KR102686075B1 - 가열 장치 및 전기 조리 기구 - Google Patents

Abstract

전기 쿡탑을 위한 가열 장치는 적어도 하나의 기다란 열 전도체, 상측에 열 전도체가 배치 및 고정되는 지지 몸체, 및 지지 몸체를 위한 지지 장치를 포함한다. 열 전도체는 파형의 평편 스트립으로서 형성되고, 파형의 평편 스트립은 그 하측에서 서로 간격을 두어 배치되는 유지 부재들을 포함하고, 유지 부재들은 통합형으로 아래쪽으로 돌출하고 지지 몸체 안으로 압입된다. 지지 장치는 지지 몸체를 적어도 지지 몸체의 외부 영역 내에서 외부 가장자리를 따라 아래쪽으로 지지한다. 지지 몸체는 얇은 판으로서 압축 및 접착된 운모 물질로 구성되고, 예컨대 미카나이트로 구성되며, 이로 인하여 전기 절연성이며 충분히 안정적이다.

Description

가열 장치 및 전기 조리 기구{HEATING APPARATUS AND ELECTRICAL COOKING DEVICE}

본 발명은 예컨대 쿡탑, 핫플레이트(hotplate) 또는 베이킹 오븐으로서 특히 전기 조리 기구용으로 사용되거나 전기 조리 기구 내에 사용될 수 있는 것과 같은 가열 장치에 관한 것이다. 마찬가지로, 본 발명은 적어도 하나의 그러한 가열 장치를 포함하는 해당 전기 조리 기구에 관한 것이다.

US 4,161,648 A 및 US 5,498,853 A로부터 가열 장치가 각각 공지되어 있는데, 이러한 가열 장치는 쿡탑 플레이트 아래의 쿡탑 내에 장착될 수 있다. 절연성 및 단열성 물질로 구성되는 평편한 지지 몸체 상에 복수의 기다란 또는 장형(elongated)의 열 전도체들이 고정된다. 열 전도체들로부터 아래쪽으로 유지 부재들이 돌출해 있으며, 이러한 유지 부재들은 지지 몸체 내에 압입되어 열 전도체들을 세워서(upright) 유지한다. 이때 열 전도체는 구동 중에 최대 약 1,000℃를 초과하는 온도로 가시 범위에서 발열할 수 있다.

본 발명의 기초를 이루는 과제는 서두에 언급한 가열 장치 및 이에 상응하는 전기 조리 기구로서, 종래 기술의 문제들을 해결할 수 있고 특히 지지 몸체를 위해 안정적이며 유용하고 유리한 물질을 사용할 수 있는 가열 장치 및 이에 상응하는 전기 조리 기구를 제공하는 것이다.

이러한 과제는 제 1 항의 특징들을 포함하는 가열 장치 및 제 20 항의 특징들을 포함하는 전기 조리 기구에 의하여 해결된다. 본 발명의 유리하고 바람직한 형성예들은 다른 청구항들의 주제이며, 이하에서 더 상세히 설명된다. 특징들의 대부분은 가열 장치에 대해서만 또는 전기 조리 기구에 대해서만 설명된다. 그러나 이와 상관없이 특징들은 가열 장치뿐만 아니라 전기 조리 기구에 대해서도 서로 무관하게 자율적으로 적용될 수 있다. 청구항들의 문구는 상세한 설명의 내용을 명시적으로 참조한다.

가열 장치는 적어도 하나의 기다란 열 전도체를 포함하고, 이러한 열 전도체는 장형으로 제조될 수 있으나, 유리하게는 조립된 상태에서는 단축된다. 이를 위해 열 전도체는 파형의 평편 스트립(corrugated flat strip)으로서 형성되고, 이러한 평편 스트립은 적어도 그 하측에서 서로 간격을 두어 배치되는 유지 부재들을 포함한다. 이러한 유지 부재들은 아래쪽으로 튀어 나와 있거나 아래쪽으로 돌출해 있다. 가열 장치는 전술한 지지 몸체를 포함하고, 유지 부재들이 이러한 지지 몸체 내에 압입되면서 지지 몸체의 상측에 열 전도체가 배치 및 고정된다. 특히 이러한 유지 부재들이 지지 몸체 내에 압입되는 것은 사전에 유지 부재들을 위한 함몰부, 리세스 등이 제조되거나 미리 준비되지 않아도 이루어지나, 그러한 함몰부, 리세스가 대안적으로 사전에 제조되거나 미리 준비되어 있을 수도 있다. 유지 부재들을 포함하는 열 전도체는 간단하게 적절한 힘에 의해 지지 몸체 내에 또는 지지 몸체의 상측으로 압입된다. 전술한 종래 기술로부터 소위 복사 가열 장치를 위해 공지된 열 전도체는 틸팅되지 않도록 안정화되거나 고정되어야 한다. 틸팅은 지지 몸체 상에서의 열 전도체의 배치에 부정적인 영향을 미칠 것이다. 또한, 지지 몸체를 위한 지지 장치가 구비된다. 이러한 지지 장치는 적어도 지지 장치의 외부 영역에서 그리고/또는 외부 가장자리를 따라 아래쪽으로 지지 몸체를 지지한다. 그러면 비교적 얇은 지지 몸체가 사용될 수 있고, 이러한 지지 몸체는 고유의 안정성을 가짐에도 불구하고, 이미 그 위에 배치되는 열 전도체의 하중에 의하여 상당히 절곡될 수 있다. 바람직하게는, 지지 장치는 지지 몸체를 중간 영역의 적어도 하나의 위치에서 또는 중심에서 지지할 수 있다.

본 발명에 따르면, 지지 몸체는 압축 그리고/또는 접착된 운모 물질(mica material)로 구성되는 것이 고려된다. 따라서 종래 기술에 공지되고, 특히 복사 가열 장치를 위해 공지 및 사용된 것과는 상이한 절연 물질이 사용된다. 이와 같은 운모 물질은 전기적으로 충분히 절연성을 가지고, 충분히 양호한 단열 특성을 가진다. 또한, 그 내부에 압입되는 유지 부재들 및 이로 인하여 열 전도체들을 고정하기에 충분히 안정적이다.

