KR102802111B1 - Shortwave radiation source with multi-section collector module - Google Patents
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Abstract
방사선 소스는 방출 플라즈마를 갖는 진공 챔버 내에 위치한 광학 컬렉터를 포함하는 컬렉터 모듈을 포함하고, 바람직하게는 여러 개의 동일한 거울로 구성된, 광학 컬렉터로 향하는, 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔을 출력하도록 배열된 적어도 2 개의 케이싱을 포함하는 파편 저감 수단을 더 포함한다. 각 케이싱 외부에는 파편 입자들의 하전 부분을 저감하고 파편 없는 단파장 방사선의 공심 빔을 제공하기 위해 케이싱 내부에 자기장을 생성하는 영구 자석이 있다. 다른 파편 저감 기술이 추가로 사용된다. 바람직하게는 플라즈마는 레이저 빔의 초점 영역으로 회전 타겟 조립체에 의해 공급되는 액체 금속 타겟의 레이저 생성 플라즈마이다. 본 발명의 기술적 결과는 큰, 바람직하게는 0.25 sr 이상의, 수집 입체각을 갖는 단파장 방사선의 고강력 고휘도의 파편 없는 소스를 제조하는 것이다.The radiation source comprises a collector module comprising an optical collector positioned within a vacuum chamber having an emitting plasma, and further comprises debris reduction means comprising at least two casings arranged to output a fragment-free hollow beam of shortwave radiation towards the optical collector, preferably comprising a plurality of identical mirrors. Outside each casing are permanent magnets which generate a magnetic field within the casing to reduce the charged fraction of the debris particles and provide a fragment-free hollow beam of shortwave radiation. Other debris reduction techniques are additionally used. Preferably the plasma is a laser-generated plasma of a liquid metal target supplied by a rotating target assembly into the focal region of the laser beam. The technical result of the present invention is the production of a high intensity, high brightness, fragment-free source of shortwave radiation having a large collection solid angle, preferably greater than 0.25 sr.
Description
[0001] 본 발명은 대략 0.4 내지 200 nm의 파장에서 연성 X- 선(soft X- ray), 극자외선(extreme ultraviolet, EUV) 및 진공 자외선(vacuum ultraviolet, VUV) 방사선을 발생시키도록 설계된 고휘도 방사선 소스 및 방사선 수집 방법에 관한 것으로, 이는 고출력 광원 및 이의 통합 장비의 장기간 작동을 보장하기 위해 큰 수집 각도에서 매우 효과적인 파편 저감(debris mitigation)을 제공한다.[0001] The present invention relates to a high brightness radiation source and radiation collection method designed to generate soft X-rays, extreme ultraviolet (EUV) and vacuum ultraviolet (VUV) radiation at wavelengths of about 0.4 to 200 nm, which provides very effective debris mitigation at large collection angles to ensure long-term operation of the high brightness light source and its integrated equipment.
[0002] 고강도의 연성 X-선, 극자외선(EUV) 및 진공 자외선(VUV) 범위의 방사선 소스는 현미경, 생의학, 의료 진단, 재료 테스트, 나노 구조 분석, 원자 물리학 및 리소그래피와 같은 많은 분야에서 사용된다.[0002] High-intensity soft X-ray, extreme ultraviolet (EUV) and vacuum ultraviolet (VUV) range radiation sources are used in many fields such as microscopy, biomedicine, medical diagnostics, materials testing, nanostructure analysis, atomic physics and lithography.
[0003] 연성 X-선(0.4-10 nm), EUV(10-20 nm) 및 VUV(20-120 nm) 범위에서 효과적으로 방출되는 플라즈마는 고출력 레이저의 방사선을 타겟에 집중시키는 것과 방전에서 얻을 수 있다.[0003] Plasmas that are efficiently radiated in the soft X-ray (0.4-10 nm), EUV (10-20 nm) and VUV (20-120 nm) ranges can be obtained by focusing radiation from high-power lasers onto a target and by discharges.
[0004] 2013년 8월 22일에 국제공개번호 WO 2014/001071로 공개된 국제 특허 출원 РСТЕР에는 방사선 생성 플라즈마에 의해 생성된 방사선을 수집하고 생성된 방사선을 지향시키는 컬렉터;를 포함하고, 나아가 플라즈마 방사선 빔에서 적외선 레이저 방사선을 억제하기 위한 수단을 추가로 포함하는 컬렉터 모듈을 갖는 레이저 생성 플라즈마(laser-produced plasma, LPP) EUV 광원이 공지되어 있다.[0004] International patent application РСТЕР, published on August 22, 2013 under the international publication number WO 2014/001071, discloses a laser-produced plasma (LPP) EUV light source having a collector module for collecting and directing radiation generated by a radiation-producing plasma, and further comprising means for suppressing infrared laser radiation from the plasma radiation beam.
[0005] LPP EUV 광원은 고휘도를 특징으로 한다. 그러나, LPP EUV 광원의 긴 수명을 보장하기 위해 파편으로부터 광학 컬렉터를 보호하는 문제점이 있다.[0005] The LPP EUV light source is characterized by high brightness. However, there is a problem of protecting the optical collector from debris to ensure a long life of the LPP EUV light source.
[0006] 방사선 소스 작동 동안 플라즈마의 부산물로 생성된 파편은 플라즈마 연료 물질의 고에너지 이온, 중성 원자 또는 증기 및 클러스터의 형태일 수 있다. 파편 입자는 방사선 소스 근처에 위치한 하나 또는 여러 개의 컬렉터 미러로 구성될 수 있는 컬렉터 광학 장치를 훼손한다. 컬렉터 미러에 쌓이는 미세 방울 및 입자가 컬렉터 미러의 반사 계수를 감소시킨다는 사실 외에도, 고속 입자는 컬렉터 미러 및 컬렉터 미러 뒤에 있을 수 있는 광학 시스템의 다른 부품들을 손상시킬 수 있다. 따라서 파편이 없는 단파장 방사선의 고휘도 광원을 개발하는 것이 시급하다.[0006] During the operation of the radiation source, debris generated as a by-product of the plasma may be in the form of high-energy ions, neutral atoms, or vapors and clusters of the plasma fuel material. The debris particles damage the collector optical device, which may consist of one or more collector mirrors located near the radiation source. In addition to the fact that the microdroplets and particles accumulating on the collector mirror reduce the reflection coefficient of the collector mirror, the high-velocity particles may damage the collector mirror and other components of the optical system that may be located behind the collector mirror. Therefore, there is an urgent need to develop a high-brightness light source of short-wavelength radiation without debris.
[0007] 2013년 8월 22일 국제공개번호 WO/2013/122505로 공개된 국제 특허 출원 PCT/RU2012/000701에는, 레이저-트리거 방전 플라즈마 EUV 광원이 공지되어 있다. 집속된 레이저 빔은 전극 중 하나에 지향되어 레이저 트리거 방전이 비대칭적이고 대부분 구부러진 바나나 형상을 가지도록 한다. 이러한 방전의 고유한 자기장은 좀 더 약한 자기장의 영역으로 방전 플라즈마의 우세한 움직임을 결정하는 구배를 갖는다. 플라즈마 흐름의 방향은 광학 컬렉터의 방향과 크게 다르다. 높은 방사선 파워를 얻기 위해, 방전은 높은 펄스 반복률로 발생된다. 본 발명은 하전 입자의 간단하고 매우 효과적인 저감을 제공한다.[0007] In international patent application PCT/RU2012/000701, published on August 22, 2013 as international publication number WO/2013/122505, a laser-triggered discharge plasma EUV source is known. A focused laser beam is directed onto one of the electrodes such that the laser-triggered discharge has an asymmetrical and mostly curved banana shape. The inherent magnetic field of this discharge has a gradient which determines the predominant movement of the discharge plasma towards the region of weaker magnetic field. The direction of the plasma flow is significantly different from the direction of the optical collector. In order to obtain high radiation powers, the discharge is generated at a high pulse repetition rate. The invention provides a simple and very effective reduction of charged particles.
[0008] 그러나, 중성 입자 및 클러스터의 억제는 보다 정교한 파편 저감 기술의 사용을 필요로 한다.[0008] However, suppression of neutral particles and clusters requires the use of more sophisticated fragmentation reduction techniques.
[0009] 연성 X-선, EUV 및 VUV 범위에서의 광 발생은 레이저 생성 플라즈마의 사용에서 가장 효과적이다. 최근 몇 년 동안 LPP 방사선 소스의 개발은 7nm 노드 이하의 집적 회로(IC)의 대량 제조를 위한 투사 극자외선 리소그래피의 개발로 크게 고무되었다.[0009] Photogeneration in the soft X-ray, EUV and VUV ranges is most effective using laser-generated plasmas. In recent years, the development of LPP radiation sources has been greatly stimulated by the development of projection extreme ultraviolet lithography for high-volume manufacturing of integrated circuits (ICs) down to the 7 nm node.
[0010] 특별하게 주입된 가스에서 단파장 방사선 빔의 경로를 따라 생성된 보조 플라즈마의 사용에 기초한 파편 저감 기술이 2016년 2월 23일에 공개된 미국 특허 9268031에 개시되어 있다. 보조 플라즈마에 노출된 결과로서 전하를 얻은 파편은 펄스 전기장에 의해 편향된다. 이 방법은 예를 들어 크세논을 플라즈마 연료로 사용하는 소스에서 파편의 이온/증기 부분으로부터 광학 컬렉터를 보호하는 데 효과적이다.[0010] A debris reduction technique based on the use of an auxiliary plasma generated along the path of a short wavelength radiation beam in a specially injected gas is disclosed in US Patent No. 9268031, published on February 23, 2016. The debris, which acquires a charge as a result of exposure to the auxiliary plasma, is deflected by a pulsed electric field. This method is effective in protecting optical collectors from the ion/vapor fraction of the debris, for example in sources using xenon as plasma fuel.
[0011] 그러나, 플라즈마 형성 물질로서 금속을 사용하는 소스에서, 광학 컬렉터의 요소들에 대한 주요 위협은 파편 입자의 미세 액적 부분이며, 이에 대해 상기 방법은 무력하다.[0011] However, in sources using metals as plasma forming agents, the main threat to the elements of the optical collector is the fine droplet fraction of debris particles, against which the above method is powerless.
[0012] 2013년 8월 27일에 공개된 미국 특허 8519366에는, Sn 액적 표적을 사용하는 LPP EUV 방사선 소스에서의 파편 저감 방법이 공지되어 있다. 이 방법은 파편 입자의 하전 부분의 자기적 저감을 사용하는 것을 포함한다. 이와 함께, 파편 기술은 버퍼 가스의 보호 흐름을 공급하기 위한 포일 트랩 및 포트를 포함하며, 이는 액체 금속 타겟 물질의 중성 원자 및 클러스터의 충분히 효과적인 포획을 제공한다.[0012] U.S. Patent No. 8,519,366, published on August 27, 2013, discloses a method for fragment reduction in an LPP EUV radiation source using a Sn droplet target. The method includes using magnetic reduction of the charged portion of the fragment particles. In addition, the fragmentation technique includes a foil trap and ports for supplying a protective flow of buffer gas, which provides sufficiently effective capture of neutral atoms and clusters of the liquid metal target material.
[0013] 그러나, 파편 입자들의 미세 액적 부분을 저감하기 위해 추가적이고, 다소 복잡한 수단이 요구된다.[0013] However, additional and somewhat complex means are required to reduce the fine droplet fraction of the fragment particles.
[0014] 2007 년 11월 27일에 공개된 미국 특허 7302043에 공지된 파편 저감을 위한 방법은 이러한 결점이 부분적으로 없다. 이 방법은 어느 한 회전 기간 동안 적어도 하나의 개구를 통해 단파장 방사선을 투과시키고 셔터의 다른 회전 기간 동안 파편의 통과를 방지할 수 있는 고속 회전 셔터의 사용을 제공한다.[0014] A method for debris reduction disclosed in U.S. Patent No. 7,302,043, published November 27, 2007, partially avoids these drawbacks. The method provides for the use of a high-speed rotating shutter capable of transmitting short-wave radiation through at least one aperture during one rotation period and preventing the passage of debris during other rotation periods of the shutter.
[0015] 그러나, 콤팩트한 방사선 소스에서 파편 저감을 위한 이러한 수단의 사용은 기술적으로 구현하기가 매우 까다롭다.[0015] However, the use of these means for fragmentation reduction in compact radiation sources is technically very challenging to implement.
[0016] 이러한 단점은 2020년 4월 28일에 공개된 미국 특허 10638588, 2020년 3월 10일에 공개된 미국 특허 10588210 및 2020년 5월 5일에 공개된 미국 특허 출원 20200163197에 공지된 단파장 방사선 소스에는 거의 없으며, 이들 문헌은 그 전체가 참조로 본 설명에 포함된다. 이들 특허 문헌에 개시된 소스는 용융 금속층의 형태로 타겟을 집속된 레이저 빔과의 상호작용 영역으로 전달하는 회전 타겟 조립체를 갖는 진공 챔버를 포함한다. 파편 저감을 위한 수단의 복합체는 80m/s 이상의 높은 선속도로 타겟을 회전시키는 것을 포함한다. 파편의 이온/증기 부분을 억제하기 위해 포일 트랩, 자기장 및 보호 버퍼 가스의 지향성 흐름을 사용한다. 방사선 소스의 실시예에서, 탄소 나노 튜브의 교체가능한 멤브레인(CNT 멤브레인)이 단파장 방사선 빔의 경로에 설치된다. 또한 방출 플라즈마의 영역을 둘러싸는 파편 차폐물은 고정적으로 설치되어 레이저 빔을 펄스 방출 플라즈마의 영역에 넣고 그로부터 단파장 방사선 빔을 빠져나가게 하는 것을 제공한다. 또한 파편의 이온 부분을 억제하기 위해 레이저 프리-펄스를 사용하는 것이 제안된다. 또 다른 제안된 파편 저감 메커니즘은 방사선에 의한 이전 레이저 펄스와 및 후속 펄스의 플라즈마로부터 발생하는 최대 0.1μm 크기의 미세액적의 증발을 보장하기 위해 예를 들어 1MHz 정도의 높은 반복률의 레이저 펄스를 사용하는 것이다.[0016] These drawbacks are substantially eliminated by the shortwave radiation sources disclosed in U.S. Pat. No. 1,063,8588, published April 28, 2020, U.S. Pat. No. 1,058,8210, published March 10, 2020, and U.S. Patent Application No. 20200163197, published May 5, 2020, which are herein incorporated by reference in their entireties. The sources disclosed in these patents comprise a vacuum chamber having a rotating target assembly that delivers a target in the form of a molten metal layer into an interaction region with the focused laser beam. The complex of means for debris reduction comprises rotating the target at a high linear speed of greater than 80 m/s. A foil trap, a magnetic field, and a directional flow of a protective buffer gas are used to suppress the ion/vapor fraction of the debris. In an embodiment of the radiation source, a replaceable membrane of carbon nanotubes (CNT membrane) is installed in the path of the shortwave radiation beam. Additionally, a debris shield surrounding the region of the emission plasma is provided which is fixedly installed to direct the laser beam into the region of the pulsed emission plasma and to divert the short wavelength radiation beam therefrom. It is also proposed to use a laser pre-pulse to suppress the ion fraction of the debris. Another proposed debris reduction mechanism is to use high repetition rate laser pulses, for example, of the order of 1 MHz, to ensure vaporization of microdroplets of up to 0.1 μm in size resulting from the plasma of the previous laser pulse and of the subsequent pulse by radiation.
[0017] 이들 방법은 파편 저감 효율이 충분히 높지만, 이들은 상대적으로 작은 공간 각도의 단파장 플라즈마 방사선의 수집에 대한 것이며, 그 결과, 단파장 방사선 빔에서의 평균 파워는 다수의 응용에 충분하지 않다.[0017] Although these methods have sufficiently high fragmentation efficiency, they are directed to the collection of short-wavelength plasma radiation over a relatively small spatial angle, and as a result, the average power in the short-wavelength radiation beam is not sufficient for many applications.
[0018] 따라서, 위에서 언급된 단점들 중 적어도 일부를 제거할 필요가 있다. 특히, 콤팩트하고 고출력이며 큰 수집 각도를 가지며 단파장 방사선의 출력 빔의 경로에서 실질적으로 완전한 파편 저감을 제공하는 개선된 광 소스에 대한 요구가 있다.[0018] Therefore, there is a need to eliminate at least some of the above-mentioned drawbacks. In particular, there is a need for an improved optical source which is compact, has high power, has a large collection angle and provides virtually complete debris reduction in the path of the output beam of short-wave radiation.
[0019] 본 발명은 연성 X-선, EUV 및 VUV 방사선의 순수한 고휘도 소스의 평균 파워의 다중 증대와 관련된 기술적 문제를 해결하는 한편, 상업적 이용 가능성 및 경제적 운영을 보장하는 것을 목적으로 한다.[0019] The present invention aims to solve the technical problems associated with the multiple amplification of the average power of pure high-brilliance sources of soft X-rays, EUV and VUV radiation, while ensuring commercial availability and economic operation.
[0020] 본 발명의 기술적 결과는 커다란, 바람직하게는 0.25sr 이상의 입체각으로 전파되는 단파장 방사선 빔에서 매우 효과적인 파편 저감을 갖는 단파장 방사선의 고출력 고휘도 소스의 제조하는 것이다.[0020] The technical result of the present invention is the production of a high-power, high-brightness source of short-wave radiation with very effective fragmentation reduction in a short-wave radiation beam propagating over a large solid angle, preferably greater than 0.25 sr.
[0021] 이러한 목적의 달성은 단파장 방사선을 방출하는 플라즈마를 갖는 진공 챔버 내에 위치하는 광학 컬렉터를 포함하고, 광학 컬렉터로 향하는 단파장 방사선의 경로 상의 파편 저감 수단을 더 포함하는 컬렉터 모듈을 갖는 플라즈마 단파장 방사선 소스를 이용함으로써 가능하다.[0021] This objective is achieved by using a plasma short-wave radiation source having a collector module including an optical collector positioned within a vacuum chamber having a plasma emitting short-wave radiation, and further including means for reducing debris in the path of the short-wave radiation toward the optical collector.
[0022] 소스는 파편 저감 수단이 광학 컬렉터로 오는 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔을 출력하도록 배열된 적어도 2 개의 케이싱을 포함하고, 각 케이싱의 외부에는 케이싱 내부에 자기장을 생성하는 영구 자석이 있고, 영구 자석에 의해 형성된 자기장은 파편 없는 공심 빔을 제공하도록 공심 빔으로부터 파편 입자의 하전된 부분을 제거하는 것을 특징으로 한다.[0022] The source comprises at least two casings arranged such that the debris reduction means outputs a fragment-free hollow beam of short-wave radiation to an optical collector, each casing having a permanent magnet on the outside thereof that generates a magnetic field inside the casing, the magnetic field formed by the permanent magnets being characterized in that it removes charged portions of debris particles from the hollow beam to provide a fragment-free hollow beam.
[0023] 바람직하게는, 각 케이싱의 외측 표면은 플라즈마로부터의 단파장 방사선 전파 방향에 실질적으로 평행하고 연직 방향 또는 다른 선택된 방향에 평행하게 연장된 2 개의 제1 면을 포함한다.[0023] Preferably, the outer surface of each casing comprises two first faces extending substantially parallel to the direction of propagation of short-wave radiation from the plasma and parallel to the vertical direction or other selected direction.
[0024] 바람직하게는, 각 케이싱은 플라즈마로부터의 단파장 방사선 전파 방향에 실질적으로 평행하고 케이싱의 2 개의 제1 면에 실질적으로 수직하게 연장되는 2 개의 제2 면을 포함한다.[0024] Preferably, each casing includes two second faces extending substantially parallel to the direction of propagation of short-wave radiation from the plasma and substantially perpendicular to the two first faces of the casing.
[0025] 본 발명의 실시예는 각 케이싱의 제1 면의 면적이 케이싱 표면의 나머지 부분의 면적 보다 크고, 영구 자석은 각 케이싱의 제1 면과 실질적으로 접촉한다.[0025] An embodiment of the present invention is characterized in that the area of the first surface of each casing is larger than the area of the remaining portion of the casing surface, and the permanent magnet is in substantial contact with the first surface of each casing.
[0026] 발명의 실시예는 각 케이싱의 제1 면의 면적이 케이싱 표면의 나머지의 면적보다 작고, 영구 자석은 그들의 제1 면 외부의 케이싱의 표면 상에 위치한다.[0026] An embodiment of the invention is characterized in that the area of the first face of each casing is smaller than the area of the remainder of the casing surface, and the permanent magnets are positioned on the surface of the casing outside their first face.
[0027] 본 발명의 실시예는 각 케이싱의 2 개의 제1 면 사이의 각도가 30도보다 작다.[0027] An embodiment of the present invention is wherein the angle between the two first faces of each casing is less than 30 degrees.
[0028] 본 발명의 실시예는 2 개의 인접한 케이싱의 인접하는 면 사이의 각도가 3 내지 10도이다.[0028] In an embodiment of the present invention, the angle between adjacent faces of two adjacent casings is 3 to 10 degrees.
[0029] 본 발명의 실시예에서, 영구 자석은, 서로 다른 케이싱의 가장 멀리 위치한 서로 다른 부분들로부터 가장 멀리 위치하며, 자기 코어에 의해 연결된다. [0029] In an embodiment of the present invention, the permanent magnets are positioned farthest from each other and from each other's most distant parts of the different casings and are connected by a magnetic core.
[0030] 본 발명의 실시예에서 광학 컬렉터는 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔 각각의 경로에 설치된 여러 개의 미러를 포함한다.[0030] In an embodiment of the present invention, the optical collector comprises a plurality of mirrors each installed in the path of a fragment-free hollow beam of short-wave radiation.
[0031] 바람직하게는, 모든 미러의 반사면은 회전 타원체를 형성하며, 그 중 하나의 초점은 플라즈마이고 다른 초점은 광학 컬렉터의 모든 미러의 초점 지점이다.[0031] Preferably, the reflecting surfaces of all mirrors form a spheroid of revolution, one focus of which is the plasma and the other focus is the focal point of all mirrors of the optical collector.
[0032] 바람직하게는, 파편 저감 수단은 단파장 방사선 빔의 경로에서 각각의 케이싱과 광학 컬렉터 사이에 설치된 탄소 나노 튜브(carbon nanotubes, CNT)에 기초한 멤브레인을 포함한다.[0032] Preferably, the debris reduction means comprises a membrane based on carbon nanotubes (CNT) installed between each casing and the optical collector in the path of the short-wave radiation beam.
[0033] 본 발명의 실시예에서 파편 저감 수단은 각 케이싱 내부에서 플라즈마로 향하는 보호 가스 흐름을 포함하며, 한편, 각각 CNT 멤브레인은 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔의 출구를 위한 케이싱 윈도우와 이를 통과하는 보호 가스의 유출을 방지하는 가스 셔터로 동시에 기능한다.[0033] In an embodiment of the present invention, the debris reduction means comprises a shielding gas flow directed towards the plasma within each casing, while each CNT membrane simultaneously functions as a casing window for the exit of a fragment-free hollow beam of short-wave radiation and a gas shutter to prevent the escape of the shielding gas therethrough.
[0034] 본 발명의 실시예에서, 영구 자석은 케이싱의 전체 길이를 따라 위치한다.[0034] In an embodiment of the present invention, the permanent magnets are positioned along the entire length of the casing.
[0035] 바람직하게는, 파편 저감 수단은 각각의 케이싱에 위치되고 플라즈마에 대해 방사 방향으로 배향되고, 자기장 선에 실질적으로 수직하는 포일 플레이트(22)를 포함한다.[0035] Preferably, the debris reduction means comprises a foil plate (22) positioned in each casing and oriented radially with respect to the plasma and substantially perpendicular to the magnetic field lines.
[0036] 본 발명의 실시예에서, 플라즈마는 레이저 생성 플라즈마, z-핀치 플라즈마, 플라즈마 포커스, 방전 생성 플라즈마, 레이저 트리거 방전 플라즈마로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다.[0036] In an embodiment of the present invention, the plasma can be selected from the group consisting of laser generated plasma, z-pinch plasma, plasma focus, discharge generated plasma, and laser triggered discharge plasma.
[0037] 바람직하게는, 플라즈마는 레이저 빔의 초점 영역으로 회전 타겟 조립체에 의해 공급되는 액체 금속 타겟의 레이저 생성 플라즈마이다.[0037] Preferably, the plasma is a laser-generated plasma of a liquid metal target supplied by a rotating target assembly into the focal region of the laser beam.
[0038] 바람직하게는, 타겟은 회전 타겟 조립체에 설치되며, 환형 홈의 회전축을 마주보는 표면 상에 원심력에 의해 형성되는 용융 금속층이다. [0038] Preferably, the target is installed in a rotating target assembly and is a molten metal layer formed by centrifugal force on a surface facing the rotation axis of the annular groove.
[0039] 다른 측면에서, 본 발명은 플라즈마 생성 위치에서 플라즈마에 의해 방출된 방사선을 광학 컬렉터로 수집하는 단계와, 적어도 일부분의 방사선을 초점 지점에 지향시키는 단계를 포함하며, 플리즈마에 의해 방출된 방사선은 파편 저감 수단이 장착되며 케이싱에서 나와 광학 컬렉터로 가는 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔을 형성하도록 배열된 적어도 2 개의 케이싱을 통해 가이드되는, 방사선 수집 방법에 관련된다.[0039] In another aspect, the present invention relates to a method of collecting radiation, comprising the steps of collecting radiation emitted by a plasma at a plasma generation location with an optical collector, and directing at least a portion of the radiation to a focal point, wherein the radiation emitted by the plasma is guided through at least two casings equipped with debris reduction means and arranged to form a debris-free hollow beam of short-wavelength radiation emanating from the casings to the optical collector.
[0040] 바람직하게는, 각 케이싱 외부에는 케이싱 내부에 자기장을 생성하는 영구 자석이 있고, 영구 자석에 의해 형성된 자기장은 파편 입자의 하전 부분을 저감하고, 보호 가스 흐름, 포일 트랩, CNT 멤브레인을 포함하는 다른 파편 저감 기술은 또한 파편 없는 공심 빔을 제공하기 위해 각각의 케이싱에 사용된다.[0040] Preferably, each casing has a permanent magnet outside the casing that generates a magnetic field inside the casing, the magnetic field formed by the permanent magnet reduces the charged portion of the debris particles, and other debris reduction technologies including shielding gas flow, foil traps, CNT membranes are also used in each casing to provide a debris-free hollow beam.
[0041] 바람직하게는, 광학 컬렉터는 파편 없는 공심 빔 각각의 경로에 설치된 여러 개의 미러를 포함하고, 모든 미러들의 반사면은 타원체 또는 변형된 타원체의 표면 상에 놓이며, 그 중 하나의 초점은 플라즈마이고, 다른 초점은 광학 컬렉터의 모든 미러의 초점 지점이다.[0041] Preferably, the optical collector comprises several mirrors installed in the path of each of the fragment-free hollow beams, the reflecting surfaces of all the mirrors lying on the surface of an ellipsoid or a modified ellipsoid, one of the focal points being the plasma and the other focal points being the focal points of all the mirrors of the optical collector.
[0042] 본 발명의 전술한 바와 기타 다른 목적, 이점 및 특징은 첨부된 도면을 참조하여 예로서 제공되는 다음의 실시예들의 비제한적 설명에서 더욱 명백해질 것이다.[0042] The above and other objects, advantages and features of the present invention will become more apparent from the following non-limiting description of embodiments, which are provided by way of example only, with reference to the accompanying drawings.
[0043] 본 발명의 본질은 다음과 같은 도면에 의해 설명된다:
[0044] 도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 다중 섹션 컬렉터 모듈을 갖는 단파장 방사선 소스의 개략도이다.
[0045] 도 3 및 도 4는 회전 타겟 조립체가 있는 레이저 생성 플라즈마 방사선 소스의 개략도이다.
[0046] 상기한 도면은 본 기술적 해결책을 구현하기 위한 선택들의 전체 범위를 포괄하지 않고, 나아가 제한하지 않으며, 그 구현의 특정한 경우에 대한 예시적인 자료만을 나타낸다.[0043] The essence of the present invention is illustrated by the following drawings:
[0044] Figures 1 and 2 are schematic diagrams of a short wavelength radiation source having a multi-section collector module according to the present invention.
[0045] Figures 3 and 4 are schematic diagrams of a laser-generated plasma radiation source with a rotating target assembly.
[0046] The above drawings do not encompass or limit the entire range of options for implementing the present technical solution, but rather represent only exemplary material for specific cases of its implementation.
[0047] 도 1 에 다양한 스케일로 도시된 본 발명의 실시예의 예시에 따르면, 플라즈마 방사선 소스는 단파장 방사선을 방출하는 펄스 고온 플라즈마(2)의 영역을 갖는 진공 챔버(1)를 포함한다. 부산물로서, 플라즈마 형성 물질의 증기, 이온 및 클러스터를 포함하는 파편 입자들이 플라즈마 영역에서 생성된다. 플라즈마 방사선 소스는 플라즈마(2)로부터 광학 컬렉터(3)로 향하는 단파장 방사선 빔(5)의 경로 상에 배치된 광학 컬렉터(3) 및 파편 저감 수단(4)으로 구성된 컬렉터 모듈을 더 포함한다. 광학 컬렉터는 단파장 방사선을 중간 초점으로 리디렉션한 다음 단파장 방사선으로 작동하는 광학 시스템으로 리디렉션한다[0047] According to an example embodiment of the present invention, which is illustrated in various scales in FIG. 1, the plasma radiation source comprises a vacuum chamber (1) having a region of a pulsed high temperature plasma (2) emitting short-wave radiation. As by-products, debris particles including vapor, ions and clusters of plasma forming material are generated in the plasma region. The plasma radiation source further comprises a collector module comprising an optical collector (3) and debris reduction means (4) arranged in the path of a short-wave radiation beam (5) from the plasma (2) to the optical collector (3). The optical collector redirects the short-wave radiation to an intermediate focus and then to an optical system operating with short-wave radiation.
[0048] 본 발명에 따르면, 파편 저감 수단(4)은 바람직하게는 여러 개의 미러(8)로 구성된 광학 컬렉터(3)로 가는 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔(7)을 출력하도록 배열된 적어도 2 개의 케이싱(6)을 포함한다. 특징적인 플라즈마 크기는 약 0,1 mm(자유 전자 밀도의 FWHM 또는 발광 플라즈마 영역의 휘도 프로파일의 FWHM으로 측정)이므로, 플라즈마 방사선 소스는 준-점(quasi-point)으로 간주될 수 있으며, 그로부터 나오는 방사선 빔들은 공심(homocentric)으로 간주될 수 있다.[0048] According to the invention, the debris reduction means (4) preferably comprises at least two casings (6) arranged to output a fragment-free hollow beam (7) of short-wave radiation to an optical collector (3) consisting of several mirrors (8). Since the characteristic plasma size is about 0.1 mm (measured as the FWHM of the free electron density or the FWHM of the brightness profile of the luminous plasma region), the plasma radiation source can be considered as quasi-point and the radiation beams emanating therefrom can be considered as homocentric.
[0049] 각 케이싱(6)의 외부에는 케이싱(6) 내부에 자기장을 생성하는 영구 자석(9)이 있고, 영구 자석(9)에 의해 형성된 자기장은 파편 없는 공심 빔들을 제공하기 위해 공심 빔들(7)로부터의 파편 입자들의 하전 부분을 제거한다.[0049] Outside of each casing (6), there is a permanent magnet (9) which generates a magnetic field inside the casing (6), and the magnetic field formed by the permanent magnet (9) removes the charged portion of the debris particles from the hollow beams (7) to provide debris-free hollow beams.
[0050] 각각의 케이싱(6)의 외측 표면은 플라즈마(2)로부터의 단파장 방사선 전파 방향에 실질적으로 평행하고 수직 또는 다른 선택된 방향과 평행하게 연장된 2 개의 제1 면(10)을 포함한다. [0050] The outer surface of each casing (6) includes two first faces (10) extending substantially parallel to the direction of propagation of short-wave radiation from the plasma (2) and perpendicular or parallel to another selected direction.
[0051] 각 케이싱(6) 외부에는 영구 자석(9)이 있으며, 영구 자석(9)은 케이싱(6) 내부에 자기장을 생성하며, 자기장의 자기 유도 벡터는 케이싱의 광축에 실질적으로 수직하게 지향된다.[0051] There is a permanent magnet (9) outside each casing (6), and the permanent magnet (9) generates a magnetic field inside the casing (6), and the magnetic induction vector of the magnetic field is directed substantially perpendicular to the optical axis of the casing.
[0052] 바람직하게는, 영구 자석(9)은 케이싱(6)의 전체 길이를 따라 위치된다.[0052] Preferably, the permanent magnet (9) is positioned along the entire length of the casing (6).
[0053] 공지된 해결책과 대조적으로, 본 발명에 따른 파편 저감 수단(4)은 높은 효율의 파편 저감을 유지하면서 단파장 플라즈마 방사선의 수집 입체각을 상당히 증가시킬 수 있게 하는 다중-섹션 시스템이다. 수집 입체각의 증가는 단파장 방사선의 수집된 파워를 상당히(수 배) 증가시킬 수 있게 하여 거의 모든 응용 분야에서 이러한 유형의 방사선 소스를 사용하는 효율을 증가시킬 수 있다.[0053] In contrast to known solutions, the fragment reduction means (4) according to the present invention is a multi-section system which allows a significant increase in the collection solid angle of the short-wavelength plasma radiation while maintaining a high efficiency of fragment reduction. The increase in the collection solid angle allows a significant (several times) increase in the collected power of the short-wavelength radiation, which can increase the efficiency of using this type of radiation source in almost all applications.
[0054] 단일 섹션 시스템에서, 하우징의 횡방향 치수의 단순한 증가는 하전 입자에 대한 자기적 보호 효과의 급격한 감소를 초래한다. 이는 자기장의 힘 선을 따라 케이싱의 크기가 클수록 케이싱의 부피에서 자기 유도 값이 낮아져, 단파장(3)을 방출하는 플라즈마 영역에서 케이싱을 통해 컬렉터 미러(8)로 전파되는 하전 입자의 횡방향 속도의 감소를 초래하기 때문입니다. 따라서, 섹션의 비행 동안, 입자는 충분한 거리를 편향시킬 수 없어 거울에 부딪히는 것을 피할 수 없다. 실험에 따르면 자기적 보호의 효과적인 작동을 위해서는 단파장을 방출하는 플라즈마 영역으로부터 약 40mm 떨어진 거리에서 케이싱 중앙의 자기 유도 값이 0.5T 이상 이어야 한다. 또한 자석이 위치한 케이싱의 측면들 사이의 평평한 각도는 30도를 초과 하지 않아야 한다는 것이 실험적으로 확립 되었다.[0054] In a single-section system, a simple increase in the transverse dimensions of the housing leads to a sharp decrease in the magnetic shielding effect for charged particles. This is because the larger the casing size along the lines of force of the magnetic field, the lower the magnetic induction in the volume of the casing, which leads to a decrease in the transverse velocity of charged particles propagating through the casing from the plasma region emitting short-wave radiation (3) to the collector mirror (8). Therefore, during the flight of the section, the particles cannot be deflected a sufficient distance to avoid hitting the mirror. Experiments have shown that for effective operation of the magnetic shielding, the magnetic induction in the center of the casing at a distance of about 40 mm from the plasma region emitting short-wave radiation must be at least 0.5 T. It has also been experimentally established that the flat angle between the sides of the casing, where the magnets are located, must not exceed 30 degrees.
[0055] 따라서, 케이싱의 면들 사이의 평면 각도가 30도를 초과하지 않는 다중 섹션 파편 저감 시스템의 사용은 각각의 케이싱에서 하전 입자의 고효율적인 자기적 저감(magnetic mitigation)을 위해 충분한 크기의 일정한 자기장을 생성하는 것을 가능하게 한다. [0055] Therefore, the use of a multi-section debris reduction system in which the plane angle between the faces of the casings does not exceed 30 degrees allows for the generation of a constant magnetic field of sufficient magnitude for highly efficient magnetic mitigation of charged particles in each casing.
[0056] 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 서로 다른 케이싱(6)의 가장 멀리 위치한 서로 다른 제1 면(10)으로부터 가장 멀리 위치한 영구 자석(9)은, 자기 코어(11)에 의해 연결된다. 자기 코어(11)는, 바람직하게는 연자성 강철로 만들어지며, 자기 코어에 자기장을 집중시킴으로써 산란에 의한 자기장의 손실을 감소시킬 수 있고, 이에 의해 각 케이싱의 부피를 증가시켜 자기적 파편 저감의 효율을 증가시킨다.[0056] According to a preferred embodiment of the present invention, permanent magnets (9) located farthest from different first faces (10) located farthest from each other of different casings (6) are connected by a magnetic core (11). The magnetic core (11) is preferably made of soft magnetic steel, and can reduce the loss of the magnetic field due to scattering by concentrating the magnetic field in the magnetic core, thereby increasing the volume of each casing and increasing the efficiency of reducing magnetic debris.
[0057] 본 발명의 실시예에서, 각 케이싱(6)은 플라즈마(2)로부터의 단파장 방사선 전파 방향에 실질적으로 평행하게 연장되고 케이싱의 2 개의 제1 면(10)에 실질적으로 수직인 2 개의 제2 면(12)을 포함한다.[0057] In an embodiment of the present invention, each casing (6) includes two second faces (12) extending substantially parallel to the direction of propagation of short-wave radiation from the plasma (2) and substantially perpendicular to the two first faces (10) of the casing.
[0058] 플라즈마(2)를 기준으로 한 방사 방향의 제1 및 제2 면(10, 12)의 배향은 다중 섹션 파편 저감 시스템의 높은 기하학적 투명성을 제공한다. 동일한 목적이 본 발명의 실시예들에서 2 개의 인접한 케이싱(6)의 인접한 면들 사이의 각도가 3 내지 10 도 범위에 있다는 사실에 의해 실현된다.[0058] The orientation of the first and second faces (10, 12) in the radial direction relative to the plasma (2) provides a high geometrical transparency of the multi-section debris reduction system. The same purpose is achieved in embodiments of the present invention by the fact that the angle between the adjacent faces of two adjacent casings (6) is in the range of 3 to 10 degrees.
[0059] 본 발명의 바람직한 실시예에서, 각 케이싱(6)의 제1 면(10)의 면적은 케이싱(6) 표면의 나머지 부분의 면적보다 크고, 영구 자석(9)은 각 케이싱(6)의 제1 면(10)과 실질적으로 접촉한다.[0059] In a preferred embodiment of the present invention, the area of the first surface (10) of each casing (6) is larger than the area of the remaining portion of the surface of the casing (6), and the permanent magnet (9) is in substantial contact with the first surface (10) of each casing (6).
[0060] 다른 실시예(도시되지 않음)에서, 각 케이싱(6)의 제1 면(10)의 면적은 케이싱의 나머지 표면의 면적보다 작을 수 있고, 영구 자석(9)은 제1 면(10) 바깥에 있는 케이싱(6)의 표면 상에, 예를 들어, 각 케이싱(6)의 큰 제2 면(12) 상에 위치될 수 있다.[0060] In another embodiment (not shown), the area of the first face (10) of each casing (6) may be smaller than the area of the remaining surface of the casing, and the permanent magnets (9) may be positioned on a surface of the casing (6) outside the first face (10), for example, on a large second face (12) of each casing (6).
[0061] 파편 저감 수단(4)은 바람직하게는 공심 빔들(7)의 경로에서 각 케이싱(6)과 광학 컬렉터(3)의 미러(8) 사이에 설치되고 탄소 나노 튜브로 형성된 멤브레인(13)을 포함한다. CNT 멤브레인은 바람직하게는 20 내지 100 nm 범위의 두께를 가지며, 이는 20 nm보다 짧은 파장의 범위에서 높은 강도 및 높은 투명성을 보장한다. 따라서 CNT 멤브레인(13)은 20nm보다 짧은 파장 범위에서의 높은 투명성으로 인해 공심 빔들(7)의 출구를 제공한다. 동시에, CNT 멤브레인(13)은 이를 통한 파편 입자의 통과를 방지하여, 단파장 방사선의 파편이 없는 공심 빔(7)을 제공한다.[0061] The debris reduction means (4) is preferably installed between each casing (6) and the mirror (8) of the optical collector (3) in the path of the hollow beams (7) and comprises a membrane (13) formed of carbon nanotubes. The CNT membrane preferably has a thickness in the range of 20 to 100 nm, which ensures high intensity and high transparency in the range of wavelengths shorter than 20 nm. Thus, the CNT membrane (13) provides an exit for the hollow beams (7) due to its high transparency in the range of wavelengths shorter than 20 nm. At the same time, the CNT membrane (13) prevents the passage of debris particles therethrough, thereby providing a hollow beam (7) free of debris of short-wavelength radiation.
[0062] 이와 함께, 파편 저감 수단은 각 케이싱(6) 내부에서 플라즈마로 향하는 보호 가스 흐름을 포함하고, 한편 각각의 CNT 멤브레인(13)은 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔들(7)의 출구를 위한 케이싱 윈도우와 이를 통한 보호 가스의 유출을 방지하는 가스 셔터로서 동시에 기능한다. [0062] In addition, the debris reduction means comprises a shielding gas flow directed towards the plasma inside each casing (6), while each CNT membrane (13) simultaneously functions as a casing window for the exit of fragment-free hollow beams (7) of short-wave radiation and as a gas shutter preventing the outflow of shielding gas therethrough.
[0063] 약 20 Pa의 보호 가스 압력에서 케이싱에 평균 진공을 제공하는 것은 가스 분자와 플라즈마 영역으로부터 산란된 파편 입자 사이의 충돌 횟수를 증가시키고, 이로써 이들을 직선 운동으로부터 편향시킬 수 있다. 이와 동시에, 가스 밀봉으로서 CNT 멤브레인의 사용은 공심 빔(7)이 사용자 광학 장치로 전파되는 전체 경로를 따라서가 아니라 케이싱 내에서만 증가된 압력의 사용을 허용한다. 이것은 가스의 흡수로 인한 단파장 방사선의 손실을 줄인다.[0063] Providing an average vacuum in the casing at a shielding gas pressure of about 20 Pa increases the number of collisions between gas molecules and scattered debris particles from the plasma region, thereby deflecting them from a rectilinear motion. At the same time, the use of the CNT membrane as a gas seal allows the use of an increased pressure only within the casing, and not along the entire path along which the hollow beam (7) propagates to the user optics. This reduces losses of short-wave radiation due to absorption in the gas.
[0064] 20nm 이상의 파장 범위에서 방사선을 얻기 위해, CNT 멤브레인(13)은 사용되지 않는데, 이는 해당 범위에서의 투명도가 방사선 파장의 증가에 따라 급격히 감소하기 때문이다.[0064] To obtain radiation in a wavelength range greater than 20 nm, a CNT membrane (13) is not used because the transparency in that range rapidly decreases with increasing radiation wavelength.
[0065] 도 2에 도시된 바람직한 실시예에서, 광학 컬렉터(3)는 여러 개의 미러(8)를 포함하는 한편, 모든 미러의 반사면은 회전의 타원체 또는 다른 말로 하면 회전 타원체(spheroid)(15)에 속하며, 여기서 회전 타원체의 하나의 초점은 펄스 방출 플라즈마(2)의 영역이고, 다른 쪽 초점은 광학 컬렉터(3)의 미러(8)의 초점 지점(16)이다. 이러한 미러의 제조는 컬렉터 미러 기판의 거칠기가 0.2-0.3 nm에 불과하기 때문에 매우 비싸고, 이러한 미러, 특히 비구면 프로파일을 갖는 미러의 비용은 면적 증가보다 2-3배 크게 증가하는 법이다. 따라서 여러 개의 동일한 미러(8)를 사용하면 광학 컬렉터 비용이 크게 절감된다.[0065] In a preferred embodiment as shown in Fig. 2, the optical collector (3) comprises several mirrors (8), while the reflecting surfaces of all mirrors belong to an ellipsoid of revolution, or in other words a spheroid of revolution (15), wherein one focus of the spheroid of revolution is the region of the pulsed emission plasma (2), and the other focus is the focus point (16) of the mirror (8) of the optical collector (3). The manufacture of such mirrors is very expensive, since the roughness of the collector mirror substrate is only 0.2-0.3 nm, and the cost of such mirrors, especially mirrors having an aspherical profile, tends to increase by a factor of 2-3 more than the increase in area. Therefore, the use of several identical mirrors (8) significantly reduces the cost of the optical collector.
[0066] 펄스 방출 플라즈마는 레이저 생성 플라즈마, z-핀치 플라즈마, 플라즈마 포커스, 방전 생성 플라즈마, 레이저 트리거 방전 플라즈마로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다.[0066] The pulse emission plasma can be selected from the group consisting of laser generated plasma, z-pinch plasma, plasma focus, discharge generated plasma, and laser triggered discharge plasma.
[0067] 바람직한 실시예에서, 펄스형 고온 플라즈마는, 2020년 5월 21일에 공개된 미국 특허 출원 20200163197에 상술된 바와 같이, 회전 타겟 조립체에 의해 레이저 빔의 초점 영역으로 전달되는 액체 금속 타겟 물질의 레이저 플라즈마이며, 이는 그 전체가 본원에 참조로 포함된다.[0067] In a preferred embodiment, the pulsed high temperature plasma is a laser plasma of a liquid metal target material delivered to the focal region of the laser beam by a rotating target assembly, as described in U.S. Patent Application No. 20200163197, published on May 21, 2020, which is incorporated herein by reference in its entirety.
[0068] 도 3에 개략적으로 도시된 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 타겟(17)은 회전축(18)을 마주보는 회전 타겟 조립체(20)의 환형 홈(19)의 표면 상에 원심력에 의해 형성된 용융 금속층이다. 본 발명의 바람직한 실시예의 등측도는 도 4에 개략적으로 도시되어 있다.[0068] According to a preferred embodiment of the present invention, which is schematically illustrated in FIG. 3, the target (17) is a molten metal layer formed by centrifugal force on the surface of an annular groove (19) of a rotating target assembly (20) facing the rotation axis (18). An isometric view of a preferred embodiment of the present invention is schematically illustrated in FIG. 4.
[0069] 도 3 및 도 4에 예시된 액체 금속 타겟의 레이저 생성 플라즈마를 사용하는 바람직한 실시예에서 고휘도 단파장 방사선 소스의 동작은 다음과 같이 수행된다. 진공 챔버(1)는 오일-프리 펌핑 시스템에 의해 10-5 … 10-8 mbar 이하의 압력으로 펌핑되어, 액체 금속 타겟 물질과 상호 작용할 수 있는 질소, 산소, 탄소 등과 같은 기체 성분을 제거한다.[0069] In a preferred embodiment using laser-generated plasma of a liquid metal target as exemplified in FIGS. 3 and 4, the operation of the high-brightness short-wave radiation source is performed as follows. The vacuum chamber (1) is pumped to a pressure of 10 -5 ... 10 -8 mbar or less by an oil-free pumping system to remove gaseous components such as nitrogen, oxygen, carbon, etc., which may interact with the liquid metal target material.
[0070] 타겟(17)은, 그 물질이 Sn, Li, In, Ga, Pb, Bi, Zn 및 이들의 합금을 포함하는 무독성 저융점 금속 그룹에 속하며, 집속된 레이저 빔(21)과의 상호작용 영역 내로 회전 타겟 조립체에 의해 전달된다. 타겟은 1kHz 내지 1MHz 범위의 높은 펄스 반복률을 갖는 집속된 펄스 레이저 빔(21)에 노출된다. 타겟 물질 및 타겟 상의 레이저 출력 밀도에 따라, 레이저 플라즈마의 단파장 방사선은 연성 X-선 및/또는 EUV 및/또는 VUV 스펙트럼 범위에서 생성된다.[0070] The target (17) belongs to the group of non-toxic low melting point metals including Sn, Li, In, Ga, Pb, Bi, Zn and alloys thereof and is transferred by the rotating target assembly into the interaction region with the focused laser beam (21). The target is exposed to the focused pulsed laser beam (21) having a high pulse repetition rate in the range of 1 kHz to 1 MHz. Depending on the target material and the laser power density on the target, short wavelength radiation of the laser plasma is generated in the soft X-ray and/or EUV and/or VUV spectral range.
[0071] 플라즈마(2)에 의해 방출된 단파장 방사선의 빔(5)은 케이싱(6)을 통과하고 바람직하게는 CNT 멤브레인(13)을 통과하여, 광학 컬렉터(3)의 미러(8)로 향하는 파편 없는 공심 빔으로 변환된다. 여기서, 영구 자석(9, 도 4)은 일정한, 바람직하게는 공심 빔의 축에 수직하게 향하는 자기장을 생성한다. 로렌츠 힘의 작용 하에서, 파편 입자들(주로 이온)의 하전 부분은 공심 빔(7)의 축을 따라 직선 운동으로부터 벗어나 케이싱(6)의 내벽 또는 케이싱(도 3) 내에 특별히 배치된 플레이트들(22)과 충돌하여 이들에 의해 갇히게 된다. 케이싱(6)에 장착된 플레이트들(22)은 플라즈마(2)에 방사상으로 향하고, 바람직하게는 자석(9)에 의해 생성된 자기장의 선들에 수직이다. 플레이트들(22)은 고속 하전 입자의 보다 효율적인 포획을 허용하는데, 그 이유는 입자의 속도가 높을수록 자기장의 영향으로 편향되는 횡단거리가 더 작기 때문이다. 이와 함께 보호 가스 흐름은 파편 입자의 이온/증기 부분의 이동을 방지하여, 이들을 케이싱(6) 및 플레이트(22)의 벽에 증착시켜, CNT 멤브레인(13)을 파편으로부터 보호한다. 20nm보다 짧은 파장 범위에서 이들의 높은 투명성으로 인해, CNT 멤브레인은 광학 컬렉터(3)의 미러(8)에 단파장 빔의 출구를 제공한다. 동시에, CNT 멤브레인(13)은 이들을 통한 파편의 통과를 방지하여, 각각의 미러(8)에 대해 신뢰성 있는 보호를 제공한다. 추가적으로, 가스 유입구(14)를 통해 공급되는 보호 가스의 방향성 흐름을 구성함으로써 케이싱(6) 내의 효과적인 파편 저감이 보장된다. 차폐 가스 스트림은 CNT 멤브레인(13)을 파편의 이온/증기 부분으로부터 보호하여 서비스 수명을 늘린다.[0071] A beam (5) of short-wave radiation emitted by the plasma (2) passes through the casing (6) and preferably through a CNT membrane (13) and is converted into a fragment-free hollow beam directed to a mirror (8) of the optical collector (3). Here, a permanent magnet (9, FIG. 4) generates a magnetic field which is directed at a constant, preferably perpendicular to the axis of the hollow beam. Under the action of the Lorentz force, the charged part of the fragment particles (mainly ions) deviates from the linear motion along the axis of the hollow beam (7) and collides with the inner wall of the casing (6) or with plates (22) specially arranged within the casing (FIG. 3) and is trapped by them. The plates (22) mounted on the casing (6) are directed radially to the plasma (2) and preferably perpendicular to the lines of the magnetic field generated by the magnet (9). The plates (22) allow for more efficient capture of the fast charged particles, since the higher the particle velocity, the smaller the distance through which it is deflected under the influence of the magnetic field. In addition, the shielding gas flow prevents the migration of the ion/vapor fraction of the debris particles, causing them to deposit on the walls of the casing (6) and the plates (22), thereby protecting the CNT membrane (13) from debris. Due to their high transparency in the wavelength range shorter than 20 nm, the CNT membranes provide an exit for the short-wavelength beam to the mirrors (8) of the optical collector (3). At the same time, the CNT membranes (13) prevent the passage of debris through them, thereby providing reliable protection for the individual mirrors (8). In addition, an effective debris reduction within the casing (6) is ensured by configuring a directional flow of the shielding gas supplied via the gas inlets (14). The shielding gas stream protects the CNT membrane (13) from the ion/vapor fraction of the debris, thereby increasing its service life.
[0072] 파편 저감을 위한 유사한 수단이 또한 레이저 빔(21)의 경로를 따라 사용된다. [0072] Similar means for fragment reduction are also used along the path of the laser beam (21).
[0073] 상술한 장치들은 방사선을 수집하는 방법에 관한 양태들 중 하나에 관련된 본 발명의 특정 실시예들을 실현한다. 상기 방법은 플라즈마 형성 위치에서 플라즈마(2)에 의해 방출된 단파장 방사선을 광학 컬렉터(3)에 의해 수집하는 단계와, 초점(16, 도 2)으로 방사선의 적어도 일부분을 지향시키는 것을 포함한다. 플라즈마(2)에 의해 방출된 방사선 빔(5)은 파편 저감 수단(4)과 통합된 적어도 2 개의 케이싱(6)을 통해 유도되고, 케이싱(6)으로부터 나와 광학 컬렉터(3)로 향하는 단파장 방사선의 파편이 없는 공심 빔들(7)을 형성하도록 배열된다.[0073] The above-described devices realize specific embodiments of the present invention relating to one of the aspects relating to a method for collecting radiation. The method comprises the steps of collecting short-wave radiation emitted by a plasma (2) at a plasma formation site by means of an optical collector (3) and directing at least a portion of the radiation to a focus (16, FIG. 2). A beam of radiation (5) emitted by the plasma (2) is guided through at least two casings (6) integrated with debris reduction means (4) and arranged to form fragment-free hollow beams (7) of short-wave radiation emanating from the casings (6) and directed towards the optical collector (3).
