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KR20030064298A - Fluorescent material detecting method and apparatus - Google Patents

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KR20030064298A
KR20030064298A KR10-2003-0004000A KR20030004000A KR20030064298A KR 20030064298 A KR20030064298 A KR 20030064298A KR 20030004000 A KR20030004000 A KR 20030004000A KR 20030064298 A KR20030064298 A KR 20030064298A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
phosphor
stripe
signal level
average value
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
KR10-2003-0004000A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
와타누키아키오
Original Assignee
가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 filed Critical 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
Publication of KR20030064298A publication Critical patent/KR20030064298A/en
Ceased legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/42Measurement or testing during manufacture

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

플라즈마 디스플레이 등의 유리 기판에 도포된 형광체 스트라이프(stripe)의 도포 얼룩의 검사에 있어서, 스트라이프형상으로 도포된 형광체의 비발광 부분의 영향에 의한 모아레(moire) 현상의 발생 및 형광체 스트라이프를 발광시키기 위해서 이용하는 자외선조명의 조명 얼룩에 의해 형광체 스트라이프의 도포 얼룩을 적정하게 검사할 수 없다고 하는 문제가 있다.In the inspection of the coating unevenness of the phosphor stripe applied to a glass substrate such as a plasma display, in order to cause the moire phenomenon caused by the non-light-emitting portion of the phosphor coated in the stripe shape and to emit light of the phosphor stripe. There is a problem that the coating unevenness of the phosphor stripe cannot be properly inspected by the illumination unevenness of the ultraviolet light used.

기판에 형성된 복수의 스트라이프형상의 형광체에 자외선을 조사하여, 상기 스트라이프형상의 형광체로부터 발광하는 빛을 촬영하여, 상기 촬영된 화상의 신호 레벨을 검출하고, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하여, 상기 산출한 평균치에 근거하여 상기 스트라이프형상의 형광체의 도포 얼룩을 검출하는 형광체 검사 방법.A plurality of stripe-shaped phosphors formed on the substrate are irradiated with ultraviolet rays, photographing light emitted from the stripe-shaped phosphors, the signal level of the photographed image is detected, and correspond to a signal level equal to or greater than a predetermined value of the signal level. The fluorescent substance inspection method which calculates the average value of the said part, and detects the coating | dyeing of the said stripe-shaped fluorescent substance based on the calculated average value.

Description

형광체 검사 방법 및 형광체 검사 장치 {FLUORESCENT MATERIAL DETECTING METHOD AND APPARATUS}Phosphor Testing Method and Phosphor Testing Equipment {FLUORESCENT MATERIAL DETECTING METHOD AND APPARATUS}

본 발명은 형광체 검사 방법 및 형광체 검사 장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이 등의 유리 기판에 도포된 형광체의 도포 결함을 검사하는 형광체 검사 방법 및 형광체 검사 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phosphor inspection method and a phosphor inspection apparatus, and more particularly, to a phosphor inspection method and a phosphor inspection apparatus for inspecting a coating defect of a phosphor applied to a glass substrate such as a plasma display.

종래 기술의 일례를 도 3으로 설명한다. 도 3은 플라즈마 디스플레이 등의 유리 기판에 도포된 형광체의 도포 결함을 검사하기 위한 형광체 검사 장치의 개략구성을 도시하는 블럭도이다.An example of the prior art will be described with reference to FIG. 3. 3 is a block diagram showing a schematic configuration of a phosphor inspection apparatus for inspecting a coating defect of a phosphor coated on a glass substrate such as a plasma display.

도 3에 있어서, 참조부호(31)는 형광체가 도포된 유리 기판, 참조부호(32)는 CCD 카메라 등으로 이루어지는 촬영부, 참조부호(33)는 촬영부(32)의 광학계, 참조부호(34)는 형광체를 발광시키는 자외선 조명부, 참조부호(35)는 도포 얼룩 결함을 검출하는 화상 처리부, 참조부호(36)는 검사 결과를 표시하는 표시부이다. 또한, 표시부 대신에 프린터(인쇄기)로 구성할 수도 있다. 참조부호(37)는 형광체 검사 장치의 조작부이다.In Fig. 3, reference numeral 31 denotes a glass substrate coated with a phosphor, reference numeral 32 denotes a photographing unit made of a CCD camera, etc., reference numeral 33 denotes an optical system and reference numeral 34 of the photographing unit 32. The reference numeral 35 denotes an ultraviolet illuminating unit which emits phosphors, the reference numeral 35 denotes an image processing unit which detects coating spot defects, and the reference numeral 36 denotes a display unit which displays an inspection result. It is also possible to configure a printer (printer) instead of the display unit. Reference numeral 37 is an operation unit of the phosphor inspection device.

도 5는 플라즈마 디스플레이의 형광체 도포면을 설명하기 위한 도이다. 도 5에 있어서, 참조부호(21)는 플라즈마 디스플레이의 형광체가 도포된 기판, 예컨대 유리 기판이다. 참조부호(22)는 기판(21)에 스트라이프형상(또는 slit형상)으로 도포된 적색 형광체 도포층(이하, R 형광체 스트라이프라고 약칭함), 참조부호(23)는 기판(21)에 스트라이프형상으로 도포된 녹색 형광체 도포층(이하, G 형광체 스트라이프라고 약칭함), 참조부호(24)는 기판(21)에 스트라이프형상으로 도포된 청색 형광체 도포층(이하, B 형광체 스트라이프라고 약칭함)이다. 또한, 참조부호(25)는 R, G, B 형광체 스트라이프 사이의 부분(이하, 격벽이라고 칭함)이다. 이상과 같이 플라즈마 디스플레이의 형광체 도포면은 기판(21)상에 R, G, B의 형광체 스트라이프(22, 23, 24)가 격벽(25)을 사이에 두고 주기적으로 배치된 구조로 되어 있다. 이하 이러한 구조를 플라즈마 디스플레이 발광면이라고 칭한다.5 is a diagram for explaining a phosphor coating surface of a plasma display. In Fig. 5, reference numeral 21 denotes a substrate on which a phosphor of a plasma display is applied, for example, a glass substrate. Reference numeral 22 is a red phosphor coating layer (hereinafter referred to as R phosphor stripe) coated on the substrate 21 in a stripe shape (or slit shape), and reference numeral 23 is a stripe shape on the substrate 21. The applied green phosphor coating layer (hereinafter abbreviated as G phosphor stripe) and reference numeral 24 are blue phosphor coating layers (hereinafter abbreviated as B phosphor stripe) applied to the substrate 21 in a stripe shape. Reference numeral 25 denotes a portion (hereinafter referred to as a partition wall) between the R, G, and B phosphor stripes. As described above, the phosphor coating surface of the plasma display has a structure in which R, G, and B phosphor stripes 22, 23, and 24 are periodically arranged on the substrate 21 with the partition walls 25 interposed therebetween. This structure is hereinafter referred to as plasma display emitting surface.

