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KR20060036306A - Air shower device to improve particle removal efficiency - Google Patents

Air shower device to improve particle removal efficiency Download PDF

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KR20060036306A
KR20060036306A KR1020040085479A KR20040085479A KR20060036306A KR 20060036306 A KR20060036306 A KR 20060036306A KR 1020040085479 A KR1020040085479 A KR 1020040085479A KR 20040085479 A KR20040085479 A KR 20040085479A KR 20060036306 A KR20060036306 A KR 20060036306A
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air
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air shower
particles
ceiling
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KR1020040085479A
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Inventor
윤소영
정홍희
김영민
Original Assignee
삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 에어 샤워 장치에 관한 것으로, 출입구와 천장과 벽면과 바닥면으로 밀폐된 공간을 정의하며 상기 밀폐된 공간 내부로 에어를 불어넣어 파티클을 외부로 배출시키는 에어 샤워 장치에 있어서, 상기 에어 샤워 장치의 바닥면은 소정의 공간(plenum)을 그 하부에 가지며 소정의 개방율을 갖는 개방형 그레이팅(open grating) 구조인 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 샤워링시 파티클 및 잔여 이물질 제거를 위해 에어 샤워 장치 하부에 개방율이 50% 이상인 그레이팅 설치로 오염 물질 및 파티클을 그레이팅 하부의 플레넘으로 제거한다. 따라서, 에어 샤워 장치 내부에 잔존하던 파티클이 메인 팹으로 유입되지 않는다.The present invention relates to an air shower device, which defines an enclosed space with an entrance, a ceiling, a wall, and a floor, and blows air into the enclosed space to discharge particles to the outside. The bottom surface of the device is characterized by an open grating structure having a predetermined plenum below and having a predetermined opening rate. This removes contaminants and particles into the plenum under the grating by grating installation having an opening ratio of 50% or more at the bottom of the air shower device to remove particles and residual foreign matter during showering. Therefore, particles remaining inside the air shower are not introduced into the main fab.

Description

파티클 제거 효율을 향상시킬 수 있는 에어 샤워 장치{AIR SHOWER SYSTEM FOR IMPROVING PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY}AIR SHOWER SYSTEM FOR IMPROVING PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY

도 1은 종래 기술에 따른 에어 샤워를 도시한 것이다.1 shows an air shower according to the prior art.

도 2는 본 발명에 따른 에어 샤워를 도시한 것이다.2 shows an air shower according to the invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

100; 에어 샤워 장치 110,120; 출입구100; Air shower device 110,120; entrance

130; 천장 140; 개방형 그레이팅 구조의 바닥면130; Ceiling 140; Bottom face of open grating structure

145; 플레넘 145a; 필터링 시스템145; Plenum 145a; Filtering system

150; 벽면 170; 공기 청정 유닛150; Wall 170; Air cleaning unit

본 발명은 에어 샤워에 관한 것으로, 보다 상세하게는 파티클 제거 효율을 향상시킬 수 있는 향상된 에어 샤워에 관한 것이다.The present invention relates to an air shower, and more particularly to an improved air shower that can improve the particle removal efficiency.

주지된 바와 같이, 에어 샤워(Air Shower) 장치는 반도체 제조 공정을 진행하는 작업자에게 흡착된 이물질을 제거하는 장치를 말한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 에어 샤워 장치(10)는 입출구(11,12)가 구비되어 있고 벽면(15)에 설치 된 다수개의 공기 청정 유닛(15)에서 강한 에어가 불어나와 작업자에게 흡착된 이물질을 제거하는 것이 주목적이다.As is well known, an air shower device refers to a device that removes foreign substances adsorbed to a worker who proceeds with a semiconductor manufacturing process. As shown in FIG. 1, the conventional air shower device 10 includes inlets 11 and 12 and strong air is blown from the plurality of air cleaning units 15 installed on the wall 15 to the worker. The main purpose is to remove the adsorbed foreign matter.