본 발명의 유리한 형성예에서, 운모 물질의 팽창 계수는 바람직하게는 약 250℃에 이르기까지 열 전도체의 팽창 계수와 유사하다. 열 전도체는, 특히 열 전도체들이 가열 모드 중에 가시 범위에서 발열해야 하는 경우에도 이와 같은 열 전도체들을 위해 종래 기술에 공지돤 바와 같은 FeCrAl-합금이 유리하다. 이러한 적합한 팽창계수에 의해 가열 장치의 기계적 안정성 또는 지속적으로 안정적인 구조가 더 용이하게 달성될 수 있다. 전술한 250℃의 온도 이상에서는 그러한 열 전도체의 팽창 계수는 약간 증가할 수 있으나, 이는 물론 유리한 형성예에서 열 전도체의 파형 형상으로 인하여 문제되지 않을 수 있다. 더욱이, 이로 인하여 더 높은 온도에서도 유지 부재들이 보다 양호하게 지지부 내에서 더 강한 팽창에 의해 서로 부착될 수 있다.

바람직하게는, 운모 물질은 미카나이트(micanite)이다. 이와 같은 미카나이트 또는 일반적 형태의 운모 물질은 예컨대 토스터기에서 공지되어 있는데, 이러한 토스터기에서 가열 코일들은 기계적으로 고정되기 위해 평편한 플레이트 둘레에 감아진다. 이때 열 전도체들은 물론 이러한 플레이트 자체 안으로 압입되지 않고, 기껏해야 사전 제조된 단면으로서 인입되어 있다. 미카나이트는 주성분으로 백운모를 포함할 수 있고, 대안적으로 더 높은 온도를 위해 금운모를 포함할 수 있다.

본 발명의 형성예에서, 지지 몸체가 플레이트로 형성되는 것이 고려될 수 있다. 지지 몸체는 특히 평편한 상측을 포함할 수 있다. 그러나 상측은 약간 아치형으로 형성될 수 있고, 그루브형으로 또는 오목하거나 볼록할 수 있다. 상측에는 적어도 하나의 열 전도체가 배치되어, 위쪽을 가열한다. 더욱 바람직하게는, 지지 몸체는 얇은 평행 평면 플레이트이다. 두께는 0.1 mm와 2 mm 사이, 특히 0.2 mm 내지 0.6 mm인 것이 유리한 것으로 간주된다. 하위 두께 범위에서 이러한 플레이트는, 열 전도체의 압입된 유지 부재들이 스스로 다시 분리되지 않을 만큼은 안정성을 가질 수 있다. 이와 동시에 매우 얇은 지지 몸체를 위해 많은 운모 물질이 필요하지 않다.

지지 몸체가 두껍게 되면, 지지 몸체의 고유 안정성은 보다 양호하게 된다. 지지 몸체의 절연성 및 단열성은 보다 양호해진다. 상황에 따라, 지지 몸체는, 지지 장치가 외부 영역에서 또는 외부 가장자리를 따라서만 구비되어야 하도록 고유의 안정성을 가질 수 있다. 지지 몸체는 짧은 해당 유지 부재들이 하측에서 다시 삐져나오지 않을 만큼 두꺼울 수 있다. 그러나 바람직하게는 유지 부재들은 지지 몸체의 하측으로부터 다시 삐져 나오거나 지지 몸체보다 돌출한다.

본 발명의 다른 형성예에서, 지지 몸체의 외부 가장자리 영역 내에서, 특히 지지 장치와 함께 스페이서들(spacers)이 구비될 수 있다. 이러한 스페이서들은 위쪽으로 지지 몸체의 상측에 걸쳐 돌출할 수 있다. 유리하게는, 스페이서들은 지지 몸체의 상측에 안착된다. 더욱 유리하게는, 스페이서들은 실질적으로 연속적으로 원주형인 환(ring)으로서 형성될 수 있고, 이러한 환은 가열 장치 및 특히 열 전도체들이 위에 배치된 지지 몸체가 그 위에 배치되는 쿡탑의 쿡탑 플레이트 또는 쿡탑 플레이트의 커버에 대해 가지는 간격을 유지시킬 수 있다. 반면 가열 장치가 베이킹 오븐 내에 장착되고, 특히 상단열- 또는 바닥열 가열 몸체로서 장착되고, 경우에 따라서 노출되면, 상측의 스페이서들은 가급적 필요하지 않게 된다.

유리하게는, 유지 부재들은 브라켓 방식으로 열 전도체와 별도로 제조되어 이러한 열전도체들의 위에 덮이는 것이 고려될 수 있다. 이러한 브라켓 방식의 유지 부재들은 열 전도체와 함께 지지 몸체의 상측에 고정되고, 특히 지지 몸체 내에 압입됨으로써 고정된다.

그러나 더욱 유리하게는, 유지 부재들은 통합형으로 열 전도체로부터 형성되거나 열 전도체에 맞게 성형되고, 즉 유지 부재들은 일체형으로 그리고 한 부분으로 열 전도체와 결합된다. 따라서, 유지 부재들은 동일한 연속적 평편 스트립 물질로 구성되고, 열 전도체의 하부 에지로부터 아래쪽으로 한 부분으로 그리고 일체형으로 돌출한다. 즉, 유지 부재들은 통합형으로 열 전도체로부터 형성된다. 이를 위해, 열 전도체는 평편 스트립 물질로 구성된 스트립으로서 펀칭될 수 있고, 유지 부재들이 하부 에지에 형성된다. 이는 기본적으로 이미 서두에 언급한 US 5,498,853 A로부터도 공지되어 있다.

유지 부재들의 길이는 열 전도체의 높이의 50%와 200% 사이일 수 있다. 바꾸어 말하면, 유지 부재들의 길이는 1 mm와 6 mm 사이일 수 있고, 열 전도체의 높이는 일반적으로 수 밀리미터일 수 있으며, 예컨대 1.4 mm 내지 7 mm일 수 있다.

본 발명에 따르면, 열 전도체는 파형으로 형성되는데, 바람직하게는 그 전체 길이에 걸쳐 균일하게 파형으로 형성된다. 이러한 파형은 통합형으로 열 전도체에 형성되는 유지 부재들을 포함할 수 있다. 유지 부재들이 삽(spade) 등의 방식으로 아치형으로 형성되도록, 유지 부재들이 열 전도체로부터 멀어지며 종방향으로 연장되는 부분에서 아치형으로 형성되는 것은 지지 몸체의 운모 물질 내에 유지 부재들이 삽입 또는 압입될 때 현저히 개선된 견고성을 얻도록 하는 데 도움이 될 수 있다. 이로 인하여 더 안정적으로 형성되는 이러한 유지 부재들은, 이러한 유지 부재들이 운모 물질 내에 압입될 때 쉽게 꺾여질 수 없다.