그리고, 종래의 형광체 검사 장치는 플라즈마 디스플레이 발광면의 전 표시면에 전자(電磁) 방사광(放射光)을 조사하여, 기판상에 도포된 형광체 스트라이프를 발광시킨다. 예컨대, 도 5에 도시하는 바와 같이 플라즈마 디스플레이 발광면의 전 표시면에 자외선 조명부(34)로부터 출력되는 자외선이 조사되어, 기판(21)상에 도포된 형광체 스트라이프를 발광시킨다. 즉, R 형광체 스트라이프(22)는 적색으로, G 형광체 스트라이프(23)는 녹색으로, B 형광체 스트라이프(24)는 청색으로 발광한다.In the conventional phosphor inspection apparatus, electron emission light is irradiated on all the display surfaces of the plasma display light emitting surface to emit light of the phosphor strip applied on the substrate. For example, as shown in FIG. 5, ultraviolet rays output from the ultraviolet illuminator 34 are irradiated to all the display surfaces of the plasma display light emitting surface to emit the phosphor strips applied on the substrate 21. That is, the R phosphor stripe 22 emits red, the G phosphor stripe 23 emits green, and the B phosphor stripe 24 emits blue.

촬영부(32)는 광학계(33)를 거쳐서 발광된 상태에서의 플라즈마 디스플레이 발광면을 촬영하고, 거기에서 얻어지는 화상 신호를 화상 처리부(35)로 송출한다. 이 때, 검출 대상으로 삼는 형광체 스트라이프의 형광 도료의 종류[적색(R), 녹색(G), 청색(B)]에 따라서, 촬영부(32)에서는 각각의 형광체 스트라이프에 대응한 컬러 필터를 광학계(33)에 장착하여 각 빛깔마다의 출력 신호를 얻는다.The photographing unit 32 photographs the plasma display emitting surface in the state of being emitted through the optical system 33, and transmits the image signal obtained therefrom to the image processing unit 35. At this time, depending on the type of fluorescent paint (red (R), green (G), blue (B)) of the phosphor stripe to be detected, the imaging unit 32 uses a color filter corresponding to each phosphor stripe in the optical system. 33, an output signal of each color is obtained.

화상 처리부(35)는 입력된 화상 신호로부터 최대 휘도, 최소 휘도, 평균치, 편차 등을 산출하여, 그들의 산출 결과에 따라 휘도 얼룩을 검출하고, 검출한 휘도 얼룩의 정보를 표시부(36)에 출력한다. 또한, 최대 휘도, 최소 휘도, 평균치, 편차 등에 대해서는 후술한다.The image processing unit 35 calculates the maximum luminance, the minimum luminance, the average value, the deviation, and the like from the input image signal, detects the luminance unevenness according to the calculation result, and outputs the detected luminance unevenness information to the display unit 36. . In addition, the maximum brightness, the minimum brightness, an average value, a deviation, etc. are mentioned later.

그런데, 먼저 설명한 바와 같이 플라즈마 디스플레이 발광면을 형광체 검사 장치로 검사하는 경우, 예컨대 R 형광체 스트라이프(22)를 검사하는 경우, 광학계(33)에 적색 필터를 장착하고, R 형광체 스트라이프(22)로부터의 발광 신호만을 촬영부(32)에서 검출하기 때문에, 격벽(25) 부분과 G와 B의 형광체 스트라이프의 부분의 촬영 화상이 어두워진다. G와 B의 형광체 스트라이프의 부분은 본래 발광은 하고 있지만, 적색 필터를 장착하고 있기 때문에 촬영부(6)에는 그 발광이 검출되지 않는다. 따라서, 격벽(25) 부분과 G와 B의 형광체 스트라이프의 부분을 비발광 부분이라고 부르기로 한다.By the way, as described above, when the plasma display emitting surface is inspected by the phosphor inspection apparatus, for example, when the R phosphor stripe 22 is inspected, a red filter is attached to the optical system 33, and from the R phosphor stripe 22 Since only the light emission signal is detected by the imaging unit 32, the captured image of the partition 25 portion and the portion of the phosphor stripe of G and B becomes dark. The portions of the phosphor stripes of G and B originally emit light, but since the red filter is attached, the light emission is not detected in the imaging section 6. Therefore, the part of the partition 25 and the part of the phosphor stripe of G and B are called a non-light emitting part.

따라서, 플라즈마 디스플레이 발광면의 전면 도포 얼룩의 평가를 위해서, 촬영 화상의 휘도 신호를 공간 필터 등으로 평균화(예컨대, 소정 기간의 휘도 신호 레벨을 적분함)하는 방법이 알려져 있지만, 단순한 평균화로는 모아레(간섭모양)현상이 발생하여, 발생한 모아레를 도포 얼룩으로 오검출하는 등의 문제가 있었다.Therefore, a method of averaging (eg, integrating a luminance signal level of a predetermined period of time) the luminance signal of a photographed image with a spatial filter or the like is known for the evaluation of the entire surface unevenness of the plasma display light emitting surface. (Interference) phenomenon occurred, and there was a problem such as incorrect detection of the generated moire with a coating stain.

도 4는 CCD 카메라를 이용한 촬영부(32)에 의해 R 형광체 스트라이프(22)를 적색 필터를 거쳐서 촬영한 경우의 화상을 도시한다. 이 화상으로부터 알 수 있듯이 플라즈마 디스플레이(41)의 발광면(42) 전면에 모아레 현상이 발생하고 있는 것을 알 수 있다.4 shows an image when the R phosphor stripe 22 is photographed through a red filter by the photographing unit 32 using a CCD camera. As can be seen from this image, it can be seen that the moire phenomenon occurs on the entire surface of the light emitting surface 42 of the plasma display 41.

또한, 자외선 조명부(34)가 형광체가 도포된 유리 기판(31)의 양측에 설치되어 자외선을 조사하기 때문에, 유리 기판(31)에 자외선이 균일하게 조사되지 않으므로, 조명 얼룩이 발생하여 도포 얼룩의 오검출의 원인으로도 되고 있다.In addition, since the ultraviolet illuminating unit 34 is provided on both sides of the glass substrate 31 to which the phosphor is applied to irradiate ultraviolet rays, the ultraviolet rays are not uniformly irradiated on the glass substrate 31, so that illumination irregularities are generated, resulting in uneven coating. It is also a cause of detection.

또한, 플라즈마 디스플레이 패널의 검사 방법(예컨대, 특허문헌 1 참조)으로서, 컬러 텔레비전 카메라 또는 흑백 텔레비전 카메라를 이용하여 R, G, B 형광체의 도포 얼룩을 검사하는 방법이 알려져 있지만, 전술한 모아레 현상에 대해서는 아무런 언급도 되어 있지 않다.In addition, as a method of inspecting a plasma display panel (for example, refer to Patent Document 1), a method of inspecting coating unevenness of R, G, and B phosphors using a color television camera or a monochrome television camera is known. No mention is made of this.