그런데, 에어 샤워 장치(10)에 있어서 벽면(15)의 아래쪽에 배치된 필터(16)를 통해 작업자에게 흡착된 파티클이나 오염물질을 제거하는데, 필터(16)에 의해 여과되는 파티클의 사이즈는 약 0.3㎛ 이상인 것이 종래이다. 따라서, 반도체 공정상 제어해야 할 0.1㎛ 사이즈의 파티클을 필터링하지 못한다는 문제점이 있었다. 더욱이, 필터링되지 못한 파티클이 천장(13)에서 바닥(16)으로 순환하면서 에어 샤워 장치 내에 잔류하고 있기 때문에 작업자에게 다시 부착되는 역오염이 발생하며, 샤워링후 팹(FAB) 입실시 잔류한 파티클이 팹으로 유입되어 여러 유형의 파티클을 유발하는 문제점이 있었다.By the way, in the air shower device 10 to remove particles or contaminants adsorbed to the worker through the filter 16 disposed below the wall surface 15, the size of the particles filtered by the filter 16 is about It is conventional that it is 0.3 micrometer or more. Therefore, there is a problem in that it is not possible to filter particles having a size of 0.1 μm to be controlled in the semiconductor process. Furthermore, since unfiltered particles remain in the air shower device as they circulate from the ceiling 13 to the floor 16, back contamination occurs to the worker. Particles remaining after the shower enters the FAB. There was a problem that the flow into the fab causing various types of particles.

이에 본 발명은 상술한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 파티클 및 잔여 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는 에어 샤워 장치를 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the prior art, an object of the present invention to provide an air shower device that can effectively remove particles and residual contaminants.

상기 목적을 달성할 수 있는 본 발명에 따른 에어 샤워 장치는 샤워링시 파티클 및 잔여 이물질 제거를 위해 에어 샤워 장치 바닥면에 개방된 그레이팅을 설치하고 그 하부의 플레넘으로 파티클들을 제거하는 것을 특징으로 한다.Air shower device according to the present invention that can achieve the above object is characterized in that to install the grating open on the bottom surface of the air shower device to remove particles and residual foreign matter during the showering and to remove the particles to the plenum below it do.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 에어 샤워 장치는, 출입구와 천장과 벽면과 바닥면으로 밀폐된 공간을 정의하며 상기 밀폐된 공간 내 부로 에어를 불어넣어 파티클을 외부로 배출시키는 에어 샤워 장치에 있어서, 상기 에어 샤워 장치의 바닥면은 소정의 공간(plenum)을 그 하부에 가지며 소정의 개방율을 갖는 개방형 그레이팅(open grating) 구조인 것을 특징으로 한다.An air shower device according to an embodiment of the present invention capable of implementing the above-described features defines an enclosed space with an entrance, a ceiling, a wall, and a bottom surface, and blows air into the enclosed space to discharge particles to the outside. In the air shower device, the bottom surface of the air shower device is characterized in that an open grating structure having a predetermined plenum below and having a predetermined opening ratio.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 소정의 개방율은 50% 또는 그 이상인 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the invention, the predetermined opening rate is characterized in that 50% or more.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 벽면과 천장 중에서 적어도 어느 하나 또는 모두에는 공기 청정 유닛이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the present invention, at least one or both of the wall surface and the ceiling is characterized in that the air cleaning unit is installed.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 소정의 공간 내부에는 필터링 시스템이 더 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the present invention, the filtering system is further provided inside the predetermined space.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 다른 실시예에 따른 에어 샤워 장치는, 작업자의 출입을 통제하는 입출구와; 청정한 에어를 분사하는 공기 청정 유닛이 복수개 형성된 벽면과; 상기 공기 청정 유닛으로부터 분사된 에어를 외부로 배출시키기 위해 소정의 개방율을 가지는 개방형 그레이팅 구조의 바닥면과; 상기 개방형 그레이팅 구조의 바닥면 하부에 배치되어 상기 공기 청정 유닛으로부터 분사된 에어를 여과시키는 필터링 시스템이 설치된 플레넘 공간과; 상기 입출구와 상기 벽면과 상기 바닥면과 더불어 밀폐된 공간을 정의하는 천장을 포함하는 것을 특징으로 한다.Air shower device according to another embodiment of the present invention that can implement the above features, the entrance and exit for controlling the entrance of the operator; A wall surface on which a plurality of air cleaning units for injecting clean air are formed; A bottom surface of an open grating structure having a predetermined opening ratio for discharging air injected from the air cleaning unit to the outside; A plenum space disposed below the bottom of the open grating structure and provided with a filtering system for filtering the air injected from the air cleaning unit; And a ceiling defining the enclosed space together with the entrance and exit, the wall surface and the bottom surface.

