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KR102554163B1 - Ink composition containing light emitting particles, light conversion layer and light emitting device - Google Patents

Ink composition containing light emitting particles, light conversion layer and light emitting device Download PDF

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KR102554163B1
KR102554163B1 KR1020237003197A KR20237003197A KR102554163B1 KR 102554163 B1 KR102554163 B1 KR 102554163B1 KR 1020237003197 A KR1020237003197 A KR 1020237003197A KR 20237003197 A KR20237003197 A KR 20237003197A KR 102554163 B1 KR102554163 B1 KR 102554163B1
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다카유키 미키
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마사히로 고바야시
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디아이씨 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명의 목적은, 우수한 보존 안정성을 구비함과 더불어, 열안정성이 우수한 경화물을 형성 가능한 발광 입자 함유 잉크 조성물, 당해 잉크 조성물을 이용한 광변환층 그리고 발광 소자를 제공하는 것에 있다. 본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자와 광중합성 화합물과 광중합 개시제와 산화 방지제를 함유하고, 상기 광중합 개시제로서, 아실포스핀옥사이드계 화합물을 2종 이상 함유하고, 상기 산화 방지제로서, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물 및 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물을 1종 이상 함유하는 것을 특징으로 한다.An object of the present invention is to provide an ink composition containing light emitting particles capable of forming a cured product having excellent storage stability and excellent heat stability, a light conversion layer using the ink composition, and a light emitting element. The ink composition containing luminescent particles of the present invention contains nanoparticles containing luminescent nanocrystals, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an antioxidant, and contains two or more acylphosphine oxide-based compounds as the photopolymerization initiator, As said antioxidant, it is characterized by containing at least one compound selected from the group consisting of a compound having a hydroxyphenyl group and a compound having a phosphorous acid ester structure.

Figure R1020237003197
Figure R1020237003197

Description

발광 입자 함유 잉크 조성물, 광변환층 및 발광 소자Ink composition containing light emitting particles, light conversion layer and light emitting device

본 발명은, 발광 입자 함유 잉크 조성물, 광변환층 및 발광 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an ink composition containing light emitting particles, a light conversion layer, and a light emitting device.

종래, 액정 표시 장치 등의 디스플레이에 있어서의 컬러 필터 화소부는, 예를 들면, 적색 유기 안료 입자 또는 녹색 유기 안료 입자와, 알칼리 가용성 수지 및/또는 아크릴계 단량체를 함유하는 경화성 레지스트 재료를 이용하여, 포토리소그래피법에 의하여 제조되어 왔다.Conventionally, a color filter pixel portion in a display such as a liquid crystal display device uses a curable resist material containing, for example, red organic pigment particles or green organic pigment particles, an alkali-soluble resin and/or an acrylic monomer, and It has been manufactured by a lithography method.

최근, 디스플레이의 저소비 전력화가 강하게 요구되게 되어, 상기 적색 유기 안료 입자 또는 녹색 유기 안료 입자 대신에, 예를 들면 양자 도트, 양자 로드, 그 외의 무기 형광체 입자 등의 발광성 나노 입자를 이용하여 적색광 또는 녹색광을 취출(取出)하는 컬러 필터 화소부가, 활발하게 연구되고 있다.In recent years, there has been a strong demand for low power consumption of displays, and instead of the red organic pigment particles or green organic pigment particles, for example, quantum dots, quantum rods, and other inorganic phosphor particles, etc. luminescent nanoparticles are used to provide red light or green light. A color filter pixel unit that extracts is being actively researched.

그런데, 상기 포토리소그래피법에 의한 컬러 필터의 제조 방법에서는, 그 제조 방법의 특징으로부터, 비교적 고가의 반도체 나노 결정을 포함한 화소부 이외의 레지스트 재료가 낭비된다고 하는 결점이 있었다. 이와 같은 상황하, 상기와 같은 레지스트 재료의 낭비를 없애기 위하여, 잉크젯법에 의하여, 광변환 기판 화소부를 형성하는 것이 검토되기 시작하고 있다(특허문헌 1).[0005] However, the manufacturing method of the color filter by the photolithography method has a drawback in that resist materials other than the pixel portion including relatively expensive semiconductor nanocrystals are wasted due to the characteristics of the manufacturing method. Under such circumstances, in order to eliminate the waste of the resist material as described above, the formation of the pixel portion of the photo-conversion substrate by the inkjet method has begun to be examined (Patent Document 1).

상기 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자는, 형광 또는 인광을 발하고, 발광 파장의 반치폭이 좁다고 하는 특징이 있다. 상기 반도체 나노 결정으로서, 초기에는 CdSe가 사용되고 있었지만, 그 유해성을 회피하기 위하여, 최근에는 InP나, 페로브스카이트 구조를 갖는 것이 사용되고 있다. 페로브스카이트 구조의 반도체 나노 결정으로서, 예를 들면, CsPbX3(X는 할로겐 원소이며, Cl, Br 또는 I를 나타낸다.)로 표시되는 화합물이 알려져 있다.Nanoparticles containing semiconductor nanocrystals are characterized in that they emit fluorescence or phosphorescence and have a narrow half-width of the emission wavelength. As the semiconductor nanocrystal, CdSe was initially used, but in order to avoid its harmfulness, recently InP or one having a perovskite structure has been used. As a semiconductor nanocrystal of a perovskite structure, for example, a compound represented by CsPbX 3 (X is a halogen element and represents Cl, Br or I) is known.

그 중에서도, 페로브스카이트형 구조를 갖는 반도체 나노 결정은, 할로겐 원소의 종류와 그 존재 비율을 조정함으로써 발광 파장을 제어할 수 있기 때문에, 생산성이 우수하다고 하는 이점이 있다. 그리고, 예를 들면, 페로브스카이트형 구조를 갖는 발광성 결정과 아크릴레이트 폴리머 유래의 고체 폴리머 함유 조성물 및 발광성 부품이 개시되어 있다(특허문헌 2). 또, 페로브스카이트 화합물을 포함하는 형광 입자, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 산화 방지제를 포함하는 조성물을 경화시켜 이루어지는 막(광변환층)이 개시되어 있다(특허문헌 3).Among them, semiconductor nanocrystals having a perovskite structure have an advantage of excellent productivity because the emission wavelength can be controlled by adjusting the type of halogen element and its abundance. And, for example, a composition containing a light emitting crystal having a perovskite type structure and a solid polymer derived from an acrylate polymer and a light emitting component are disclosed (Patent Document 2). Further, a film (light conversion layer) obtained by curing a composition containing fluorescent particles containing a perovskite compound, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an antioxidant is disclosed (Patent Document 3).

그러나, 특허문헌 3에 개시된 상기 조성물은, 당해 조성물 중의 광중합 개시제의 함유량이 적기 때문에, 실제로는, 얻어진 광변환층의 경화가 불충분해진다. 그 때문에, 광변환층이 가열되었을 때에, 당해 광변환층에 포함되는 상기 페로브스카이트형 구조를 갖는 발광성 결정이 열산화에 의하여 열화하여, 발광 강도의 저하를 억제할 수 없다고 하는 문제가 있다. 한편, 충분히 경화된 광변환층을 얻기 위하여 상기 광중합 개시제의 함유량을 증가시키면, 상기 조성물의 잉크 점도가 상승하거나, 당해 광중합 개시제에 기인하는 석출이 발생하거나 하여, 잉크의 보존 안정성이 저하된다고 하는 문제가 있다.However, in the composition disclosed in Patent Literature 3, since the content of the photopolymerization initiator in the composition is small, curing of the obtained light conversion layer becomes insufficient in practice. Therefore, when the photo-conversion layer is heated, the luminescent crystals included in the photo-conversion layer and having the perovskite structure are deteriorated by thermal oxidation, and there is a problem that the decrease in luminescence intensity cannot be suppressed. On the other hand, when the content of the photopolymerization initiator is increased in order to obtain a sufficiently cured light conversion layer, the viscosity of the ink of the composition increases or precipitation due to the photopolymerization initiator occurs, resulting in a decrease in storage stability of the ink. there is

국제 공개 제2008/001693호 공보International Publication No. 2008/001693 국제 공개 제2018/028870호 공보International Publication No. 2018/028870 일본국 특허공개 2020-70374호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2020-70374

본 발명의 목적은, 우수한 보존 안정성을 구비함과 더불어, 열안정성이 우수한 경화물을 형성 가능한 발광 입자 함유 잉크 조성물, 당해 잉크 조성물을 이용한 광변환층 그리고 발광 소자를 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide an ink composition containing light emitting particles capable of forming a cured product having excellent storage stability and excellent heat stability, a light conversion layer using the ink composition, and a light emitting element.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위하여, 광중합성 화합물과 광중합 개시제와 산화 방지제를 함유하는 나노 입자 함유 잉크 조성물에 주목하여 예의 검토를 거듭한 결과, 광중합 개시제로서 특정 화합물 2종 이상을 이용함과 더불어, 특정 화합물을 포함하는 산화 방지제를 이용하는 잉크 조성물은, 우수한 보존 안정성을 구비함과 더불어, 열안정성이 우수한 광경화물을 형성 가능한 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.In order to solve the above problems, the present invention focuses on a nanoparticle-containing ink composition containing a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an antioxidant, and as a result of repeated intensive studies, two or more specific compounds are used as photopolymerization initiators. , while having excellent storage stability, an ink composition using an antioxidant containing a specific compound was found to be capable of forming a photocured product having excellent thermal stability, and the present invention was completed.

즉, 본 발명은, 메탈할라이드로 이루어지고 발광성을 갖는 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자와, 광중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 산화 방지제를 함유하고, 상기 광중합 개시제로서, 아실포스핀옥사이드계 화합물을 2종 이상 함유하고, 상기 산화 방지제로서, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물 및 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물을 1종 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물을 제공한다.That is, the present invention contains nanoparticles made of metal halide and containing semiconductor nanocrystals having luminescence, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an antioxidant, and as the photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide-based compound and at least one compound selected from the group consisting of a compound having a hydroxyphenyl group and a compound having a phosphorous acid ester structure as the antioxidant. .

또한, 본 발명은, 상기 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물의 경화물로 이루어지는 광변환층, 및 당해 광변환층을 이용한 발광 소자를 제공한다.In addition, the present invention provides a light conversion layer made of a cured product of a nanoparticle-containing ink composition containing semiconductor nanocrystals, and a light emitting device using the light conversion layer.

본 발명에 의하면, 우수한 보존 안정성을 구비함과 더불어, 열안정성이 우수한 경화물을 형성 가능한 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물, 당해 잉크 조성물을 이용한 광변환층 그리고 발광 소자를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an ink composition containing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals capable of forming a cured product having excellent storage stability and excellent thermal stability, a light conversion layer using the ink composition, and a light emitting device. there is.

도 1은, 본 발명에 따른 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 제조 방법의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 2는, 본 발명에 따른 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 다른 구성예를 나타내는 단면도이다. (a)는 중공 입자 내포 발광 입자를 나타내고, (b)는 폴리머 피복 발광 입자를 나타낸다.
도 3은, 본 발명에 따른 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 다른 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다. (a)는 실리카 피복 발광 입자를 나타내고, (b)는 폴리머 피복 발광 입자를 나타낸다.
도 4는, 본 발명에 따른 발광 소자의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 5는, 액티브 매트릭스 회로의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 6은, 액티브 매트릭스 회로의 구성을 나타내는 개략도이다.
1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a method for producing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals according to the present invention.
2 is a cross-sectional view showing another configuration example of nanoparticles containing semiconductor nanocrystals according to the present invention. (a) shows hollow particle-enclosed light-emitting particles, and (b) shows polymer-coated light-emitting particles.
3 is a cross-sectional view showing another embodiment of nanoparticles containing semiconductor nanocrystals according to the present invention. (a) shows silica-coated light-emitting particles, and (b) shows polymer-coated light-emitting particles.
4 is a cross-sectional view showing an embodiment of a light emitting device according to the present invention.
5 is a schematic diagram showing the configuration of an active matrix circuit.
Fig. 6 is a schematic diagram showing the configuration of an active matrix circuit.

이하, 본 발명의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물, 그 제조 방법 및 발광 소자에 대하여, 첨부 도면에 나타내는 적합 실시 형태에 의거하여 상세하게 설명한다. 도 1은, 본 발명의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 제조 방법의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다. 중공 입자로서 중공 실리카 입자를 이용한 경우의 제조예를 나타낸다. 또한, 도 1에서는, 하단의 나노 결정 원료 부여 이후의 중공 입자(912)에 있어서, 세공(912b)의 기재를 생략했다. 또, 도 2 및 도 3은, 나노 입자의 다른 구성예를 나타내는 단면도이다.Hereinafter, an ink composition containing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals, a manufacturing method thereof, and a light emitting element of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a method for producing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals of the present invention. A production example in the case of using hollow silica particles as hollow particles is shown. In Fig. 1, description of the pores 912b is omitted in the hollow particles 912 after the application of the nanocrystal raw material at the lower end. 2 and 3 are cross-sectional views showing other structural examples of nanoparticles.

1. 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물1. Ink composition containing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals

본 발명의 실시 형태의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물은, 광중합성 화합물과, 적어도 2종 이상의 광중합 개시제와, 적어도 1종 이상의 산화 방지제를 함유한다. 일 실시 형태의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물은, 후술하는 바와 같이, 유기 EL을 이용한 발광 표시 소자의 광변환층을 잉크젯 방식으로 형성하는 용도에 적합하게 이용할 수 있다. 당해 잉크 조성물은, 비교적 고액인 발광성을 갖는 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자, 광중합성 화합물 등의 재료를 불필요하게 소비하지 않고, 필요한 개소에 필요한 양을 이용하는 것만으로 화소부(광변환층)를 형성할 수 있는 점에서, 포토리소그래피 방식보다, 잉크젯 방식에 적합하도록, 적절히 조제하여 이용하는 것이 바람직하다.The nanoparticle-containing ink composition containing semiconductor nanocrystals of the embodiment of the present invention contains a photopolymerizable compound, at least two or more photopolymerization initiators, and at least one or more antioxidants. As will be described later, the ink composition containing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals of one embodiment can be suitably used for forming a light conversion layer of a light emitting display device using organic EL by an inkjet method. The ink composition does not unnecessarily consume materials such as nanoparticles and photopolymerizable compounds containing semiconductor nanocrystals having a relatively high luminescent property, and can produce a pixel portion (photoconversion layer) only by using the required amount in a necessary location. It is preferable to prepare and use suitably so that it may be suitable for an inkjet method rather than a photolithography method from the point which can be formed.

상기 잉크 조성물은, 광중합 개시제를 2종 이상 함유함으로써, 광중합성 개시제 1종을 이용한 경우와 비교하여, 광중합 개시제의 첨가량이 적어도 충분한 경화가 가능한, 즉, 광중합 개시제의 첨가량을 저감시킬 수 있다. 그 때문에, 상기 잉크 조성물은, 광중합 개시제의 광중합성 화합물에 대한 용해성을 확보할 수 있기 때문에, 잉크 점도의 상승을 억제할 수 있음과 더불어, 당해 광중합 개시제에 기인하는 석출을 억제할 수 있다. 따라서, 상기 잉크 조성물은, 우수한 보존 안정성을 얻을 수 있다. 또, 일반적으로, 잉크 조성물은, 보관 중에 광중합 개시제의 촉매 작용에 의하여 광중합 화합물의 반응이 진행되어 잉크 점도가 상승하는 경우가 있다. 이에 대하여, 본 발명의 잉크 조성물은, 특정 산화 방지제를 함유하기 때문에, 잉크 점도의 상승을 더욱 억제할 수 있다. 그리고, 상기 잉크 조성물에 의하면, 광중합 개시제의 첨가량이 적어도 충분히 경화된 광변환층을 형성할 수 있기 때문에, 당해 광변환층이 가열되었을 때에, 발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 열산화에 의한 열화를 억제하여, 발광 강도의 저하를 방지할 수 있다. 또, 상기 잉크 조성물은 상술한 산화 방지제를 함유하기 때문에, 상기 열산화를 보다 확실히 억제할 수 있다. 따라서, 상기 잉크 조성물에 의하여 얻어진 광변환층은, 우수한 외부 양자 효율을 얻을 수 있고, 바꾸어 말하면, 우수한 열안정성을 얻을 수 있다.By containing two or more types of photopolymerization initiators, the ink composition can achieve sufficient curing with a small addition amount of the photopolymerization initiator, that is, the addition amount of the photopolymerization initiator can be reduced compared to the case where one type of photopolymerization initiator is used. Therefore, in the ink composition, since the solubility of the photopolymerization initiator in the photopolymerizable compound can be ensured, an increase in ink viscosity can be suppressed and precipitation caused by the photopolymerization initiator can be suppressed. Therefore, the ink composition can obtain excellent storage stability. Further, in general, the reaction of the photopolymerization compound proceeds by the catalytic action of the photopolymerization initiator during storage, and the ink viscosity may increase. On the other hand, since the ink composition of this invention contains a specific antioxidant, the rise of ink viscosity can be further suppressed. In addition, since the ink composition can form a sufficiently cured light conversion layer with at least the amount of the photopolymerization initiator added, when the light conversion layer is heated, the nanoparticles containing the luminescent nanocrystals are degraded by thermal oxidation. can be suppressed to prevent a decrease in light emission intensity. Moreover, since the said ink composition contains the antioxidant mentioned above, the said thermal oxidation can be suppressed more reliably. Therefore, the light conversion layer obtained by the ink composition can obtain excellent external quantum efficiency, in other words, excellent thermal stability.

이하에서는, 광변환층을 구성하는 컬러 필터 화소부 형성용 잉크젯 잉크 조성물을 예로 들고, 본 실시 형태의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물 및 그 구성 성분에 대하여 설명한다. 구성 성분으로서는, 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 산화 방지제 외에, 배위자, 광확산 입자, 고분자 분산제 등을 들 수 있다.Hereinafter, an inkjet ink composition for forming a color filter pixel portion constituting a light conversion layer will be taken as an example, and an ink composition containing nanoparticles containing semiconductor nanocrystals and components thereof will be described. Examples of constituent components include nanoparticles containing semiconductor nanocrystals, photopolymerizable compounds, photopolymerization initiators and antioxidants, as well as ligands, light diffusing particles, and polymer dispersants.

1-1. 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자1-1. Nanoparticles including semiconductor nanocrystals

본 발명에 있어서의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자는, 예를 들면, 소정의 파장의 광을 흡수함으로써, 흡수한 파장과는 상이한 파장의 광(형광 또는 인광)을 발할 수 있는 발광성을 갖는 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자를 나타낸다. 즉, 발광성이란, 전자의 여기에 의하여 발광하는 성질인 것이 바람직하고, 여기광에 의한 전자의 여기에 의하여 발광하는 성질인 것이 보다 바람직하다. 발광성 나노 결정은, 605~665nm의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광(적색광)을 발하는, 적색 발광성의 나노 결정이어도 되고, 500~560nm의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광(녹색광)을 발하는, 녹색 발광성의 나노 결정이어도 되며, 420~480nm의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광(청색광)을 발하는, 청색 발광성의 나노 결정 입자여도 된다.The nanoparticles containing semiconductor nanocrystals in the present invention, for example, absorb light of a predetermined wavelength, thereby emitting light (fluorescence or phosphorescence) of a different wavelength from the absorbed wavelength. Represents nanoparticles containing nanocrystals. That is, the luminescent property is preferably a property of emitting light by excitation of electrons, and more preferably a property of emitting light by excitation of electrons by excitation light. The luminescent nanocrystals may be red luminescent nanocrystals that emit light (red light) having a peak emission wavelength in the range of 605 to 665 nm, and emit light (green light) having a peak emission wavelength in the range of 500 to 560 nm. It may be a luminescent nanocrystal, or may be a blue luminescent nanocrystal particle that emits light (blue light) having an emission peak wavelength in the range of 420 to 480 nm.

발광성을 갖는 반도체 나노 결정은, 반도체 재료를 포함하는 발광성 나노 결정 입자(발광성 반도체 나노 결정)여도 된다. 발광성을 갖는 반도체 나노 결정으로서는, 양자 도트, 양자 로드 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 발광 스펙트럼의 제어가 용이하고, 신뢰성을 확보한 후에, 생산 비용을 저감하여, 양산성을 향상시킬 수 있는 관점에서 양자 도트가 바람직하다. 또한, 발광성 나노 결정은, 보다 반치폭이 좁은 발광 피크를 얻을 수 있는 관점에서, 메탈할라이드로 이루어지는 양자 도트인 것이 바람직하다. 본 실시 형태에서는, 이하, 메탈할라이드로 이루어지는 양자 도트로 이루어지는 나노 입자에 대하여 설명하지만, 본 발명은, 이에 한정되지 않고, 다양한 발광성을 갖는 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자에 대하여 적용 가능하다.The luminescent semiconductor nanocrystal may be a luminescent nanocrystal particle (luminescent semiconductor nanocrystal) containing a semiconductor material. Examples of semiconductor nanocrystals having luminescent properties include quantum dots and quantum rods. Among these, quantum dots are preferable from the viewpoint of being easy to control the emission spectrum, securing reliability, reducing production cost, and improving mass productivity. Further, the luminescent nanocrystal is preferably a quantum dot made of a metal halide from the viewpoint of obtaining a luminescence peak having a narrower half-width. In this embodiment, nanoparticles made of quantum dots made of metal halide will be described below, but the present invention is not limited to this, and is applicable to nanoparticles made of semiconductor nanocrystals having various luminescent properties.

1-1-1. 중공 입자 내포 발광 입자1-1-1. Luminescent Particles Encapsulating Hollow Particles

본 발명에 있어서의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자는, 도 1에 나타내는 발광 입자(91)로서, 중공부(912a)와 중공부(912a)에 연통하는 세공(912b)을 갖는 중공 입자(912)와, 중공부(912a)에 수용되고, 메탈할라이드로 이루어지며, 발광성을 갖는 반도체 나노 결정(911)(이하, 간단하게 「나노 결정(911)」이라고 하는 경우도 있다.)을 구비한다(이하, 「중공 입자 내포 발광 입자(91)」라고 하는 경우도 있다.). 이러한 발광 입자(91)는, 예를 들면, 중공 입자(912)의 중공부(912a)에 나노 결정(911)을 석출시킴으로써 얻을 수 있다. 발광 입자(91)는, 나노 결정(911)이 중공 입자(912)에 의하여 보호되기 때문에, 열이나 산소에 대한 우수한 안정성을 얻을 수 있고, 그 결과, 우수한 발광 특성을 얻을 수 있다.The nanoparticles containing semiconductor nanocrystals in the present invention are the light emitting particles 91 shown in FIG. ), and a semiconductor nanocrystal 911 accommodated in the hollow portion 912a, made of metal halide, and having luminescence (hereinafter, simply referred to as “nanocrystal 911” in some cases). Hereinafter, it may also be referred to as "the hollow particle-encapsulated light-emitting particle 91"). Such light-emitting particles 91 can be obtained by, for example, depositing nanocrystals 911 in hollow portions 912a of hollow particles 912 . Since the nanocrystals 911 of the light emitting particles 91 are protected by the hollow particles 912, excellent stability against heat or oxygen can be obtained, and as a result, excellent light emitting characteristics can be obtained.

발광 입자(91)는, 그 표면을 소수 폴리머로 이루어지는 폴리머층(92)을 구비한 발광 입자(90)(이하, 「폴리머 피복 발광 입자」라고 기재하는 경우가 있다.)인 것이 보다 바람직하다. 폴리머 피복 발광 입자(90)는, 폴리머층(92)을 구비함으로써, 열, 산소에 대한 안정성을 더욱 향상시킴과 더불어, 우수한 입자 분산성을 얻을 수 있기 때문에, 광변환층으로 했을 때에 보다 우수한 발광 특성을 얻을 수 있다.The luminescent particles 91 are more preferably luminescent particles 90 having a polymer layer 92 made of a hydrophobic polymer on their surface (hereinafter sometimes referred to as "polymer-coated luminescent particles"). Since the polymer-coated light-emitting particles 90 are provided with the polymer layer 92, their stability against heat and oxygen can be further improved, and excellent particle dispersibility can be obtained. characteristics can be obtained.

<나노 결정(911)><Nano Crystal (911)>

나노 결정(911)은, 메탈할라이드로 이루어지며, 여기광을 흡수하여 형광 또는 인광을 발광하는 나노 사이즈의 결정체(나노 결정 입자)이다. 이러한 나노 결정(911)은, 예를 들면, 투과형 전자 현미경 또는 주사형 전자 현미경에 의하여 측정되는 최대 입자경이 100nm 이하인 결정체이다. 나노 결정(911)은, 예를 들면, 소정의 파장의 광 에너지나 전기 에너지에 의하여 여기되어, 형광 또는 인광을 발할 수 있다.The nanocrystals 911 are nano-sized crystals (nanocrystal particles) that are made of metal halide and emit fluorescence or phosphorescence by absorbing excitation light. The nanocrystal 911 is a crystal having a maximum particle size of 100 nm or less as measured by, for example, a transmission electron microscope or a scanning electron microscope. The nanocrystal 911 may emit fluorescence or phosphorescence by being excited by, for example, light energy or electrical energy of a predetermined wavelength.

메탈할라이드로 이루어지는 나노 결정(911)은, 일반식: AaMbXc로 표시되는 화합물이다.The nanocrystal 911 made of metal halide is a compound represented by the general formula: A a M b X c .

식 중, A는, 유기 양이온 및 금속 양이온 중 적어도 1종이다. 유기 양이온으로서는, 암모늄, 포름아미디늄, 구아니디늄, 이미다졸륨, 피리디늄, 피롤리디늄, 프로톤화 티오우레아 등을 들 수 있고, 금속 양이온으로서는, Cs, Rb, K, Na, Li 등의 양이온을 들 수 있다.In formula, A is at least 1 sort(s) of an organic cation and a metal cation. Examples of organic cations include ammonium, formamidinium, guanidinium, imidazolium, pyridinium, pyrrolidinium, and protonated thiourea. Examples of metal cations include Cs, Rb, K, Na, Li, etc. cations of

M은, 적어도 1종의 금속 양이온이다. 금속 양이온으로서는, 1족, 2족, 3족, 4족, 5족, 6족, 7족, 8족, 9족, 10족, 11족, 13족, 14족, 15족으로부터 선택되는 금속 양이온을 들 수 있다. 보다 바람직하게는, Ag, Au, Bi, Ca, Ce, Co, Cr, Cu, Eu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, Ir, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Nd, Ni, Os, Pb, Pd, Pt, Re, Rh, Ru, Sb, Sc, Sm, Sn, Sr, Ta, Te, Ti, V, W, Zn, Zr 등의 양이온을 들 수 있다.M is at least one metal cation. As the metal cation, a metal cation selected from group 1, group 2, group 3, group 4, group 5, group 6, group 7, group 8, group 9, group 10, group 11, group 13, group 14 and group 15 can be heard More preferably, Ag, Au, Bi, Ca, Ce, Co, Cr, Cu, Eu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, Ir, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Nd, Ni, Os , Pb, Pd, Pt, Re, Rh, Ru, Sb, Sc, Sm, Sn, Sr, Ta, Te, Ti, V, W, Zn, and Zr cations.

X는, 적어도 1종의 음이온이다. 음이온으로서는, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 시안화물 이온 등을 들 수 있다.X is at least one kind of anion. As anion, a chloride ion, a bromide ion, an iodide ion, a cyanide ion, etc. are mentioned.

a는 1~7이고, b는 1~4이며, c는 3~16이다.a is 1 to 7, b is 1 to 4, and c is 3 to 16.

이들 나노 결정(911)은, 그 입자 사이즈, X 사이트를 구성하는 음이온의 종류 및 존재 비율을 조정함으로써, 발광 파장(발광색)을 제어할 수 있다.The emission wavelength (emission color) of these nanocrystals 911 can be controlled by adjusting the size of the particles and the type and proportion of anions constituting the X site.

일반식 AaMmXx로 표시되는 화합물은, 구체적으로는, AMX, A4MX, AMX2, AMX3, A2MX3, AM2X3, A2MX4, A2MX5, A3MX5, A3M2X5, A3MX6, A4MX6, AM2X6, A2MX6, A4M2X6, A3MX8, A3M2X9, A3M3X9, A2M2X10, A7M3X16으로 표시되는 화합물이 바람직하다.The compound represented by the general formula A a M m X x is, specifically, AMX, A 4 MX, AMX 2 , AMX 3 , A 2 MX 3 , AM 2 X 3 , A 2 MX 4 , A 2 MX 5 , A 3 MX 5 , A 3 M 2 X 5 , A 3 MX 6 , A 4 MX 6 , AM 2 X 6 , A 2 MX 6 , A 4 M 2 X 6 , A 3 MX 8 , A 3 M 2 X 9 , A 3 M 3 X 9 , A 2 M 2 X 10 , A 7 M 3 X 16 compounds are preferred.

식 중, A는, 유기 양이온 및 금속 양이온 중 적어도 1종이다. 유기 양이온으로서는, 암모늄, 포름아미디늄, 구아니디늄, 이미다졸륨, 피리디늄, 피롤리디늄, 프로톤화 티오우레아 등을 들 수 있고, 금속 양이온으로서는, Cs, Rb, K, Na, Li 등의 양이온을 들 수 있다.In formula, A is at least 1 sort(s) of an organic cation and a metal cation. Examples of organic cations include ammonium, formamidinium, guanidinium, imidazolium, pyridinium, pyrrolidinium, and protonated thiourea. Examples of metal cations include Cs, Rb, K, Na, Li, etc. cations of

식 중, M은, 적어도 1종의 금속 양이온이다. 구체적으로는, 1종의 금속 양이온(M1), 2종의 금속 양이온(M1 αM2 β), 3종의 금속 양이온(M1 αM2 βM3 γ), 4종의 금속 양이온(M1 αM2 βM3 γM4 δ) 등을 들 수 있다. 단, α, β, γ, δ는, 각각 0~1의 실수를 나타내고, 또한 α+β+γ+δ=1을 나타낸다. 금속 양이온으로서는, 1족, 2족, 3족, 4족, 5족, 6족, 7족, 8족, 9족, 10족, 11족, 13족, 14족, 15족으로부터 선택되는 금속 양이온을 들 수 있다. 보다 바람직하게는, Ag, Au, Bi, Ca, Ce, Co, Cr, Cu, Eu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, Ir, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Nd, Ni, Os, Pb, Pd, Pt, Re, Rh, Ru, Sb, Sc, Sm, Sn, Sr, Ta, Te, Ti, V, W, Zn, Zr 등의 양이온을 들 수 있다.In formula, M is at least 1 sort(s) of metal cation. Specifically, one type of metal cation (M 1 ), two types of metal cations (M 1 α M 2 β ), three types of metal cations (M 1 α M 2 β M 3 γ ), and four types of metal cations (M 1 α M 2 β M 3 γ M 4 δ ) and the like. However, α, β, γ, and δ represent real numbers of 0 to 1, respectively, and represent α+β+γ+δ = 1. As the metal cation, a metal cation selected from group 1, group 2, group 3, group 4, group 5, group 6, group 7, group 8, group 9, group 10, group 11, group 13, group 14 and group 15 can be heard More preferably, Ag, Au, Bi, Ca, Ce, Co, Cr, Cu, Eu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, Ir, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Nd, Ni, Os , Pb, Pd, Pt, Re, Rh, Ru, Sb, Sc, Sm, Sn, Sr, Ta, Te, Ti, V, W, Zn, and Zr cations.

식 중, X는, 적어도 1종의 할로겐을 포함하는 음이온이다. 구체적으로는, 1종의 할로겐 음이온(X1), 2종의 할로겐 음이온(X1 αX2 β) 등을 들 수 있다. 음이온으로서는, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 시안화물 이온 등을 들 수 있고, 적어도 1종의 할로겐화물 이온을 포함한다.In formula, X is an anion containing at least 1 type of halogen. Specifically, one type of halogen anion (X 1 ), two types of halogen anion (X 1 α X 2 β ), and the like are exemplified. Examples of the anion include chloride ion, bromide ion, iodide ion, cyanide ion and the like, and at least one kind of halide ion is included.

상기 일반식 AaMmXx로 표시되는 메탈할라이드로 이루어지는 화합물은, 발광 특성을 양호하게 하기 위하여, Bi, Mn, Ca, Eu, Sb, Yb 등의 금속 이온이 첨가(도프)된 것이어도 된다.The metal halide compound represented by the general formula A a M m X x may be one in which metal ions such as Bi, Mn, Ca, Eu, Sb, Yb are added (doped) in order to improve the light emission characteristics. do.

상기 일반식 AaMmXx로 표시되는 메탈할라이드로 이루어지는 화합물 중에서, 페로브스카이트형 결정 구조를 갖는 화합물은, 그 입자 사이즈, M 사이트를 구성하는 금속 양이온의 종류 및 존재 비율을 조정하고, 또한 X 사이트를 구성하는 음이온의 종류 및 존재 비율을 조정함으로써, 발광 파장(발광색)을 제어할 수 있는 점에서, 반도체 나노 결정으로서 이용하는 데에 있어서 특히 바람직하다. 구체적으로는, AMX3, A3MX5, A3MX6, A4MX6, A2MX6로 표시되는 화합물이 바람직하다. 식 중의 A, M 및 X는 상기와 같다. 또, 페로브스카이트형 결정 구조를 갖는 화합물은, 상술한 바와 같이, Bi, Mn, Ca, Eu, Sb, Yb 등의 금속 이온이 첨가(도프)된 것이어도 된다.Among the compounds composed of metal halides represented by the general formula A a M m X x , the compound having a perovskite-type crystal structure adjusts its particle size, the type and abundance of metal cations constituting the M site, Moreover, since the emission wavelength (emission color) can be controlled by adjusting the type and abundance of anions constituting the X site, it is particularly preferable for use as semiconductor nanocrystals. Specifically, compounds represented by AMX 3 , A 3 MX 5 , A 3 MX 6 , A 4 MX 6 , and A 2 MX 6 are preferable. A, M and X in the formula are as described above. As described above, the compound having a perovskite crystal structure may be one to which metal ions such as Bi, Mn, Ca, Eu, Sb, and Yb are added (doped).

페로브스카이트형 결정 구조를 나타내는 화합물 중에서도, 더욱 양호한 발광 특성을 나타내기 위하여, A는 Cs, Rb, K, Na, Li이고, M은 1종의 금속 양이온(M1), 또는 2종의 금속 양이온(M1 αM2 β)이며, X는 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온인 것이 바람직하다. 단, α와 β는 각각 0~1의 실수를 나타내고, α+β=1을 나타낸다. 구체적으로는, M은, Ag, Au, Bi, Cu, Eu, Fe, Ge, K, In, Na, Mn, Pb, Pd, Sb, Si, Sn, Yb, Zn, Zr로부터 선택되는 것이 바람직하다.Among the compounds exhibiting a perovskite-type crystal structure, A is Cs, Rb, K, Na, Li, and M is one metal cation (M 1 ) or two metals in order to exhibit better light emission characteristics. It is a cation (M 1 α M 2 β ), and X is preferably a chloride ion, bromide ion, or iodide ion. However, α and β represent real numbers of 0 to 1, respectively, and represent α+β=1. Specifically, M is preferably selected from Ag, Au, Bi, Cu, Eu, Fe, Ge, K, In, Na, Mn, Pb, Pd, Sb, Si, Sn, Yb, Zn, and Zr. .

메탈할라이드로 이루어지고, 페로브스카이트형 결정 구조를 갖는 나노 결정(911)의 구체적인 조성으로서, CsPbBr3, CH3NH3PbBr3, CHN2H4PbBr3 등의 M으로서 Pb를 이용한 나노 결정(911)은, 광강도가 우수함과 더불어 양자 효율이 우수한 점에서, 바람직하다. 또, CsSnBr3, CsSnCl3, CsSnBr1.5Cl1.5, Cs3Sb2Br9, (CH3NH3)3Bi2Br9, (C4H9NH3)2AgBiBr6 등의 M으로서 Pb 이외의 금속 양이온을 이용한 나노 결정(911)은, 저독성이며 환경에 대한 영향이 적은 점에서, 바람직하다.As a specific composition of the nanocrystal 911 made of metal halide and having a perovskite-type crystal structure, nanocrystals using Pb as M such as CsPbBr 3 , CH 3 NH 3 PbBr 3 , CHN 2 H 4 PbBr 3 ( 911) is preferred because of its excellent light intensity and excellent quantum efficiency. In addition, CsSnBr 3 , CsSnCl 3 , CsSnBr 1.5 Cl 1.5 , Cs 3 Sb 2 Br 9 , (CH 3 NH 3 ) 3 Bi 2 Br 9 , (C 4 H 9 NH 3 ) 2 AgBiBr 6 , other than Pb as M The nanocrystal 911 using metal cations is preferable because of its low toxicity and low environmental impact.

나노 결정(911)으로서, 605~665nm의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 광(적색광)을 발하는 적색 발광성의 결정, 500~560nm의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 광(녹색광)을 발하는 녹색 발광성의 결정, 및, 420~480nm의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 광(청색광)을 발하는 청색 발광성의 결정을 선택하여 이용할 수 있다. 또, 일 실시 형태에 있어서, 이들 나노 결정을 복수 조합하여 이용해도 된다.As the nanocrystal 911, a red luminescent crystal emitting light (red light) having an emission peak in a wavelength range of 605 to 665 nm, and a green luminescent crystal emitting light (green light) having an emission peak in a wavelength range of 500 to 560 nm. , and blue light-emitting crystals that emit light (blue light) having an emission peak in the wavelength range of 420 to 480 nm can be selected and used. Further, in one embodiment, a plurality of these nanocrystals may be used in combination.

또한, 나노 결정(911)의 발광 피크의 파장은, 예를 들면, 절대 PL 양자 수율 측정 장치를 이용하여 측정되는 형광 스펙트럼 또는 인광 스펙트럼에 있어서 확인할 수 있다.In addition, the wavelength of the emission peak of the nanocrystal 911 can be confirmed in a fluorescence spectrum or phosphorescence spectrum measured using, for example, an absolute PL quantum yield measuring device.

적색 발광성의 나노 결정(911)은, 665nm 이하, 663nm 이하, 660nm 이하, 658nm 이하, 655nm 이하, 653nm 이하, 651nm 이하, 650nm 이하, 647nm 이하, 645nm 이하, 643nm 이하, 640nm 이하, 637nm 이하, 635nm 이하, 632nm 이하 또는 630nm 이하의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 것이 바람직하고, 628nm 이상, 625nm 이상, 623nm 이상, 620nm 이상, 615nm 이상, 610nm 이상, 607nm 이상 또는 605nm 이상의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 것이 바람직하다.The red light emitting nanocrystal 911 is 665 nm or less, 663 nm or less, 660 nm or less, 658 nm or less, 655 nm or less, 653 nm or less, 651 nm or less, 650 nm or less, 647 nm or less, 645 nm or less, 643 nm or less, 640 nm or less, 637 nm or less, 635 nm or less Hereinafter, those having an emission peak in a wavelength range of 632 nm or less or 630 nm or less are preferable, and those having an emission peak in a wavelength range of 628 nm or more, 625 nm or more, 623 nm or more, 620 nm or more, 615 nm or more, 610 nm or more, 607 nm or more, or 605 nm or more are preferred. desirable.

이들 상한값 및 하한값은, 임의로 조합할 수 있다. 또한, 이하의 동일한 기재에 있어서도, 개별적으로 기재한 상한값 및 하한값은 임의로 조합 가능하다.These upper limit values and lower limit values can be arbitrarily combined. In addition, even in the same description below, the upper limit value and the lower limit value described individually can be combined arbitrarily.

녹색 발광성의 나노 결정(911)은, 560nm 이하, 557nm 이하, 555nm 이하, 550nm 이하, 547nm 이하, 545nm 이하, 543nm 이하, 540nm 이하, 537nm 이하, 535nm 이하, 532nm 이하 또는 530nm 이하의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 것이 바람직하고, 528nm 이상, 525nm 이상, 523nm 이상, 520nm 이상, 515nm 이상, 510nm 이상, 507nm 이상, 505nm 이상, 503nm 이상 또는 500nm 이상의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 것이 바람직하다.The green light-emitting nanocrystal 911 emits light in a wavelength range of 560 nm or less, 557 nm or less, 555 nm or less, 550 nm or less, 547 nm or less, 545 nm or less, 543 nm or less, 540 nm or less, 537 nm or less, 535 nm or less, 532 nm or less, or 530 nm or less. It is preferable to have a peak, and it is preferable to have an emission peak in a wavelength range of 528 nm or more, 525 nm or more, 523 nm or more, 520 nm or more, 515 nm or more, 510 nm or more, 507 nm or more, 505 nm or more, 503 nm or more, or 500 nm or more.

청색 발광성의 나노 결정(911)은, 480nm 이하, 477nm 이하, 475nm 이하, 470nm 이하, 467nm 이하, 465nm 이하, 463nm 이하, 460nm 이하, 457nm 이하, 455nm 이하, 452nm 이하 또는 450nm 이하의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 것이 바람직하고, 450nm 이상, 445nm 이상, 440nm 이상, 435nm 이상, 430nm 이상, 428nm 이상, 425nm 이상, 422nm 이상 또는 420nm 이상의 파장 범위에 발광 피크를 갖는 것이 바람직하다.The blue light-emitting nanocrystal 911 emits light in a wavelength range of 480 nm or less, 477 nm or less, 475 nm or less, 470 nm or less, 467 nm or less, 465 nm or less, 463 nm or less, 460 nm or less, 457 nm or less, 455 nm or less, 452 nm or less, or 450 nm or less. It is preferable to have a peak, and it is preferable to have an emission peak in a wavelength range of 450 nm or more, 445 nm or more, 440 nm or more, 435 nm or more, 430 nm or more, 428 nm or more, 425 nm or more, 422 nm or more, or 420 nm or more.

나노 결정(911)의 형상은, 특별히 한정되지 않고, 임의의 기하학적 형상이어도 되고, 임의의 불규칙한 형상이어도 된다. 나노 결정(911)의 형상으로서는, 예를 들면, 직방체 형상, 입방체 형상, 구 형상, 정사면체 형상, 타원체 형상, 각뿔 형상, 디스크 형상, 가지 형상, 그물 형상, 로드 형상 등을 들 수 있다. 또한, 나노 결정(911)의 형상으로서는, 직방체 형상, 입방체 형상 또는 구 형상이 바람직하다.The shape of the nanocrystal 911 is not particularly limited, and may be an arbitrary geometric shape or an arbitrary irregular shape. Examples of the shape of the nanocrystal 911 include a rectangular parallelepiped shape, a cubic shape, a sphere shape, a regular tetrahedron shape, an ellipsoid shape, a pyramidal shape, a disk shape, a branch shape, a net shape, and a rod shape. Further, as the shape of the nanocrystal 911, a rectangular parallelepiped shape, a cubic shape, or a spherical shape is preferable.

나노 결정(911)의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 40nm 이하인 것이 바람직하고, 30nm 이하인 것이 보다 바람직하며, 20nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또, 나노 결정(911)의 평균 입자경은, 1nm 이상인 것이 바람직하고, 1.5nm 이상인 것이 보다 바람직하며, 2nm 이상인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 평균 입자경을 갖는 나노 결정(911)은, 원하는 파장의 광을 발하기 쉬운 점에서 바람직하다. 또한, 나노 결정(911)의 평균 입자경은, 투과형 전자 현미경 또는 주사형 전자 현미경에 의하여 측정하고, 체적 평균 직경을 산출함으로써 얻어진다.The average particle diameter (volume average diameter) of the nanocrystals 911 is preferably 40 nm or less, more preferably 30 nm or less, still more preferably 20 nm or less. In addition, the average particle diameter of the nanocrystals 911 is preferably 1 nm or more, more preferably 1.5 nm or more, and even more preferably 2 nm or more. The nanocrystal 911 having such an average particle diameter is preferable in that it easily emits light of a desired wavelength. In addition, the average particle diameter of the nanocrystal 911 is obtained by measuring with a transmission electron microscope or a scanning electron microscope and calculating the volume average diameter.

<중공 입자(912)><Hollow Particles (912)>

중공 입자(912)는, 내부에 나노 결정(911)을 수용 가능한 공간인 중공부(912a)와, 중공부(912a)에 연통하는 세공(912b)을 구비한 것이면 되고, 전체의 형상으로서, 직방체 형상, 입방체 형상, 구 형상(대략 진구(眞球) 형상), 가늘고 긴 구 형상(타원구 형상), 허니콤 형상(단면이 육각형이며 양단이 개구된 통을 간극 없이 늘어놓은 형상) 등의 입자를 이용할 수 있다. 직방체 형상, 입방체 형상, 대략 진구 형상, 타원구 형상의 중공 입자는, 벌룬 구조 또는 중공 구조를 구비한 입자이다. 이들 벌룬 구조 또는 중공 구조를 구비한 중공 입자는, 중공부(912a)에 수용된 나노 결정(911)을 전체에 걸쳐 덮음으로써, 열이나 산소에 대한 안정성을 보다 확실히 얻을 수 있기 때문에, 보다 바람직하다. 또한, 얻어지는 발광성 나노 입자(90)에 있어서는, 후술하는 폴리머층(92)과의 사이에 중공 입자(912)가 개재하기 때문에, 나노 결정(911)의 산소 가스, 수분에 대한 안정성도 향상된다.The hollow particle 912 may have a hollow part 912a, which is a space capable of accommodating the nanocrystal 911 therein, and a pore 912b communicating with the hollow part 912a, and the overall shape is a rectangular parallelepiped. shape, cubic shape, spherical shape (approximately true sphere shape), elongated sphere shape (elliptical sphere shape), honeycomb shape (a shape in which cylinders with a hexagonal cross section and open ends are lined up without gaps), etc. available. The rectangular parallelepiped, cubic, substantially spherical, and elliptical spherical hollow particles are particles having a balloon structure or a hollow structure. Hollow particles having a balloon structure or a hollow structure are more preferable because stability against heat or oxygen can be obtained more reliably by covering the nanocrystal 911 accommodated in the hollow portion 912a over the entirety. Further, in the obtained luminescent nanoparticles 90, since the hollow particles 912 are interposed between the polymer layer 92 described later, the stability of the nanocrystals 911 against oxygen gas and moisture is also improved.

중공부(912a)에는, 1개의 나노 결정(911)이 수용되어도 되고, 복수 개의 나노 결정(911)이 수용되어도 된다. 또, 중공부(912a)는, 1개 또는 복수의 나노 결정(911)에 의하여 전체가 점유되어 있어도 되고, 일부만이 점유되어 있어도 된다.One nanocrystal 911 may be accommodated in the hollow part 912a, or a plurality of nanocrystals 911 may be accommodated. In addition, the whole hollow part 912a may be occupied by one or a plurality of nanocrystals 911, or only a part thereof may be occupied.

중공 입자로서는, 나노 결정(911)을 보호할 수 있는 것이면, 어떠한 재료여도 상관없다. 합성의 용이함, 투과율, 비용 등의 관점에서, 중공 입자로서는, 중공 무기 나노 입자인 중공 실리카 입자, 중공 알루미나 입자, 중공 산화티탄 입자, 또는 중공 폴리머 입자인 중공 폴리스티렌 입자, 중공 PMMA 입자인 것이 바람직하고, 중공 실리카 입자 또는 중공 알루미나 입자인 것이 보다 바람직하다. 입자 표면 처리가 용이한 점에서, 중공 실리카 입자인 것이 더욱 바람직하다.As the hollow particles, any material may be used as long as the nanocrystal 911 can be protected. From the viewpoint of ease of synthesis, transmittance, cost, etc., the hollow particles are preferably hollow inorganic nanoparticles such as hollow silica particles, hollow alumina particles, hollow titanium oxide particles, or hollow polymer particles such as hollow polystyrene particles and hollow PMMA particles. , more preferably hollow silica particles or hollow alumina particles. From the viewpoint of easy particle surface treatment, hollow silica particles are more preferred.

중공 입자(912)의 평균 외경은, 특별히 한정되지 않지만, 5~300nm인 것이 바람직하고, 6~100nm인 것이 보다 바람직하며, 8~50nm인 것이 더욱 바람직하고, 10~25nm인 것이 특히 바람직하다. 이러한 사이즈의 중공 입자(912)이면, 나노 결정(911)의 산소, 수분 및 열에 대한 안정성을 충분히 높일 수 있다.The average outer diameter of the hollow particles 912 is not particularly limited, but is preferably 5 to 300 nm, more preferably 6 to 100 nm, still more preferably 8 to 50 nm, and particularly preferably 10 to 25 nm. With the hollow particles 912 having such a size, stability of the nanocrystal 911 against oxygen, moisture, and heat can be sufficiently increased.

중공 입자(912)의 평균 내경, 즉, 중공부(912a)의 직경은, 특별히 한정되지 않지만, 1~250nm인 것이 바람직하고, 2~100nm인 것이 보다 바람직하며, 3~50nm인 것이 더욱 바람직하고, 5~15nm인 것이 특히 바람직하다. 중공 입자(912)의 평균 내경이 과도하게 작은 경우에는 중공부(912a) 내에서 나노 결정(911)이 석출되지 않을 우려가 있고, 과도하게 큰 경우에는 중공부(91a) 내에서 나노 결정(911)이 과도하게 응집하여 발광 효율이 저하될 우려가 있다. 상기 범위의 평균 내경을 구비한 중공 입자(912)이면, 응집을 억제하면서 나노 결정(911)을 석출시킬 수 있다.The average inner diameter of the hollow particles 912, that is, the diameter of the hollow part 912a is not particularly limited, but is preferably 1 to 250 nm, more preferably 2 to 100 nm, and even more preferably 3 to 50 nm , 5 to 15 nm is particularly preferred. If the average inner diameter of the hollow particles 912 is excessively small, there is a concern that the nanocrystal 911 may not precipitate in the hollow part 912a, and if the average inner diameter of the hollow particle 912 is excessively large, the nanocrystal 911 in the hollow part 91a ) may be excessively aggregated and the luminous efficiency may decrease. If the hollow particle 912 has an average inner diameter within the above range, the nanocrystal 911 can be precipitated while suppressing aggregation.

또, 세공(912b)의 사이즈는, 특별히 한정되지 않지만, 0.5~10nm인 것이 바람직하고, 1~5nm인 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 나노 결정(911)의 원료 화합물을 함유하는 용액을 중공부(912a) 내에 원활하고 또한 확실하게 침투시킬 수 있다.The size of the pores 912b is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 10 nm, and more preferably 1 to 5 nm. In this case, the solution containing the raw material compound of the nanocrystal 911 can be smoothly and reliably permeated into the hollow portion 912a.

중공 입자(912)의 일례인 중공 실리카 입자는, 예를 들면, 도 1에 나타내는 바와 같이, (a) 1급 아미노기 및/또는 2급 아미노기를 갖는 지방족 폴리아민쇄(x1)와 소수성 유기 세그먼트(x2)를 갖는 공중합체(X)를 수성 매체와 혼합하여, 소수성 유기 세그먼트(x2)를 주성분으로 하는 코어와 지방족 폴리아민쇄(x1)를 주성분으로 하는 셸층으로 이루어지는 회합체(XA)를 형성하는 공정과, (b) 회합체(XA)를 포함하는 수성 매체에 실리카 원료(Y)를 첨가하고, 회합체(XA)를 주형(템플레이트)으로 하여 실리카 원료(Y)의 졸 겔 반응을 행하여, 실리카를 석출시켜 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)를 얻는 공정과, (c) 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)로부터, 공중합체(X)를 제거하는 공정에 의하여 제작할 수 있다.As shown in FIG. 1 , for example, the hollow silica particles as an example of the hollow particles 912 include (a) an aliphatic polyamine chain (x1) having a primary amino group and/or a secondary amino group and a hydrophobic organic segment (x2) ) with an aqueous medium to form an aggregate (XA) composed of a core containing a hydrophobic organic segment (x2) as a main component and a shell layer containing an aliphatic polyamine chain (x1) as a main component; (b) a silica raw material (Y) is added to an aqueous medium containing the aggregate (XA), and a sol-gel reaction of the silica raw material (Y) is performed using the aggregate (XA) as a template (template) to obtain silica It can be produced by a step of precipitating to obtain core-shell type silica nanoparticles (YA), and (c) a step of removing copolymer (X) from core-shell type silica nanoparticles (YA).

지방족 폴리아민쇄(x1)로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌이민쇄, 폴리알릴아민쇄 등을 들 수 있다. 중공 실리카 나노 입자(912)의 전구체인 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)를 효율적으로 제조할 수 있기 때문에, 폴리에틸렌이민쇄가 보다 바람직하다. 또, 지방족 폴리아민쇄(x1)의 분자량은, 소수성 유기 세그먼트(x2)의 분자량과의 밸런스를 도모하기 위하여, 반복 단위의 수가 5~10,000의 범위인 것이 바람직하고, 10~8,000의 범위인 것이 보다 바람직하다.As an aliphatic polyamine chain (x1), a polyethyleneimine chain, a polyallylamine chain, etc. are mentioned, for example. Since core-shell type silica nanoparticles (YA), which are precursors of the hollow silica nanoparticles 912, can be efficiently produced, a polyethyleneimine chain is more preferable. The molecular weight of the aliphatic polyamine chain (x1) is preferably in the range of 5 to 10,000, and more preferably in the range of 10 to 8,000 for the number of repeating units in order to achieve a balance with the molecular weight of the hydrophobic organic segment (x2). desirable.

지방족 폴리아민쇄(x1)의 분자 구조도, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 직쇄상, 분기상, 덴드리머상, 별 형상 또는 빗 형상 등을 들 수 있다. 실리카 석출에 주형으로 하는 회합체를 효율적으로 형성할 수 있어, 제조 비용 등의 관점에서, 분기상 폴리에틸렌이민쇄가 바람직하다.The molecular structure of the aliphatic polyamine chain (x1) is not particularly limited either, and examples thereof include linear, branched, dendrimer, star, and comb shapes. A branched polyethyleneimine chain is preferable because it can efficiently form an aggregate used as a template for silica precipitation, and from the viewpoints of manufacturing cost and the like.

소수성 유기 세그먼트(x2)로서는, 예를 들면, 알킬 화합물에 유래하는 세그먼트, 폴리아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄과 같은 소수성 폴리머에 유래하는 세그먼트 등을 들 수 있다.Examples of the hydrophobic organic segment (x2) include a segment derived from an alkyl compound and a segment derived from a hydrophobic polymer such as polyacrylate, polystyrene, and polyurethane.

알킬 화합물의 경우, 탄소 원자수가 5 이상인 알킬렌쇄를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 10 이상의 알킬렌쇄를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다. 소수성 유기 세그먼트(x2)의 사슬 길이는, 회합체(XA)를 나노 사이즈로 안정화할 수 있는 범위이면 특별히 제한되지 않지만, 반복 단위의 수가 5~10,000의 범위인 것이 바람직하고, 5~1,000의 범위인 것이 보다 바람직하다.In the case of an alkyl compound, it is preferable that it is a compound which has an alkylene chain of 5 or more carbon atoms, and it is more preferable that it is a compound which has an alkylene chain of 10 or more carbon atoms. The chain length of the hydrophobic organic segment (x2) is not particularly limited as long as it can stabilize the association (XA) to a nano size, but the number of repeating units is preferably in the range of 5 to 10,000, and is in the range of 5 to 1,000. is more preferable.

소수성 유기 세그먼트(x2)는, 지방족 폴리아민쇄(x1)의 말단에 커플링에 의하여 결합해도 되고, 지방족 폴리아민쇄(x1)의 도중에 그래프트에 의하여 결합해도 된다. 1개의 지방족 폴리아민쇄(x1)에는, 1개의 소수성 유기 세그먼트(x2)만이 결합해도 되고, 복수의 소수성 유기 세그먼트(x2)가 결합해도 된다.The hydrophobic organic segment (x2) may be bonded to the terminal of the aliphatic polyamine chain (x1) by coupling, or may be bonded to the end of the aliphatic polyamine chain (x1) by grafting. Only one hydrophobic organic segment (x2) may be bonded to one aliphatic polyamine chain (x1), or a plurality of hydrophobic organic segments (x2) may be bonded.

공중합체(X)에 포함되는 지방족 폴리아민쇄(x1)와 소수성 유기 세그먼트(x2)의 비율은, 수성 매체 중에서 안정적인 회합체(XA)를 형성할 수 있으면, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 지방족 폴리아민쇄(x1)의 비율이 10~90질량%의 범위인 것이 바람직하고, 30~70질량%의 범위인 것이 보다 바람직하며, 40~60질량%의 범위인 것이 더욱 바람직하다.The ratio of the aliphatic polyamine chain (x1) and the hydrophobic organic segment (x2) contained in the copolymer (X) is not particularly limited as long as a stable association (XA) can be formed in an aqueous medium. Specifically, the proportion of the aliphatic polyamine chain (x1) is preferably in the range of 10 to 90% by mass, more preferably in the range of 30 to 70% by mass, and even more preferably in the range of 40 to 60% by mass. .

공정 (a)에서는, 공중합체(X)를 수성 매체 중에 용해함으로써, 코어-셸 구조를 갖는 회합체(XA)를 자기 조직화에 의하여 형성시킬 수 있다. 이러한 회합체(XA)의 코어는 소수성 유기 세그먼트(x2)를 주성분으로 하고, 셸층은 지방족 폴리아민쇄(x1)를 주성분으로 하고, 소수성 유기 세그먼트(x2)의 소수 상호 작용에 의하여, 수성 매체 중에 안정적인 회합체(XA)를 형성하는 것으로 생각된다. 수성 매체로서는, 예를 들면, 물, 물과 수용성 용매의 혼합 용액 등을 들 수 있다. 혼합 용액을 이용하는 경우, 혼합 용액 중에 포함되는 물의 양은, 체적비로 물/수용성 용매가 0.5/9.5~3/7인 것이 바람직하고, 0.1/9.9~5/5인 것이 보다 바람직하다. 생산성, 환경이나 비용 등의 관점에서, 물 단독 또는 물과 알코올의 혼합 용액을 사용하는 것이 바람직하다.In step (a), by dissolving the copolymer (X) in an aqueous medium, the association body (XA) having a core-shell structure can be formed by self-organization. The core of this association (XA) has a hydrophobic organic segment (x2) as its main component, and the shell layer has an aliphatic polyamine chain (x1) as its main component. It is thought to form an association (XA). As an aqueous medium, water, the mixed solution of water and a water-soluble solvent, etc. are mentioned, for example. When using a mixed solution, the amount of water contained in the mixed solution is preferably 0.5/9.5 to 3/7, and more preferably 0.1/9.9 to 5/5 water/water-soluble solvent in terms of volume ratio. From the viewpoints of productivity, environment, cost and the like, it is preferable to use water alone or a mixed solution of water and alcohol.