예를 들어, 일본 특허 공개 공보 평성 제11-16498호(제4, 5 페이지, 제1, 8-13도)에는 촬영 화상에 모아레 현상의 발생이나 전자파 또는 입자선(예컨대 자외선)이 균일하게 조사되지 않는 것에 의한 오검출 등이 일어나는 결점이 있었다.For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-16498 (4th, 5th pages, 1st, 8th, 13th degrees) discloses the occurrence of moiré phenomenon and electromagnetic waves or particle beams (for example, ultraviolet rays) uniformly in the photographed image. There was a flaw in which false detection or the like caused by not being produced.

본 발명의 목적은 스트라이프형상으로 도포된 형광체의 비발광 부분의 영향에 의한 모아레 현상을 저감하여, 스트라이프형상으로 도포된 형광체의 도포 얼룩의 검출을 고정밀도로 실행하는 형광체 검사 방법 및 형광체 검사 장치를 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a phosphor inspection method and a phosphor inspection apparatus for reducing the moiré phenomenon caused by the influence of the non-light-emitting portion of the phosphor coated in the stripe shape, and performing the detection of the coating stain of the phosphor coated in the stripe shape with high accuracy. It is in doing it.

본 발명의 다른 목적은 자외선 등의 조명의 조명 얼룩을 경감하여, 스트라이프형상으로 도포된 형광체의 도포 얼룩의 검출을 고정밀도로 실행하는 형광체 검사 방법 및 형광체 검사 장치를 제공하는 것에 있다.It is another object of the present invention to provide a phosphor inspection method and a phosphor inspection apparatus which reduce the illumination unevenness of illumination such as ultraviolet rays and detect the unevenness of coating of the phosphor coated in a stripe shape with high accuracy.

본 발명의 형광체 검사 방법은 기판에 형성된 복수의 스트라이프형상의 형광체에 자외선 등의 전자 방사광(전자파 또는 입자선)을 조사하여, 상기 스트라이프형상의 형광체로부터 발광하는 빛을 촬영하고, 상기 촬영된 화상의 신호 레벨을 검출하고, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하여, 상기 산출한 평균치에 근거하여 상기 스트라이프형상의 형광체의 도포 얼룩을 검출함으로써 달성된다.In the phosphor inspection method of the present invention, a plurality of stripe-shaped phosphors formed on a substrate are irradiated with electron radiation light (electromagnetic waves or particle beams) such as ultraviolet rays to photograph light emitted from the stripe-shaped phosphors, It is achieved by detecting a signal level, calculating an average value of portions corresponding to a signal level equal to or greater than a predetermined value of the signal level, and detecting coating unevenness of the stripe-shaped phosphor based on the calculated average value.

또한, 본 발명의 형광체 검사 방법에 있어서, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치의 산출은 소정의 구간마다 산출된다.In the phosphor inspection method of the present invention, the average value of the portion corresponding to the signal level equal to or greater than the predetermined value of the signal level is calculated for each predetermined section.

또한, 본 발명의 형광체 검사 방법에 있어서, 상기 복수의 스트라이프형상의 형광체는 R, G, B 형광체 스트라이프 중 적어도 한 종류의 형광체 스트라이프이며, 상기 소정의 구간은 상기 형광체 스트라이프의 반복 주기와 거의 같다.In the phosphor inspection method of the present invention, the plurality of stripe-shaped phosphors is at least one kind of phosphor stripe among R, G, and B phosphor stripes, and the predetermined section is substantially the same as the repeating period of the phosphor stripes.

또한, 본 발명의 형광체 검사 방법에 있어서, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨의 최대값을 검출하여, 상기 최대값 사이를 상기 소정의 구간으로 하는 것이다.In the phosphor inspection method of the present invention, the maximum value of the signal level equal to or greater than the predetermined value of the signal level is detected, and the maximum value is set as the predetermined section.

또한, 본 발명의 형광체 검사 방법에 있어서, 상기 촬영된 화상의 신호 레벨로부터 최대 신호 레벨, 최소 신호 레벨, 평균치 및 편차를 산출하여, 상기 산출 결과에 근거하여 형광체 스트라이프의 도포 얼룩을 검출한다.Further, in the phosphor inspection method of the present invention, the maximum signal level, the minimum signal level, the average value and the deviation are calculated from the signal level of the photographed image, and the coating unevenness of the phosphor stripe is detected based on the calculation result.

또한, 본 발명의 형광체 검사 장치는 기판에 형성된 복수의 스트라이프형상의 형광체에 자외선 등의 전자파 또는 입자선을 조사하는 조사부와, 상기 스트라이프형상의 형광체로부터 발광하는 빛을 촬영하는 촬영부와, 상기 촬영된 화상 신호를 처리하는 화상 처리부로 이루어지는 형광체 검사 장치에 있어서, 상기 촬영부는 상기 스트라이프의 방향으로 이동하는 라인센서로 이루어지고, 상기 화상 처리부는 상기 촬영된 화상의 신호 레벨을 검출하고, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하고, 상기 산출한 평균치에 근거하여 상기 스트라이프형상의 형광체의 도포 얼룩을 검출하는 기능을 가짐으로써 달성된다.In addition, the phosphor inspection apparatus of the present invention includes an irradiation unit for irradiating electromagnetic waves or particle beams such as ultraviolet rays to a plurality of stripe-shaped phosphors formed on a substrate, a photographing unit for photographing light emitted from the stripe-shaped phosphors, and the photographing unit. In a phosphor inspection apparatus comprising an image processing unit for processing a processed image signal, the photographing portion is made of a line sensor moving in the direction of the stripe, the image processing portion detects the signal level of the photographed image, the signal level This is achieved by calculating an average value of portions corresponding to a signal level equal to or greater than a predetermined value of and detecting the coating unevenness of the stripe-shaped fluorescent substance based on the calculated average value.

또한, 본 발명의 형광체 검사 장치에 있어서, 상기 화상 처리부는 상기 화상 신호의 소정의 구간마다 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하는 수단으로 구성되어 있다.Further, in the phosphor inspection apparatus of the present invention, the image processing unit is configured by means for calculating an average value of portions corresponding to signal levels equal to or greater than a predetermined value of the signal level for each predetermined section of the image signal.

또한, 본 발명의 형광체 검사 장치에 있어서, 상기 복수의 스트라이프형상의 형광체는 R, G, B 형광체 스트라이프 중 적어도 한 종류의 형광체 스트라이프이며, 상기 화상 처리부는 상기 형광체 스트라이프의 반복 주기와 거의 같은 상기 소정의 구간을 검출하는 수단을 포함하도록 구성된다.Further, in the phosphor inspection apparatus of the present invention, the plurality of stripe shaped phosphors is at least one kind of phosphor stripe among R, G, and B phosphor stripes, and the image processing unit is the predetermined same as the repetition period of the phosphor stripes. And means for detecting an interval of.