본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 개방형 그레이팅 구조의 바닥면의 개방율을 50% 또는 그 이상인 것을 특징으로 한다.In another embodiment of the present invention, the open rate of the bottom surface of the open grating structure is characterized in that 50% or more.

본 발명에 의하면, 샤워링시 파티클 및 잔여 이물질 제거를 위해 에어 샤워 장치 하부에 개방율이 50% 이상인 그레이팅 설치로 오염 물질 및 파티클을 그레이팅 하부의 플레넘으로 제거한다. 따라서, 에어 샤워 장치 내부에 잔존하던 파티클이 메인 팹으로 유입되지 않도록 한다. 이에 따라, 종래의 에어 샤워 장치에서 제거할 수 없었던 0.1㎛ 크기의 파티클을 제거할 수 있으며 에어 샤워 장치 내부의 파티클 및 오염 물질의 제거 효율이 향상된다.According to the present invention, the contaminants and particles are removed by the plenum under the grating by the grating installation having an opening ratio of 50% or more in the lower part of the air shower device to remove the particles and the remaining foreign matter during the showering. Therefore, the particles remaining inside the air shower device are not introduced into the main fab. Accordingly, particles having a size of 0.1 μm, which could not be removed in the conventional air shower device, can be removed, and the efficiency of removing particles and contaminants in the air shower device is improved.

이하, 본 발명에 따른 에어 샤워 장치는 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an air shower device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

종래 기술과 비교한 본 발명의 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.Advantages of the present invention over prior art will become apparent from the detailed description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the present invention may be best understood by reference to the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements throughout the various drawings.

(실시예)(Example)

도 2는 본 발명에 따른 에어 샤워 장치를 도시한 평면도이다.2 is a plan view illustrating an air shower device according to the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 에어 샤워 장치(100;Air Shower System)는 밀폐된 공간을 이루고 그 공간의 양측면은 각각 입출구(110,120;Door)가 있어서 작업자의 에어 샤워 장치(100)로의 입출입을 통제한다. 2, the air shower system (100; Air Shower System) according to the present invention forms a closed space and both sides of the space has entrances and exits 110, 120 (Door), respectively, the operator's entrance and exit into the air shower device 100 To control.

에어 샤워 장치(100)의 벽면(150)에는 공기 청정 유닛(170), 가령 헤파(HEPA) 필터와 팬과 덕트 등의 기구가 일체화된 유닛(170)이 구비된다. 그런데, 이러한 공기 청정 유닛(170)은 에어 샤워 장치(100)의 벽면(150)에 한정되어 구비되 는 것뿐만 아니라 천장(130)에 설치될 수 있고 또는 천장(130)과 벽면(150) 양쪽에다 설치될 수 있는 등 필요나 설계에 따라 그 변경례가 얼마든지 가능함은 물론이다. 공기 청정 유닛(170)에 의해 청정하고 강한 기류의 에어가 에어 샤워 장치(100) 내부로 불어들어온다. 공기 청정 유닛(170)에 있어서 에어 분사 각도의 조정이 가능하면 에어의 기류를 원하는 바에 따라 설정할 수 있을 것이다.The wall surface 150 of the air shower device 100 is provided with an air cleaning unit 170, for example, a HEPA filter, and a unit 170 in which instruments such as a fan and a duct are integrated. However, the air cleaning unit 170 may be installed on the ceiling 130 as well as being limited to the wall surface 150 of the air shower device 100 or both the ceiling 130 and the wall surface 150. It can be installed in addition to the number of changes depending on the needs and design, of course. The air of clean and strong airflow is blown into the air shower device 100 by the air cleaning unit 170. If the air injection angle in the air cleaning unit 170 can be adjusted, the air flow of the air may be set as desired.

