상, 이른바 안트라퀴논법에 의해 제조되어, 일반적으로 농도 10∼70중량% 의 수용액으로서 시판되고 있으므로, 이것을 사용할 수 있다. 또한, 과산화수소는 금속팔라듐을 담지한 고체 촉매의 존재 하에, 유기 용매 속에서 수소와 산소를 반응시킴으로써 제조할 수도 있고, 이 방법에 의한 과산화수소를 사용하는 경우, 반응 혼합물로부터 촉매를 분리하여 얻어지는 과산화수소의 유기 용매 용액을, 상기 과산화수소수용액 대신에 사용하면 된다.Examples of the peroxide include, besides hydrogen peroxide, organic peroxides such as t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide and cumene hydroperoxide. Among them, hydrogen peroxide is preferably used. Hydrogen peroxide is usually produced by the so-called anthraquinone method and generally marketed as an aqueous solution having a concentration of 10 to 70% by weight, and thus it can be used. In addition, hydrogen peroxide may be prepared by reacting hydrogen and oxygen in an organic solvent in the presence of a solid catalyst supporting metal palladium, and when hydrogen peroxide according to this method is used, hydrogen peroxide obtained by separating the catalyst from the reaction mixture. What is necessary is just to use the organic solvent solution instead of the said hydrogen peroxide aqueous solution.

과산화물의 사용량은, 케톤 1몰에 대하여, 통상 0.5∼3몰이고, 바람직하게는 0.5∼1.5몰이다. 또, 과산화물에는 예를 들어, 인산나트륨과 같은 인산염, 피로인산나트륨이나 트리폴리인산나트륨과 같은 폴리인산염, 피로인산, 아스코르브산, 에틸렌디아민테트라아세트산, 니트로트리아세트산, 아미노트리아세트산, 디에틸렌트리아민펜타아세트산 등이 첨가되어 있어도 된다.The use amount of peroxide is 0.5-3 mol normally with respect to 1 mol of ketones, Preferably it is 0.5-1.5 mol. Examples of peroxides include, for example, phosphates such as sodium phosphate, polyphosphates such as sodium pyrophosphate and sodium tripolyphosphate, pyrophosphate, ascorbic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, nitrotriacetic acid, aminotriacetic acid and diethylenetriaminepenta. Acetic acid or the like may be added.

암모니아는 가스상의 것을 사용해도 되고, 액상의 것을 사용해도 되고, 또한 물이나 유기 용매의 용액으로서 사용해도 된다. 암모니아의 사용량은, 반응 혼합물의 액상에 있어서의 암모니아의 농도가 1중량% 이상이 되도록 조정하는 것이 좋다. 이와 같이 반응 혼합물 액상 중의 암모니아 농도를 소정치 이상으로 함으로써, 원료인 케톤의 전화율과 목적물인 옥심의 선택률을 높일 수 있고, 나아가서는 목적물인 옥심의 수율을 높일 수 있다. 이 암모니아의 농도는 바람직하게는 1.5중량% 이상이고, 또한 통상 10중량% 이하, 바람직하게는 5중량% 이하이다. 또, 암모니아 사용량의 기준은, 케톤 1몰에 대하여, 통상 1몰 이상, 더욱 바람직하게는 1.5몰 이상이다.The ammonia may be a gaseous one, a liquid one, or may be used as a solution of water or an organic solvent. The amount of ammonia used is preferably adjusted so that the concentration of ammonia in the liquid phase of the reaction mixture is 1% by weight or more. Thus, by making the ammonia concentration in the reaction mixture liquid phase more than a predetermined value, it is possible to increase the conversion rate of the ketone as the raw material and the selectivity of the oxime as the target, and further increase the yield of the oxime as the target. The concentration of this ammonia is preferably 1.5% by weight or more, and usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less. Moreover, the reference | standard of the ammonia usage-amount is 1 mol or more normally with respect to 1 mol of ketones, More preferably, it is 1.5 mol or more.

암목심화 반응은 용매 속에서 행해도 되고, 이 반응 용매로서는 예를 들어 벤젠, 톨루엔과 같은 방향족 화합물, 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올, t-아밀알코올과 같은 알코올, 물 등을 들 수 있다. 그 중에서도 알코올이나 물이 바람직하고, 특히 알코올과 물의 혼합 용매가 바람직하게 사용된다.The deepening reaction may be carried out in a solvent. Examples of the reaction solvent include aromatic compounds such as benzene and toluene, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol and s-butyl alcohol. and alcohols such as t-butyl alcohol and t-amyl alcohol, water and the like. Especially, alcohol and water are preferable, and the mixed solvent of alcohol and water is especially used preferably.

암목심화 반응은 배치식으로 행해도 되고, 연속식으로 행해도 되지만, 반응 계 내로 케톤, 과산화물 및 암모니아를 공급하면서, 반응계 내로부터 반응 혼합물의 액상을 뽑아냄으로써, 연속식으로 실시하는 것이 생산성 및 조작성의 관점에서도 바람직하다.Although the deepening reaction may be carried out batchwise or continuously, it is possible to carry out continuously by extracting the liquid phase of the reaction mixture from the reaction system while supplying ketone, peroxide and ammonia into the reaction system for productivity and operability. It is also preferable from the viewpoint of.

배치 방식 반응은 예를 들어, 반응기에 케톤, 암모니아, 촉매 및 용매를 넣고, 교반 하, 이 속에 과산화물을 공급함으로써 행해도 되고, 반응기에 케톤, 촉매 및 용매를 넣고, 교반 하, 이 속에 과산화물 및 암모니아를 공급함으로써 행해도 되고, 반응기에 촉매 및 용매를 넣고, 교반 하, 이 속에 케톤, 과산화물 및 암모니아를 공급함으로써 행해도 된다.Batch reaction may be performed, for example, by putting a ketone, ammonia, a catalyst, and a solvent in a reactor, and stirring, and supplying a peroxide in this, and putting a ketone, a catalyst, and a solvent in a reactor, stirring, and a peroxide and You may carry out by supplying ammonia, and you may carry out by adding a catalyst and a solvent to a reactor, and supplying a ketone, a peroxide, and ammonia in it under stirring.

연속식 반응은 예를 들어 반응기 내에 촉매가 현탁된 반응 혼합물을 존재시키도록 하여, 그 속에 케톤, 과산화물, 암모니아 및 용매를 공급하면서, 반응기로부터 필터를 통해 반응 혼합물의 액상을 뽑아냄으로써, 바람직하게 행할 수 있다. 또, 반응기는 과산화물의 분해를 막는 관점에서, 글래스 라이닝된 것이나 스테인리스스틸제의 것이 바람직하다.The continuous reaction is preferably performed by, for example, leaving a reaction mixture in which the catalyst is suspended in the reactor, drawing the liquid phase of the reaction mixture from the reactor through a filter while supplying ketone, peroxide, ammonia and a solvent therein. Can be. Moreover, from the viewpoint of preventing decomposition of the peroxide, the reactor is preferably glass lined or stainless steel.

암목심화 반응의 반응 온도는 통상 50∼120℃, 바람직하게는 70∼100℃ 이다. 또한, 반응 압력은 상압이어도 되지만, 반응 혼합물의 액상에 암모니아가 용해되기 쉽게 하기 위해서는 통상, 절대압으로 0.2∼1MPa, 바람직하게는 0.2∼0.5MPa 의 가압 하에서 반응을 행하는 것이 바람직하고, 이 경우, 질소나 헬륨 등의 불활성 가스를 사용하여 압력을 조정해도 된다.The reaction temperature of a deepening reaction is 50-120 degreeC normally, Preferably it is 70-100 degreeC. In addition, although the reaction pressure may be atmospheric pressure, in order to make it easy to melt | dissolve ammonia in the liquid phase of a reaction mixture, it is preferable to carry out reaction normally under the pressure of 0.2-1 MPa, Preferably 0.2-0.5 MPa in absolute pressure, In this case, nitrogen You may adjust pressure using inert gas, such as helium or helium.

얻어진 반응 혼합물의 후처리 조작에 관해서는 적절히 선택되는데, 예를 들어, 반응 혼합물로부터 촉매를 여과나 디캔테이션 등에 의해 분리한 후, 액상을 증 류 처리함으로써, 옥심을 분리할 수 있다.The post-treatment operation of the obtained reaction mixture is appropriately selected. For example, the oxime can be separated by separating the catalyst from the reaction mixture by filtration or decantation and then distilling the liquid phase.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명의 실시예를 나타내겠지만, 본 발명이 이것에 의해서 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the Example of this invention is shown, this invention is not limited by this.

실시예 1Example 1

(촉매의 조제)(Preparation of Catalyst)

오토클레이브에, 피페리딘 9.1kg, 순수 25.6kg, 붕산 6.2kg, 테트라-n-부틸오르토티타네이트 0.54kg, 및 퓸드 실리카 (CABOT 사 제조의 “CAB-O-SIL M-7D”) 4.5kg 을 넣고, 공기 분위기 하, 실온에서 교반하여 겔을 조제하고, 1.5시간 숙성시켰다. 오토클레이브를 밀폐하여, 교반하면서 10시간에 걸쳐 170℃ 로 승온시킨 후, 동 온도에서 168시간 유지하여 수열 합성을 행하여 현탁액을 얻었다. 이 현탁액을 여과하고, 여과 잔류물을 세정액의 pH 가 10 부근이 될 때까지 수세한 후, 50℃ 에서 건조시켜, 아직 물을 함유한 상태의 백색 분말을 얻었다.Autoclave 9.1 kg piperidine, 25.6 kg pure water, 6.2 kg boric acid, 0.54 kg tetra-n-butylortho titanate, and fumed silica (“CAB-O-SIL M-7D” manufactured by CABOT) 4.5 kg was added, the mixture was stirred at room temperature under an air atmosphere to prepare a gel, and aged for 1.5 hours. The autoclave was sealed, heated to 170 ° C. over 10 hours with stirring, and then maintained at 168 hours at the same temperature to undergo hydrothermal synthesis to obtain a suspension. This suspension was filtered, and the filtration residue was washed with water until the pH of the washing | cleaning liquid became about 10, and it dried at 50 degreeC, and obtained the white powder which still contains water.

이 함수 백색 분말 350g 에 13중량% 질산 3.5L 를 첨가하여 20시간 환류하였다. 이어서, 여과하고, 여과 잔류물을 세정액이 중성 부근이 될 때까지 수세한 후, 50℃ 에서 충분히 건조시켜, Ti/Si (원자비)=0.0139 의 티타노실리케이트 (Ti-MWW 전구체) 98g 을 백색 분말로서 얻었다. 이 티타노실리케이트에 관해서, 구리 K-알파 방사선을 사용한 X 선 회절 장치에 의해 X선 회절 패턴을 측정한 결과, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 하기 표의 피크가 관측되었다.To 350 g of this hydrous white powder, 3.5 L of 13 wt% nitric acid was added and refluxed for 20 hours. Subsequently, the filtrate was washed with water, and the residue was washed with water until the cleaning liquid became neutral, and then dried sufficiently at 50 ° C. to give 98 g of titanosilicate (Ti-MWW precursor) having a Ti / Si (atomic ratio) of 0.0139. Obtained as. About this titanosilicate, as a result of measuring the X-ray diffraction pattern by the X-ray diffraction apparatus using copper K-alpha radiation, the peak of the following table | surface was observed as shown in FIG.

2θ (°)2θ (°) 격자면 간격 d (Å)Grid spacing d (Å) 6.826.82 13.013.0 7.237.23 12.212.2 7.977.97 11.111.1 9.789.78 9.09.0 12.912.9 6.86.8 22.722.7 3.93.9 25.225.2 3.53.5 26.226.2 3.43.4

(암목심화 반응)(Deepening reaction)

상기에서 얻어진 티타노실리케이트를 촉매에 사용하여 암목심화 반응을 행하였다. 즉, 용량 1리터의 오토클레이브를 반응기로서 사용하고, 이 속에, 시클로헥사논을 13.4g/시간, 함수 t-부틸알코올 (물 12중량%) 을 52g/시간, 및 60중량% 과산화수소수를 8.9g/시간의 속도로 공급하고, 또한 암모니아를, 반응 혼합물의 액상 중에 2중량% 의 농도로 존재하도록 공급하면서, 반응기로부터 필터를 통해 반응 혼합물의 액상을 뽑아냄으로써, 온도 85℃, 압력 0.35MPa (절대압), 체류 시간 6시간의 조건으로 연속식 반응을 행하였다. 그 동안, 반응기 내의 반응 혼합물 중에는 액상에 대하여 0.2중량% 의 비율로 상기 티타노실리케이트를 존재시켰다.The titanosilicate obtained above was used for a catalyst, and the deepening reaction was performed. That is, a 1 liter autoclave was used as a reactor, in which 13.4 g / hour of cyclohexanone, 52 g / hour of hydrous t-butyl alcohol (12 weight% of water), and 8.9 of 60 weight% hydrogen peroxide solution were used. by feeding the ammonia at a concentration of 2% by weight in the liquid phase of the reaction mixture, withdrawing the liquid phase of the reaction mixture from the reactor through a filter, at a temperature of 85 ° C. and a pressure of 0.35 MPa ( Absolute pressure), and the continuous reaction was performed on conditions of 6 hours of residence time. In the meantime, the said titanosilicate was present in the reaction mixture in a reactor in the ratio of 0.2 weight% with respect to a liquid phase.

반응 개시로부터 1.5시간 후에 뽑아낸 액상을 분석한 결과, 시클로헥사논의 전화율은 95.7%, 시클로헥사논옥심의 선택률은 99.0% 이고, 시클로헥사논옥심의 수율은 94.7% 이었다. 또한, 반응 개시로부터 52시간 후에 뽑아낸 액상을 분석한 결과, 시클로헥사논의 전화율은 99.8%, 시클로헥사논옥심의 선택률은 99.4% 이고, 시클로헥사논옥심의 수율은 99.2% 이었다. 반응 개시로부터 106시간 후에 오토클레이브 내의 산소 농도가 급격히 상승하였기 때문에 반응을 종료하였다.As a result of analyzing the liquid phase extracted 1.5 hours after the start of reaction, the conversion rate of cyclohexanone was 95.7%, the selectivity of cyclohexanone oxime was 99.0%, and the yield of cyclohexanone oxime was 94.7%. Moreover, as a result of analyzing the liquid phase extracted 52 hours after the start of reaction, the conversion rate of cyclohexanone was 99.8%, the selectivity of cyclohexanone oxime was 99.4%, and the yield of cyclohexanone oxime was 99.2%. The reaction was terminated because the oxygen concentration in the autoclave rapidly increased after 106 hours from the start of the reaction.

비교예 1Comparative Example 1

MFI 구조를 갖는 티타노실리케이트인 TS-1 (시판품) 을 촉매에 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 암목심화 반응을 행하였다. 또, 여기서 사용한 TS-1 의 X선 회절 패턴은 도 3 에 나타내는 바와 같고, 본 발명에서 규정하는 d=13.2±0.6Å (2θ=6.7°부근) 이나 d=12.3±0.3Å (2θ=7.2°부근) 등의 피크는 관측되지 않는다.The deepening reaction was performed similarly to Example 1 using TS-1 (commercially available product) which is a titanosilicate having an MFI structure as a catalyst. In addition, the X-ray diffraction pattern of TS-1 used here is as shown in FIG. 3, and d = 13.2 ± 0.6 kW (near 2θ = 6.7 °) or d = 12.3 ± 0.3 kW (2θ = 7.2 °) specified in the present invention. Peaks) are not observed.

반응 개시로부터 1.5시간 후에 뽑아낸 액상을 분석한 결과, 시클로헥사논의 전화율은 70.9%, 시클로헥사논옥심의 선택률은 98.7% 이었고, 시클로헥사논옥심의 수율은 70.0% 이었다. 반응 개시로부터 3시간 후에 오토클레이브 내의 산소 농도가 급격히 상승하였기 때문에 반응을 종료하였다.As a result of analyzing the liquid phase extracted after 1.5 hours from the start of reaction, the conversion rate of cyclohexanone was 70.9%, the selectivity of cyclohexanone oxime was 98.7%, and the yield of cyclohexanone oxime was 70.0%. After 3 hours from the start of the reaction, the reaction was terminated because the oxygen concentration in the autoclave rapidly increased.

본 발명에 의하면, 케톤의 암목심화 반응에 의해, 고수율로 저렴하게 옥심을 제조할 수 있다.According to the present invention, oximes can be produced inexpensively and at high yields by the deepening reaction of ketones.

Claims (5)

격자면 간격 표시로 하기 위치에 피크를 갖는 X선 회절 패턴을 나타내는 티타노실리케이트의 존재 하에, 케톤을 과산화물 및 암모니아에 의해 암목심화 반응시키는 것을 특징으로 하는 옥심의 제조 방법:In the presence of a titanosilicate exhibiting an X-ray diffraction pattern having a peak at the following position as the lattice spacing display, ketones are subjected to a deepening reaction with peroxide and ammonia, wherein the oxime is produced. 격자면 간격 d (Å):Grid spacing d (Å): 13.2±0.6,13.2 ± 0.6, 12.3±0.3,12.3 ± 0.3, 11.0±0.3,11.0 ± 0.3, 9.0±0.3,9.0 ± 0.3, 6.8±0.3,6.8 ± 0.3, 3.9±0.2,3.9 ± 0.2, 3.5±0.1, 및3.5 ± 0.1, and 3.4±0.1.3.4 ± 0.1. 제 1 항에 있어서, 티타노실리케이트에 있어서의 규소에 대한 티탄의 원자비가 0.0001∼0.1 인 제조 방법.The production method according to claim 1, wherein the atomic ratio of titanium to silicon in titanosilicate is 0.0001 to 0.1. 제 1 항에 있어서, 과산화물이 과산화수소인 제조 방법.The method of claim 1 wherein the peroxide is hydrogen peroxide. 제 1 항에 있어서, 알코올과 물의 혼합 용매 속에서 암목심화 반응을 행하는 제조 방법.The process according to claim 1, wherein the deepening reaction is carried out in a mixed solvent of alcohol and water. 제 1 항에 있어서, 케톤이 시클로알칸인 제조 방법.The process according to claim 1, wherein the ketone is cycloalkane.
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