KR102753795B1 - 3d 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라, Narrow BPF를 통해 촬영된 이미지의 예시 중, 이미지 포화현상이 거의 없는 경우에 대한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라, Narrow BPF를 통해 촬영된 이미지의 예시 중, 이미지 포화현상이 조금 있는 경우에 대한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라, 배경을 제외한 이미지이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라 도 4의 배경을 제외한 이미지에 대한 이미지 히스토그램이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라, 피크탐지 알고리즘을 활용하여 두개 피크를 탐지하는 것을 도시한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라 적응형 임계치 설정 후, 이진화를 처리한 용융풀의 이미지이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법의 주요 프로세스를 도시한 플로우 차트이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법 중, 이미지 촬영하는 단계의 세부 단계를 도시한 플로우 차트이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법 중, 이미지 전처리하는 단계의 세부 단계를 도시한 플로우 차트이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법 중, 에지 추출 단계의 세부 단계를 도시한 플로우 차트이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법의 에지 추출 단계 중, 적응형 임계치 설정 단계의 세부 단계를 도시한 플로우 차트이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법에 따라 용융풀 면적은 산출한 정보의 보안 처리에 대한 개념도이다.
| Specification | |
| Illumination | Metal light + 532nm Laser diode (if required) |
| Filter1 | 532nm narrow BPF |
| Filter2 | ND filter (if required) |
| Frame rate | 60Fps 이상 |
| Distance | 300~500mm |
| Object area | 5mm*5mm 이상 |
Claims (5)
- 메탈 소재를 활용하는 메탈 3D 프린터에서 금속 적층 제조 과정에서 카메라 모듈로 촬영되는 용융풀의 이미지를 분석하기 위한 방법에 있어서,
상기 용융풀의 위치로 근접하여, 상기 카메라 모듈 및 NBPF필터를 통해 상기 용융풀의 용융 이미지를 촬영하는 단계(S100);
상기 용융 이미지를 이미지 전처리하는 단계(S200);
상기 전처리 된 이미지의 에지 라인을 추출하는 에지 추출 단계(S300); 및
추출된 상기 에지 라인을 통해 상기 용융풀의 면적을 산출하는 단계(S400)를 포함하되,
상기 S300 단계는,
미리 설정된 임계치 설정 로직에 따라 적응형 임계치를 설정하는 단계(S310);
상기 적응형 임계치를 통해, 상기 적응형 임계치 보다 큰 것과 작은 것을 기준으로 상기 전처리된 이미지를 이진화하기 위하여, 상기 전처리된 이미지에 적용하고 상기 적응형 임계치 기준으로 이진화하는 단계(S320); 및
상기 적응형 임계치가 적용되어 전처리되어 이진화된 이진화 이미지로부터 에지 라인을 인식하는 단계(S330)를 포함하며,
상기 적응형 임계치를 설정하는 단계(S310)는,
상기 전처리된 이미지에서 배경을 제외하고 인식하는 단계(S311);
배경을 제외한 히스토그램 데이터와 좌우 반전 데이터 연결하는 단계(S312);
미리 설정된 피크 탐지 알고리즘으로 피크 탐지 단계(S313);
탐지된 피크로부터 상위 2개 피크의 휘도 값을 추출하는 단계(S314);
추출한 상기 상위 2개 피크의 휘도 값에 대한 평균치를 산출하는 단계(S315); 및
상기 상위 2개 피크의 휘도 값에 대한 평균치를 적응형 임계치로 설정하는 단계(S316)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 S100단계는,
상기 미리 설정된 파장대를 532nm의 밴드 대역으로 설정하고, 설정된 상기 밴드 대역의 범위로 내로우 밴드패스 필터(NBPF)를 설정하는 단계(S110);
상기 필터링된 이미지를 획득하기 위하여, 설정된 상기 내로우 밴드패스 필터를 적용하는 단계(S120); 및
상기 내로우 밴드패스 필터의 상기 미리 설정된 파장대의 빛 에너지를 보충하는 단계(S130)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 S200 단계는,
상기 메탈 소재의 팁 위치, 상기 용융풀로부터 상기 카메라가 이격되어 배치되는 공간적 위치에 기초하여, 상기 카메라로부터 예상되는 용융물 위치로의 상기 용융풀 위치를 추산하는 단계(S210); 및
상기 카메라를 통해 촬영된 상기 용융 이미지 전체에서, 상기 용융 이미지 전체 중 배경 이미지와 상기 용융풀 이미지로부터 예상되는 용융풀 위치로 위치 설정하고 상기 용융 이미지 전체 중, 예상되는 상기 용융풀 위치에 배치된 용융풀 이미지를 선택적으로 크롭하는 단계(S220); 및
크롭된 RGB의 3채널 이미지를 1채널 이미지로 변환하는 단계(S230)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 3D 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법.
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| KR1020240153157A KR102753795B1 (ko) | 2024-11-01 | 2024-11-01 | 3d 금속 적층 제조를 위한 용융풀 분석 방법 |
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| KR102753795B1 true KR102753795B1 (ko) | 2025-01-16 |
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