에어 샤워 장치(100)의 바닥면(140)은 장치(100) 내부로 강하게 들어온 에어가 천장(130)가 바닥면(140) 사이를 순환하지 않도록 개방된 형태의 그레이팅(open grating) 되어 있는 것이 바람직하다. 오픈 그레이팅(opne grating) 타입의 바닥면(140)의 개방율은 약 50% 또는 그 이상으로 설정할 수 있다.The bottom surface 140 of the air shower device 100 is open grating so that the air strongly entering the inside of the device 100 does not circulate between the ceiling 130 and the bottom surface 140. desirable. The open rate of the open grating type bottom surface 140 may be set to about 50% or more.

그리고, 바닥면(140) 하부는 플레넘(145;Plenum)으로 되어 있어서 잔여 파티클이나 이물질들을 이를 통해 제거할 수 있어서 에어 샤워 장치(100)의 내부에는 파티클들이 잔류할 여지가 없게 되고 더욱이 0.3㎛ 이하, 가령 0.1㎛ 정도 수준의 파티클들도 효과적으로 제거할 수 있게 된다. 한편, 플레넘(145) 내부에 필터링 시스템(145a)이 설치되어 있으면 오염된 공기를 여과하여 다시 에어 샤워 장치(100)에서 사용할 수 있을 것이다.In addition, the bottom surface 140 has a plenum 145 to remove residual particles or foreign substances therethrough, so that there is no room for particles to remain inside the air shower device 100. For example, particles of about 0.1 μm may be effectively removed. On the other hand, if the filtering system 145a is installed inside the plenum 145, the contaminated air may be filtered and used again in the air shower device 100.

상기와 같이 구성된 본 발명의 에어 샤워 장치(100)의 파티클 제거 효율을 종래의 에어 샤워 장치(10)의 그것과 비교하여 살펴보면 이하의 표 1에 나타낸 바와 같다.Particle removal efficiency of the air shower device 100 of the present invention configured as described above is as shown in Table 1 below when compared with that of the conventional air shower device 10.

종래의 에어 샤워 장치  Conventional air shower device 본 발명의 에어 샤워 장치 Air shower device of the present invention 파티클/풍속  Particle / Wind Speed 파티클 (pcs/cf) Particles (pcs / cf) 풍속 (m/sec) Wind speed (m / sec) 파티클 (pcs/cf) Particles (pcs / cf) 풍속 (m/sec) Wind speed (m / sec) 1  One 134 134 30.5 30.5 69 69 28.2 28.2 2  2 223 223 30.1 30.1 63 63 29.0 29.0 3  3 195 195 29.6 29.6 68 68 28.9 28.9

표 1을 참조하면, 에어 샤워 장치 내부에 3인 이상 샤워링시 0.1㎛ 이상의 크기를 가진 파티클 갯수와 풍속을 수회 평가한 결과를 요약하여 보면 본 발명의 에어 샤워 장치(100)의 파티클 갯수가 종래의 에어 샤워 장치(10)의 그것에 비해 현저히 줄어들었음을 알 수 있다. 즉, 종래의 에어 샤워 장치(10)에 비해 본 발명의 에어 샤워 장치(100)의 파티클 제거 효율이 더 우수하다는 것을 알 수 있는 것이다. 이러한 결과는 플레넘(145)으로 파티클이 떨어지면서 플레넘(145)에서 여과되기 때문이다. Referring to Table 1, when summarizing the results of evaluating the number of particles having a size of 0.1 μm or more and the wind speed several times when showering three or more people inside the air shower device, the number of particles of the air shower device 100 of the present invention is conventional. It can be seen that the air shower device 10 of the significantly reduced compared to that of. That is, it can be seen that the particle removal efficiency of the air shower device 100 of the present invention is superior to the conventional air shower device 10. This result is because particles fall into the plenum 145 and are filtered out of the plenum 145.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용 도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. And, it is possible to change or modify within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the written description, and / or the skill or knowledge in the art. The foregoing embodiments are intended to illustrate the best state in carrying out the invention, and to utilize other inventions, such as the invention, to other conditions known in the art, and to the specific fields and applications of the invention. Various changes are possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 샤워링시 파티클 및 잔여 이물질 제거를 위해 에어 샤워 장치 하부에 개방율이 50% 이상인 그레이팅 설치로 오염 물질 및 파티클을 그레이팅 하부의 플레넘으로 제거한다. 따라서, 에어 샤워 장치 내부에 잔존하던 파티클이 메인 팹으로 유입되지 않도록 한다. 이에 따라, 종래의 에어 샤워 장치에서 제거할 수 없었던 0.1㎛ 크기의 파티클을 제거할 수 있으며 에어 샤워 장치 내부의 파티클 및 오염 물질의 제거 효율이 향상되는 효과가 있다.As described in detail above, according to the present invention, the removal of contaminants and particles to the plenum of the lower part of the grating by a grating installation having an opening ratio of 50% or more in the lower part of the air shower device to remove the particles and residual foreign matter during the showering. Therefore, the particles remaining inside the air shower device are not introduced into the main fab. Accordingly, particles having a size of 0.1 μm, which could not be removed in the conventional air shower device, may be removed, and the efficiency of removing particles and contaminants in the air shower device may be improved.