본 발명의 다른 유리한 형성예에서, 유지 부재들은 지지 몸체 안으로 용이하게 관통되기 위해 열 전도체로부터 멀어지는 유지 부재의 종방향 연장부분에서 또는 열 전도체에 대한 횡 방향으로 테이퍼형으로(tapered) 형성될 수 있다. 즉, 유지 부재들은 자유 단부에서 테이퍼형 자유 첨두부(peak)를 포함할 수 있다. 이러한 첨두부는 직선 첨두형으로 또는 약간 라운딩 처리되어 형성될 수 있다. 또한, 유지 부재는 열 전도체의 하부 에지에 연결되는 베이스 영역을 포함할 수 있다. 이 영역 내에서는, 유지 부재가 열 전도체와 양호하게 연결되는 것이 중요하다. 베이스 영역 내에서 유지 부재는 일정한 폭을 가지고, 즉, 유지 부재의 측면 에지들은 평행하다. 이러한 일정한 폭의 베이스 영역에는 테이퍼형 자유 첨두부가 연결되고, 유리하게는 직접적으로 연결된다. 그러한 베이스 영역은 0.1 mm 와 2 mm 사이의 길이를 가질 수 있다. 베이스 영역은, 열 전도체가 유지 부재들을 이용하여 지지 몸체 내에 압입될 때 열 전도체의 하부 에지가 완전히 또는 거의 상측에 안착되고, 유지 부재들이 베이스 영역을 이용하여 지지 몸체 내에 있도록 하는 역할이다. 압입을 가급적 상당히 간소화시키는 유지 부재의 테이퍼형 자유 첨두부는 지지 몸체의 하측을 넘어 돌출한다. 유지 부재가 오로지 베이스 영역만을 이용하여 지지 몸체 내에 삽입되거나 오로지 베이스 영역만을 이용하여 지지 몸체와 직접 접촉하고, 베이스 영역이 정확히 유지되는 폭을 가지면, 유지 부재는 비교적 견고한 운모 물질로부터 쉽게 압출되지 않는다. 즉, 구조는 더 안정적이고 지속력을 가진다.

본 발명의 유리한 형성예에서, 전술한 테이퍼형 자유 첨두부는 언급한 베이스 영역에 연결될 수 있다. 이러한 테이퍼형 자유 첨두부는 이러한 첨두부의 상부 영역 내에서 또는 이러한 첨두부가 직접적으로 베이스 영역에 연결되거나 베이스 영역으로부터 삐져 나와 있는 위치에서 베이스 영역의 최소 폭보다 더 슬림할 수 있다. 더욱 유리하게는, 베이스 영역은 열 전도체의 종방향 연장부를 따르는 방향으로 테이퍼형 자유 첨두부 위에 돌출할 뿐만 아니라, 양 측면에서도 돌출한다. 특히, 테이퍼형 자유 첨두부는 대략적으로 또는 정확히 베이스 영역의 폭의 중심으로부터 아래쪽으로 돌출할 수 있다. 베이스 영역이 한 부분으로 그리고 일체형으로 열 전도체로부터 삐져 나와 있거나 열 전도체와 함께 형성되고, 예컨대 전술한 방법에 따라 유지 부재의 일부로서 평편 스트립 물질로부터 형성될 때, 바람직한 것으로 간주된다. 마찬가지로, 테이퍼형 자유 첨두부가 유리하게는 베이스 영역과 함께 유지 부재의 또 다른 부분으로서 형성될 수 있다.

그러한 베이스 영역은 열 전도체의 종방향을 따르는 방향으로 폭을 포함할 수 있거나 말하자면 2 mm와 10 mm 사이 또는 2 mm와 15 mm 사이의 길이를 포함할 수 있다. 바꾸어 말하면, 베이스 영역의 이러한 폭은 열 전도체의 높이의 100%와 400% 사이일 수 있다. 이하에서는 이에 대해 더 상세히 설명된다.

유리하게는, 베이스 영역은 지지 몸체 내에 압입되지 않거나 지지 몸체 내에 위치하지 않는다. 바람직하게는, 지지 몸체는 서두에 언급한 미카나이트 등과 같이 대략적인 강성을 가지는 물질로 제조됨으로써, 유지 부재를 또한 베이스 영역을 포함하여 지지 몸체 내에 압입하기 위해 힘을 가하지 않아도 된다. 유지 부재를 압입하는 것으로 충분하다. 이를 통해, 동시에 지지 몸체는 기계적으로 덜 약화된다. 베이스 영역은 지지 몸체의 상부에 또는 지지 몸체의 표면에 위치할 수 있고, 대안적으로 베이스 영역은 지지 몸체 상에 안착될 수 있거나 더욱이 유지 몸체가 테이퍼형 자유 첨두부를 이용하여 압입됨으로써 지지 몸체에 가압될 수 있다. 따라서 베이스 영역은 소위 지지 몸체 상에서 열 전도체를 위한 안착부를 형성하고, 베이스 영역은 열 전도체로부터 멀어지며 약 0.1 mm 내지 2 mm 의 전술한 길이를 포함하므로, 열 전도체는 열 전도체의 하부 에지를 이용하여 대략적으로 이 수치 만큼 지지 몸체의 표면 위에 연장된다. 이는, 열 전도체가 열 전도체의 하측에서 한편으로 지지 몸체에 의해 냉각되지 않아서, 보다 나은 열 전달을 가능하게 하고, 특히 위쪽으로 열 복사를 가능하게 한다는 이점을 제공한다. 다른 한편으로는, 지지 몸체 내에 열 입력이 적어지는데, 그렇지 않은 경우 지지 몸체는 열 및 기계적으로 더 강한 부하를 받을 것이고, 높은 수준의 단열이 필요할 것이다. 유지 부재 또는 베이스 영역의 영역 내에서 열 전도체의 횡단면의 폭이 넓어짐으로써, 본원에서 열 전달 또는 가열 성능이 약간 낮다. 그러나 복사는 더 양호해지므로, 이러한 부정적 효과는 같은 정도 이상으로 상쇄된다. 또한, 지지 몸체에서 또는 지지 몸체의 상부에서 열 전도체가 소정의 방식으로 연장될 수 있다.