또한, 본 발명의 형광체 검사 장치에 있어서, 상기 화상 처리부는 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨의 최대값을 검출하여, 상기 최대값 사이를 상기소정의 구간으로 설정하는 레벨 검출부를 갖는다.Further, in the phosphor inspection apparatus of the present invention, the image processing section has a level detection section that detects a maximum value of a signal level equal to or greater than a predetermined value of the signal level and sets the maximum value between the predetermined sections.

또한, 본 발명의 형광체 검사 장치에 있어서, 상기 화상 처리부는 레벨 검출부와 도포 얼룩 검출부를 갖고, 상기 레벨 검출부는 상기 촬영된 화상의 신호 레벨로부터 최대 신호 레벨, 최소 신호 레벨, 평균치 및 편차를 산출하며, 상기 도포 얼룩 검출부는 상기 산출 결과에 근거하여 형광체 스트라이프의 도포 얼룩을 검출하도록 구성된다.Further, in the phosphor inspection apparatus of the present invention, the image processing section has a level detection section and a coating spot detection section, and the level detection section calculates a maximum signal level, a minimum signal level, an average value, and a deviation from the signal level of the photographed image. The coating spot detection unit is configured to detect the coating spot of the phosphor stripe based on the calculation result.

도 1은 본 발명의 일실시예를 도시하는 블럭도이다.1 is a block diagram illustrating one embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 원리를 설명하기 위한 휘도 신호 파형을 도시하는 도면이다.2 is a diagram showing luminance signal waveforms for explaining the principle of the present invention.

도 3은 종래의 형광체 검사 장치의 일례의 개략구성을 도시하는 블럭도이다.3 is a block diagram showing a schematic configuration of an example of a conventional phosphor inspection apparatus.

도 4는 종래의 형광체 검사 장치로 촬영한 영상의 모아레 현상의 발생예를 도시하는 도면이다.4 is a diagram illustrating an example of generation of moiré phenomena of an image photographed by a conventional phosphor inspection apparatus.

도 5는 플라즈마 디스플레이의 형광체 도포면을 설명하기 위한 도면이다.5 is a diagram for explaining a phosphor coating surface of a plasma display.

도 6은 본 발명의 동작을 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining the operation of the present invention.

도 7은 본 발명의 일실시예의 일부의 확대도를 도시하는 도면이다.7 is an enlarged view of a portion of an embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 원리를 설명하기 위한 도면이다.8 is a view for explaining the principle of the present invention.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 유리 기판 탑재대 2, 21 : 유리 기판1 Glass substrate mounting base 2, 21 Glass substrate

3 : 형광체 스트라이프 4 : 자외선용 광원3: phosphor stripe 4: ultraviolet light source

5 : 광학계 6 : 촬영부5: optical system 6: photographing unit

7 : 이동기구부 8 : 화상 처리부7 moving mechanism 8 image processing unit

9 : 표시부 10 : 구동부9 display unit 10 drive unit

11 : 제어부 12 : 레벨 검출부11 control unit 12 level detection unit

13 : 평균화 처리부 14 : 도포 얼룩 검출부13: Averaging process part 14: Coating spot detection part

15 : 조작부 22 : R 형광체 스트라이프15: control panel 22: R phosphor stripe

23 : G 형광체 스트라이프 24 : B 형광체 스트라이프23: G phosphor stripe 24: B phosphor stripe

25 : 격벽25: bulkhead

도 1은 본 발명의 형광체 검사 장치의 일실시예를 도시하는 도면이다. 도 1에 있어서, 참조부호(1)는 플라즈마 디스플레이 등의 유리 기판의 탑재대, 참조부호(2)는 플라즈마 디스플레이 등의 유리 기판, 참조부호(3)는 R, G, B의 형광체 스트라이프, 참조부호(4)는 형광체 스트라이프(3)를 발광시키기 위한 자외선 조명용 광원, 참조부호(5)는 렌즈 및 R, G, B의 컬러 필터가 순차적으로 장착되는 광학계, 참조부호(6)는 촬영용 라인 센서 카메라 등의 촬영부, 참조부호(7)는 촬영부(6) 및 광원(4)을 유리 기판(2)을 따라 유리 기판(2)상을 주사하기 위한 이동기구부, 참조부호(8)는 도포 얼룩을 검출하는 화상 처리부, 참조부호(9)는 검사 결과를 표시하는 컬러 모니터 등의 표시부이며, 프린터 등의 인자(印字)부로 구성할 수도 있다. 참조부호(10)는 이동기구부(7)를 구동하기 위한 구동부, 참조부호(11)는 화상 처리부 및 구동부를 제어하기 위한 제어부, 참조부호(15)는 조작부이다. 또한, 화상 처리부(8)는 후술하는 바와 같이 최대값, 최소값 등의 휘도 신호 레벨을 검출하는레벨 검출부(12), 평균화 처리부(13) 및 도포 얼룩 검출부(14)로 구성되어 있다. 또한, 본 실시예에서는 촬영부(6)를 구동부(7)로 구동하는 장치에 대하여 설명했지만, 촬영부(6)를 고정하고, 유리 기판(2)의 탑재대(1)를 구동하도록 하는 것도 가능하다.1 is a view showing an embodiment of the phosphor inspection apparatus of the present invention. In Fig. 1, reference numeral 1 denotes a mounting table for a glass substrate such as a plasma display, reference numeral 2 denotes a glass substrate such as a plasma display, reference numeral 3 denotes a phosphor stripe of R, G, and B, and a reference numeral. Reference numeral 4 denotes an ultraviolet light source for emitting the phosphor strip 3, reference numeral 5 denotes an optical system in which lenses and color filters of R, G and B are sequentially mounted, reference numeral 6 denotes a line sensor for photographing. A photographing part such as a camera, reference numeral 7 is a moving mechanism part for scanning the photographing part 6 and the light source 4 onto the glass substrate 2 along the glass substrate 2, and the reference numeral 8 is applied. The image processing unit for detecting the unevenness and the reference numeral 9 are display units such as a color monitor for displaying the inspection results, and may be constituted by printing units such as a printer. Reference numeral 10 is a driving unit for driving the moving mechanism unit 7, reference numeral 11 is a control unit for controlling the image processing unit and the driving unit, and reference numeral 15 is an operation unit. In addition, the image processing part 8 is comprised by the level detection part 12 which detects luminance signal levels, such as a maximum value and a minimum value, the averaging processing part 13, and the coating | staining stain detection part 14, as mentioned later. In addition, although the apparatus which drives the imaging | photography part 6 by the drive part 7 was demonstrated in this embodiment, it is also what fixes the imaging | photography part 6, and drives the mounting table 1 of the glass substrate 2 to drive. It is possible.