[0074] 각 케이싱 외부에서 케이싱(6) 내부에 자기장을 생성하는 영구 자석(9)은 파편 입자의 하전 부분 저감에 사용되며 보호 가스 흐름, 포일 트랩, CNT 멤브레인을 포함한 기타 파편 저감 기술도 파편이 없는 공심 빔들(7)을 제공하도록 각 케이싱에 사용된다.[0074] Permanent magnets (9) that generate a magnetic field inside the casing (6) from outside each casing are used to reduce the charged portion of the debris particles, and other debris reduction technologies including shielding gas flow, foil traps, and CNT membranes are also used in each casing to provide debris-free hollow beams (7).
[0075] 광학 컬렉터(3)는 바람직하게는 파편이 없는 등심 빔(7) 각각의 경로에 설치된 여러 개의 미러(8)를 포함하고, 모든 미러의 반사면은 타원체(15) 또는 변형된 타원체의 표면 상에 놓여 있으며, 그 중 하나의 초점은 플라즈마(2)이고, 다른 초점(16)은 광학 컬렉터(3)의 모든 미러(8)의 초점 지점이다. 변형된 타원체 형상은 완벽한 타원체 형상과 비교하여 원거리에서 수집된 방사선의 개선된 강도 균일성을 제공하기 위해 사용될 수 있다.[0075] The optical collector (3) preferably comprises several mirrors (8) mounted in the path of each of the fragment-free isocenter beams (7), the reflecting surfaces of all mirrors lying on the surface of an ellipsoid (15) or a modified ellipsoid, one focus of which is the plasma (2) and the other focus (16) being the focal points of all mirrors (8) of the optical collector (3). The modified ellipsoid shape can be used to provide improved intensity uniformity of the radiation collected at a distance compared to a perfect ellipsoid shape.
[0076] 따라서, 본 발명은 긴 수명과 사용의 용이성을 가지며, 파편이 없고, 강력하고, 고휘도인 연성 X-선, EUV 및 VUV 방사선의 소스들을 생성하는 것을 가능하게 한다.[0076] Thus, the present invention enables the generation of sources of soft X-rays, EUV and VUV radiation which are long-lasting, easy-to-use, fragment-free, powerful and high-brightness.
[0077] 제안된 장치는 현미경, 재료 과학, 재료의 X-선 진단, 생의학 및 의료 진단, EUV 리소그래피를 위한 액티닉 마스크 결함 검사를 포함한 나노 및 미세 구조 검사를 포함한 여러 응용을 위한 것이다.[0077] The proposed device is intended for several applications including microscopy, materials science, X-ray diagnostics of materials, biomedical and medical diagnostics, and nano- and microstructural inspection including actinic mask defect inspection for EUV lithography.
Claims (19)
단파장 방사선을 방출하는 플라즈마(2)를 갖는 진동 챔버(1) 내에 위치하는 광학 컬렉터(3);를 포함하고, 상기 광학 컬렉터(3)로 향하는 단파장 방사선의 경로 상의 파편 저감 수단(4)을 더 포함하며,
상기 파편 저감 수단(4)은 상기 광학 컬렉터(3)로 향하는 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔들(debris-free homocentric beams)(7)을 출력하도록 배치된 적어도 2 개의 케이싱들(6)을 포함하며,
각 케이싱의 외측 표면은 상기 플라즈마(2)로부터의 단파장 방사선 전파 방향에 실질적으로 평행하게 연장되는 2 개의 제1 면(10)을 포함하며, 상기 2 개의 제1 면은 연직 방향에 평행하거나 다른 선택 방향에 평행하고,
각 케이싱(6)의 외부에는 케이싱들(6)의 내부에 자기장을 생성하는 영구 자석들(9)이 있고, 상기 영구 자석들(9)에 의해 형성된 자기장은 상기 파편 없는 공심 빔들을 제공하도록 상기 공심 빔들(7)로부터 파편 입자들의 하전 부분을 제거하는, 플라즈마 단파장 방사선 소스.As a plasma short-wave radiation source having a collector module,
An optical collector (3) positioned within a vibration chamber (1) having a plasma (2) emitting short-wave radiation; further comprising a means (4) for reducing debris on the path of the short-wave radiation toward the optical collector (3);
The above debris reduction means (4) comprises at least two casings (6) arranged to output debris-free homocentric beams (7) of short-wave radiation directed to the optical collector (3),
The outer surface of each casing comprises two first faces (10) extending substantially parallel to the direction of propagation of short-wave radiation from said plasma (2), said two first faces being parallel to the vertical direction or parallel to another selected direction,
A plasma short-wave radiation source, wherein outside of each casing (6) there are permanent magnets (9) which generate a magnetic field inside the casings (6), and the magnetic field formed by the permanent magnets (9) removes the charged portion of the debris particles from the hollow beams (7) to provide the debris-free hollow beams.
플라즈마 생성 위치에서 플라즈마(2)에 의해 방출된 방사선을 광학 컬렉터(3)에 의해 수집하는 단계와, 플라즈마(2)에 의해 방출된 방사선의 적어도 일부분을 초점 지점으로 지향시키는 단계를 포함하며,
상기 플라즈마(2)에 의해 방출된 방사선은, 파편 저감 수단(4)이 장착되며 케이싱들(6)에서 나와 상기 광학 컬렉터로 가는 단파장 방사선의 파편 없는 공심 빔들(7)을 형성하도록 배열된, 적어도 2 개의 케이싱들을 통해 가이드되고,
상기 적어도 2개의 케이싱들의 각 케이싱의 외측 표면은, 상기 플라즈마(2)로부터 단파장 방사선 전파의 방향에 평행하게 연장된 2개의 제1 면들(10)을 포함하고, 상기 2개의 제1 면들(10)은 연직 방향에 평행하거나 다른 선택된 방향에 평행하며,
상기 적어도 2개의 케이싱들의 각 케이싱(6) 외부에서, 파편 입자들의 하전 부분을 저감시키기 위해 각 케이싱(6) 내부에 자기장을 생성하는 적어도 하나의 영구 자석(9)이 사용되는, 방사선 수집 방법.As a method of collecting radiation,
A step of collecting radiation emitted by plasma (2) at a plasma generation location by an optical collector (3), and a step of directing at least a portion of the radiation emitted by plasma (2) to a focal point,
The radiation emitted by the plasma (2) is guided through at least two casings, which are equipped with fragment reduction means (4) and arranged to form fragment-free hollow beams (7) of short-wave radiation emanating from the casings (6) and directed to the optical collector,
The outer surface of each of the at least two casings comprises two first faces (10) extending parallel to the direction of propagation of short-wave radiation from the plasma (2), the two first faces (10) being parallel to the vertical direction or parallel to another selected direction,
A method of collecting radiation, wherein at least one permanent magnet (9) is used to generate a magnetic field inside each casing (6) to reduce the charged portion of the debris particles, outside each casing (6) of the at least two casings.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US16/952,587 US11252810B2 (en) | 2017-11-24 | 2020-11-19 | Short-wavelength radiation source with multisectional collector module and method of collecting radiation |
| US16/952,587 | 2020-11-19 | ||
| PCT/RU2021/050277 WO2022050875A1 (en) | 2020-09-04 | 2021-08-26 | Short- wavelength radiation source with multisectional collector module |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230104856A KR20230104856A (en) | 2023-07-11 |
| KR102802111B1 true KR102802111B1 (en) | 2025-05-02 |
Family
ID=87159473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237008035A Active KR102802111B1 (en) | 2020-11-19 | 2021-09-28 | Shortwave radiation source with multi-section collector module |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102802111B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4209120A4 (en) * | 2020-09-04 | 2024-08-28 | Isteq B.V. | SHORT WAVELENGTH RADIATION SOURCE WITH MULTI-SECTION COLLECTOR MODULE |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080157006A1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Asml Netherlands B.V. | Debris mitigation system and lithographic apparatus |
-
2021
- 2021-09-28 KR KR1020237008035A patent/KR102802111B1/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080157006A1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Asml Netherlands B.V. | Debris mitigation system and lithographic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20230104856A (en) | 2023-07-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
Patent event date: 20230307 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20241116 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20250317 |
|
| PG1601 | Publication of registration |