바람직하게는, 유지 부재 마다 정확히 하나의 베이스 영역이 구비되거나 모든 유지 부재가 각각 하나의 단일 베이스 영역을 포함하는 것이 고려된다. 더욱 유리하게는, 모든 유지부재들은 동일하게 형성되고, 이는 열 출력이 가급적 균일하고 면상으로 분포하도록 역할할 수 있다. 본 발명의 또 다른 유리한 형성예에서, 열 전도체는 열 전도체의 유지 부재들, 특히 테이퍼형 자유 첨두부들을 이용하여 모든 측면에서 균등하고 넓게 지지 몸체 내에 또는 지지 몸체의 표면에 압입된다. 그러한 균일한 제조는 또한 가급적 균일한 열 생성을 야기한다.

유리하게는, 테이퍼형 자유 첨두부가 베이스 영역에 연결되는 영역 내에서 이러한 테이퍼형 자유 첨두부가 우선 전술한 이점을 위해 균일한 폭을 가질 수 있고, 이때 테이퍼형 자유 첨두부는 대략적으로 균일한 폭을 갖는 이 영역을 이용하여 지지 몸체 내에 압입 또는 매립된다. 균일한 폭을 갖는 이 영역은 추가-베이스 영역을 형성할 수 있고, 추가-베이스 영역은 위에서 베이스 영역에 바로 연결되고, 아래에서 바로 테이퍼형 자유 첨두부로 이어질 수 있다. 실제로 테이퍼형 영역 또는 첨두 영역은 아래쪽으로 지지 몸체의 하측을 넘어 돌출한다. 따라서, 이러한 테이퍼형 첨두부가 이러한 첨두부의 테이퍼형 형상에 의해 지지 몸체로부터 쉽게 압출될 수 없는 것이 달성될 수 있다. 말하자면, 이 위치에 균일한 폭을 가지는 추가-베이스 영역이 위치한다.

베이스 영역은 베이스 영역의 양단부들에서 열 전도체쪽으로 직선으로 연장될 수 있고, 즉 열 전도체의 나머지 하부 에지에 대해 90°의 각도로 연장될 수 있거나, 또는 사선으로 처리되거나 또한 단일 또는 복수의 라운딩 처리로 형성될 수 있다. 베이스 영역은 어차피 넓은 형상 부분에서 지지 몸체 내에 압입되지 않아도 되므로, 이는 중요하지 않다. 본원에서는 직선, 사선 또는 라운딩 처리된 형상의 생산 기술적 이점은 본원에서 임의로 사용될 수 있다.

본 발명의 형성예에서, 열 전도체의 영역 내에 있거나 열 전도체가 연장되는 위치에서 결정되는 가열 장치의 면적 당 출력은 최대 4 W/㎠ 일 수 있다. 특히, 면적 당 출력은 훨씬 더 낮을 수 있고, 예컨대 2.5 W/㎠ 보다 낮을 수 있다. 이와 같이 낮은 출력 밀도에서, 안전 규정으로부터, 쿡탑 플레이트 아래에서 전술한 복사 가열 장치와 유사한 가열 장치를 구동시킬 수 있고, VDE(독일 전기 기술자 협회)에 따르면 가열 장치는 이를 위해 온도 모니터링이 필요하지 않다.

즉, 가열 장치는 말하자면 안전장치 없이 구동될 수 있다. 그러한 안전장치 또는 온도 모니터링은 예컨대 서두에 언급한 US 5,498,853 A에 설명된 바와 같은 소위 안전 온도 리미터(safety temperature limiter) 또는 서모스탯(thermostat)일 수 있다.

유리하게는, 적어도 하나의 열 전도체는 가열 장치의 대부분의 면적을 덮고, 이를 위해 열 전도체의 경로들은 지지 몸체 상에서 서로 간에 5 mm 와 20 mm 사이의 간격으로 연장될 수 있다. 이러한 경로들은 가급적 또는 80% 이상이 예컨대 미엔더(meander) 형상으로 또는 나선형으로 서로 마주보고 연장될 수 있다.

본 발명에 따르는 전기 조리 기구는 일 형성예에서 쿡탑 플레이트 및 그 아래에 배치되며 본 발명에 따라 형성되는 복수의 가열 장치들을 포함하는 전기 쿡탑일 수 있다. 조작 장치는 이에 대해 공지된 방식으로 쿡탑에 구비되고, 이러한 조작 장치를 이용하여 쿡탑의 구동이 제어될 수 있다.

대안적 형성예에서, 본 발명에 따르는 전기 조리 기구는 베이킹 오븐일 수 있고, 이 경우, 가열 장치가 상단 열 및/또는 하단 열로서 베이킹 오븐 내에 장착되는 것이 유리하게 고려할 수 있다. 본 발명에 의해, 말하자면 이러한 목적을 위해 비교적 유용한 가열 장치가 제공될 수 있다.

이러한 특징들 및 그 밖의 특징들은 청구범위 외에 상세한 설명 및 도면들로부터 유추되며, 개개의 특징들은 각각 단독적으로 또는 하위 조합의 형태로 복수 개로 본 발명의 일 실시 형태에서 그리고 다른 분야에서 구현될 수 있으며, 유리하고 그 자체로 본원에서 보호를 청구하는 보호 능력을 갖는 실시물을 나타낼 수 있다. 개별 부분들 및 소제목으로 출원을 나누었다고 해서, 이러한 부분들에 속하는 설명의 보편적 유효성이 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 실시예들은 도면들에서 개략적으로 도시되어 있으며, 이하에 더 상세히 설명된다.

도 1은 쿡탑 플레이트 아래에 배치되는 본 발명에 따르는 가열 장치를 포함하는 본 발명에 따르는 전기 쿡탑의 측단면도를 도시한다.
도 2는 도 1로부터 오로지 가열 장치의 중간 영역만을 확대한 도면을 도시한다.
도 3은 도 2와 유사하게 열 전도체의 제1 형성예의 도면을 도시한다.
도 4는 도 1의 설치 패턴과 유사한 열 전도체의 일 부분에 대한 평면도를 도시한다.
도 5는 상이하게 형성된 유지 부재들을 포함하는 본 발명에 따르는 열 전도체의 대안적 형성예를 도시한다.
도 6은 도 2와 유사하나 지지 장치와 지지 몸체 사이에 간격을 갖지 않는 본 발명에 따르는 가열 장치의 대안적 형성예를 도시한다.
도 7은 상이하게 형성된 또 다른 유지 부재들을 포함하는 본 발명에 따르는 열 전도체의 또 다른 대안적 형성예를 도시한다.