Claims (6)

출입구와 천장과 벽면과 바닥면으로 밀폐된 공간을 정의하며 상기 밀폐된 공간 내부로 에어를 불어넣어 파티클을 외부로 배출시키는 에어 샤워 장치에 있어서,An air shower device that defines an enclosed space with an entrance, a ceiling, a wall, and a floor, and blows air into the enclosed space to discharge particles to the outside. 상기 에어 샤워 장치의 바닥면은 소정의 공간(plenum)을 그 하부에 가지며 소정의 개방율을 갖는 개방형 그레이팅(open grating) 구조인 것을 특징으로 하는 에어 샤워 장치.The bottom surface of the air shower device is an air shower device, characterized in that the open grating structure having a predetermined plenum (below) and having a predetermined opening ratio. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 소정의 개방율은 50% 또는 그 이상인 것을 특징으로 하는 에어 샤워 장치.And the predetermined opening rate is 50% or more. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 벽면과 천장 중에서 적어도 어느 하나 또는 모두에는 공기 청정 유닛이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 에어 샤워 장치.At least one or both of said wall and ceiling are provided with an air cleaning unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 소정의 공간 내부에는 필터링 시스템이 더 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 에어 샤워 장치.An air shower device, characterized in that the filtering system is further installed inside the predetermined space. 작업자의 출입을 통제하는 입출구와;An entrance and exit for controlling entry and exit of a worker; 청정한 에어를 분사하는 공기 청정 유닛이 복수개 형성된 벽면과;A wall surface on which a plurality of air cleaning units for injecting clean air are formed; 상기 공기 청정 유닛으로부터 분사된 에어를 외부로 배출시키기 위해 소정의 개방율을 가지는 개방형 그레이팅 구조의 바닥면과;A bottom surface of an open grating structure having a predetermined opening ratio for discharging air injected from the air cleaning unit to the outside; 상기 개방형 그레이팅 구조의 바닥면 하부에 배치되어 상기 공기 청정 유닛으로부터 분사된 에어를 여과시키는 필터링 시스템이 설치된 플레넘 공간과;A plenum space disposed below the bottom of the open grating structure and provided with a filtering system for filtering the air injected from the air cleaning unit; 상기 입출구와 상기 벽면과 상기 바닥면과 더불어 밀폐된 공간을 정의하는 천장;A ceiling defining an enclosed space together with the entrance and exit, the wall surface and the bottom surface; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 에어 샤워 장치.Air shower device comprising a. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 개방형 그레이팅 구조의 바닥면의 개방율을 50% 또는 그 이상인 것을 특징으로 하는 에어 샤워 장치.And an opening ratio of the bottom surface of the open grating structure is 50% or more.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170006197A (en) * 2015-07-07 2017-01-17 장현호 Air shower unit for domestic front room
CN109031760A (en) * 2018-08-21 2018-12-18 京东方科技集团股份有限公司 A kind of 3D liquid crystal display panel, display device and driving method

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Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20041025

PG1501 Laying open of application
PC1203 Withdrawal of no request for examination
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid