KR19990044122A

KR19990044122A - 크기에 따라 기재 구성요소를 분류하는 장치 및 방법

Info

Publication number: KR19990044122A
Application number: KR1019980701355A
Authority: KR
Inventors: 존 리차드 노엘; 마크 랸 리차드스
Original assignee: 레이서 제이코버스 코넬리스; 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
Priority date: 1995-08-25
Filing date: 1996-08-06
Publication date: 1999-06-25
Anticipated expiration: 2016-08-06
Also published as: ES2132950T3; EP0846044B1; DE69602608T2; JPH11513080A; CA2229623C; KR100278955B1; US5558832A; AU6769596A; EP0846044A1; MX9801483A; DE69602608D1; ATE180431T1; WO1997007947A1; CA2229623A1

Abstract

성형 스테이션(9)은 기재를 제조하는데 사용된다. 성형 스테이션(9)은 공기 캐리어로부터의 입자(10)와 섬유(11)를 성형 챔버(40)에 대하여 가동하는 성형 스크린상에 적층하는 성형 챔버(40)를 가진다. 성형 챔버(40) 내측에 공기 캐리어에 대한 속도 구배와 저압 영역을 형성하는 적어도 하나의 배플(42)이 있다. 크기가 다른 기재 구성요소는 다른 운동량을 가지며, 그 결과 속도 구배와 저압 영역에 의해서 다르게 영향을 받는다. 이 차이는 크기가 다른 구성요소를 크기에 따라 분류하게 한다. 그 뒤 분류된 구성요소는 기재내에서 크기에 따라 분포된다.

Description

크기에 따라 기재 구성요소를 분류하는 장치 및 방법

생리대 및 기저귀와 같은 일회용 흡수성 제품은 종종 흡수성 기재(substrate)를 갖는다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이 "기재"는 섬유상 매트릭스를 지칭하는 것이며, 선택적으로 흡수성 미립자 물질을 지칭한다. 섬유상 매트릭스를 형성하는 섬유 및/또는 섬유와 혼합된 입자는 이하 본 명세서에서 "기재 구성요소"로 지칭된다.

섬유는 합성 섬유, 셀룰로우즈 섬유, 복합 섬유 또는 혼합 섬유 및 이들의 층(strata)일 수 있다. 섬유는 티슈, 부직포 물질 등으로 사용될 수 있다.

흡수성 입자는 통상적으로 성형 스테이션을 사용함으로써 섬유상 매트릭스내에 배치 또는 분산된다. 흡수성 물질은 또한 당해 기술분야에 널리 공지되어 있다. 흡수성 입자는 통상적으로 초흡착제, 흡수성 겔링 물질, 초흡수제, 삼투성 흡수 물질 등으로 지칭된다. 이러한 흡수성 입자는 통상적으로 체액을 흡수하는 일회용 흡수 제품에 사용된다. 특히 널리 공지되고 상업적으로 성공한 흡수성 물질은 본 출원인에게 양도된 브란트(Brandt) 등의 미국 재등록 특허 제 32,649 호에 따라 제조될 수 있으며, 상기 특허는 본 명세서에 참고로 인용된다.

종래의 성형 스테이션은 특성 또는 조성이 다른 2 또는 그 이상의 물질의 혼합물, 예를들어 기재를 구성하는 섬유 재료와 흡수 입자 또는 상이한 두 섬유의 혼합물과 같은 혼합물을 이송하여 분배하는데 단일의 공기 흐름을 사용한다. 종래의 성형 스테이션은 Z-방향으로의 다수의 기재 구성요소 집중 영역을 갖는 기재를 생산할 수 없다. 또한 종래의 성형 스테이션은 섬유 크기에 따라 기재 구성요소를 배열할 수 없다.

공기 유입 성형 스테이션(air laying forming station)내에 별개의 공기 흐름을 사용하여 흡수 몸체를 형성하도록 흡수성 입자와 섬유 물질을 이송하는 것이, 예를들어 브리슨(Bryson)에게 허여된 미국 특허 제 4,927,582 호에 제안되었다. 브리슨의 특허에서는, 송풍기(48)가 흡수성 입자(28)를 하나 또는 그 이상의 파이프 라인 도관(20)을 거쳐 성형 챔버(10)속으로 이동시킨다. 진공 소오스(32)가, 섬유상 물질(14)을 성형 스크린(30)을 향하여 견인하는 화살표(36)로 지시되는 방향의 공기 흐름을 생성한다. 배플(34)이 대향하는 측벽에 부착되어 웹(web)(41)에 걸쳐 흡수 입자의 교차 방향 분배를 조절하는데 사용된다. 종래의 공기 유입 성형 스테이션은, 구획된 집중 또는 가변성 집중과는 대조적으로, 섬유상 매트릭스에 흡수 입자의 균일한 혼합을 제공하는 경향을 간단히 극복할 수 없다.

그러나, 기재 구성요소의 균질성 혼합은 필요불가결하거나 심지어 일반적이지 조차 않으며, 유체 제어 특성을 최적화하기 위한 흡수성 물질과 섬유의 가장 바람직한 배열이다. 이와는 대조적으로, 기재의 일측면상에 보다 큰 기재 구성요소, 특히 흡수성 물질을 기재의 일 측부상에 가져 이것을 사용할 때 유체의 제 1 손상을 수용하여 부적합한 겔 차단(gel blocking)이 일어나지 않게 하는 것이 중요할 수 있다. 또한, 섬유상 기재 구성요소내의 Z방향 기공 크기의 구배(gradent)는 체액을 흡수하는 것을 보조할 수 있다.

반대로, 예를들어 일회용 기저기에서, 보다 큰 크기의 흡수성 입자가 기재의 착용자측 측면상에 많이 집중되도록 하는 것이 바람직할 것이다. 이것은 보다 큰 입자가 더 작은 입자보다 액체를 천천히 흡수하는 경향이 있기 때문이다. 크기에 따른 입자의 배열은 유체가 흡수성 물질에 의해서 흡수되기 전에 기재속으로 더 깊숙히 침투하게 하며 그 결과 겔 차단이 야기되는 경향을 감소시킨다.

또한, 순수 섬유와 같은 섬유상 물질을 크기에 따라 분리하는 것이 바람직할 것이다. 종종 섬유상 물질은 덩어리를 형성하며, 이것은 바람직스럽지 못하게 기재 전체에 걸쳐 불규칙하게 분산될 것이다. 또한, 보다 큰 기재 구성요소가 유체가 수용되는 일회용 흡수제품의 중심에 보다 집중되도록 또한 보다 작은 기재 구성요소가 일회용 흡수제품의 가장자리에 보다 많이 집중되도록, 일회용 흡수제품내에 기재 구성요소를 배열하는 것이 바람직하다.

따라서, 본 발명의 목적은 상기 기재 구성요소의 크기에 따라 섬유상 매트릭스 전체에 걸쳐 흡수성 입자 및/또는 섬유상 물질을 분류하고 배분하는 성형 스테이션을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 임의의 소망 폭의 섬유상 매트릭스내에 흡수성 입자로 된 기재를 제조할 수 있는 상기 성형 스테이션을 제공하여 경제적인 크기를 얻을 수 있게 하는 것이다. 끝으로, 본 발명의 목적은 쉽게 조절될 수 있는 상기 성형 스테이션을 제공하여 입자 크기에 대한 변형 및/또는 섬유상 물질 분류 동작의 변형이 쉽게 달성될 수 있게 하는 것이다.

발명의 요약

본 발명은 크기가 다른 입자와 같은 기재 구성요소를 섬유 매트릭스에 분산시키는 성형 스테이션을 포함한다. 성형 스테이션은 기계방향, 기계방향에 평행한 종방향 중심선, 기계방향에 수직한 횡 기계방향, 및 기계방향과 횡 기계방향에 상호 직교하는 Z방향을 가진다. 성형 스테이션은 성형 챔버와 성형 챔버에 대하여 기계방향으로 가동하는 성형 스크린을 더 포함한다. 성형 스크린은 성형 챔버로부터 기재 구성요소를 수납한다. 기재 구성요소, 전형적으로 섬유를 성형 스크린상에 분배하는 적어도 하나의 재료 분배기가 있다. 또한 성형 챔버에 배치된 적어도 하나의 배플이 있다. 배플은 기재 구성요소의 횡방향 흐름을 발생시킨다. 배플은 저압 영역을 형성함으로써 그 사이에 차동 압력을 가지며 그 결과, 속도 구배를 가진다. 속도 구배는 성형 스크린의 평면에 평행항 다른 속도 성분을 갖기 때문에 성형 스크린상의 다른 위치로 다른 크기의 구성요소를 배치되게 한다. 진공은 성형 스크린전역에 걸쳐 아래에 적용되어 차동 압력을 야기할 수 있다.

일 실시예에 있어서, 배플은 성형 챔버의 전방벽 또는 성형 챔버의 후방벽에 인접하여 배치될 수 있어서 입자를 그들의 크기에 따라 균일하게 배분하게 한다. 다른 실시예에 있어서, 배플은 성형 챔버의 하나 또는 그 이상의 측벽을 따라 배치될 수 있어서 입자 및/또는 섬유상 물질은 입자 크기에 따라 횡 기계방향으로 배치된다.

본 발명은 섬유상 매트릭스(fibrous matix)의 구성요소용 성형 스테이션에 관한 것으로 특히, 크기에 따라 구성요소를 분류할 수 있는 성형 스테이션에 관한 것이며, 보다 상세하게는 크기가 다른 구성요소를 섬유상 매트릭스내의 다른 위치에 배치할 수 있는 성형 스테이션에 관한 것이다.

도 1은 종래 기술에 따른 상기 성형 스테이션의 사시도,

도 2는 이동 스크린 아래의 구동 모터와 진공 소오스가 명료성을 위해 생략된 본 발명에 따른 성형 스테이션의 측면도,

도 3은 도 2의 성형 스테이션상에서 제조된 기재의 부분 단면도,

도 4는 중앙 배플을 갖는 성형 스테이션을 단순화한 측면도,

도 5는 도 4의 성형 스테이션상에서 제조된 기재의 부분 종단면도,

도 6a는 입자 크기 구배를 횡 기계방향으로 형성하는 성형 스테이션을 단순화한 측면도,

도 6b는 기재내에 두 기계방향 배향 스트립과, 횡 기계방향으로의 상대적인 기재 구성요소 크기 변화 분포를 형성하는 두 개의 배플 시스템의 개략적인 대표도,

도 6c는 두 개의 배플이 성형 챔버의 측벽에 인접하여 배치되어 있고, 기재내에 두 기계방향 배향 스트립과, 횡 기계 방향으로의 상대적인 기재 구성요소 크기 변화 분포를 형성하는, 세 개의 배플 시스템의 개략적인 대표도,

도 7은 도 6a의 성형 스테이션상에서 제조된 기재의 부분 종단면도.

도 1은 종래기술에 따른 성형 스테이션(9)를 도시하고 있다. 섬유(11)가 플리넘(plenum)(12)에 제공된다. 섬유(11)는 플리넘(12)에서 송풍기(16)로부터 연장된 두 개의 입력관(14)으로 분리된다. 섬유(11)는 입력관(14)을 통해 이동하여 실린더형 물질 분배기(20)내로 들어간다. 두 개의 물질 분배기(20)가 도시되어 있지만, 공기가 통과하여 흐르는 물질 분배기(20)를 적어도 하나 이상 갖는 어떤 실시예도 적합하다. 섬유(11)의 균일한 분배를 촉진하기 위해서, 물질 분배기(20)는 내통관(cross-over tube)(22)에 의해서 상호접속된다. 섬유(11) 및/또는 입자(10)(존재하는 경우)가 두 개의 물질 분배기(20)를 통해서 이동할 수 있고, 중력 및 바람직하게는 진공에 의해서 그 아래의 성형 스크린(26)상에 배치된다. 성형 스크린(26)은 물질 분배기(20)에 대하여 기계방향으로 이동한다. 명료성을 위해, 섬유(11)가 성형 스크린(26)상에 배치되는 것을 돕기 위하여 성형 스크린(26)을 가로질러 그 아래에 진공이 제공되는 것이 바람직하다.