도 1에는 본 발명에 따르는 전기 쿡탑(11)의 일부분이 측면도로 도시되어 있다. 전기 쿡탑(11)은 쿡탑 플레이트(13)를 포함하고, 쿡탑 플레이트의 하측(14) 쪽으로 본 발명에 따르는 가열 장치(16)가 상세히 도시되지 않은 방식으로 가압된다. 이는 유리하게는 그러한 전기 쿡탑에 대해 일반적으로 공지된 바와 같이 수행되므로, 본원에서 더 상세히 설명될 필요가 없다. 가열 장치(16)는 면상의 두꺼운 지지 플레이트(18)를 전술한 지지 장치로서 포함한다. 지지 플레이트의 표면은 실질적으로 평편하고, 중심에서만 지지 돌출부(20)가 수 밀리미터의 높이로 형성된다. 지지 플레이트(18)의 외부에는 원주형으로 단차형으로(stepped) 형성되는 지지 가장자리(22)가 형성된다. 이러한 지지 가장자리(22) 상에 환형 몸체(24)가 안착되고, 환형 몸체는 원주형이며 그 상측이 하측(14)쪽으로 눌린다. 지지 플레이트(18) 및 환형 몸체(24)는 공지되어 있는 적합한 단열 물질로 형성되고, 가급적 상이한 물질로 형성된다. 이러한 기본적 구성은 종래 기술에 공지되어 있으며, 서두에 언급한 US 4,161,648 A 및 US 5,498,853 A가 참조된다.

중앙의 지지 돌출부(20) 및 지지 가장자리(22)의 단차부 상에 본 발명에 따르는 지지 몸체(26)가 안착된다. 지지 몸체는 유리하게는 서두에 언급한 미카나이트로 구성되며 예컨대 0.5 mm의 두께를 가지는 원형의 디스크 또는 플레이트이다.

미카나이트로 구성되고, 아래쪽으로 절곡되지 않거나 근소한 수준에서만 또는 방해가 되지 않는 수준에서 절곡될 정도로 얇은 플레이트가 가지는 고유 안정성은 지지 돌출부(20)를 이용하여 중심에서 지지해 주는 것으로도 충분하다. 미카나이트는 본원에서 합성 수지로 접착된 분쇄 운모이다.

외부 가장자리 영역 내에서 지지 몸체(26)는 인식 가능한 정도로 아래로는 지지 몸체(22)와 위로는 환형 몸체(24) 사이에서 고정되거나 소위 이들 사이에 끼인다. 따라서, 가열 장치(16) 내에서 지지 몸체의 배치는 안정적이며, 구동 중이던 이송 중이던 변경되지 않는다.

지지 몸체(26)는 그 상측에서 서두에 설명된 바와 같은 열 전도체(29)를 포함한다. 열 전도체(29)는 세워진 파형의 평편 스트립이고, 이러한 평편 스트립은 하부 에지에서 지지 몸체(16)의 상측에 안착된다. 본원에서 단순하게 암시된 유지 부재들(31)에 의해, 열 전도체(29)는 지지 몸체(26)에 고정된다. 이를 위해, 이러한 유지 부재들은 도 2의 확대도에서 더 양호하게 알 수 있는 바와 같이 미카나이트로 구성된 지지 몸체(26)를 관통하여 삽입되며, 아래쪽으로 지지 몸체(26)로부터 특정한 돌출 정도로 다시 돌출한다. 확대된 도 2로부터, 열 전도체(29)의 하부 에지(30)가 직접적으로 지지 몸체(26)의 상측에 안착되는 것을 알 수 있다. 이는, 열 전도체(29)가 유지 부재들(31)의 압입 시 힘에 의해 지지 몸체(26) 쪽으로 가압되면서 이루어지는데, 하부 에지(30)가 지지 몸체(26)의 상측에서 정지하거나 안착됨으로써 소위 정지부가 형성된다. 다른 차폐 물질에서는 하부 에지가 약간 그 내부에 압입될 수 있으나, 미카나이트인 경우 압입될 수 없다.

그러한 압입은 전술한 US 4,161,648 A 및 US 5,498,853 A에 따르는 공지된 복사 가열 몸체를 위해 사용된 바와 같은 제조 방법에 실질적으로 부합한다. 이와 연관하여 본원에서 종래 기술이 참조된다.

또한, 도 1 및 도 2의 도면으로부터, 유리하게는 유지 부재들(31)의 압입 및 관통에 의해 우선 열 전도체(29)가 지지 몸체(26)에 고정되는 것을 알 수 있다. 이후 비로소 지지 몸체(26)는 그 위의 열 전도체(29)와 함께 가열 장치(16) 내에 장착된다. 그렇지 않으면, 압입 시 필요한 안정성이 보장될 수 없을 것이다.

지지 몸체(26) 또는 지지 몸체의 하측과 지지 플레이트(18) 또는 지지 플레이트의 상측 사이의 간극(28)은 최대 수 밀리미터의 높이일 수 있고, 예컨대 최대 5 mm의 높이일 수 있다. 이러한 간극(28)은 열 전도체(29) 또는 열 전도체에 의해 가열된 지지 몸체(26)와 지지 플레이트(18) 사이에서 추가적 단열부로서 역할할 수 있다. 또한, 지지 몸체(26)의 하측을 넘어 돌출하는 열 전도체(29)의 유지 부재들(31)이 방해받지 않는다. 한편, 도 6을 참조하면 간극(28)은 완전히 생략될 수 있다.

또 다른 대안예로서, 단열 물질로부터 구성된 지지 플레이트(18)는 완전히 생략될 수 있어서, 지지 몸체(26)는 그 위의 열 전도체(29)와 함께, 복사 가열 몸체용으로 통상적인 박판 플레이트 내에 여전히 고정된다. 이후 지지 몸체(26)와 그러한 박판 플레이트의 바닥 사이에는 예컨대 1 mm 이상 내지 10 mm의 간격이 제공될 수 있고, 이러한 간격은 전기적 절연 및 특히 단열을 위해 역할할 수 있다.