수성 매체 중에 포함되는 공중합체(X)의 양은, 0.05~15질량%인 것이 바람직하고, 0.1~10질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.2~5질량%인 것이 더욱 바람직하다. 수성 매체 중에 있어서 공중합체(X)의 자기 조직화에 의하여 회합체(XA)를 형성할 때에는, 2 이상의 관능기를 갖는 유기 가교성 화합물을 사용하고, 셸층에 있어서 지방족 폴리아민쇄(x1)를 가교해도 된다. 이러한 유기 가교성 화합물로서는, 예를 들면, 알데히드 함유 화합물, 에폭시 함유 화합물, 불포화 이중 결합 함유 화합물, 카르복시산기 함유 화합물 등을 들 수 있다.The amount of copolymer (X) contained in the aqueous medium is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, still more preferably 0.2 to 5% by mass. When forming the association (XA) by self-organization of the copolymer (X) in an aqueous medium, an organic crosslinkable compound having two or more functional groups may be used to crosslink the aliphatic polyamine chain (x1) in the shell layer. . Examples of such an organic crosslinkable compound include aldehyde-containing compounds, epoxy-containing compounds, unsaturated double bond-containing compounds, and carboxylic acid group-containing compounds.

다음으로, 물의 존재하에서 회합체(XA)를 주형으로 하여, 실리카 원료(Y)의 졸 겔 반응을 행한다. 실리카 원료(Y)로서는, 예를 들면, 물유리, 테트라알콕시실란류, 테트라알콕시실란과 같은 올리고머류 등을 들 수 있다. 테트라알콕시실란류로서는, 예를 들면, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 테트라-t-부톡시실란 등을 들 수 있다. 올리고머류로서는, 예를 들면, 테트라메톡시실란의 4량체, 테트라메톡시실란의 7량체, 테트라에톡시실란 5량체, 테트라에톡시실란 10량체 등을 들 수 있다.Next, a sol-gel reaction of the silica raw material (Y) is performed in the presence of water, using the aggregate (XA) as a template. Examples of the silica raw material (Y) include water glass, tetraalkoxysilanes, and oligomers such as tetraalkoxysilane. As tetraalkoxysilanes, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetra-t-butoxysilane etc. are mentioned, for example. As oligomers, tetramethoxysilane tetramer, tetramethoxysilane heptomer, tetraethoxysilane pentamer, tetraethoxysilane 10mer, etc. are mentioned, for example.

졸 겔 반응은, 용매의 연속상에서는 발생하지 않고, 회합체(XA) 상에서만 선택적으로 진행된다. 따라서, 회합체(XA)가 해쇄되지 않는 범위에서, 반응 조건을 임의로 설정할 수 있다. 졸 겔 반응에 있어서, 회합체(XA)와 실리카 원료(Y)의 비율은, 적절히 설정할 수 있다.The sol-gel reaction does not occur in the continuous phase of the solvent and proceeds selectively only in the association (XA) phase. Therefore, the reaction conditions can be arbitrarily set within the range in which the aggregate (XA) is not disintegrated. In the sol-gel reaction, the ratio of the aggregate (XA) and the silica raw material (Y) can be set appropriately.

졸 겔 반응의 온도는, 특별히 한정되지 않고, 0~90℃의 범위인 것이 바람직하고, 10~40℃의 범위인 것이 보다 바람직하며, 15~30℃의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 이 경우, 효율적으로 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)를 얻을 수 있다.The temperature of the sol-gel reaction is not particularly limited, and is preferably in the range of 0 to 90°C, more preferably in the range of 10 to 40°C, and still more preferably in the range of 15 to 30°C. In this case, core-shell type silica nanoparticles (YA) can be efficiently obtained.

반응 활성이 높은 실리카 원료(Y)의 경우, 졸 겔 반응의 시간은, 1분~24시간의 범위인 것이 바람직하고, 30분~5시간의 범위인 것이 보다 바람직하다. 또, 반응 활성이 낮은 실리카 원료(Y)의 경우, 졸 겔 반응의 시간은, 5시간 이상인 것이 바람직하고, 일주간으로 하는 것이 보다 바람직하다.In the case of the silica raw material (Y) having high reaction activity, the time of the sol-gel reaction is preferably in the range of 1 minute to 24 hours, and more preferably in the range of 30 minutes to 5 hours. Further, in the case of the silica raw material (Y) having low reaction activity, the sol-gel reaction time is preferably 5 hours or more, and more preferably one week.

공정 (b)에 의하여, 서로 응집하지 않고, 입경이 균일한 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)를 얻을 수 있다. 얻어지는 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)의 입경 분포는, 제조 조건이나, 목적으로 하는 입경에 따라서도 상이하지만, 목적으로 하는 입경(평균 입경)에 대하여 ±15% 이하, 바람직하게는 ±10% 이하로 설정할 수 있다.By step (b), it is possible to obtain core-shell type silica nanoparticles (YA) having a uniform particle size without aggregation. The particle size distribution of the obtained core-shell silica nanoparticles (YA) varies depending on the production conditions and the target particle size, but is ±15% or less, preferably ±10% of the target particle size (average particle size). It can be set below.

코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)는, 소수성 유기 세그먼트(x2)를 주성분으로 하는 코어와 지방족 폴리아민쇄(x1)와 실리카를 주성분으로 하는 복합체를 셸층으로 한다. 여기서, 주성분이란, 의도적인 제3 성분이 포함되지 않는 것을 말한다. 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)에 있어서의 셸층은, 실리카가 형성하는 매트릭스에 지방족 폴리아민쇄(x1)가 복합화되어 이루어지는 유기 무기 복합체이다.The core-shell silica nanoparticles (YA) have a shell layer composed of a core containing a hydrophobic organic segment (x2) as a main component, a composite containing an aliphatic polyamine chain (x1) and silica as a main component. Here, the main component means that the intentional third component is not included. The shell layer in the core-shell silica nanoparticles (YA) is an organic-inorganic composite formed by complexing an aliphatic polyamine chain (x1) with a matrix formed of silica.

코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)의 입경은, 5~300nm인 것이 바람직하고, 6~100nm인 것이 보다 바람직하며, 8~50nm인 것이 더욱 바람직하고, 10~25nm인 것이 특히 바람직하다. 이러한 입경은, 공중합체(X)의 종류, 조성 및 분자량, 실리카 원료(Y)의 종류, 졸 겔 반응 조건 등에 의하여 조정할 수 있다. 또, 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)는, 분자의 자기 조직화에 의하여 형성되기 때문에, 매우 우수한 단분산성을 나타내고, 입경 분포의 폭을 평균 입경에 대하여 ±15% 이하로 할 수 있다.The particle size of the core-shell silica nanoparticles (YA) is preferably 5 to 300 nm, more preferably 6 to 100 nm, still more preferably 8 to 50 nm, and particularly preferably 10 to 25 nm. This particle size can be adjusted by the type, composition and molecular weight of the copolymer (X), the type of the silica raw material (Y), the sol-gel reaction conditions, and the like. In addition, since the core-shell silica nanoparticles (YA) are formed by self-organization of molecules, they exhibit very excellent monodispersity and can have a particle size distribution width of ±15% or less with respect to the average particle size.

코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)의 형상은, 구 형상 또는 애스펙트비가 2 이상인 가늘고 긴 구 형상으로 할 수 있다. 또, 하나의 입자 내에 복수의 코어를 갖는 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)를 제작할 수도 있다. 이러한 입자의 형상이나 구조 등은, 공중합체(X)의 조성, 실리카 원료(Y)의 종류 및 졸 겔 반응 조건 등을 변경함으로써 조정할 수 있다.The shape of the core-shell silica nanoparticles (YA) can be spherical or elongated spherical with an aspect ratio of 2 or more. In addition, core-shell type silica nanoparticles (YA) having a plurality of cores in one particle can also be produced. The shape and structure of these particles can be adjusted by changing the composition of the copolymer (X), the type of the silica raw material (Y), and the sol-gel reaction conditions.

코어-셸형 실리카 나노 입자(YA) 중에 포함되는 실리카의 양은, 30~95질량%의 범위인 것이 바람직하고, 60~90질량%의 범위인 것이 보다 바람직하다. 실리카의 양은, 공중합체(X) 중에 포함되는 지방족 폴리아민쇄(x1)의 양, 회합체(XA)의 양, 실리카 원료(Y)의 종류 및 양, 졸 겔 반응 시간 및 온도 등을 변경함으로써 조정할 수 있다.The amount of silica contained in the core-shell type silica nanoparticles (YA) is preferably in the range of 30 to 95% by mass, and more preferably in the range of 60 to 90% by mass. The amount of silica can be adjusted by changing the amount of the aliphatic polyamine chain (x1) contained in the copolymer (X), the amount of the aggregate (XA), the type and amount of the silica raw material (Y), the sol-gel reaction time and temperature, and the like. can

다음으로, 공정 (c)에서, 코어-셸형 실리카 나노 입자(YA)로부터 공중합체(X)를 제거함으로써, 목적으로 하는 중공 실리카 나노 입자(912)를 얻을 수 있다.Next, in step (c), the target hollow silica nanoparticles 912 can be obtained by removing the copolymer (X) from the core-shell silica nanoparticles (YA).

공중합체(X)를 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 소성 처리, 용제 세정에 의한 처리를 들 수 있지만, 공중합체(X)의 제거율의 관점에서, 소성로 중에서의 소성 처리법이 바람직하다. 소성 처리로서는, 예를 들면, 공기 또는 산소 존재하에서의 고온 소성, 불활성 가스(예를 들면, 질소, 헬륨)의 존재하에서의 고온 소성을 들 수 있지만, 공기 중에서의 고온 소성이 바람직하다. 소성 온도로서는, 300℃ 이상인 것이 바람직하고, 300~1000℃의 범위인 것이 보다 바람직하다.Examples of the method for removing the copolymer (X) include firing treatment and treatment by solvent washing, but a firing treatment method in a firing furnace is preferable from the viewpoint of the removal rate of the copolymer (X). Examples of the firing treatment include high-temperature firing in the presence of air or oxygen and high-temperature firing in the presence of an inert gas (eg, nitrogen or helium), but high-temperature firing in air is preferable. The firing temperature is preferably 300°C or higher, and more preferably in the range of 300 to 1000°C.

이상과 같이 하여, 중공 실리카 입자(912)가 제작된다. 또한, 중공 실리카 입자(912)에는, 시판품을 사용할 수도 있다. 이러한 시판품으로서는, 예를 들면, 닛테츠 광업 주식회사 제조의 「SiliNax SP-PN(b)」 등을 들 수 있다. 중공 알루미나 입자, 중공 산화티탄 입자 또는 중공 폴리머 입자에 대해서도, 동일한 방법에 의하여 제조할 수 있다.In the above manner, the hollow silica particles 912 are produced. In addition, a commercial item can also be used for the hollow silica particle 912. As such a commercial item, "SiliNax SP-PN(b)" by Nittetsu Mining Co., Ltd., etc. are mentioned, for example. Hollow alumina particles, hollow titanium oxide particles, or hollow polymer particles can also be produced by the same method.

<중공 입자 내포 발광 입자(91)의 제조 방법><Method for producing hollow particle-encapsulating light-emitting particles 91>

본 발명에서는, 이와 같이 하여 얻어진 중공 입자에, 반도체 나노 결정의 원료 화합물을 함유하는 용액(Z)을 함침하고(도 1 중의 (d)), 건조함으로써, 상기 중공 입자의 상기 중공부(912a) 내에, 발광성을 갖는 페로브스카이트형의 반도체 나노 결정이 석출되어(도 1 중의 (d)), 발광 입자(중공 입자 내포 발광 입자)(91)를 얻을 수 있다.In the present invention, the hollow particles obtained in this way are impregnated with a solution (Z) containing a raw material compound for semiconductor nanocrystals ((d) in FIG. 1) and dried, thereby forming the hollow portion 912a of the hollow particles Inside, perovskite-type semiconductor nanocrystals having luminescent properties precipitate ((d) in Fig. 1), and luminescent particles (luminescent particles containing hollow particles) 91 are obtained.

또한, 상기 얻어진 발광 입자(91)는, 후술하는 광중합성 화합물, 구체적으로는, 예를 들면 이소보닐메타크릴레이트에 첨가함으로써 발광 입자(91)를 포함하는 분산액으로 할 수도 있다.Further, the obtained light-emitting particles 91 can be added to a photopolymerizable compound described later, specifically, for example, isobornyl methacrylate, to form a dispersion containing the light-emitting particles 91.

반도체 나노 결정의 원료 화합물을 포함하는 용액(Z)으로서는, 고형분 농도 0.5~20질량%의 용액인 것이 중공 입자(912)에 대한 함침성의 점에서 바람직하다. 또, 유기 용매는 나노 결정(911)과의 양용매이면 되지만, 특히, 디메틸설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아미드, 에탄올, 메탄올, 2-프로판올, γ-부티로락톤, 아세트산 에틸, 물 및 이들의 혼합 용매인 것이 상용성의 점에서 바람직하다.As the solution (Z) containing the raw material compound for semiconductor nanocrystals, a solution having a solid content concentration of 0.5 to 20% by mass is preferable from the viewpoint of impregnation into the hollow particles 912 . The organic solvent may be a good solvent for the nanocrystal 911, but in particular, dimethylsulfoxide, N,N-dimethylformamide, N-methylformamide, ethanol, methanol, 2-propanol, γ-butyrolactone , ethyl acetate, water, and mixed solvents thereof are preferred from the point of compatibility.

또, 용액을 조제하는 방법으로서는, 아르곤 등의 불활성 가스 분위기하에서, 반응 용기에, 원료 화합물과 유기 용매를 혼합하는 것이 바람직하다. 이때의 온도 조건은 실온~350℃인 것이 바람직하고, 또, 혼합 시의 교반 시간은 1분~10시간인 것이 바람직하다.Moreover, as a method of preparing a solution, it is preferable to mix a raw material compound and an organic solvent in a reaction vessel under an inert gas atmosphere such as argon. The temperature conditions at this time are preferably from room temperature to 350°C, and the stirring time during mixing is preferably from 1 minute to 10 hours.

반도체 나노 결정의 원료 화합물은, 예를 들면, 삼브롬화납세슘 용액을 조제하는 경우는, 브롬화세슘과, 브롬화납(II)을 상기 유기 용매와 혼합하는 것이 바람직하다. 이때, 양용매 1000질량부에 대하여, 브롬화세슘이 0.5~200질량부, 브롬화납(II)이 0.5~200질량부가 되도록, 각각의 첨가량을 조정하는 것이 바람직하다.As for the raw material compound for semiconductor nanocrystals, for example, when preparing a lead cesium tribromide solution, it is preferable to mix cesium bromide and lead (II) bromide with the organic solvent. At this time, it is preferable to adjust the respective addition amounts so that the cesium bromide is 0.5 to 200 parts by mass and the lead (II) bromide is 0.5 to 200 parts by mass with respect to 1000 parts by mass of the good solvent.

다음으로, 상기 반응 용기에 중공 실리카 입자(912)를 실온하에서 첨가함으로써, 중공 실리카 입자(912)의 중공부(912a) 내에 삼브롬화납세슘 용액을 함침시킨다. 그 후, 상기 반응 용액 내의 용액을 여과함으로써, 과잉인 상기 삼브롬화납세슘 용액을 제거하여 고형물을 회수한다. 그리고, 얻어진 고형물을 -50~200℃에서 감압 건조한다. 이상에 의하여, 중공 실리카 입자(912)의 중공부(912a)에, 페로브스카이트형의 반도체 나노 결정(911)이 석출된 발광 입자(91)를 얻을 수 있다.Next, the hollow portion 912a of the hollow silica particle 912 is impregnated with the lead cesium tribromide solution by adding the hollow silica particle 912 to the reaction vessel at room temperature. After that, by filtering the solution in the reaction solution, the excess lead cesium tribromide solution is removed and the solid is recovered. And the obtained solid material is dried under reduced pressure at -50-200 degreeC. As a result of the above, the light-emitting particles 91 in which the perovskite type semiconductor nanocrystals 911 are deposited in the hollow portions 912a of the hollow silica particles 912 can be obtained.

<중공 입자 내포 발광 입자(91)의 변형예><Modified example of hollow particle-encapsulating light-emitting particle 91>

또한, 중공 입자 내포 발광 입자(91)는, 도 2의 (a)에 나타내는 바와 같이, 중공 입자(92)의 중공부(912a)의 벽면과 반도체 나노 결정(911)의 사이에 위치하고, 반도체 나노 결정(911)의 표면에 배위된 배위자로 구성되는 중간층(913)을 구비하는 것이 바람직하다. 도 2의 (a)에 나타내는 발광 입자(91)는, M 사이트로서 Pb 양이온(도면 중, 검은 동그라미로 나타낸다.)을 포함하는 나노 결정(911)의 표면에, 배위자로서 올레산, 올레일아민 등을 배위시켜 중간층(913)이 형성되어 있다. 또한, 도 2의 (a)에서는, 중공 입자(912)에 있어서 세공(912b)의 기재를 생략했다. 중간층(913)을 구비하는 발광 입자(91)는, 중간층(913)에 의하여, 나노 결정(911)의 산소, 수분, 열 등에 대한 안정성을 더욱 높일 수 있다.Further, as shown in FIG. 2(a) , the hollow particle-encapsulating light-emitting particle 91 is located between the wall surface of the hollow part 912a of the hollow particle 92 and the semiconductor nanocrystal 911, and is a semiconductor nanocrystal. It is preferable to provide an intermediate layer 913 composed of a ligand coordinated on the surface of the crystal 911. The luminescent particles 91 shown in Fig. 2(a) have oleic acid, oleylamine, etc. The intermediate layer 913 is formed by coordinating . In addition, in FIG. 2 (a), in the hollow particle 912, description of the pore 912b is abbreviate|omitted. In the light emitting particle 91 including the intermediate layer 913 , stability of the nanocrystal 911 against oxygen, moisture, heat, and the like can be further enhanced by the intermediate layer 913 .

배위자로 구성되는 중간층(913)을 구비한 발광 입자(91)는, 나노 결정(911)의 원료 화합물을 함유하는 용액 중에 배위자를 첨가해 두고, 이 용액을 중공 실리카 입자(912)에 함침하여 건조함으로써 얻을 수 있다.For light-emitting particles 91 having an intermediate layer 913 composed of ligands, a ligand is added to a solution containing a raw material compound for nanocrystals 911, and hollow silica particles 912 are impregnated with this solution and dried. can be obtained by doing

배위자는, 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기를 갖는 화합물이 바람직하다. 결합성기로서는, 예를 들면, 카르복실기, 카르복시산 무수물기, 아미노기, 암모늄기, 메르캅토기, 포스핀기, 포스핀옥사이드기, 인산기, 포스폰산기, 포스핀산기, 설폰산기 및 보론산기 중 적어도 1종인 것이 바람직하고, 카르복실기 및 아미노기 중 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다. 이러한 배위자로서는, 카르복실기 또는 아미노기 함유 화합물 등을 들 수 있고, 이들의 1종을 단독으로 사용하거나, 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.The ligand is preferably a compound having an associative group that binds to cations included in the nanocrystal 911 . Examples of the bondable group include at least one of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, an amino group, an ammonium group, a mercapto group, a phosphine group, a phosphine oxide group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a sulfonic acid group, and a boronic acid group. It is preferable, and it is more preferable that it is at least 1 sort(s) of a carboxyl group and an amino group. Examples of such a ligand include compounds containing a carboxyl group or an amino group, and either one of these ligands may be used alone or two or more types may be used in combination.

카르복실기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 탄소 원자수 1~30의 직쇄상 또는 분기상의 지방족 카르복시산을 들 수 있다. 이러한 카르복실기 함유 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 아라키돈산, 크로톤산, trans-2-데센산, 에루크산, 3-데센산, cis-4,7,10,13,16,19-도코사헥사엔산, 4-데센산, all cis-5,8,11,14,17-에이코사펜타엔산, all cis-8,11,14-에이코사트리엔산, cis-9-헥사데센산, trans-3-헥센산, trans-2-헥센산, 2-헵텐산, 3-헵텐산, 2-헥사데센산, 리놀렌산, 리놀레산, γ-리놀렌산, 3-노넨산, 2-노넨산, trans-2-옥텐산, 페트로셀린산, 엘라이드산, 올레산, 3-옥텐산, trans-2-펜텐산, trans-3-펜텐산, 리시놀산, 소르브산, 2-트리데센산, cis-15-테트라코센산, 10-운데센산, 2-운데센산, 아세트산, 부티르산, 베헨산, 세로트산, 데칸산, 아라키드산, 헨에이코산산, 헵타데칸산, 헵탄산, 헥산산, 헵타코산산, 라우르산, 미리스트산, 멜리스산, 옥타코산산, 노나데칸산, 노나코산산, n-옥탄산, 팔미트산, 펜타데칸산, 프로피온산, 펜타코산산, 노난산, 스테아르산, 리그노세르산, 트리코산산, 트리데칸산, 운데칸산, 발레르산 등을 들 수 있다.As a carboxyl group-containing compound, a C1-C30 linear or branched aliphatic carboxylic acid is mentioned, for example. Specific examples of such carboxyl group-containing compounds include arachidonic acid, crotonic acid, trans-2-decenoic acid, erucic acid, 3-decenoic acid, cis-4,7,10,13,16,19-docosa Hexaenoic acid, 4-decenoic acid, all cis-5,8,11,14,17-eicosapentaenoic acid, all cis-8,11,14-eicosatrienoic acid, cis-9-hexadecenoic acid , trans-3-hexenoic acid, trans-2-hexenoic acid, 2-heptenoic acid, 3-heptenoic acid, 2-hexadecenoic acid, linolenic acid, linoleic acid, γ-linolenic acid, 3-nonenoic acid, 2-nonenoic acid, trans -2-octenoic acid, petroselic acid, elaidic acid, oleic acid, 3-octenoic acid, trans-2-pentenoic acid, trans-3-pentenoic acid, ricinolic acid, sorbic acid, 2-tridecenoic acid, cis-15 -Tetrachosenoic acid, 10-undecenoic acid, 2-undecenoic acid, acetic acid, butyric acid, behenic acid, cerotic acid, decanoic acid, arachidic acid, heneicosanoic acid, heptadecanoic acid, heptanoic acid, hexanoic acid, heptacosanoic acid, Lauric acid, myristic acid, melissic acid, octacosanoic acid, nonadecanoic acid, nonacosanoic acid, n-octanoic acid, palmitic acid, pentadecanoic acid, propionic acid, pentacosanoic acid, nonanoic acid, stearic acid, ligno Seric acid, trichosanoic acid, tridecanoic acid, undecanoic acid, valeric acid, etc. are mentioned.

아미노기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 탄소 원자수 1~30의 직쇄상 또는 분기상의 지방족 아민을 들 수 있다. 이러한 아미노기 함유 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 1-아미노헵타데칸, 1-아미노노나데칸, 헵타데칸-9-아민, 스테아릴아민, 올레일아민, 2-n-옥틸-1-도데실아민, 알릴아민, 아밀아민, 2-에톡시에틸아민, 3-에톡시프로필아민, 이소부틸아민, 이소아밀아민, 3-메톡시프로필아민, 2-메톡시에틸아민, 2-메틸부틸아민, 네오펜틸아민, 프로필아민, 메틸아민, 에틸아민, 부틸아민, 헥실아민, 헵틸아민, n-옥틸아민, 1-아미노데칸, 노닐아민, 1-아미노운데칸, 도데실아민, 1-아미노펜타데칸, 1-아미노트리데칸, 헥사데실아민, 테트라데실아민 등을 들 수 있다.Examples of the amino group-containing compound include linear or branched aliphatic amines having 1 to 30 carbon atoms. Specific examples of such an amino group-containing compound include 1-aminoheptadecane, 1-aminononadecane, heptadecan-9-amine, stearylamine, oleylamine, and 2-n-octyl-1-dodecylamine. , allylamine, amylamine, 2-ethoxyethylamine, 3-ethoxypropylamine, isobutylamine, isoamylamine, 3-methoxypropylamine, 2-methoxyethylamine, 2-methylbutylamine, neo Pentylamine, propylamine, methylamine, ethylamine, butylamine, hexylamine, heptylamine, n-octylamine, 1-aminodecane, nonylamine, 1-aminoundecane, dodecylamine, 1-aminopentadecane, 1-aminotridecane, hexadecylamine, tetradecylamine, etc. are mentioned.

또, 발광 입자(91)를 제작할 때에, 나노 결정(911)의 원료 화합물을 함유하는 용액 중에, 반응성기를 갖는 배위자(예를 들면, 3-아미노프로필트리메톡시실란)를 첨가할 수 있다. 이 경우, 도 2에 나타내는 바와 같이, 중공 입자(912)와 나노 결정(911)의 사이에 위치하고, 나노 결정(911)의 표면에 배위된 배위자로 구성되고, 배위자의 분자들이 실록산 결합을 형성하고 있는 중간층(913)을 갖는 모입자(母粒子)(91)로 하는 것도 가능하다. 이러한 구성에 의하면, 중간층(913)을 개재하여 나노 결정(911)을 중공 입자(912)에 의하여 강고하게 고정할 수 있다.Further, when the light-emitting particles 91 are produced, a ligand having a reactive group (for example, 3-aminopropyltrimethoxysilane) may be added to a solution containing a raw material compound for the nanocrystals 911 . In this case, as shown in FIG. 2, the ligand is located between the hollow particle 912 and the nanocrystal 911 and is coordinated on the surface of the nanocrystal 911, and the ligand molecules form a siloxane bond. It is also possible to set it as the mother particle 91 which has the intermediate|middle layer 913 which exists. According to this configuration, the nanocrystals 911 can be firmly fixed by the hollow particles 912 through the intermediate layer 913 .

반응성기를 갖는 배위자는, 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기와, Si를 함유하고, 실록산 결합을 형성하는 반응성기를 갖는 화합물이 바람직하다. 또한, 반응성기는, 중공 입자(912)와도 반응 가능하다.The ligand having a reactive group is preferably a compound having a reactive group that forms a siloxane bond by containing Si and a bonding group that binds to a cation contained in the nanocrystal 911 . In addition, the reactive group can also react with the hollow particles 912 .

결합성기로서는, 예를 들면, 카르복실기, 카르복시산 무수물기, 아미노기, 암모늄기, 메르캅토기, 포스핀기, 포스핀옥사이드기, 인산기, 포스폰산기, 포스핀산기, 설폰산기, 보론산기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 결합성기로서는, 카르복실기 및 아미노기 중 적어도 1종인 것이 바람직하다. 이들 결합성기는, 반응성기보다 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 대한 친화성(반응성)이 높다. 이 때문에, 배위자는, 결합성기를 나노 결정(911) 측으로 하여 배위되고, 보다 용이하고 또한 확실하게 중간층(913)을 형성할 수 있다.Examples of the bondable group include a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, an amino group, an ammonium group, a mercapto group, a phosphine group, a phosphine oxide group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a sulfonic acid group, and a boronic acid group. . Especially, as a bondable group, it is preferable that it is at least 1 sort(s) of a carboxyl group and an amino group. These bondable groups have higher affinity (reactivity) to cations contained in the nanocrystal 911 than reactive groups. For this reason, the ligand is coordinated with the bonding group toward the nanocrystal 911 side, and the intermediate layer 913 can be formed more easily and reliably.

한편, 반응성기로서는, 실록산 결합이 용이하게 형성되는 점에서, 실란올기, 탄소 원자수가 1~6인 알콕시실릴기와 같은 가수분해성 실릴기가 바람직하다.On the other hand, as the reactive group, a hydrolyzable silyl group such as a silanol group and an alkoxysilyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable since a siloxane bond is easily formed.

이러한 배위자로서는, 카르복실기 또는 아미노기 함유 규소 화합물 등을 들 수 있고, 이들의 1종을 단독으로 사용하거나, 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.As such a ligand, a carboxyl group or an amino group-containing silicon compound, etc. are mentioned, and these 1 type can be used individually, or 2 or more types can be used together.

카르복실기 함유 규소 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 트리메톡시실릴프로필산, 트리에톡시실릴프로필산, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]-N'-카르복시메틸에틸렌디아민, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]프탈아미드, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민-N,N',N'-삼아세트산 등을 들 수 있다.Specific examples of the carboxyl group-containing silicon compound include trimethoxysilylpropyl acid, triethoxysilylpropyl acid, N-[3-(trimethoxysilyl)propyl]-N'-carboxymethylethylenediamine, N- [3-(trimethoxysilyl)propyl] phthalamide, N-[3-(trimethoxysilyl)propyl]ethylenediamine-N,N',N'-triacetic acid, etc. are mentioned.

한편, 아미노기 함유 규소 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디이소프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리이소프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노이소부틸디메틸메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노이소부틸메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-11-아미노운데실트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필실란트리올, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N,N-비스[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리메톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리에톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리이소프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리메톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리에톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리이소프로폭시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-N-γ-(N-비닐벤질)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(N-디(비닐벤질)아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(N-디(비닐벤질)아미노에틸)-N-γ-(N-비닐벤질)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, 메틸벤질아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 디메틸벤질아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 벤질아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 벤질아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-(N-페닐)아미노프로필트리메톡시실란, N,N-비스[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리메톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리에톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리이소프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리메톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리에톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리이소프로폭시실란, N-[2-[3-(트리메톡시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민, N-[2-[3-(트리에톡시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민, N-[2-[3-(트리프로폭시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민, N-[2-[3-(트리이소프로폭시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민 등을 들 수 있다.On the other hand, specific examples of the amino group-containing silicon compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethylethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldipropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl Methyldiisopropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl )-3-aminopropyltripropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltriisopropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminoisobutyldimethylmethoxysilane, N -(2-aminoethyl)-3-aminoisobutylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-11-aminoundecyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl Silanetriol, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N,N-bis[3-(tri) Methoxysilyl) propyl] ethylenediamine, (aminoethylaminoethyl) phenyltrimethoxysilane, (aminoethylaminoethyl) phenyltriethoxysilane, (aminoethylaminoethyl) phenyltripropoxysilane, (aminoethylaminoethyl ) Phenyltriisopropoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenyltrimethoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenyltriethoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenyltripropoxysilane, (aminoethylaminomethyl) Phenyltriisopropoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-N-γ-(N-vinylbenzyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(N-di(vinylbenzyl)aminoethyl)-γ- Aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(N-di(vinylbenzyl)aminoethyl)-N-γ-(N-vinylbenzyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, methylbenzylaminoethylaminopropyltri Methoxysilane, dimethylbenzylaminoethylaminopropyltrimethoxysilane, benzylaminoethylaminopropyltrimethoxysilane, benzylaminoethylaminopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-(N- Phenyl)aminopropyltrimethoxysilane, N,N-bis[3-(trimethoxysilyl)propyl]ethylenediamine, (aminoethylaminoethyl)phenethyltrimethoxysilane, (aminoethylaminoethyl)phenethyltriethoxy Silane, (aminoethylaminoethyl)phenethyltripropoxysilane, (aminoethylaminoethyl)phenethyltriisopropoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltrimethoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltrie Toxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltripropoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltriisopropoxysilane, N-[2-[3-(trimethoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylene Diamine, N-[2-[3-(triethoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylenediamine, N-[2-[3-(tripropoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylenediamine, N-[2 -[3-(triisopropoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylenediamine etc. are mentioned.

또한, 도 2의 (b)에 나타내는 바와 같이, 중공 입자 내포 발광 입자(91)의 표면에 소수성 폴리머로 이루어지는 폴리머층(92)을 구비한 발광 입자(90)(이하, 「폴리머 피복 발광 입자(90)」로 기재하는 경우가 있다.)인 것이 보다 바람직하다. 폴리머 피복 발광 입자(90)는, 폴리머층(92)을 구비함으로써, 열, 산소에 대한 안정성을 더욱 향상시킴과 더불어, 우수한 입자 분산성을 얻을 수 있기 때문에, 광변환층으로 했을 때에 보다 우수한 발광 특성을 얻을 수 있다.Further, as shown in (b) of FIG. 2 , the light-emitting particles 90 provided with a polymer layer 92 made of a hydrophobic polymer on the surface of the hollow particle-encapsulated light-emitting particles 91 (hereinafter referred to as “polymer-coated light-emitting particles 90)” in some cases.) is more preferable. Since the polymer-coated light-emitting particles 90 are provided with the polymer layer 92, their stability against heat and oxygen can be further improved, and excellent particle dispersibility can be obtained. characteristics can be obtained.

1-1-2. 실리카 피복 발광 입자1-1-2. Silica-coated luminescent particles

도 3의 (a) 및 도 3의 (b)에, 본 발명에 있어서의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 다른 형태를 나타낸다. 도 3의 (a)에 나타내는 발광 입자(91)는, 메탈할라이드로 이루어지고, 발광성을 갖는 반도체 나노 결정(이하, 간단하게 「나노 결정(911)」이라고 하는 경우도 있다.)과, 이 나노 결정(911)의 표면에 배위된 배위자로 구성되며, 또한, 배위자 중 실란 화합물인 분자들이 실록산 결합을 형성한 표면층(914)을 구비한다(이하, 「실리카 피복 발광 입자(91)」라고 하는 경우도 있다.). 이러한 발광 입자(91)는, 예를 들면, 나노 결정(911)의 전구체, 올레산, 올레일아민 등의 배위자와 실록산 결합 가능한 부위를 갖는 배위자를 혼합하여, 나노 결정(911)을 석출시킴과 동시에 당해 배위자를 나노 결정(911) 표면에 배위시키고, 그 후 이어서, 실록산 결합을 발생시킴으로써 얻을 수 있다. 당해 발광 입자(91)는, 나노 결정(911)이 실리카 표면층(914)에 의하여 보호되기 때문에, 열이나 산소에 대한 우수한 안정성을 얻을 수 있고, 그 결과, 우수한 발광 특성을 얻을 수 있다.Fig. 3(a) and Fig. 3(b) show other forms of nanoparticles containing semiconductor nanocrystals in the present invention. The luminescent particles 91 shown in Fig. 3(a) include a semiconductor nanocrystal made of a metal halide and having luminescence (hereinafter sometimes simply referred to as "nanocrystal 911"), and this nanocrystal. It is composed of ligands coordinated on the surface of the crystal 911, and also has a surface layer 914 in which molecules that are silane compounds among the ligands form siloxane bonds (hereinafter referred to as “silica-coated light-emitting particles 91”). There are also). The light-emitting particles 91 mix, for example, a precursor of the nanocrystal 911, a ligand such as oleic acid or oleylamine, and a ligand having a site capable of binding to siloxane, thereby precipitating the nanocrystal 911 and at the same time It can be obtained by coordinating the ligand to the surface of the nanocrystal 911 and then generating a siloxane bond. In the luminescent particles 91, since the nanocrystals 911 are protected by the silica surface layer 914, excellent stability to heat or oxygen can be obtained, and as a result, excellent luminescent properties can be obtained.

또한, 도 3의 (b)에 나타내는 바와 같이, 실리카 피복 발광 입자(91)에 나타내는 바와 같이, 실리카 피복 발광 입자(91)의 표면에 소수성 폴리머로 이루어지는 폴리머층(92)을 구비한 발광 입자(90)(이하, 「폴리머 피복 발광 입자(90)」로 기재하는 경우가 있다.)인 것이 보다 바람직하다. 폴리머 피복 발광 입자(90)는, 폴리머층(92)을 구비함으로써, 열, 산소에 대한 안정성을 더욱 향상시킴과 더불어, 우수한 입자 분산성을 얻을 수 있기 때문에, 광변환층으로 했을 때에 보다 우수한 발광 특성을 얻을 수 있다.Further, as shown in (b) of FIG. 3, as shown in the silica-coated light-emitting particles 91, the silica-coated light-emitting particles 91 are provided with a polymer layer 92 made of a hydrophobic polymer on the surface of the light-emitting particles ( 90) (hereinafter sometimes referred to as “polymer-coated luminescent particles 90”) is more preferable. Since the polymer-coated light-emitting particles 90 are provided with the polymer layer 92, their stability against heat and oxygen can be further improved, and excellent particle dispersibility can be obtained. characteristics can be obtained.

도 3의 (a)에 나타내는 실리카 피복 발광 입자(91)는, 발광성을 갖는 상기 나노 결정(911)과, 이 나노 결정(911)의 표면에 배위된 배위자로 구성되고, 또한, 배위자 중 실란 화합물인 분자들이 실록산 결합을 형성한 표면층(914)을 갖는다. 그 때문에, 실리카 피복 발광 입자(91)는, 나노 결정(911)이 표면층(914)에 의하여 보호되기 때문에, 우수한 발광 특성을 유지할 수 있다.The silica-coated light-emitting particles 91 shown in Fig. 3(a) are composed of the nanocrystal 911 having luminescence and a ligand coordinated on the surface of the nanocrystal 911, and a silane compound among the ligands. It has a surface layer 914 in which phosphorus molecules form siloxane bonds. Therefore, since the nanocrystals 911 of the silica-coated light-emitting particles 91 are protected by the surface layer 914, excellent light-emitting characteristics can be maintained.

이러한 실리카 피복 발광 입자(91)는, 반도체 나노 결정의 원료 화합물을 포함하는 용액과, 지방족 카르복시산과, Si를 함유하고 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물을 포함하는 지방족 아민을 포함하는 용액을 혼합함으로써, 발광성을 갖는 페로브스카이트형의 반도체 나노 결정을 석출시킴과 더불어 당해 반도체 나노 결정의 표면에 상기 화합물을 배위시키고, 그 후, 배위한 상기 화합물 중의 상기 반응성기를 축합시킴으로써, 상기 반도체 나노 결정의 표면에 상기 실록산 결합을 갖는 표면층을 형성한 입자(91)를 얻는 방법에 의하여 제조할 수 있다.The silica-coated light-emitting particles 91 are a solution containing a raw material compound for semiconductor nanocrystals, a solution containing an aliphatic carboxylic acid, and an aliphatic amine containing a compound containing Si and having a reactive group capable of forming a siloxane bond. by mixing to precipitate perovskite-type semiconductor nanocrystals having luminescence, coordinating the compound to the surface of the semiconductor nanocrystal, and then condensing the reactive groups in the coordinated compound, thereby forming the semiconductor nanocrystal. It can be manufactured by a method of obtaining the particles 91 having a surface layer having the above siloxane bond formed on the surface of the crystal.

이 실리카 피복 발광 입자(91)는, 그 자체로, 단체(單體)로 발광 입자로서 사용하는 것이 가능하다.This silica-coated luminescent particle 91 can be used as a luminescent particle by itself.

<표면층(914)><Surface layer 914>

상기 표면층(914)은, 나노 결정(911)의 표면에 배위 가능하고 또한 분자들이 실록산 결합을 형성 가능한 화합물을 포함하는 배위자로 구성되어 있다.The surface layer 914 is composed of a ligand containing a compound capable of coordinating to the surface of the nanocrystal 911 and allowing molecules to form siloxane bonds.

이러한 배위자는, 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기를 갖는 화합물이며, Si를 함유하고, 실록산 결합을 형성하는 반응성기를 갖는 화합물을 포함한다. 당해 결합성기로서는, 예를 들면, 카르복실기, 카르복시산 무수물기, 아미노기, 암모늄기, 메르캅토기, 포스핀기, 포스핀옥사이드기, 인산기, 포스폰산기, 포스핀산기, 설폰산기 및 보론산기 중 적어도 1종인 것이 바람직하고, 카르복실기 및 아미노기 중 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다. 이러한 배위자로서는, 카르복실기 또는 아미노기 함유 화합물 등을 들 수 있고, 이들의 1종을 단독으로 사용하거나, 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.Such a ligand is a compound having a binding group that binds to a cation included in the nanocrystal 911, and includes a compound containing Si and having a reactive group forming a siloxane bond. Examples of the bonding group include at least one of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, an amino group, an ammonium group, a mercapto group, a phosphine group, a phosphine oxide group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a sulfonic acid group, and a boronic acid group. It is preferable, and it is more preferable that it is at least 1 sort(s) of a carboxyl group and an amino group. Examples of such a ligand include compounds containing a carboxyl group or an amino group, and either one of these ligands may be used alone or two or more types may be used in combination.

카르복실기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 탄소 원자수 1~30의 직쇄상 또는 분기상의 지방족 카르복시산을 들 수 있다. 이러한 카르복실기 함유 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 아라키돈산, 크로톤산, trans-2-데센산, 에루크산, 3-데센산, cis-4,7,10,13,16,19-도코사헥사엔산, 4-데센산, all cis-5,8,11,14,17-에이코사펜타엔산, all cis-8,11,14-에이코사트리엔산, cis-9-헥사데센산, trans-3-헥센산, trans-2-헥센산, 2-헵텐산, 3-헵텐산, 2-헥사데센산, 리놀렌산, 리놀레산, γ-리놀렌산, 3-노넨산, 2-노넨산, trans-2-옥텐산, 페트로셀린산, 엘라이드산, 올레산, 3-옥텐산, trans-2-펜텐산, trans-3-펜텐산, 리시놀산, 소르브산, 2-트리데센산, cis-15-테트라코센산, 10-운데센산, 2-운데센산, 아세트산, 부티르산, 베헨산, 세로트산, 데칸산, 아라키드산, 헨에이코산산, 헵타데칸산, 헵탄산, 헥산산, 헵타코산산, 라우르산, 미리스트산, 멜리스산, 옥타코산산, 노나데칸산, 노나코산산, n-옥탄산, 팔미트산, 펜타데칸산, 프로피온산, 펜타코산산, 노난산, 스테아르산, 리그노세르산, 트리코산산, 트리데칸산, 운데칸산, 발레르산 등을 들 수 있다.As a carboxyl group-containing compound, a C1-C30 linear or branched aliphatic carboxylic acid is mentioned, for example. Specific examples of such carboxyl group-containing compounds include arachidonic acid, crotonic acid, trans-2-decenoic acid, erucic acid, 3-decenoic acid, cis-4,7,10,13,16,19-docosa Hexaenoic acid, 4-decenoic acid, all cis-5,8,11,14,17-eicosapentaenoic acid, all cis-8,11,14-eicosatrienoic acid, cis-9-hexadecenoic acid , trans-3-hexenoic acid, trans-2-hexenoic acid, 2-heptenoic acid, 3-heptenoic acid, 2-hexadecenoic acid, linolenic acid, linoleic acid, γ-linolenic acid, 3-nonenoic acid, 2-nonenoic acid, trans -2-octenoic acid, petroselic acid, elaidic acid, oleic acid, 3-octenoic acid, trans-2-pentenoic acid, trans-3-pentenoic acid, ricinolic acid, sorbic acid, 2-tridecenoic acid, cis-15 -Tetrachosenoic acid, 10-undecenoic acid, 2-undecenoic acid, acetic acid, butyric acid, behenic acid, cerotic acid, decanoic acid, arachidic acid, heneicosanoic acid, heptadecanoic acid, heptanoic acid, hexanoic acid, heptacosanoic acid, Lauric acid, myristic acid, melissic acid, octacosanoic acid, nonadecanoic acid, nonacosanoic acid, n-octanoic acid, palmitic acid, pentadecanoic acid, propionic acid, pentacosanoic acid, nonanoic acid, stearic acid, ligno Seric acid, trichosanoic acid, tridecanoic acid, undecanoic acid, valeric acid, etc. are mentioned.

아미노기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 탄소 원자수 1~30의 직쇄상 또는 분기상의 지방족 아민을 들 수 있다. 이러한 아미노기 함유 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 1-아미노헵타데칸, 1-아미노노나데칸, 헵타데칸-9-아민, 스테아릴아민, 올레일아민, 2-n-옥틸-1-도데실아민, 알릴아민, 아밀아민, 2-에톡시에틸아민, 3-에톡시프로필아민, 이소부틸아민, 이소아밀아민, 3-메톡시프로필아민, 2-메톡시에틸아민, 2-메틸부틸아민, 네오펜틸아민, 프로필아민, 메틸아민, 에틸아민, 부틸아민, 헥실아민, 헵틸아민, n-옥틸아민, 1-아미노데칸, 노닐아민, 1-아미노운데칸, 도데실아민, 1-아미노펜타데칸, 1-아미노트리데칸, 헥사데실아민, 테트라데실아민 등을 들 수 있다.Examples of the amino group-containing compound include linear or branched aliphatic amines having 1 to 30 carbon atoms. Specific examples of such an amino group-containing compound include 1-aminoheptadecane, 1-aminononadecane, heptadecan-9-amine, stearylamine, oleylamine, and 2-n-octyl-1-dodecylamine. , allylamine, amylamine, 2-ethoxyethylamine, 3-ethoxypropylamine, isobutylamine, isoamylamine, 3-methoxypropylamine, 2-methoxyethylamine, 2-methylbutylamine, neo Pentylamine, propylamine, methylamine, ethylamine, butylamine, hexylamine, heptylamine, n-octylamine, 1-aminodecane, nonylamine, 1-aminoundecane, dodecylamine, 1-aminopentadecane, 1-aminotridecane, hexadecylamine, tetradecylamine, etc. are mentioned.

또, Si를 함유하고, 실록산 결합을 형성하는 반응성기를 갖는 화합물은, 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the compound containing Si and having a reactive group forming a siloxane bond preferably has a bonding group that binds to a cation contained in the nanocrystal 911 .

반응성기로서는, 실록산 결합이 용이하게 형성되는 점에서, 실란올기, 탄소 원자수가 1~6인 알콕시실릴기와 같은 가수분해성 실릴기가 바람직하다.As the reactive group, a hydrolyzable silyl group such as a silanol group and an alkoxysilyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable since a siloxane bond is easily formed.

결합성기로서는, 예를 들면, 카르복실기, 아미노기, 암모늄기, 메르캅토기, 포스핀기, 포스핀옥사이드기, 인산기, 포스폰산기, 포스핀산기, 설폰산기, 보론산기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 결합성기로서는, 카르복실기, 메르캅토기 및 아미노기 중 적어도 1종인 것이 바람직하다. 이들 결합성기는, 상술한 반응성기보다 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 대한 친화성이 높다. 이 때문에, 배위자는, 결합성기를 나노 결정(911) 측으로 하여 배위되고, 보다 용이하고 또한 확실하게 표면층(914)을 형성할 수 있다.Examples of the bondable group include a carboxyl group, an amino group, an ammonium group, a mercapto group, a phosphine group, a phosphine oxide group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a sulfonic acid group, and a boronic acid group. Especially, as a bondable group, it is preferable that it is at least 1 sort(s) of a carboxyl group, a mercapto group, and an amino group. These bondable groups have higher affinity for cations contained in the nanocrystal 911 than the above-mentioned reactive groups. For this reason, the ligand is coordinated with the bonding group toward the nanocrystal 911 side, and the surface layer 914 can be formed more easily and reliably.

Si를 함유하고, 실록산 결합을 형성하는 반응성기를 갖는 화합물로서는, 결합성기를 함유하는 규소 화합물을 1종 이상 함유하거나, 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.As the compound containing Si and having a reactive group forming a siloxane bond, one or more types of silicon compounds containing a bondable group may be contained, or two or more types may be used in combination.

바람직하게는, 카르복실기 함유 규소 화합물, 아미노기 함유 규소 화합물, 메르캅토기 함유 규소 화합물 중 어느 1종을 함유하거나, 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.Preferably, any one of a carboxyl group-containing silicon compound, an amino group-containing silicon compound, and a mercapto group-containing silicon compound may be contained, or two or more kinds may be used in combination.

카르복실기 함유 규소 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 3-(트리메톡시실릴)프로피온산, 3-(트리에톡시실릴)프로피온산, 2-카르복시에틸페닐비스(2-메톡시에톡시)실란, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]-N'-카르복시메틸에틸렌디아민, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]프탈아미드, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민-N,N',N'-삼아세트산 등을 들 수 있다.Specific examples of the carboxyl group-containing silicon compound include 3-(trimethoxysilyl)propionic acid, 3-(triethoxysilyl)propionic acid, 2-carboxyethylphenylbis(2-methoxyethoxy)silane, N- [3-(trimethoxysilyl)propyl]-N'-carboxymethylethylenediamine, N-[3-(trimethoxysilyl)propyl]phthalamide, N-[3-(trimethoxysilyl)propyl]ethylene Diamine-N,N',N'-triacetic acid, etc. are mentioned.

한편, 아미노기 함유 규소 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디이소프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리이소프로폭시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노이소부틸디메틸메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노이소부틸메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-11-아미노운데실트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필실란트리올, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N,N-비스[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리메톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리에톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노에틸)페닐트리이소프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리메톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리에톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페닐트리이소프로폭시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-N-γ-(N-비닐벤질)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(N-디(비닐벤질)아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(N-디(비닐벤질)아미노에틸)-N-γ-(N-비닐벤질)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, 메틸벤질아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 디메틸벤질아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 벤질아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 벤질아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-(N-페닐)아미노프로필트리메톡시실란, N,N-비스[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리메톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리에톡시실란, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노에틸)페네틸트리이소프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리메톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리에톡시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리프로폭시실란, (아미노에틸아미노메틸)페네틸트리이소프로폭시실란, N-[2-[3-(트리메톡시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민, N-[2-[3-(트리에톡시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민, N-[2-[3-(트리프로폭시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민, N-[2-[3-(트리이소프로폭시실릴)프로필아미노]에틸]에틸렌디아민 등을 들 수 있다.On the other hand, specific examples of the amino group-containing silicon compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldipropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl Methyldiisopropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl )-3-aminopropyltripropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltriisopropoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminoisobutyldimethylmethoxysilane, N -(2-aminoethyl)-3-aminoisobutylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-11-aminoundecyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl Silanetriol, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N,N-bis[3-(tri) Methoxysilyl) propyl] ethylenediamine, (aminoethylaminoethyl) phenyltrimethoxysilane, (aminoethylaminoethyl) phenyltriethoxysilane, (aminoethylaminoethyl) phenyltripropoxysilane, (aminoethylaminoethyl ) Phenyltriisopropoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenyltrimethoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenyltriethoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenyltripropoxysilane, (aminoethylaminomethyl) Phenyltriisopropoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-N-γ-(N-vinylbenzyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(N-di(vinylbenzyl)aminoethyl)-γ- Aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(N-di(vinylbenzyl)aminoethyl)-N-γ-(N-vinylbenzyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, methylbenzylaminoethylaminopropyltri Methoxysilane, dimethylbenzylaminoethylaminopropyltrimethoxysilane, benzylaminoethylaminopropyltrimethoxysilane, benzylaminoethylaminopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-(N- Phenyl)aminopropyltrimethoxysilane, N,N-bis[3-(trimethoxysilyl)propyl]ethylenediamine, (aminoethylaminoethyl)phenethyltrimethoxysilane, (aminoethylaminoethyl)phenethyltriethoxy Silane, (aminoethylaminoethyl)phenethyltripropoxysilane, (aminoethylaminoethyl)phenethyltriisopropoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltrimethoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltrie Toxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltripropoxysilane, (aminoethylaminomethyl)phenethyltriisopropoxysilane, N-[2-[3-(trimethoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylene Diamine, N-[2-[3-(triethoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylenediamine, N-[2-[3-(tripropoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylenediamine, N-[2 -[3-(triisopropoxysilyl)propylamino]ethyl]ethylenediamine etc. are mentioned.

메르캅토기 함유 규소 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디에톡시실란, 2-메르캅토에틸트리메톡시실란, 2-메르캅토에틸트리에톡시실란, 2-메르캅토에틸메틸디메톡시실란, 2-메르캅토에틸메틸디에톡시실란, 3-[에톡시비스(3,6,9,12,15-펜타옥사옥타코산-1-일옥시)실릴]-1-프로판티올 등을 들 수 있다.Specific examples of the mercapto group-containing silicon compound include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and 3-mercaptopropylmethyl. Diethoxysilane, 2-mercaptoethyltrimethoxysilane, 2-mercaptoethyltriethoxysilane, 2-mercaptoethylmethyldimethoxysilane, 2-mercaptoethylmethyldiethoxysilane, 3-[ethoxybis (3,6,9,12,15-pentaoxaoctacosan-1-yloxy)silyl]-1-propanethiol etc. are mentioned.

도 3의 (a)에 나타내는 실리카 피복 발광 입자(91)는, M 사이트로서 Pb 양이온을 포함하는 나노 결정(911)의 표면에, 배위자로서 올레산, 올레일아민, 3-아미노프로필트리메톡시실란을 배위시키고, 또한 3-아미노프로필트리메톡시실란을 반응시킴으로써 표면층(914)을 형성하고 있다.Silica-coated light emitting particles 91 shown in FIG. 3(a) have oleic acid, oleylamine, and 3-aminopropyltrimethoxysilane as ligands on the surface of nanocrystals 911 containing Pb cations as M sites. and further reacting with 3-aminopropyltrimethoxysilane to form the surface layer 914.

표면층(914)의 두께는, 0.5~50nm인 것이 바람직하고, 1.0~30nm인 것이 보다 바람직하다. 이러한 두께의 표면층(914)을 갖는 발광 입자(91)이면, 나노 결정(911)의 열에 대한 안정성을 충분히 높일 수 있다.The thickness of the surface layer 914 is preferably 0.5 to 50 nm, and more preferably 1.0 to 30 nm. If the light emitting particle 91 has the surface layer 914 having such a thickness, the stability of the nanocrystal 911 against heat can be sufficiently increased.

또한, 표면층(914)의 두께는, 배위자의 결합기와 반응성기를 연결하는 연결 구조의 원자수(사슬 길이)를 조정함으로써 변경할 수 있다.In addition, the thickness of the surface layer 914 can be changed by adjusting the number of atoms (chain length) of the linkage structure connecting the bonding group and the reactive group of the ligand.

<실리카 피복 발광 입자(91)의 제작 방법><Method of producing silica-coated luminescent particles 91>

이와 같은 실리카 피복 발광 입자(91)는, 나노 결정(911)의 원료 화합물을 포함하는 용액과, 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기를 갖는 화합물과, Si를 함유하여 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물을 포함하는 용액을 혼합한 후에, 석출한 나노 결정(911)의 표면에 배위된 Si를 함유하여 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물 중의 반응성기를 축합시킴으로써, 용이하게 제작할 수 있다. 이때, 가열을 행하여 제조하는 방법과, 가열을 행하지 않고 제조하는 방법이 있다.Such silica-coated light-emitting particles 91 contain a solution containing the raw material compound of the nanocrystal 911, a compound having a bonding group that binds to a cation contained in the nanocrystal 911, and Si to bond to a siloxane. After mixing a solution containing a compound having a reactive group capable of forming, by condensing the reactive group in the compound having a reactive group capable of forming a siloxane bond by containing Si coordinated to the surface of the precipitated nanocrystal 911. , can be easily fabricated. At this time, there is a method of manufacturing by heating and a method of manufacturing without heating.

우선, 가열을 행하여 실리카 피복 발광 입자(91)를 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 반도체 나노 결정을 반응에 의하여 합성하는 2종의 원료 화합물을 포함하는 용액을 각각 조제한다. 이때, 2종의 용액 중 어느 한쪽에 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기를 갖는 화합물을, 다른 한쪽에 Si를 함유하여 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물을 첨가해 둔다. 이어서, 이들을 불활성 가스 분위기하에서 혼합, 140~260℃의 온도 조건하에 반응시킨다. 이어서, -20~30℃로 냉각하여, 교반함으로써, 나노 결정을 석출시키는 방법을 들 수 있다. 석출한 나노 결정은 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)이 형성된 것이 되어, 원심 분리 등의 정법(定法)에 의하여 나노 결정을 얻을 수 있다.First, a method for producing silica-coated light-emitting particles 91 by heating will be described. Solutions containing two kinds of raw material compounds for synthesizing semiconductor nanocrystals by reaction are prepared respectively. At this time, a compound having an associative group binding to cations included in the nanocrystal 911 is added to one of the two solutions, and a compound having a reactive group capable of forming a siloxane bond containing Si is added to the other solution. put Then, these are mixed under an inert gas atmosphere and reacted under temperature conditions of 140 to 260°C. Subsequently, a method of precipitating nanocrystals by cooling to -20 to 30°C and stirring is exemplified. The precipitated nanocrystal becomes one in which a surface layer 914 having a siloxane bond is formed on the surface of the nanocrystal 911, and the nanocrystal can be obtained by a standard method such as centrifugation.

구체적으로는, 예를 들면, 탄산 세슘과 올레산과 유기 용매를 포함하는 용액을 조제한다. 유기 용매로서, 1-옥타데센, 디옥틸에테르, 디페닐에테르 등을 이용할 수 있다. 이때, 유기 용매 40mL에 대하여, 탄산 세슘이 0.2~2g, 올레산이 0.1~10mL가 되도록, 각각의 첨가량을 조정하는 것이 바람직하다. 얻어진 용액을 90~150℃에서 10~180분간 감압 건조한 후, 아르곤, 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 100~200℃로 가열함으로써, 세슘-올레산 용액을 얻는다.Specifically, for example, a solution containing cesium carbonate, oleic acid, and an organic solvent is prepared. As the organic solvent, 1-octadecene, dioctyl ether, diphenyl ether and the like can be used. At this time, it is preferable to adjust the respective addition amounts so that cesium carbonate is 0.2 to 2 g and oleic acid is 0.1 to 10 mL with respect to 40 mL of the organic solvent. After drying the obtained solution under reduced pressure at 90 to 150°C for 10 to 180 minutes, the cesium-oleic acid solution is obtained by heating at 100 to 200°C under an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen.