도 7은 도 1에 도시하는 형광체 검사 장치의 탑재대, 유리 기판 및 촬영부의 확대도를 도시하는 것으로, 도 1과 동일한 것에는 동일한 부호가 부여되어 있다. 탑재대(1)는 검사시에 유리 기판(2)을 탑재하는 대이지만, 플라즈마 디스플레이 패널인 유리 기판에 예컨대 적색(R)의 형광체 스트라이프가 도포되면, 그 도포 상태를 검사하기 위해서, 화살표로 나타내는 방향에서 적색(R) 형광체 스트라이프가 도포된 유리 기판이 반송되고, 도 7에 도시하는 소정의 위치에 고정되어, 도포 얼룩이 검사된다. 녹색(G)의 형광체 스트라이프를 도포하는 라인 및 청색(B)의 형광체 스트라이프를 도포하는 라인에서도 같은 검사가 실행된다. 또한, 본 실시예에서는 유리 기판의 크기는 1460mm×1030mm의 크기의 것이지만, 이것에 한정되는 것이 아니다.FIG. 7 shows an enlarged view of the mounting table, the glass substrate, and the imaging unit of the phosphor inspection apparatus shown in FIG. 1, and the same reference numerals are assigned to the same ones as in FIG. 1. Although the mounting table 1 mounts the glass substrate 2 at the time of inspection, when the fluorescent stripe of red (R) is applied to the glass substrate which is a plasma display panel, for example, in order to test the application | coating state, it shows by the arrow. The glass substrate to which the red (R) phosphor stripe was applied in the direction is conveyed, is fixed at a predetermined position shown in FIG. 7, and coating unevenness is inspected. The same inspection is carried out on the line applying the green (G) phosphor strip and the line applying the blue (B) phosphor strip. In addition, in the present Example, although the size of a glass substrate is a thing of the size of 1460 mm x 1030 mm, it is not limited to this.

참조부호(71)는 이동기구부(7)의 일부이며, 촬영부(6) 및 자외선 조명용 광원(4)을 지지하기 위한 지지부재이다. 촬영부(6)는 한 장의 유리 기판의 검사를 위해서, 도와 같이 라인 센서 카메라 4대가 일렬로 배치되고, 폭 1030mm인 유리 기판을 커버하도록 구성되어 있다. 1대의 라인 센서 카메라의 촬영폭은 약 260mm로, 라인 센서 카메라 사이의 시야범위는 일부 겹치도록 구성되어 있다. 자외선 조명용 광원(4)으로부터의 자외선(72)은 유리 기판(2)에서 반사하여, 적색(R)의 형광체스트라이프(3)의 상을 광학계(5)를 거쳐서 촬영부(6)에서 촬영한다. 이 지지부재(71)는 적색(R)의 형광체 스트라이프(3)의 길이 방향으로 등속으로, 예컨대 유리 기판(2)의 Y축상을 우단에서 좌단으로 이동하여, 유리 기판 전면의 주사를 한다.Reference numeral 71 is a part of the moving mechanism part 7 and is a supporting member for supporting the imaging section 6 and the ultraviolet light source 4. The imaging | photography part 6 is comprised so that four line sensor cameras may be arrange | positioned in a line like a tile | tip, and the glass substrate of width 1030mm is covered for inspection of a single glass substrate. The shooting width of one line sensor camera is about 260 mm, and the field of view between the line sensor cameras is partially overlapped. Ultraviolet light 72 from the ultraviolet light source 4 is reflected by the glass substrate 2, and the image of the phosphor strip 3 of red color R is photographed by the imaging unit 6 via the optical system 5. The supporting member 71 moves at a constant velocity in the longitudinal direction of the phosphor strip 3 of red color (R), for example, on the Y axis of the glass substrate 2 from the right end to the left end, and scans the entire glass substrate.

이 동작에 대하여 설명한다. 플라즈마 디스플레이 등의 유리 기판(2)에 자외선 조명 광원(4)에 의해 자외선(72)을 조사하여, 도포 또는 인쇄된 스트라이프 형광체(3)를 발광시킨다. 그 발광 화상을 촬영부(6)로 촬영한다. 이 때, 검출해야 할 형광체의 종류(R, G, B)에 따라 촬영부(6)에는 각각의 빛깔의 형광체에 대응한 컬러 필터를 장착하는 것은 전술한 바와 같다. 촬영부(6)에 의해 촬영한 화상은 화상 처리부(8)로 송출된다.This operation will be described. The ultraviolet ray 72 is irradiated to the glass substrate 2, such as a plasma display, by the ultraviolet-illumination light source 4, and the stripe fluorescent substance 3 apply | coated or printed is light-emitted. The emitted image is captured by the photographing unit 6. At this time, according to the types R, G, and B of the phosphor to be detected, it is as described above to mount the color filter corresponding to the phosphor of each color in the imaging unit 6. The image photographed by the photographing unit 6 is sent to the image processing unit 8.

이하, 도 1의 형광체 검사 장치의 동작에 대하여, 도 2, 도 6 및 도 8을 참조하여 상세히 설명한다. 도 6은 본 발명의 유리 기판(21)상에 각 빛깔 형광체 스트라이프가 도포된 플라즈마 디스플레이 발광면을 도시하고, 라인 A 상을 라인 센서 카메라가 화살표(61)의 방향으로 이동하는 상태를 도시하고 있다. 또한, 도 6은 R, G, B의 형광체 스트라이프가 모두 도포된 상태를 도시하고 있지만, 도포 공정에 의해서 모든 형광체 스트라이프가 도포되어 있다고는 한정되지 않는다.Hereinafter, the operation of the phosphor inspection apparatus of FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. 2, 6, and 8. FIG. 6 shows a plasma display emitting surface in which phosphor stripes are applied on the glass substrate 21 of the present invention, and shows a state in which the line sensor camera moves on the line A in the direction of the arrow 61. FIG. . In addition, although FIG. 6 has shown the state in which all the fluorescent stripe of R, G, and B was apply | coated, it is not limited that all the fluorescent stripe is apply | coated by the application | coating process.

또한, 도 8은 라인 A 상의 플라즈마 디스플레이 발광면의 단면의 일부를 도시하고 있고, 도 6과 동일한 부재에는 동일한 부호가 부여되어 있다. 또한, R, G, B 각 형광체 스트라이프의 피치는, 예컨대 각각 약 900㎛이다. 도 8a는 광학계(5)에 적색의 필터를 장착하여, 라인 센서 카메라(6)로 R 형광체 스트라이프를 촬영했을 때의 휘도 신호 레벨을 나타내는 것이다. 따라서, R 형광체 스트라이프의 부분은 밝게 발광하여 "명"으로 표시되어 있다. 그러나, G 및 B의 형광체 스트라이프의 부분으로부터의 발광은 적색의 필터로 차폐되기 때문에 어두워 "암"으로 표시되어 있다.8 shows a part of the cross section of the plasma display light emitting surface on the line A, and the same reference numerals are given to the same members as in FIG. In addition, the pitch of each R, G, B fluorescent stripe is about 900 micrometers, respectively. FIG. 8A shows the luminance signal level when the red filter is attached to the optical system 5 and the R phosphor stripe is photographed by the line sensor camera 6. Therefore, the portion of the R phosphor stripe brightly emits light and is labeled "name". However, light emission from portions of the phosphor stripes of G and B is darkened and marked as "dark" because it is shielded by a red filter.

다음에, 화상 처리부(8)의 동작에 대하여, 도 2를 이용하여 설명한다. 도 2a는 도 8a와 같이 라인 A 상에서의 라인 센서 카메라로 촬영한, 예컨대 R 형광체 스트라이프의 휘도 신호 레벨을 나타낸다. 도 2b는 임의로 정한 구간(Ta)을 나타낸다. 이 구간(Ta)은 도포 얼룩을 검출하기 위해서, 도 2a에서 도시하는 R 형광체 스트라이프의 휘도 신호 레벨을 평균화하여, 도포 얼룩의 판정을 쉽게 하기 위한 것이다. 따라서, 구간(Ta)은 임의로 정할 수 있지만, 본 실시예에서는 레벨 검출부(12)로 각 빛깔의 형광체 스트라이프의 피치, 즉 R 형광체 스트라이프의 휘도 신호 레벨의 피크를 검출하여, 이 휘도 신호 레벨의 피크와 피크의 사이(약 900㎛에 대응)로 정하고 있다. 또한, 이 구간(Ta)에는 라인 센서 카메라의 18 화소의 센서의 휘도 신호가 출력된다. 또한, 라인 센서 카메라의 1 화소의 사이즈는 약 50㎛이다.Next, the operation of the image processing unit 8 will be described with reference to FIG. 2. FIG. 2A shows the luminance signal level of, for example, an R phosphor stripe taken with a line sensor camera on line A as in FIG. 8A. 2B shows a randomly defined section Ta. This section Ta is for averaging the luminance signal level of the R phosphor stripe shown in Fig. 2A in order to detect the coating unevenness, so that the coating unevenness can be easily determined. Therefore, although the section Ta can be arbitrarily determined, in the present embodiment, the level detecting section 12 detects the peak of the luminance signal level of each phosphor stripe, that is, the luminance signal level of the R phosphor stripe, and the peak of this luminance signal level. And between the peaks (corresponding to about 900 µm). Further, in this section Ta, the luminance signal of the sensor of 18 pixels of the line sensor camera is output. In addition, the size of one pixel of the line sensor camera is about 50 µm.

다음에, 평균화 처리부(13)에서는 구간(Ta)의 휘도 신호 레벨을 평균화한다. 즉, 도 2a에 도시하는 신호는 도 2c에 도시하는 바와 같이 구간(Ta) 마다 평균화한 신호 레벨[휘도 신호의 구간(Ta)의 적산값]이 된다. 도 2c에서도 분명한 바와 같이, 휘도 신호 레벨을 평균화한 신호 레벨은 도 2a와 같이 휘도 신호 레벨이 거의 일정(R 형광체 스트라이프가 거의 균일하게 도포되어 있는 상태를 나타냄)함에도불구하고, 예컨대 L1, L2, L3와 같이 대폭 변동하고 있다. 이것은 발광 영역과 비발광 영역(격벽 부분과, 실제로는 발광하고 있지만 필터의 빛깔이 다르기 때문에 라인 센서 카메라에는 신호로서 검출되지 않는 형광체 스트라이프 부분)이 적산되기 때문에, 발광 영역의 면적으로 대폭 신호 레벨이 변화되기 때문이다.Next, the averaging processing unit 13 averages the luminance signal levels in the section Ta. That is, the signal shown in FIG. 2A becomes a signal level (integrated value of the period Ta of a luminance signal) averaged for every area | region Ta as shown in FIG. 2C. As is apparent from Fig. 2C, the signal level obtained by averaging the luminance signal level is similar to that of Fig. 2A even though the luminance signal level is almost constant (representing a state in which the R phosphor stripe is applied almost uniformly), for example, L1, L2, It is fluctuating much like L3. This is because the light emitting area and the non-light emitting area (the partition part and the phosphor stripe part which is not actually detected as a signal by the line sensor camera because the light of the filter is different because the light is different from each other) are accumulated. Because it changes.

도 2d는 도 2a에 도시하는 임계값(TH) 이상의 휘도 신호 레벨을 평균화한 신호 레벨을 도시한다. 이 도로부터도 분명한 바와 같이, 신호 레벨(L4, L5, L6)은 거의 같은 레벨로 되어 있다. 즉, 구간(Ta) 내에 발광 부분이 형광체의 2 스트라이프만큼 들어간 경우와 1 스트라이프만큼 들어간 경우에 레벨차이가 발생하지 않는다. 따라서, 본 발명에서는 라인 센서 카메라(6)로 촬영한 형광체 스트라이프(3)의 휘도 신호 레벨 중 임계값(TH) 이상의 휘도 신호 레벨을 구간(Ta) 마다 평균화함으로써 산출 레벨이 미발광 영역에 영향받지 않아, 전술한 모아레 감소가 저감된다. 또한, 임계값(TH)은 휘도 신호 레벨의 최대값의 70% 정도로 설정되지만, 형광체 스트라이프의 폭, 도포막의 두께 등에 의해 휘도 신호 레벨도 변동하기 때문에, 임계값(TH)은 실험적으로 정하는 것이 좋다. 또한, 임계값(TH) 이상의 휘도 신호 레벨을 구간(Ta) 마다 평균화하는 방법으로서, 도 2a에 도시하는 휘도 신호 레벨로부터 임계값(TH) 이하의 휘도 신호 레벨을 감산하여 그 구간 평균치를 산출할 수도 있다.FIG. 2D shows a signal level obtained by averaging luminance signal levels equal to or greater than the threshold value TH shown in FIG. 2A. As is also apparent from this figure, the signal levels L4, L5 and L6 are at almost the same level. That is, the level difference does not occur when the light emitting portion enters two stripes of the phosphor and one stripe within the section Ta. Therefore, in the present invention, the output signal is not affected by the non-emission region by averaging the luminance signal level above the threshold TH among the luminance signal levels of the phosphor stripe 3 photographed by the line sensor camera 6 for each section Ta. Therefore, the moiré reduction described above is reduced. In addition, although the threshold value TH is set to about 70% of the maximum value of the luminance signal level, the luminance signal level also varies depending on the width of the phosphor stripe, the thickness of the coating film, and the like. Therefore, the threshold value TH may be determined experimentally. . In addition, as a method for averaging the luminance signal level equal to or greater than the threshold TH for each section Ta, the luminance signal level equal to or lower than the threshold TH is subtracted from the luminance signal level shown in FIG. It may be.

자외선 조명 광원(4)은 도 6에 도시하는 유리 기판(1)상의 라인 A 전체를 포함하도록 조명하지만, 자외선 조명 광원(4)도 중앙부와 단부에서 조명광량이 변화된다. 따라서, 사전에 조명광의 분포를 계측하여 보정계수 등을 구해두고, 평균화처리부(13)에서 휘도값의 평균을 산출할 때에 보정함으로써, 자외선 조명 광원(4)의 조명 얼룩을 보정할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.Although the ultraviolet light source 4 illuminates so that the whole line A on the glass substrate 1 shown in FIG. 6 may be included, the ultraviolet light source 4 also changes the amount of illumination light in the center part and the edge part. Therefore, it is said that the illumination unevenness of the ultraviolet light source 4 can be corrected by measuring the distribution of the illumination light in advance, obtaining a correction coefficient, and the like, and correcting it when calculating the average of the luminance values in the averaging processing unit 13. There is no need.

도포 얼룩 검출부(14)는 평균화 처리부(13)에서 평균화된 도 2d에 도시하는 신호의 레벨을 검출하여, 소정의 범위에 있으면 형광체 스트라이프의 도포 얼룩이 없다 또는 허용할 수 있다고 판단하고, 소정의 범위를 넘는 경우는 도포 얼룩 있음이라고 판단한다. 예컨대, 실제 제품에 적용한 경우를 예시하면, 거의 균일하게 도포 되어 있는 경우의 휘도 신호의 평균치 레벨을 100%로 했을 때, 이 레벨보다 +20% 이상의 레벨의 것, 또는 -20% 이하의 레벨의 것이 1개 이상 있으면, 도포 얼룩 있음이라고 판단한다. 또한, 이 판정 레벨은 최악의 레벨이며, 대상제품의 종류나 양품률의 사고방식 등에 따라 적절히 변경할 수 있는 것은 말할 필요도 없다. 도포 얼룩 있음이라는 판단이 나오면 그 후의 처리공정은 중지되고, 형광체 스트라이프는 제거되어, 새롭게 형광체 스트라이프를 도포하는 초기공정으로 되돌려진다. 이것에 의해, 예컨대 플라즈마 디스플레이 패널의 불량품을 감소시킬 수 있고, 또한 생산효율의 향상에 도움이 될 수 있다.The coating spot detection unit 14 detects the level of the signal shown in FIG. 2D averaged by the averaging processing unit 13, and judges that the coating spot of the phosphor stripe is absent or acceptable if it is within a predetermined range, and determines the predetermined range. In the case of over, it judges that there is coating unevenness. For example, when applied to an actual product, when the average value level of the luminance signal in the case of being applied almost uniformly is 100%, the level of + 20% or more than this level, or -20% or less If there is more than one thing, it is judged that there is coating unevenness. In addition, this determination level is the worst level, needless to say that it can change suitably according to the kind of object product, the thinking method of a yield rate, etc. If it is determined that there is a coating unevenness, subsequent processing steps are stopped, the phosphor stripe is removed, and the process returns to the initial step of applying a new phosphor stripe. This can reduce, for example, defective products of the plasma display panel, and can also help to improve production efficiency.

또한, 상기 실시예는 구간(Ta)의 휘도 신호의 평균화한 레벨에 대하여 언급하고 있지만, 도포 얼룩을 형광체 스트라이프마다 정량적으로 파악하여, 형광체 스트라이프의 도포공정의 개선에 도움을 주는 것도 가능하다. 이하 이것에 대하여 설명한다. 화상 처리부(8)는 레벨 검출부(12)에서 입력된 화상의 휘도 신호로부터, 최대 휘도, 최소 휘도, 평균치, 편차 등을 산출하고, 그들의 산출 결과에 따라 휘도 얼룩을 정량적으로 검출하여, 검출한 휘도 얼룩의 정보를 표시부(9)에 출력한다. 즉, 도 8b에 도시하는 바와 같이 알맞은 형광체 스트라이프(예컨대 평균치)의 발광 휘도 레벨을 100%로 하고, 이 레벨보다 +20% 이상인 레벨의 것, 또는 -20% 이하인 레벨의 것은 불량이라는 식으로 각 화소의 발광 레벨을 산출하여, 평균치 레벨을 기준으로 하여 각 화소의 발광 레벨의 편차를 산출한다. 이러한 연산을 유리 기판(2)의 전 화소에 대하여 산출하여, 그 최대값, 최소값, 평균치 및 편차 등의 판정 결과로부터 전 화소의 양부의 위치와 개수를 기록하여 관리한다. 이것에 의해 예컨대 플라즈마 디스플레이 패널의 형광체 스트라이프의 도포 얼룩을 정량적으로 평가할 수 있어 도포공정의 개선에 도움을 줄 수도 있다.In addition, although the above embodiment refers to the averaged level of the luminance signal in the section Ta, it is also possible to grasp the coating unevenness quantitatively for each phosphor stripe and to help improve the coating process of the phosphor stripe. This will be described below. The image processing unit 8 calculates the maximum luminance, the minimum luminance, the average value, the deviation, and the like from the luminance signal of the image input from the level detector 12, quantitatively detects the luminance unevenness according to the calculation result, and detects the detected luminance. The spot information is output to the display unit 9. That is, as shown in Fig. 8B, the light emission luminance level of the appropriate phosphor stripe (for example, the average value) is set to 100%, and the level of + 20% or more or the level of -20% or less of this level is defective. The emission level of the pixel is calculated, and the deviation of the emission level of each pixel is calculated based on the average value level. Such calculation is calculated for all the pixels of the glass substrate 2, and the position and number of both parts of all the pixels are recorded and managed from the determination results of the maximum value, the minimum value, the average value, and the deviation. This makes it possible to quantitatively evaluate the coating unevenness of the phosphor stripe of the plasma display panel, for example, to help improve the coating process.

이상, 본 발명에 대하여 상세히 설명했지만, 본 발명은 여기에 기재된 형광체 검사 방법 및 형광체 검사 장치의 실시예에 한정되는 것이 아니라, 상기 이외의 형광체 등이 도포된 것의 검사 방법 및 검사 장치에 널리 적응할 수 있는 것은 말할 필요도 없다. 즉, 형광체는 삼원색뿐만 아니라 그 보색이라도 무방하다. 또한, 바람직하게는 그들 3종의 형광체에 의한 발광이 양호한 화이트 밸런스를 유지하고, 3종의 형광체 각각에 대하여 전자 방사광의 조사 후의 잔광도 짧은 것이면 좋다.As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the Example of the fluorescent substance inspection method and fluorescent substance inspection apparatus described here, It can be widely adapted to the inspection method and inspection apparatus of what fluorescent substance etc. which were apply | coated other than the above were applied. Needless to say. That is, the phosphor may be complementary as well as the three primary colors. In addition, it is preferable that the light emission by these three kinds of phosphors maintains a good white balance, and that the afterglow after irradiation of electron emission light is also short for each of the three kinds of phosphors.

또한, 상기 실시예에서는 전자 방사광으로서 자외선을 예로 들어 설명했지만, 대상의 형광체에 조사했을 때에 발광하는 전자 방사광이면, 전자파, 감마선이나 X선 등의 입자선 등이어도 무방하다.In addition, in the said Example, although the ultraviolet-ray was mentioned as the example of electron emission light, if it is the electron emission light which light-emits when irradiated to the fluorescent substance of object, it may be electromagnetic waves, particle beams, such as gamma rays and X-rays.