도 3에는 구체적 예시를 위해 열 전도체(29)가 평활하게 펼쳐진 기다란 상태로 도시되어 있다. 열 전도체(29)는 실질적으로 직선으로 연속하는 하부 에지(30)를 포함하고, 이러한 하부 에지로부터 유지 부재들(31)이 통합형으로 아래쪽으로 규칙적 간격으로 돌출한다. 본원에서 알 수 있는 바와 같이, 유지 부재들(31)은 유지 부재들의 전체 길이에 걸쳐 테이퍼형으로 형성된다. 이러한 유지 부재들은 아래쪽으로 하단부(34)에서 첨두형으로 합류되지 않고, 한 번이라도 라운딩 처리되지도 않으며, 직선으로 절삭되어 있다. 그러나 또한 다른 가능성들도 실행될 수 있다. 이러한 열 전도체(29)는 바람직하게는 넓은 스트립 또는 면상의 평편 스트립 물질로부터 펀칭된다.

도 4에는 본원에서 파형으로 형성된 열 전도체(29)의 평면도가 도시되어 있다. 이를 통해, 열 전도체(29)가 바로 장형 상태 또는 연신된 상태로 지지 몸체(26) 상에 고정되지 않는다는 것이 예시되나, 이는 기본적으로 가능할 수는 있다. 위의 도 4의 도면으로부터는 도 3에 부합하는 유지 부재들(31)을 확인할 수 없다. 그러나 이 도면을 참조하면, 도 4에 부합하는 강한 만곡 또는 파형의 영역 내에서 열 전도체(29)의 하부 에지로부터 돌출하는 적어도 그러한 유지 부재들(31)이 적절하게 만곡되는 것을 용이하게 추론할 수 있다. 이를 통해, 서두에 언급한 유지 부재들의 아치형 형상이 얻어진다. 이는 한편으로 거의 반드시 도 4에 부합하는 파형에 의해 야기된다. 다른 한편으로, 이러한 파형에 의해 유지 부재들(31)이 변형되면 이러한 파형에 의해 유지 부재들(31)이 더 안정적으로 또는 더 견고하게 되고, 보다 용이하게 지지 몸체(26) 내에 압입될 수 있다는 큰 이점이 얻어진다.

도 5에는 가열 장치(116)의 대안적 열 전도체(129)가 도시되어 있다. 하부 에지(130)로부터 다시 규칙적 간격으로 유지 부재들(131)이 분기된다. 그러나 이 경우 유지 부재들(131)은 상이하게 형성된다. 유지 부재들은 하부 에지(130)에 바로 연결되는 베이스 영역(133)을 포함하고, 베이스 영역은 균일한 폭을 가지고, 예컨대 2 mm 길이를 가질 수 있다. 이러한 베이스 영역(133)에는 테이퍼형 첨두부(134)가 연결된다. 이러한 테이퍼형 첨두부는 다시 도 3과 유사하게 형성된다.

유지 부재들(131)이 이와 같이 형성되는 것의 이점은, 파선으로 표시된 지지 몸체(126) 또는 이러한 지지 몸체에서의 장착 상태를 고찰하면 양호하게 파악할 수 있다. 유지 부재들(134)은 베이스 영역(133)을 이용하여 지지 몸체(126) 내에 위치하고, 이 경우 이러한 유지 부재들이 아직 테이퍼형으로 형성되거나 사선으로 형성되지 않음으로써, 이러한 유지 부재들은 보다 양호하게 지지 몸체 내에 고정되거나 지지 몸체로부터 쉽게 압출될 수 없다. 평행한 외부 에지들은 압출과 관련하여 영향을 주지 않는다. 이는 물론 서두에 언급되었다.

첨두부(134)의 형성예는 다양하게 변경될 수 있고, 첨두부는 한편으로는 실제로 첨두형으로 형성될 수 있고, 대안적으로 첨두부는 근소한 정도로 라운딩 처리될 수 있으며, 이는 마찬가지로 지지 몸체(126) 안으로의 삽입을 용이하게 한다.

일반적으로, 지지 몸체(126) 내에는 이미 삽입을 용이하게 해야 할 함몰부들 또는 리세스들이 사전 제조되거나 펀칭될 수 있다. 이들은 물론 삽입되는 유지 부재의 위치에 정확히 부합하도록 위치해야 할 것이다.

도 6에는 도 2와 유사한 부분에서 대안적 가열 장치(216)가 도시되어 있다. 이 경우, 열 전도체(229)는, 도 3에 부합하며 점선으로 표시되는 유지 부재들(231)을 이용하여 지지 몸체(226) 내에 삽입될 뿐만 아니라 바로 그 아래에 연장되는 평편한 지지 플레이트(218) 내에도 삽입된다. 순서는 또한 정확히 이와 같이 이루어질 것이다. 기본적으로 유지 부재들(231)을 포함하는 열 전도체(229)를 지지 몸체(226) 및 지지 플레이트(218)로 구성된 층 결합물의 바로 위에서 가압할 수 있고, 이때 이러한 유지 부재들(231)을 지지 몸체 및 지지 플레이트 안으로 압입할 수 있다. 이는 용이하진 않을 것으로 전망되어, 2단계 압입이 바람직한 것으로 간주할 수 있다. 내부에 유지 부재들(231)을 포함하는 지지 몸체(226)는 지지 플레이트(218) 상에 놓이고 가압됨으로써, 유지 부재들(231)의 하부 첨두부들은 지지 플레이트 내에 압입된다.

도 6에 부합하는 가열 장치(216)에서, 도 2에 대해 설명된 간극(28)은 경우에 따라서 생략되며, 즉 단열은 더 불량해지는 것을 인식할 수 있다. 그러나 가열 장치가 반드시 350℃까지 이르는 매우 높은 온도에서 또는 단시간동안 700℃ 까지 동작해야 하는 것이 아닌 경우, 이러한 방식의 단열 개선은 생략될 수 있고, 이를 위해 더 간단하고 기계적으로 더 안정적인 구성이 바람직할 수 있다.