한편, 브롬화납(II)과 상술한 것과 동일한 유기 용매를 포함하는 용액을 조제한다. 이때, 유기 용매 5mL에 대하여 브롬화납(II)을 20~100mg 첨가한다. 얻어진 용액을 90~150℃에서 10~180분간 감압 건조한 후, 아르곤, 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 0.1~2mL의 3-아미노프로필트리에톡시실란을 첨가한다.On the other hand, a solution containing lead (II) bromide and the same organic solvent as described above is prepared. At this time, 20 to 100 mg of lead (II) bromide is added to 5 mL of organic solvent. After drying the obtained solution under reduced pressure at 90 to 150°C for 10 to 180 minutes, 0.1 to 2 mL of 3-aminopropyltriethoxysilane is added under an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen.

그리고, 브롬화납(II) 및 3-아미노프로필트리에톡시실란을 포함하는 용액을 140~260℃로 가열한 상태로 상술한 세슘-올레산 용액을 첨가하고, 1~10초간 가열 교반시킴으로써 반응시킨 후에, 얻어진 반응액을 빙욕에서 냉각한다. 이때, 브롬화납(II) 및 3-아미노프로필트리에톡시실란을 포함하는 용액 5mL에 대하여, 세슘-올레산 용액을 0.1~1mL 첨가하는 것이 바람직하다. -20~30℃에서 교반 중에, 나노 결정(911)이 석출됨과 더불어, 나노 결정(911)의 표면에 3-아미노프로필트리에톡시실란 및 올레산이 배위된다.Then, the solution containing lead (II) bromide and 3-aminopropyltriethoxysilane is heated to 140 to 260° C., and the above-described cesium-oleic acid solution is added, followed by heating and stirring for 1 to 10 seconds to react. , The obtained reaction solution is cooled in an ice bath. At this time, it is preferable to add 0.1 to 1 mL of a cesium-oleic acid solution to 5 mL of a solution containing lead (II) bromide and 3-aminopropyltriethoxysilane. While stirring at -20 to 30°C, the nanocrystals 911 are precipitated, and 3-aminopropyltriethoxysilane and oleic acid are coordinated on the surface of the nanocrystals 911.

그 후, 얻어진 반응액을, 대기하, 실온(10~30℃, 습도 5~60%)에서 5~300분간 교반한 후, 0.1~50mL의 에탄올을 첨가함으로써 현탁액을 얻는다. 대기하, 실온에서의 교반 중에 3-아미노프로필트리에톡시실란의 알콕시실릴기가 축합하여, 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)이 형성된다.Then, after stirring the obtained reaction solution under air at room temperature (10 to 30°C, humidity 5 to 60%) for 5 to 300 minutes, a suspension is obtained by adding 0.1 to 50 mL of ethanol. The alkoxysilyl group of 3-aminopropyltriethoxysilane is condensed under air and stirring at room temperature to form a surface layer 914 having siloxane bonds on the surface of the nanocrystal 911 .

얻어진 현탁액을 원심 분리함으로써 고형물을 회수하고, 고형물을 헥산에 첨가함으로써, 삼브롬화납세슘으로 이루어지는 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)을 구비한 실리카 피복 발광 입자(91)가 톨루엔에 분산된 발광 입자 분산액을 얻을 수 있다.A solid substance is recovered by centrifuging the resulting suspension, and the solid substance is added to hexane to obtain silica-coated light-emitting particles (91) having a surface layer (914) having siloxane bonds on the surface of nanocrystals (911) made of lead cesium tribromide A dispersion of luminescent particles in which is dispersed in toluene can be obtained.

또, 상기 회수된 고형물을 후술하는 광중합성 화합물인 이소보닐메타크릴레이트에 첨가함으로써, 메틸암모늄 삼브롬화납 결정으로 이루어지는 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)을 구비한 실리카 피복 발광 입자(91)가 이소보닐메타크릴레이트에 분산된 발광 입자 분산액을 얻을 수 있다.In addition, by adding the recovered solid material to isobornyl methacrylate, which is a photopolymerizable compound described later, silica having a surface layer 914 having siloxane bonds on the surface of nanocrystals 911 made of lead methylammonium tribromide crystals A dispersion of light-emitting particles in which the coated light-emitting particles 91 are dispersed in isobornyl methacrylate can be obtained.

다음으로, 가열을 행하지 않고 실리카 피복 발광 입자(91)를 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 반도체 나노 결정의 원료 화합물 및 나노 결정(911)에 포함되는 양이온에 결합하는 결합성기를 갖는 화합물(Si를 함유하여 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물은 포함하지 않는다)을 포함하는 용액을, Si를 함유하여 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물을 나노 결정에 대하여 빈용매인 유기 용제에 용해한 용액 중에 대기하에서 적하·혼합함으로써, 나노 결정을 석출시키는 방법을 들 수 있다. 유기 용제의 사용량은 반도체 나노 결정에 대하여 질량 기준으로 10~1000배량인 것이 바람직하다. 또, 석출한 나노 결정은 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)이 형성된 것이 되어, 원심 분리 등의 정법에 의하여 나노 결정을 얻을 수 있다.Next, a method for producing the silica-coated light-emitting particles 91 without heating will be described. A solution containing a raw material compound for semiconductor nanocrystals and a compound having an associative group binding to cations included in the nanocrystal 911 (a compound having a reactive group capable of forming a siloxane bond by containing Si is not included) , A method in which nanocrystals are precipitated by dropping and mixing a compound containing Si and having a reactive group capable of forming a siloxane bond dissolved in an organic solvent that is a poor solvent for nanocrystals under air. The amount of organic solvent used is preferably 10 to 1000 times the mass of semiconductor nanocrystals. In addition, the precipitated nanocrystal becomes one in which a surface layer 914 having siloxane bonds is formed on the surface of the nanocrystal 911, and the nanocrystal can be obtained by a conventional method such as centrifugation.

구체적으로는, 반도체 나노 결정의 원료 화합물을 포함하는 용액으로서, 예를 들면, 브롬화납(II)과 브롬화세슘과 올레산과 올레일아민과 유기 용제를 포함하는 용액을 조제한다. 유기 용제는, 나노 결정의 양용매이면 되지만, 디메틸설폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아미드, 및 이들의 혼합 용매인 것이 상용성의 점에서 바람직하다. 이때, 유기 용제 10mL에 대하여, 브롬화납(II)이 10~50mg, 브롬화세슘이 5~25mg, 올레산이 0.2~2mL, 올레일아민이 0.05~0.5ml가 되도록, 각각의 첨가량을 조정하는 것이 바람직하다.Specifically, as a solution containing a raw material compound for semiconductor nanocrystals, for example, a solution containing lead (II) bromide, cesium bromide, oleic acid, oleylamine, and an organic solvent is prepared. The organic solvent may be a good solvent for nanocrystals, but is preferably dimethyl sulfoxide, N,N-dimethylformamide, N-methylformamide, or a mixed solvent thereof from the viewpoint of compatibility. At this time, it is preferable to adjust the respective addition amounts so that lead (II) bromide is 10 to 50 mg, cesium bromide is 5 to 25 mg, oleic acid is 0.2 to 2 mL, and oleylamine is 0.05 to 0.5 ml with respect to 10 mL of the organic solvent. do.

한편, Si를 함유하여 실록산 결합을 형성할 수 있는 반응성기를 갖는 화합물과 나노 결정에 대하여 빈용매인 유기 용제를 포함하는 용액으로서, 예를 들면, 3-아미노프로필트리에톡시실란과 빈용매를 조제한다. 빈용매로서는, 이소프로필알코올, 톨루엔, 헥산 등을 이용할 수 있다. 이때, 빈용매 5mL에 대하여, 3-아미노프로필트리에톡시실란이 0.01~0.5mL가 되도록, 각각의 첨가량을 조정하는 것이 바람직하다.On the other hand, as a solution containing a compound containing Si and having a reactive group capable of forming a siloxane bond, and an organic solvent that is a poor solvent for the nanocrystal, for example, 3-aminopropyltriethoxysilane and a poor solvent are prepared do. As a poor solvent, isopropyl alcohol, toluene, hexane, etc. can be used. At this time, it is preferable to adjust each addition amount so that 3-aminopropyltriethoxysilane is 0.01 to 0.5 mL with respect to 5 mL of the poor solvent.

그리고, 상술한 브롬화납(II)과 브롬화세슘과 올레산과 올레일아민을 포함하는 용액 0.1~1mL를, 상술한 3-아미노프로필트리에톡시실란과 빈용매를 포함하는 용액 5mL에 대하여, 대기하, 0~30℃에서 첨가하고, 순식간에 대기하에서 5~180초간 교반한 후에, 원심 분리에 의하여 고형물을 회수한다. 혼합물을 빈용매에 첨가했을 때에, 나노 결정(911)이 석출됨과 더불어, 나노 결정(911)의 표면에 3-아미노프로필트리에톡시실란, 올레산 및 올레일아민이 배위된다. 그리고, 대기하에서의 교반 중에 3-아미노프로필트리에톡시실란의 알콕시실릴기가 축합하여, 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)이 형성된다.Then, 0.1 to 1 mL of the solution containing the above-described lead (II) bromide, cesium bromide, oleic acid, and oleylamine was mixed with 5 mL of the above-described solution containing 3-aminopropyltriethoxysilane and a poor solvent under atmospheric conditions. , After adding at 0 to 30 ° C., stirred for 5 to 180 seconds in an instant in the atmosphere, the solid is recovered by centrifugation. When the mixture is added to a poor solvent, nanocrystals 911 precipitate, and 3-aminopropyltriethoxysilane, oleic acid, and oleylamine are coordinated on the surface of nanocrystals 911. Then, during stirring in the air, the alkoxysilyl groups of 3-aminopropyltriethoxysilane condense to form a surface layer 914 having siloxane bonds on the surface of the nanocrystals 911 .

이 회수된 고형물을 톨루엔에 첨가함으로써, 삼브롬화납세슘 결정으로 이루어지는 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)을 구비한 실리카 피복 발광 입자(91)가 톨루엔에 분산된 발광 입자 분산액을 얻을 수 있다.By adding this recovered solid material to toluene, silica-coated light-emitting particles 91 having a surface layer 914 having siloxane bonds on the surface of nanocrystals 911 made of lead cesium tribromide crystals are dispersed in toluene, dispersion can be obtained.

또, 상기 회수된 고형물을 후술하는 광중합성 화합물인 이소보닐메타크릴레이트에 첨가함으로써, 삼브롬화납세슘 결정으로 이루어지는 나노 결정(911)의 표면에 실록산 결합을 갖는 표면층(914)을 구비한 실리카 피복 발광 입자(91)가 이소보닐메타크릴레이트에 분산된 발광 입자 분산액을 얻을 수도 있다.Further, by adding the recovered solid matter to isobornyl methacrylate, which is a photopolymerizable compound described later, nanocrystals 911 made of lead cesium tribromide crystals are coated with silica having a surface layer 914 having siloxane bonds on the surface. A dispersion of light-emitting particles in which the light-emitting particles 91 are dispersed in isobornyl methacrylate can also be obtained.

1-1-3. 티탄 피복 발광 입자1-1-3. Titanium-coated luminescent particles

본 발명에 있어서의 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 다른 형태로서는, 당해 반도체 나노 결정을 티탄 산화물로 피복해도 된다. 티탄 산화물로 피복하는 경우는, 반도체 나노 결정이 소수성 용매 중에 분산된 용액 중에, 물과 산소를 포함하지 않는 불활성 분위기하에서 티탄알콕시드를 적량 첨가하여 교반하는 공정에 의하여 얻을 수 있다. 당해 반도체 나노 결정 표면을 티탄 산화물로 피복함으로써, 당해 결정의 표면 결함을 보충할 수 있어 발광 특성의 저하를 억제하는 것이 가능해진다. 티탄 산화물로서, 예를 들면, 티탄알콕시드의 가수분해 생성물이며, (R-O)3-Ti-O-(R은, 각각 독립적으로, 직쇄 혹은 분기되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타낸다.)의 구조를 갖는 것을 이용할 수 있다.As another form of nanoparticles containing semiconductor nanocrystals in the present invention, the semiconductor nanocrystals may be coated with titanium oxide. In the case of coating with titanium oxide, it can be obtained by adding an appropriate amount of titanium alkoxide to a solution in which semiconductor nanocrystals are dispersed in a hydrophobic solvent under an inert atmosphere that does not contain water and oxygen, followed by stirring. By coating the surface of the semiconductor nanocrystal with titanium oxide, surface defects of the crystal can be compensated for, and it becomes possible to suppress a decrease in light emission characteristics. As titanium oxide, it is, for example, a hydrolysis product of titanium alkoxide, and (RO) 3 -Ti-O- (R each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms that may be linear or branched. .) can be used.

이러한 티탄 피복 발광 입자는, 이하의 방법에 의하여 형성할 수 있다.Such titanium-coated luminescent particles can be formed by the following method.

우선, 나노 결정을 소수성 유기 용매에 분산시킨다. 소수성 유기 용매는 특별히 한정되지 않지만, 톨루엔, 클로로포름, 헥산, 시클로헥산이 바람직하고, 톨루엔, 시클로헥산이 보다 바람직하다. 이들 소수성 유기 용매는, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 다음으로, 당해 나노 결정 분산 용액에 티탄알콕시드를 첨가하여 교반함으로써, 나노 결정 표면에 배위, 반응하여, 당해 결정 표면을 피복할 수 있다.First, nanocrystals are dispersed in a hydrophobic organic solvent. The hydrophobic organic solvent is not particularly limited, but toluene, chloroform, hexane, and cyclohexane are preferable, and toluene and cyclohexane are more preferable. These hydrophobic organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Next, by adding titanium alkoxide to the nanocrystal dispersion solution and stirring it, the nanocrystal surface is coordinated and reacted, so that the crystal surface can be coated.

당해 티탄알콕시드로서, 4가의 티탄알콕시드를 이용한 경우, 티탄알콕시드 중 1개의 알콕시기가, 용매 중에 약간 포함되는 수분에 의하여 부분적으로 가수분해되어, (R-O)3-Ti-O-를 발생시킨다. 티탄알콕시드로서는, 일반식 Ti(OR)4로 표시되는 화합물이 바람직하다. 상기 식 중, R은, 각각 독립적으로, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, 2-에틸헥실기를 나타낸다.When tetravalent titanium alkoxide is used as the titanium alkoxide, one alkoxy group in the titanium alkoxide is partially hydrolyzed by water slightly contained in the solvent to generate (RO) 3 -Ti-O-. . As the titanium alkoxide, a compound represented by general formula Ti(OR) 4 is preferable. In the above formula, R each independently represents a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or a 2-ethylhexyl group.

이와 같은 티탄알콕시드로서는, 구체적으로는, 티탄이소프로폭시드, 티타늄메톡시드, 테트라에틸오르토티타네이트, 티타늄-2-에틸헥실옥사이드, 티타늄-디이소프로폭시드-비스(아세틸아세토네이트) 등을 들 수 있다. 이들 티탄알콕시드는, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 되지만, 2종 이상의 티탄알콕시드를 이용하는 경우에는, 각각의 반응 속도에 주의하여, 첨가하는 양과 타이밍을 제어하여, 나노 결정 표면을 피복하는 것이 바람직하다.As such a titanium alkoxide, specifically, titanium isopropoxide, titanium methoxide, tetraethyl orthotitanate, titanium-2-ethylhexyl oxide, titanium-diisopropoxide-bis (acetylacetonate) etc. can be mentioned. These titanium alkoxides may be used alone or in combination of two or more, but when two or more titanium alkoxides are used, the amount and timing of addition are controlled by paying attention to the reaction rate of each, so that the nanocrystal surface is Covering is preferred.

또, 상기 나노 결정 표면에 표면층을 형성한 후, 또한, 가수분해성 실릴기를 갖는 화합물 C의 중합체를 포함하는 층으로 표면층을 피복하고 있어도 된다.Alternatively, after forming a surface layer on the surface of the nanocrystal, the surface layer may be further coated with a layer containing a polymer of Compound C having a hydrolysable silyl group.

또, 상기 나노 결정 표면에 표면층을 형성한 후, 또한, 염기성기를 갖는 제1 구조 단위 및 염기성기를 갖지 않고 친용매성의 제2 구조 단위를 구비한 폴리머 B 및 가수분해성 실릴기를 갖는 화합물 C의 중합체를 포함하는 층으로 표면층을 피복하고 있어도 된다.In addition, after forming a surface layer on the surface of the nanocrystal, a polymer B having a first structural unit having a basic group and a second structural unit having no basic group and having a solvent affinity and a polymer of compound C having a hydrolyzable silyl group are prepared. You may coat|cover the surface layer with the layer containing.

상기 폴리머 B는, 양친매성의 화합물이고, 염기성기를 갖는 제1 구조 단위와, 분산매에 대한 친화성이 우수한 친용매성이며, 염기성기를 갖지 않는 제2 구조 단위를 구비한 폴리머이다. 여기서 말하는 분산매란, 실리카 피복 발광 입자를 포함하는 분산체에 있어서의 분산매이며, 유기 용제 및 광중합성 화합물 등의 수지여도 된다.The polymer B is an amphiphilic compound, and is a polymer having a first structural unit having a basic group and a solvent-philic second structural unit having excellent affinity for a dispersion medium and having no basic group. The dispersion medium referred to herein is a dispersion medium in a dispersion containing silica-coated luminescent particles, and may be a resin such as an organic solvent or a photopolymerizable compound.

상기 폴리머 B는, 하기 식 함규소 화합물 (D)1)로 표시되는 염기성기를 갖는 제1 구조 단위와, 하기 식 함규소 화합물 (D)2)로 표시되는 친용매성의 제2 구조 단위를 갖는 것이 보다 바람직하다.The polymer B has a first structural unit having a basic group represented by the following formula (D) 1) and a solventphilic second structural unit represented by the following formula (D) 2) more preferable

Figure 112023009896911-pct00001
Figure 112023009896911-pct00001

(식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, RB1은, 염기성을 갖는 1가의 기를 나타내고, RB2는, 분산매에 대한 친화성이 우수한 유기기를 갖는 1가의 기를 나타내고,(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R B1 represents a monovalent group having basicity, and R B2 represents a monovalent group having an organic group having excellent affinity for a dispersion medium. represents a flag,

RB1은, 1급 아미노기, 2급 아미노기, 3급 아미노기, 4급 암모늄기, 이미노기, 피리딜기, 피리미딘기, 피페라지닐기, 피페리딜기, 이미다졸릴기, 피롤리디닐기, 이미다졸리디닐기를 포함하는 염기성기를 나타내고,R B1 is a primary amino group, a secondary amino group, a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, an imino group, a pyridyl group, a pyrimidine group, a piperazinyl group, a piperidyl group, an imidazolyl group, a pyrrolidinyl group, represents a basic group containing a dazolidinyl group;

X1 및 X2는, 각각 독립적으로, -COO-, -OCO-, 탄소 원자수가 1~8인 알킬쇄, 단결합을 나타내고,X 1 and X 2 each independently represent -COO-, -OCO-, an alkyl chain having 1 to 8 carbon atoms, or a single bond;

RB2는, 직쇄상 혹은 분기상의 탄소수 2~15의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 4~20의 시클로알킬기, 말단이 하이드록시기 또는 알콕시기인 탄소수 10~50의 폴리알킬렌옥사이드기, 치환기를 가져도 되는 방향족기를 나타낸다.)R B2 is a linear or branched alkyl group having 2 to 15 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a polyalkylene oxide group having 10 to 50 carbon atoms whose terminal is a hydroxyl group or an alkoxy group, and a substituent Indicates an aromatic group that may be present.)

상기 폴리머 B에 있어서는, 식 함규소 화합물 (D)1) 및 식 함규소 화합물 (D)2)로 표시되는 구조 단위를 각각 1종으로 이용할 수도 있고, 각각 2종 이상 병용할 수도 있다. 또한, 상기 폴리머 B는, 식 함규소 화합물 (D)1)로 표시되는 제1 구조 단위를 제1 폴리머 블록으로서 갖고, 식 함규소 화합물 (D)2)로 표시되는 제2 구조 단위를 제2 폴리머 블록으로서 갖는 블록 코폴리머인 것이 보다 바람직하다.In the polymer B, structural units represented by the silicon-containing compound (D) 1) and the silicon-containing compound (D) 2) may be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer B has, as a first polymer block, a first structural unit represented by a silicon-containing compound (D) 1) and a second structural unit represented by a silicon-containing compound (D) 2) as a second polymer block. It is more preferable that it is a block copolymer which has as a polymer block.

폴리머 B에 있어서의 제1 구조 단위의 함유량은, 폴리머 B를 구성하는 전체 구조 단위를 기준으로 하여, 예를 들면, 5몰% 이상, 7몰% 이상, 또는 10몰% 이상인 것이 바람직하고, 50몰% 이하, 30몰% 이하, 또는 20몰% 이하인 것이 바람직하다.The content of the first structural unit in the polymer B is preferably, for example, 5 mol% or more, 7 mol% or more, or 10 mol% or more based on all the structural units constituting the polymer B, and 50 It is preferable that it is mol% or less, 30 mol% or less, or 20 mol% or less.

폴리머 B에 있어서의 제2 구조 단위의 함유량은, 폴리머 B를 구성하는 전체 구조 단위를 기준으로 하여, 예를 들면, 70몰% 이상, 75몰% 이상, 또는 80몰% 이상인 것이 바람직하고, 95몰% 이하, 93몰% 이하, 또는 90몰% 이하인 것이 바람직하다.The content of the second structural unit in the polymer B is, for example, 70 mol% or more, 75 mol% or more, or 80 mol% or more based on the total structural units constituting the polymer B. It is preferable that it is mol% or less, 93 mol% or less, or 90 mol% or less.

폴리머 B는, 제1 구조 단위 및 제2 구조 단위에 더하여, 다른 구조 단위를 포함하는 것이어도 된다. 그 경우, 폴리머 B에 있어서의 제1 구조 단위 및 제2 구조 단위의 합계의 함유량은, 폴리머 B를 구성하는 전체 구조 단위를 기준으로 하여, 예를 들면, 70몰% 이상, 80몰% 이상, 또는 90몰% 이상인 것이 바람직하다.Polymer B may contain other structural units in addition to the first structural unit and the second structural unit. In that case, the total content of the first structural unit and the second structural unit in the polymer B is, for example, 70 mol% or more, 80 mol% or more, based on all the structural units constituting the polymer B. Or it is preferable that it is 90 mol% or more.

상기 실란 화합물 C는, 가수분해성 실릴기를 갖고, 당해 실릴기가 축합하여 실록산 결합을 형성함으로써, 표면층(914)의 표면에 실란 화합물 C의 중합체를 포함하는 층이 형성되고, 상기 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 표면에 Si를 함유하는 표면층을 구비한 발광 입자가 형성된다.The silane compound C has a hydrolyzable silyl group, and when the silyl group condenses to form a siloxane bond, a layer containing a polymer of the silane compound C is formed on the surface of the surface layer 914, and the semiconductor nanocrystal is formed. Light-emitting particles having a surface layer containing Si on the surface of the nanoparticles are formed.

상기 실란 화합물 C는, 예를 들면, 하기 식 (C1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the said silane compound C is a compound represented by the following formula (C1), for example.

Figure 112023009896911-pct00002
Figure 112023009896911-pct00002

식 중, RC1 및 RC2는, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RC3 및 RC4는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 알킬기를 나타내며, n은 0 또는 1을 나타내고, m은 1 이상의 정수를 나타낸다. m은, 10 이하의 정수인 것이 바람직하다.In the formula, R C1 and R C2 each independently represent an alkyl group, R C3 and R C4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, n represents 0 or 1, and m represents an integer of 1 or greater. It is preferable that m is an integer of 10 or less.

식 (C1)로 표시되는 화합물은, 구체적으로는, 예를 들면, 테트라부톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라이소프로폭시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소프로필트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-헥실트리에톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, n-데실트리메톡시실란, n-도데실트리메톡시실란, n-도데실트리에톡시실란, n-헥사데실트리메톡시실란, n-헥사데실트리에톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 트리메톡시(3,3,3-트리플루오로프로필)실란, 트리메톡시(펜타플루오로페닐)실란, 트리메톡시(11-펜타플루오로페녹시운데실)실란, 트리메톡시(1H,1H,2H,2H-노나플루오로헥실)실란, 테트라메톡시실란의 부분 가수분해 올리고머(제품명: 메틸실리케이트 51, 메틸실리케이트 53A(이상, 콜코트 주식회사 제조)), 테트라에톡시실란의 부분 가수분해 올리고머(제품명: 에틸실리케이트 40, 에틸실리케이트 48(이상, 콜코트 주식회사 제조), 테트라메톡시실란과 테트라에톡시실란 혼합물의 부분 가수분해 올리고머(제품명: EMS-485(콜코트 주식회사 제조)) 등을 들 수 있다.The compound represented by formula (C1) is specifically, for example, tetrabutoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, Methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-hexyl Trimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, n-dodecyltrimethoxysilane, n-dodecyl Triethoxysilane, n-hexadecyltrimethoxysilane, n-hexadecyltriethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane, tri of methoxy(pentafluorophenyl)silane, trimethoxy(11-pentafluorophenoxyundecyl)silane, trimethoxy(1H,1H,2H,2H-nonafluorohexyl)silane, tetramethoxysilane Partially hydrolyzed oligomer (product name: methylsilicate 51, methylsilicate 53A (above, manufactured by Colcoat Co., Ltd.)), partially hydrolyzed oligomer of tetraethoxysilane (product name: ethylsilicate 40, ethylsilicate 48 (above, manufactured by Colcoat Co., Ltd.)) ), a partially hydrolyzed oligomer of a mixture of tetramethoxysilane and tetraethoxysilane (product name: EMS-485 (manufactured by Colcoat Co., Ltd.)), and the like.

실란 화합물 C로서, 상술한 식 (C1)로 표시되는 화합물에 더하여, 예를 들면, 하기 식 (C2)로 표시되는 화합물 및 (C3)으로 표시되는 화합물을 병용하는 것도 가능하다.As the silane compound C, in addition to the compound represented by the formula (C1) described above, it is also possible to use together a compound represented by the following formula (C2) and a compound represented by (C3), for example.

Figure 112023009896911-pct00003
Figure 112023009896911-pct00003

식 중, RC21, RC22, RC31은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RC23, RC24, RC32, RC33, 및 RC34는, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 알킬기, 페닐기, 시클로헥실기를 나타내고, 상기 알킬기 중의 탄소 원자는 산소 원자 혹은 질소 원자로 치환되어 있어도 되고, m2는 1 이상 10 이하의 정수를 나타낸다.In the formula, R C21 , R C22 , and R C31 each independently represent an alkyl group, and R C23 , R C24 , R C32 , R C33 , and R C34 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent; A phenyl group or a cyclohexyl group is shown, the carbon atom in the alkyl group may be substituted with an oxygen atom or a nitrogen atom, and m2 represents an integer of 1 or more and 10 or less.

식 (C2)로 표시되는 화합물 및 식 (C3)으로 표시되는 화합물로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 디메틸디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸에틸디메톡시실란, 트리메틸메톡시실란을 들 수 있다. 식 (C1)로 표시되는 화합물은, 1종을 단독으로 이용할 수 있고, 혹은, 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다. 식 (C2)로 표시되는 화합물 및 (C3)으로 표시되는 화합물은, 일반식 (C1)로 표시되는 화합물과 1종 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Specific examples of the compound represented by the formula (C2) and the compound represented by the formula (C3) include dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methylethyldimethoxysilane, and trimethylmethoxysilane. can The compound represented by formula (C1) can be used individually by 1 type, or can also be used in combination of 2 or more type. The compound represented by formula (C2) and the compound represented by (C3) can be used singly or in combination of two or more kinds with the compound represented by general formula (C1).

1-1-4. 폴리머 피복 발광 입자1-1-4. polymer-coated luminescent particles

도 1, 도 2의 (b) 및 도 3의 (b)에 나타내는 폴리머 피복 발광 입자(90)는, 상술한 공정에서 얻어진 중공 입자 내포 발광 입자(91) 또는 실리카 피복 발광 입자(91)를 모입자로 하고(이하, 이들 발광 입자(91)를 「모입자(91)」로 기재하는 경우가 있다.), 모입자(91)의 표면을, 소수성 폴리머로 피복하여 폴리머층(92)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 폴리머 피복 발광 입자(90)는, 소수성의 폴리머층(92)을 구비함으로써, 발광 입자(90)에 산소, 수분에 대한 높은 안정성을 부여할 수 있고, 나아가서는, 발광 입자(90)의 분산 안정성을 향상시킬 수 있다.The polymer-coated light-emitting particles 90 shown in FIGS. 1, 2(b) and 3(b) are the hollow particle-encapsulated light-emitting particles 91 or the silica-coated light-emitting particles 91 obtained in the above steps. Particles (hereinafter, these luminescent particles 91 may be referred to as "mother particles 91"), and the surface of the mother particles 91 is coated with a hydrophobic polymer to form a polymer layer 92. can be obtained by doing Since the polymer-coated light-emitting particles 90 are provided with the hydrophobic polymer layer 92, the light-emitting particles 90 can be given high stability to oxygen and moisture, and furthermore, the dispersion stability of the light-emitting particles 90 can improve

<폴리머 피복 발광 입자의 제작 방법><Method of producing polymer-coated luminescent particles>

이러한 폴리머층(92)은, 이하의 방법 I, 방법 II 등에 의하여 형성할 수 있다.Such a polymer layer 92 can be formed by the following method I, method II, or the like.

방법 I: 소수성 폴리머를 포함하는 바니시에, 모입자(91)를 첨가하여 혼합함으로써, 모입자(91)의 표면을 소수성 폴리머로 피복한다.Method I: The surface of the base particle 91 is coated with the hydrophobic polymer by adding and mixing the base particle 91 to a varnish containing the hydrophobic polymer.

방법 II: 모입자(91)의 표면에, 비수 용매에 가용인 중합성 불포화기를 함유하는 중합체와 함께, 비수 용매에 가용이고 또한 중합 후에 불용 또는 난용이 되는 중합성 불포화 단량체를 담지시킨 후, 상기 중합체와 상기 중합성 불포화 단량체를 중합시키는 방법 등에 의하여 형성할 수 있다.Method II: A polymerizable unsaturated monomer soluble in a non-aqueous solvent and insoluble or sparingly soluble after polymerization is supported on the surface of the parent particle 91 together with a polymer containing a polymerizable unsaturated group soluble in a non-aqueous solvent, and then It can be formed by a method of polymerizing a polymer and the polymerizable unsaturated monomer.

또한, 방법 I에 있어서의 소수성 폴리머에는, 방법 II에 있어서의 중합체와 중합성 불포화 단량체를 중합시킨 중합물이 포함된다.In addition, the hydrophobic polymer in method I includes the polymer obtained by polymerizing the polymer in method II and a polymerizable unsaturated monomer.

그 중에서도, 폴리머층(92)은, 방법 II에 의하여 형성하는 것이 바람직하다. 방법 II에 의하면, 균일한 두께를 가짐과 더불어, 모입자(91)에 대한 밀착성이 우수한 폴리머층(92)을 형성할 수 있다.Especially, it is preferable to form the polymer layer 92 by method II. According to Method II, the polymer layer 92 having a uniform thickness and excellent adhesion to the base particles 91 can be formed.

이하, 상술한 폴리머층의 형성 방법 II에 대하여 상세하게 기술한다.Hereinafter, the above-described method II for forming the polymer layer will be described in detail.

[비수 용매][Non-aqueous solvent]

비수 용매는, 소수성 폴리머를 용해할 수 있는 유기 용매가 바람직하고, 발광 입자(91)를 균일하게 분산 가능하면, 더욱 바람직하다. 이와 같은 비수 용매를 이용함으로써, 매우 간편하게 소수성 폴리머를 발광 입자(91)에 흡착시켜 폴리머층(92)을 피복시킬 수 있다. 또한, 바람직하게는, 비수 용매는 저유전율 용매이다. 저유전율 용매를 이용함으로써, 소수성 폴리머와 발광 입자(91)를 당해 비수 용매 중에서 혼합하는 것만으로, 소수성 폴리머가 발광 입자(91) 표면에 강고하게 흡착하여, 폴리머층을 피복시킬 수 있다.The non-aqueous solvent is preferably an organic solvent capable of dissolving the hydrophobic polymer, and more preferably a non-aqueous solvent capable of uniformly dispersing the luminescent particles 91 . By using such a non-aqueous solvent, it is possible to coat the polymer layer 92 by adsorbing the hydrophobic polymer to the light emitting particles 91 very simply. Also, preferably, the non-aqueous solvent is a low dielectric constant solvent. By using a low dielectric constant solvent, the hydrophobic polymer is strongly adsorbed to the surface of the light emitting particles 91 and the polymer layer can be coated simply by mixing the hydrophobic polymer and the light emitting particles 91 in the non-aqueous solvent.

이와 같이 하여 얻어진 폴리머층(92)은, 후술하는 바와 같이, 발광 입자(90)를 용매로 세정했을 때에도, 발광 입자(91)로부터 제거되기 어렵다. 또한, 비수 용매의 유전율은 낮을수록 바람직하다. 구체적으로는, 비수 용매의 유전율은, 바람직하게는 10 이하이고, 더욱 바람직하게는 6 이하이며, 특히 바람직하게는 5 이하이다. 바람직한 비수 용매로서는, 지방족 탄화수소계 용매, 지환식 탄화수소계 용매 및 방향족 탄화수소계 용매로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 유기 용매인 것이 바람직하다.The polymer layer 92 thus obtained is difficult to remove from the light-emitting particles 91 even when the light-emitting particles 90 are washed with a solvent, as will be described later. In addition, the dielectric constant of the non-aqueous solvent is so preferable that it is low. Specifically, the dielectric constant of the non-aqueous solvent is preferably 10 or less, more preferably 6 or less, and particularly preferably 5 or less. As a preferable non-aqueous solvent, it is preferable that it is an organic solvent containing at least one selected from the group which consists of an aliphatic hydrocarbon-type solvent, an alicyclic hydrocarbon-type solvent, and an aromatic hydrocarbon-type solvent.

지방족 탄화수소계 용매로서는, 예를 들면, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, 이소헥산 등을 들 수 있고, 지환식 탄화수소계 용매로서는, 예를 들면, 시클로펜탄, 시클로헥산, 에틸시클로헥산 등을 들 수 있고, 방향족 탄화수소계 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic hydrocarbon-based solvent include n-hexane, n-heptane, n-octane, isohexane, and the like, and examples of the alicyclic hydrocarbon-based solvent include cyclopentane, cyclohexane, and ethylcyclohexane. These etc. are mentioned, As an aromatic hydrocarbon type solvent, toluene, xylene, etc. are mentioned.

또, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 비수 용매로서, 지방족 탄화수소계 용매, 지환식 탄화수소계 용매 및 방향족 탄화수소계 용매로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나에, 다른 유기 용매를 혼합한 혼합 용매를 사용해도 된다. 이러한 다른 유기 용매로서는, 예를 들면, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산 아밀과 같은 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸아밀케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤계 용매; 메탄올, 에탄올, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올과 같은 알코올계 용매 등을 들 수 있다.Further, a mixed solvent in which another organic solvent is mixed with at least one selected from the group consisting of aliphatic hydrocarbon-based solvents, alicyclic hydrocarbon-based solvents, and aromatic hydrocarbon-based solvents as a non-aqueous solvent within a range that does not impair the effects of the present invention. You can also use Examples of such other organic solvents include ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, and amyl acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, and cyclohexanone; and alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, and n-butanol.

혼합 용매로서 사용할 때에는, 지방족 탄화수소계 용매, 지환식 탄화수소계 용매 및 방향족 탄화수소계 용매로 이루어지는 군 중 적어도 하나의 사용량을, 50질량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 60질량% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다.When used as a mixed solvent, the amount of at least one of the group consisting of aliphatic hydrocarbon-based solvents, alicyclic hydrocarbon-based solvents and aromatic hydrocarbon-based solvents is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more. do.

[비수 용매에 가용인 중합성 불포화기를 함유하는 중합체][Polymer Containing Polymerizable Unsaturated Group Soluble in Non-Aqueous Solvents]

본 공정에서 사용하는 비수 용매에 가용인 중합성 불포화기를 함유하는 중합체(이하, 「중합체(P)」라고도 기재한다.)에는, 탄소 원자수 4 이상의 알킬기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트 (A1), 말단에 중합성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 (A2), 중합성 불포화기를 갖는 함불소 화합물 함규소 화합물 (D), C), 또는 중합성 불포화기를 갖는 함규소 화합물 (D)을 단량체 성분으로 하는 공중합체에 중합성 불포화기를 도입한 폴리머, 혹은, 탄소 원자수 4 이상의 알킬기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트 (A1), 말단에 중합성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 (A2), 함불소 화합물 함규소 화합물 (D), C)을 주성분으로 하는 중합성 불포화기를 갖는 단량체, 또는 함규소 화합물 (D)을 주성분으로 하는 중합성 불포화기를 갖는 단량체의 공중합체로 이루어지는 매크로모노머 등이 포함된다.The polymer containing a polymerizable unsaturated group soluble in a non-aqueous solvent used in this step (hereinafter also referred to as “polymer (P)”) includes an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 or more carbon atoms (A1) , (meth)acrylate (A2) having a polymerizable functional group at the terminal, a fluorine-containing compound having a polymerizable unsaturated group, a silicon-containing compound (D), C), or a polymerizable silicon-containing compound (D) having a polymerizable unsaturated group, as a monomer component A polymer in which a polymerizable unsaturated group is introduced into the copolymer, or an alkyl (meth)acrylate (A1) having an alkyl group having 4 or more carbon atoms, (meth)acrylate (A2) having a polymerizable functional group at the terminal, macromonomers composed of monomers having a polymerizable unsaturated group mainly composed of fluorine compounds (D) and C), or copolymers of monomers having a polymerizable unsaturated group containing silicon compounds (D) as a main component; .

알킬(메타)아크릴레이트 (A1)로서는, 예를 들면, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트를 들 수 있다.Examples of the alkyl (meth)acrylate (A1) include n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. Late, isooctyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate , isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, and dicyclopentanyl (meth)acrylate.

또, 말단에 중합성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 (A2)로서는, 예를 들면, 디메틸아미노(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노(메타)아크릴레이트; 말레산, 푸마르산, 이타콘산과 같은 불포화 디카르복시산과 1가 알코올의 디에스테르계 화합물을 들 수 있다. 여기서, 본 명세서 중에 있어서, 「(메타)아크릴레이트」란, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트의 쌍방을 의미한다. 「(메타)아크릴로일」이라는 표현에 대해서도 동일하다.Moreover, as (meth)acrylate (A2) which has a polymerizable functional group at the terminal, it is dimethylamino (meth)acrylate, diethylamino (meth)acrylate, for example; and diester compounds of unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid with monohydric alcohols. Here, in this specification, "(meth)acrylate" means both methacrylate and acrylate. The same applies to the expression "(meth)acryloyl".

또, 중합성 불포화기를 갖는 함불소 화합물 함규소 화합물 (D))로서는, 예를 들면, 하기 일반식 함규소 화합물 (D)1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Moreover, as a fluorine-containing compound and silicon-containing compound (D)) which has a polymerizable unsaturated group, the compound represented by the following general formula silicon-containing compound (D) 1) is mentioned, for example.

Figure 112023009896911-pct00004
Figure 112023009896911-pct00004

상기 일반식 (B1) 중, R4는 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 시아노기, 페닐기, 벤질기 또는 -CnH2n-Rfa(단, n은 1~8의 정수이고, Rfa는 후술하는 식 (Rf-1)~(Rf-7) 중 어느 1개의 기이다.)이다.In Formula (B1), R 4 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, a cyano group, a phenyl group, a benzyl group, or -C n H 2n -Rf a (provided that n is an integer of 1 to 8, and Rf a is It is any one group of formulas (Rf-1) to (Rf-7) described later.).

또, 상기 일반식 (B1) 중, L은 하기 식 (L-1)~(L-10)으로 표시되는 어느 1개의 기이다.Moreover, in the said general formula (B1), L is any one group represented by the following formula (L-1) - (L-10).

Figure 112023009896911-pct00005
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상기 식 (L-1), (L-3), (L-5), (L-6) 및 (L-7) 중의 n은 1~8의 정수이다. 상기 식 (L-8), (L-9) 및 (L-10) 중의 m은 1~8의 정수이고, n은 0~8의 정수이다. 상기 식 (L-6) 및 (L-7) 중의 Rfb는 하기 식 (Rf-1)~(Rf-7) 중 어느 1개의 기이다.In the formulas (L-1), (L-3), (L-5), (L-6) and (L-7), n is an integer of 1 to 8. In the formulas (L-8), (L-9) and (L-10), m is an integer of 1 to 8, and n is an integer of 0 to 8. Rf b in the formulas (L-6) and (L-7) is any one of the following formulas (Rf-1) to (Rf-7).

또, 상기 일반식 (B1) 중, Rf는 하기 식 (Rf-1)~(Rf-7) 중 어느 1개의 기이다.Moreover, in the said general formula (B1), Rf is the group of any one of the following formulas (Rf-1) - (Rf-7).

Figure 112023009896911-pct00006
Figure 112023009896911-pct00006

상기 식 (Rf-1)~(Rf-4) 중의 n은 4~6의 정수이다. 상기 식 (Rf-5) 중의 m은 1~5의 정수이고, n은 0~4의 정수이며, 한편 m 및 n의 합계는 4~5이다. 상기 식 (Rf-6) 중의 m은 0~4의 정수이고, n은 1~4의 정수이며, p는 0~4의 정수이고, 또한 m, n 및 p의 합계는 4~5이다.In the formulas (Rf-1) to (Rf-4), n is an integer of 4 to 6. In the formula (Rf-5), m is an integer of 1 to 5, n is an integer of 0 to 4, and the sum of m and n is 4 to 5. In the formula (Rf-6), m is an integer of 0 to 4, n is an integer of 1 to 4, p is an integer of 0 to 4, and the sum of m, n and p is 4 to 5.

또, 상기 일반식 (B1)로 표시되는 화합물의 바람직한 구체예로서는, 하기 식 (B1-1)~(B1-7)로 표시되는 메타크릴레이트, 하기 (B1-8)~(B1-15)로 표시되는 아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들 화합물은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Moreover, as a preferable specific example of the compound represented by the said general formula (B1), the methacrylate represented by the following formula (B1-1) - (B1-7), the following (B1-8) - (B1-15) The acrylate etc. shown are mentioned. In addition, these compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

Figure 112023009896911-pct00007
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Figure 112023009896911-pct00008
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또, 중합성 불포화기를 갖는 함불소 화합물 (C)로서는, 예를 들면, 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄와, 그 양 말단에 중합성 불포화기를 갖는 화합물을 들 수 있다.Examples of the fluorine-containing compound (C) having a polymerizable unsaturated group include a poly(perfluoroalkylene ether) chain and a compound having a polymerizable unsaturated group at both ends thereof.

폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄는, 탄소 원자수 1~3의 2가 불화탄소기와 산소 원자가 번갈아 연결된 구조를 갖는 것이 바람직하다.The poly(perfluoroalkylene ether) chain preferably has a structure in which divalent fluorocarbon groups having 1 to 3 carbon atoms and oxygen atoms are alternately connected.

이러한 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄는, 탄소 원자수 1~3의 2가 불화탄소기를 1종만을 포함해도 되고, 복수 종을 포함해도 된다. 구체적인 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)로서는, 하기 일반식 (C1)로 표시되는 구조를 들 수 있다.Such a poly(perfluoroalkylene ether) chain may include only one type of divalent fluorocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or may include multiple types. As a specific poly(perfluoroalkylene ether), the structure represented by the following general formula (C1) is mentioned.

Figure 112023009896911-pct00009
Figure 112023009896911-pct00009

상기 일반식 (C1) 중, X는 하기 식 (C1-1)~(C1-5)이다. 복수의 X는 동일해도 되고 상이해도 된다. 상이한 X를 포함하는 경우(복수 종의 반복 단위 X-O를 포함하는 경우), 복수의 동일한 반복 단위 X-O가 랜덤 형상 또는 블록 형상으로 존재하고 있어도 된다. 또, n은 반복 단위의 수이며, 1 이상의 정수이다.In the general formula (C1), X represents the following formulas (C1-1) to (C1-5). A plurality of X's may be the same or different. In the case of containing different X (when a plurality of types of repeating units X-O are included), a plurality of identical repeating units X-O may exist in a random shape or block shape. Moreover, n is the number of repeating units, and is an integer greater than or equal to 1.

Figure 112023009896911-pct00010
Figure 112023009896911-pct00010

그 중에서도, 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄로서는, 불소 원자수와 산소 원자수의 밸런스가 양호해져, 중합체(P)가 모입자(91)의 표면에 달라붙기 쉬워지는 점에서, 상기 식 (C1-1)로 표시되는 퍼플루오로메틸렌과, 상기 식 (C1-2)로 표시되는 퍼플루오로에틸렌이 공존하는 구조가 바람직하다.Among them, the poly(perfluoroalkylene ether) chain has a good balance between the number of fluorine atoms and the number of oxygen atoms, so that the polymer (P) easily adheres to the surface of the mother particle 91. A structure in which perfluoromethylene represented by (C1-1) and perfluoroethylene represented by the formula (C1-2) coexist is preferable.

이 경우, 상기 식 (C1-1)로 표시되는 퍼플루오로메틸렌과, 상기 식 (C1-2)로 표시되는 퍼플루오로에틸렌의 존재 비율은, 몰비율[퍼플루오로메틸렌(C1-1)/퍼플루오로에틸렌(C1-2)]로, 1/10~10/1인 것이 바람직하고, 2/8~8/2인 것이 보다 바람직하며, 3/7~7/3인 것이 더욱 바람직하다.In this case, the abundance ratio of perfluoromethylene represented by the formula (C1-1) and perfluoroethylene represented by the formula (C1-2) is the molar ratio [perfluoromethylene (C1-1) /perfluoroethylene (C1-2)], preferably 1/10 to 10/1, more preferably 2/8 to 8/2, still more preferably 3/7 to 7/3 .

또, 상기 일반식 (C1) 중의 n은 3~100인 것이 바람직하고, 6~70인 것이 보다 바람직하다. 또한, 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄에 포함되는 불소 원자수는, 합계로 18~200인 것이 바람직하고, 25~150인 것이 보다 바람직하다. 이러한 구성의 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄에 있어서, 불소 원자수와 산소 원자수의 밸런스가 더욱 양호해진다.Moreover, it is preferable that it is 3-100, and, as for n in the said General formula (C1), it is more preferable that it is 6-70. Moreover, it is preferable that it is 18-200 in total, and, as for the number of fluorine atoms contained in a poly(perfluoroalkylene ether) chain, it is more preferable that it is 25-150. In the poly(perfluoroalkylene ether) chain having such a structure, the balance between the number of fluorine atoms and the number of oxygen atoms is further improved.

양 말단에 중합성 불포화기를 도입하기 전의 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄를 갖는 원료 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 (C2-1)~(C2-6)을 들 수 있다. 또한, 하기 식 (C2-1)~(C2-6) 중의 「-PFPE-」는, 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄이다.As a raw material compound which has a poly(perfluoroalkylene ether) chain before introduce|transducing polymerizable unsaturated groups at both terminals, the following formula (C2-1) - (C2-6) is mentioned, for example. In addition, "-PFPE-" in the following formulas (C2-1) to (C2-6) is a poly(perfluoroalkylene ether) chain.

Figure 112023009896911-pct00011
Figure 112023009896911-pct00011

폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄의 양 말단에 도입되는 중합성 불포화기는, 예를 들면, 하기 식 (U-1)~(U-5)로 표시되는 구조를 들 수 있다.Examples of the polymerizable unsaturated groups introduced at both ends of the poly(perfluoroalkylene ether) chain include structures represented by the following formulas (U-1) to (U-5).

Figure 112023009896911-pct00012
Figure 112023009896911-pct00012

그 중에서도, 함불소 화합물 (C) 자체의 입수나 제조의 용이함, 혹은 다른 중합성 불포화기를 갖는 단량체와의 공중합의 용이함으로부터, 상기 식 U-1로 표시되는 아크릴로일옥시기, 또는 상기 식 U-2로 표시되는 메타크릴로일옥시기가 바람직하다.Among them, the acryloyloxy group represented by the formula U-1 or the formula U- The methacryloyloxy group represented by 2 is preferable.

함불소 화합물 (C)의 구체예로서는, 하기 식 (C-1)~(C-13)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 또한, 하기 식 (C-1)~(C-13) 중의 「-PFPE-」는, 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄이다.Specific examples of the fluorine-containing compound (C) include compounds represented by the following formulas (C-1) to (C-13). In addition, "-PFPE-" in the following formulas (C-1) to (C-13) is a poly(perfluoroalkylene ether) chain.

Figure 112023009896911-pct00013
Figure 112023009896911-pct00013

Figure 112023009896911-pct00014
Figure 112023009896911-pct00014

그 중에서도, 함불소 화합물 (C)로서는, 공업적 제조가 용이한 점에서, 상기 식 (C-1), (C-2), (C-5) 또는 (C-6)으로 표시되는 화합물이 바람직하고, 모입자(91)의 표면에 달라붙기 쉬운 중합체(P)를 합성 가능한 점에서, 상기 식 (C-1)로 표시되는 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄의 양 말단에 아크릴로일기를 갖는 화합물, 또는 상기 식 (C-2)로 표시되는 폴리(퍼플루오로알킬렌에테르)쇄의 양 말단에 메타크릴로일기를 갖는 화합물이 보다 바람직하다.Among them, as the fluorine-containing compound (C), the compounds represented by the formulas (C-1), (C-2), (C-5) or (C-6) can be used because industrial production is easy. Preferably, since the polymer (P) that easily sticks to the surface of the parent particle 91 can be synthesized, acryl is attached to both ends of the poly(perfluoroalkylene ether) chain represented by the formula (C-1). A compound having a diary group or a compound having methacryloyl groups at both ends of the poly(perfluoroalkylene ether) chain represented by the formula (C-2) is more preferable.

또, 중합성 불포화기를 갖는 함규소 화합물 (D)로서는, 예를 들면, 하기 일반식 (D1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Moreover, as a silicon-containing compound (D) which has a polymerizable unsaturated group, the compound represented by the following general formula (D1) is mentioned, for example.

Figure 112023009896911-pct00015
Figure 112023009896911-pct00015

상기 일반식 (D1) 중, P는 중합성 관능기, Xa는 SiR11R22이며, Rd는 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기(단, R11, R22는 메틸기, 혹은 Si(CH3)기, 아미노기, 글리시딜기이며, m은 0~100의 정수이고, n은 0~4의 정수이다.)이다.In the general formula (D1), P is a polymerizable functional group, X a is SiR 11 R 22 , Rd is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, an acryloyl group or a methacryloyl group (provided that R 11 and R 22 are A methyl group, or a Si(CH 3 ) group, an amino group, or a glycidyl group, m is an integer of 0 to 100, and n is an integer of 0 to 4).

함규소 화합물 (D)의 구체예로서는, 하기 식 (D-1)~(D-13)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the silicon-containing compound (D) include compounds represented by the following formulas (D-1) to (D-13).

Figure 112023009896911-pct00016
Figure 112023009896911-pct00016

또, 중합성 불포화기를 갖는 단량체로서 사용 가능한 알킬(메타)아크릴레이트 (A1), 말단에 중합성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물(A2), 함불소 화합물 (B, C) 및 함규소 화합물 (D) 이외의 화합물로서는, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, p-t-부틸스티렌, 비닐톨루엔과 같은 방향족 비닐계 화합물; 벤질(메타)아크릴레이트, 디브로모프로필(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트와 같은 (메타)아크릴레이트계 화합물 등을 들 수 있다.In addition, an alkyl (meth)acrylate (A1) usable as a monomer having a polymerizable unsaturated group, a (meth)acrylate compound (A2) having a polymerizable functional group at the terminal, a fluorine-containing compound (B, C), and a silicon-containing compound Examples of compounds other than (D) include aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-t-butylstyrene, and vinyltoluene; and (meth)acrylate-based compounds such as benzyl (meth)acrylate, dibromopropyl (meth)acrylate, and tribromophenyl (meth)acrylate.

이들 화합물은, 알킬(메타)아크릴레이트 (A1), 말단에 중합성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 (A2), 함불소 화합물 (B, C) 또는 함규소 화합물 (D)과의 랜덤 공중합체로서 사용하는 것이 바람직하다. 이에 의하여, 얻어지는 중합체(P)의 비수 용매에 대한 용해성을 충분히 높일 수 있다.These compounds are random copolymers of alkyl (meth)acrylate (A1), (meth)acrylate having a polymerizable functional group at the terminal (A2), fluorine-containing compound (B, C) or silicon-containing compound (D). It is preferable to use as In this way, the solubility of the obtained polymer (P) in a non-aqueous solvent can be sufficiently increased.

상기 중합성 불포화기를 갖는 단량체로서 사용 가능한 화합물은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, n-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트와 같은 직쇄상 또는 분기상의 탄소 원자수 4~12의 알킬기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트 (A1)를 사용하는 것이 바람직하다.The compound usable as a monomer having the polymerizable unsaturated group may be used alone or in combination of two or more. Among them, alkyl (meth) acrylates having a linear or branched alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, such as n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and lauryl methacrylate; It is preferred to use (A1).

중합성 불포화기를 갖는 단량체의 공중합체는, 중합성 불포화기를 갖는 단량체를 통상의 방법에 의하여 중합함으로써 얻어진다.A copolymer of a monomer having a polymerizable unsaturated group is obtained by polymerizing a monomer having a polymerizable unsaturated group by a conventional method.

또한, 이러한 공중합체에 중합성 불포화기를 도입함으로써, 중합체(P)가 얻어진다.Further, polymer (P) is obtained by introducing a polymerizable unsaturated group into such a copolymer.

중합성 불포화기의 도입 방법으로서는, 예를 들면, 이하의 방법 III~VI을 들 수 있다.As a method for introducing a polymerizable unsaturated group, the following methods III to VI are exemplified.

방법 III은, 미리 공중합 성분으로서 아크릴산, 메타크릴산과 같은 카르복시산기 함유 중합성 단량체, 디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 디메틸아미노프로필아크릴아미드와 같은 아미노기 함유 중합성 단량체를 배합하여 공중합시켜, 카르복시산기 또는 아미노기를 갖는 공중합체를 얻은 후, 이 카르복시산기 또는 아미노기에 글리시딜메타크릴레이트와 같은 글리시딜기 및 중합성 불포화기를 갖는 단량체를 반응시키는 방법이다.In Method III, a carboxylic acid group-containing polymerizable monomer such as acrylic acid or methacrylic acid or an amino group-containing polymerizable monomer such as dimethylaminoethyl methacrylate or dimethylaminopropyl acrylamide is blended and copolymerized as a copolymerization component in advance to form a carboxylic acid group or an amino group. After obtaining a copolymer having , a monomer having a glycidyl group such as glycidyl methacrylate and a polymerizable unsaturated group is reacted with the carboxylic acid group or amino group.

방법 IV는, 미리 공중합 성분으로서 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트와 같은 수산기 함유 단량체를 배합하여 공중합시켜, 수산기를 갖는 공중합체를 얻은 후, 이 수산기에 이소시아네이트에틸메타크릴레이트와 같은 이소시아네이트기 및 중합성 불포화기를 갖는 단량체를 반응시키는 방법이다.In Method IV, a hydroxyl group-containing monomer such as 2-hydroxyethyl methacrylate or 2-hydroxyethyl acrylate is blended in advance as a copolymerization component and copolymerized to obtain a copolymer having a hydroxyl group, and then isocyanate ethyl methacrylate is added to the hydroxyl group. It is a method of reacting a monomer having an isocyanate group such as acrylate and a polymerizable unsaturated group.

방법 V는, 중합 시에 티오글리콜산을 연쇄 이동제로서 사용하여 공중합체의 말단에 카르복실기를 도입하고, 이 카르복실기에 글리시딜메타크릴레이트와 같은 글리시딜기 및 중합성 불포화기를 갖는 단량체를 반응시키는 방법이다.Method V introduces a carboxyl group to the terminal of the copolymer using thioglycolic acid as a chain transfer agent during polymerization, and reacts the carboxyl group with a monomer having a glycidyl group such as glycidyl methacrylate and a polymerizable unsaturated group. way.

방법 VI은, 중합 개시제로서 아조비스시아노펜탄산과 같은 카르복실기 함유 아조 개시제를 사용하여 공중합체에 카르복실기를 도입하고, 이 카르복실기에 글리시딜메타크릴레이트와 같은 글리시딜기 및 중합성 불포화기를 갖는 단량체를 반응시키는 방법이다.Method VI introduces a carboxyl group into the copolymer using a carboxyl group-containing azo initiator such as azobiscyanopentanoic acid as a polymerization initiator, and the carboxyl group has a glycidyl group such as glycidyl methacrylate and a polymerizable unsaturated group. A method for reacting monomers.

그 중에서도, 방법 III이 가장 간편한 점에서 바람직하다.Among them, Method III is preferred because it is the most convenient.

[비수 용매에 가용이고, 또한 중합 후에 불용 혹은 난용이 되는 중합성 불포화 단량체][Polymerizable Unsaturated Monomer Soluble in Non-Aqueous Solvents and Insoluble or Slightly Soluble After Polymerization]

상술한 비수 용매에 가용이고 또한 중합 후에 불용 혹은 난용이 되는 중합성 불포화 단량체(이하, 「단량체(M)」라고도 기재한다.)로서는, 예를 들면, 반응성 극성기(관능기)를 갖지 않는 비닐계 모노머류, 아미드 결합 함유 비닐계 모노머류, (메타)아크릴로일옥시알킬포스페이트류, (메타)아크릴로일옥시알킬포스파이트류, 인 원자 함유 비닐계 모노머류, 수산기 함유 중합성 불포화 단량체류, 디알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트류, 에폭시기 함유 중합성 불포화 단량체류, 이소시아네이트기 함유 α,β-에틸렌성 불포화 단량체류, 알콕시실릴기 함유 중합성 불포화 단량체류, 카르복실기 함유 α,β-에틸렌성 불포화 단량체류 등을 들 수 있다.As the polymerizable unsaturated monomer (hereinafter also referred to as “monomer (M)”) that is soluble in the above-mentioned non-aqueous solvent and becomes insoluble or sparingly soluble after polymerization, for example, a vinyl-based monomer having no reactive polar group (functional group) amide bond-containing vinyl monomers, (meth)acryloyloxyalkyl phosphates, (meth)acryloyloxyalkyl phosphites, phosphorus atom-containing vinyl monomers, hydroxyl group-containing polymerizable unsaturated monomers, Alkylaminoalkyl (meth)acrylates, epoxy group-containing polymerizable unsaturated monomers, isocyanate group-containing α,β-ethylenically unsaturated monomers, alkoxysilyl group-containing polymerizable unsaturated monomers, carboxyl group-containing α,β-ethylenically unsaturated monomers Monomers etc. are mentioned.

반응성 극성기를 갖지 않는 비닐계 모노머류의 구체예로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트와 같은 (메타)아크릴레이트류, (메타)아크릴로니트릴, 아세트산 비닐, 염화 비닐, 염화 비닐리덴, 불화 비닐, 불화 비닐리덴과 같은 올레핀류 등을 들 수 있다.Specific examples of vinyl monomers having no reactive polar group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, and i-propyl (meth)acrylate. and olefins such as (meth)acrylates, (meth)acrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, and vinylidene fluoride.

아미드 결합 함유 비닐계 모노머류의 구체예로서는, 예를 들면, (메타)아크릴아미드, 디메틸(메타)아크릴아미드, N-t-부틸(메타)아크릴아미드, N-옥틸(메타)아크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드, 디메틸아미노프로필아크릴아미드, 알콕시화 N-메틸올화 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.Specific examples of the amide bond-containing vinyl monomers include (meth)acrylamide, dimethyl (meth)acrylamide, N-t-butyl (meth)acrylamide, N-octyl (meth)acrylamide, and diacetone acrylamide. , dimethylaminopropyl acrylamide, and alkoxylated N-methylolized (meth)acrylamides.

(메타)아크릴로일옥시알킬포스페이트류의 구체예로서는, 예를 들면, 디알킬[(메타)아크릴로일옥시알킬]포스페이트류, (메타)아크릴로일옥시알킬 애시드 포스페이트류 등을 들 수 있다.As a specific example of (meth)acryloyloxyalkyl phosphates, dialkyl [(meth)acryloyloxyalkyl] phosphates, (meth)acryloyloxyalkyl acid phosphates, etc. are mentioned, for example.

(메타)아크릴로일옥시알킬포스파이트류의 구체예로서는, 예를 들면, 디알킬[(메타)아크릴로일옥시알킬]포스파이트류, (메타)아크릴로일옥시알킬 애시드 포스파이트류 등을 들 수 있다.Specific examples of (meth)acryloyloxyalkyl phosphites include dialkyl[(meth)acryloyloxyalkyl] phosphites, (meth)acryloyloxyalkyl acid phosphites, and the like. can

인 원자 함유 비닐계 모노머류의 구체예로서는, 예를 들면, 상기 (메타)아크릴로일옥시알킬 애시드 포스페이트류 또는 (메타)아크릴로일옥시알킬 애시드 포스파이트류의 알킬렌옥사이드 부가물, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트와 같은 에폭시기 함유 비닐계 모노머와 인산, 아인산 또는 이들의 산성 에스테르류와의 에스테르 화합물, 3-클로로-2-애시드 포스폭시프로필(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the phosphorus atom-containing vinyl monomers include, for example, alkylene oxide adducts of the above-mentioned (meth)acryloyloxyalkyl acid phosphates or (meth)acryloyloxyalkyl acid phosphites, glycidyl Ester compounds of epoxy group-containing vinyl monomers such as (meth)acrylate and methylglycidyl (meth)acrylate with phosphoric acid, phosphorous acid, or acid esters thereof, 3-chloro-2-acid phosphoxypropyl (meth) Acrylates etc. are mentioned.

수산기 함유 중합성 불포화 단량체류의 구체예로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 디-2-하이드록시에틸푸마레이트, 모노-2-하이드록시에틸모노부틸푸마레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트와 같은 중합성 불포화 카르복시산의 하이드록시알킬에스테르류 또는 이들과 ε-카프로락톤의 부가물; (메타)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 불포화 모노 또는 디카르복시산, 디카르복시산과 1가의 알코올과의 모노에스테르류와 같은 중합성 불포화 카르복시산류; 상기 중합성 불포화 카르복시산의 하이드록시알킬에스테르류와 폴리카르복시산의 무수물(말레산, 석신산, 프탈산, 헥사하이드로프탈산, 테트라하이드로프탈산, 벤젠트리카르복시산, 벤젠테트라카르복시산, 「하이믹산」, 테트라클로로프탈산, 도데시닐석신산 등)의 부가물 등의 각종 불포화 카르복시산류와 1가의 카르복시산의 모노글리시딜에스테르(야자유 지방산 글리시딜에스테르, 옥틸산 글리시딜에스테르 등), 부틸글리시딜에테르, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 모노에폭시 화합물의 부가물 또는 이들과 ε-카프로락톤의 부가물; 하이드록시비닐에테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the hydroxyl group-containing polymerizable unsaturated monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate. Hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, di-2- Hydroxyalkyl esters of polymerizable unsaturated carboxylic acids such as hydroxyethyl fumarate, mono-2-hydroxyethyl monobutyl fumarate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, and polyethylene glycol mono(meth)acrylate, or these and ε-caprolactone; polymerizable unsaturated carboxylic acids such as unsaturated mono- or dicarboxylic acids such as (meth)acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and citraconic acid, and monoesters of dicarboxylic acids and monohydric alcohols; Hydroxyalkyl esters of the above polymerizable unsaturated carboxylic acids and anhydrides of polycarboxylic acids (maleic acid, succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, benzene tricarboxylic acid, benzene tetracarboxylic acid, "hymic acid", tetrachlorophthalic acid, Monoglycidyl esters of monovalent carboxylic acids (eg, coconut oil fatty acid glycidyl ester, octylic acid glycidyl ester, etc.), butyl glycidyl ether, ethylene oxide , adducts of monoepoxy compounds such as propylene oxide, or adducts of these and ε-caprolactone; Hydroxy vinyl ether etc. are mentioned.

디알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트류의 구체예로서는, 예를 들면, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a specific example of dialkylaminoalkyl (meth)acrylates, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, diethylaminoethyl (meth)acrylate, etc. are mentioned, for example.

에폭시기 함유 중합성 불포화 단량체류의 구체예로서는, 예를 들면, 중합성 불포화 카르복시산류, 수산기 함유 비닐 모노머와 상기 폴리카르복시산의 무수물의 등몰 부가물(모노-2-(메타)아크릴로일옥시모노에틸프탈레이트 등)과 같은 각종 불포화 카르복시산에, 1분자 중에 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 각종 폴리에폭시 화합물을 등몰비로 부가 반응시켜 얻어지는 에폭시기 함유 중합성 화합물, 글리시딜(메타)아크릴레이트, (β-메틸)글리시딜(메타)아크릴레이트, (메타)알릴글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy group-containing polymerizable unsaturated monomers include, for example, polymerizable unsaturated carboxylic acids, equimolar adducts of a hydroxyl group-containing vinyl monomer and an anhydride of the polycarboxylic acid (mono-2-(meth)acryloyloxymonoethylphthalate, etc. ) Epoxy group-containing polymerizable compounds obtained by addition reaction of various polyepoxy compounds having at least two epoxy groups in an equimolar ratio to various unsaturated carboxylic acids, such as glycidyl (meth)acrylate, (β-methyl) glycol Cydyl (meth)acrylate, (meth)allyl glycidyl ether, etc. are mentioned.

이소시아네이트기 함유 α,β-에틸렌성 불포화 단량체류의 구체예로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트의 등몰 부가물, 이소시아네이트에틸(메타)아크릴레이트와 같은 이소시아네이트기 및 비닐기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다.Specific examples of the isocyanate group-containing α,β-ethylenically unsaturated monomers include isocyanates such as equimolar adducts of 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and hexamethylene diisocyanate, and isocyanate ethyl (meth)acrylate. group and a monomer having a vinyl group; and the like.

알콕시실릴기 함유 중합성 불포화 단량체류의 구체예로서는, 예를 들면, 비닐에톡시실란, α-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 트리메틸실록시에틸(메타)아크릴레이트와 같은 실리콘계 모노머류 등을 들 수 있다.Specific examples of the alkoxysilyl group-containing polymerizable unsaturated monomers include silicone monomers such as vinylethoxysilane, α-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and trimethylsiloxyethyl (meth)acrylate. can

카르복실기 함유 α,β-에틸렌성 불포화 단량체류의 구체예로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 불포화 모노 또는 디카르복시산, 디카르복시산과 1가 알코올의 모노에스테르류와 같은 α,β-에틸렌성 불포화 카르복시산류; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 디-2-하이드록시에틸푸마레이트, 모노-2-하이드록시에틸-모노부틸푸마레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트와 같은 α,β-불포화 카르복시산 하이드로알킬에스테르류와 말레산, 석신산, 프탈산, 헥사하이드로프탈산, 테트라하이드로프탈산, 벤젠트리카르복시산, 벤젠테트라카르복시산, 「하이믹산」, 테트라클로로프탈산, 도데시닐석신산과 같은 폴리카르복시산의 무수물의 부가물 등을 들 수 있다.Specific examples of the α,β-ethylenically unsaturated monomers containing a carboxyl group include, for example, unsaturated mono- or dicarboxylic acids such as (meth)acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and citraconic acid; α,β-ethylenically unsaturated carboxylic acids such as monoesters of polyhydric alcohols; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl ( meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, di-2-hydroxyethyl fumarate, mono-2-hydroxyethyl-mono α,β-unsaturated carboxylic acid hydroalkyl esters such as butyl fumarate and polyethylene glycol mono(meth)acrylate, maleic acid, succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid, benzene tricarboxylic acid, benzene tetracarboxylic acid, adducts of anhydrides of polycarboxylic acids such as "hymic acid", tetrachlorophthalic acid, and dodecinylsuccinic acid.

그 중에서도, 단량체(M)로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트와 같은 탄소 원자수 3 이하의 알킬기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트인 것이 바람직하다.Especially, as a monomer (M), it is preferable that it is an alkyl (meth)acrylate which has a C3 or less alkyl group like methyl (meth)acrylate and ethyl (meth)acrylate.

또한, 중합체(P)와 단량체(M)를 중합시킬 때에는, 카르복실기, 설폰산기, 인산기, 히드록실기, 디메틸아미노기와 같은 관능기 중 적어도 1종을 갖는 중합성 불포화 단량체를 공중합하는 것이 바람직하다. 이에 의하여, 형성되는 중합물(폴리머층(92))의 실록산 결합과의 상호 작용이 높아짐에 의하여, 발광 입자(91)의 표면에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다.When polymerizing the polymer (P) and the monomer (M), it is preferable to copolymerize a polymerizable unsaturated monomer having at least one of a functional group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, and a dimethylamino group. As a result, the interaction with the siloxane bond of the polymer (polymer layer 92) to be formed is increased, so that adhesion to the surface of the light-emitting particles 91 can be improved.

단량체로서, 디메틸아미노기와 같은 3급 아미노기를 갖는 중합체의 경우, 배위 결합 등 반응에 기여하지 않는 3급 아미노기가 산화되기 때문에, 고온에 노출되면 이 아미노기에 기인하여 유해 물질인 포름알데히드가 발생한다. 여기서, 산화 방지제 B인 아인산 에스테르를 공존시킴으로써, 발광 입자(90)를 피복하는 폴리머층이 되는 중합체 중의 아미노기의 산화를 억제할 수 있다. 또, 당해 중합체 중의 아미노기로부터 발생한 포름알데히드와 아인산 에스테르가 불가역적으로 반응하는 점에서, 포름알데히드에 의한 발광 입자의 열화도 억제할 수 있다.In the case of a polymer having a tertiary amino group such as a dimethylamino group as a monomer, since the tertiary amino group that does not contribute to reactions such as coordination bonds is oxidized, formaldehyde, a harmful substance, is generated due to this amino group when exposed to high temperatures. Here, oxidation of the amino group in the polymer forming the polymer layer covering the light-emitting particles 90 can be suppressed by coexisting phosphite as the antioxidant B. In addition, deterioration of light-emitting particles due to formaldehyde can be suppressed because formaldehyde generated from an amino group in the polymer and phosphorous acid ester react irreversibly.

또, 얻어지는 발광 입자(90)로부터 소수성 폴리머가 용출되는 것을 방지 또는 억제하기 위하여, 소수성 폴리머(중합체(P))는 가교하고 있는 것이 바람직하다.Further, in order to prevent or suppress elution of the hydrophobic polymer from the obtained light-emitting particles 90, the hydrophobic polymer (polymer (P)) is preferably crosslinked.

가교 성분으로서 사용 가능한 다관능 중합성 불포화 단량체로서는, 예를 들면, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리에톡시트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As a polyfunctional polymerizable unsaturated monomer usable as a crosslinking component, for example, divinylbenzene, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, Polyethylene glycoldi(meth)acrylate, 1,3-butanedioldi(meth)acrylate, 1,4-butanedioldi(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, neopentylglycoldi Methacrylate, trimethylolpropane triethoxytri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaeryth Litol hexa(meth)acrylate, allyl methacrylate, etc. are mentioned.

또, 얻어지는 소수성 폴리머가 비수 용매에 용해하지 않는 범위에 있어서, 그 외의 중합성 불포화 단량체를 공중합하도록 해도 된다. 그 외의 중합성 불포화 단량체로서는, 예를 들면, 상기 알킬(메타)아크릴레이트(A), 함불소 화합물 (B, C), 이들 이외에 사용 가능한 중합체(P)용 중합성 불포화 단량체로서 예시한 화합물을 들 수 있다.Moreover, in the range where the hydrophobic polymer obtained does not dissolve in a non-aqueous solvent, you may copolymerize other polymerizable unsaturated monomers. Examples of other polymerizable unsaturated monomers include the alkyl (meth)acrylates (A), fluorine-containing compounds (B, C), and compounds exemplified as polymerizable unsaturated monomers for polymers (P) that can be used other than these. can be heard

소수성 폴리머로 이루어지는 폴리머층(92)은, 발광 입자(91), 비수 용매 및 중합체(P)의 존재하에서, 단량체(M)를 중합시킴으로써 형성된다.The polymer layer 92 made of a hydrophobic polymer is formed by polymerizing the monomer (M) in the presence of the luminescent particles 91, a non-aqueous solvent, and the polymer (P).

발광 입자(91)와 중합체(P)는, 중합을 행하기 전에 혼합하는 것이 바람직하다. 혼합에는, 예를 들면, 호모지나이저, 디스퍼, 비즈 밀, 페인트 셰이커, 니더, 롤 밀, 볼 밀, 어트리터, 샌드 밀 등을 사용할 수 있다.The luminescent particles 91 and the polymer P are preferably mixed before polymerization. For mixing, a homogenizer, a disper, a bead mill, a paint shaker, a kneader, a roll mill, a ball mill, an attritor, a sand mill or the like can be used, for example.

본 발명에 있어서, 사용하는 발광 입자(91)의 형태는, 특별히 한정되지 않고, 슬러리, 웨트 케이크, 분체 등 중 어느 것이어도 된다.In the present invention, the shape of the luminescent particles 91 to be used is not particularly limited, and may be slurry, wet cake, powder or the like.

발광 입자(91)와 중합체(P)의 혼합 후에, 단량체(M) 및 후술하는 중합 개시제를 추가로 혼합하여, 중합을 행함으로써, 중합체(P)와 단량체(M)의 중합물로 구성되는 폴리머층(92)이 형성된다. 이에 의하여, 발광 입자(90)가 얻어진다.After mixing the light-emitting particles 91 and the polymer (P), the monomer (M) and a polymerization initiator described later are further mixed to perform polymerization, thereby forming a polymer layer composed of a polymer of the polymer (P) and the monomer (M). (92) is formed. In this way, the luminescent particles 90 are obtained.

이때, 중합체(P)의 수평균 분자량은, 1,000~500,000인 것이 바람직하고, 2,000~200,000인 것이 보다 바람직하며, 3,000~100,000인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 범위의 분자량을 갖는 중합체(P)를 이용함으로써, 발광 입자(91)의 표면에 양호하게 폴리머층(92)을 피복할 수 있다.At this time, the number average molecular weight of the polymer (P) is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 2,000 to 200,000, still more preferably 3,000 to 100,000. By using the polymer (P) having a molecular weight within such a range, the polymer layer 92 can be satisfactorily coated on the surfaces of the light emitting particles 91 .

또, 중합체(P)의 사용량은, 목적에 따라 적절히 설정되기 때문에, 특별히 한정되지 않지만, 통상, 100질량부의 발광 입자(91)에 대하여, 0.5~50질량부인 것이 바람직하고, 1~40질량부인 것이 보다 바람직하며, 2~35질량부인 것이 더욱 바람직하다.In addition, since the amount of polymer (P) used is appropriately set according to the purpose, it is not particularly limited, but is usually preferably 0.5 to 50 parts by mass, and 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the luminescent particles 91. It is more preferable, and it is still more preferable that it is 2-35 mass parts.

또, 단량체(M)의 사용량도, 목적에 따라 적절히 설정되기 때문에, 특별히 한정되지 않지만, 통상, 100질량부의 발광 입자(91)에 대하여, 0.5~40질량부인 것이 바람직하고, 1~35질량부인 것이 보다 바람직하며, 2~30질량부인 것이 더욱 바람직하다.In addition, since the amount of the monomer (M) is appropriately set according to the purpose, it is not particularly limited, but is usually preferably 0.5 to 40 parts by mass, and 1 to 35 parts by mass relative to 100 parts by mass of the luminescent particles 91. It is more preferable, and it is more preferable that it is 2-30 mass parts.

최종적으로 발광 입자(91)의 표면을 피복하는 소수성 폴리머의 양은, 100질량부의 발광 입자(91)에 대하여, 1~60질량부인 것이 바람직하고, 2~50질량부인 것이 보다 바람직하며, 3~40질량부인 것이 더욱 바람직하다.The amount of the hydrophobic polymer finally covering the surface of the light-emitting particles 91 is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 2 to 50 parts by mass, and 3 to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the light-emitting particles 91. It is more preferable that it is a mass part.

이 경우, 단량체(M)의 양은, 100질량부의 중합체(P)에 대하여, 통상, 10~100질량부인 것이 바람직하고, 30~90질량부인 것이 보다 바람직하며, 50~80질량부인 것이 더욱 바람직하다.In this case, the amount of the monomer (M) is usually preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 30 to 90 parts by mass, still more preferably 50 to 80 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymer (P). .

폴리머층(92)의 두께는, 0.5~100nm인 것이 바람직하고, 0.7~50nm인 것이 보다 바람직하며, 1~30nm인 것이 더욱 바람직하다. 폴리머층(92)의 두께가 0.5nm 미만이면, 분산 안정성이 얻어지지 않는 경우가 많다. 폴리머층(92)의 두께가 100nm를 초과하면 발광 입자(91)를 고농도로 함유시키는 것이 곤란해지는 경우가 많다. 이러한 두께의 폴리머층(92)으로 발광 입자(91)를 피복함으로써, 발광 입자(90)의 산소, 수분에 대한 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.The thickness of the polymer layer 92 is preferably 0.5 to 100 nm, more preferably 0.7 to 50 nm, and still more preferably 1 to 30 nm. When the thickness of the polymer layer 92 is less than 0.5 nm, dispersion stability is often not obtained. When the thickness of the polymer layer 92 exceeds 100 nm, it is often difficult to contain the luminescent particles 91 at a high concentration. By covering the light-emitting particles 91 with the polymer layer 92 having such a thickness, the stability of the light-emitting particles 90 against oxygen and moisture can be further improved.

발광 입자(91), 비수 용매 및 중합체(P)의 존재하에 있어서의 단량체(M)의 중합은, 공지의 중합 방법에 의하여 행할 수 있지만, 바람직하게는 중합 개시제의 존재하에서 행해진다.Polymerization of the monomer (M) in the presence of the luminescent particles 91, the non-aqueous solvent and the polymer (P) can be carried out by a known polymerization method, but is preferably carried out in the presence of a polymerization initiator.

이들 중합 개시제로서는, 예를 들면, 디메틸-2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼벤조에이트, t-부틸-2-에틸헥사노에이트, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드 등을 들 수 있다. 이들 중합 개시제는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Examples of these polymerization initiators include dimethyl-2,2-azobis(2-methylpropionate), azobisisobutyronitrile (AIBN), and 2,2-azobis(2,4-dimethylvalero). nitrile), 2,2-azobis (2-methylbutyronitrile), benzoyl peroxide, t-butylperbenzoate, t-butyl-2-ethylhexanoate, t-butylhydroperoxide, di-t -Butyl peroxide, cumene hydroperoxide, etc. are mentioned. These polymerization initiators may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

비수 용매에 난용인 중합 개시제는, 단량체(M)에 용해한 상태로, 발광 입자(91)와 중합체(P)를 포함하는 혼합액에 첨가하는 것이 바람직하다.The polymerization initiator, which is sparingly soluble in non-aqueous solvents, is preferably added to the liquid mixture containing the luminescent particles 91 and the polymer (P) in a dissolved state in the monomer (M).

또, 단량체(M) 또는 중합 개시제를 용해한 단량체(M)는, 중합 온도에 도달한 혼합액에 적하법에 의하여 첨가하여 중합시켜도 되지만, 승온 전의 상온의 혼합액에 첨가하여, 충분히 혼합한 후에 승온하여 중합시키는 것이 안정적이어서 바람직하다.Alternatively, the monomer (M) or the monomer (M) in which the polymerization initiator is dissolved may be added dropwise to the mixed solution having reached the polymerization temperature for polymerization. It is preferable because it is stable.

중합 온도는, 60~130℃의 범위인 것이 바람직하고, 70~100℃의 범위인 것이 보다 바람직하다. 이러한 중합 온도로 단량체(M)의 중합을 실시하면, 나노 결정(911)의 형태 변화(예를 들면, 변질, 결정 성장 등)를 적합하게 방지할 수 있다.The polymerization temperature is preferably in the range of 60 to 130°C, and more preferably in the range of 70 to 100°C. When the polymerization of the monomer (M) is carried out at such a polymerization temperature, shape change (eg, deterioration, crystal growth, etc.) of the nanocrystal 911 can be suitably prevented.

단량체(M)의 중합 후, 발광 입자(91) 표면에 흡착되지 않았던 폴리머를 제거함으로써, 발광 입자(91)의 표면에 폴리머층(92)이 형성된 발광 입자(폴리머 피복 발광 입자)(90)를 얻는다. 흡착되지 않았던 폴리머를 제거하는 방법으로서는, 원심 침강, 한외 여과를 들 수 있다. 원심 침강에서는, 폴리머 피복 발광 입자(90)와 흡착되지 않았던 폴리머를 포함하는 분산액을 고속으로 회전시키고, 당해 분산액 중의 폴리머 피복 발광 입자(90)를 침강시켜, 흡착되지 않았던 폴리머를 분리한다. 한외 여과에서는, 폴리머 피복 발광 입자(90)와 흡착되지 않았던 폴리머를 포함하는 분산액을 적절한 용매로 희석하고, 적절한 구멍 사이즈를 갖는 여과막에 당해 희석액을 통과시켜, 흡착되지 않았던 폴리머와 폴리머 피복 발광 입자(90)를 분리한다.After the polymerization of the monomer M, the polymer not adsorbed on the surface of the light-emitting particle 91 is removed, thereby forming the light-emitting particle (polymer-coated light-emitting particle) 90 on which the polymer layer 92 is formed on the surface of the light-emitting particle 91. get Centrifugal sedimentation and ultrafiltration are examples of methods for removing the polymer that has not been adsorbed. In the centrifugal sedimentation, a dispersion containing the polymer-coated light-emitting particles 90 and the polymer that has not been adsorbed is rotated at high speed to cause the polymer-coated light-emitting particles 90 in the dispersion to settle, thereby separating the polymer that has not been adsorbed. In ultrafiltration, a dispersion containing the polymer-coated light-emitting particles 90 and the polymer that was not adsorbed is diluted with an appropriate solvent, and the diluted solution is passed through a filtration membrane having an appropriate pore size, and the polymer-coated light-emitting particles that are not adsorbed and the polymer-coated light-emitting particles ( 90) is separated.

이상과 같이 하여, 폴리머 피복 발광 입자(90)가 얻어진다. 폴리머 피복 발광 입자(90)는, 분산매, 수지 혹은 중합성 화합물에 분산시킨 상태로(즉, 분산액으로서) 보존해도 되고, 분산매를 제거하여 분체(폴리머 피복 발광 입자(90)의 중합체)로서 보존해도 된다.In the above manner, polymer-coated light-emitting particles 90 are obtained. The polymer-coated light-emitting particles 90 may be stored in a dispersed state (i.e., as a dispersion liquid) in a dispersion medium, resin, or polymeric compound, or may be stored as a powder (polymer of the polymer-coated light-emitting particles 90) after removing the dispersion medium. do.

발광 입자 함유 잉크 조성물이 폴리머 피복 발광 입자(90)를 포함하는 경우에는, 폴리머 피복 발광 입자(90)의 함유량은, 0.1~20질량%인 것이 바람직하고, 0.5~15질량%인 것이 보다 바람직하며, 1~10질량%인 것이 더욱 바람직하다. 마찬가지로, 발광 입자 함유 잉크 조성물이 폴리머층(92)에 의하여 피복되어 있지 않은 나노 결정(911), 중공 입자 내포 발광 입자(91) 및 실리카 피복 발광 입자(91)를 포함하는 경우도, 발광 입자(91)의 함유량은, 0.1~20질량%인 것이 바람직하고, 0.5~15질량%인 것이 보다 바람직하며, 1~10질량%인 것이 더욱 바람직하다. 발광 입자 함유 잉크 조성물 중의 폴리머 피복 발광 입자(90)(또는 발광 입자(91))의 함유량을 상기 범위로 설정함으로써, 발광 입자 함유 잉크 조성물을 잉크젯 인쇄법에 의하여 토출하는 경우에는, 그 토출 안정성을 보다 향상시킬 수 있다. 또, 발광 입자(90)(또는 발광 입자(91))들이 응집하기 어려워져, 얻어지는 발광층(광변환층)의 외부 양자 효율을 높일 수도 있다.When the ink composition containing luminescent particles contains the polymer-coated luminescent particles 90, the content of the polymer-coated luminescent particles 90 is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass, , It is more preferable that it is 1-10 mass %. Similarly, when the ink composition containing luminescent particles includes the nanocrystals 911 not covered by the polymer layer 92, the luminescent particles 91 encapsulating hollow particles, and the luminescent particles 91 coated with silica, the luminescent particles ( The content of 91) is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass, and still more preferably 1 to 10% by mass. By setting the content of the polymer-coated luminescent particles 90 (or the luminescent particles 91) in the ink composition containing luminescent particles within the above range, when the ink composition containing luminescent particles is ejected by the inkjet printing method, the ejection stability can be improved. can be further improved. In addition, it is difficult for the light emitting particles 90 (or the light emitting particles 91) to aggregate, so that the external quantum efficiency of the resulting light emitting layer (light conversion layer) can be increased.

잉크 조성물은, 발광성 나노 결정을 포함하는 발광 입자(90)(또는 발광 입자(91))로서, 적색 발광 입자, 녹색 발광 입자 및 청색 발광 입자 중 2종 이상을 포함하고 있어도 되지만, 바람직하게는 이들 입자 중 1종만을 포함한다. 잉크 조성물이 적색 발광 입자를 포함하는 경우, 녹색 발광 입자의 함유량 및 청색 발광 입자의 함유량은, 발광 입자의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 5질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 0질량%이다. 잉크 조성물이 녹색 발광 입자를 포함하는 경우, 적색 발광 입자의 함유량 및 청색 발광 입자의 함유량은, 발광 입자의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 5질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 0질량%이다.The ink composition may contain at least two of red light-emitting particles, green light-emitting particles and blue light-emitting particles as light-emitting particles 90 (or light-emitting particles 91) containing light-emitting nanocrystals, but preferably these are contains only one of the particles. When the ink composition contains red luminescent particles, the content of green luminescent particles and the content of blue luminescent particles are preferably 5% by mass or less, more preferably 0% by mass, based on the total mass of the luminescent particles. am. When the ink composition contains green luminescent particles, the content of red luminescent particles and the content of blue luminescent particles are preferably 5% by mass or less, more preferably 0% by mass, based on the total mass of the luminescent particles. am.

1-2. 광중합성 화합물1-2. photopolymerizable compound

본 발명의 발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자 함유 잉크 조성물 중에 포함되는 광중합성 화합물은, 경화물 중에 있어서 바인더로서 기능하는, 광(활성 에너지선)의 조사에 의하여 중합하는 화합물이며, 광중합성의 모노머 또는 올리고머를 이용해도 된다. 이들은, 기본적으로는 광중합 개시제와 함께 이용된다.The photopolymerizable compound contained in the ink composition containing nanoparticles containing luminescent nanocrystals of the present invention is a compound that polymerizes by irradiation with light (active energy rays), which functions as a binder in a cured product, and is a photopolymerizable monomer or Oligomers may also be used. These are basically used together with a photoinitiator.

광중합성 화합물은, 라디칼 중합성 화합물, 양이온 중합성 화합물, 음이온 중합성 화합물 등을 이용할 수 있지만, 속경화성의 관점에서, 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.As the photopolymerizable compound, a radically polymerizable compound, a cationically polymerizable compound, an anionic polymerizable compound, or the like can be used, but it is preferable to use a radically polymerizable compound from the viewpoint of fast curing property.

라디칼 중합성 화합물은, 예를 들면, 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이다. 본 명세서에 있어서, 에틸렌성 불포화기란, 에틸렌성 불포화 결합(중합성 탄소-탄소 이중 결합)을 갖는 기를 의미한다. 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물에 있어서의 에틸렌성 불포화 결합의 수(예를 들면 에틸렌성 불포화기의 수)는, 예를 들면, 1~4이다.A radically polymerizable compound is, for example, a compound having an ethylenically unsaturated group. In this specification, an ethylenically unsaturated group means a group having an ethylenically unsaturated bond (polymerizable carbon-carbon double bond). The number of ethylenically unsaturated bonds (for example, the number of ethylenically unsaturated groups) in the compound having an ethylenically unsaturated group is 1 to 4, for example.

에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 비닐기, 비닐렌기, 비닐리덴기, (메타)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 외부 양자 효율을 보다 향상시킬 수 있는 관점에서는, (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하고, 단관능 또는 다관능의 (메타)아크릴레이트가 보다 바람직하며, 단관능 또는 2관능의 (메타)아크릴레이트가 더욱 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴로일기」란, 「아크릴로일기」 및 그것에 대응하는 「메타크릴로일기」를 의미한다. 「(메타)아크릴레이트」라는 표현에 대해서도 동일하다. 또, 단관능의 (메타)아크릴레이트란, (메타)아크릴로일기를 1개 갖는 (메타)아크릴레이트를 의미하고, 다관능의 (메타)아크릴레이트란, (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 (메타)아크릴레이트를 의미한다.As a compound which has an ethylenically unsaturated group, the compound which has an ethylenically unsaturated group, such as a vinyl group, a vinylene group, a vinylidene group, and a (meth)acryloyl group, is mentioned, for example. From the viewpoint of further improving the external quantum efficiency, compounds having a (meth)acryloyl group are preferred, monofunctional or polyfunctional (meth)acrylates are more preferred, and monofunctional or bifunctional (meth)acrylates are preferred. Acrylates are more preferred. In addition, in this specification, a "(meth)acryloyl group" means an "acryloyl group" and the "methacryloyl group" corresponding to it. The same applies to the expression "(meth)acrylate". In addition, monofunctional (meth)acrylate means (meth)acrylate having one (meth)acryloyl group, and polyfunctional (meth)acrylate means two (meth)acryloyl groups. It means (meth)acrylate having above.

단관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 아밀(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 헥사데실(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐벤질(메타)아크릴레이트, 석신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), N-[2-(아크릴로일옥시)에틸]프탈이미드, N-[2-(아크릴로일옥시)에틸]테트라하이드로프탈이미드, 트리메틸올프로판포르말아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional (meth)acrylate include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, amyl (meth)acrylate, and 2- Ethylhexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, cyclohexyl (metha)acrylate ) Acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, Dimethylaminoethyl (meth)acrylate, diethylaminoethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl Oxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acryl Late, phenylbenzyl (meth)acrylate, mono(2-acryloyloxyethyl) succinate, N-[2-(acryloyloxy)ethyl]phthalimide, N-[2-(acryloyloxy) ) Ethyl] tetrahydrophthalimide, trimethylolpropane formal acrylate, etc. are mentioned.

다관능 (메타)아크릴레이트는, 2관능 (메타)아크릴레이트, 3관능 (메타)아크릴레이트, 4관능 (메타)아크릴레이트, 5관능 (메타)아크릴레이트, 6관능 (메타)아크릴레이트 등이다. 예를 들면, 디올 화합물의 2개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디(메타)아크릴레이트, 트리올 화합물의 2개 또는 3개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디 또는 트리(메타)아크릴레이트 등을 이용할 수 있다.Polyfunctional (meth)acrylates are bifunctional (meth)acrylates, trifunctional (meth)acrylates, tetrafunctional (meth)acrylates, pentafunctional (meth)acrylates, hexafunctional (meth)acrylates, and the like. . For example, di(meth)acrylate in which two hydroxyl groups of a diol compound are substituted by (meth)acryloyloxy groups, and two or three hydroxyl groups of a triol compound are substituted by (meth)acryloyloxy groups. Di or tri(meth)acrylates may be used.

2관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 예를 들면, 1,3-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 3-메틸-1,5-펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,8-옥탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜하이드록시피발산 에스테르디아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트의 2개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디(메타)아크릴레이트, 1몰의 네오펜틸글리콜에 4몰 이상의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 부가하여 얻어지는 디올의 2개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디(메타)아크릴레이트, 1몰의 비스페놀 A에 2몰의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 부가하여 얻어지는 디올의 2개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디(메타)아크릴레이트, 1몰의 트리메틸올프로판에 3몰 이상의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 부가하여 얻어지는 트리올의 2개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디(메타)아크릴레이트, 1몰의 비스페놀 A에 4몰 이상의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 부가하여 얻어지는 디올의 2개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the bifunctional (meth)acrylate include 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanedioldi(meth)acrylate, and 1,5-pentanedioldi(meth)acrylate. )Acrylate, 3-methyl-1,5-pentanedioldi(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, neopentylglycoldi(meth)acrylate, 1,8-octanediol Di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Propylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol hydroxypivalic acid ester diacrylate , di(meth)acrylate in which two hydroxyl groups of tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate are substituted by (meth)acryloyloxy groups, 4 moles or more of ethylene oxide or propylene per mole of neopentyl glycol Di(meth)acrylate in which two hydroxyl groups of a diol obtained by adding an oxide are substituted by (meth)acryloyloxy groups, 2 of a diol obtained by adding 2 moles of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mole of bisphenol A Di(meth)acrylate in which two hydroxyl groups are substituted by (meth)acryloyloxy groups, and two hydroxyl groups of triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane are (meth) Di(meth)acrylate substituted by acryloyloxy groups, two hydroxyl groups of diol obtained by adding 4 moles or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mole of bisphenol A are substituted by (meth)acryloyloxy groups Di(meth)acrylate etc. are mentioned.

3관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 1몰의 트리메틸올프로판에 3몰 이상의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 부가하여 얻어지는 트리올의 3개의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the trifunctional (meth)acrylate include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, glycerin triacrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and 3 moles or more to 1 mole of trimethylolpropane. and tri(meth)acrylates in which three hydroxyl groups of a triol obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide are substituted with (meth)acryloyloxy groups.

4관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 예를 들면, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a specific example of tetrafunctional (meth)acrylate, pentaerythritol tetra (meth)acrylate, ditrimethylol-propane tetra (meth)acrylate, etc. are mentioned, for example.

5관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 예를 들면, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a specific example of a pentafunctional (meth)acrylate, dipentaerythritol penta (meth)acrylate etc. are mentioned, for example.

6관능 (메타)아크릴레이트의 구체예로서는, 예를 들면, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a specific example of 6 functional (meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate etc. are mentioned, for example.

다관능 (메타)아크릴레이트는, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 디펜타에리트리톨의 복수의 수산기가 (메타)아크릴로일옥시기에 의하여 치환된 폴리(메타)아크릴레이트여도 된다.The poly(meth)acrylate may be a poly(meth)acrylate in which a plurality of hydroxyl groups of dipentaerythritol, such as dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, are substituted by (meth)acryloyloxy groups.

(메타)아크릴레이트 화합물은, 인산기를 갖는, 에틸렌옥사이드 변성 인산 (메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 알킬 인산 (메타)아크릴레이트 등이어도 된다.The (meth)acrylate compound may be an ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth)acrylate or an ethylene oxide-modified alkyl phosphoric acid (meth)acrylate having a phosphoric acid group.

본 발명의 잉크 조성물에 있어서, 경화 가능 성분을, 광중합성 화합물만 또는 그것을 주성분으로 하여 구성하는 경우에는, 광중합성 화합물로서는, 중합성 관능기를 1분자 중에 2 이상 갖는 2관능 이상의 광중합성 화합물을 필수 성분으로 하여 이용하는 것이, 경화물의 내구성(강도, 내열성 등)을 보다 높일 수 있는 점에서 보다 바람직하다.In the ink composition of the present invention, when the curable component is composed of only a photopolymerizable compound or a photopolymerizable compound as a main component, as the photopolymerizable compound, a bifunctional or higher photopolymerizable compound having two or more polymerizable functional groups in one molecule is essential It is more preferable to use it as a component in view of further enhancing the durability (strength, heat resistance, etc.) of the cured product.

당해 잉크 조성물을 조제했을 때의 점도 안정성이 우수한 관점, 토출 안정성이 보다 우수한 관점 및 발광 입자 도막의 제조 시에 있어서의 경화 수축에 기인하는 도막의 평활성의 저하를 억제할 수 있는 관점에서, 단관능 (메타)아크릴레이트와 다관능 (메타)아크릴레이트를 조합하여 이용하는 것이 바람직하다.Monofunctional from the viewpoint of excellent viscosity stability when preparing the ink composition, better discharge stability, and the viewpoint of suppressing the decrease in smoothness of the coating film due to curing shrinkage during production of the luminescent particle coating film. It is preferable to use a combination of (meth)acrylate and polyfunctional (meth)acrylate.

광중합성 화합물의 분자량은, 예를 들면, 50 이상이며, 100 이상 또는 150 이상이어도 된다. 광중합성 화합물의 분자량은, 예를 들면, 500 이하이며, 400 이하 또는 300 이하여도 된다. 잉크젯 잉크로서의 점도와, 토출 후의 잉크의 휘발성을 양립하기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 50~500이며, 보다 바람직하게는 100~400이다.The molecular weight of the photopolymerizable compound is, for example, 50 or more, and may be 100 or more or 150 or more. The molecular weight of the photopolymerizable compound is, for example, 500 or less, and may be 400 or less or 300 or less. From the viewpoint of easy compatibility between the viscosity as an inkjet ink and the volatility of the ink after ejection, it is preferably 50 to 500, more preferably 100 to 400.

잉크 조성물의 경화물의 표면의 끈적임(택(tack))을 저감시키는 관점에서는, 광중합성 화합물로서, 환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 환상 구조는, 방향환 구조여도 되고 비방향환 구조여도 된다. 환상 구조의 수(방향환 및 비방향환의 수의 합계)는, 1 또는 2 이상이지만, 3 이하인 것이 바람직하다. 환상 구조를 구성하는 탄소 원자의 수는, 예를 들면, 4 이상이며, 5 이상 또는 6 이상인 것이 바람직하다. 탄소 원자의 수는, 예를 들면 20 이하이며, 18 이하인 것이 바람직하다.From the viewpoint of reducing the stickiness (tack) of the surface of the cured product of the ink composition, it is preferable to use a radically polymerizable compound having a cyclic structure as the photopolymerizable compound. The cyclic structure may be an aromatic ring structure or a non-aromatic ring structure. The number of cyclic structures (total number of aromatic rings and non-aromatic rings) is 1 or 2 or more, but is preferably 3 or less. The number of carbon atoms constituting the cyclic structure is, for example, 4 or more, preferably 5 or more or 6 or more. The number of carbon atoms is, for example, 20 or less, and preferably 18 or less.

방향환 구조는, 탄소수 6~18의 방향환을 갖는 구조인 것이 바람직하다. 탄소수 6~18의 방향환으로서는, 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환, 안트라센환 등을 들 수 있다. 방향환 구조는, 방향족 복소환을 갖는 구조여도 된다. 방향족 복소환으로서는, 예를 들면, 푸란환, 피롤환, 피란환, 피리딘환 등을 들 수 있다. 방향환의 수는, 1이어도 되고, 2 이상이어도 되지만 3 이하인 것이 바람직하다. 유기기는, 2 이상의 방향환이 단결합에 의하여 결합한 구조(예를 들면, 비페닐 구조)를 갖고 있어도 된다.It is preferable that an aromatic ring structure is a structure which has a C6-C18 aromatic ring. As a C6-C18 aromatic ring, a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, etc. are mentioned. The aromatic ring structure may be a structure having an aromatic heterocycle. As an aromatic heterocycle, a furan ring, a pyrrole ring, a pyran ring, a pyridine ring etc. are mentioned, for example. The number of aromatic rings may be 1 or 2 or more, but is preferably 3 or less. The organic group may have a structure in which two or more aromatic rings are bonded through a single bond (for example, a biphenyl structure).

비방향환 구조는, 예를 들면, 탄소수 5~20의 지환을 갖는 구조인 것이 바람직하다. 탄소수 5~20의 지환으로서는, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환 등의 시클로알칸환, 시클로펜텐환, 시클로헥센환, 시클로헵텐환, 시클로옥텐환 등의 시클로알켄환, 디옥산환 등을 들 수 있다. 지환은, 비시클로운데칸환, 데카하이드로나프탈렌환, 노르보르넨환, 노르보르나디엔환, 이소보닐환 등의 축합환이어도 된다. 비방향환 구조는, 비방향족 복소환을 갖는 구조여도 된다. 비방향족 복소환으로서는, 예를 들면, 테트라하이드로푸란환, 피롤리딘환, 테트라하이드로피란환, 피리딘환 등을 들 수 있다.It is preferable that a non-aromatic ring structure is a structure which has a C5-C20 alicyclic ring, for example. Examples of the alicyclic ring having 5 to 20 carbon atoms include a cycloalkane ring such as a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, and a cyclooctane ring, a cycloalkene ring such as a cyclopentene ring, a cyclohexene ring, a cycloheptene ring, and a cyclooctene ring; A dioxane ring etc. are mentioned. The alicyclic ring may be a condensed ring such as a bicycloundecane ring, a decahydronaphthalene ring, a norbornene ring, a norbornadiene ring, and an isobornyl ring. The non-aromatic ring structure may be a structure having a non-aromatic heterocycle. As a non-aromatic heterocycle, a tetrahydrofuran ring, a pyrrolidine ring, a tetrahydropyran ring, a pyridine ring etc. are mentioned, for example.

환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 바람직하게는, 환상 구조를 갖는 단관능 또는 다관능 (메타)아크릴레이트이며, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트이다. 구체적으로는, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시벤질(메타)아크릴레이트, 비페닐(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판포르말아크릴레이트 등이 바람직하게 이용된다.The radically polymerizable compound having a cyclic structure is preferably a monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate having a cyclic structure, more preferably a monofunctional (meth)acrylate having a cyclic structure. Specifically, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxybenzyl (meth)acrylate, biphenyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, dicyclo Pentenyloxyethyl (meth)acrylate, trimethylolpropane formal acrylate and the like are preferably used.

환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 잉크 조성물의 표면의 끈적임(택)을 억제하기 쉬운 관점, 잉크젯 잉크로서 적정한 점도가 얻어지기 쉽고, 우수한 토출성이 얻어지기 쉬운 관점에서, 잉크 조성물 중에 있어서의 광중합성 화합물의 전체 질량을 기준으로 하여, 3~85질량%인 것이 바람직하고, 5~65질량%인 것이 보다 바람직하며, 10~45질량%인 것이 더욱 바람직하고, 15~35질량%인 것이 특히 바람직하다.The content of the radically polymerizable compound having a cyclic structure is in the ink composition from the viewpoint of easily suppressing the stickiness (tack) of the surface of the ink composition, easy to obtain an appropriate viscosity as an inkjet ink, and easy to obtain excellent ejection properties. Based on the total mass of the photopolymerizable compound in, it is preferably 3 to 85% by mass, more preferably 5 to 65% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, and more preferably 15 to 35% by mass is particularly preferred.

우수한 토출성이 얻어지기 쉬운 관점에서는, 잉크 조성물로서, 탄소수가 3 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 것이 바람직하고, 탄소수가 4 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 것이 보다 바람직하다. 당해 직쇄 구조란, 탄소수 3 이상의 탄화수소쇄를 나타낸다. 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 직쇄 구조를 구성하는 탄소 원자에 직결한 수소 원자가 메틸기 또는 에틸기로 치환되어 있어도 되지만, 치환되는 수는 3 이하인 것이 바람직하다. 탄소수가 4 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 당해 직쇄 구조가 수소 원자 이외의 원자가 분기하지 않고 이어져 있는 구조인 것이 바람직하고, 탄소 원자 및 수소 원자 외에, 산소 원자 등의 헤테로 원자를 갖고 있어도 된다. 즉, 직쇄 구조는, 탄소 원자가 직쇄상으로 3개 이상 연속하는 구조에 한정되지 않고, 3개 이상의 탄소 원자가 산소 원자 등의 헤테로 원자를 통하여 직쇄상으로 이어지는 구조여도 된다. 직쇄 구조는, 불포화 결합을 갖고 있어도 되지만, 바람직하게는 포화 결합만으로 이루어진다. 직쇄 구조를 구성하는 탄소 원자의 수는, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 6 이상이며, 더욱 바람직하게는 7 이상이다. 직쇄 구조를 구성하는 탄소 원자의 수는, 바람직하게는 25 이하이고, 보다 바람직하게는 20 이하이며, 더욱 바람직하게는 15 이하이다. 또한, 탄소수의 합계가 3 이상인 직쇄 구조(직쇄 구조를 형성하는 탄소 원자에 직결한 수소 원자가 치환된 메틸기 또는 에틸기의 탄소 원자는 수에 포함하지 않는다)를 갖는 라디칼 중합성 화합물은, 토출성의 관점에서, 환상 구조를 갖지 않는 것이 바람직하다.From the viewpoint of easily obtaining excellent ejection properties, it is preferable to use a radically polymerizable compound having a linear structure with 3 or more carbon atoms as the ink composition, and more preferably a radically polymerizable compound with a linear structure with 4 or more carbon atoms is used. . The straight-chain structure refers to a hydrocarbon chain having 3 or more carbon atoms. In the radically polymerizable compound having a linear structure, a hydrogen atom directly connected to a carbon atom constituting the linear structure may be substituted with a methyl group or an ethyl group, but the number of substitutions is preferably 3 or less. The radically polymerizable compound having a linear structure having 4 or more carbon atoms is preferably a structure in which atoms other than hydrogen atoms are connected without branching, and even if it has heteroatoms such as oxygen atoms in addition to carbon atoms and hydrogen atoms, do. That is, the linear structure is not limited to a structure in which three or more carbon atoms are continuous in a straight chain, and a structure in which three or more carbon atoms are connected in a straight chain through a hetero atom such as an oxygen atom may be used. The linear structure may have an unsaturated bond, but preferably consists of only a saturated bond. The number of carbon atoms constituting the linear structure is preferably 5 or more, more preferably 6 or more, still more preferably 7 or more. The number of carbon atoms constituting the linear structure is preferably 25 or less, more preferably 20 or less, still more preferably 15 or less. In addition, a radically polymerizable compound having a linear structure in which the total number of carbon atoms is 3 or more (the number does not include carbon atoms in methyl groups or ethyl groups in which hydrogen atoms directly connected to carbon atoms forming the linear structure are substituted), from the viewpoint of ejection properties , it is preferable not to have a cyclic structure.

직쇄 구조는, 예를 들면, 탄소수가 4 이상인 직쇄 알킬기를 갖는 구조인 것이 바람직하다. 탄소수가 4 이상인 직쇄 알킬기로서는, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기 등을 들 수 있다. 이와 같은 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물로서는, (메타)아크릴로일옥시기에 상기 직쇄 알킬기가 직접 결합하여 이루어지는 알킬(메타)아크릴레이트가 바람직하게 이용된다.It is preferable that a linear structure is a structure which has a C4 or more linear alkyl group, for example. Examples of the straight-chain alkyl group having 4 or more carbon atoms include a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, and the like. there is. As a radically polymerizable compound having such a structure, an alkyl (meth)acrylate obtained by directly bonding the straight-chain alkyl group to a (meth)acryloyloxy group is preferably used.

직쇄 구조는, 예를 들면, 탄소수가 4 이상인 직쇄 알킬렌기를 갖는 구조인 것이 바람직하다. 탄소수가 4 이상인 직쇄 알킬렌기로서는, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기, 옥틸렌기, 노닐렌기, 데실렌기, 운데실렌기, 도데실렌기, 트리데실렌기, 테트라데실렌기, 펜타데실렌기 등을 들 수 있다. 이와 같은 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물로서는, 2개의 (메타)아크릴로일옥시기가 상기 직쇄 알킬렌기로 결합되어 이루어지는 알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트가 바람직하게 이용된다.It is preferable that a linear structure is a structure which has a C4 or more linear alkylene group, for example. Examples of the straight-chain alkylene group having 4 or more carbon atoms include a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, an undecylene group, a dodecylene group, a tridecylene group, a tetradecylene group, A pentadecylene group etc. are mentioned. As the radically polymerizable compound having such a structure, an alkylene glycol di(meth)acrylate obtained by bonding two (meth)acryloyloxy groups to the straight-chain alkylene group is preferably used.

직쇄 구조는, 예를 들면, 직쇄 알킬기와 1 이상의 직쇄 알킬렌기가 산소 원자를 통하여 결합한 구조(알킬(폴리)옥시알킬렌기를 갖는 구조)인 것이 바람직하다. 직쇄 알킬렌기의 수는 2 이상이며, 6 이하인 것이 바람직하다. 직쇄 알킬렌기의 수가 2 이상인 경우, 2 이상의 알킬렌기는, 동일해도 되고 상이해도 된다. 직쇄 알킬기 및 직쇄 알킬렌기의 탄소수는, 1 이상이면 되고, 2 이상 또는 3 이상이어도 되지만, 4 이하인 것이 바람직하다. 직쇄 알킬기로서는, 상술한 탄소수가 4 이상인 직쇄 알킬기 외에, 메틸기, 에틸기 및 프로필기를 들 수 있다. 직쇄 알킬렌기로서는, 상술한 탄소수가 4 이상인 직쇄 알킬렌기 외에, 메틸렌기, 에틸렌기 및 프로필렌기를 들 수 있다. 이와 같은 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물로서는, (메타)아크릴로일옥시기에 상기 알킬(폴리)옥시알킬렌기가 직접 결합하여 이루어지는 알킬(폴리)옥시알킬렌(메타)아크릴레이트가 바람직하게 이용된다.The linear structure is preferably a structure in which a linear alkyl group and one or more linear alkylene groups are bonded via an oxygen atom (a structure having an alkyl (poly)oxyalkylene group), for example. The number of straight-chain alkylene groups is 2 or more and preferably 6 or less. When the number of straight-chain alkylene groups is two or more, the two or more alkylene groups may be the same or different. The number of carbon atoms in the straight-chain alkyl group and the straight-chain alkylene group may be 1 or more, and may be 2 or more or 3 or more, but is preferably 4 or less. As a straight-chain alkyl group, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group other than the above-mentioned straight-chain alkyl group of 4 or more carbon atoms are mentioned. As a straight-chain alkylene group, a methylene group, an ethylene group, and a propylene group other than the above-mentioned straight-chain alkylene group having 4 or more carbon atoms are mentioned. As the radically polymerizable compound having such a structure, an alkyl (poly) oxyalkylene (meth) acrylate formed by directly bonding the above-mentioned alkyl (poly) oxyalkylene group to a (meth) acryloyloxy group is preferably used.

탄소수가 3 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 잉크젯 잉크로서 적정한 점도가 얻어지기 쉽고, 우수한 토출성이 얻어지기 쉬운 관점, 잉크 조성물의 경화성이 우수한 관점, 잉크 조성물의 표면의 끈적임(택)을 억제하기 쉬운 관점에서, 잉크 조성물 중에 있어서의 광중합성 화합물의 전체 질량을 기준으로 하여, 10~90질량%인 것이 바람직하고, 15~80질량%인 것이 보다 바람직하며, 20~70질량%인 것이 특히 바람직하다.The content of the radically polymerizable compound having a linear structure having 3 or more carbon atoms makes it easy to obtain an appropriate viscosity as an inkjet ink and easily obtains excellent ejection properties, the viewpoint of excellent curability of the ink composition, and the stickiness of the surface of the ink composition ( From the viewpoint of easily suppressing tack), based on the total mass of the photopolymerizable compound in the ink composition, it is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 80% by mass, and 20 to 70% by mass % is particularly preferred.

광중합성 화합물로서는, 화소부의 표면의 균일성이 우수한 관점에서, 2종 이상의 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 것이 바람직하고, 상술한 환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물과, 상술한 탄소수가 3 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 조합하여 이용하는 것이 보다 바람직하다. 외부 양자 효율을 향상시키기 위하여, 발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 양을 늘린 경우에는, 화소부의 표면의 균일성이 저하되는 경우가 있지만, 이와 같은 경우에도, 상기 광중합성 화합물의 조합에 의하면, 표면의 균일성이 우수한 화소부가 얻어지는 경향이 있다.As the photopolymerizable compound, it is preferable to use two or more types of radically polymerizable compounds from the viewpoint of excellent surface uniformity of the pixel portion. It is more preferable to use in combination with a radically polymerizable compound having. In order to improve the external quantum efficiency, when the amount of nanoparticles containing luminescent nanocrystals is increased, the uniformity of the surface of the pixel portion may decrease. Even in this case, according to the combination of the photopolymerizable compound, There is a tendency for a pixel portion with excellent surface uniformity to be obtained.

상술한 환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물과, 상술한 탄소수가 3 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 조합하여 이용하는 경우, 환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량 MC에 대한, 탄소수가 3 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량 ML의 질량비(ML/MC)는, 화소부의 표면의 균일성이 우수한 관점에서, 0.05~5인 것이 바람직하고, 0.1~3.5인 것이 보다 바람직하며, 0.1~2인 것이 특히 바람직하다.When the radical polymerizable compound having a cyclic structure described above and the radical polymerizable compound having a linear structure having 3 or more carbon atoms are used in combination, the number of carbon atoms is 3 relative to the content M C of the radical polymerizable compound having a cyclic structure. The mass ratio (M L /M C ) of the content M L of the radically polymerizable compound having the above linear structure is preferably 0.05 to 5, and more preferably 0.1 to 3.5 from the viewpoint of excellent surface uniformity of the pixel portion. And, it is particularly preferably 0.1 to 2.

광중합성 화합물은, 신뢰성이 우수한 화소부(잉크 조성물의 경화물)가 얻어지기 쉬운 관점에서, 알칼리 불용성인 것이 바람직하다. 본 명세서 중, 광중합성 화합물이 알칼리 불용성이라는 것은, 1질량%의 수산화칼륨 수용액에 대한 25℃에 있어서의 광중합성 화합물의 용해량이, 광중합성 화합물의 전체 질량을 기준으로 하여, 30질량% 이하인 것을 의미한다. 광중합성 화합물의 상기 용해량은, 바람직하게는, 10질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 3질량% 이하이다.It is preferable that the photopolymerizable compound is alkali insoluble from the viewpoint of obtaining a highly reliable picture element (cured product of the ink composition) easily. In the present specification, the photopolymerizable compound is alkali insoluble means that the amount of dissolution of the photopolymerizable compound at 25 ° C. in 1% by mass of potassium hydroxide aqueous solution is 30% by mass or less based on the total mass of the photopolymerizable compound. it means. The dissolution amount of the photopolymerizable compound is preferably 10% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less.

당해 잉크 조성물 중에 포함되는 광중합성 화합물의 함유량은, 잉크젯 잉크로서 적정한 점도가 얻어지기 쉬운 관점, 잉크 조성물의 경화성이 양호해지는 관점, 그리고, 화소부(잉크 조성물의 경화물)의 내용제성 및 내마모성이 향상되는 관점, 및, 보다 우수한 광학 특성(예를 들면 외부 양자 효율)이 얻어지는 관점에서, 잉크 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 70~95질량%인 것이 바람직하고, 75~93질량%인 것이 보다 바람직하며, 80~90질량%인 것이 더욱 바람직하다.The content of the photopolymerizable compound contained in the ink composition is determined from the viewpoint of obtaining an appropriate viscosity as an inkjet ink, the viewpoint of improving the curability of the ink composition, and the solvent resistance and abrasion resistance of the pixel portion (cured product of the ink composition). From the viewpoint of improvement and obtaining more excellent optical properties (e.g., external quantum efficiency), it is preferably 70 to 95% by mass, and preferably 75 to 93% by mass, based on the total mass of the ink composition. It is more preferable, and it is still more preferable that it is 80-90 mass %.

1-3. 광중합 개시제1-3. photopolymerization initiator

본 발명의 잉크 조성물 중에 이용되는 광중합 개시제는, 2종 이상의 아실포스핀옥사이드계 화합물을 함유한다. 이에 의하여, 중합성 화합물에 대한 용해성이 우수하기 때문에 잉크 점도를 낮게 하는 것이 가능해지고, 또한 보관에 의한 광중합 개시제의 석출이 일어나기 어려워진다. 또, 도막의 내부 경화성이 우수하고, 또한 경화막의 초기 착색도가 작은 도막을 형성할 수 있다. 특히, 본 발명의 잉크 조성물은, 365나노미터, 385나노미터, 395나노미터 또는 405나노미터 등, 특정 파장을 중심으로 하는 ±15나노미터 영역의 좁은 스펙트럼 출력을 갖는 자외 발광 다이오드(UV-LED)에 적합하다.The photopolymerization initiator used in the ink composition of the present invention contains two or more types of acylphosphine oxide-based compounds. This makes it possible to lower the viscosity of the ink because of its excellent solubility in polymerizable compounds, and also prevents precipitation of the photopolymerization initiator due to storage. In addition, it is possible to form a coating film having excellent internal curing properties and a small initial degree of coloring of the cured film. In particular, the ink composition of the present invention is an ultraviolet light emitting diode (UV-LED) having a narrow spectrum output of ±15 nanometers centered on a specific wavelength, such as 365 nanometers, 385 nanometers, 395 nanometers or 405 nanometers. ) is suitable for

특히, 광중합 개시제로서, 모노아실포스핀옥사이드계 화합물 1종 이상과, 비스아실포스핀옥사이드계 화합물 1종 이상을 병용하는 것이 바람직하다. 이들을 병용함으로써, 잉크 점도의 저감과, 광중합성 개시제의 석출 억제를 확실하게 양립하는 것이 가능해진다.In particular, as the photopolymerization initiator, it is preferable to use together at least one type of monoacylphosphine oxide type compound and at least one type of bisacylphosphine oxide type compound. By using these together, it becomes possible to reliably achieve both reduction in ink viscosity and suppression of precipitation of the photopolymerization initiator.

모노아실포스핀옥사이드계 화합물로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 에톡시페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드, 2,4,6-트리에틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리페닐벤조일디페닐포스핀옥사이드를 들 수 있다. 이들 중에서도, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드인 것이 바람직하다.Examples of the monoacylphosphine oxide compound include, but are not particularly limited to, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, ethoxyphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, 2 , 4,6-triethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide and 2,4,6- triphenyl benzoyl diphenyl phosphine oxide are mentioned. Among these, it is preferable that it is 2,4,6- trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide.

모노아실포스핀옥사이드계 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, Omnirad TPO(2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드), Omnirad TPO-L(에톡시페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드)(이상, IGM Resins B. V.사 제조)을 들 수 있다.As a commercial item of a monoacylphosphine oxide type compound, for example, Omnirad TPO (2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide), Omnirad TPO-L (ethoxyphenyl (2,4,6- trimethylbenzoyl) phosphine oxide) (above, manufactured by IGM Resins B.V.).

비스아실포스핀옥사이드계 화합물로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드를 들 수 있다. 이들 중에서도, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드인 것이 바람직하다.Examples of the bisacylphosphine oxide-based compound include, but are not particularly limited to, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4, 4-trimethylpentylphosphine oxide is mentioned. Among these, it is preferable that it is bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide.

비스아실포스핀옥사이드계 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, Omnirad 819(비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드)(IGM Resins B. V.사 제조)를 들 수 있다.As a commercial item of a bisacylphosphine oxide type compound, Omnirad 819 (bis (2,4,6- trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide) (made by IGM Resins B.V.) is mentioned, for example.

광중합 개시제의 함유량은, 광중합성 화합물에 대한 용해성의 관점, 잉크 조성물의 경화성의 관점, 화소부(잉크 조성물의 경화물)의 경시(經時) 안정성(외부 양자 효율의 유지 안정성)의 관점에서, 광중합성 화합물 100질량%에 대하여, 1~15질량%인 것이 바람직하고, 2~12질량%인 것이 보다 바람직하며, 3~9질량%인 것이 더욱 바람직하고, 3~7질량%인 것이 특히 바람직하다.The content of the photopolymerization initiator is from the viewpoint of solubility in the photopolymerizable compound, the curability of the ink composition, and the stability over time of the pixel portion (cured product of the ink composition) (maintenance stability of external quantum efficiency), With respect to 100 mass% of the photopolymerizable compound, it is preferably 1 to 15 mass%, more preferably 2 to 12 mass%, still more preferably 3 to 9 mass%, and particularly preferably 3 to 7 mass%. do.

광중합 개시제에 있어서의 아실포스핀옥사이드계 화합물의 함유 비율은, 잉크 조성물의 경화성의 관점에서, 50~100질량%인 것이 바람직하고, 60~100질량%인 것이 보다 바람직하며, 70~100질량%인 것이 특히 바람직하다.From the viewpoint of the curability of the ink composition, the content of the acylphosphine oxide-based compound in the photopolymerization initiator is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 60 to 100% by mass, and 70 to 100% by mass. is particularly preferred.

또, 모노아실포스핀옥사이드계 화합물에 대한 비스아실포스핀옥사이드계 화합물의 함유 비율(비스아실포스핀옥사이드계 화합물의 질량%/모노아실포스핀옥사이드계 화합물의 질량%)은, 몰 흡광 계수가 큰 관점, 광중합성 화합물에 대한 용해성의 관점에서, 0.1~6.0이 바람직하고, 0.2~5.0이 보다 바람직하며, 0.5~4.0이 특히 바람직하다.In addition, the content ratio of the bisacylphosphine oxide-based compound to the monoacylphosphine oxide-based compound (mass% of the bisacylphosphine oxide-based compound / mass% of the monoacylphosphine oxide-based compound) is the molar extinction coefficient 0.1-6.0 are preferable, 0.2-5.0 are more preferable, and 0.5-4.0 are especially preferable from a large viewpoint and a solubility viewpoint with respect to a photopolymerizable compound.

또한, 본 발명의 잉크 조성물은, 아실포스핀옥사이드계 화합물 이외의 다른 광중합 개시제를 추가로 포함해도 된다. 다른 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 알킬페논계 광중합 개시제, 티타노센계 알킬페논계 광중합 개시제, 옥심에스테르계 광중합 개시제, 옥시페닐아세트산 에스테르계 광중합 개시제 등을 들 수 있다. 아실포스핀옥사이드계 화합물 이외의 다른 광중합 개시제의 함유량은, 광중합 개시제 100질량%에 대하여, 0~40질량%인 것이 바람직하고, 0~30질량%인 것이 보다 바람직하며, 0~20질량%인 것이 더욱 바람직하고, 0~10질량%인 것이 특히 바람직하다.Moreover, the ink composition of this invention may further contain other photoinitiators other than an acylphosphine oxide type compound. Examples of other photopolymerization initiators include alkylphenone-based photopolymerization initiators, titanocene-based alkylphenone-based photopolymerization initiators, oxime ester-based photopolymerization initiators, and oxyphenylacetic acid ester-based photopolymerization initiators. The content of the photopolymerization initiator other than the acylphosphine oxide compound is preferably 0 to 40% by mass, more preferably 0 to 30% by mass, and 0 to 20% by mass based on 100% by mass of the photopolymerization initiator. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 0-10 mass %.

1-4. 산화 방지제1-4. antioxidant

본 발명의 잉크 조성물은, 산화 방지제로서, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물 및 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물을 1종 이상 함유한다. 본 발명의 잉크 조성물은, 상기 산화 방지제를 함유함으로써, 잉크 조성물의 저장 안정성 및 열에 의한 도막의 외부 양자 효율의 저하를 억제할 수 있다.The ink composition of the present invention contains at least one compound selected from the group consisting of a compound having a hydroxyphenyl group and a compound having a phosphorous acid ester structure as an antioxidant. By containing the antioxidant, the ink composition of the present invention can suppress the storage stability of the ink composition and the decrease in the external quantum efficiency of the coating film due to heat.

상기 산화 방지제로서, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물을 적어도 1종 이상 포함하는 제1 산화 방지제 A와, 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물을 적어도 1종 이상 포함하는 제2 산화 방지제 B를 병용하는 것이 바람직하다. 이들을 병용함으로써, 보다 높은 산화 방지 효과를 얻을 수 있다.As the antioxidant, it is preferable to use together a first antioxidant A containing at least one compound having a hydroxyphenyl group and a second antioxidant B containing at least one compound having a phosphorous acid ester structure. By using these together, a higher antioxidant effect can be obtained.

1-4-1. 제1 산화 방지제 A1-4-1. Primary antioxidant A

상기 제1 산화 방지제 A는, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물을 1종 이상 함유한다. 당해 화합물은, 산화 반응의 초기 단계에 있어서 활성이 높은 퍼옥시 라디칼을 포착하여, 준안정적인 하이드로퍼옥사이드를 제공한다.Said 1st antioxidant A contains 1 or more types of compounds which have a hydroxyphenyl group. This compound captures the highly active peroxy radical in the early stages of the oxidation reaction and gives a metastable hydroperoxide.

상기 하이드록시페닐기를 갖는 화합물을 함유하는 제1 산화 방지제 A로서는, 구체적으로는, 예를 들면, IRGANOX 1010(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조), 아데카스타브 AO-60(제품명, 주식회사 ADEKA 제조), SUMILIZER BP-101(제품명, 스미토모 화학사 제조), 토미녹스 TT(제품명, 요시토미 제약 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「테트라키스[메틸렌-3(3'5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄」(융점 110~130℃, 분자량 1178), IRGANOX 1035(제품명: BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 판매되고 있는 「2,2'-티오디에틸비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]」(융점 63℃, 분자량 643), IRGANOX 1076(제품명, BASF 재팬사 제조), 아데카스타브 AO-50(제품명, 주식회사 ADEKA 제조), SUMILIZER BP-76(제품명, 스미토모 화학 주식회사 제조), 토미녹스 SS(제품명, 요시토미 제약 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「n-옥타데실-3(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트」(융점 50~55℃, 분자량 531), IRGANOX 1098(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「N,N'-헥사메틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로판아미드]」(융점 156~161℃, 분자량 637), IRGANOX 1135(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「이소옥틸-3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트」(융점 63~78℃, 분자량 643), IRGANOX 1330(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조), 아데카스타브 AO-330(제품명, 주식회사 ADEKA 제조)으로서 시판되고 있는 「2,4,6-트리스(3',5'-디-tert-부틸-4'-하이드록시벤질)메시틸렌」(융점 240~245℃, 분자량 775), IRGANOX 1726(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,4-비스[(도데실티오)메틸]-6-메틸페놀」(융점 27~29℃, 분자량 537), IRGANOX 1425 WL(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「칼슘비스[3,5-디(tert-부틸)-4-하이드록시벤질(에톡시)포스피네이트]」(융점 90~300℃, 분자량 695), IRGANOX 1520 L(BASF 재팬사 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,4-비스(옥틸티오메틸)-6-메틸페놀」(융점 약 14℃, 분자량 425), IRGANOX 245(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「비스[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피온산][에틸렌비스(옥시에틸렌)]」(융점 76~79℃, 분자량 587), IRGANOX 259(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「1,6-헥산디올비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]」(융점 104~108℃, 분자량 639), IRGANOX 3114(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조), 아데카스타브 AO-20(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아네이트」(융점 218~223℃, 분자량 784), IRGANOX 565(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「4-[[4,6-비스(옥틸티오)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]-2,6-디-tert-부틸페놀」(융점 91~96℃, 분자량 589), IRGAMOD 295(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산 디에틸」(융점 116~121℃, 분자량 356), SUMILIZER GA-80(제품명, 스미토모 화학 주식회사 제조), 아데카스타브 AO-80(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「3,9-비스[2-[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸」(융점 110~120℃, 분자량 741), SUMILIZER GS(제품명, 스미토모 화학 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「아크릴산 2-[1-(2-하이드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐」(융점 127℃, 분자량 549), 아데카스타브 AO-30(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄」(융점 183~185℃, 분자량 545), 아데카스타브 AO-40(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸)페놀」(융점 210~214℃, 분자량 383), SUMILIZER MDP-S(제품명, 스미토모 화학 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-p-크레졸)」(융점 118~128℃, 분자량 341), SUMILIZER WX-R(제품명, 스미토모 화학 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「4,4'-티오비스(6-tert-부틸-m-크레졸)」(융점 160~165℃, 분자량 359), ANTAGE BHT(제품명, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조), SUMILIZER BHT(제품명, 스미토모 화학 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「부틸하이드록시톨루엔」(융점 70℃, 분자량 220), ANTAGE DAH(제품명, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,5-디-tert-아밀하이드로퀴논」(융점 179~180℃, 분자량 250), ANTAGE DBH(제품명, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논」(융점 213~214℃, 분자량 222), ANGATE W-300(제품명, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-m-크레졸)」(융점 209℃, 분자량 383), ANTAGE W-400(제품명, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-p-크레졸)」(융점 118~128, 분자량 341), ANTAGE W-500(제품명, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀)」(융점 123, 분자량 369) 등을 들 수 있다.Specifically, as the first antioxidant A containing the compound having a hydroxyphenyl group, for example, IRGANOX 1010 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), ADEKA STAB AO-60 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), "Tetrakis[methylene-3(3'5'-di-t-butyl-4') commercially available as SUMILIZER BP-101 (product name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Tominox TT (product name, manufactured by Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.), etc. -Hydroxyphenyl)propionate] methane” (melting point 110-130°C, molecular weight 1178), “2,2’-thiodiethylbis[3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]" (melting point 63°C, molecular weight 643), IRGANOX 1076 (product name, manufactured by BASF Japan), Adekastab AO-50 (product name) "n-octadecyl-3 (3',5'- Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate" (melting point 50 to 55°C, molecular weight 531), "N,N'-Hexa commercially available as IRGANOX 1098 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), etc. Methylenebis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanamide]” (melting point 156-161°C, molecular weight 637), marketed as IRGANOX 1135 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), etc. "Isooctyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate" (melting point 63-78°C, molecular weight 643), IRGANOX 1330 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) "2,4,6-tris(3',5'-di-tert-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene" commercially available as ADEKA STAB AO-330 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.) ( "2,4-bis[(dodecylthio)methyl]-6-methylphenol" (melting point 27-29) commercially available as IRGANOX 1726 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), etc. °C, molecular weight 537), "calcium bis[3,5-di(tert-butyl)-4-hydroxybenzyl(ethoxy)phosphinate] commercially available as IRGANOX 1425 WL (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), etc. "2,4-bis(octylthiomethyl)-6-methylphenol" (melting point of about 14°C, molecular weight 425), "bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionic acid] [ethylenebis(oxyethylene)] commercially available as IRGANOX 245 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), etc. (melting point 76-79°C, molecular weight 587), "1,6-hexanediolbis[3-(3,5-di-tert-butyl-4) commercially available as IRGANOX 259 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) -Hydroxyphenyl)propionate] (melting point 104-108°C, molecular weight 639), IRGANOX 3114 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), Adecastab AO-20 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), which are commercially available. "4-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanate" (melting point: 218 to 223°C, molecular weight: 784), IRGANOX 565 (product name, manufactured by BASF Japan Corporation), etc. [[4,6-bis(octylthio)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,6-di-tert-butylphenol” (melting point 91-96°C, molecular weight 589), "Diethyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate" (melting point: 116 to 121°C, molecular weight: 356), commercially available as IRGAMOD 295 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), SUMILIZER GA- "3,9-bis[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydride) commercially available as 80 (product name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), ADEKA STAB AO-80 (product name, manufactured by ADEKA Corporation), Roxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane” (melting point 110-120°C, molecular weight 741), SUMILIZER GS ( "Acrylic acid 2-[1-(2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl)ethyl]-4,6-di-tert-pentylphenyl" marketed as a product name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), etc. (melting point 127°C, molecular weight 549), Adekastab AO-30 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), etc. "1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butyl phenyl) butane” (melting point 183 to 185° C., molecular weight 545), “4,4’-butylidenebis(3-methyl-6- tert-butyl)phenol" (melting point 210-214°C, molecular weight 383), "2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-p) commercially available as SUMILIZER MDP-S (product name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), etc. -cresol)" (melting point 118-128°C, molecular weight 341), "4,4'-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol) commercially available as SUMILIZER WX-R (product name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), etc. )" (melting point 160-165 ° C., molecular weight 359), ANTAGE BHT (product name, manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.), "butyl hydroxytoluene" (melting point 70 ° C. , molecular weight 220), "2,5-di-tert-amylhydroquinone" (melting point 179-180 ° C, molecular weight 250), ANTAGE DBH (product name, "2,5-di-tert-butylhydroquinone" (melting point: 213 to 214°C, molecular weight: 222), ANGATE W-300 (product name: manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.), etc. Commercially available as "4,4'-butylidenebis(6-tert-butyl-m-cresol)" (melting point: 209°C, molecular weight: 383), ANTAGE W-400 (product name, manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.), etc. "2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-p-cresol)" (melting point 118-128, molecular weight 341), ANTAGE W-500 (product name, manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.), etc. "2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-4-ethylphenol)" (melting point 123, molecular weight 369), etc. are mentioned.

또, 제1 산화 방지제 A는, 잉크 조성물의 저장 안정성 및 경화된 도막의 열에 의한 외부 양자 효율의 저하를 억제할 수 있는 관점에서, 분자량이 500 이상 1500 이하이고, 또한 연화점 및 융점이 70℃ 이상 250℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, the first antioxidant A has a molecular weight of 500 or more and 1500 or less, and a softening point and a melting point of 70°C or more, from the viewpoint of being able to suppress the decrease in external quantum efficiency due to heat of the storage stability of the ink composition and the cured coating film. It is more preferable that it is 250 degreeC or less.

또한, 제1 산화 방지제 A는, 잉크 조성물의 저장 안정성 및 경화된 도막의 열에 의한 외부 양자 효율의 저하를 보다 억제할 수 있는 관점에서, 상기 하이드록시페닐기를 갖는 화합물이 하기 일반식 (I)로 표시되는 화합물인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the first antioxidant A is a compound having a hydroxyphenyl group in the following general formula (I) from the viewpoint of being able to more suppress the decrease in the external quantum efficiency due to the storage stability of the ink composition and the heat of the cured coating film It is more preferable that it is a compound shown.

Figure 112023009896911-pct00017
Figure 112023009896911-pct00017

상기 일반식 (I) 중, M1은, 1,4-페닐렌기, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸기, 탄소 원자, 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기 중의 1개 또는 2개 이상의 -CH2-는, 산소 원자가 직접 인접하지 않는 범위에서, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-로 치환되어 있어도 되고, 당해 탄화수소기 중의 임의의 수소 원자는 치환기를 갖는 페닐기에 의하여 치환되어 있어도 되고, X1은, 탄소수 1~15의 알킬렌기, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -C≡C-, 단결합, 1,4-페닐렌기 또는 트랜스-1,4-시클로헥실렌기를 나타내나, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, 상기 알킬렌기 중의 1개 또는 2개 이상의 -CH2-는, 산소 원자가 직접 인접하지 않는 범위에서, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-로 치환되어 있어도 되고, 1,4-페닐렌기는 임의의 수소 원자가 탄소수 1~6의 탄화수소기에 의하여 치환되어 있어도 되고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내고, k는 2~6의 정수를 나타낸다.In the above general formula (I), M 1 is a 1,4-phenylene group, a trans-1,4-cyclohexylene group, a 2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane group, or carbon. represents an atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and one or two or more -CH 2 - in the hydrocarbon group are -O-, -CO-, -COO-, or -OCO within a range where oxygen atoms are not directly adjacent to each other. -, -NH- may be substituted, and any hydrogen atom in the hydrocarbon group may be substituted by a phenyl group having a substituent, and X 1 is an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, -OCH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, Represents -C≡C-, a single bond, a 1,4-phenylene group or a trans-1,4-cyclohexylene group, which may be the same as or different from each other, and one or two or more -CH 2 of the above alkylene groups. - may be substituted with -O-, -CO-, -COO-, or -OCO- within the range where the oxygen atom is not directly adjacent, and the 1,4-phenylene group is a hydrocarbon having any hydrogen atom having 1 to 6 carbon atoms. may be substituted with a group, R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and k represents an integer of 2 to 6.

상기 식 (I)로 표시되는 화합물로서는, 하기 식 (I-1)~(I-6) 등을 들 수 있다.As a compound represented by the said formula (I), the following formula (I-1) - (I-6) etc. are mentioned.

Figure 112023009896911-pct00018
Figure 112023009896911-pct00018

Figure 112023009896911-pct00019
Figure 112023009896911-pct00019

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물을 포함하는 제1 산화 방지제 A의 구체예로서는, 예를 들면, IRGANOX 1010, IRGANOX 1098, IRGANOX 245, IRGANOX 259(이상, BASF 재팬 주식회사 제조), 아데카스타브 AO-30, 아데카스타브 AO-60, 아데카스타브 AO-80(이상, 주식회사 ADEKA 제조), 스미라이저 BP-101, 스미라이저 GA-80(스미토모 화학 주식회사 제조), KEMINOX101(케미프로 화성 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.Specific examples of the first antioxidant A containing the compound represented by the general formula (I) include, for example, IRGANOX 1010, IRGANOX 1098, IRGANOX 245, IRGANOX 259 (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), Adecastab AO -30, Adeka Stab AO-60, Adeka Stab AO-80 (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), Sumilizer BP-101, Sumilizer GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), KEMINOX101 (manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd.) etc. can be mentioned.

잉크 조성물 중에 있어서의 제1 산화 방지제 A의 함유량은, 잉크 조성물 100질량%에 대하여 0.05~3.0질량%인 것이 바람직하고, 0.1~2.0질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.1~1.0질량%인 것이 더욱 바람직하다. 이 범위보다 낮은 함유량에서는, 산화 방지 효과가 낮아지기 때문에, 잉크 점도의 증가 억제 및 도막의 열에 의한 외부 양자 효율 저하 방지 효과를 기대할 수 없고, 이 범위보다 높은 함유량에서는, 산화 방지제가 가소제로서 작용하여, 잉크 조성물의 경화를 방해하기 때문에 바람직하지 않다.The content of the first antioxidant A in the ink composition is preferably 0.05 to 3.0% by mass, more preferably 0.1 to 2.0% by mass, and still more preferably 0.1 to 1.0% by mass with respect to 100% by mass of the ink composition. desirable. At a content lower than this range, since the antioxidant effect is lowered, the effect of suppressing an increase in ink viscosity and preventing a decrease in external quantum efficiency due to heat of the coating film cannot be expected, and at a content higher than this range, the antioxidant acts as a plasticizer, It is undesirable because it hinders curing of the ink composition.

1-4-2. 제2 산화 방지제 B1-4-2. Secondary Antioxidant B

상기 제2 산화 방지제 B는, 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물을 1종 이상 함유한다. 상기 제2 산화 방지제 B는, 제1 산화 방지제 A에 의하여 생긴 하이드로퍼옥사이드를 분해하여, 안정적인 알코올 화합물을 부여한다.The second antioxidant B contains at least one compound having a phosphorous acid ester structure. The second antioxidant B decomposes the hydroperoxide produced by the first antioxidant A to give a stable alcohol compound.

상기 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물을 함유하는 산화 방지제 B로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 아데카스타브 1178(제품명, 주식회사 ADEKA 제조), JP-351(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「아인산 트리스(4-노닐페닐)」(융점 6℃, 분자량 689), 아데카스타브 2112(제품명, 주식회사 ADEKA 제조), IRGAFOS168(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조), JP-650(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「아인산 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐」(융점 183℃, 분자량 647), 아데카스타브 HP-10(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「2,4,8,10-테트라키스(1,1-디메틸에틸)-6-[(2-에틸헥실)옥시]-12H-디벤조[d,g][1,3,2]디옥사포스포신」(융점 148℃, 분자량 583), 아데카스타브 PEP-8(제품명, 주식회사 ADEKA 제조), JPP-2000PT(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「3,9-비스(옥타데실옥시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸」(연화점 52℃, 분자량 733), 아데카스타브 PEP-24(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「3,9-비스(2,4-디-tert-부틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸」(융점 165℃, 분자량 604), 아데카스타브 PEP-36(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「3,9-비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸」(융점 237℃, 분자량 633), 아데카스타브 TPP(제품명, 주식회사 ADEKA 제조), JP-360(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리페닐포스파이트」(융점 25℃, 분자량 310), JP-351(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리스노닐페닐포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 689), JP-3CP 「트리크레실포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 352), JP-302(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리에틸포스파이트」(융점 -122℃, 분자량 166), JP-308E(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리스(2-에틸헥실포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 419), JP-310(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조), 아데카스타브 3010(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리데실포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 503), JP-312L(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리라우릴포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 589), JP-333(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리스(트리데실)포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 629), JP-318-O(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리올레일포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 833), JPM-308(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조), 아데카스타브 C(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「디페닐모노(2-에틸헥실)포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 346), JPM-311(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「디페닐모노데실포스파이트」(융점 18℃, 분자량 375), JPM-313(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「디페닐모노(트리데실)포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 416), JA-805(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조), 아데카스타브 1500(제품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등으로서 시판되고 있는 「테트라-C12-15-알킬(프로판-2,2-디일비스(4,1-페닐렌))비스(포스파이트)」(융점 20℃ 이하, 분자량 1112), JPE-10(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「비스(데실)펜타에리트리톨디포스파이트」(융점 20℃ 이하, 분자량 508), JP-318E(제품명, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「트리스테아릴포스파이트」(융점 45~52℃, 분자량 839), HOSTANOX P-EPQ(제품명, 클라리언트 케미컬즈 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-1,1-비페닐-4,4'-디일비스포스포네이트」(융점 85~100℃, 분자량 1035), GSY-P100(제품명, 사카이 화학 공업 주식회사 제조) 등으로서 시판되고 있는 「테트라키스(2,4-디-tert-부틸-5-메틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포네이트」(융점 235~240℃, 분자량 1092), 등을 들 수 있다.Specifically, as the antioxidant B containing the compound having the phosphite structure, for example, Adekastab 1178 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), JP-351 (product name, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), etc. Commercially available "tris(4-nonylphenyl) phosphite" (melting point 6°C, molecular weight 689), Adekastab 2112 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), IRGAFOS168 (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), JP-650 (product name, "Tris(2,4-di-tert-butylphenyl" (melting point: 183°C, molecular weight: 647), ADEKA STAB HP-10 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), etc. "2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)-6-[(2-ethylhexyl)oxy]-12H-dibenzo[d,g][1,3, 2] Dioxaphosphosine” (melting point 148° C., molecular weight 583), “3 ,9-bis(octadecyloxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane” (softening point: 52°C, molecular weight: 733), Adekastab PEP-24 (Product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.) "3,9-bis(2,4-di-tert-butylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro commercially available as [5.5] Undecane” (melting point 165°C, molecular weight 604), “3,9-bis(2,6-di-tert-butyl- 4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane" (melting point: 237°C, molecular weight: 633), Adecastab TPP (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd.) ), "Triphenylphosphite" (melting point 25 ° C., molecular weight 310) commercially available as JP-360 (product name, manufactured by Johoku Chemical Industries, Ltd.), JP-351 (product name, manufactured by Johoku Chemical Industries, Ltd.), etc. Commercially available "trisnonylphenyl phosphite" (melting point 20 ° C or less, molecular weight 689), JP-3CP "tricresyl phosphite" (melting point 20 ° C or less, molecular weight 352), JP-302 (product name, Johoku Chemical "Triethyl phosphite" (melting point -122 ° C, molecular weight 166), commercially available as JP-308E (product name, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), etc. "Phosphite" (melting point 20 ° C. or less, molecular weight 419), JP-310 (product name, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), "tridecyl phosphite" (product name, commercially available as ADEKA Co., Ltd.), etc. "Trilauryl phosphite" (melting point 20 ° C or less, molecular weight 589), JP-333 (product name, "Tris (tridecyl) phosphite" (melting point 20 ° C. or less, molecular weight 629), which is marketed as Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), JP-318-O (product name, Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), etc. “Trioleylphosphite” (melting point 20° C. or lower, molecular weight 833), JPM-308 (product name, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), and “Di "Diphenyl monodecyl phosphite" (melting point 18 ℃, molecular weight 375), "diphenyl mono (tridecyl) phosphite" (melting point 20 ° C. or less, molecular weight 416) commercially available as JPM-313 (product name, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), JA-805 (product name "Tetra-C12-15-alkyl (propane-2,2-diylbis(4,1-phenylene) ) "bis(phosphite)" (melting point 20 ° C. or less, molecular weight 1112), "bis (decyl) pentaerythritol diphosphite" (melting point 20 ° C. Hereinafter, molecular weight 508), "tristearyl phosphite" (melting point 45-52 ° C, molecular weight 839), HOSTANOX P-EPQ (product name, Clariant "Tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-1,1-biphenyl-4,4'-diylbisphosphonate" (melting point: 85 to 100°C, molecular weight: 1035 ), "tetrakis(2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl)-4,4'-biphenylene diphosphonate" commercially available as GSY-P100 (product name, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), etc. (melting point of 235 to 240°C, molecular weight of 1092), and the like.

상기 산화 방지제 B로서는, 잉크 조성물의 저장 안정성 및 경화된 도막의 열에 의한 외부 양자 효율의 저하를 억제할 수 있는 관점에서, 분자량이 500 이상 1500 이하이고, 또한 연화점 및 융점이 70℃ 이상 250℃ 이하인 화합물인 것이 보다 바람직하다.As the antioxidant B, the molecular weight is 500 or more and 1500 or less, and the softening point and melting point are 70 ° C. It is more preferable that it is a compound.

또한, 상기 산화 방지제 B는, 잉크 조성물의 저장 안정성 및 경화된 도막의 열에 의한 외부 양자 효율의 저하를 억제할 수 있는 관점에서, 하기 일반식 (II) 또는 일반식 (III)으로 표시되는 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the antioxidant B is a phosphorous acid ester represented by the following general formula (II) or general formula (III) from the viewpoint of suppressing the storage stability of the ink composition and the decrease in external quantum efficiency due to heat of the cured coating film. It is more preferable that it is a compound with a structure.

Figure 112023009896911-pct00020
Figure 112023009896911-pct00020

(일반식 (II) 중, R20 내지 R24는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개의 메틸기는 아릴기로 치환되어 있어도 된다.)(In general formula (II), R 20 to R 24 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and one methyl group in the alkyl group may be substituted with an aryl group .)

Figure 112023009896911-pct00021
Figure 112023009896911-pct00021

(일반식 (III) 중, R30 내지 R37은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내고, R3a, R3b는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내거나, 혹은, R3a 및 R3b가 하나의 환 구조를 형성하는 것이어도 되고, Z31은, 탄소 원자수 1~10의 직쇄 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 당해 아릴기의 임의의 수소 원자는 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기에 의하여 치환되어 있어도 된다.)(In Formula (III), R 30 to R 37 each independently represent a hydrogen atom or a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 3a and R 3b each independently represent a hydrogen atom , represents a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or R 3a and R 3b may form one ring structure, and Z 31 is a straight-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or represents an aryl group, and any hydrogen atom in the aryl group may be substituted with a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)

상기 식 (II)로 표시되는 화합물로서는, 하기 식 (II-1)~하기 식 (II-3) 등을 들 수 있다.As a compound represented by the said formula (II), the following formula (II-1) - following formula (II-3) etc. are mentioned.

Figure 112023009896911-pct00022
Figure 112023009896911-pct00022

상기 일반식 (II)로 표시되는 화합물을 함유하는 산화 방지제 B의 구체예로서는, 예를 들면, 아데카스타브 PEP-24, 아데카스타브 PEP-36, 아데카스타브 PEP-45(이상, 주식회사 ADEKA 제조) 등을 들 수 있다.Specific examples of the antioxidant B containing the compound represented by the general formula (II) include, for example, Adekastab PEP-24, Adekastab PEP-36, and Adekastab PEP-45 (above, manufactured by ADEKA Corporation). ) and the like.

상기 식 (III)으로 표시되는 화합물로서는, 식 (III-1) 또는 식 (III-2) 등을 들 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (III) include formula (III-1) and formula (III-2).

Figure 112023009896911-pct00023
Figure 112023009896911-pct00023

상기 일반식 (III)으로 표시되는 화합물을 함유하는 산화 방지제 B의 구체예로서는, 예를 들면, 아데카스타브 2112, 아데카스타브 HP-10(이상, 주식회사 ADEKA 제조) 등을 들 수 있다.As a specific example of antioxidant B containing the compound represented by the said general formula (III), Adekastab 2112, Adekastab HP-10 (above, made by ADEKA Corporation), etc. are mentioned, for example.

잉크 조성물 중에 있어서의 당해 산화 방지제 B의 함유량은, 잉크 조성물 100질량%에 대하여 0.01~3.0질량%인 것이 바람직하고, 0.05~2.0질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.1~1.0질량%인 것이 더욱 바람직하다. 이 범위보다 낮은 함유량에서는, 산화 방지 효과가 낮아지기 때문에, 잉크 점도의 증가 억제 및 도막의 열에 의한 외부 양자 효율 저하 방지 효과를 기대할 수 없고, 이 범위보다 높은 함유량에서는, 산화 방지제가 가소제로서 작용하여, 잉크 조성물의 경화를 방해하기 때문에 바람직하지 않다.The content of the antioxidant B in the ink composition is preferably 0.01 to 3.0% by mass, more preferably 0.05 to 2.0% by mass, and even more preferably 0.1 to 1.0% by mass with respect to 100% by mass of the ink composition. do. At a content lower than this range, since the antioxidant effect is lowered, the effect of suppressing an increase in ink viscosity and preventing a decrease in external quantum efficiency due to heat of the coating film cannot be expected, and at a content higher than this range, the antioxidant acts as a plasticizer, It is undesirable because it hinders curing of the ink composition.

본 발명에 있어서의 제1 산화 방지제 A 및 제2 산화 방지제 B의 함유 합계량은, 잉크 조성물의 총량에 대하여, 0.01~5질량%인 것이 바람직하고, 0.05~3질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.1~2질량%인 것이 특히 바람직하다. 상기 범위 내이면, 잉크 조성물 중에 양호하게 용해할 수 있고, 불요 성분의 석출이 적어, 얻어지는 도막의 발광 특성(외부 양자 효율)에 영향을 주기 어렵다.The total content of the first antioxidant A and the second antioxidant B in the present invention is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.05 to 3% by mass, and 0.1 to 3% by mass relative to the total amount of the ink composition. ~ 2% by mass is particularly preferred. If it is within the above range, it can be dissolved satisfactorily in the ink composition, the precipitation of unnecessary components is small, and it is difficult to affect the luminescent properties (external quantum efficiency) of the obtained coating film.

본 발명에 있어서의 제1 산화 방지제 A 및 제2 산화 방지제 B의 질량 비율(A/B)은, 0.05~5.0인 것이 바람직하고, 0.1~4.0인 것이 보다 바람직하며, 0.15~3.0인 것이 더욱 바람직하고, 0.2~2.0인 것이 특히 바람직하다. 상기 범위 내이면, 도막의 내열성이 높아, 도막의 발광 특성(외부 양자 효율)에 영향을 주기가 보다 어렵다.The mass ratio (A/B) of the first antioxidant A and the second antioxidant B in the present invention is preferably 0.05 to 5.0, more preferably 0.1 to 4.0, still more preferably 0.15 to 3.0. And, it is particularly preferably 0.2 to 2.0. When it is within the above range, the heat resistance of the coating film is high, and it is more difficult to affect the light emission characteristics (external quantum efficiency) of the coating film.

1-5. 광확산 입자1-5. light diffusing particles

본 발명의 잉크 조성물은, 광확산 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 광확산 입자는, 예를 들면, 광학적으로 불활성인 무기 미립자이다. 광확산 입자는, 발광층(광변환층)에 조사된 광원부로부터의 광을 산란시킬 수 있다.The ink composition of the present invention preferably contains light-diffusing particles. The light-diffusing particles are, for example, optically inactive inorganic fine particles. The light-diffusing particles can scatter the light from the light source unit irradiated to the light emitting layer (light conversion layer).

광확산 입자를 구성하는 재료로서는, 예를 들면, 텅스텐, 지르코늄, 티탄, 백금, 비스무트, 로듐, 팔라듐, 은, 주석, 플라티나, 금과 같은 단체 금속; 실리카, 황산 바륨, 탄산 바륨, 탄산 칼슘, 탤크, 산화티탄, 클레이, 카올린, 황산 바륨, 탄산 바륨, 탄산 칼슘, 알루미나 화이트, 산화티탄, 산화마그네슘, 산화바륨, 산화알루미늄, 산화비스무트, 산화지르코늄, 산화아연과 같은 금속 산화물; 탄산 마그네슘, 탄산 바륨, 차탄산 비스무트, 탄산 칼슘과 같은 금속 탄산염; 수산화알루미늄과 같은 금속 수산화물; 지르콘산 바륨, 지르콘산 칼슘, 티탄산 칼슘, 티탄산 바륨, 티탄산 스트론튬 등의 복합 산화물, 차질산 비스무트와 같은 금속염 등을 들 수 있다.Examples of the material constituting the light-diffusing particles include simple metals such as tungsten, zirconium, titanium, platinum, bismuth, rhodium, palladium, silver, tin, platinum, and gold; Silica, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, talc, titanium oxide, clay, kaolin, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, alumina white, titanium oxide, magnesium oxide, barium oxide, aluminum oxide, bismuth oxide, zirconium oxide, metal oxides such as zinc oxide; metal carbonates such as magnesium carbonate, barium carbonate, bismuth carbonate, and calcium carbonate; metal hydroxides such as aluminum hydroxide; complex oxides such as barium zirconate, calcium zirconate, calcium titanate, barium titanate, and strontium titanate; and metal salts such as bismuth nitrate.

그 중에서도, 광확산 입자를 구성하는 재료로서는, 누출광의 저감 효과에 보다 우수한 관점에서, 산화티탄, 알루미나, 산화지르코늄, 산화아연, 탄산 칼슘, 황산 바륨 및 실리카로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 산화티탄, 황산 바륨 및 탄산 칼슘으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 일종을 포함하는 것이 보다 바람직하며, 산화티탄인 것이 특히 바람직하다.Among them, at least one selected from the group consisting of titanium oxide, alumina, zirconium oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, and silica is used as the material constituting the light-diffusing particles, from the viewpoint of a more excellent effect of reducing light leakage. It is preferably contained, more preferably at least one selected from the group consisting of titanium oxide, barium sulfate and calcium carbonate, and particularly preferably titanium oxide.

산화티탄을 이용하는 경우에는, 분산성의 관점에서, 표면 처리가 이루어진 산화티탄인 것이 바람직하다. 산화티탄의 표면 처리 방법으로서는 공지의 방법이 있지만, 적어도 알루미나를 포함한 표면 처리가 이루어지고 있는 것이 보다 바람직하다.When using titanium oxide, it is preferable that it is surface-treated titanium oxide from a dispersible viewpoint. Although there are well-known methods for treating the surface of titanium oxide, it is more preferable that the surface treatment is performed including at least alumina.

알루미나를 포함한 표면 처리가 이루어진 산화티탄이란, 산화티탄 입자 표면에 적어도 알루미나를 석출시키는 처리를 말하고, 알루미나 외에 실리카 등을 이용할 수 있다. 또, 알루미나 혹은 실리카에는, 그들의 수화물도 포함된다.Titanium oxide subjected to surface treatment with alumina refers to a treatment in which at least alumina is deposited on the surface of titanium oxide particles, and silica or the like can be used in addition to alumina. Moreover, those hydrates are also contained in alumina or silica.

이와 같이, 산화티탄 입자에 알루미나를 포함한 표면 처리를 행함으로써, 산화티탄 입자 표면이 균일하게 표면 피복 처리되고, 적어도 알루미나에 의하여 표면 처리된 산화티탄 입자를 이용하면, 산화티탄 입자의 분산성이 양호해진다.In this way, by subjecting the titanium oxide particles to a surface treatment containing alumina, the surfaces of the titanium oxide particles are uniformly surface coated, and when titanium oxide particles surface-treated with at least alumina are used, the dispersibility of the titanium oxide particles is good. It happens.

또, 실리카에 의한 처리와 알루미나에 의한 처리를 산화티탄 입자에 실시하는 경우에는, 알루미나 및 실리카 처리는 동시에 행해도 되고, 특히 알루미나 처리를 최초로 행하고, 이어서 실리카 처리를 행할 수도 있다. 또, 알루미나와 실리카의 처리를 각각 행하는 경우에는, 알루미나 및 실리카의 처리량은, 알루미나보다 실리카가 많은 것이 바람직하다.Further, when the treatment with silica and the treatment with alumina are applied to the titanium oxide particles, the treatment with alumina and silica may be performed simultaneously, in particular, the alumina treatment may be performed first, followed by the silica treatment. In addition, when processing alumina and silica respectively, it is preferable that the processing amount of alumina and silica has more silica than alumina.

상기 산화티탄의 알루미나, 실리카 등의 금속 산화물에 의한 표면 처리는 습식법에 의하여 행할 수 있다. 예를 들면, 알루미나, 또는 실리카의 표면 처리를 행한 산화티탄 입자는 이하와 같이 제작할 수 있다.Surface treatment of the titanium oxide with a metal oxide such as alumina or silica can be performed by a wet method. For example, titanium oxide particles subjected to surface treatment of alumina or silica can be produced as follows.

산화티탄 입자(수평균 1차 입자경: 200~400nm)를 50~350g/L의 농도로 수중에 분산시켜 수성 슬러리로 하고, 이것에 수용성의 규산염 또는 수용성의 알루미늄 화합물을 첨가한다. 그 후, 알칼리 또는 산을 첨가해서 중화하여, 산화티탄 입자의 표면에 실리카, 또는 알루미나를 석출시킨다. 계속해서 여과, 세정, 건조를 행하여 목적의 표면 처리 산화티탄을 얻는다. 상기 수용성의 규산염으로서 규산 나트륨을 사용한 경우에는, 황산, 질산, 염산 등의 산으로 중화할 수 있다. 한편, 수용성의 알루미늄 화합물로서 황산 알루미늄을 이용했을 때는 수산화 나트륨이나 수산화칼륨 등의 알칼리로 중화할 수 있다.Titanium oxide particles (number average primary particle diameter: 200 to 400 nm) are dispersed in water at a concentration of 50 to 350 g/L to form an aqueous slurry, to which a water-soluble silicate or a water-soluble aluminum compound is added. Thereafter, alkali or acid is added to neutralize, and silica or alumina is deposited on the surface of the titanium oxide particles. Subsequently, filtration, washing, and drying are performed to obtain the target surface-treated titanium oxide. When sodium silicate is used as the water-soluble silicate, it can be neutralized with an acid such as sulfuric acid, nitric acid, or hydrochloric acid. On the other hand, when aluminum sulfate is used as the water-soluble aluminum compound, it can be neutralized with an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.

본 발명에 있어서, 광확산 입자의 분산제로서는 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하고, 아민가를 가진 고분자 분산제를 이용하는 것이 보다 바람직하다. 예를 들면, 디스파론 DA-325(아민가: 14mgKOH/g), 디스파론 DA-234(아민가: 20mgKOH/g), DA-703-50(아민가: 40mgKOH/g)(이상, 구스모토 화성 주식회사 제조), 아지스퍼 PB821(아민가: 10mgKOH/g), 아지스퍼 PB822(아민가: 17mgKOH/g), 아지스퍼 PB824(아민가: 17mgKOH/g), 아지스퍼 PB881(아민가: 17mgKOH/g)(이상, 아지노모토 파인 테크노 주식회사 제조), Efka PU4046(아민가: 19mgKOH/g), Efka PX4300(아민가: 56mgKOH/g), Efka PX4320(아민가: 28mgKOH/g), Efka PX4330(아민가: 28mgKOH/g), Efka PX4350(아민가: 12mgKOH/g), Efka PX4700(아민가: 60mgKOH/g), Efka PX4701(아민가: 40mgKOH/g), Efka4731(아민가: 25mgKOH/g), Efka-4732(아민가: 25mgKOH/g), Efka4751(아민가: 12mgKOH/g), Dispex Ultra FA4420(아민가: 35mgKOH/g), Dispex Ultra FA4425(아민가: 35mgKOH/g)(이상, BASF 재팬 주식회사 제조), DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-180, DISPERBYK-109, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, DISPERBYK-2050, DISPERBYK-2150(이상, 빅케미·재팬 주식회사 제조), 솔스퍼스 24000GR, 솔스퍼스 32000, 솔스퍼스 26000, 솔스퍼스 13240, 솔스퍼스 13940, 솔스퍼스 33500, 솔스퍼스 38500, 솔스퍼스 71000(일본 루브리졸 주식회사) 등을 들 수 있다.In the present invention, it is preferable to use a polymeric dispersing agent as the dispersing agent for the light-diffusing particles, and it is more preferable to use a polymeric dispersing agent having an amine value. For example, Disparon DA-325 (amine value: 14mgKOH/g), Disparon DA-234 (amine value: 20mgKOH/g), DA-703-50 (amine value: 40mgKOH/g) (above, Kusumoto Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.), Ajisper PB821 (amine value: 10 mgKOH/g), Ajisper PB822 (amine value: 17 mgKOH/g), Ajisper PB824 (amine value: 17 mgKOH/g), Ajisper PB881 (amine value: 17 mgKOH/g) (above, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), Efka PU4046 (amine value: 19 mgKOH/g), Efka PX4300 (amine value: 56 mgKOH/g), Efka PX4320 (amine value: 28 mgKOH/g), Efka PX4330 (amine value: 28 mgKOH/g), Efka PX4350 ( Amine value: 12mgKOH/g), Efka PX4700 (amine value: 60mgKOH/g), Efka PX4701 (amine value: 40mgKOH/g), Efka4731 (amine value: 25mgKOH/g), Efka-4732 (amine value: 25mgKOH/g), Efka4751 (amine value: 25mgKOH/g) : 12mgKOH/g), Dispex Ultra FA4420 (amine value: 35mgKOH/g), Dispex Ultra FA4425 (amine value: 35mgKOH/g) (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK- 180, DISPERBYK-109, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, DISPERBYK-2050, DISPERBYK-2150 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), Solspers 24000GR, Solspers 32000, Solspers 26000, Solspers 13240, Solspers 13940, Solsperse 33500, Solsperse 38500, Solsperse 71000 (Nippon Lubrizol Co., Ltd.), etc. are mentioned.

광확산 입자의 형상은, 구 형상, 필라멘트 형상, 부정 형상 등, 다양한 형상의 것을 사용할 수 있다. 그러나, 광확산 입자로서는, 입자 형상으로서 방향성이 적은 입자(예를 들면, 구 형상, 정사면체 형상 등의 입자)를 이용하는 것이, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 균일성, 유동성 및 광확산을 보다 높일 수 있는 점에서 바람직하다.As the shape of the light-diffusing particles, those having various shapes such as a spherical shape, a filament shape, and an irregular shape can be used. However, as the light-diffusing particles, the uniformity, fluidity, and light diffusion of the ink composition containing luminescent particles can be further improved by using particles having little directionality (for example, spherical, tetrahedral, etc.) as the particle shape. preferred in this respect.

발광 입자 함유 잉크 조성물 중에서의 광확산 입자의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 누출광의 저감 효과에 보다 우수한 관점에서, 0.05μm 이상, 0.2μm 이상, 0.3μm 이상인 것이 바람직하다. 발광 입자 함유 잉크 조성물 중에서의 광확산 입자의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 잉크의 보존 안정성, 토출 안정성이 우수한 관점에서, 1.0μm 이하, 0.6μm 이하, 0.4μm 이하인 것이 바람직하다. 발광 입자 함유 잉크 조성물 중에서의 광확산 입자의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 0.05~1.0μm, 0.05~0.6μm, 0.05~0.4μm, 0.2~1.0μm, 0.2~0.6μm, 0.2~0.4μm, 0.3~1.0μm, 0.3~0.6μm, 또는 0.3~0.4μm인 것이 바람직하다. 이와 같은 평균 입자경(체적 평균 직경)이 얻어지기 쉬운 관점에서, 사용하는 광확산 입자의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 50nm 이상 1000nm 이하인 것이 바람직하다. 발광 입자 함유 잉크 조성물 중에서의 광확산 입자의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 동적 광확산식 나노트랙 입도 분포계에 의하여 측정하고, 체적 평균 직경을 산출함으로써 얻어진다. 또, 사용하는 광확산 입자의 평균 입자경(체적 평균 직경)은, 예를 들면 투과형 전자 현미경 또는 주사형 전자 현미경에 의하여 각 입자의 입자경을 측정하고, 체적 평균 직경을 산출함으로써 얻어진다.The average particle diameter (volume average diameter) of the light-diffusing particles in the ink composition containing luminescent particles is preferably 0.05 μm or more, 0.2 μm or more, or 0.3 μm or more from the viewpoint of a more excellent effect of reducing leakage light. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-diffusing particles in the ink composition containing luminescent particles is preferably 1.0 µm or less, 0.6 µm or less, or 0.4 µm or less from the viewpoint of excellent storage stability and ejection stability of the ink. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-diffusing particles in the ink composition containing luminescent particles is 0.05 to 1.0 μm, 0.05 to 0.6 μm, 0.05 to 0.4 μm, 0.2 to 1.0 μm, 0.2 to 0.6 μm, 0.2 to 0.4 μm, It is preferably 0.3 to 1.0 μm, 0.3 to 0.6 μm, or 0.3 to 0.4 μm. From the standpoint of obtaining such an average particle diameter (volume average diameter) easily, the average particle diameter (volume average diameter) of the light-diffusing particles to be used is preferably 50 nm or more and 1000 nm or less. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-diffusing particles in the ink composition containing luminescent particles is obtained by measuring with a dynamic light-diffusion nanotrack particle size distribution analyzer and calculating the volume average diameter. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-diffusing particles to be used is obtained by measuring the particle diameter of each particle with, for example, a transmission electron microscope or a scanning electron microscope and calculating the volume average diameter.

광확산 입자를 상기 입경 범위로 분산 조제하기 위해서는, 예를 들면, 볼 밀, 샌드 밀, 어트리터, 롤 밀, 애지테이터, 헨셀 믹서, 콜로이드 밀, 초음파 호모지나이저, 펄 밀, 습식 제트 밀, 페인트 셰이커 등을 이용할 수 있다.In order to disperse and prepare the light diffusing particles in the above particle size range, for example, a ball mill, a sand mill, an attritor, a roll mill, an agitator, a Henschel mixer, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a pearl mill, a wet jet mill, A paint shaker or the like can be used.

광확산 입자의 함유량은, 누출광의 저감 효과에 보다 우수한 관점에서, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 불휘발분의 질량을 기준으로 하여, 0.1질량% 이상, 1질량% 이상, 5질량% 이상, 7질량% 이상, 10질량% 이상, 12질량% 이상인 것이 바람직하다. 광확산 입자의 함유량은, 누출광의 저감 효과에 보다 우수한 관점 및 토출 안정성이 우수한 관점에서, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 불휘발분의 질량을 기준으로 하여, 60질량% 이하, 50질량% 이하, 40질량% 이하, 30질량% 이하, 25질량% 이하, 20질량% 이하, 15질량% 이하인 것이 바람직하다. 본 실시 형태에서는, 발광 입자 함유 잉크 조성물이 고분자 분산제를 포함하기 때문에, 광확산 입자의 함유량을 상기 범위로 한 경우이더라도 광확산 입자를 양호하게 분산시킬 수 있다.The content of the light-diffusing particles is 0.1% by mass or more, 1% by mass or more, 5% by mass or more, and 7% by mass based on the mass of the non-volatile matter of the ink composition containing luminescent particles, from the viewpoint of a better effect of reducing leakage light. Above, it is preferable that it is 10 mass % or more and 12 mass % or more. The content of the light-diffusing particles is 60% by mass or less, 50% by mass or less, and 40% by mass, based on the mass of the non-volatile matter of the ink composition containing luminescent particles, from the viewpoint of better reducing light leakage and excellent ejection stability. % or less, 30 mass% or less, 25 mass% or less, 20 mass% or less, and preferably 15 mass% or less. In this embodiment, since the ink composition containing luminescent particles contains a polymer dispersant, the light-diffusion particles can be well dispersed even when the content of the light-diffusion particles is within the above range.

발광 입자(90)의 함유량에 대한 광확산 입자의 함유량의 질량비(광확산 입자/발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자)는, 누출광의 저감 효과에 보다 우수한 관점에서, 0.1 이상, 0.2 이상, 0.5 이상인 것이 바람직하다. 질량비(광확산 입자/발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자)는, 누출광의 저감 효과가 보다 우수하고, 잉크젯 인쇄 시의 연속 토출성이 우수한 관점에서, 5.0 이하, 2.0 이하, 1.5 이하인 것이 바람직하다. 또한, 광확산 입자에 의한 누출광 저감은, 다음과 같은 메커니즘에 의한 것으로 생각된다. 즉, 광확산 입자가 존재하지 않는 경우, 백라이트광은 화소부 내를 거의 직진하여 통과할 뿐으로, 발광 입자(90)에 흡수될 기회가 적은 것으로 생각된다. 한편, 광확산 입자를 발광 입자(90)와 동일한 화소부 내에 존재시키면, 그 화소부 내에서 백라이트광이 전방위로 산란되고, 그것을 발광 입자(90)가 수광할 수 있기 때문에, 동일한 백라이트를 이용하고 있어도, 화소부에 있어서의 광흡수량이 증대하는 것으로 생각된다. 결과적으로, 이와 같은 메커니즘으로 누출광을 방지하는 것이 가능하게 되었다고 생각된다.The mass ratio of the content of the light-diffusing particles to the content of the light-diffusing particles 90 (light-diffusing particles/nanoparticles containing light-emitting nanocrystals) is 0.1 or more, 0.2 or more, or 0.5 or more from the viewpoint of a more excellent effect of reducing leakage light. it is desirable The mass ratio (light-diffusing particles/nanoparticles containing luminescent nanocrystals) is preferably 5.0 or less, 2.0 or less, or 1.5 or less from the viewpoint of a more excellent light leakage reduction effect and excellent continuous ejection property during inkjet printing. In addition, it is considered that the leakage light reduction by the light-diffusing particles is based on the following mechanism. That is, in the case where the light-diffusing particles are not present, it is considered that there is little chance that the backlight light is absorbed by the light-emitting particles 90 because it only passes almost straight through the inside of the pixel portion. On the other hand, if the light-diffusing particles are present in the same pixel portion as the light-emitting particles 90, backlight light is scattered in all directions within the pixel portion, and the light-emitting particles 90 can receive light, so the same backlight is used. Even if there is, it is considered that the amount of light absorption in the pixel portion increases. As a result, it is considered that it has become possible to prevent leakage light with such a mechanism.

1-6. 고분자 분산제1-6. polymeric dispersant

본 발명의 잉크 조성물은, 고분자 분산제를 함유해도 되고, 또는 광확산 입자와 동시에 함유해도 된다. 당해 고분자 분산제는, 발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자 및 광확산 입자에 대하여 친화성을 갖는 관능기를 갖는 고분자 분산제이면 되고, 발광성 나노 결정을 포함하는 나노 입자 및 광확산 입자를 분산시키는 기능을 갖는다. 또, 광확산 입자에 대한 친화성을 갖는 관능기를 갖는 고분자 분산제인 것이 보다 바람직하고, 광확산 입자를 분산시키는 기능을 갖는 것이 보다 바람직하다. 당해 고분자 분산제는, 발광 입자의 분산 안정성에도 기여한다.The ink composition of the present invention may contain a polymer dispersant, or may contain it simultaneously with light-diffusing particles. The polymeric dispersing agent may be a polymeric dispersing agent having a functional group having affinity for nanoparticles and light-diffusing particles containing luminescent nanocrystals, and has a function of dispersing nanoparticles and light-diffusing particles containing luminescent nanocrystals. Moreover, it is more preferable that it is a polymeric dispersing agent having a functional group having affinity for light-diffusion particles, and it is more preferable to have a function of dispersing light-diffusion particles. The polymeric dispersing agent also contributes to the dispersion stability of the luminescent particles.

고분자 분산제는, 단일의 모노머의 중합체(호모폴리머), 복수 종의 모노머의 공중합체(코폴리머) 중 어느 것을 이용해도 된다. 또, 고분자 분산제는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체 또는 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다. 또, 고분자 분산제가 그래프트 공중합체인 경우, 빗형의 그래프트 공중합체, 별 모양의 그래프트 공중합체 중 어느 것을 이용해도 된다. 고분자 분산제로서, 예를 들면, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에테르, 페놀 수지, 실리콘 수지, 폴리우레아 수지, 아미노 수지, 폴리에틸렌이민 및 폴리알릴아민 등의 폴리아민, 에폭시 수지, 폴리이미드 등을 들 수 있다.The polymer dispersant may use either a polymer of a single monomer (homopolymer) or a copolymer of multiple types of monomers (copolymer). Moreover, any of a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer may be sufficient as a polymer dispersing agent. Further, when the polymer dispersing agent is a graft copolymer, either a comb-shaped graft copolymer or a star-shaped graft copolymer may be used. As the polymer dispersant, for example, polyamines such as acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, polyamide resins, polyethers, phenolic resins, silicone resins, polyurea resins, amino resins, polyethyleneimine and polyallylamine, epoxies A resin, a polyimide, etc. are mentioned.

당해 고분자 분산제로서는, 블록 공중합체인 것이 특히 바람직하다. 당해 고분자 분산제가 블록 공중합체를 적용하는 것에 의한 효과로서는, 블록 공중합체는 친수성 영역과 안료 흡착 영역에 의하여 구성됨으로써, 높은 분산성을 얻을 수 있고, 랜덤 공중합체나 교차 공중합체보다 우수한 분산성을 얻을 수 있다.As the polymeric dispersant, a block copolymer is particularly preferred. As an effect of applying a block copolymer to the polymer dispersant, the block copolymer is composed of a hydrophilic region and a pigment adsorption region, so that high dispersibility can be obtained, and superior dispersibility than random copolymers or crossover copolymers. You can get it.

구체적으로는, 랜덤 공중합체 등에서는, 공중합체를 구성하는 단량체 모노머는, 중합체 형성 시에 입체적 혹은 전기적으로 공중합체 내에 안정적으로 배치될 확률이 높아진다. 단량체 모노머가 안정적으로 배치된 부분(분자)은, 입체적 혹은 전기적으로 안정되어 있기 때문에, 안료 표면에 흡착할 때에 장애가 되는 경우가 많다. 이에 대하여, 분자 배열이 제어된 블록 공중합체 타입의 고분자 분산제에서는, 안료에 대한 분산제의 흡착을 방해하는 부분을, 안료와 분산제의 흡착부로부터 떨어진 위치에 배치할 수 있다. 즉, 안료와 분산제의 흡착부에는 흡착에 최적인 부분을 배치하고, 용매 친화성이 필요한 부분에는 그것에 적합한 부분을 배치함으로써, 특히, 결정 사이즈가 작은 안료를 함유하는 계(系)의 잉크젯 잉크의 분산에 있어서는, 이 블록 공중합체로 구성되는 분자 배열에 의하여 양호한 분산성을 실현할 수 있는 것으로 추측된다.Specifically, in a random copolymer or the like, the monomers constituting the copolymer are more likely to be stably disposed in the copolymer sterically or electrically during formation of the polymer. Monomer Since the part (molecule) in which the monomer is stably arranged is sterically or electrically stable, it often becomes an obstacle when adsorbing to the surface of the pigment. In contrast, in a block copolymer type polymer dispersant in which the molecular arrangement is controlled, a portion that hinders the adsorption of the dispersant to the pigment can be disposed away from the adsorbing portion of the pigment and the dispersant. That is, by arranging a portion suitable for adsorption of the pigment and the dispersant and arranging a portion suitable for adsorption in a portion requiring solvent affinity, in particular, inkjet ink of a system containing a pigment having a small crystal size can be obtained. In dispersion, it is estimated that good dispersibility can be realized by the molecular arrangement constituted by this block copolymer.

본 발명에 따른 고분자 분산제로서는, 상기 특성을 구비하고 있으면 제한은 없고, 공지의 에틸렌성 불포화 모노머를 이용하여 합성된 블록 공중합체를 적용할 수 있고, 에틸렌성 불포화 모노머로서는, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.As the polymer dispersant according to the present invention, there is no limitation as long as it has the above characteristics, and a block copolymer synthesized using a known ethylenically unsaturated monomer can be applied. As the ethylenically unsaturated monomer, for example, the following can hear

스티렌 및 스티렌 유도체, 예를 들면, α-메틸스티렌 또는 비닐톨루엔; 카르복시산의 비닐에스테르, 예를 들면, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐; 할로겐화 비닐; 에틸렌성 불포화 모노카르복시산 및 디카르복시산, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산 또는 푸마르산, 및 상기한 디카르복시산의 알칸올(바람직하게는 1~4개의 탄소 원자를 갖는 것)과의 모노알킬에스테르, 및 상기한 모노알킬에스테르의 유도체, 및 그 N-치환 유도체, 아릴에스테르, 및 그들의 유도체; 불포화 카르복시산의 아미드, 예를 들면, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 혹은 메타크릴아미드, N-알킬아크릴아미드; 설폰산기를 포함하는 에틸렌성 모노머 및 그 암모늄 또는 알칼리 금속염, 예를 들면, 비닐설폰산, 비닐벤젠설폰산,α-아크릴아미드메틸프로판설폰산, 2-설포에틸렌메타크릴레이트; 비닐아민의 아미드, 예를 들면, 비닐포름아미드, 비닐아세트아미드; 제2, 제3 혹은 제4급 아미노기 또는 질소 함유 헤테로환기를 포함하는 불포화 에틸렌성 모노머, 예를 들면, 비닐피리딘, 비닐이미다졸, 아미노알킬(메타)아크릴레이트, 아미노알킬(메타)아크릴아미드, 아크릴산 혹은 메타크릴산 디메틸아미노에틸, 아크릴산 혹은 메타크릴산 디-t-부틸아미노에틸, 또는 디메틸아미노메틸아크릴아미드 혹은 메타크릴아미드; 쯔비터이온성 모노머, 예를 들면, 설포프로필(디메틸)아미노프로필아크릴레이트; 디엔류, 예를 들면, 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌; (메타)아크릴산 에스테르; 비닐니트릴류; 비닐포스폰산 및 그 유도체를 들 수 있다.styrene and styrene derivatives such as α-methylstyrene or vinyltoluene; vinyl esters of carboxylic acids such as vinyl acetate and vinyl propionate; vinyl halide; ethylenically unsaturated monocarboxylic and dicarboxylic acids, such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid or fumaric acid, and alkanols of the aforementioned dicarboxylic acids, preferably having from 1 to 4 carbon atoms; monoalkyl esters of, and derivatives of the above monoalkyl esters, and N-substituted derivatives thereof, aryl esters, and derivatives thereof; amides of unsaturated carboxylic acids, such as acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide or methacrylamide, N-alkylacrylamide; ethylenic monomers containing sulfonic acid groups and ammonium or alkali metal salts thereof, such as vinylsulfonic acid, vinylbenzenesulfonic acid, α-acrylamidemethylpropanesulfonic acid, 2-sulfoethylene methacrylate; amides of vinylamine, such as vinylformamide, vinylacetamide; unsaturated ethylenic monomers containing secondary, tertiary or quaternary amino groups or nitrogen-containing heterocyclic groups, such as vinylpyridine, vinylimidazole, aminoalkyl(meth)acrylates, aminoalkyl(meth)acrylamides , dimethylaminoethyl acrylic acid or methacrylic acid, di-t-butylaminoethyl acrylic acid or methacrylic acid, or dimethylaminomethylacrylamide or methacrylamide; zwitterionic monomers such as sulfopropyl(dimethyl)aminopropylacrylate; dienes such as butadiene, isoprene, chloroprene; (meth)acrylic acid ester; vinyl nitriles; vinylphosphonic acid and derivatives thereof.

이와 같은 에틸렌성 불포화 모노머를 이용하여, 공지의 방법, 예를 들면, 일본국 특허공개 2005-60669호 공보나 일본국 특허공개 2007-314617호 공보 등의 합성 방법에 따라, 블록 공중합체를 합성할 수 있다.Using such an ethylenically unsaturated monomer, a block copolymer can be synthesized according to a known method, for example, a synthesis method such as Japanese Patent Laid-Open No. 2005-60669 or Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-314617. can

그 중에서도, (메타)아크릴계 블록 공중합체를 이용하는 것이 바람직하고, 예를 들면, 일본국 특허공개 소60-89452호 공보, 일본국 특허공개 평9-62002호 공보, P. Lutz, P. Massonetal, Polym. Bull. 12, 79(1984), B. C. Anderson, G. D. Andrewsetal, Macromolecules, 14, 1601(1981), K. Hatada, K. Ute, etal, Polym. J. 17, 977(1985), K. Hatada, K. Ute, etal, Polym. J. 18, 1037(1986), 우테 고이치, 하타다 고이치, 고분자 가공, 36, 366(1987), 히가시무라 도시노부, 사와모토 미쓰오, 고분자 논문집, 46, 189(1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737(1987), 아이다 다쿠조, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300(1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertleretal, Macromolecules, 20, 1473(1987), K. Matyaszewskietal, Chem. Rev. 2001, 101, 2921-2990 등에 기재되어 있는 공지의 방법을 참조하여 합성 가능하다.Among them, it is preferable to use a (meth)acrylic block copolymer, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-89452, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-62002, P. Lutz, P. Massonetal, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), K. Hatada, K. Ute, et al., Polym. J. 18, 1037(1986), Koichi Ute, Koichi Hatada, Polymer Processing, 36, 366(1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Journal of Polymers, 46, 189(1989), M. Kuroki, T Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Organic Synthetic Chemistry, 43, 300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertleretal, Macromolecules, 20, 1473 (1987), K. Matyaszewski et al, Chem. Rev. 2001, 101, 2921-2990, etc., and can be synthesized by referring to known methods.

본 발명에서 이용하는 고분자 분산제는, 알칼리성의 극성기를 갖고, 알칼리성 관능기로서는, 1급, 2급 및 3급 아미노기, 암모늄기, 이미노기, 그리고, 피리딘, 피리미딘, 피라진, 이미다졸, 트리아졸 등의 함질소 헤테로환기 등을 들 수 있다. 당해 고분자 분산제의 아민가는 6~90mgKOH/g인 것이 바람직하고, 7~70mgKOH/g인 것이 보다 바람직하며, 8~50mgKOH/g인 것이 더욱 바람직하다. 당해 고분자 분산제의 아민가가 6mgKOH/g보다 작으면 광확산 입자에 대한 고분자 분산제의 흡착성이 낮고, 또한 아민가가 90mgKOH/g보다 크면 극성이 높아져, 응집, 보존성 열화의 원인이 되기 쉽고, 그 영향에 의하여 발광 입자의 분산성도 악화되게 된다.The polymeric dispersant used in the present invention has an alkaline polar group, and examples of the alkaline functional group include primary, secondary, and tertiary amino groups, ammonium groups, imino groups, and pyridine, pyrimidine, pyrazine, imidazole, and triazole. A nitrogen heterocyclic group etc. are mentioned. The amine value of the polymer dispersant is preferably 6 to 90 mgKOH/g, more preferably 7 to 70 mgKOH/g, and even more preferably 8 to 50 mgKOH/g. When the amine value of the polymer dispersant is less than 6 mgKOH/g, the adsorption of the polymer dispersant to the light diffusing particles is low, and when the amine value is greater than 90 mgKOH/g, the polarity increases, easily causing aggregation and deterioration of storage stability, and under the influence thereof The dispersibility of the luminescent particles also deteriorates.

고분자 분산제의 아민가는, 이하와 같이 측정할 수 있다. 고분자 분산제 xg 및 브로모페놀 블루 시액 1mL를, 톨루엔과 에탄올을 체적비 1:1로 혼합한 혼합 용액 50mL에 용해시킨 시료액을 준비하고, 0.5mol/L 염산으로 시료액이 녹색을 나타낼 때까지 적정을 행하고, 다음 식에 의하여 아민가를 산출할 수 있다.The amine value of the polymer dispersing agent can be measured as follows. Prepare a sample solution by dissolving 1 mL of polymer dispersant xg and bromophenol blue TS in 50 mL of a mixed solution of toluene and ethanol mixed at a volume ratio of 1:1, and titrate with 0.5 mol/L hydrochloric acid until the sample solution turns green. , and the amine titer can be calculated by the following formula.

아민가=y/x×28.05Amin value = y/x × 28.05

식 중, y는 적정에 필요한 0.5mol/L 염산의 적정량(mL)을 나타내고, x는 고분자 분산제의 질량(g)을 나타낸다.In the formula, y represents the titration amount (mL) of 0.5 mol/L hydrochloric acid required for titration, and x represents the mass (g) of the polymer dispersant.

본 발명에 따른 고분자 분산제는, 상기 아민가의 특징에 더하여, 함질소 방향족 헤테로환 또는 그 염, 또는 방향족 아민(예를 들면, 아닐린, 아니시딘, p-톨루이딘, α-나프틸아민, m-페닐렌디아민, 1,8-디아미노나프탈렌, 벤질아민, N-메틸아닐린, N-메틸벤질아민 등)을 구조의 일부에 갖는 블록 공중합체인 것이 보다 바람직하다. 블록 공중합체의 구조의 일부에 방향족성기를 갖는 부위가 있는 경우에는, 산-염기 상호 작용에 더하여, 부피가 큰 구조에 의한 입체 장해 효과가 얻어지기 쉬워, 분산성이 향상될 것으로 추측된다. 함질소 방향족 헤테로환으로서는, 예를 들면, 피롤, 이미다졸, 피라졸, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 이소티아졸 등의 5원환 방향족 헤테로환, 피리딘, 피리미딘, 피리다진, 피라진, 트리아진 등의 6원환 방향족 헤테로환, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 프테리딘, 벤조디아제핀, 인돌, 벤즈이미다졸, 푸린, 아크리딘, 페녹사진, 페노티아진 등의 다환 방향족 헤테로환 또는 그 염(예를 들면, 무기염, 유기염 등) 등을 들 수 있고, 각각은 치환기를 갖고 있어도 된다.The polymer dispersant according to the present invention, in addition to the characteristics of the above amine value, is a nitrogen-containing aromatic heterocycle or a salt thereof, or an aromatic amine (eg, aniline, anisidine, p-toluidine, α-naphthylamine, m-phenyl It is more preferable that it is a block copolymer which has landiamine, 1, 8-diaminonaphthalene, benzylamine, N-methylaniline, N-methylbenzylamine, etc.) as a part of structure. In the case where there is a site having an aromatic group in a part of the structure of the block copolymer, in addition to the acid-base interaction, the steric hindrance effect due to the bulky structure is easily obtained, and it is presumed that the dispersibility is improved. Examples of the nitrogen-containing aromatic heterocycle include 5-membered aromatic heterocycles such as pyrrole, imidazole, pyrazole, oxazole, isoxazole, thiazole, and isothiazole, pyridine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, 6-membered aromatic heterocycles such as triazine, polycyclic aromatics such as quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, pteridine, benzodiazepine, indole, benzimidazole, purine, acridine, phenoxazine, and phenothiazine Heterocycle or its salt (for example, inorganic salt, organic salt, etc.) etc. are mentioned, Each may have a substituent.

3급 아미노기 또는 함질소 헤테로환의 알칼리성 관능기를 갖는 고분자 분산제로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 「DISPERBYK-164」(아민가: 18mgKOH/g), 「DISPERBYK-167」(아민가: 13mgKOH/g), 「DISPERBYK-2164」(아민가: 23mgKOH/g), 「BYK-LP N6919」(아민가: 120mgKOH/g), 「BYK-LP N21116」(아민가: 29mgKOH/g)(이상, 빅케미·재팬 주식회사 제조), 「솔스퍼스 20000」(아민가: 32mgKOH/g)(일본 루브리졸사 제조), 「Efka PX4320」(아민가: 28mgKOH/g), 「Dispex Ultra PX4585」(아민가: 20mgKOH/g), 「Efka PX4701(아민가: 40mgKOH/g)」(BASF 재팬 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.As the polymer dispersant having an alkaline functional group of a tertiary amino group or a nitrogen-containing heterocyclic ring, specifically, for example, "DISPERBYK-164" (amine value: 18 mgKOH/g), "DISPERBYK-167" (amine value: 13 mgKOH/g), “DISPERBYK-2164” (amine value: 23 mgKOH/g), “BYK-LP N6919” (amine value: 120 mgKOH/g), “BYK-LP N21116” (amine value: 29 mgKOH/g) (above, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) , "Solsperse 20000" (amine value: 32 mgKOH/g) (manufactured by Lubrizol, Japan), "Efka PX4320" (amine value: 28 mgKOH/g), "Dispex Ultra PX4585" (amine value: 20 mgKOH/g), "Efka PX4701 ( Amine value: 40 mgKOH/g)” (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) and the like.

당해 고분자 분산제는, 염기성 관능기에 더하여, 그 외의 관능기를 갖고 있어도 된다. 그 외의 관능기로서는, 산성 관능기, 및 비이온성 관능기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 관능기를 들 수 있다. 이들 관능기는, 바람직하게는 광확산 입자에 대하여 친화성을 갖는다. 산성 관능기는 해리성의 프로톤을 갖고 있고, 아민, 수산화물 이온 등의 염기에 의하여 중화되어 있어도 된다.In addition to the basic functional group, the said polymeric dispersing agent may have another functional group. Examples of other functional groups include at least one functional group selected from the group consisting of acidic functional groups and nonionic functional groups. These functional groups preferably have affinity for light diffusing particles. The acidic functional group has a dissociable proton, and may be neutralized with a base such as an amine or hydroxide ion.

산성 관능기로서는, 카르복실기(-COOH), 설포기(-SO3H), 황산기(-OSO3H), 포스폰산기(-PO(OH)3), 인산기(-OPO(OH)3), 포스핀산기(-PO(OH)-), 메르캅토기(-SH)를 들 수 있다.As the acidic functional group, a carboxyl group (-COOH), a sulfo group (-SO3H), a sulfate group (-OSO3H), a phosphonic acid group (-PO(OH)3), a phosphoric acid group (-OPO(OH)3), a phosphinic acid group (- PO(OH)-) and mercapto group (-SH).

비이온성 관능기로서는, 하이드록시기, 에테르기, 티오에테르기, 설피닐기(-SO-), 설포닐기(-SO2-), 카르보닐기, 포르밀기, 에스테르기, 탄산 에스테르기, 아미드기, 카르바모일기, 우레이도기, 티오아미드기, 티오우레이도기, 설파모일기, 시아노기, 알케닐기, 알키닐기, 포스핀옥사이드기, 포스핀설피드기를 들 수 있다.Examples of the nonionic functional group include a hydroxyl group, an ether group, a thioether group, a sulfinyl group (-SO-), a sulfonyl group (-SO2-), a carbonyl group, a formyl group, an ester group, a carbonate ester group, an amide group, and a carbamoyl group. , ureido group, thioamide group, thioureido group, sulfamoyl group, cyano group, alkenyl group, alkynyl group, phosphine oxide group, and phosphine sulfide group.

염기성 관능기에 더하여, 산성 관능기를 갖는 고분자 분산제는, 아민가에 더하여, 산가를 갖는다. 산성 관능기를 갖는 고분자 분산제의 산가는, 0~50mgKOH/g인 것이 바람직하고, 0~40mgKOH/g인 것이 보다 바람직하며, 0~30mgKOH/g인 것이 더욱 바람직하고, 0~20mgKOH/g 이하이다. 산가가 50mgKOH/g 이하이면, 화소부(잉크 조성물의 경화물)의 보존 안정성이 저하되기 어렵다.In addition to a basic functional group, the polymeric dispersing agent which has an acidic functional group has an acid value in addition to an amine value. The acid value of the polymer dispersant having an acidic functional group is preferably 0 to 50 mgKOH/g, more preferably 0 to 40 mgKOH/g, still more preferably 0 to 30 mgKOH/g, and 0 to 20 mgKOH/g or less. When the acid value is 50 mgKOH/g or less, the storage stability of the picture element portion (cured product of the ink composition) is less likely to decrease.

고분자 분산제의 산가는, 이하와 같이 측정할 수 있다. 고분자 분산제 pg 및 페놀프탈레인 시액 1mL를, 톨루엔과 에탄올을 체적비 1:1로 혼합한 혼합 용액 50mL에 용해시킨 시료액을 준비하고, 0.1mol/L 에탄올제 수산화칼륨 용액(수산화칼륨 7.0g을 증류수 5.0mL에 용해시키고, 95vol% 에탄올을 첨가함으로써 1000mL로 조정한 것)으로 시료액이 담홍색을 나타낼 때까지 적정을 행하고, 다음 식에 의하여 산가를 산출할 수 있다.The acid value of the polymer dispersing agent can be measured as follows. A sample solution was prepared by dissolving 1 mL of polymer dispersant pg and phenolphthalein TS in 50 mL of a mixed solution of toluene and ethanol mixed at a volume ratio of 1: 1, and preparing a 0.1 mol/L ethanolic potassium hydroxide solution (7.0 g of potassium hydroxide in 5.0 mL of distilled water). dissolved in and adjusted to 1000 mL by adding 95 vol% ethanol), titration is performed until the sample solution shows a pink color, and the acid value can be calculated by the following formula.

산가=q×r×5.611/pAcid value = q × r × 5.611/p

식 중, q는 적정에 필요한 0.1mol/L 에탄올제 수산화칼륨 용액의 적정량(mL)을 나타내고, r은 적정에 필요한 0.1mol/L 에탄올제 수산화칼륨 용액의 역가를 나타내며, p는 고분자 분산제의 질량(g)을 나타낸다.In the formula, q represents the titration (mL) of 0.1 mol/L ethanol potassium hydroxide solution required for titration, r represents the titer of 0.1 mol/L ethanol potassium hydroxide solution required for titration, and p is the mass of the polymer dispersant (g) is shown.

아민가 및 산가를 갖는 고분자 분산제로서는, 예를 들면, 「DISPERBYK-142」(아민가: 43mgKOH/g, 산가: 46mgKOH/g), 「DISPERBYK-145」(아민가: 71mgKOH/g, 산가: 76mgKOH/g), 「DISPERBYK-2001」(아민가: 29mgKOH/g, 산가: 19mgKOH/g), 「DISPERBYK-2025」(아민가: 37mgKOH/g, 산가: 38mgKOH/g), 「DISPERBYK-9076」(아민가: 44mgKOH/g, 산가: 38mgKOH/g)(이상, 빅케미·재팬 주식회사 제조), 「솔스퍼스 24000GR」(아민가: 42mgKOH/g, 산가: 25mgKOH/g), 「솔스퍼스 32000」(아민가: 31mgKOH/g, 산가: 15mgKOH/g), 「솔스퍼스 33000」(아민가: 43mgKOH/g, 산가: 26mgKOH/g), 「솔스퍼스 34750」, 「솔스퍼스 35100」(아민가: 14mgKOH/g, 산가: 6mgKOH/g), 「솔스퍼스 35200」(아민가: 14mgKOH/g, 산가: 6mgKOH/g), 「솔스퍼스 37500」(아민가: 11mgKOH/g, 산가: 5mgKOH/g), 「솔스퍼스 39000」(아민가: 29mgKOH/g, 산가: 16mgKOH/g), (일본 루브리졸사 제조), 「아지스퍼 PB821」(아민가: 10mgKOH/g, 산가: 17mgKOH/g), 「아지스퍼 PB822」(아민가: 17mgKOH/g, 산가: 14mgKOH/g), 「아지스퍼 PB824」(아민가: 17mgKOH/g, 산가: 21mgKOH/g), 「아지스퍼 PB881」(아민가: 17mgKOH/g, 산가: 17mgKOH/g)(이상, 아지노모토 파인 테크노 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the polymer dispersant having an amine value and an acid value include "DISPERBYK-142" (amine value: 43 mgKOH/g, acid value: 46 mgKOH/g) and "DISPERBYK-145" (amine value: 71 mgKOH/g, acid value: 76 mgKOH/g). , "DISPERBYK-2001" (amine value: 29mgKOH/g, acid value: 19mgKOH/g), "DISPERBYK-2025" (amine value: 37mgKOH/g, acid value: 38mgKOH/g), "DISPERBYK-9076" (amine value: 44mgKOH/g) , Acid value: 38 mgKOH/g) (above, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), “Solsperse 24000GR” (amine value: 42 mgKOH/g, acid value: 25 mgKOH/g), “Solsperse 32000” (amine value: 31 mgKOH/g, acid value : 15mgKOH/g), “Solsperse 33000” (amine value: 43mgKOH/g, acid value: 26mgKOH/g), “Solsperse 34750”, “Solsperse 35100” (amine value: 14mgKOH/g, acid value: 6mgKOH/g), “Solsperse 35200” (amine value: 14mgKOH/g, acid value: 6mgKOH/g), “Solsperse 37500” (amine value: 11mgKOH/g, acid value: 5mgKOH/g), “Solsperse 39000” (amine value: 29mgKOH/g, Acid value: 16 mgKOH/g), (manufactured by Lubrizol, Japan), "Ajisper PB821" (amine value: 10 mgKOH/g, acid value: 17 mgKOH/g), "Ajisper PB822" (amine value: 17 mgKOH/g, acid value: 14 mgKOH/g) g), "Ajisper PB824" (amine value: 17 mgKOH/g, acid value: 21 mgKOH/g), "Ajisper PB881" (amine value: 17 mgKOH/g, acid value: 17 mgKOH/g) (above, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), etc. can be heard

본 발명에 따른 고분자 분산제는, 또한 하기 일반식 (a)~(c)로 표시되는 부분 구조를 갖는 아크릴계 블록 공중합체인 것이 바람직하다.The polymer dispersing agent according to the present invention is preferably an acrylic block copolymer having a partial structure represented by the following general formulas (a) to (c).

Figure 112023009896911-pct00024
Figure 112023009896911-pct00024

Figure 112023009896911-pct00025
Figure 112023009896911-pct00025

(일반식 (b) 중, Rb1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Rb2는 수소 원자 또는 탄소수 1~18의 알킬기를 나타낸다.)(In general formula (b), R b1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R b2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.)

Figure 112023009896911-pct00026
Figure 112023009896911-pct00026

(일반식 (c) 중, Rc1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Rc2는 탄소수 2~3의 알킬렌기를 나타내며, m은 5~15의 정수를 나타내고, Rc3은 탄소수 1~25의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 1~18의 알킬기로 치환된 페닐기를 나타낸다.)(In formula (c), R c1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R c2 represents an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, m represents an integer of 5 to 15, and R c3 represents an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms. , A phenyl group or a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.)

상기 일반식 (a)로 표시되는 구성 단위를 제공하는 단량체 모노머로서는, 구체적으로는, 2-비닐피리딘 혹은 피리듐 이온, 4-비닐피리딘 혹은 피리듐 이온이 바람직하고, 2-비닐피리딘, 4-비닐피리딘이 보다 바람직하다.As the monomeric monomer providing the structural unit represented by the general formula (a), specifically, 2-vinylpyridine or pyridium ion, 4-vinylpyridine or pyridium ion is preferable, and 2-vinylpyridine, 4- Vinylpyridine is more preferred.

상기 일반식 (b)에 있어서, Rb1은 탄소수 2~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 4~8의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, n-부틸기가 더욱 바람직하다.In the general formula (b), R b1 is preferably an alkyl group of 2 to 8 carbon atoms, more preferably an alkyl group of 4 to 8 carbon atoms, and still more preferably an n-butyl group.

상기 일반식 (c)에 있어서, m은 7~12의 정수인 것이 바람직하고, Rc3은 탄소수 1~4의 알킬기인 것이 바람직하다.In the general formula (c), m is preferably an integer of 7 to 12, and R c3 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

상기 구성 단위 (a)~(c)를 함유하는 고분자 분산제는, 당해 분산제의 구성 단량체 모노머에 포함되는 피리딘의 광확산 입자에 대한 흡착성이 높기 때문에, 분산 시에 광확산 입자 표면이 당해 분산제로 덮이기 쉬워지고, 당해 분산제들의 정전 반발 및/또는 입체 반발에 의하여, 광확산 입자를 잉크 조성물 중에 분산시킬 수 있다. 고분자 분산제는, 광확산 입자의 표면과 결합하여 광확산 입자에 흡착되어 있는 것이 바람직하지만, 상기 발광 입자의 표면에 결합하여 발광 입자에 흡착되어 있어도 되고, 잉크 조성물 중에 유리(遊離)되어 있어도 된다.Since the polymeric dispersing agent containing the structural units (a) to (c) has a high adsorbability of pyridine contained in the constituent monomers of the dispersing agent to the light-diffusing particles, the surface of the light-diffusing particle is covered with the dispersing agent during dispersion. and the light-diffusing particles can be dispersed in the ink composition by electrostatic repulsion and/or steric repulsion of the dispersants. The polymer dispersant is preferably bound to the surface of the light-diffusing particles and adsorbed to the light-diffusing particles, but may be bound to the surface of the light-diffusing particles and adsorbed to the light-emitting particles, or may be free in the ink composition.

또, 상기 구성 단위 (a)~(c)를 함유하는 고분자 분산제는, 블록 공중합체의 구성 단위 (c)가, 광중합성 화합물에 대한 친화성이 우수하고, 당해 공중합체의 구성 단위 (a) 및 (c)를 함유함으로써, 광확산 입자의 우수한 분산성과 광중합성 화합물의 친화성을 양립시킨다.Further, in the polymer dispersing agent containing the structural units (a) to (c), the structural unit (c) of the block copolymer has excellent affinity to the photopolymerizable compound, and the structural unit (a) of the copolymer and (c), the excellent dispersibility of the light-diffusing particles and the affinity of the photopolymerizable compound are made compatible.

상기 구성 단위 (a)~(c)로 표시되는 모노머 단위를 갖는 공중합체는, 특별히 제한되지 않지만, 니트록시드 개시제(NMP 개시제)를 사용한 리빙 라디칼 중합에 의하여 적합하게 합성할 수 있다.The copolymer having the monomer units represented by the structural units (a) to (c) is not particularly limited, but can be suitably synthesized by living radical polymerization using a nitroxide initiator (NMP initiator).

상기 고분자 분산제에 있어서의 구성 단위 (a), (b), (c)로 표시되는 모노머 단위를 갖는 공중합체인 경우, 당해 고분자 분산제에 있어서의 모노머 단위의 함유량이, 고분자 분산제를 구성하는 전체 모노머 단위의 총합을 100몰%로 한 경우, 구성 단위 (a)는 5~50몰%인 것이 바람직하고, 10~30몰%인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위이면, 잉크의 보존 안정성 및 광확산 입자의 분산성이 보다 우수하다.In the case of a copolymer having monomer units represented by structural units (a), (b), and (c) in the polymer dispersant, the content of the monomer units in the polymer dispersant is the total monomer units constituting the polymer dispersant. When the total of is 100 mol%, it is preferable that it is 5-50 mol%, and, as for the structural unit (a), it is more preferable that it is 10-30 mol%. Within this range, the storage stability of the ink and the dispersibility of the light-diffusing particles are more excellent.

또, 상기 고분자 분산제에 있어서, 식 (b)로 표시되는 모노머 단위의 함유량과, 식 (c)로 표시되는 모노머 단위의 함유량의 몰비는, 1:2~2:1인 것이 바람직하고, 1:1.5~1.5:1인 것이 보다 바람직하다.Moreover, in the said polymeric dispersing agent, it is preferable that the molar ratio of content of the monomer unit represented by formula (b) and content of the monomer unit represented by formula (c) is 1:2-2:1, and it is 1: It is more preferable that it is 1.5-1.5:1.

상기 고분자 분산제의 중량 평균 분자량(Mw)은, 광확산 입자를 양호하게 분산시킬 수 있고, 누출광의 저감 효과를 보다 향상시키며, 잉크 조성물의 발광 특성을 향상시킬 수 있는 관점, 또, 잉크젯 잉크의 점도를 토출 가능하고 안정 토출에 적합한 점도로 하는 관점에서, 10,000~70,000인 것이 바람직하고, 12,000~30,000인 것이 보다 바람직하며, 13,000~25,000인 것이 더욱 바람직하고, 15,000~20,000인 것이 특히 바람직하다. 또한, 본 명세서 중, 중량 평균 분자량이란, GPC(겔 침투 크로마토그래피, Gel Permeation Chromatography)에 의하여 측정되는, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymer dispersant is from the viewpoint of being able to disperse the light-diffusing particles well, further improving the effect of reducing leakage light, and improving the luminous properties of the ink composition, and also the viscosity of the inkjet ink. It is preferably 10,000 to 70,000, more preferably 12,000 to 30,000, still more preferably 13,000 to 25,000, and particularly preferably 15,000 to 20,000 from the viewpoint of making the viscosity suitable for ejection and stable ejection. In addition, in this specification, a weight average molecular weight is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatography).

상기 고분자 분산제의 잉크 조성물 중의 함유량은, 광확산 입자의 분산성의 관점, 화소부(분산액 또는 잉크 조성물의 경화물)의 습열 안정성의 관점에서, 광확산 입자 100질량%에 대하여, 0.5~50질량%인 것이 바람직하고, 2~30질량%인 것이 보다 바람직하며, 5~10질량%인 것이 더욱 바람직하다.The content of the polymeric dispersant in the ink composition is 0.5 to 50% by mass based on 100% by mass of the light-diffusion particles, from the viewpoint of the dispersibility of the light-diffusion particles and the wet heat stability of the pixel portion (dispersion liquid or cured product of the ink composition). It is preferable that it is, it is more preferable that it is 2-30 mass %, and it is still more preferable that it is 5-10 mass %.

상기 일반식 (a)~(c)로 표시되는 부분 구조를 갖는 고분자 분산제로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 「Efka PX4320」(아민가: 28mgKOH/g), 「Dispex Ultra PX4585」(아민가: 20mgKOH/g), 「Efka PX4701」(아민가: 40mgKOH/g)(BASF 재팬 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.Specifically, as a polymer dispersant having a partial structure represented by the general formulas (a) to (c), for example, "Efka PX4320" (amine value: 28 mgKOH / g), "Dispex Ultra PX4585" (amine value: 20 mgKOH /g), "Efka PX4701" (amine value: 40 mgKOH/g) (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), and the like.

1-7. 그 외의 성분1-7. other ingredients

잉크 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 상술한 성분 이외의 성분을 추가로 함유하고 있어도 된다.The ink composition may further contain components other than the components described above within a range that does not impair the effects of the present invention.

1-7-1. 증감제1-7-1. sensitizer

증감제로서는, 광중합성 화합물과 부가 반응을 일으키지 않는 아민류를 이용할 수 있다. 증감제로서는, 예를 들면, 트리메틸아민, 메틸디메탄올아민, 트리에탄올아민, p-디에틸아미노아세토페논, p-디메틸아미노벤조산 에틸, p-디메틸아미노벤조산 이소아밀, N,N-디메틸벤질아민, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.As the sensitizer, photopolymerizable compounds and amines that do not cause an addition reaction can be used. Examples of the sensitizer include trimethylamine, methyl dimethanolamine, triethanolamine, p-diethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N,N-dimethylbenzylamine, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone etc. are mentioned.

1-7-2. 용제1-7-2. solvent

잉크 조성물은, 예를 들면 용제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 용제로서는, 예를 들면, 시클로헥산, 헥산, 헵탄, 클로로포름, 톨루엔, 옥탄, 클로로벤젠, 테트랄린, 디페닐에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 또는 그들의 혼합물 등을 들 수 있다. 용제의 비점은, 잉크젯 잉크의 연속 토출 안정성의 관점에서, 180℃ 이상인 것이 바람직하다. 또, 화소부의 형성 시에는, 잉크 조성물의 경화 전에 잉크 조성물로부터 용제를 제거할 필요가 있기 때문에, 용제를 제거하기 쉬운 관점에서, 용제의 비점은 300℃ 이하인 것이 바람직하다. 단, 본 실시 형태의 잉크 조성물에서는 광중합성 화합물이 분산매로서도 기능하기 때문에, 무용제로 광확산 입자 및 발광 입자를 분산시키는 것이 가능하다. 이 경우, 화소부를 형성할 때에 용제를 건조에 의하여 제거하는 공정이 불필요해지는 이점을 갖는다. 잉크 조성물이 용제를 포함하는 경우, 용제의 함유량은, 잉크 조성물의 전체 질량(용제를 포함한다)을 기준으로 하여, 0~5질량% 이하인 것이 바람직하다.The ink composition may further contain, for example, a solvent. Examples of the solvent include cyclohexane, hexane, heptane, chloroform, toluene, octane, chlorobenzene, tetralin, diphenyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, butyl carbitol acetate, or mixtures thereof. there is. It is preferable that the boiling point of a solvent is 180 degreeC or more from a viewpoint of continuous ejection stability of inkjet ink. In addition, since it is necessary to remove the solvent from the ink composition before curing the ink composition at the time of forming the pixel portion, it is preferable that the boiling point of the solvent is 300°C or less from the viewpoint of easy removal of the solvent. However, since the photopolymerizable compound also functions as a dispersion medium in the ink composition of the present embodiment, it is possible to disperse the light-diffusing particles and the light-emitting particles without a solvent. In this case, there is an advantage that the process of removing the solvent by drying becomes unnecessary when forming the pixel portion. When the ink composition contains a solvent, the content of the solvent is preferably 0 to 5% by mass or less based on the total mass (including the solvent) of the ink composition.

1-7-3. 계면활성제1-7-3. Surfactants

계면활성제로서는, 특별히 한정은 없지만, 잉크 토출성과, 발광 입자(91) 및 발광 입자(90)를 함유하는 박막을 형성하는 경우에, 막 두께 불균일을 저감시킬 수 있는 화합물이 바람직하다.The surfactant is not particularly limited, but is preferably a compound capable of reducing film thickness unevenness in the case of forming a thin film containing the luminescent particles 91 and 90 with ink ejection properties.

이러한 계면활성제로서는, 예를 들면, 디알킬설포석신산염류, 알킬나프탈렌설폰산염류 및 지방산염류 등의 음이온성 계면활성제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬알릴에테르류, 아세틸렌글리콜류 및 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머류 등의 비이온성 계면활성제, 알킬아민염류, 및 제4급 암모늄염류 등의 양이온성 계면활성제, 그리고 실리콘계나 불소계의 계면활성제가 포함된다.Examples of such surfactants include anionic surfactants such as dialkyl sulfosuccinates, alkyl naphthalene sulfonates and fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, acetylene glycols, and the like. Nonionic surfactants such as polyoxyethylene/polyoxypropylene block copolymers, cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts, and silicone-based or fluorine-based surfactants are included.

실리콘계의 계면활성제의 구체예로서는, 예를 들면, 「KF-351A」, 「KF-352A」, 「KF-642」, 「X-22-4272」(이상, 신에쓰 화학 공업 주식회사 제조), 「BYK-300」, 「BYK-302」, 「BYK-306」, 「BYK-307」, 「BYK-310」, 「BYK-313」 「BYK-315N」, 「BYK-320」, 「BYK-322」, 「BYK-323」, 「BYK-325」, 「BYK-330」, 「BYK-331」, 「BYK-333」, 「BYK-342」, 「BYK-345」, 「BYK-347」, 「BYK-348」, 「BYK-349」, 「BYK-370」, 「BYK-377」, 「BYK-UV3500」, 「BYK-UV3510」, 「BYK-UV3530」, 「BYK-UV3570」, 「BYK-Silclean3700」, 「BYK-Silclean3720」(이상, 빅케미·재팬 주식회사 제조), 「TEGO Rad2100」, 「TEGO Rad2011」, 「TEGO Rad2200N」, 「TEGO Rad2250」, 「TEGO Rad2300」, 「TEGO Rad2500」, 「TEGO Rad2600」, 「TEGO Rad2650」, 「TEGO Rad2700」, 「TEGO Flow425」, 「TEGO Glide410」, 「TEGO Glide432」, 「TEGO Glide440」, 「TEGO Glide450」, 「TEGO GlideZG400」, 「TEGO Twin4000」, 「TEGO Twin4100」, 「TEGO Twin4200」(이상, 에보닉·인더스트리즈 주식회사 제조), 「DOWSIL L-7001」, 「DOWSIL L-7002」, 「DOWSIL 57ADDTIVE」, 「DOWSIL L-7064」, 「DOWSIL FZ-2110」, 「FZ-2105」, 「DOWSIL 67ADDTIVE」, (이상, 다우·도레이 주식회사 제조), 「폴리플로 KL-400HF」, 「폴리플로 KL-401」, 「폴리플로 KL-402」, 「폴리플로 KL-403」, 「폴리플로 KL-404」(이상, 교에이샤 화학 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.As a specific example of a silicone type surfactant, "KF-351A", "KF-352A", "KF-642", "X-22-4272" (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), "BYK -300”, “BYK-302”, “BYK-306”, “BYK-307”, “BYK-310”, “BYK-313” “BYK-315N”, “BYK-320”, “BYK-322” , "BYK-323", "BYK-325", "BYK-330", "BYK-331", "BYK-333", "BYK-342", "BYK-345", "BYK-347", " BYK-348", "BYK-349", "BYK-370", "BYK-377", "BYK-UV3500", "BYK-UV3510", "BYK-UV3530", "BYK-UV3570", "BYK- "Silclean3700", "BYK-Silclean3720" (above, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), "TEGO Rad2100", "TEGO Rad2011", "TEGO Rad2200N", "TEGO Rad2250", "TEGO Rad2300", "TEGO Rad2500", " TEGO Rad2600”, “TEGO Rad2650”, “TEGO Rad2700”, “TEGO Flow425”, “TEGO Glide410”, “TEGO Glide432”, “TEGO Glide440”, “TEGO Glide450”, “TEGO GlideZG400”, “TEGO Twin4000”, “ TEGO Twin4100”, “TEGO Twin4200” (above, manufactured by Evonik Industries, Ltd.), “DOWSIL L-7001”, “DOWSIL L-7002”, “DOWSIL 57ADDTIVE”, “DOWSIL L-7064”, “DOWSIL FZ- 2110”, “FZ-2105”, “DOWSIL 67ADDTIVE”, (above, manufactured by Dow-Toray Co., Ltd.), “Polyflo KL-400HF”, “Polyflo KL-401”, “Polyflo KL-402”, “Polyflo KL-402” Flo KL-403", "Poly Flo KL-404" (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.

불소계의 계면활성제의 구체예로서는, 예를 들면, 「메가팩 F-114」, 「메가팩 F-251」, 「메가팩 F-281」, 「메가팩 F-410」, 「메가팩 F-430」, 「메가팩 F-444」, 「메가팩 F-472SF」, 「메가팩 F-477」, 「메가팩 F-510」, 「메가팩 F-511」, 「메가팩 F-552」, 「메가팩 F-553」, 「메가팩 F-554」, 「메가팩 F-555」, 「메가팩 F-556」, 「메가팩 F-557」, 「메가팩 F-558」, 「메가팩 F-559」, 「메가팩 F-560」, 「메가팩 F-561」, 「메가팩 F-562」, 「메가팩 F-563」, 「메가팩 F-565」, 「메가팩 F-567」, 「메가팩 F-568」, 「메가팩 F-569」, 「메가팩 F-570」, 「메가팩 F-571」, 「메가팩 R-40」, 「메가팩 R-41」, 「메가팩 R-43」, 「메가팩 R-94」, 「메가팩 RS-72-K」, 「메가팩 RS-75」, 「메가팩 RS-76-E」, 「메가팩 RS-76-NS」, 「메가팩 RS-90」, 「메가팩 EXP.TF-1367」, 「메가팩 EXP.TF1437」, 「메가팩 EXP.TF1537」, 「메가팩 EXP.TF-2066」(이상, DIC 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.Specific examples of the fluorine-based surfactant include "Megapack F-114", "Megapack F-251", "Megapack F-281", "Megapack F-410", and "Megapack F-430". ”, “Megapack F-444”, “Megapack F-472SF”, “Megapack F-477”, “Megapack F-510”, “Megapack F-511”, “Megapack F-552”, “Megapack F-553”, “Megapack F-554”, “Megapack F-555”, “Megapack F-556”, “Megapack F-557”, “Megapack F-558”, “Megapack F-558” "Megapack F-559", "Megapack F-560", "Megapack F-561", "Megapack F-562", "Megapack F-563", "Megapack F-565", "Megapack F -567”, “Megapack F-568”, “Megapack F-569”, “Megapack F-570”, “Megapack F-571”, “Megapack R-40”, “Megapack R-41” ”, “Megapack R-43”, “Megapack R-94”, “Megapack RS-72-K”, “Megapack RS-75”, “Megapack RS-76-E”, “Megapack RS -76-NS”, “Megapack RS-90”, “Megapack EXP.TF-1367”, “Megapack EXP.TF1437”, “Megapack EXP.TF1537”, “Megapack EXP.TF-2066” ( The above, manufactured by DIC Corporation), etc. are mentioned.

불소계의 계면활성제의 다른 구체예로서는, 예를 들면, 「프터젠트 100」, 「프터젠트 100C」, 「프터젠트 110」, 「프터젠트 150」, 「프터젠트 150CH」, 「프터젠트 100A-K」, 「프터젠트 300」, 「프터젠트 310」, 「프터젠트 320」, 「프터젠트 400SW」, 「프터젠트 251」, 「프터젠트 215M」, 「프터젠트 212M」, 「프터젠트 215M」, 「프터젠트 250」, 「프터젠트 222F」, 「프터젠트 212D」, 「FTX-218」, 「프터젠트 209F」, 「프터젠트 245F」, 「프터젠트 208G」, 「프터젠트 240G」, 「프터젠트 212P」, 「프터젠트 220P」, 「프터젠트 228P」, 「DFX-18」, 「프터젠트 601AD」, 「프터젠트 602A」, 「프터젠트 650A」, 「프터젠트 750FM」, 「FTX-730FM」, 「프터젠트 730FL」, 「프터젠트 710FS」, 「프터젠트 710FM」, 「프터젠트 710FL」, 「프터젠트 750LL」, 「FTX-730LS」, 「프터젠트 730LM」(이상, 주식회사 네오스 제조) 「FC-4430」, 「FC-4432」(이상, 쓰리엠 재팬 주식회사 제조), 「유니다인 NS」(이상, 다이킨 공업 주식회사 제조), 「서플론 S-241」, 「서플론 S-242」, 「서플론 S-243」, 「서플론 S-420」, 「서플론 S-611」, 「서플론 S-651」, 「서플론 S-386」(이상, AGC 세이미 케미컬 주식회사 제조), 「플로렌 AO-82」, 「플로렌 AO-98」, 「플로렌 AO-108」(이상, 교에이샤 화학 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.As other specific examples of fluorine-based surfactants, for example, "Ptergent 100", "Ptergent 100C", "Ptergent 110", "Ptergent 150", "Ptergent 150CH", "Ptergent 100A-K" , 「Phtergent 300」, 「Ptergent 310」, 「Ptergent 320」, 「Ptergent 400SW」, 「Ptergent 251」, 「Ptergent 215M」, 「Ptergent 212M」, 「Ptergent 215M」, 「 "Ptergent 250", "Ptergent 222F", "Ptergent 212D", "FTX-218", "Ptergent 209F", "Ptergent 245F", "Ptergent 208G", "Ptergent 240G", "Ptergent 240G" 212P", "Ptergent 220P", "Ptergent 228P", "DFX-18", "Ptergent 601AD", "Ptergent 602A", "Ptergent 650A", "Ptergent 750FM", "FTX-730FM" , "Putergent 730FL", "Putergent 710FS", "Putergent 710FM", "Putergent 710FL", "Putergent 750LL", "FTX-730LS", "Putergent 730LM" (above, manufactured by Neos Co., Ltd.) " "FC-4430", "FC-4432" (above, manufactured by 3M Japan Co., Ltd.), "Unydyne NS" (above, manufactured by Daikin Industrial Co., Ltd.), "Suplon S-241", "Suplon S-242", "Suplon S-243", "Suplon S-420", "Suplon S-611", "Suplon S-651", "Suplon S-386" (above, manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), "Floren AO-82", "Floren AO-98", "Floren AO-108" (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. make), etc. are mentioned.

계면활성제의 첨가량은, 발광 입자 함유 잉크 조성물에 포함되는 광중합성 화합물의 총량에 대하여, 0.005~2질량%인 것이 바람직하고, 0.01~0.5질량%인 것이 보다 바람직하다.The addition amount of the surfactant is preferably 0.005 to 2% by mass, and more preferably 0.01 to 0.5% by mass, based on the total amount of photopolymerizable compounds contained in the ink composition containing luminescent particles.

1-7-4. 연쇄 이동제1-7-4. chain transfer agent

연쇄 이동제는, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 기재(基材)와의 밀착성을 보다 향상시키는 것 등을 목적으로 하여 사용되는 성분이다. 연쇄 이동제로서는, 예를 들면, 방향족 탄화수소류; 클로로포름, 사염화탄소, 사브롬화 탄소, 브로모트리클로로메탄과 같은 할로겐화 탄화수소류; 옥틸메르캅탄, n-부틸메르캅탄, n-펜틸메르캅탄, n-헥사데실메르캅탄, n-테트라데실메르캅탄, n-도데실메르캅탄, t-테트라데실메르캅탄, t-도데실메르캅탄과 같은 메르캅탄 화합물; 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-부탄디올비스티오프로피오네이트, 1,4-부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 트리메르캅토프로피온산 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 2,4,6-트리메르캅토-s-트리아진, 2-(N,N-디부틸아미노)-4,6-디메르캅토-s-트리아진과 같은 티올 화합물; 디메틸크산토겐디설피드, 디에틸크산토겐디설피드, 디이소프로필크산토겐디설피드, 테트라메틸티우람디설피드, 테트라에틸티우람디설피드, 테트라부틸티우람디설피드와 같은 설피드 화합물; N,N-디메틸아닐린, N,N-디비닐아닐린, 펜타페닐에탄, α-메틸스티렌 다이머, 아크롤레인, 알릴알코올, 테르피놀렌,α-테르피넨, γ-테르피넨, 디펜텐 등을 들 수 있지만, 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐, 티올 화합물이 바람직하다.The chain transfer agent is a component used for the purpose of further improving the adhesion of the ink composition containing luminescent particles to a substrate. As a chain transfer agent, it is aromatic hydrocarbons, for example; halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, and bromotrichloromethane; Octyl mercaptan, n-butyl mercaptan, n-pentyl mercaptan, n-hexadecyl mercaptan, n-tetradecyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, t-tetradecyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan Mercaptan compounds such as; Hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-butanediolbisthiopropionate, 1,4-butanediolbisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthiopropionate, trimethylolpropanetrithioglycol Late, trimethylolpropanetrithiopropionate, trimethylolpropanetris(3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakithioglycolate, pentaerythritoltetrakithiopropionate, trimercaptopropionic acid tris(2- Hydroxyethyl)isocyanurate, 1,4-dimethylmercaptobenzene, 2,4,6-trimercapto-s-triazine, 2-(N,N-dibutylamino)-4,6-di thiol compounds such as mercapto-s-triazine; sulfide compounds such as dimethylxanthogen disulfide, diethylxanthogen disulfide, diisopropylxantogen disulfide, tetramethylthiuram disulfide, tetraethylthiuram disulfide and tetrabutylthiuram disulfide; N,N-dimethylaniline, N,N-divinylaniline, pentaphenylethane, α-methylstyrene dimer, acrolein, allyl alcohol, terpinolene, α-terpinene, γ-terpinene, dipentene, etc. However, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene and thiol compounds are preferred.

연쇄 이동제의 구체예로서는, 예를 들면, 하기 일반식 (9-1)~(9-12)로 표시되는 화합물이 바람직하다.As a specific example of a chain transfer agent, the compound represented by the following general formula (9-1) - (9-12) is preferable, for example.

Figure 112023009896911-pct00027
Figure 112023009896911-pct00027

Figure 112023009896911-pct00028
Figure 112023009896911-pct00028

식 중, R95는 탄소 원자수 2~18의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기는 직쇄여도 되고 분기쇄여도 되며, 당해 알킬기 중의 1개 이상의 메틸렌기는 산소 원자 및 황 원자가 서로 직접 결합하는 일 없이, 산소 원자, 황 원자, -CO-, -OCO-, -COO- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 된다.In the formula, R 95 represents an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms, the alkyl group may be straight-chain or branched-chain, and one or more methylene groups in the alkyl group may be an oxygen atom without direct bonding of an oxygen atom and a sulfur atom to each other. , a sulfur atom, -CO-, -OCO-, -COO- or -CH=CH- may be substituted.

R96은 탄소 원자수 2~18의 알킬렌기를 나타내고, 당해 알킬렌기 중의 1개 이상의 메틸렌기는 산소 원자 및 황 원자가 서로 직접 결합하는 일 없이, 산소 원자, 황 원자, -CO-, -OCO-, -COO- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 된다.R 96 represents an alkylene group having 2 to 18 carbon atoms, and at least one methylene group in the alkylene group is an oxygen atom and a sulfur atom, -CO-, -OCO-, without direct bonding of oxygen atoms and sulfur atoms to each other; -COO- or -CH=CH- may be substituted.

연쇄 이동제의 첨가량은, 발광 입자 함유 잉크 조성물에 포함되는 광중합성 화합물의 총량에 대하여, 0.1~10질량%인 것이 바람직하고, 1.0~5질량%인 것이 보다 바람직하다.The added amount of the chain transfer agent is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 1.0 to 5% by mass, based on the total amount of photopolymerizable compounds contained in the ink composition containing luminescent particles.

1-7-5. 광안정제1-7-5. light stabilizer

본 발명의 잉크 조성물은, 아래 식 (1)로 표시되는 구조를 갖는 광안정제를 함유해도 된다. 광안정제는, 힌더드 아미노기를 1개 혹은 2개 이상 갖는 광안정제여도 된다. 그리고, 잉크 조성물은, 광안정제로서 1종류만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다.The ink composition of this invention may contain the light stabilizer which has a structure represented by following formula (1). The light stabilizer may be a light stabilizer having one or two or more hindered amino groups. And the ink composition may use only 1 type as a light stabilizer, and may use 2 or more types.

Figure 112023009896911-pct00029
Figure 112023009896911-pct00029

(식 (1) 중, R1은, 수소 원자 또는 치환기를 나타내고, *는 결합손을 나타낸다.)(In Formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a substituent, and * represents a bond.)

R1로서는, 보다 구체적으로는, 수소 원자, 알킬기, 알콕시기 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 알킬기 또는 알콕시기가 바람직하며, 메틸기가 보다 바람직하다.As R <1> , a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, etc. are mentioned more specifically, Among these, an alkyl group or an alkoxy group is preferable, and a methyl group is more preferable.

*는 결합손을 나타내고, 예를 들면, 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자와의 결합 부위여도 된다.* represents a bond, and may be, for example, a bonding site with a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom.

광안정제는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1,3,5-트리아진환을 추가로 갖는 화합물이어도 된다. 예를 들면, 식 (1)로 표시되는 구조는, 직접 또는 다른 원자(예를 들면 질소 원자)를 통하여, 1,3,5-트리아진환에 결합하고 있어도 된다.The light stabilizer may be a compound further having a 1,3,5-triazine ring which may have a substituent. For example, the structure represented by Formula (1) may couple|bond with the 1,3,5-triazine ring directly or through another atom (for example, nitrogen atom).

광안정제는, 예를 들면, 20℃에 있어서 액상, 또는 20℃에 있어서 고체상인 것을 사용할 수도 있다. 그러나, 잉크 조성물의 경화물이 광조사에 수반하여 예를 들면 50℃ 정도로 가열될 우려가 있는 것을 고려하면, 광안정제의 융점은 높은 편이 바람직하고, 70℃ 이상, 80℃ 이상 또는 85℃ 이상인 것이 바람직하다. 광안정제의 융점이 70℃ 이상인 것을 이용하면, 잉크 조성물의 경화물이 50℃ 정도의 고온으로 가열된 경우여도, 광안정제의 액화가 발생하지 않기 때문에, 경화물 중으로부터 광안정제가 경화물 표면으로 스며 나오는 현상(블리드 현상)이 발생하는 것을 방지할 수 있다(내블리드성). 한편, 잉크 조성물 중에 대한 용해성을 고려하면, 광안정제의 융점은 180℃ 이하인 것이 바람직하다.As the light stabilizer, for example, a liquid at 20°C or a solid at 20°C may be used. However, considering that the cured product of the ink composition may be heated to, for example, about 50°C with light irradiation, the light stabilizer preferably has a higher melting point, and is 70°C or higher, 80°C or higher, or 85°C or higher. desirable. If the light stabilizer has a melting point of 70°C or higher, even when the cured product of the ink composition is heated to a high temperature of about 50°C, the light stabilizer does not liquefy. Occurrence of exudation (bleed phenomenon) can be prevented (bleed resistance). On the other hand, considering the solubility in the ink composition, the light stabilizer preferably has a melting point of 180°C or less.

광안정제의 분자량(혹은 몰 질량) 또는 질량 평균 분자량은, 1000 이상이어도 된다. 본 명세서에 있어서, 「질량 평균 분자량」은, 폴리스티렌을 표준 물질로 한 겔 침투 크로마트그라피(GPC)를 이용하여 측정된 값을 채용할 수 있다. 분자량 또는 질량 평균 분자량이 상기 범위 내이면, 융점이 높아지기 때문에, 고온 환경하에서의 내블리드성을 확실하게 얻을 수 있고, 내광성이 보다 더 우수한 것이 된다.The molecular weight (or molar mass) or mass average molecular weight of the light stabilizer may be 1000 or more. In this specification, "mass average molecular weight" can employ the value measured using gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance. If the molecular weight or mass average molecular weight is within the above range, since the melting point is high, bleed resistance in a high-temperature environment can be obtained reliably, and light resistance becomes more excellent.

광안정제는, 상기 일반식 (1) 중의 질소 원자 부위에서 프리 라디칼을 포착한다고 생각되고 있고, 광변환층 중에서 발생한 프리 라디칼을 효과적으로 포착하기 위하여, 광안정제의 분자 중의 일반식 (1)로 표시되는 부위의 비율을 나타내는, 아래 식으로 표시되는 관능기 당량이 많을수록, 내광성이 더욱 우수한 것이 된다.The light stabilizer is considered to capture free radicals at the nitrogen atom site in the above general formula (1), and in order to effectively capture free radicals generated in the light conversion layer, the light stabilizer is represented by the general formula (1) in the molecule The greater the functional group equivalent represented by the formula below, which indicates the proportion of the site, the more excellent the light resistance.

관능기 당량=광안정제의 분자량/광안정제 중의 일반식 (1)로 표시되는 부위의 수Functional group equivalent = molecular weight of light stabilizer / number of sites represented by general formula (1) in light stabilizer

관능기 당량은, 프리 라디칼 포착성이 우수한 관점 및 용해성의 관점에서, 200~400인 것이 바람직하고, 250~370인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 200-400, and, as for functional group equivalent, it is more preferable that it is 250-370 from a viewpoint excellent in free radical trapping property and a solubility viewpoint.

광안정제는, 예를 들면, 하기 식 (1a)~(1e)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다. 경화성이 보다 더 우수한 관점, 및 고온하에서의 내광성이 보다 더 우수한 관점에서, 광안정제는, 하기 식 (1a) 또는 하기 식 (1b)로 표시되는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The light stabilizer is preferably a compound represented by the following formulas (1a) to (1e), for example. It is more preferable that the light stabilizer is a compound represented by the following formula (1a) or the following formula (1b) from the viewpoint of further excellent curability and the viewpoint of further superior light resistance under high temperature.

Figure 112023009896911-pct00030
Figure 112023009896911-pct00030

(식 (1a) 중, n은, 1~15의 정수를 나타낸다.)(In Formula (1a), n represents an integer of 1 to 15.)

Figure 112023009896911-pct00031
Figure 112023009896911-pct00031

(식 (1b) 중, n은, 1~15의 정수를 나타낸다.)(In formula (1b), n represents an integer from 1 to 15.)

Figure 112023009896911-pct00032
Figure 112023009896911-pct00032

Figure 112023009896911-pct00033
Figure 112023009896911-pct00033

Figure 112023009896911-pct00034
Figure 112023009896911-pct00034

광안정제의 시판품으로서는, 예를 들면, 상기 식 (1a)로 표시되는 구조를 갖는, TINUVIN NOR371(융점: 91~104℃, 질량 평균 분자량: 2800~4000, 관능기 당량: 350, BASF 재팬 주식회사 제조), 상기 식 (1b)로 표시되는 구조를 갖는, 아데카스타브 LA-63P(융점: 85~105℃, 분자량: 약 2000, 관능기 당량: 276, BASF 재팬 주식회사 제조), 상기 식 (1c)로 표시되는 구조를 갖는, TINUVIN123(융점<20℃(액상), 분자량: 737, 관능기 당량: 368, BASF 재팬 주식회사 제조), 상기 식 (1d)로 표시되는 구조를 갖는 아데카스타브 LA-81(융점<20℃(액상), 분자량 681, 관능기 당량: 340, 주식회사 ADEKA 제조), 상기 식 (1e)로 표시되는 구조를 갖는 아데카스타브 LA-52(융점>65℃, 분자량 847, 관능기 당량: 212, BASF 재팬 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.As a commercially available light stabilizer, for example, TINUVIN NOR371 (melting point: 91 to 104°C, mass average molecular weight: 2800 to 4000, functional group equivalent: 350, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) having a structure represented by the formula (1a) above. , Adekastab LA-63P (melting point: 85 to 105 ° C., molecular weight: about 2000, functional group equivalent: 276, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), having a structure represented by the above formula (1b), represented by the above formula (1c) TINUVIN123 (melting point <20 ° C. (liquid phase), molecular weight: 737, functional group equivalent: 368, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), which has a structure, Adecastab LA-81 (melting point < 20°C (liquid), molecular weight 681, functional group equivalent: 340, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), Adecastab LA-52 having the structure represented by the above formula (1e) (melting point > 65°C, molecular weight 847, functional group equivalent: 212, BASF Japan Co., Ltd.) etc. are mentioned.

광안정제는, 고온하에서의 내광성이 보다 더 우수한 것이 되는 관점에서, 잉크 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 0.1질량%~5.0질량%인 것이 바람직하고, 0.2질량%~3.0질량%인 것이 보다 바람직하며, 2.0질량%~0.3질량% 이상인 것이 특히 바람직하다.The light stabilizer is preferably 0.1% by mass to 5.0% by mass, more preferably 0.2% by mass to 3.0% by mass, based on the total mass of the ink composition, from the viewpoint of providing better light resistance at high temperatures. , It is particularly preferable that they are 2.0 mass % - 0.3 mass % or more.

1-8. 잉크 조성물의 점도1-8. Viscosity of the ink composition

본 발명에 따른 잉크 조성물의 점도는, 예를 들면, 잉크젯 인쇄 시의 토출 안정성의 관점에서, 2mPa·s 이상인 것이 바람직하고, 5mPa·s 이상인 것이 보다 바람직하며, 7mPa·s 이상인 것이 더욱 바람직하다. 잉크 조성물의 점도는, 20mPa·s 이하인 것이 바람직하고, 15mPa·s 이하인 것이 보다 바람직하며, 12mPa·s 이하인 것이 더욱 바람직하다. 잉크 조성물의 점도가 2mPa·s 이상인 경우, 토출 헤드의 잉크 토출 구멍의 선단에 있어서의 잉크 조성물의 메니스커스 형상이 안정되기 때문에, 잉크 조성물의 토출 제어(예를 들면, 토출량 및 토출의 타이밍의 제어)가 용이해진다. 한편, 점도가 20mPa·s 이하인 경우, 잉크 토출 구멍으로부터 잉크 조성물을 원활하게 토출시킬 수 있다. 잉크 조성물의 점도는, 2~20mPa·s인 것이 바람직하고, 5~15mPa·s인 것이 보다 바람직하며, 7~12mPa·s인 것이 더욱 바람직하다. 잉크 조성물의 점도는, 예를 들면, E형 점도계에 의하여 측정된다. 잉크 조성물의 점도는, 예를 들면, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 등을 변경함으로써 원하는 범위로 조정할 수 있다.The viscosity of the ink composition according to the present invention is preferably 2 mPa·s or more, more preferably 5 mPa·s or more, and still more preferably 7 mPa·s or more, from the viewpoint of ejection stability during inkjet printing, for example. The viscosity of the ink composition is preferably 20 mPa·s or less, more preferably 15 mPa·s or less, and still more preferably 12 mPa·s or less. When the viscosity of the ink composition is 2 mPa·s or more, since the meniscus shape of the ink composition at the tip of the ink ejection hole of the ejection head is stable, the ejection control of the ink composition (for example, the ejection amount and ejection timing) control) is easier. On the other hand, when the viscosity is 20 mPa·s or less, the ink composition can be smoothly discharged from the ink discharge hole. The viscosity of the ink composition is preferably 2 to 20 mPa·s, more preferably 5 to 15 mPa·s, and still more preferably 7 to 12 mPa·s. The viscosity of the ink composition is measured by, for example, an E-type viscometer. The viscosity of the ink composition can be adjusted within a desired range by changing the photopolymerizable compound, photopolymerization initiator, and the like, for example.

1-9. 잉크 조성물의 표면 장력1-9. Surface tension of ink composition

본 발명에 따른 잉크 조성물의 표면 장력은, 잉크젯 방식에 적합한 표면 장력인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 20~40mN/m의 범위인 것이 바람직하며, 25~35mN/m인 것이 보다 바람직하다. 표면 장력을 당해 범위로 함으로써 비행 구부러짐의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 비행 구부러짐이란, 잉크 조성물을 잉크 토출 구멍으로부터 토출시켰을 때, 잉크 조성물의 착탄 위치가 목표 위치에 대하여 30μm 이상 어긋나는 것을 말한다. 표면 장력이 40mN/m 이하인 경우, 잉크 토출 구멍의 선단에 있어서의 메니스커스 형상이 안정되기 때문에, 잉크 조성물의 토출 제어(예를 들면, 토출량 및 토출의 타이밍의 제어)가 용이해진다. 한편, 표면 장력이 20mN/m 이하인 경우, 비행 구부러짐의 발생을 억제할 수 있다. 즉, 착탄해야 할 화소부 형성 영역에 정확하게 착탄되지 않아 잉크 조성물의 충전이 불충분한 화소부가 생기거나, 착탄해야 할 화소부 형성 영역에 인접하는 화소부 형성 영역(또는 화소부)에 잉크 조성물이 착탄하여, 색재현성이 저하하거나 하는 일이 없다. 잉크 조성물의 표면 장력은, 예를 들면, 상술한 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 등을 병용함으로써 원하는 범위로 조정할 수 있다.The surface tension of the ink composition according to the present invention is preferably a surface tension suitable for an inkjet method, specifically, preferably in the range of 20 to 40 mN/m, more preferably 25 to 35 mN/m. By setting the surface tension within the range, the occurrence of flight deflection can be suppressed. In addition, flight bending means that the landing position of the ink composition shifts by 30 µm or more from the target position when the ink composition is ejected from the ink ejection hole. When the surface tension is 40 mN/m or less, since the meniscus shape at the tip of the ink ejection hole is stable, ejection control of the ink composition (for example, control of ejection amount and ejection timing) becomes easy. On the other hand, when the surface tension is 20 mN/m or less, the occurrence of flight deflection can be suppressed. That is, a pixel portion in which filling of the ink composition is insufficient occurs because the pixel portion formation region to be landed is not accurately landed, or the ink composition lands on a pixel portion formation region (or a pixel portion) adjacent to the pixel portion formation region to be landed. Thus, there is no deterioration in color reproducibility. The surface tension of the ink composition can be adjusted to a desired range by, for example, combining the above-mentioned silicone surfactant, fluorine surfactant, and the like.

1-10. 잉크 조성물의 조제 방법1-10. Method for preparing ink composition

본 발명의 잉크 조성물, 예를 들면, 활성 에너지선 경화성의 잉크 조성물은, 상기한 각 성분을 배합함으로써 조제할 수 있고, 잉크젯용 잉크로서 이용할 수 있다. 잉크젯용 잉크 조성물을 조제하는 구체적인 방법은, 상기 발광 입자(90) 또는 발광 입자(91)를 유기 용제 중에서 합성, 원심 분리에 의하여 분취한 침전물로부터 유기 용제를 제거하고, 이어서 광중합성 화합물에 분산시킨다. 발광 입자(90) 또는 발광 입자(91)의 분산에는, 예를 들면, 볼 밀, 샌드 밀, 비즈 밀, 쓰리 롤 밀, 페인트 컨디셔너, 어트리터, 분산 교반기, 초음파 등의 분산기를 사용함으로써 행할 수 있다. 또한, 이 분산액에 광중합 개시제 및 산화 방지제를 첨가, 교반 혼합함으로써 조제할 수 있다. 또, 광확산 입자를 사용하는 경우는, 당해 광확산 입자와 고분자 분산제를 혼합, 비즈 밀에 의하여 상기 광중합성 화합물에 분산시킨 밀 베이스를 별도 작성하여, 상기 발광 입자와 함께 광중합성 화합물, 광중합 개시제를 혼합함으로써 조제할 수 있다.The ink composition of the present invention, for example, an active energy ray-curable ink composition, can be prepared by blending each of the above components, and can be used as ink for inkjet. A specific method of preparing an ink composition for inkjet is to synthesize the light-emitting particles 90 or 91 in an organic solvent, remove the organic solvent from the precipitate fractionated by centrifugation, and then disperse in a photopolymerizable compound. . Dispersion of the luminescent particles 90 or 91 can be carried out by using a dispersing machine such as a ball mill, sand mill, bead mill, three roll mill, paint conditioner, attritor, dispersion stirrer, or ultrasonic wave, for example. there is. Moreover, it can prepare by adding a photoinitiator and antioxidant to this dispersion liquid, and mixing by stirring. In the case of using light-diffusion particles, a mill base in which the light-diffusion particles and a polymer dispersant are mixed and dispersed in the photopolymerizable compound by a bead mill is separately prepared, and together with the light-emitting particles, a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator It can be prepared by mixing.

다음으로, 본 발명에 따른 잉크 조성물의 조제 방법에 대하여 구체적으로 설명한다. 잉크 조성물은, 예를 들면, 상술한 잉크 조성물의 구성 성분을 혼합하여, 분산 처리를 행함으로써 얻을 수 있다. 또, 구성 성분을 개별적으로 혼합하여, 필요에 따라 분산 처리한 분산액을 준비하고, 각 분산액을 혼합함으로써 얻을 수 있다. 이하에서는, 잉크 조성물의 제조 방법의 일례로서, 광확산 입자 및 고분자 분산제를 추가로 함유하는 잉크 조성물의 제조 방법을 설명한다.Next, the preparation method of the ink composition according to the present invention will be described in detail. The ink composition can be obtained, for example, by mixing the components of the ink composition described above and performing a dispersion treatment. In addition, it can be obtained by individually mixing the constituent components, preparing a dispersion liquid subjected to dispersion treatment as necessary, and mixing each dispersion liquid. Hereinafter, as an example of a method for producing an ink composition, a method for producing an ink composition further containing light-diffusing particles and a polymer dispersant will be described.

광확산 입자의 분산액을 준비하는 공정에서는, 광확산 입자, 고분자 분산제 및 광중합성 화합물을 혼합하여, 분산 처리를 행함으로써 광확산 입자의 분산액을 조제할 수 있다. 혼합 및 분산 처리는, 비즈 밀, 페인트 컨디셔너, 유성 교반기 등의 분산 장치를 이용하여 행할 수 있다. 상술한 방법에 의하면, 광확산 입자의 분산성이 양호해져, 광확산 입자의 평균 입자경을 원하는 범위로 조정하기 쉬운 관점에서, 비즈 밀 또는 페인트 컨디셔너를 이용하는 것이 바람직하다.In the step of preparing a dispersion of light-diffusion particles, a dispersion of light-diffusion particles can be prepared by mixing the light-diffusion particles, a polymeric dispersant, and a photopolymerizable compound and performing dispersion treatment. The mixing and dispersing treatment can be performed using a dispersing device such as a bead mill, a paint conditioner, or a planetary stirrer. According to the method described above, it is preferable to use a bead mill or a paint conditioner from the viewpoint of improving the dispersibility of the light-diffusion particles and facilitating adjustment of the average particle diameter of the light-diffusion particles to a desired range.

잉크 조성물의 조제 방법은, 제2 공정의 전에, 발광 입자 및 광중합성 화합물을 함유하는, 발광 입자의 분산액을 준비하는 공정을 추가로 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 제2 공정에서는, 광확산 입자의 분산액과, 발광 입자의 분산액과, 광중합 개시제와, 산화 방지제를 혼합한다. 이 방법에 의하면, 발광 입자를 충분히 분산시킬 수 있다. 그 때문에, 화소부에 있어서의 누출광을 저감시킬 수 있음과 더불어, 토출 안정성이 우수한 잉크 조성물을 용이하게 얻을 수 있다. 발광 입자의 분산액을 준비하는 공정에서는, 광확산 입자의 분산액을 준비하는 공정과 동일한 분산 장치를 이용하여, 발광 입자와, 광중합성 화합물의 혼합 및 분산 처리를 행해도 된다.The ink composition preparation method may further include a step of preparing a dispersion of luminescent particles containing luminescent particles and a photopolymerizable compound before the second step. In this case, in the second step, a dispersion of light-diffusing particles, a dispersion of light-emitting particles, a photopolymerization initiator, and an antioxidant are mixed. According to this method, the luminescent particles can be sufficiently dispersed. Therefore, while being able to reduce light leakage in a pixel part, an ink composition excellent in ejection stability can be obtained easily. In the step of preparing the dispersion of light-diffusing particles, mixing and dispersing treatment of the light-emitting particles and the photopolymerizable compound may be performed using the same dispersing device as in the step of preparing the dispersion of light-diffusing particles.

본 실시 형태의 잉크 조성물을, 잉크젯 방식용 잉크 조성물로서 이용하는 경우에는, 압전 소자를 이용한 기계적 토출 기구에 의한, 피에조젯 방식의 잉크젯 기록 장치에 적용하는 것이 바람직하다. 피에조젯 방식에서는, 토출 시에, 잉크 조성물이 순간적으로 고온에 노출되는 일이 없어, 발광 입자의 변질이 일어나기 어렵기 때문에, 원하는 발광 특성을 구비한 컬러 필터 화소부(광변환층)를 얻을 수 있다.When using the ink composition of this embodiment as an ink composition for an inkjet system, it is preferably applied to a piezojet system inkjet recording apparatus using a mechanical ejection mechanism using a piezoelectric element. In the piezojet method, the ink composition is not instantly exposed to a high temperature during ejection, and the quality of the light-emitting particles is difficult to change, so that a color filter pixel portion (light conversion layer) having desired light-emitting characteristics can be obtained. there is.

이상, 컬러 필터용 잉크 조성물의 일 실시 형태에 대하여 설명했지만, 상술한 실시 형태의 잉크 조성물은, 잉크젯 방식 외에, 예를 들면, 포토리소그래피 방식으로 이용할 수도 있다. 이 경우, 잉크 조성물은, 바인더 폴리머로서 알칼리 가용성 수지를 함유한다.As mentioned above, although one embodiment of the ink composition for color filters was described, the ink composition of the above-mentioned embodiment can also be used by a photolithographic method other than the inkjet method. In this case, the ink composition contains an alkali-soluble resin as a binder polymer.

잉크 조성물을 포토리소그래피 방식으로 이용하는 경우, 우선, 잉크 조성물을 기재 상에 도포하고, 잉크 조성물이 용제를 함유하는 경우에는, 또한 잉크 조성물을 건조시켜 도포막을 형성한다. 이와 같이 하여 얻어지는 도포막은, 알칼리 현상액에 가용성이며, 알칼리 현상액으로 처리됨으로써 패터닝된다. 이때, 알칼리 현상액은, 현상액의 폐수 처리의 용이함 등의 관점에서, 수용액인 것이 대부분을 차지하기 때문에, 잉크 조성물의 도포막은 수용액으로 처리되게 된다. 한편, 발광 입자(양자 도트 등)를 이용한 잉크 조성물의 경우, 발광 입자가 물에 대하여 불안정하고, 발광성(예를 들면 형광성)이 수분에 의하여 손상된다. 이 때문에 본 실시 형태에 있어서는, 알칼리 현상액(수용액)으로 처리할 필요가 없는, 잉크젯 방식이 바람직하다.When using the ink composition by photolithography, first, the ink composition is applied onto a substrate, and when the ink composition contains a solvent, the ink composition is further dried to form a coating film. The coating film obtained in this way is soluble in an alkaline developer, and is patterned by being treated with an alkaline developer. At this time, since most of the alkaline developing solution is an aqueous solution from the viewpoint of the ease of wastewater treatment of the developing solution, the coated film of the ink composition is treated with an aqueous solution. On the other hand, in the case of an ink composition using light-emitting particles (e.g., quantum dots), the light-emitting particles are unstable to water, and luminescence (eg, fluorescence) is impaired by moisture. For this reason, in this embodiment, the inkjet method which does not need to process with an alkaline developing solution (aqueous solution) is preferable.

또, 잉크 조성물의 도포막에 대하여 알칼리 현상액에 의한 처리를 행하지 않는 경우여도, 잉크 조성물이 알칼리 가용성인 경우, 잉크 조성물의 도포막이 대기 중의 수분을 흡수하기 쉽고, 시간이 경과함에 따라 발광 입자(양자 도트 등)의 발광성(예를 들면 형광성)이 손상되어 간다. 이 관점에서, 본 실시 형태에 있어서는, 잉크 조성물의 도포막은 알칼리 불용성인 것이 바람직하다. 즉, 본 실시 형태의 잉크 조성물은, 알칼리 불용성의 도포막을 형성 가능한 잉크 조성물인 것이 바람직하다. 이와 같은 잉크 조성물은, 광중합성 화합물로서, 알칼리 불용성의 광중합성 화합물을 이용함으로써 얻을 수 있다. 잉크 조성물의 도포막이 알칼리 불용성이라는 것은, 1질량%의 수산화칼륨 수용액에 대한 25℃에 있어서의 잉크 조성물의 도포막의 용해량이, 잉크 조성물의 도포막의 전체 질량을 기준으로 하여, 30질량% 이하인 것을 의미한다. 잉크 조성물의 도포막의 상기 용해량은, 바람직하게는, 10질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 3질량% 이하이다. 또한, 잉크 조성물이 알칼리 불용성의 도포막을 형성 가능한 잉크 조성물인 것은, 잉크 조성물을 기재 상에 도포한 후, 용제를 포함하는 경우 80℃, 3분의 조건으로 건조하여 얻어지는 두께 1μm의 도포막의, 상기 용해량을 측정함으로써 확인할 수 있다.In addition, even when the coating film of the ink composition is not treated with an alkali developer, when the ink composition is alkali-soluble, the coating film of the ink composition easily absorbs moisture in the atmosphere, and as time passes, the luminescent particles (both The luminescence (for example, fluorescence) of dots etc.) is impaired. From this point of view, in the present embodiment, it is preferable that the coating film of the ink composition is alkali insoluble. That is, it is preferable that the ink composition of this embodiment is an ink composition which can form an alkali-insoluble coating film. Such an ink composition can be obtained by using an alkali-insoluble photopolymerizable compound as a photopolymerizable compound. That the coated film of the ink composition is insoluble in alkali means that the amount of dissolution of the coated film of the ink composition at 25° C. in a 1% by mass aqueous solution of potassium hydroxide is 30% by mass or less based on the total mass of the coated film of the ink composition do. The dissolution amount of the coated film of the ink composition is preferably 10% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less. In addition, the reason why the ink composition is an ink composition capable of forming an alkali-insoluble coating film is that a coating film having a thickness of 1 μm obtained by applying the ink composition on a substrate and then drying it under conditions of 80° C. for 3 minutes when containing a solvent is described above. It can be confirmed by measuring the amount of dissolution.

2. 발광 입자 함유 잉크 조성물의 사용례2. Example of use of ink composition containing luminescent particles

상술한 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 예를 들면, 잉크젯 프린터, 포토리소그래피, 스핀 코터 등, 다양한 방법에 의하여 기판 상에 피막을 형성하고, 이 피막을 가열하여 경화시킴으로써 경화물을 얻을 수 있다. 이하, 청색 유기 LED 백라이트를 구비한 발광 소자의 컬러 필터 화소부를 발광 입자 함유 잉크 조성물로 형성하는 경우를 예로 들어 설명한다.The above-described ink composition containing luminescent particles can be cured by forming a film on a substrate by various methods such as, for example, an inkjet printer, photolithography, or spin coater, and heating and curing the film. Hereinafter, a case in which a color filter pixel portion of a light emitting device having a blue organic LED backlight is formed from an ink composition containing light emitting particles will be described as an example.

도 3은, 본 발명의 발광 소자의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이며, 도 4 및 도 5는, 각각 액티브 매트릭스 회로의 구성을 나타내는 개략도이다. 또한, 도 3에서는, 편의상, 각 부의 치수 및 그들의 비율을 과장하여 나타내어, 실제와는 상이한 경우가 있다. 또, 이하에 나타내는 재료, 치수 등은 일례이며, 본 발명은, 그들에 한정되지 않고, 그 요지를 변경하지 않는 범위에서 적절히 변경하는 것이 가능하다. 이하에서는, 설명의 편의상, 도 3의 상측을 「상측」 또는 「상방」이라고, 하측을 「하측」 또는 「하방」이라고 한다. 또, 도 3에서는, 도면이 번잡해지는 것을 피하기 위하여, 단면을 나타내는 해칭의 기재를 생략하고 있다.Fig. 3 is a cross-sectional view showing one embodiment of the light emitting element of the present invention, and Figs. 4 and 5 are schematic diagrams each showing the configuration of an active matrix circuit. In addition, in FIG. 3, for convenience, the dimensions of each part and their ratio are exaggerated and shown, and may differ from reality. In addition, the materials, dimensions, etc. shown below are examples, and the present invention is not limited thereto, and can be appropriately changed within a range that does not change the gist thereof. Hereinafter, for convenience of description, the upper side of FIG. 3 is referred to as “upper side” or “upper side”, and the lower side is referred to as “lower side” or “lower side”. In addition, in FIG. 3, description of hatching which shows a cross section is abbreviate|omitted in order to avoid complicating a drawing.

도 3에 나타내는 바와 같이, 발광 소자(100)는, 하측 기판(1)과, EL 광원부(200)와, 충전층(10)과, 보호층(11)과, 발광 입자(90)를 함유하여 발광층으로서 작용하는 광변환층(12)과, 상측 기판(13)을 이 순서로 적층한 구조를 구비한다. 광변환층(12)에 함유되는 발광 입자(90)는, 폴리머 피복 발광 입자(90)여도 되고, 폴리머층(92)으로 피복되어 있지 않은 발광 입자(91)여도 된다. EL 광원부(200)는, 양극(2)과, 복수의 층으로 이루어지는 EL층(14)과, 음극(8)과, 도시하지 않은 편광판과, 봉지층(9)을 순서대로 구비한다. EL층(14)은, 양극(2) 측으로부터 순차적으로 적층된 정공 주입층(3)과, 정공 수송층(4)과, 발광층(5)과, 전자 수송층(6)과, 전자 주입층(7)을 포함한다.As shown in Fig. 3, the light emitting element 100 includes a lower substrate 1, an EL light source unit 200, a filling layer 10, a protective layer 11, and light emitting particles 90. It has a structure in which a light conversion layer 12 serving as a light emitting layer and an upper substrate 13 are laminated in this order. The light-emitting particles 90 contained in the light conversion layer 12 may be polymer-coated light-emitting particles 90 or may be light-emitting particles 91 not covered with the polymer layer 92 . The EL light source unit 200 includes an anode 2, an EL layer 14 composed of a plurality of layers, a cathode 8, a polarizing plate (not shown), and an encapsulation layer 9 in this order. The EL layer 14 includes a hole injection layer 3, a hole transport layer 4, a light emitting layer 5, an electron transport layer 6, and an electron injection layer 7 sequentially stacked from the anode 2 side. ).

이러한 발광 소자(100)는, EL 광원부(200)(EL층(14))로부터 발해진 광을 광변환층(12)에 의하여 흡수 및 재방출하거나 혹은 투과시켜, 상측 기판(13) 측으로부터 외부로 취출하는 포토루미네선스 소자이다. 이때, 광변환층(12)에 포함되는 발광 입자(90)에 의하여 소정의 색의 광으로 변환된다. 이하, 각 층에 대하여 순차적으로 설명한다.The light emitting element 100 absorbs and re-radiates or transmits the light emitted from the EL light source unit 200 (EL layer 14) by the light conversion layer 12, and transmits the light from the upper substrate 13 side to the outside. It is a photoluminescence element taken out with. At this time, the light is converted into light of a predetermined color by the light emitting particles 90 included in the light conversion layer 12 . Hereinafter, each layer is sequentially described.

<하측 기판(1) 및 상측 기판(13)><Lower Substrate 1 and Upper Substrate 13>

하측 기판(1) 및 상측 기판(13)은, 각각 발광 소자(100)를 구성하는 각 층을 지지 및/또는 보호하는 기능을 갖는다. 발광 소자(100)가 톱 이미션형인 경우, 상측 기판(13)이 투명 기판으로 구성된다. 한편, 발광 소자(100)가 보텀 이미션형인 경우, 하측 기판(1)이 투명 기판으로 구성된다. 여기서, 투명 기판이란, 가시광 영역의 파장의 광을 투과 가능한 기판을 의미하고, 투명에는, 무색 투명, 착색 투명, 반투명이 포함된다.The lower substrate 1 and the upper substrate 13 each have a function of supporting and/or protecting each layer constituting the light emitting element 100 . When the light emitting device 100 is a top emission type, the upper substrate 13 is formed of a transparent substrate. Meanwhile, when the light emitting device 100 is a bottom emission type, the lower substrate 1 is formed of a transparent substrate. Here, the transparent substrate means a substrate capable of transmitting light of a wavelength in the visible light region, and the transparent substrate includes colorless transparency, colored transparency, and translucency.

투명 기판으로서는, 예를 들면, 석영 유리, 파이렉스(등록상표) 유리, 합성 석영판 등의 투명한 유리 기판, 석영 기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리이미드(PI), 폴리카보네이트(PC) 등으로 구성되는 플라스틱 기판(수지 기판), 철, 스테인리스, 알루미늄, 구리 등으로 구성되는 금속 기판, 실리콘 기판, 갈륨 비소 기판 등을 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 유리 중에 알칼리 성분을 포함하지 않는 무알칼리 유리로 이루어지는 유리 기판을 이용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 코닝사 제조의 「7059 글라스」, 「1737 글라스」, 「이글 200」 및 「이글 XG」, 아사히 글라스사 제조의 「AN100」, 닛폰 덴키 글라스사 제조의 「OA-10G」 및 「OA-11」이 적합하다. 이들은, 열팽창률이 작은 소재이며 치수 안정성 및 고온 가열 처리에 있어서의 작업성이 우수하다. 또, 발광 소자(100)에 가요성을 부여하는 경우에는, 하측 기판(1) 및 상측 기판(13)에는, 각각, 플라스틱 기판(고분자 재료를 주재료로 하여 구성된 기판), 비교적 두께가 작은 금속 기판이 선택된다.As the transparent substrate, for example, quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, transparent glass substrates such as synthetic quartz plates, quartz substrates, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone (PES) , a plastic substrate (resin substrate) made of polyimide (PI), polycarbonate (PC), etc., a metal substrate made of iron, stainless steel, aluminum, copper, etc., a silicon substrate, a gallium arsenide substrate, or the like can be used. Among these, it is preferable to use the glass substrate which consists of an alkali-free glass which does not contain an alkali component in glass. Specifically, "7059 Glass", "1737 Glass", "Eagle 200" and "Eagle XG" manufactured by Corning, "AN100" manufactured by Asahi Glass, "OA-10G" and "OA" manufactured by Nippon Denki Glass, Inc. -11” is suitable. These are materials with a small coefficient of thermal expansion and are excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment. In the case of imparting flexibility to the light emitting element 100, each of the lower substrate 1 and the upper substrate 13 includes a plastic substrate (a substrate mainly composed of a polymer material) and a metal substrate having a relatively small thickness. is selected

하측 기판(1) 및 상측 기판(13)의 두께는, 각각 특별히 한정되지 않지만, 100~1,000μm의 범위인 것이 바람직하고, 300~800μm의 범위인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the lower substrate 1 and the upper substrate 13 is not particularly limited, respectively, but is preferably in the range of 100 to 1,000 μm, and more preferably in the range of 300 to 800 μm.

또한, 발광 소자(100)의 사용 형태에 따라, 하측 기판(1) 및 상측 기판(13) 중 어느 한쪽 또는 쌍방을 생략할 수도 있다.In addition, either one or both of the lower substrate 1 and the upper substrate 13 may be omitted depending on the usage form of the light emitting element 100 .

도 4에 나타내는 바와 같이, 하측 기판(1) 상에는, R, G, B로 나타내어지는 화소 전극(PE)을 구성하는 양극(2)에 대한 전류의 공급을 제어하는 신호선 구동 회로(C1) 및 주사선 구동 회로(C2)와, 이들 회로의 작동을 제어하는 제어 회로(C3)와, 신호선 구동 회로(C1)에 접속된 복수의 신호선(706)과, 주사선 구동 회로(C2)에 접속된 복수의 주사선(707)을 구비하고 있다. 또, 각 신호선(706)과 각 주사선(707)의 교차부 근방에는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 콘덴서(701)와, 구동 트랜지스터(702)와, 스위칭 트랜지스터(708)가 설치되어 있다.As shown in FIG. 4 , on the lower substrate 1, a signal line drive circuit C1 and a scan line for controlling the supply of current to the anode 2 constituting the pixel electrode PE represented by R, G, and B are provided. A driving circuit C2, a control circuit C3 for controlling the operation of these circuits, a plurality of signal lines 706 connected to the signal line driving circuit C1, and a plurality of scanning lines connected to the scanning line driving circuit C2 (707) is provided. In the vicinity of the intersection of each signal line 706 and each scan line 707, as shown in Fig. 5, a capacitor 701, a drive transistor 702, and a switching transistor 708 are provided.

콘덴서(701)는, 한쪽의 전극이 구동 트랜지스터(702)의 게이트 전극에 접속되고, 다른 쪽의 전극이 구동 트랜지스터(702)의 소스 전극에 접속되어 있다. 구동 트랜지스터(702)는, 게이트 전극이 콘덴서(701)의 한쪽의 전극에 접속되고, 소스 전극이 콘덴서(701)의 다른 쪽의 전극 및 구동 전류를 공급하는 전원선(703)에 접속되고, 드레인 전극이 EL 광원부(200)의 양극(4)에 접속되어 있다.The capacitor 701 has one electrode connected to the gate electrode of the drive transistor 702 and the other electrode connected to the source electrode of the drive transistor 702 . The driving transistor 702 has a gate electrode connected to one electrode of the capacitor 701, a source electrode connected to the other electrode of the capacitor 701 and a power supply line 703 supplying drive current, and a drain. An electrode is connected to the anode 4 of the EL light source section 200.

스위칭 트랜지스터(708)는, 게이트 전극이 주사선(707)에 접속되고, 소스 전극이 신호선(706)에 접속되고, 드레인 전극이 구동 트랜지스터(702)의 게이트 전극에 접속되어 있다. 또, 본 실시 형태에 있어서, 공통 전극(705)은, EL 광원부(200)의 음극(8)을 구성하고 있다. 또한, 구동 트랜지스터(702) 및 스위칭 트랜지스터(708)는, 예를 들면, 박막 트랜지스터 등으로 구성할 수 있다.The switching transistor 708 has a gate electrode connected to the scan line 707, a source electrode connected to the signal line 706, and a drain electrode connected to the gate electrode of the driving transistor 702. In this embodiment, the common electrode 705 constitutes the cathode 8 of the EL light source unit 200. In addition, the driving transistor 702 and the switching transistor 708 can be constituted by, for example, a thin film transistor or the like.

주사선 구동 회로(C2)는, 주사선(707)을 통하여, 스위칭 트랜지스터(708)의 게이트 전극에 주사 신호에 따른 주사 전압을 공급 또는 차단하여, 스위칭 트랜지스터(708)를 온 또는 오프한다. 이에 의하여, 주사선 구동 회로(C2)는, 신호선 구동 회로(C1)가 신호 전압을 기입하는 타이밍을 조정한다. 한편, 신호선 구동 회로(C1)는, 신호선(706) 및 스위칭 트랜지스터(708)를 통하여, 구동 트랜지스터(702)의 게이트 전극에 영상 신호에 따른 신호 전압을 공급 또는 차단하여, EL 광원부(200)에 공급하는 신호 전류의 양을 조정한다.The scan line driving circuit C2 supplies or blocks a scan voltage according to a scan signal to the gate electrode of the switching transistor 708 via the scan line 707 to turn the switching transistor 708 on or off. In this way, the scan line driver circuit C2 adjusts the timing at which the signal line driver circuit C1 writes the signal voltage. Meanwhile, the signal line driving circuit C1 supplies or cuts off a signal voltage according to a video signal to the gate electrode of the driving transistor 702 through the signal line 706 and the switching transistor 708, so that the EL light source unit 200 Adjust the amount of signal current supplied.

따라서, 주사선 구동 회로(C2)로부터 주사 전압이 스위칭 트랜지스터(708)의 게이트 전극에 공급되고, 스위칭 트랜지스터(708)가 온되면, 신호선 구동 회로(C1)로부터 신호 전압이 스위칭 트랜지스터(708)의 게이트 전극에 공급된다. 이때, 이 신호 전압에 대응한 드레인 전류가 전원선(703)으로부터 신호 전류로서 EL 광원부(200)에 공급된다. 그 결과, EL 광원부(200)는, 공급되는 신호 전류에 따라 발광한다.Therefore, when the scan voltage from the scan line driver circuit C2 is supplied to the gate electrode of the switching transistor 708 and the switching transistor 708 is turned on, the signal voltage from the signal line driver circuit C1 is applied to the gate electrode of the switching transistor 708. supplied to the electrode. At this time, the drain current corresponding to this signal voltage is supplied from the power supply line 703 to the EL light source section 200 as a signal current. As a result, the EL light source unit 200 emits light according to the supplied signal current.

<EL 광원부(200)><EL light source unit 200>

[양극(2)][Anode (2)]

양극(2)은, 외부 전원으로부터 발광층(5)을 향하여 정공을 공급하는 기능을 갖는다. 양극(2)의 구성 재료(양극 재료)로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 금(Au)과 같은 금속, 요오드화구리(CuI)와 같은 할로겐화 금속, 인듐 주석 산화물(ITO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO)과 같은 금속 산화물 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The anode 2 has a function of supplying holes from an external power source toward the light emitting layer 5 . The constituent material (anode material) of the anode 2 is not particularly limited, and examples thereof include a metal such as gold (Au), a metal halide such as copper iodide (CuI), indium tin oxide (ITO), and tin oxide ( and metal oxides such as SnO 2 ) and zinc oxide (ZnO). These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

양극(2)의 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 10~1,000nm의 범위인 것이 바람직하고, 10~200nm의 범위인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the anode 2 is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 1,000 nm, and more preferably in the range of 10 to 200 nm.

양극(2)은, 예를 들면, 진공 증착법이나 스퍼터링법과 같은 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다. 이때, 포토리소그래피법이나 마스크를 이용한 방법에 의하여, 소정의 패턴을 갖는 양극(2)을 형성해도 된다.The anode 2 can be formed by, for example, a dry film forming method such as a vacuum deposition method or a sputtering method. At this time, the anode 2 having a predetermined pattern may be formed by a photolithography method or a method using a mask.

[음극(8)][Cathode (8)]

음극(8)은, 외부 전원으로부터 발광층(5)을 향하여 전자를 공급하는 기능을 갖는다. 음극(8)의 구성 재료(음극 재료)로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 리튬, 나트륨, 마그네슘, 알루미늄, 은, 나트륨-칼륨 합금, 마그네슘/알루미늄 혼합물, 마그네슘/은 혼합물, 마그네슘/인듐 혼합물, 알루미늄/산화알루미늄(Al2O3) 혼합물, 희토류 금속 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The cathode 8 has a function of supplying electrons from an external power source toward the light emitting layer 5 . The constituent material (cathode material) of the negative electrode 8 is not particularly limited, and examples thereof include lithium, sodium, magnesium, aluminum, silver, a sodium-potassium alloy, a magnesium/aluminum mixture, a magnesium/silver mixture, and magnesium/indium. mixtures, aluminum/aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixtures, rare earth metals, and the like. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

음극(8)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 0.1~1,000nm의 범위인 것이 바람직하고, 1~200nm의 범위인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the cathode 8 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 1,000 nm, and more preferably in the range of 1 to 200 nm.

음극(8)은, 예를 들면, 증착법이나 스퍼터링법과 같은 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다.The cathode 8 can be formed by, for example, a dry film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method.

[정공 주입층(3)][Hole Injection Layer (3)]

정공 주입층(3)은, 양극(2)으로부터 공급된 정공을 수취하여, 정공 수송층(4)에 주입하는 기능을 갖는다. 또한, 정공 주입층(3)은, 필요에 따라 설치하도록 하면 되고, 생략할 수도 있다.The hole injection layer 3 has a function of receiving holes supplied from the anode 2 and injecting them into the hole transport layer 4 . In addition, the hole injection layer 3 may be provided as needed, and may be omitted.

정공 주입층(3)의 구성 재료(정공 주입 재료)로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 구리 프탈로시아닌과 같은 프탈로시아닌 화합물; 4,4',4''-트리스[페닐(m-톨릴)아미노]트리페닐아민과 같은 트리페닐아민 유도체; 1,4,5,8,9,12-헥사아자트리페닐렌헥사카르보니트릴, 2,3,5,6-테트라플루오로-7,7,8,8-테트라시아노-퀴노디메탄과 같은 시아노 화합물; 산화바나듐, 산화몰리브덴과 같은 금속 산화물; 어모퍼스 카본; 폴리아닐린(에메랄딘), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리(스티렌설폰산)(PEDOT-PSS), 폴리피롤과 같은 고분자 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 정공 주입 재료로서는, 고분자인 것이 바람직하고, PEDOT-PSS인 것이 보다 바람직하다. 또, 상술한 정공 주입 재료는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The constituent material (hole injection material) of the hole injection layer 3 is not particularly limited, and examples thereof include phthalocyanine compounds such as copper phthalocyanine; triphenylamine derivatives such as 4,4',4''-tris[phenyl(m-tolyl)amino]triphenylamine; such as 1,4,5,8,9,12-hexaazatriphenylenehexacarbonitrile, 2,3,5,6-tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyano-quinodimethane cyano compounds; metal oxides such as vanadium oxide and molybdenum oxide; amorphous carbon; and polymers such as polyaniline (emeraldine), poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-poly(styrenesulfonic acid) (PEDOT-PSS), and polypyrrole. Among these, the hole injection material is preferably a polymer, and more preferably PEDOT-PSS. In addition, the hole injection materials described above may be used alone or in combination of two or more.

정공 주입층(3)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 0.1~500mm의 범위인 것이 바람직하고, 1~300nm의 범위인 것이 보다 바람직하며, 2~200nm의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 정공 주입층(3)은, 단층 구성이어도 되고, 2층 이상이 적층된 적층 구성이어도 된다.The thickness of the hole injection layer 3 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 500 mm, more preferably in the range of 1 to 300 nm, and still more preferably in the range of 2 to 200 nm. The hole injection layer 3 may have a single-layer structure or a laminated structure in which two or more layers are stacked.

이와 같은 정공 주입층(4)은, 습식 성막법 또는 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다. 정공 주입층(3)을 습식 성막법으로 형성하는 경우에는, 통상, 상술한 정공 주입 재료를 함유하는 잉크를 각종 도포법에 의하여 도포하고, 얻어진 도막을 건조시킨다. 도포법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법(액적 토출법), 스핀 코트법, 캐스트법, LB법, 볼록판 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법, 노즐 프린트 인쇄법 등을 들 수 있다. 한편, 정공 주입층(3)을 건식 성막법으로 형성하는 경우에는, 진공 증착법, 스퍼터링법 등을 적합하게 이용할 수 있다.Such a hole injection layer 4 can be formed by a wet film forming method or a dry film forming method. In the case where the hole injection layer 3 is formed by a wet film forming method, usually, ink containing the hole injection material described above is applied by various coating methods, and the obtained coating film is dried. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include inkjet printing (droplet dispensing method), spin coating method, cast method, LB method, relief printing method, gravure printing method, screen printing method, nozzle print printing method, and the like. can be heard On the other hand, in the case of forming the hole injection layer 3 by a dry film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like can be suitably used.

[정공 수송층(4)][Hole Transport Layer (4)]

정공 수송층(4)은, 정공 주입층(3)으로부터 정공을 수취하여, 발광층(6)까지 효율적으로 수송하는 기능을 갖는다. 또, 정공 수송층(4)은, 전자의 수송을 방지하는 기능을 갖고 있어도 된다. 또한, 정공 수송층(4)은, 필요에 따라 설치하도록 하면 되고, 생략할 수도 있다.The hole transport layer 4 has a function of receiving holes from the hole injection layer 3 and transporting them efficiently to the light emitting layer 6 . In addition, the hole transport layer 4 may have a function of preventing electron transport. In addition, the hole transport layer 4 may be provided as needed and may be omitted.

정공 수송층(4)의 구성 재료(정공 수송 재료)로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, TPD(N,N'-디페닐-N,N'-디(3-메틸페닐)-1,1'-비페닐-4,4' 디아민), α-NPD(4,4'-비스[N-(1-나프틸)-N-페닐아미노]비페닐), m-MTDATA(4,4',4''-트리스(3-메틸페닐페닐아미노)트리페닐아민)와 같은 저분자 트리페닐아민 유도체; 폴리비닐카르바졸; 폴리[N,N'-비스(4-부틸페닐)-N,N'-비스(페닐)-벤지딘](poly-TPA), 폴리플루오렌(PF), 폴리[N,N'-비스(4-부틸페닐)-N,N'-비스(페닐)-벤지딘(Poly-TPD), 폴리[(9,9-디옥틸플루오레닐-2,7-디일)-코-(4,4'-(N-(sec-부틸페닐)디페닐아민))(TFB), 폴리페닐렌비닐렌(PPV)과 같은 공액계 화합물 중합체; 및 이들의 모노머 단위를 포함하는 공중합체 등을 들 수 있다.The constituent material (hole transport material) of the hole transport layer 4 is not particularly limited, but is, for example, TPD(N,N'-diphenyl-N,N'-di(3-methylphenyl)-1,1' -Biphenyl-4,4' diamine), α-NPD (4,4'-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]biphenyl), m-MTDATA (4,4',4 low molecular weight triphenylamine derivatives such as ''-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine); polyvinylcarbazole; Poly[N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine] (poly-TPA), polyfluorene (PF), poly[N,N'-bis(4 -Butylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine (Poly-TPD), poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (4,4'- conjugated compound polymers such as (N-(sec-butylphenyl)diphenylamine))(TFB) and polyphenylenevinylene (PPV); and copolymers containing these monomer units.

이들 중에서도, 정공 수송 재료로서는, 트리페닐아민 유도체, 치환기가 도입된 트리페닐아민 유도체를 중합함으로써 얻어진 고분자 화합물인 것이 바람직하고, 치환기가 도입된 트리페닐아민 유도체를 중합함으로써 얻어진 고분자 화합물인 것이 보다 바람직하다. 또, 상술한 정공 수송 재료는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Among these, the hole transport material is preferably a triphenylamine derivative or a polymer compound obtained by polymerizing a triphenylamine derivative introduced with a substituent, and more preferably a polymer compound obtained by polymerizing a triphenylamine derivative introduced with a substituent. do. In addition, the hole transport materials described above may be used alone or in combination of two or more.

정공 수송층(4)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 1~500nm의 범위인 것이 바람직하고, 5~300nm의 범위인 것이 보다 바람직하며, 10~200nm의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 정공 수송층(4)은, 단층 구성이어도 되고, 2층 이상이 적층된 적층 구성이어도 된다.The thickness of the hole transport layer 4 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 500 nm, more preferably in the range of 5 to 300 nm, and still more preferably in the range of 10 to 200 nm. The hole transport layer 4 may have a single-layer structure or a laminated structure in which two or more layers are laminated.

이와 같은 정공 수송층(4)은, 습식 성막법 또는 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다. 정공 수송층(4)을 습식 성막법으로 형성하는 경우에는, 통상, 상술한 정공 수송 재료를 함유하는 잉크를 각종 도포법에 의하여 도포하고, 얻어진 도막을 건조시킨다. 도포법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법(액적 토출법), 스핀 코트법, 캐스트법, LB법, 볼록판 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법, 노즐 프린트 인쇄법 등을 들 수 있다. 한편, 정공 수송층(4)을 건식 성막법으로 형성하는 경우에는, 진공 증착법, 스퍼터링법 등을 적합하게 이용할 수 있다.Such a hole transport layer 4 can be formed by a wet film forming method or a dry film forming method. In the case where the hole transport layer 4 is formed by a wet film forming method, usually ink containing the hole transport material described above is applied by various coating methods, and the obtained coating film is dried. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include inkjet printing (droplet dispensing method), spin coating method, cast method, LB method, relief printing method, gravure printing method, screen printing method, nozzle print printing method, and the like. can be heard On the other hand, when the hole transport layer 4 is formed by a dry film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like can be suitably used.

[전자 주입층(7)][Electron Injection Layer 7]

전자 주입층(7)은, 음극(8)으로부터 공급된 전자를 수취하여, 전자 수송층(6)에 주입하는 기능을 갖는다. 또한, 전자 주입층(7)은, 필요에 따라 설치하도록 하면 되고, 생략할 수도 있다.The electron injection layer 7 has a function of receiving electrons supplied from the cathode 8 and injecting them into the electron transport layer 6 . In addition, the electron injection layer 7 may be provided as needed, and may be omitted.

전자 주입층(7)의 구성 재료(전자 주입 재료)로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, Li2O, LiO, Na2S, Na2Se, NaO와 같은 알칼리 금속 칼코게나이드; CaO, BaO, SrO, BeO, BaS, MgO, CaSe와 같은 알칼리 토류 금속 칼코게나이드; CsF, LiF, NaF, KF, LiCl, KCl, NaCl과 같은 알칼리 금속 할라이드; 8-하이드록시퀴놀리놀라토리튬(Liq)과 같은 알칼리 금속염; CaF2, BaF2, SrF2, MgF2, BeF2와 같은 알칼리 토류 금속 할라이드 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 알칼리 금속 칼코게나이드, 알칼리 토류 금속 할라이드, 알칼리 금속염인 것이 바람직하다. 또, 상술한 전자 주입 재료는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The constituent material (electron injection material) of the electron injection layer 7 is not particularly limited, and examples thereof include alkali metal chalcogenides such as Li 2 O, LiO, Na 2 S, Na 2 Se, and NaO; alkaline earth metal chalcogenides such as CaO, BaO, SrO, BeO, BaS, MgO, CaSe; alkali metal halides such as CsF, LiF, NaF, KF, LiCl, KCl, NaCl; alkali metal salts such as 8-hydroxyquinolinolatolithium (Liq); and alkaline earth metal halides such as CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , MgF 2 , and BeF 2 . Among these, alkali metal chalcogenides, alkaline earth metal halides, and alkali metal salts are preferable. In addition, the electron injecting materials described above may be used alone or in combination of two or more.

전자 주입층(7)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 0.1~100nm의 범위인 것이 바람직하고, 0.2~50nm의 범위인 것이 보다 바람직하며, 0.5~10nm의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 전자 주입층(7)은, 단층 구성이어도 되고, 2층 이상이 적층된 적층 구성이어도 된다.The thickness of the electron injection layer 7 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 100 nm, more preferably in the range of 0.2 to 50 nm, and still more preferably in the range of 0.5 to 10 nm. The electron injection layer 7 may have a single-layer structure or a laminated structure in which two or more layers are stacked.

이와 같은 전자 주입층(7)은, 습식 성막법 또는 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다. 전자 주입층(7)을 습식 성막법으로 형성하는 경우에는, 통상, 상술한 전자 주입 재료를 함유하는 잉크를 각종 도포법에 의하여 도포하고, 얻어진 도막을 건조시킨다. 도포법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법(액적 토출법), 스핀 코트법, 캐스트법, LB법, 볼록판 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법, 노즐 프린트 인쇄법 등을 들 수 있다. 한편, 전자 주입층(7)을 건식 성막법으로 형성하는 경우에는, 진공 증착법, 스퍼터링법 등이 적용될 수 있다.Such an electron injection layer 7 can be formed by a wet film forming method or a dry film forming method. In the case where the electron injection layer 7 is formed by a wet film forming method, usually ink containing the electron injection material described above is applied by various coating methods, and the obtained coating film is dried. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include inkjet printing (droplet dispensing method), spin coating method, cast method, LB method, relief printing method, gravure printing method, screen printing method, nozzle print printing method, and the like. can be heard On the other hand, in the case of forming the electron injection layer 7 by a dry film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like may be applied.

[전자 수송층(8)][Electron Transport Layer (8)]

전자 수송층(8)은, 전자 주입층(7)으로부터 전자를 수취하여, 발광층(5)까지 효율적으로 수송하는 기능을 갖는다. 또, 전자 수송층(8)은, 정공의 수송을 방지하는 기능을 갖고 있어도 된다. 또한, 전자 수송층(8)은, 필요에 따라 설치하도록 하면 되고, 생략할 수도 있다.The electron transport layer 8 has a function of receiving electrons from the electron injection layer 7 and efficiently transporting them to the light emitting layer 5 . Also, the electron transport layer 8 may have a function of preventing transport of holes. In addition, the electron transport layer 8 may be provided as needed, and may be omitted.

전자 수송층(8)의 구성 재료(전자 수송 재료)로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 트리스(8-퀴놀리라토)알루미늄(Alq3), 트리스(4-메틸-8-퀴놀리놀라토)알루미늄(Almq3), 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨(BeBq2), 비스(2-메틸-8-퀴놀리놀라토)(p-페닐페놀라토)알루미늄(BAlq), 비스(8-퀴놀리놀라토) 아연(Znq)과 같은 퀴놀린 골격 또는 벤조퀴놀린 골격을 갖는 금속 착체; 비스[2-(2'-하이드록시페닐)벤즈옥사졸라토] 아연(Zn(BOX)2)과 같은 벤즈옥사졸린 골격을 갖는 금속 착체; 비스[2-(2'-하이드록시페닐)벤조티아졸라토] 아연(Zn(BTZ)2)과 같은 벤조티아졸린 골격을 갖는 금속 착체; 2-(4-비페닐릴)-5-(4-tert-부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸(PBD), 3-(4-비페닐릴)-4-페닐-5-(4-tert-부틸페닐)-1,2,4-트리아졸(TAZ), 1,3-비스[5-(p-tert-부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸-2-일]벤젠(OXD-7), 9-[4-(5-페닐-1,3,4-옥사디아졸-2-일)페닐]카르바졸(CO11)과 같은 트리 또는 디아졸 유도체; 2,2',2''-(1,3,5-벤젠트리일)트리스(1-페닐-1H-벤조이미다졸)(TPBI), 2-[3-(디벤조티오펜-4-일)페닐]-1-페닐-1H-벤조이미다졸(mDBTBIm-II)과 같은 이미다졸 유도체; 퀴놀린 유도체; 페릴렌 유도체; 4,7-디페닐-1,10-페난트롤린(BPhen)과 같은 피리딘 유도체; 피리미딘 유도체; 트리아진 유도체; 퀴녹살린 유도체; 디페닐퀴논 유도체; 니트로 치환 플루오렌 유도체; 산화아연(ZnO), 산화티탄(TiO2)과 같은 금속 산화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 전자 수송 재료로서는, 이미다졸 유도체, 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 트리아진 유도체, 금속 산화물(무기 산화물)인 것이 바람직하다. 또, 상술한 전자 수송 재료는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The constituent material (electron transport material) of the electron transport layer 8 is not particularly limited, and examples thereof include tris(8-quinolinato) aluminum (Alq3) and tris(4-methyl-8-quinolinolato). Aluminum (Almq3), bis(10-hydroxybenzo[h]quinolinato)beryllium (BeBq2), bis(2-methyl-8-quinolinolato)(p-phenylphenolato)aluminum (BAlq), bis metal complexes having a quinoline skeleton or a benzoquinoline skeleton such as (8-quinolinolato) zinc (Znq); metal complexes having a benzoxazoline skeleton such as bis[2-(2'-hydroxyphenyl)benzoxazolato] zinc (Zn(BOX)2); metal complexes having a benzothiazoline skeleton such as bis[2-(2'-hydroxyphenyl)benzothiazolato] zinc (Zn(BTZ)2); 2-(4-biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole (PBD), 3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazole (TAZ), 1,3-bis[5-(p-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole-2- tris or diazole derivatives such as yl]benzene (OXD-7), 9-[4-(5-phenyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl)phenyl]carbazole (CO11); 2,2',2''-(1,3,5-benzenetriyl)tris(1-phenyl-1H-benzoimidazole)(TPBI), 2-[3-(dibenzothiophen-4-yl ) Imidazole derivatives such as phenyl] -1-phenyl-1H-benzoimidazole (mDBTBIm-II); quinoline derivatives; perylene derivatives; pyridine derivatives such as 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); pyrimidine derivatives; triazine derivatives; quinoxaline derivatives; diphenylquinone derivatives; nitro-substituted fluorene derivatives; and metal oxides such as zinc oxide (ZnO) and titanium oxide (TiO 2 ). Among these, as an electron transport material, it is preferable that they are an imidazole derivative, a pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a triazine derivative, and a metal oxide (inorganic oxide). Moreover, the above-mentioned electron transport material may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

전자 수송층(7)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 5~500nm의 범위인 것이 바람직하고, 5~200nm의 범위인 것이 보다 바람직하다. 전자 수송층(6)은, 단층이어도 되고, 2 이상이 적층된 것이어도 된다.The thickness of the electron transport layer 7 is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 500 nm, and more preferably in the range of 5 to 200 nm. The electron transport layer 6 may be a single layer or a laminate of two or more layers.

이와 같은 전자 수송층(7)은, 습식 성막법 또는 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다. 전자 수송층(6)을 습식 성막법으로 형성하는 경우에는, 통상, 상술한 전자 수송 재료를 함유하는 잉크를 각종 도포법에 의하여 도포하고, 얻어진 도막을 건조시킨다. 도포법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법(액적 토출법), 스핀 코트법, 캐스트법, LB법, 볼록판 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법, 노즐 프린트 인쇄법 등을 들 수 있다. 한편, 전자 수송층(6)을 건식 성막법으로 형성하는 경우에는, 진공 증착법, 스퍼터링법 등이 적용될 수 있다.Such an electron transport layer 7 can be formed by a wet film forming method or a dry film forming method. In the case of forming the electron transport layer 6 by a wet film forming method, usually, ink containing the electron transport material described above is applied by various coating methods, and the obtained coating film is dried. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include inkjet printing (droplet dispensing method), spin coating method, cast method, LB method, relief printing method, gravure printing method, screen printing method, nozzle print printing method, and the like. can be heard On the other hand, in the case of forming the electron transport layer 6 by a dry film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like may be applied.

[발광층(5)][Light emitting layer (5)]

발광층(5)은, 발광층(5)에 주입된 정공 및 전자의 재결합에 의하여 발생하는 에너지를 이용하여 발광을 발생시키는 기능을 갖는다. 본 실시 형태의 발광층(5)은, 400~500nm의 범위의 파장의 청색광을 발하고, 보다 바람직하게는 420~480nm의 범위이다.The light emitting layer 5 has a function of generating light emission using energy generated by recombination of holes and electrons injected into the light emitting layer 5 . The light emitting layer 5 of this embodiment emits blue light with a wavelength in the range of 400 to 500 nm, more preferably in the range of 420 to 480 nm.

발광층(5)은, 발광 재료(게스트 재료 또는 도펀트 재료) 및 호스트 재료를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 호스트 재료와 발광 재료의 질량비는, 특별히 제한되지 않지만, 10:1~300:1의 범위인 것이 바람직하다. 발광 재료에는, 일중항 여기 에너지를 광으로 변환 가능한 화합물 또는 삼중항 여기 에너지를 광으로 변환 가능한 화합물을 사용할 수 있다. 또, 발광 재료로서는, 유기 저분자 형광 재료, 유기 고분자 형광 재료 및 유기 인광 재료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.The light-emitting layer 5 preferably contains a light-emitting material (guest material or dopant material) and a host material. In this case, the mass ratio of the host material and the light emitting material is not particularly limited, but is preferably in the range of 10:1 to 300:1. For the light emitting material, a compound capable of converting singlet excitation energy into light or a compound capable of converting triplet excitation energy into light can be used. Further, the luminescent material preferably includes at least one selected from the group consisting of organic low-molecular-weight fluorescent materials, organic high-molecular fluorescent materials, and organic phosphorescent materials.

일중항 여기 에너지를 광으로 변환 가능한 화합물로서는, 형광을 발하는 유기 저분자 형광 재료 또는 유기 고분자 형광 재료를 들 수 있다.Examples of the compound capable of converting singlet excitation energy into light include organic low-molecular fluorescent materials and organic high-molecular fluorescent materials that emit fluorescence.

유기 저분자 형광 재료로서는, 안트라센 구조, 테트라센 구조, 크리센 구조, 페난트렌 구조, 피렌 구조, 페릴렌 구조, 스틸벤 구조, 아크리돈 구조, 쿠마린 구조, 페녹사진 구조 또는 페노티아진 구조를 갖는 화합물이 바람직하다.The organic low-molecular-weight fluorescent material has an anthracene structure, a tetracene structure, a chrysene structure, a phenanthrene structure, a pyrene structure, a perylene structure, a stilbene structure, an acridone structure, a coumarin structure, a phenoxazine structure, or a phenothiazine structure. compounds are preferred.