본 발명에 의하면, 격벽 등의 비발광 부분에 의한 모아레 현상을 제거할 수 있기 때문에, 형광체 스트라이프 등의 도포 얼룩을 적정하게 검출할 수 있어, 불량품의 검사를 용이하게 실행할 수 있다. 또한, 정량적으로 측정하는 것이 가능해져, 형광체 스트라이프 등의 도포공정의 개선에도 도움을 줄 수 있다. 또한, 자외선조명의 조사 얼룩도 경감할 수 있어, 플라즈마 디스플레이 패널 등의 형광체 스트라이프의 도포 얼룩 검사에 이용하여 매우 효과가 크다.According to the present invention, the moiré phenomenon caused by the non-light-emitting part such as the partition wall can be eliminated, so that coating unevenness such as phosphor stripes can be detected appropriately, and inspection of defective products can be easily performed. In addition, it is possible to measure quantitatively, which can also help to improve the coating process of the phosphor stripe and the like. In addition, irradiated spots of ultraviolet light can be reduced, which is very effective for inspecting spots of coating of phosphor stripes such as plasma display panels.

Claims (10)

기판에 형성된 복수의 스트라이프형상의 형광체에 전자파 또는 입자선을 조사하여 상기 스트라이프형상의 형광체로부터 발광하는 빛을 촬영하고, 상기 촬영된 화상의 신호 레벨을 검출하여, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하고, 상기 산출한 평균치에 근거하여 상기 스트라이프형상의 형광체의 도포 얼룩을 검출하는 것을 특징으로 하는A plurality of stripe-shaped phosphors formed on a substrate are irradiated with electromagnetic waves or particle beams to photograph light emitted from the stripe-shaped phosphors, and a signal level of the photographed image is detected to detect a signal level above a predetermined value of the signal level. The average value of the part corresponded to is computed, and the application | coating spot of the said stripe fluorescent substance is detected based on the calculated average value, It is characterized by the above-mentioned. 형광체 검사 방법.Phosphor screening method. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치의 산출은 소정의 구간마다 산출되는 것을 특징으로 하는The average value of the portion corresponding to the signal level equal to or greater than the predetermined value of the signal level is calculated for each predetermined section. 형광체 검사 방법.Phosphor screening method. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 복수의 스트라이프 형상의 형광체는 R, G, B 형광체 스트라이프 중 적어도 한 종류의 형광체 스트라이프이며, 상기 소정의 구간은 상기 형광체 스트라이프의 반복 주기와 거의 같은 것을 특징으로 하는The plurality of stripe-shaped phosphors are at least one kind of phosphor stripe among R, G, and B phosphor stripe, and the predetermined section is substantially the same as the repetition period of the phosphor stripe. 형광체 검사 방법.Phosphor screening method. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨의 최대값을 검출하여, 상기 최대값 사이를 상기 소정의 구간으로 하는 것을 특징으로 하는Detecting a maximum value of a signal level equal to or greater than a predetermined value of the signal level, and making the predetermined interval between the maximum values. 형광체 검사 방법.Phosphor screening method. 제 1 항에 있어서, 상기 촬영된 화상의 신호 레벨로부터 최대 신호 레벨, 최소 신호 레벨, 평균치 및 편차를 산출하여, 상기 산출 결과에 근거하여 형광체 스트라이프의 도포 얼룩을 검출하는 것을 특징으로 하는 형광체 검사 방법.The method of claim 1, wherein the maximum signal level, the minimum signal level, the average value, and the deviation are calculated from the signal level of the photographed image, and the coating spot of the phosphor stripe is detected based on the calculation result. . 기판에 형성된 복수의 스트라이프형상의 형광체에 전자파 또는 입자선을 조사하는 조사부와, 상기 스트라이프형상의 형광체로부터 발광하는 빛을 촬영하는 촬영부와, 상기 촬영된 화상 신호를 처리하는 화상 처리부로 이루어지는 형광체 검사 장치에 있어서,Phosphor inspection comprising an irradiation section for irradiating electromagnetic waves or particle beams to a plurality of stripe-shaped phosphors formed on a substrate, a photographing unit for photographing light emitted from the stripe-shaped phosphor, and an image processing unit for processing the photographed image signal In the apparatus, 상기 촬영부는 상기 스트라이프의 방향으로 이동하는 라인센서로 이루어지고, 상기 화상 처리부는 상기 촬영된 화상의 신호 레벨을 검출하여, 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하고, 상기 산출한 평균치에 근거하여 상기 스트라이프형상의 형광체의 도포 얼룩을 검출하는 기능을 갖는 것을 특징으로 하는The photographing unit comprises a line sensor moving in the direction of the stripe, the image processing unit detects a signal level of the photographed image, and calculates an average value of a portion corresponding to a signal level of a predetermined value or more of the signal level, It has a function of detecting the coating unevenness of the said stripe-shaped fluorescent substance based on the calculated average value 형광체 검사 장치.Phosphor inspection device. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 화상 처리부는 상기 화상 신호의 소정의 구간마다 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨에 상당하는 부분의 평균치를 산출하는 수단으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는And the image processing unit is constituted by means for calculating an average value of portions corresponding to signal levels equal to or greater than a predetermined value of the signal level for each predetermined section of the image signal. 형광체 검사 장치.Phosphor inspection device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 복수의 스트라이프 형상의 형광체는 R, G, B 형광체 스트라이프 중 적어도 한 종류의 형광체 스트라이프이며, 상기 화상 처리부는 상기 형광체 스트라이프의 반복 주기와 거의 같은 상기 소정의 구간을 검출하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는The plurality of stripe-shaped phosphors are at least one kind of phosphor stripe among R, G, and B phosphor stripes, and the image processing unit includes means for detecting the predetermined section that is substantially equal to a repetition period of the phosphor stripes. By 형광체 검사 장치.Phosphor inspection device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 화상 처리부는 상기 신호 레벨의 소정값 이상의 신호 레벨의 최대값을 검출하여, 상기 최대값 사이를 상기 소정의 구간으로 설정하는 레벨 검출부를 갖는 것을 특징으로 하는And the image processing unit has a level detection unit that detects a maximum value of a signal level equal to or greater than a predetermined value of the signal level and sets the maximum value to the predetermined section. 형광체 검사 장치.Phosphor inspection device. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 화상 처리부는 레벨 검출부와 도포 얼룩 검출부를 갖고, 상기 레벨 검출부는 상기 촬영된 화상의 신호 레벨로부터 최대 신호 레벨, 최소 신호 레벨, 평균치 및 편차를 산출하고, 상기 도포 얼룩 검출부는 상기 산출 결과에 근거하여 형광체 스트라이프의 도포 얼룩을 검출하는 것을 특징으로 하는The image processing unit has a level detection unit and a coating spot detection unit, the level detection unit calculates a maximum signal level, a minimum signal level, an average value and a deviation from the signal level of the photographed image, and the coating spot detection unit is based on the calculation result. Characterized by detecting the coating unevenness of the phosphor stripe 형광체 검사 장치.Phosphor inspection device.
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