도 1에 부합하는 가열 장치(16)를 위한 면적 당 출력은 유리하게는 전술한 최대 4 W/㎠ 이다. 더욱 유리하게는, 면적 당 출력은 2.5 W/㎠ 미만이고, 그러면 가열 장치(16)는 열 유지 영역 등으로서 전기 쿡탑(11) 내에 장착될 수 있고, 전술한 종래 기술 문헌들에서 각각 제공되는 바와 같은 서두에 언급한 서모스탯에 의한 온도 모니터링이 필요하지 않다. 열 전도체(29) 자체의 구동 온도는 예컨대 100℃와 250℃사이일 수 있다. 미카나이트로 구성된 지지 몸체(26)는 장시간 동안 약 500℃의 온도를 견딜 수 있고, 지지 몸체 또는 운모 물질의 결합제에 따라 대략적으로 그 이상을 견딜 수 있다. 이는 단시간 동안 1분 미만 동안 최대 700℃에 이를 수 있다. 그러나 기본적으로 이와 같은 가열 장치는 이와 같이 높은 온도를 한계로 하여 설계되지 않고, 정확히 최대 350℃ 또는 최대 150℃에 불과하도록 한계가 설계되어야 한다. 서두에 언급한 쿡탑에서, 이는 소위 핫플레이트이다.

지지 몸체는 매우 유리하게는 백운모를 포함하는 미카나이트, 대안적으로 금운모를 포함하는 미카나이트로 구성되는 플레이트로 구성된다. 이는 해당 물질의 쪼개거나, 깨지거나 분쇄된 운모로부터 제조되는 합성 운모이다. 이를 위해, 이러한 운모의 깨진 조각들은 결합제로서의 합성 수지를 이용하여 압축 및 베이킹되고, 예컨대 매우 두꺼운 운모 필름 또는 운모 시트 또는 바로 전술한 운모 플레이트로서 압축 및 베이킹된다. 그러나 운모의 제조는 당업자에게 공지되어 있다.

도 7에는 가열 장치(316)의 또 다른 대안적인 열 전도체(329)가 도시되어 있다. 열 전도체(329)의 하부 에지(330)로부터 아래쪽으로 유지 부재들(331a 내지 331d)이 규칙적 간격으로 돌출해 있다. 유지 부재들(331)은 여기서 각각 서로 상이하게 형성되는데, 명료한 예시를 목적으로 이와 같이 도시되어 있는 것이다. 실무에서 전체 유지 부재들(331)은 동일하게 형성되는 것이 유리하다. 한편 유지 부재들은 모두 하부 에지(330)에 바로 연결되는 베이스 영역(333a 내지 333d)을 포함하고, 베이스 영역은 상이한 폭을 가질 수 있으며, 유리하게는 5 mm 와 15 mm 사이의 폭을 가질 수 있다. 각각의 베이스 영역(333)에는 각각 하나의 테이퍼형 첨두부(334)가 연결된다. 테이퍼형 첨두부(334)는 앞의 도면들과 유사하게 형성될 수 있다.

가장 왼쪽의 유지 부재(331a)에서 베이스 영역(333a)은 경사면을 포함하여 하부 에지(330)로부터 분기된다. 베이스 영역(333a)은 지지 몸체(326)의 상측에 안착된다. 베이스 영역(333a)의 중심에서 테이퍼형 첨두부(334a)가 분기되고, 이러한 테이퍼형 첨두부는 첨두형으로 합류되는 방식으로 형성된다. 이러한 테이퍼형 첨두부는 지지 몸체(326)를 관통하여 삽입되거나 이를 관통하여 뚫고, 이로써 지지 몸체(326)에서 열 전도체(329)가 고정되는 것이며, 테이퍼형 첨두부(334a) 자체는 지지 몸체(326) 내에 고정된다. 지지 몸체(326) 상에서 테이퍼형 첨두부(334a)의 좌, 우측에서 베이스 영역(333a)의 하부 에지의 확인 가능한 넓은 안착부 영역에 의하여 안정적인 고정이 가능하다. 지지 몸체(396) 안으로 추가적인 압입은 거의 가능하지 않으며, 또한 이를 목적하지도 않는다. 이 경우에도, 유지 부재(331a)의 좌, 우측에서 어떻게 열 전도체(329)의 하부 에지(330)가 지지 몸체(326)의 상측 위에 분명하게 연장되는 것을 확인할 수 있다.

제2 유지 부재(331b)에서는 유사하게 형성된 베이스 영역(333b)이 구비된다. 중앙에서 베이스 영역으로부터 돌출하는 테이퍼형 첨두부(334b)는 베이스 영역(333b)에 바로 연결되는 추가-베이스 영역(335b)을 포함한다. 이러한 추가-베이스 영역(335b)은 균일한 폭을 가진다. 추가-베이스 영역은 지지 몸체(326) 내에 위치하고, 지지 몸체의 상측에 베이스 영역(333b)의 하부 에지가 안착된다. 추가-베이스 영역(335b)은 약간 아래쪽으로 지지 몸체(326)보다 돌출하고, 이때 추가 베이스 영역에는 테이퍼형 첨두부(334b)가 연결된다. 테이퍼형 첨두부는 특히 지지 몸체(326) 내에 전체 유지 부재(331b)가 보다 용이하게 압입되게 하는 역할을 한다.

제3 유지 부재(331c)에도 마찬가지로 베이스 영역(333c)이 구비되고, 베이스 영역은 열 전도체(329)의 하부 에지(330)로부터 돌출한다. 물론, 베이스 영역은 경사지게 돌출하지 않고, 가급적 직각으로 돌출한다. 베이스 영역의 하부 에지의 중앙에서 균일한 폭을 갖는 추가-베이스 영역(335c)이 아래쪽으로 돌출하고, 이러한 추가-베이스 영역은 라운딩 처리된 테이퍼형 첨두부(334c)로 이어진다. 추가-베이스 영역(335c)의 좌, 우측에서 베이스 영역(333c)의 하부 에지의 영역은 다시 비교적 폭 넓고, 힘이 가해지더라도 압입되지 않고 지지 몸체(326)의 상측에서 양호하게 지지될 수 있다. 이 경우에도 추가-베이스 영역(335c)은 지지 몸체(326)를 완전히 관통하여 연장된다. 라운딩 처리된 첨두부(334c)는 서두에 설명한 바와 같이, 경사진 첨두부에 비해 압입 및/또는 제조 시 이점을 가질 수 있다.