도 2는 크기에 따라 입자(10)를 분류하는데 특히 유용한 본 발명에 따른 성형 스테이션(9)을 도시하고 있다. 성형 스테이션(9)은 횡 기계방향으로 가변되는 폭을 수용할 수 있다. 성형 스테이션(9)은 또한 전방벽(30), 후방벽(32) 및 전방벽과 후방벽을 연결하는 측벽(34)을 가진다. 전체적으로, 전방벽, 후방벽, 측벽(30, 32, 34)은 성형 챔버(40)를 제공하도록 결합되어 있다. 물론, 다른 형상의 성형 챔버(40)도 역시 가능하다. 배플(baffle)(42)이 성형 챔버(40) 내측에 있다. 배플(42)은 흡수성 입자(10)를 성형 챔버(40)내로, 물질 분배기(20) 아래로 또한 성형 스크린(26)상으로 안내한다. 통상적으로 흡수성 입자(10)인 기재 구성요소는 배플(42)의 상부(44)에 입력되고, 그 뒤 중력과 진공에 의해서 성형 스크린(26)에 공급된다. 선택적으로, 흡수성 입자(10)는 물질 분배기(20)를 통하여 입력될 수 있다.

본 발명에 따른 일 실시예에 있어서, 섬유상 물질(10)만을 크기에 따라 분류하는 것이 바람직할 수 있다. 이것은 도 4와 도 6a에 도시된 바와 같이 물질 분배기(20)와 가동 성형 스크린(26) 사이에 배플(42)을 개재함으로써 달성될 수 있다.

이 배열은 기재 구성요소(10, 11)를 크기에 따라 에정된 적절한 위치에 배치함으로써 유체 처리 특성이 최적화될 수 있는 상술된 바와 같은 장점을 제공한다. 물론, 흡수성 입자(10)가 또한 성형 챔버(40)안에 존재하는 경우에 성형 스테이션(9)은 섬유상 물질(10)을 크기에 따라 분류하는데 사용될 수 있다.

배플(42)는 도 2에 도시된 바와 같이 전방 벽(30)에 인접하여 배치되거나 또는 전방 벽에 나란히 놓일 수 있다. 대안적으로, 당해기술분야의 숙련자들은 배플(42)이 후방 벽(32)에 인접하거나 후방벽에 나란히 놓일 수 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 전방벽(30) 및 후방벽(32)에 각각 인접한 두 개의 배플(42)이 설치될 수 있다. 배플(42)은 아치형으로 형성되거나, 도시된 바와 같이 서로에 대하여 소정 각도로 결합된 복수개의 직선 영역을 가질 수 있다. 적당한 배플(42)은 본 명세서에 참고로 인용되는 본 출원인에게 양도된 1995년 8월 29일 특허된 미국 특허 제 5,445,777 호에 따라 제조될 수 있다.

배플(42)은 배플(42)의 아래측 및 후측에 저압 영역(50)을 형성한다. 저압 영역(50)은 성형 챔버(40)내에서 흡수성 입자(10)와 같은 기재 구성요소를 이동시키는 공기 흐름에 속도 구배를 야기한다. 크기가 보다 큰 기재 구성요소(10)는 질량이 크기 때문에 운동량도 보다 커진다. 그러므로, 보다 큰 기재 구성요소(10)는 더 작은 크기의 흡수성 입자(10, 11)보다 공기 흐름에 의한 영향을 덜 받는다. 이 효과는 통상 더 작은 크기의 기재 구성요소(10, 11)를 배플(42) 아래 및 근처 위치의 성형 스크린(26)상에 배치되게 한다.

더 작은 기재 구성요소(10, 11)는 보다 고속의 공기에 의해서 저압 영역(50)으로 견인된다. 이 견인은 보다 작은 크기의 기재 구성요소(10, 11)가 보다 큰 크기의 기재 구성요소(10, 11)로부터 분류되어 배플(42)에 의해서 형성된 저압 영역(50) 아래로 분배되게 한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 이러한 속도 구배는 성형 스테이션(9)이 보다 작은 크기의 기재 구성요소(10, 11)를 기재(13)의 바닥부에 그리고 보다 큰 기재 구성요소(10, 11)를 기재(13)의 상부에 배치하도록 한다.

배플(42)의 말단부(46)는 흡수성 입자(10)의 분류 및 배분을 최적화하도록 조절될 수 있다. 예를들어, 배플(42)의 말단부(46)는 보다 수평되게 즉, 기계방향 및 횡 기계방향 축에 대하여 보다 평행하게 배향될 수 있다. 이 배향은 상이한 기재 구성요소(10, 11)의 분리를 증가시키는 효과를 가진다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, "분리"는 기재(13)에 있어서 입자(10)로부터의 섬유(11)의 Z 방향의 분포량을 지칭한다.

또한, 배플(42)의 말단부(46)는 길게 되거나 또는 짧게 될 수 있다. 배플(42)의 말단부(46)가 길게 되거나 짧게 될 때, 입자(10)는 각각 기재(13)내에서 상방 또는 하방으로 이동될 것이다. 성형 스크린(26)위 배플(42)의 말단부(46) 높이가 증가함에 따라, 기재(13)내에서 입자(10)의 분리가 보다 많이 야기된다.

배플(42)을 성형 스테이션(9)의 후방벽(32)과 배플(42)을 병렬 배치함으로써 도시된 배열을 반대로 하는 것은 당해기술분야의 숙련자들에게 자명할 것이다. 이 배열은 보다 작은 기재 구성요소(10, 11)가 상술한 바와 같이 기재(13)의 바닥부에 배치되는 것이 아니라 기재(13)의 상부에 배치되게 할 것이다.

보다 크거나 또는 보다 작은 기재 구성요소(10, 11)를 기재(13)의 어느 면상에 배치하는 것은 기재(13)의 Z방향 전체에 걸쳐 대체로 단조로운(monotonic) 기재 구성요소(10, 11)의 분포를 제공한다. 단조롭지 않은(non-monotonic) 분포는 도 4에 도시되어 있는 바와 같은 성형 스테이션(9)에 의해서 달성될 수 있다.

도 4의 성형 스테이션(9)에서, 배플(42)은 두 개의 물질 분배기(20) 사이 및 그 아래에 배치되어 있다. 배플(42)은 일반적으로 물질 분배기(20)의 중앙에 위치된다. 이 배열은 저압 영역(50)이 기계방향에 대해 성형 챔버(50)의 중앙에 발생되게 하여, 도 5의 기재(13)를 생성한다.

물론, 전술한 실시예와 일치하게, 저압 영역(50)은 성형 챔버(50)의 실질적으로 횡 기계방향을 가로지르는 폭 방향으로 발생된다. 이 배열을 사용하면, 보다 작은 크기의 기재 구성요소(10, 11)가 저압 영역(50)으로 견인되어 두 개의 고압 영역 사이에 위치된다. 이 배열은 보다 큰 기재 구성요소(10, 11)를 흡수성 기재(13)의 외측 영역에 배치되게 하는 한편, 보다 작은 기재 구성요소(10, 11)를 흡수성 기재(13)의 중심 부근에 배치되게 한다. 이 배열은 기재(13)로부터의 기재 구성요소(10, 11) 특히 입자(10)의 먼지 오염(dusting)을 감소시키는데, 이는 보다 작은 기재 구성요소(10, 11)가 기재(13)의 중심에 위치되기 때문이다.

중앙 배플(42)은 이것을 기계방향으로 더 길게 함으로써 조절될 수 있다. 중앙 배플(42)이 기계방향으로 더 길게 됨에 따라, 입자(10) 분리가 증가한다. 배플(42)의 횡 기계방향 중심선이 기계방향의 하류방향으로 이동함에 따라 보다 작은 기재 구성요소(10, 11)가 보다 큰 기재 구성요소(10, 11)에 대하여 기재(13)의 상측으로 이동된다.

도 6a 내지 도 6c를 참조하면, 성형 스테이션(9)은 복수개의 배플(42)을 구비하여, 저압 영역(50)을 성형 스테이션(9)의 양 횡 기계방향 에지부와 나란하게 배치시킬 수 있다. 복수개의 저압 영역(50)은 바람직하게는 성형 챔버(50)의 기계방향의 전체 길이를 따라 나타난다. 도 6b의 복수개의 배플(42) 배열은 보다 작은 기재 구성요소(10, 11)를 성형 스테이션(9)의 중심 및 외측부로 견인되게 한다. 이 배열은 결과적으로 기재 구성요소(10, 11)의 크기 분포가 전술한 바와 같이, Z방향보다 오히려 횡 기계방향으로 나타나게 한다. 생성된 기재(13)의 한 반복 유닛이 도 7에 도시되어 있다.

보다 상세하게는, 성형 스테이션(9)이 성형 챔버(40)의 측벽(34)에 인접하여 배치되지 않은 적어도 두 개의 배플을 구비할 수 있다.

도 6b를 참조하면, 복수개인 n개의 배플(42)이 사용되고 배플(42)이 측벽(34)을 따라 배치되지 않은 경우, 기재 구성요소(10, 11)의 기계방향으로 배향된 n개의 스트립의 횡 기계방향 분포가 나타날 것이다.

도 6c를 참조하면, n개의 배플(42)이 제공되고, 각 측벽을 따라 하나의 배플(42)이 배치되고 적어도 하나의 중간 배플(42)이 배치된 경우, 기계방향으로 배향된 n1개의 스트립이 나타날 것이다.

배플(42)의 배열 및 생성된 기재 구성요소(10, 11)의 기계방향 스트립이, 성형 스테이션(9)의 종방향 중심선을 중심으로 대칭이 될 수 있다는 것은 당해 기술분야의 숙련자들에게는 자명할 것이다. 물론, 횡방향 비대칭 설계가 당해 기술분야에서 바람직하지 않기 때문에 각 기계방향 스트립이 대칭이다. 물론, 도 6b와 6c가 2개 및 3개의 배플(42)을 각각 도시하고 있지만, 배플(42)의 수는 임의의 소망 개수로 증가될 수 있다.

도 6a의 성형 챔버(40)의 배플(42)은 경우에 따라서 더 길거나 더 짧게 만들 수 있다. 배플(42)의 횡 기계방향 폭이 증가함에 따라, 기재 구성요소(10, 11)의 분리가 보다 많이 발생된다. 일반적으로, 생성된 일회용 흡수성 제품에 대칭이 유지되도록 중앙 배플(42)의 횡 기계방향 폭은 외측 배플(42)의 횡 기계방향 폭의 약 2배가 되어야 한다.

도 6b의 성형 챔버(40)는 이중 배플(42)이 전방벽(30)과 후방벽(32)에 나란하게 배치되도록 Z-축을 중심으로 90°회전될 수 있다는 것이 당해 기술분야의 숙련자들에게는 자명할 것이다. 이 배열은 보다 큰 구성요소(10, 11)가 Z-방향으로 단면을 취했을 때, 기재(13)의 중심에 또한 기재(13)의 외측면을 따라 분포되게 할 수 있을 것이다. 그러나, 상대적으로 보다 큰 기재 구성요소(10, 11)의 중앙과 두 외측 영역 사이에 상대적으로 작은 기재 구성요소(10, 11)의 두 영역이 개재되면, 5개 영역의 기재가 형성되는데, 여기서 비교적 큰 기재 구성요소(10, 11)를 갖는 3개와 비교적 작은 기재 구성요소(10, 11)를 갖는 2개가 교호적으로 배치된다.

기재 구성요소(11)로서 흡수성 입자(10)를 사용하는 대신에, 본 발명의 사용이 요구되는 어떠한 미립자 물질(11)이 본 명세서에 기재된 성형 스테이션(9)에 적용될 수 있다. 예를들어, 성형 스테이션(9)은 냄새 제어 입자(10), 유기 입자(10), 또는 종이제조에 사용되는 무기 필러 입자(inorganic filler particles)(10)를 분산시키는데 유용할 수 있다. 또한, 이산화 티타늄 또는 점토와 같은 불투과체가 입자(10)로 사용될 수 있다. 물론, 배플(42)은 이러한 입자(10)의 질량비에 대한 밀도 및 표면적에 대해서 조절되어야 한다.

Claims

상이한 크기의 입자들을 섬유의 매트릭스내에 분산시킴으로써 상기 섬유 및 상기 입자로 된 기재를 형성하고, 기계방향 및 상기 기계방향에 수직한 횡 기계방향을 갖는, 성형 스테이션에 있어서,

성형 챔버와,

상기 입자와 상기 섬유를 수용하며, 상기 성형 챔버에 대해 기계방향으로 가동하는 성형 스크린과,

상기 섬유를 상기 성형 스크린상에 분배하는 적어도 하나의 물질 분배기와,

상기 성형 스크린상에 상기 입자를 분배하기 위해서 상기 성형 챔버내에 배치된 적어도 하나의 배플로서, 상기 배플은 그 전역에 걸쳐 차동 압력(differential pressure)을 가지기 때문에, 저압 영역을 형성하며, 상기 저압 영역은 상기 입자에 속도 구배를 발생시키고, 상기 속도는 성형 스크린의 평면에 대하여 평행한 성분을 가지며, 상기 배플은 상기 기재의 두께 전체에 걸쳐 상기 입자의 크기에 따라 상기 기재 구성요소의 단조로운(monotonic) 분포를 형성하는, 상기 적어도 하나의 배플을 포함하는 성형 스테이션.
상이한 크기의 입자들을 섬유의 매트릭스내에 분산시킴으로써 상기 섬유와 상기 입자로 된 기재를 형성하고, 기계방향에 대체로 평행한 두 개의 측벽에 의해서 결합되는 전방벽과 후방벽을 가지며, 횡 기계방향은 상기 기계방향에 수직한, 성형 스테이션에 있어서,

성형 챔버와,

상기 입자와 상기 섬유를 수용하며, 상기 성형 챔버에 대해 상기 기계방향으로 가동하는 성형 스크린과,

상기 섬유를 상기 성형 스크린상에 분배하는 적어도 하나의 물질 분배기와,

상기 성형 챔버내에 배치되는 적어도 하나의 배플로서, 상기 배플은 그 전역에 걸쳐 차동 압력을 가짐으로써, 상기 입자에 상기 성형 스크린의 면에 평행항 속도 성분을 생성하며, 상기 성형 챔버의 전방벽 또는 후방벽에 인접하게 배치됨으로 인해, 상기 기재의 두께에 걸쳐 상기 입자의 크기에 따라 상기 기재 구성요소의 단조로운 분포를 형성하는, 상기 적어도 하나의 배플을 포함하는 성형 스테이션.
상이한 크기의 입자들을 섬유의 매트릭스내에 분산시킴으로써 상기 섬유와 상기 입자로 된 기재를 형성하고, 기계방향에 대체로 평행한 두 개의 측벽에 의해서 결합되는 전방벽과 후방벽을 가지며, 횡 기계방향은 상기 기계방향에 수직하고, 종방향 중심선은 상기 기계방향에 평행한 성형 스테이션에 있어서,

성형 챔버와,

상기 입자와 상기 섬유를 수용하며, 상기 성형 챔버에 대해 상기 기계방향으로 가동하는 성형 스크린과,

상기 섬유를 상기 성형 스크린상에 분배하는 적어도 하나의 물질 분배기와,

상기 성형 챔버안에 배치되는 복수개인 n개의 배플로서, 상기 각 배플은 그 전역에 걸쳐 차동 압력을 생성하여 상기 입자에 상기 성형 스크린의 면에 평행한 속도 성분을 형성하며, 상기 n개의 배플은 보다 작은 입자가 속도 구배에 의해서 더 큰 영향을 받도록 상기 성형 챔버안에 상기 속도 구배를 형성하며, 상기 입자는 2개 이상 n1개의 횡 기계방향 분포로 배치되며, 상기 배플은 상기 성형 스테이션의 상기 종방향 중심선을 중심으로 대칭적으로 배치되는, 상기 n개의 배플을 포함하는 성형 스테이션.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 배플은 상기 배플과 상기 가동 성형 스크린 사이에 저압 영역을 형성하고, 바람직하게는 상기 저압 영역이 상기 적어도 하나의 배플 아래에 있는 것을 특징으로 하는 성형 스테이션.
제 3 항에 있어서,

적어도 3개의 상기 배플을 포함하며, 상기 배플 중 두 개는 상기 측벽에 각각 나란하게 배치되며, 상기 배플 중 적어도 하나는 상기 측벽과 나란한 상기 배플 중간에 배치되며, 바람직하게는 상기 성형 스테이션은 상기 성형 챔버의 양 측벽을 따라 각각 배치된 2개의 배플과 적어도 하나의 중간 배플을 가지며, 상기 n개의 배플은 상기 입자를 입자 크기에 따라 n1개의 횡 기계방향 분포로 분배시키는 성형 스테이션.
상이한 크기의 섬유상 물질을 기재내에 분산시키며, 기계방향 및 상기 기계방향에 수직한 횡 기계방향을 갖는 상기 성형 스테이션에 있어서,

성형 챔버와,

상기 섬유상 물질을 수용하며, 상기 성형 챔버에 대해 상기 기계방향으로 가동하는 성형 스크린과,

상기 섬유상 물질을 상기 성형 스크린상에 분배하는 적어도 하나의 물질 분배기와,

상기 적어도 하나의 물질 분배기와 상기 성형 스크린 사이에 개재된 적어도 하나의 배플로서, 상기 배플은 그 전역에 걸쳐 차동 압력을 가짐에 의해 저압 영역을 형성하며, 상기 저압 영역은 성형 스크린의 면에 평행한 성분을 갖는 섬유상 물질내의 속도 변화를 발생시키며, 이것에 의해 상기 배플은 상기 기재의 두께에 걸쳐 상기 입자의 크기에 따른 상기 기재 구성요소의 단조로운 분포를 형성하는 상기 배플을 포함하며, 바람직하게는 상기 성형 챔버는 전방벽, 후방벽, 및 적어도 하나의 측벽을 가지며, 상기 적어도 하나의 배플은 상기 전방벽 또는 상기 후방벽과 나란하며, 더 바람직하게는 상기 전방벽과 상기 후방벽을 따라 각각 배치되는 두 개의 배플을 포함하며, 가장 바람직하게는 상기 섬유상 물질과 입자를 분배하는 수단을 더 포함하는 성형 스테이션.
크기에 따라 기재 구성요소를 분류하여 기재를 형성하는 방법에 있어서,

기계방향, 상기 기계방향과 일치하는 종방향 중심선, 및 상기 기계방향에 수직한 횡 기계방향을 가지며, 또한 성형 챔버, 상기 성형 챔버에 대하여 상기 기계방향으로 가동하며 상기 기재의 구성요소를 수용하기에 적합한 성형 스크린과, 기재 구성요소를 상기 성형 스크린상에 분배하는 적어도 하나의 물질 분배기, 및 상기 성형 스크린상에 기재 구성요소를 분배하기 위해서 상기 성형 챔버안에 배치된 적어도 하나의 배플을 포함하는 성형 스테이션을 제공하는 단계와,

상기 배플과 상기 성형 스크린 중간에 저압 영역을 형성하는 차동 압력을 상기 적어도 하나의 배플을 전역에 걸쳐 야기시키는 단계와,

기재 구성요소를 상기 성형 챔버내에 제공함으로써, 상기 차동 압력과 중력이 상기 기재 구성요소를 상기 성형 스크린상에 배치되게 하며, 상기 배플이 상기 기재 구성요소에 상기 성형 스크린에 평행한 속도 성분을 형성하며, 상기 기재 구성요소의 속도 구배는 상기 평행한 속도 성분을 가지며, 상이한 크기의 기재 구성요소가 상기 기재의 두께 전체에 걸쳐 단조롭게 분포되는 단계를 포함하는 크기에 따라 기재 구성요소를 분류하여 기재를 형성하는 방법.
제 7 항에 있어서,

상기 기재 구성요소를 제공하는 단계는 상기 물질 분배기내에 섬유를 제공하는 단계를 포함하며, 바람직하게는 상기 배플이 예정된 높이를 가지며, 상기 기재 구성요소 제공 단계는 상기 배플의 높이보다 높은 위치에서 흡수성 입자를 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 크기에 따라 기재 구성요소를 분류하여 기재를 형성하는 방법.
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,

상기 성형 챔버는 전방벽, 후방벽, 및 두 개의 측벽을 포함하며, 상기 적어도 하나의 배플을 제공하는 단계는 전방벽 또는 측벽에 인접하게 상기 배플을 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 크기에 따라 기재 구성요소를 분류하여 기재를 형성하는 방법.