제4 유지 부재(331d)에서 라운딩 처리된 형상을 갖는 베이스 영역(333d)은 열 전도체(329)의 하부 에지(330)로부터 아래쪽으로 연장된다. 이 경우에도 다시 중앙에는 유지 부재(331d)의 추가-베이스 영역(335d)으로의 이행 구간이 구비되고, 더욱이 균일한 폭을 가지는 추가-베이스 영역(335d)으로의 이행 구간이 구비된다. 여기에는 첨두형의 테이퍼형 첨두부(334d)가 연결되고, 이러한 테이퍼형 첨두부는 지지 몸체(326) 내에 또는 지지 몸체(326)를 통하여 삽입되는 것을 위해 역할한다. 베이스 영역(333d)의 라운딩 처리된 형상은 가급적 열 전도체(329)의 제조를 용이하게 할 수 있고, 베이스 영역(333d)으로의 이행 구간 내에서 하부 에지(330)의 미세한 손상을 방지할 수 있다.

도 7에서 테이퍼형 첨두부들(334a 내지 334d)의 간격이 도 3 내지 도 6의 경우와 유사하더라도, 실무에서 간격은 이러한 도면들보다 더 클 수 있다. 특히, 열 전도체(329)의 자유 하부 에지(330)의 길이는 도 3 내지 도 6의 경우와 유사할 수 있다. 말하자면, 도 7로부터, 본원에서 선택된 치수 결정에서 유지 부재들(331a 내지 331d)의 간격이 비교적 짧고, 그 결과로서 열 전도체 횡단면이 확대되거나 폭이 넓어지면 가열 장치(316)의 균일한 발열 상 또는 균일한 가열 효과에 상당히 부정적인 효과를 가져올 수 있음을 알 수 있다.

Claims (20)

1. 전기 조리 기구를 위한 가열 장치로서,
   - 적어도 하나의 기다란 열 전도체,
   - 상측에 상기 열 전도체가 배치 및 고정되는 지지 몸체,
   - 상기 지지 몸체를 위한 지지 장치를 포함하고,
   - 상기 열 전도체는 파형의 평편 스트립으로서 형성되고, 상기 파형의 평편 스트립은 적어도 그 하측에서 서로 간격을 두어 배치되는 유지 부재들을 포함하고,
   - 상기 유지 부재들은 아래쪽으로 튀어 나오거나 돌출하고,
   - 상기 유지 부재들은 상기 지지 몸체 안으로 압입되고,
   - 상기 지지 장치는 상기 지지 몸체를 적어도 상기 지지 몸체의 외부 영역에서 또는 외부 가장자리를 따라 아래쪽으로 지지하고,
   - 상기 지지 몸체는 압축 또는 접착된 운모 물질로 구성되고,
   상기 유지 부재들은 상기 열 전도체로부터 멀어지는 상기 유지 부재들의 종방향 연장 부분에서 테이퍼형으로 형성되고,
   상기 열 전도체의 하부 에지에 연결되는 유지 부재의 베이스 영역은 상기 열 전도체로부터 멀어지는 횡 방향으로 0.1 mm와 2 mm 사이의 길이로 제공되고,
   상기 베이스 영역에는 상기 유지 부재의 테이퍼형 자유 첨두부가 연결되고, 상기 테이퍼형 자유 첨두부는 상부의 넓은 영역에서 상기 베이스 영역의 최소 폭보다 더 좁은 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 지지 몸체 또는 상기 지지 몸체의 물질의 열 팽창 계수는 상기 열 전도체의 열 팽창 계수에 비해 최대 10% 만큼 상이한 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 지지 몸체 또는 상기 지지 몸체의 물질의 열 팽창 계수는 250℃까지 이르는 온도에서 상기 열 전도체의 열 팽창 계수에 비해 최대 10% 만큼 상이한 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 운모 물질은 미카나이트인 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 지지 몸체는 상기 적어도 하나의 열 전도체가 위에 배치된 상측을 포함하는 플레이트로서 형성되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
6. 제 5 항에 있어서,
   상기 지지 몸체는 0.1 mm 와 2 mm 사이의 두께를 가지는 얇은 평행 평면 플레이트로서 형성되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 지지 몸체 위에 배치되는 쿡탑의 쿡탑 플레이트와의 간격을 유지하기 위해, 상기 지지 몸체의 외부 가장자리의 영역에서 스페이서들이 상기 지지 몸체의 상측에 걸쳐 위쪽으로 제공되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 유지 부재들은 통합형으로 상기 열 전도체로부터 형성되거나 통합형으로 상기 열 전도체에 맞게 성형되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 유지 부재들은 통합형으로 상기 열 전도체로부터 형성되거나 통합형으로 상기 열 전도체에 맞게 성형되고, 동일한 연속적 평편 스트립 물질로 구성되고, 상기 열 전도체의 하부 에지로부터 한 부분으로 그리고 일체형으로 아래쪽으로 돌출하는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
10. 제 1 항에 있어서,
    상기 유지 부재들의 길이는 상기 열 전도체의 높이의 50% 내지 200%이거나 1 mm 와 6 mm 사이인 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
11. 제 1 항에 있어서,
    모든 유지 부재들의 절반 이상은 상기 열 전도체로부터 멀어지는 상기 유지부재들의 종방향 연장 부분에서 아치형으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
12. 삭제
13. 삭제
14. 제 1 항에 있어서,
    각각의 유지 부재는 이를 위해 구비된 정확히 하나의 단일 베이스 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
15. 삭제
16. 제 14 항에 있어서,
    상기 베이스 영역은 상기 열 전도체의 종방향을 따르는 방향에서 2 mm 와 10 mm 사이 또는 상기 열 전도체의 높이의 100% 와 400% 사이의 폭을 가지는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
17. 제 1 항에 있어서,
    상기 베이스 영역은 상기 지지 몸체 내에 배치되지 않거나 상기 지지 몸체의 상부에 연장되거나 상기 지지 몸체 상에 안착되는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
18. 제 17 항에 있어서,
    상기 베이스 영역은 상기 지지 몸체에 가압되거나 상기 지지 몸체 상에 눌리는 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
19. 제 1 항에 있어서,
    상기 열 전도체의 영역 내에서 상기 열 전도체의 면적 당 출력은 2.5 W/㎠ 미만인 것을 특징으로 하는, 가열 장치.
20. 제 1 항에 따르는 적어도 하나의 가열 장치를 포함하는 전기 조리 기구로서,
    상기 전기 조리 기구는 전기 쿡탑으로서 또는 전기 베이킹 오븐으로서 형성되는 것을 특징으로 하는, 전기 조리 기구.

Images