유기 저분자 형광 재료의 구체예로서는, 예를 들면, 5,6-비스[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-2,2'-비피리딘, 5,6-비스[4'-(10-페닐-9-안트릴)비페닐-4-일]-2,2'-비피리딘, N,N'-비스[4-(9H-카르바졸-9-일)페닐]-N,N'-디페닐스틸벤-4,4'-디아민, 4-(9H-카르바졸-9-일)-4'-(10-페닐-9-안트릴)트리페닐아민, 4-(9H-카르바졸-9-일)-4'-(9,10-디페닐-2-안트릴)트리페닐아민, N,9-디페닐-N-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-9H-카르바졸-3-아민, 4-(10-페닐-9-안트릴)-4'-(9-페닐-9H-카르바졸-3-일)트리페닐아민, 4-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-4'-(9-페닐-9H-카르바졸-3-일)트리페닐아민, 페릴렌, 2,5,8,11-테트라(tert-부틸)페릴렌, N,N'-디페닐-N,N'-비스[4-(9-페닐-9H-플루오렌-9-일)페닐]피렌-1,6-디아민, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-비스[3-(9-페닐-9H-플루오렌-9-일)페닐]-피렌-1,6-디아민, N,N'-비스(디벤조푸란-2-일)-N,N'-디페닐피렌-1,6-디아민, N,N'-비스(디벤조티오펜-2-일)-N,N'-디페닐피렌-1,6-디아민, N,N''-(2-tert-부틸안트라센-9,10-디일디-4,1-페닐렌)비스[N,N',N'-트리페닐-1,4-페닐렌디아민], N,9-디페닐-N-[4-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-9H-카르바졸-3-아민, N-[4-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-N,N',N'-트리페닐-1,4-페닐렌디아민, N,N,N',N',N'',N'',N''',N'''-옥타페닐디벤조[g,p]크리센-2,7,10,15-테트라아민, 쿠마린 30, N-(9,10-디페닐-2-안트릴)-N,9-디페닐-9H-카르바졸-3-아민, N-(9,10-디페닐-2-안트릴)-N,N',N'-트리페닐-1,4-페닐렌디아민, N,N,9-트리페닐안트라센-9-아민, 쿠마린 6, 쿠마린 545T, N,N'-디페닐퀴나크리돈, 루브렌, 5,12-비스(1,1'-비페닐-4-일)-6,11-디페닐테트라센, 2-(2-{2-[4-(디메틸아미노)페닐]에테닐}-6-메틸-4H-피란-4-일리덴)프로판디니트릴, 2-{2-메틸-6-[2-(2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H-벤조[ij]퀴놀리진-9-일)에테닐]-4H-피란-4-일리덴}프로판디니트릴, N,N,N',N'-테트라키스(4-메틸페닐)테트라센-5,11-디아민, 7,14-디페닐-N,N,N',N'-테트라키스(4-메틸페닐)아세나프토[1,2-a]플루오란텐-3,10-디아민, 2-{2-이소프로필-6-[2-(1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H-벤조[ij]퀴놀리진-9-일)에테닐]-4H-피란-4-일리덴}프로판디니트릴, 2-{2-tert-부틸-6-[2-(1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H-벤조[ij]퀴놀리진-9-일)에테닐]-4H-피란-4-일리덴}프로판디니트릴, 2-(2,6-비스{2-[4-(디메틸아미노)페닐]에테닐}-4H-피란-4-일리덴)프로판디니트릴, 2-{2,6-비스[2-(8-메톡시-1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H-벤조[ij]퀴놀리진-9-일)에테닐]-4H-피란-4-일리덴}프로판디니트릴, 5,10,15,20-테트라페닐비스벤조[5,6]인데노[1,2,3-cd:1',2',3'-lm]페릴렌 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic low-molecular-weight fluorescent material include, for example, 5,6-bis[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-2,2'-bipyridine, 5,6-bis[4'- (10-phenyl-9-anthryl)biphenyl-4-yl]-2,2'-bipyridine, N,N'-bis[4-(9H-carbazol-9-yl)phenyl]-N, N'-diphenylstilbene-4,4'-diamine, 4-(9H-carbazol-9-yl)-4'-(10-phenyl-9-anthryl)triphenylamine, 4-(9H- Carbazol-9-yl)-4'-(9,10-diphenyl-2-anthryl)triphenylamine, N,9-diphenyl-N-[4-(10-phenyl-9-anthryl) Phenyl]-9H-carbazol-3-amine, 4-(10-phenyl-9-anthryl)-4'-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)triphenylamine, 4-[4 -(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-4'-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)triphenylamine, perylene, 2,5,8,11-tetra (tert- Butyl) perylene, N, N'-diphenyl-N, N'-bis[4-(9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)phenyl]pyrene-1,6-diamine, N,N' -bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis[3-(9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)phenyl]-pyrene-1,6-diamine, N,N'-bis(diamine) Benzofuran-2-yl)-N,N'-diphenylpyrene-1,6-diamine, N,N'-bis(dibenzothiophen-2-yl)-N,N'-diphenylpyrene-1 ,6-diamine, N,N''-(2-tert-butylanthracene-9,10-diyldi-4,1-phenylene)bis[N,N',N'-triphenyl-1,4- phenylenediamine], N,9-diphenyl-N-[4-(9,10-diphenyl-2-anthryl)phenyl]-9H-carbazol-3-amine, N-[4-(9, 10-diphenyl-2-anthryl)phenyl]-N,N',N'-triphenyl-1,4-phenylenediamine, N,N,N',N',N'',N'', N''',N'''-octaphenyldibenzo[g,p]chrysene-2,7,10,15-tetraamine, coumarin 30, N-(9,10-diphenyl-2-anthryl )-N,9-diphenyl-9H-carbazol-3-amine, N-(9,10-diphenyl-2-anthryl)-N,N',N'-triphenyl-1,4-phenyl Rendiamine, N,N,9-triphenylanthracen-9-amine, Coumarin 6, Coumarin 545T, N,N'-Diphenylquinacridone, Rubrene, 5,12-bis(1,1'-biphenyl) -4-yl)-6,11-diphenyltetracene, 2-(2-{2-[4-(dimethylamino)phenyl]ethenyl}-6-methyl-4H-pyran-4-ylidene)propane Dinitrile, 2-{2-methyl-6-[2-(2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H-benzo[ij]quinolizin-9-yl)ethenyl]-4H-pyran -4-ylidene} propanedinitrile, N,N,N',N'-tetrakis(4-methylphenyl)tetracene-5,11-diamine, 7,14-diphenyl-N,N,N', N'-tetrakis(4-methylphenyl)acenaphtho[1,2-a]fluoranthene-3,10-diamine, 2-{2-isopropyl-6-[2-(1,1,7, 7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H-benzo[ij]quinolizin-9-yl)ethenyl]-4H-pyran-4-ylidene}propanedinitrile, 2 -{2-tert-butyl-6-[2-(1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H-benzo[ij]quinolizine-9- yl)ethenyl]-4H-pyran-4-ylidene}propanedinitrile, 2-(2,6-bis{2-[4-(dimethylamino)phenyl]ethenyl}-4H-pyran-4-ylly Den) Propanedinitrile, 2-{2,6-bis[2-(8-methoxy-1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H-benzo [ij] quinolizin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran-4-ylidene} propanedinitrile, 5,10,15,20-tetraphenylbisbenzo[5,6]indeno[1, 2,3-cd:1',2',3'-lm] perylene; and the like.

유기 고분자 형광 재료의 구체예로서는, 예를 들면, 플루오렌 유도체에 의거하는 단위로 이루어지는 호모폴리머, 플루오렌 유도체에 의거하는 단위와 테트라 페닐페닐렌디아민 유도체에 의거하는 단위로 이루어지는 코폴리머, 테르페닐 유도체에 의거하는 단위로 이루어지는 호모폴리머, 디페닐벤조플루오렌 유도체에 의거하는 단위로 이루어지는 호모폴리머 등을 들 수 있다.Specific examples of organic polymer fluorescent materials include, for example, homopolymers composed of units based on fluorene derivatives, copolymers composed of units based on fluorene derivatives and units based on tetraphenylphenylenediamine derivatives, and terphenyl derivatives. and homopolymers composed of units based on diphenylbenzofluorene derivatives, and the like.

삼중항 여기 에너지를 광으로 변환 가능한 화합물로서는, 인광을 발하는 유기 인광 재료가 바람직하다. 유기 인광 재료의 구체예로서는, 예를 들면, 이리듐, 로듐, 백금, 루테늄, 오스뮴, 스칸듐, 이트륨, 가돌리늄, 팔라듐, 은, 금, 알루미늄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 원자를 포함하는 금속 착체를 들 수 있다. 그 중에서도, 유기 인광 재료로서는, 이리듐, 로듐, 백금, 루테늄, 오스뮴, 스칸듐, 이트륨, 가돌리늄 및 팔라듐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 원자를 포함하는 금속 착체가 바람직하고, 이리듐, 로듐, 백금 및 루테늄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 원자를 포함하는 금속 착체가 보다 바람직하며, 이리듐 착체 또는 백금 착체가 더욱 바람직하다.As the compound capable of converting triplet excitation energy into light, an organic phosphorescent material that emits phosphorescence is preferable. Specific examples of the organic phosphorescent material include, for example, iridium, rhodium, platinum, ruthenium, osmium, scandium, yttrium, gadolinium, palladium, silver, gold, a metal containing at least one metal atom selected from the group consisting of aluminum Complexes are exemplified. Among them, as the organic phosphorescent material, a metal complex containing at least one metal atom selected from the group consisting of iridium, rhodium, platinum, ruthenium, osmium, scandium, yttrium, gadolinium, and palladium is preferable, and iridium, rhodium, A metal complex containing at least one metal atom selected from the group consisting of platinum and ruthenium is more preferable, and an iridium complex or a platinum complex is still more preferable.

호스트 재료로서는, 발광 재료의 에너지 갭보다 큰 에너지 갭을 갖는 화합물의 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 발광 재료가 인광 재료인 경우, 호스트 재료로서는, 발광 재료의 삼중항 여기 에너지(기저 상태와 삼중항 여기 상태의 에너지차)보다 삼중항 여기 에너지가 큰 화합물을 선택하는 것이 바람직하다.As the host material, it is preferable to use at least one compound having an energy gap larger than that of the light emitting material. In addition, when the light emitting material is a phosphorescent material, it is preferable to select a compound having a higher triplet excitation energy than the triplet excitation energy (energy difference between the ground state and the triplet excited state) of the light emitting material as the host material.

호스트 재료로서는, 예를 들면, 트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄(III), 트리스(4-메틸-8-퀴놀리놀라토)알루미늄(III), 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨(II), 비스(2-메틸-8-퀴놀리놀라토)(4-페닐페놀라토)알루미늄(III), 비스(8-퀴놀리놀라토) 아연(II), 비스[2-(2-벤조옥사졸릴)페놀라토] 아연(II), 비스[2-(2-벤조티아졸릴)페놀라토] 아연(II), 2-(4-비페닐릴)-5-(4-tert-부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸, 1,3-비스[5-(p-tert-부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸-2-일]벤젠, 3-(4-비페닐릴)-4-페닐-5-(4-tert-부틸페닐)-1,2,4-트리아졸, 2,2',2''-(1,3,5-벤젠트리일)트리스(1-페닐-1H-벤조이미다졸), 바소페난트롤린, 바소큐프로인, 9-[4-(5-페닐-1,3,4-옥사디아졸-2-일)페닐]-9H-카르바졸, 9,10-디페닐안트라센, N,N-디페닐-9-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-9H-카르바졸-3-아민, 4-(10-페닐-9-안트릴)트리페닐아민, N,9-디페닐-N-{4-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]페닐}-9H-카르바졸-3-아민, 6,12-디메톡시-5,11-디페닐크리센, 9-[4-(10-페닐-9-안트라세닐)페닐]-9H-카르바졸, 3, 6-디페닐-9-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-9H-카르바졸, 9-페닐-3-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-9H-카르바졸, 7-[4-(10-페닐-9-안트릴)페닐]-7H-디벤조[c,g]카르바졸, 6-[3-(9,10-디페닐-2-안트릴)페닐]-벤조[b]나프토[1,2-d]푸란, 9-페닐-10-{4-(9-페닐-9H-플루오렌-9-일)비페닐-4'-일}안트라센, 9,10-비스(3,5-디페닐페닐)안트라센, 9,10-디(2-나프틸)안트라센, 2-tert-부틸-9,10-디(2-나프틸)안트라센, 9,9'-비안트릴, 9,9'-(스틸벤-3,3'-디일)디페난트렌, 9,9'-(스틸벤-4,4'-디일)디페난트렌, 1,3,5-트리(1-피렌일)벤젠, 5,12-디페닐테트라센 또는 5,12-비스(비페닐-2-일)테트라센 등을 들 수 있다. 이들 호스트 재료는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.As the host material, for example, tris(8-quinolinolato) aluminum (III), tris(4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis(10-hydroxybenzo[h] quinolinato) beryllium(II), bis(2-methyl-8-quinolinolato)(4-phenylphenolato)aluminum(III), bis(8-quinolinolato) zinc(II), bis[ 2-(2-benzoxazolyl)phenolato] zinc(II), bis[2-(2-benzothiazolyl)phenolato] zinc(II), 2-(4-biphenylyl)-5-(4 -tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole, 1,3-bis[5-(p-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol-2-yl]benzene, 3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazole, 2,2',2''-(1,3,5- Benzenetriyl) tris (1-phenyl-1H-benzoimidazole), vasophenanthroline, vasocuproin, 9-[4-(5-phenyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl )phenyl] -9H-carbazole, 9,10-diphenylanthracene, N,N-diphenyl-9-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol-3-amine , 4-(10-phenyl-9-anthryl)triphenylamine, N,9-diphenyl-N-{4-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]phenyl}-9H-car Bazol-3-amine, 6,12-dimethoxy-5,11-diphenylchrysene, 9-[4-(10-phenyl-9-anthracenyl)phenyl]-9H-carbazole, 3,6-di Phenyl-9-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazole, 9-phenyl-3-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazole Bazole, 7-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-7H-dibenzo[c,g]carbazole, 6-[3-(9,10-diphenyl-2-anthryl) Phenyl]-benzo[b]naphtho[1,2-d]furan, 9-phenyl-10-{4-(9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)biphenyl-4'-yl}anthracene , 9,10-bis (3,5-diphenylphenyl) anthracene, 9,10-di (2-naphthyl) anthracene, 2-tert-butyl-9,10-di (2-naphthyl) anthracene, 9 ,9'-bianthril, 9,9'-(stilbene-3,3'-diyl)diphenanthrene, 9,9'-(stilbene-4,4'-diyl)diphenanthrene, 1,3 ,5-tri(1-pyrenyl)benzene, 5,12-diphenyltetracene, or 5,12-bis(biphenyl-2-yl)tetracene; and the like. These host materials may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

발광층(5)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 1~100nm의 범위인 것이 바람직하고, 1~50nm의 범위인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the light emitting layer 5 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 100 nm, and more preferably in the range of 1 to 50 nm.

이와 같은 발광층(5)은, 습식 성막법 또는 건식 성막법에 의하여 형성할 수 있다. 발광층(5)을 습식 성막법으로 형성하는 경우에는, 통상, 상술한 발광 재료 및 호스트 재료를 함유하는 잉크를 각종 도포법에 의하여 도포하고, 얻어진 도막을 건조시킨다. 도포법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법(액적 토출법), 스핀 코트법, 캐스트법, LB법, 볼록판 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법, 노즐 프린트 인쇄법 등을 들 수 있다. 한편, 발광층(5)을 건식 성막법으로 형성하는 경우에는, 진공 증착법, 스퍼터링법 등이 적용될 수 있다.Such a light emitting layer 5 can be formed by a wet film forming method or a dry film forming method. In the case where the light emitting layer 5 is formed by a wet film forming method, usually, an ink containing the light emitting material and the host material described above is applied by various coating methods, and the obtained coating film is dried. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include inkjet printing (droplet dispensing method), spin coating method, cast method, LB method, relief printing method, gravure printing method, screen printing method, nozzle print printing method, and the like. can be heard On the other hand, in the case of forming the light emitting layer 5 by a dry film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like may be applied.

또한, EL 광원부(200)는, 또한, 예를 들면, 정공 주입층(3), 정공 수송층(4) 및 발광층(5)을 구획하는 뱅크(격벽)를 갖고 있어도 된다. 뱅크의 높이는, 특별히 한정되지 않지만, 0.1~5μm의 범위인 것이 바람직하고, 0.2~4μm의 범위인 것이 보다 바람직하며, 0.2~3μm의 범위인 것이 더욱 바람직하다.Further, the EL light source unit 200 may also have banks (partition walls) partitioning the hole injection layer 3, the hole transport layer 4, and the light emitting layer 5, for example. The height of the banks is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 5 μm, more preferably in the range of 0.2 to 4 μm, still more preferably in the range of 0.2 to 3 μm.

뱅크의 개구의 폭은, 10~200μm의 범위인 것이 바람직하고, 30~200μm의 범위인 것이 보다 바람직하며, 50~100μm의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 뱅크의 개구의 길이는, 10~400μm의 범위인 것이 바람직하고, 20~200μm의 범위인 것이 보다 바람직하며, 50~200μm의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 또, 뱅크의 경사 각도는, 10~100°의 범위인 것이 바람직하고, 10~90°의 범위인 것이 보다 바람직하며, 10~80°의 범위인 것이 더욱 바람직하다.The width of the opening of the bank is preferably in the range of 10 to 200 μm, more preferably in the range of 30 to 200 μm, and still more preferably in the range of 50 to 100 μm. The length of the opening of the bank is preferably in the range of 10 to 400 μm, more preferably in the range of 20 to 200 μm, and still more preferably in the range of 50 to 200 μm. Further, the inclination angle of the bank is preferably in the range of 10 to 100°, more preferably in the range of 10 to 90°, and still more preferably in the range of 10 to 80°.

<광변환층(12)><Light conversion layer 12>

광변환층(12)은, EL 광원부(200)로부터 발해진 광을 변환하여 재발광하거나, 혹은, EL 광원부(200)로부터 발해진 광을 투과한다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 화소부(20)로서, 상기 범위의 파장의 광을 변환하여 적색광을 발하는 제1 화소부(20a)와, 상기 범위의 파장의 광을 변환하여 녹색광을 발하는 제2 화소부(20b)와, 상기 범위의 파장의 광을 투과하는 제3 화소부(20c)를 갖고 있다. 복수의 제1 화소부(20a), 제2 화소부(20b) 및 제3 화소부(20c)가, 이 순서로 반복하도록 격자 형상으로 배열되어 있다. 그리고, 서로 이웃하는 화소부의 사이, 즉, 제1 화소부(20a)와 제2 화소부(20b)의 사이, 제2 화소부(20b)와 제3 화소부(20c)의 사이, 제3 화소부(20c)와 제1 화소부(20a)의 사이에, 광을 차폐하는 차광부(30)가 설치되어 있다. 바꾸어 말하면, 이들 서로 이웃하는 화소부들은, 차광부(30)에 의하여 이격되어 있다. 또한, 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)는, 각각의 색에 대응한 색재를 포함해도 된다.The light conversion layer 12 converts the light emitted from the EL light source unit 200 and re-emits it, or transmits the light emitted from the EL light source unit 200. As shown in FIG. 3 , the pixel unit 20 includes a first pixel unit 20a that converts light of a wavelength within the above range to emit red light, and a second pixel that converts light of a wavelength within the above range to emit green light. It has a portion 20b and a third pixel portion 20c that transmits light having a wavelength in the above range. A plurality of first pixel portions 20a, second pixel portions 20b, and third pixel portions 20c are arranged in a grid pattern so as to repeat in this order. And, between adjacent pixel units, that is, between the first pixel unit 20a and the second pixel unit 20b, between the second pixel unit 20b and the third pixel unit 20c, and between the third pixel unit 20b and the third pixel unit 20c. Between the portion 20c and the first pixel portion 20a, a light blocking portion 30 for shielding light is provided. In other words, these pixel parts adjacent to each other are spaced apart by the light blocking part 30 . In addition, the first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b may contain color materials corresponding to respective colors.

제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)는, 각각 상술한 실시 형태의 발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물을 함유한다. 경화물은, 발광 입자(90)와 경화 성분을 필수로 하여 함유하고, 또한, 광을 산란시켜 외부로 확실하게 취출하기 위하여 광확산 입자를 포함하는 것이 바람직하다. 경화 성분은, 열경화성 수지의 경화물이며, 예를 들면 에폭시기를 함유하는 수지의 중합에 의하여 얻어지는 경화물이다. 즉, 제1 화소부(20a)는, 제1 경화 성분(22a)과, 제1 경화 성분(22a) 중에 각각 분산된 제1 발광 입자(90a) 및 제1 광확산 입자(21a)를 포함한다. 마찬가지로, 제2 화소부(20b)는, 제2 경화 성분(22b)과, 제2 경화 성분(22b) 중에 각각 분산된 제2 발광 입자(90b) 및 제2 광확산 입자(21b)를 포함한다. 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)에 있어서, 제1 경화 성분(22a)과 제2 경화 성분(22b)은 동일해도 되고 상이해도 되며, 제1 광확산 입자(22a)와 제2 광확산 입자(22b)는 동일해도 되고 상이해도 된다.The first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b each contain a cured product of the light emitting particle-containing ink composition of the above-described embodiment. The cured product preferably contains light-emitting particles 90 and a curing component as essential, and also includes light-diffusing particles in order to scatter light and reliably take it out to the outside. The curing component is a cured product of a thermosetting resin, for example, a cured product obtained by polymerization of a resin containing an epoxy group. That is, the first pixel portion 20a includes a first curing component 22a, and first light-emitting particles 90a and first light-diffusing particles 21a respectively dispersed in the first curing component 22a. . Similarly, the second pixel portion 20b includes a second curing component 22b, and second light-emitting particles 90b and second light-diffusing particles 21b respectively dispersed in the second curing component 22b. . In the 1st pixel part 20a and the 2nd pixel part 20b, the 1st hardening component 22a and the 2nd hardening component 22b may be the same or different, and the 1st light-diffusion particle 22a and The second light-diffusing particles 22b may be the same or different.

제1 발광 입자(90a)는, 420~480nm의 범위의 파장의 광을 흡수하여 605~665nm의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광을 발하는, 적색 발광 입자이다. 즉, 제1 화소부(20a)는, 청색광을 적색광으로 변환하기 위한 적색 화소부라고 바꾸어 말해도 된다. 또, 제2 발광 입자(90b)는, 420~480nm의 범위의 파장의 광을 흡수하여 500~560nm의 범위에 발광 피크 파장을 갖는 광을 발하는, 녹색 발광 입자이다. 즉, 제2 화소부(20b)는, 청색광을 녹색광으로 변환하기 위한 녹색 화소부라고 바꾸어 말해도 된다.The first light-emitting particles 90a are red light-emitting particles that absorb light having a wavelength in the range of 420 to 480 nm and emit light having a peak emission wavelength in the range of 605 to 665 nm. That is, the first pixel portion 20a may be referred to as a red pixel portion for converting blue light into red light. Further, the second light-emitting particles 90b are green light-emitting particles that absorb light having a wavelength in the range of 420 to 480 nm and emit light having a peak emission wavelength in the range of 500 to 560 nm. That is, the second pixel portion 20b may be referred to as a green pixel portion for converting blue light into green light.

발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 화소부(20a, 20b)에 있어서의 발광 입자(90)의 함유량은, 외부 양자 효율의 향상 효과에 보다 우수한 관점 및 우수한 발광 강도가 얻어지는 관점에서, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0.1질량% 이상이다. 동일한 관점에서, 발광 입자(90)의 함유량은, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물의 전체 질량을 기준으로 하여, 1질량% 이상, 2질량% 이상, 3질량% 이상, 5질량% 이상인 것이 바람직하다. 발광 입자(90)의 함유량은, 화소부(20a, 20b)의 신뢰성이 우수한 관점 및 우수한 발광 강도가 얻어지는 관점에서, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 30질량% 이하이다. 동일한 관점에서, 발광성 입자(90)의 함유량은, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물의 전체 질량을 기준으로 하여, 25질량% 이하, 20질량% 이하, 15질량% 이하, 10질량% 이하인 것이 바람직하다.The content of the luminescent particles 90 in the pixel portions 20a and 20b containing the cured product of the luminescent particle-containing ink composition is, from the standpoint of a more excellent external quantum efficiency improvement effect and excellent luminous intensity obtained, the luminescence Based on the total mass of the cured product of the particle-containing ink composition, it is preferably 0.1% by mass or more. From the same viewpoint, the content of the luminescent particles 90 is preferably 1% by mass or more, 2% by mass or more, 3% by mass or more, or 5% by mass or more based on the total mass of the cured product of the ink composition containing the luminescent particles. . The content of the luminescent particles 90 is preferably 30% by mass or less based on the total mass of the ink composition containing the luminescent particles, from the viewpoint of excellent reliability of the pixel portions 20a and 20b and excellent luminous intensity. am. From the same point of view, the content of the luminescent particles 90 is preferably 25% by mass or less, 20% by mass or less, 15% by mass or less, or 10% by mass or less based on the total mass of the cured product of the ink composition containing luminescent particles. .

발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 화소부(20a, 20b)에 있어서의 광확산 입자(21a, 21b)의 함유량은, 외부 양자 효율의 향상 효과에 보다 우수한 관점에서, 잉크 조성물의 경화물의 전체 질량을 기준으로 하여, 0.1질량% 이상, 1질량% 이상, 5질량% 이상, 7질량% 이상, 10질량% 이상, 12질량% 이상인 것이 바람직하다. 광확산 입자(21a, 21b)의 함유량은, 외부 양자 효율의 향상 효과에 보다 우수한 관점 및 화소부(20)의 신뢰성이 우수한 관점에서, 잉크 조성물의 경화물의 전체 질량을 기준으로 하여, 60질량% 이하, 50질량% 이하, 40질량% 이하, 30질량% 이하, 25질량% 이하, 20질량% 이하, 15질량% 이하인 것이 바람직하다.The content of the light-diffusing particles 21a, 21b in the pixel portions 20a, 20b containing the cured product of the ink composition containing luminescent particles is, from the viewpoint of a more excellent external quantum efficiency improving effect, the cured product of the ink composition. It is preferably 0.1% by mass or more, 1% by mass or more, 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, and 12% by mass or more based on the total mass. The content of the light-diffusing particles 21a, 21b is 60% by mass based on the total mass of the cured product of the ink composition, from the viewpoint of improving the external quantum efficiency and the reliability of the pixel portion 20. Below, it is preferable that it is 50 mass % or less, 40 mass % or less, 30 mass % or less, 25 mass % or less, 20 mass % or less, and 15 mass % or less.

제3 화소부(20c)는, 420~480nm의 범위의 파장의 광에 대하여 30% 이상의 투과율을 갖는다. 그 때문에, 제3 화소부(20c)는, 420~480nm의 범위의 파장의 광을 발하는 광원을 이용하는 경우에, 청색 화소부로서 기능한다. 제3 화소부(20c)는, 예를 들면, 상술한 열경화성 수지를 함유하는 조성물의 경화물을 포함한다. 경화물은, 제3 경화 성분(22cc)을 함유한다. 제3 경화 성분(22c)은, 열경화성 수지의 경화물이며, 구체적으로는, 에폭시기를 함유하는 수지의 중합에 의하여 얻어지는 경화물이다. 즉, 제3 화소부(20c)는, 제3 경화 성분(22c)을 포함한다. 제3 화소부(20c)가 상술한 경화물을 포함하는 경우, 열경화성 수지를 함유하는 조성물은, 420~480nm의 범위의 파장의 광에 대한 투과율이 30% 이상이 되는 한에 있어서, 상술한 발광 입자 함유 잉크 조성물에 함유되는 성분 중, 열경화성 수지, 경화제, 용제 이외의 성분을 추가로 함유하고 있어도 된다. 또한, 제3 화소부(20c)의 투과율은, 현미 분광 장치에 의하여 측정할 수 있다.The third pixel portion 20c has a transmittance of 30% or more to light having a wavelength in the range of 420 to 480 nm. Therefore, the third pixel portion 20c functions as a blue pixel portion when a light source emitting light having a wavelength in the range of 420 to 480 nm is used. The third pixel portion 20c includes, for example, a cured product of a composition containing the thermosetting resin described above. The cured product contains the third cured component (22cc). The third curing component 22c is a cured product of a thermosetting resin, specifically, a cured product obtained by polymerization of a resin containing an epoxy group. That is, the third pixel portion 20c includes the third curing component 22c. When the third pixel portion 20c includes the cured product described above, the composition containing the thermosetting resin has a transmittance of light having a wavelength in the range of 420 to 480 nm of 30% or more, as long as the composition contains the above-described light emission. Among the components contained in the particle-containing ink composition, components other than a thermosetting resin, a curing agent, and a solvent may be further contained. In addition, the transmittance of the third pixel portion 20c can be measured by a microscopy device.

화소부(제1 화소부(20a), 제2 화소부(20b) 및 제3 화소부(20c))의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 1μm 이상, 2μm 이상, 3μm 이상인 것이 바람직하다. 화소부(제1 화소부(20a), 제2 화소부(20b) 및 제3 화소부(20c))의 두께는, 예를 들면, 30μm 이하, 25μm 이하, 20μm 이하인 것이 바람직하다.The thickness of the pixel portions (first pixel portion 20a, second pixel portion 20b, and third pixel portion 20c) is not particularly limited, but is preferably, for example, 1 μm or more, 2 μm or more, or 3 μm or more. do. The thickness of the pixel portions (first pixel portion 20a, second pixel portion 20b, and third pixel portion 20c) is preferably 30 μm or less, 25 μm or less, or 20 μm or less, for example.

[광변환층(12)의 형성 방법][Method of Forming Light Conversion Layer 12]

이상의 제1~3 화소부(20a~20c)를 구비하는 광변환층(12)은, 습식 성막법에 의하여 형성한 도막을 건조, 가열하여 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)는, 본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물을 이용하여 형성할 수 있고, 제3 화소부(20c)는 당해 발광 입자 함유 잉크 조성물에 포함되는 발광 입자(90)를 포함하지 않는 잉크 조성물을 이용하여 형성할 수 있다. 이하, 본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물을 이용한 도막 형성 방법에 대하여 상술하지만, 본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물을 이용하는 경우도 동일하게 행할 수 있다.The light conversion layer 12 having the above first to third pixel portions 20a to 20c can be formed by drying, heating, and curing a coating film formed by a wet film forming method. The first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b can be formed using the ink composition containing light-emitting particles of the present invention, and the third pixel portion 20c is included in the ink composition containing light-emitting particles. It can be formed using an ink composition that does not contain the light emitting particles 90 . Hereinafter, the method for forming a coating film using the ink composition containing luminescent particles of the present invention will be described in detail, but the same can be carried out in the case of using the ink composition containing luminescent particles of the present invention.

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물의 도막을 얻기 위한 도포법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법(피에조 방식 또는 서멀 방식의 액적 토출법), 스핀 코트법, 캐스트법, LB법, 볼록판 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법, 노즐 프린트 인쇄법 등을 들 수 있다. 여기서, 노즐 프린트 인쇄법이란, 발광 입자 함유 잉크 조성물을 노즐 구멍으로부터 액주(液柱)로 하여 스트라이프 형상으로 도포하는 방법이다. 그 중에서도, 도포법으로서는, 잉크젯 인쇄법(특히, 피에조 방식의 액적 토출법)이 바람직하다. 이에 의하여, 발광 입자 함유 잉크 조성물을 토출할 때의 열부하를 작게 할 수 있어, 발광 입자(90)의 열에 의한 열화를 방지할 수 있다.A coating method for obtaining a coating film of the ink composition containing luminescent particles of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include inkjet printing method (piezo method or thermal method droplet discharging method), spin coating method, casting method, and LB method. , a relief printing method, a gravure printing method, a screen printing method, a nozzle print printing method, and the like. Here, the nozzle print printing method is a method in which an ink composition containing luminescent particles is applied in a stripe form from a nozzle hole as a liquid column. Among them, as the coating method, an inkjet printing method (particularly, a piezo-type droplet discharging method) is preferable. This makes it possible to reduce the heat load when discharging the ink composition containing the luminescent particles, and to prevent the luminescent particles 90 from deteriorating due to heat.

잉크젯 인쇄법의 조건은, 다음과 같이 설정하는 것이 바람직하다. 발광 입자 함유 잉크 조성물의 토출량은, 특별히 한정되지 않지만, 1~50pL/회인 것이 바람직하고, 1~30pL/회인 것이 보다 바람직하며, 1~20pL/회인 것이 더욱 바람직하다.The conditions of the inkjet printing method are preferably set as follows. The discharge amount of the ink composition containing luminescent particles is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 pL/time, more preferably 1 to 30 pL/time, and still more preferably 1 to 20 pL/time.

또, 노즐 구멍의 개구경은, 5~50μm의 범위인 것이 바람직하고, 10~30μm의 범위인 것이 보다 바람직하다. 이에 의하여, 노즐 구멍의 막힘을 방지하면서, 발광 입자 함유 잉크 조성물의 토출 정밀도를 높일 수 있다.Moreover, it is preferable that it is the range of 5-50 micrometers, and, as for the opening diameter of a nozzle hole, it is more preferable that it is the range of 10-30 micrometers. Accordingly, it is possible to increase the ejection accuracy of the ink composition containing the luminescent particles while preventing nozzle holes from being clogged.

도막을 형성할 때의 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 10~50℃의 범위인 것이 바람직하고, 15~40℃의 범위인 것이 보다 바람직하며, 15~30℃의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 온도에서 액적을 토출하도록 하면, 발광 입자 함유 잉크 조성물 중에 포함되는 각종 성분의 결정화를 억제할 수 있다.The temperature at the time of forming the coating film is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 50°C, more preferably in the range of 15 to 40°C, and still more preferably in the range of 15 to 30°C. By discharging liquid droplets at such a temperature, crystallization of various components included in the ink composition containing light emitting particles can be suppressed.

또, 도막을 형성할 때의 상대 습도도, 특별히 한정되지 않지만, 0.01ppm~80%의 범위인 것이 바람직하고, 0.05ppm~60%의 범위인 것이 보다 바람직하며, 0.1ppm~15%의 범위인 것이 더욱 바람직하고, 1ppm~1%의 범위인 것이 특히 바람직하며, 5~100ppm의 범위인 것이 가장 바람직하다. 상대 습도가 상기 하한값 이상이면, 도막을 형성할 때의 조건의 제어가 용이해진다. 한편, 상대 습도가 상기 상한값 이하이면, 얻어지는 광변환층(12)에 악영향을 미칠 수 있는 도막에 흡착하는 수분량을 저감시킬 수 있다.In addition, the relative humidity at the time of forming the coating film is also not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 ppm to 80%, more preferably in the range of 0.05 ppm to 60%, and in the range of 0.1 ppm to 15% More preferably, it is particularly preferably in the range of 1 ppm to 1%, and most preferably in the range of 5 to 100 ppm. Control of the conditions at the time of forming a coating film as a relative humidity is more than the said lower limit becomes easy. On the other hand, when the relative humidity is equal to or less than the above upper limit value, the amount of moisture adsorbed to the coating film, which may adversely affect the obtained light conversion layer 12, can be reduced.

발광 입자 함유 잉크 조성물 중에 유기 용제를 함유하는 경우, 도막을 경화시키기 전에, 건조에 의하여 유기 용제를 도막으로부터 제거하는 것이 바람직하다. 상기 건조는, 실온(25℃)에서 방치하여 행해도 되고, 가열함으로써 행해도 되지만, 생산성의 관점에서 가열함으로써 행하는 것이 바람직하다. 건조를 가열에 의하여 행하는 경우, 건조 온도는 특별히 한정되지 않지만, 발광 입자 함유 잉크 조성물에 사용되는 유기 용제의 비점 및 증기압을 고려한 온도로 하는 것이 바람직하다. 건조 온도는, 도막 중의 유기 용제를 제거하는 프리베이크 공정으로서, 50~130℃인 것이 바람직하고, 60~120℃인 것이 보다 바람직하며, 70~110℃인 것이 특히 바람직하다. 건조 온도가 50℃ 이하이면 유기 용제를 제거할 수 없는 경우가 있고, 한편, 130℃ 이상이면 유기 용제의 제거가 순식간에 일어나, 도막의 외관이 현저하게 뒤떨어지는 경우가 있기 때문에, 바람직하지 않다. 또, 건조는, 감압하에서 행하는 것이 바람직하고, 0.001~100Pa의 감압하에서 행하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 건조 시간은, 1~30분간인 것이 바람직하고, 1~15분간인 것이 보다 바람직하며, 1~10분간인 것이 특히 바람직하다. 이와 같은 건조 조건으로 도막을 건조함으로써, 유기 용제가 확실히 도막 중으로부터 제거되어, 얻어지는 광변환층(12)의 외부 양자 효율을 보다 향상시킬 수 있다.When the ink composition containing luminescent particles contains an organic solvent, it is preferable to remove the organic solvent from the coating film by drying before curing the coating film. The drying may be performed by leaving it at room temperature (25°C) or by heating, but from the viewpoint of productivity, it is preferable to perform the drying by heating. When drying is performed by heating, the drying temperature is not particularly limited, but is preferably set to a temperature in consideration of the boiling point and vapor pressure of the organic solvent used in the ink composition containing luminescent particles. The drying temperature is preferably 50 to 130°C, more preferably 60 to 120°C, and particularly preferably 70 to 110°C, as a prebaking step for removing the organic solvent in the coating film. If the drying temperature is 50 ° C. or less, the organic solvent may not be removed. On the other hand, if the drying temperature is 130 ° C. or more, the removal of the organic solvent occurs instantaneously and the appearance of the coating film may be remarkably deteriorated. This is not preferable. Moreover, it is preferable to perform drying under reduced pressure, and it is more preferable to perform it under reduced pressure of 0.001-100 Pa. In addition, the drying time is preferably 1 to 30 minutes, more preferably 1 to 15 minutes, and particularly preferably 1 to 10 minutes. By drying the coating film under such drying conditions, the organic solvent is reliably removed from the coating film, and the external quantum efficiency of the obtained light conversion layer 12 can be further improved.

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 활성 에너지선(예를 들면, 자외선)의 조사에 의하여 경화시킬 수 있다. 조사원(광원)으로서는, 예를 들면, 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프, LED 등이 사용되지만, 도막에 대한 열부하의 저감, 저소비 전력의 관점에서 LED가 바람직하다.The ink composition containing luminescent particles of the present invention can be cured by irradiation with active energy rays (eg, ultraviolet rays). As the irradiation source (light source), for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an LED or the like is used, but from the viewpoint of reducing the heat load on the coating film and reducing power consumption, the LED is preferable.

조사하는 광의 파장은, 200nm 이상인 것이 바람직하고, 440nm 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 광의 강도는, 0.2~2kW/cm2인 것이 바람직하고, 0.4~1kW/cm2인 것이 보다 바람직하다. 0.2kW/cm2 미만의 광의 강도로는 충분히 도막을 경화시킬 수 없고, 2kW/cm2 이상의 광의 강도로는 도막 표면과 내부의 경화도에 불균일이 발생하여, 도막 표면의 평활성이 뒤떨어지기 때문에 바람직하지 않다. 광의 조사량(노광량)은, 10mJ/cm2 이상인 것이 바람직하고, 4000mJ/cm2 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 200 nm or more, and, as for the wavelength of the light to irradiate, it is more preferable that it is 440 nm or less. Moreover, it is preferable that it is 0.2-2 kW/cm <2> , and, as for the intensity of light, it is more preferable that it is 0.4-1 kW/cm <2> . A light intensity of less than 0.2 kW/cm 2 cannot sufficiently cure the coating film, and a light intensity of 2 kW/cm 2 or more causes non-uniformity in the curing degree of the surface of the coating film and the inside, and the smoothness of the surface of the coating film is poor, so it is not preferable. not. It is preferable that it is 10 mJ/cm <2> or more, and, as for the irradiation amount (exposure amount) of light, it is more preferable that it is 4000 mJ/cm <2> or less.

도막의 경화는, 공기 중 혹은 불활성 가스 중에서 행할 수 있지만, 도막 표면의 산소 저해 및 도막의 산화를 억제하기 위하여, 불활성 가스 중에서 행하는 것이 보다 바람직하다. 불활성 가스로서는, 질소, 아르곤, 이산화탄소 등을 들 수 있다. 이와 같은 조건으로 도막을 경화시킴으로써, 도막을 완전하게 경화시킬 수 있는 점에서, 얻어지는 광변환층(9)의 외부 양자 효율을 보다 향상시킬 수 있다.Although the curing of the coating film can be performed in air or in an inert gas, it is more preferable to perform curing in an inert gas in order to suppress oxygen inhibition on the surface of the coating film and oxidation of the coating film. As an inert gas, nitrogen, argon, carbon dioxide, etc. are mentioned. By curing the coating film under such conditions, since the coating film can be completely cured, the external quantum efficiency of the obtained light conversion layer 9 can be further improved.

상술한 바와 같이, 본 발명의 발광 입자 잉크 조성물은 열에 대한 안정성이 우수한 점에서, 열경화 후의 성형체인 화소부(20)에 있어서도, 양호한 발광을 실현할 수 있다. 나아가서는, 본 발명의 발광 입자 조성물은 분산성이 우수하기 때문에, 발광 입자(90)의 분산성이 우수하고, 또한, 평탄한 화소부(20)를 얻을 수 있다.As described above, since the luminescent particle ink composition of the present invention is excellent in heat stability, good light emission can be realized even in the pixel portion 20, which is a molded body after thermal curing. Furthermore, since the luminescent particle composition of the present invention has excellent dispersibility, the luminescent particles 90 have excellent dispersibility, and a flat pixel portion 20 can be obtained.

또한, 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)에 포함되는 발광 입자(90)는, 페로브스카이트형을 갖는 반도체 나노 결정을 포함하기 위하여, 300~500nm의 파장 영역의 흡수가 크다. 그 때문에, 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)에 있어서, 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)에 입사한 청색광이 상측 기판(13) 측으로 투과하는, 즉, 청색광이 상측 기판(13) 측으로 새어나가는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제1 화소부(20a) 및 제2 화소부(20b)에 의하면, 청색광이 혼색되는 일 없이, 색순도가 높은 적색광 및 녹색광을 취출할 수 있다.In addition, the light-emitting particles 90 included in the first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b have absorption in the wavelength region of 300 to 500 nm in order to include semiconductor nanocrystals having a perovskite type. big. Therefore, in the first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b, the blue light incident on the first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b is transmitted toward the upper substrate 13 side. That is, leakage of blue light to the upper substrate 13 can be prevented. Therefore, according to the first pixel portion 20a and the second pixel portion 20b of the present invention, red light and green light having high color purity can be extracted without mixing blue light.

차광부(30)는, 서로 이웃하는 화소부(20)를 이격하여 혼색을 방지할 목적 및 광원으로부터의 광누출을 방지할 목적으로 설치되는, 이른바 블랙 매트릭스이다. 차광부(30)를 구성하는 재료는, 특별히 한정되지 않고, 크롬 등의 금속 외에, 바인더 폴리머에 카본 미립자, 금속 산화물, 무기 안료, 유기 안료 등의 차광성 입자를 함유시킨 잉크 조성물의 경화물 등을 이용할 수 있다. 여기서 이용되는 바인더 폴리머로서는, 폴리이미드 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리아크릴아미드, 폴리비닐알코올, 젤라틴, 카제인, 셀룰로오스 등의 수지를 1종 또는 2종 이상 혼합한 것, 감광성 수지, O/W 에멀션형의 잉크 조성물(예를 들면, 반응성 실리콘을 에멀션화한 것) 등을 이용할 수 있다. 차광부(30)의 두께는, 예를 들면, 1μm 이상 15μm 이하인 것이 바람직하다.The light blocking unit 30 is a so-called black matrix installed for the purpose of preventing color mixing by separating adjacent pixel units 20 from each other and preventing light leakage from a light source. The material constituting the light-shielding portion 30 is not particularly limited, and a cured product of an ink composition in which light-blocking particles such as carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, and organic pigments are contained in a binder polymer in addition to metals such as chromium, etc. is available. Examples of the binder polymer used herein include polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, one or a mixture of two or more resins such as cellulose, photosensitive resin, O/W An emulsion-type ink composition (for example, one obtained by emulsifying reactive silicone) or the like can be used. It is preferable that the thickness of the light-shielding part 30 is 1 micrometer or more and 15 micrometer or less, for example.

발광 소자(100)는, 톱 이미션형 대신에, 보텀 이미션형으로 하여 구성할 수도 있다. 또, 발광 소자(100)는, EL 광원부(200) 대신에, 다른 광원을 사용할 수도 있다.The light emitting element 100 can also be configured as a bottom emission type instead of a top emission type. In addition, instead of the EL light source unit 200, other light sources may be used for the light emitting element 100.

이상, 본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물 및 그 제조 방법, 그리고, 당해 잉크 조성물을 이용하여 제조한 광변환층을 구비한 발광 소자에 대하여 설명했지만, 본 발명은, 상술한 실시 형태의 구성에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 본 발명의 발광 입자, 발광 입자 분산체, 발광 입자 함유 잉크 조성물 및 발광 소자는, 각각, 상술한 실시 형태의 구성에 있어서, 다른 임의의 구성을 추가하여 갖고 있어도 되고, 동일한 기능을 발휘하는 임의의 구성과 치환되어 있어도 된다. 또, 본 발명의 발광 입자의 제조 방법은, 상술한 실시 형태의 구성에 있어서, 다른 임의의 목적의 공정을 갖고 있어도 되고, 동일한 효과를 발휘하는 임의의 공정과 치환되어 있어도 된다.In the above, the ink composition containing light-emitting particles of the present invention, its manufacturing method, and the light-emitting element provided with a light conversion layer manufactured using the ink composition have been described, but the present invention is limited to the configuration of the above-described embodiment. it is not going to be For example, the light-emitting particles, the light-emitting particle dispersion, the ink composition containing light-emitting particles, and the light-emitting element of the present invention may each have the same functions as those of the above-described embodiments by adding other arbitrary structures. It may be substituted with an arbitrary structure to exert. In addition, the manufacturing method of the light-emitting particle of the present invention may have other arbitrary steps in the configuration of the above-described embodiment, or may be substituted with an arbitrary step exhibiting the same effect.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 언급이 없는 한, 「부」 및 「%」는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, "part" and "%" are based on mass unless there is particular notice.

하기 실시예에서는, 발광 입자를 제조하는 조작 및 발광 입자 함유 잉크 조성물을 제조하는 조작은, 질소로 채운 글로브 박스 내 또는 대기를 차단하고 질소 기류하의 플라스크 내에서 행했다. 또, 이하에서 예시하는 모든 원료는, 그 용기 내에 도입한 질소 가스로 용기 내의 대기를 치환한 후에 이용했다. 또한, 액체 재료에 관해서는, 그 용기 내에 도입한 질소 가스로 액체 재료 중의 용존 산소를 치환한 후에 이용했다.In the following examples, operations for producing luminescent particles and operations for preparing an ink composition containing luminescent particles were carried out in a glove box filled with nitrogen or in a flask under a nitrogen stream while shutting off the atmosphere. In addition, all the raw materials exemplified below were used after replacing the atmosphere in the container with nitrogen gas introduced into the container. The liquid material was used after replacing dissolved oxygen in the liquid material with nitrogen gas introduced into the container.

또, 이하에서 이용하는, 이소보닐아크릴레이트, 이소보닐메타크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 2몰의 프로폭시 변성 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 3몰의 프로폭시 변성 글리세린트리아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트는, 미리 몰레큘러 시브스(3A 혹은 4A를 사용)로 48시간 이상 탈수한 것을 이용했다. 산화티탄에 대해서는 사용 전에, 1mmHg의 감압하, 2시간, 120℃에서 가열하고, 질소 가스 분위기하에서 방랭했다.In addition, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexane used below Diol dimethacrylate, 2 moles of propoxy-modified neopentyl glycol diacrylate, 3 moles of propoxy-modified glycerin triacrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate are prepared using molecular sieves (3A or 4A) ), which was dehydrated for more than 48 hours. Titanium oxide was heated at 120° C. for 2 hours under a reduced pressure of 1 mmHg before use and allowed to cool in a nitrogen gas atmosphere.

<발광 입자 분산액의 조제><Preparation of Light-Emitting Particle Dispersion>

(발광 입자 분산액 1의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 1)

중공 입자로서, 닛테츠 광업 주식회사 제조, 「SiliNax SP-PN(b)」의 입자를 이용했다. 이 중공 입자는, 전체가 직방체이며, 중공 구조를 구비한 실리카 입자이고, 평균 외경이 100nm이며, 평균 내경이 80nm이다. 우선, 이 중공 실리카 입자를 150℃에서 8시간 감압 건조했다. 이어서, 건조한 중공 실리카 입자 200.0질량부를 키리야마 깔때기에 칭량하여 취했다.As hollow particles, particles of "SiliNax SP-PN(b)" manufactured by Nippon Mining Co., Ltd. were used. These hollow particles are silica particles having a hollow structure with a rectangular parallelepiped as a whole, and have an average outer diameter of 100 nm and an average inner diameter of 80 nm. First, these hollow silica particles were dried under reduced pressure at 150°C for 8 hours. Next, 200.0 parts by mass of the dried hollow silica particles were weighed and taken in a Kiriyama funnel.

다음으로, 아르곤 분위기하, 3구 플라스크에 63.9질량부의 브롬화세슘, 110.1질량부의 브롬화납(II) 및 3000질량부의 N-메틸포름아미드를 공급하고, 50℃에서 30분간 교반함으로써, 삼브롬화납세슘 용액을 얻었다.Next, 63.9 parts of cesium bromide, 110.1 parts of lead (II) bromide, and 3000 parts of N-methylformamide were supplied to a three-necked flask under an argon atmosphere, followed by stirring at 50°C for 30 minutes to obtain cesium tribromide. got a solution.

그 후, 상기 3구 플라스크에 건조한 중공 실리카 입자를 공급하고, 얻어진 삼브롬화납세슘 용액을 중공 실리카 입자에 함침시킨 후, 과잉인 삼브롬화납세슘 용액을 여과에 의하여 제거하고, 고형물을 회수했다. 얻어진 고형물을 150℃에서 1시간 감압 건조함으로써, 페로브스카이트형의 삼브롬화납세슘으로 이루어지는 나노 결정을 중공 실리카 입자에 내포한 발광 입자 X-1(212.7질량부)을 얻었다. 발광 입자 X-1은, 중공 입자 내포 발광 입자이다.Thereafter, dried hollow silica particles were supplied to the three-necked flask, and after impregnating the hollow silica particles with the resultant lead cesium tribromide solution, the excess lead cesium tribromide solution was removed by filtration, and solid matter was recovered. The resulting solid material was dried under reduced pressure at 150°C for 1 hour to obtain luminescent particles X-1 (212.7 parts by mass) in which hollow silica particles contained perovskite nanocrystals made of lead cesium tribromide. The luminescent particle X-1 is a hollow particle-enclosed luminescent particle.

얻어진 발광 입자 X-1을 고형분 농도가 2.5질량%가 되도록 이소보닐메타크릴레이트(라이트 에스테르 IB-X; 교에이샤 화학 주식회사 제조)에 분산시킴으로써, 발광 입자 X-1이 분산된 발광 입자 분산액 1을 얻었다.Luminous particle dispersion 1 in which the luminescent particles X-1 are dispersed by dispersing the obtained luminescent particles X-1 in isobornyl methacrylate (light ester IB-X; manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) so that the solid concentration is 2.5% by mass got

(발광 입자 분산액 2의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 2)

온도계, 교반기, 환류 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비한 4구 플라스크에, 190질량부의 헵탄을 공급하고, 85℃로 승온했다. 동일한 온도에 도달한 후, 66.5질량부의 라우릴메타크릴레이트, 3.5질량부의 디메틸아미노에틸메타크릴레이트 및 0.5질량부의 디메틸-2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트)를 20질량부의 헵탄에 용해한 혼합물을, 상기 4구 플라스크의 헵탄에 3.5시간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에도, 동일한 온도로 10시간 유지하여, 반응을 계속했다. 그 후, 반응액의 온도를 50℃로 강온한 후, 0.01질량부의 t-부틸피로카테콜을 1.0질량부의 헵탄에 용해한 용액을 첨가하고, 추가로 1.0질량부의 글리시딜메타크릴레이트를 첨가한 후, 85℃까지 승온하고, 동일한 온도에서 5시간 반응을 계속했다. 이에 의하여, 중합체(P)를 함유하는 용액을 얻었다. 또한, 용액 중에 포함되는 불휘발분(NV)의 양은 25.1질량%이며, 중합체(P)의 중량 평균 분자량(Mw)은 10,000이었다.190 parts by mass of heptane was supplied to a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, and the temperature was raised to 85°C. After reaching the same temperature, 66.5 parts by mass of lauryl methacrylate, 3.5 parts by mass of dimethylaminoethyl methacrylate and 0.5 parts by mass of dimethyl-2,2-azobis(2-methylpropionate) were mixed with 20 parts by mass of heptane. The mixture dissolved in was added dropwise over 3.5 hours to the heptane in the four-necked flask, and even after the addition was completed, the reaction was continued by holding at the same temperature for 10 hours. Then, after the temperature of the reaction solution was lowered to 50 ° C., a solution in which 0.01 part by mass of t-butylpyrocatechol was dissolved in 1.0 part by mass of heptane was added, and further 1.0 part by mass of glycidyl methacrylate was added. After that, the temperature was raised to 85°C, and the reaction was continued at the same temperature for 5 hours. In this way, a solution containing the polymer (P) was obtained. Moreover, the quantity of the non-volatile matter (NV) contained in the solution was 25.1 mass %, and the weight average molecular weight (Mw) of the polymer (P) was 10,000.

이어서, 온도계, 교반기, 환류 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비한 4구 플라스크에, 26질량부의 헵탄과, 3질량부의 상술한 발광 입자 X-1과, 3.6질량부의 상술한 중합체(P)를 함유하는 용액을 공급했다. 또한 상기 4구 플라스크에, 0.2질량부의 에틸렌글리콜디메타크릴레이트와, 0.4질량부의 메틸메타크릴레이트와, 0.12질량부의 디메틸-2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트)를 공급했다. 그 후, 상기 4구 플라스크 내의 혼합액을, 실온에서 30분간 교반한 후, 80℃로 승온하고, 동일한 온도에서 15시간 반응을 계속했다. 반응 종료 후, 반응 용액 내의 발광 입자 A에 흡착되지 않았던 폴리머를 원심 분리에 의하여 분리하고, 이어서, 침강한 입자를 실온에서 2시간 진공 건조함으로써, 모입자로서의 발광 입자 X-1의 표면이 소수성 폴리머로 이루어지는 폴리머층으로 피복된 폴리머 피복 발광 입자 X-2를 얻었다.Next, in a four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser and nitrogen gas inlet tube, 26 parts by mass of heptane, 3 parts by mass of the above-mentioned luminescent particles X-1, and 3.6 parts by mass of the above-mentioned polymer (P) were contained. A solution was supplied. Further, 0.2 parts by mass of ethylene glycol dimethacrylate, 0.4 parts by mass of methyl methacrylate, and 0.12 parts by mass of dimethyl-2,2-azobis(2-methylpropionate) were supplied to the four-necked flask. Then, after stirring the liquid mixture in the said four-necked flask at room temperature for 30 minutes, it heated up at 80 degreeC, and continued reaction at the same temperature for 15 hours. After completion of the reaction, the polymer not adsorbed to the luminescent particle A in the reaction solution is separated by centrifugation, and then the precipitated particles are vacuum-dried at room temperature for 2 hours, so that the surface of the luminescent particle X-1 as the mother particle is a hydrophobic polymer. Polymer-coated light-emitting particles X-2 coated with a polymer layer consisting of were obtained.

얻어진 폴리머 피복 발광 입자 X-2를 투과형 전자 현미경으로 관찰한바, 발광 입자 X-2의 표면에 두께 약 10nm의 폴리머층이 형성되어 있었다. 그 후, 얻어진 폴리머 피복 발광 입자 X-2를 고형분 농도가 2.5질량%가 되도록 이소보닐메타크릴레이트에 분산시킴으로써, 발광 입자 분산액 2를 얻었다.When the obtained polymer-coated light-emitting particles X-2 was observed with a transmission electron microscope, a polymer layer having a thickness of about 10 nm was formed on the surface of the light-emitting particles X-2. Then, the obtained polymer-coated light-emitting particles X-2 was dispersed in isobornyl methacrylate so that the solid content concentration was 2.5% by mass, thereby obtaining a light-emitting particle dispersion liquid 2.

(발광 입자 분산액 3의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 3)

우선, 발광 입자 분산액 1에 이용한 것과 동일한 중공 실리카 입자(닛테츠 광업 주식회사 제조, 「SiliNax SP-PN(b)」)를 150℃에서 8시간 감압 건조했다. 이어서, 200.0질량부의 건조시킨 중공 실리카 입자를 키리야마 깔때기에 칭량하여 취했다.First, hollow silica particles identical to those used for the luminescent particle dispersion 1 ("SiliNax SP-PN(b)" manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd.) were dried under reduced pressure at 150°C for 8 hours. Then, 200.0 parts by mass of the dried hollow silica particles were weighed out in a Kiriyama funnel.

다음으로, 아르곤 분위기하, 3구 플라스크에 63.9질량부의 브롬화세슘, 110.1질량부의 브롬화납(II) 및 3000질량부의 N-메틸포름아미드를 공급하고, 50℃에서 30분간 교반함으로써, 삼브롬화납세슘 용액을 얻었다.Next, 63.9 parts of cesium bromide, 110.1 parts of lead (II) bromide, and 3000 parts of N-methylformamide were supplied to a three-necked flask under an argon atmosphere, followed by stirring at 50°C for 30 minutes to obtain cesium tribromide. got a solution.

다음으로, 상기 3구 플라스크에 중공 실리카 입자를 공급하고, 얻어진 삼브롬화납 용액을 중공 실리카 입자에 함침시킨 후, 과잉인 삼브롬화납세슘 용액을 여과에 의하여 제거하고, 고형물을 회수했다. 그 후, 얻어진 고형물을 120℃에서 1시간 감압 건조함으로써, 페로브스카이트형의 삼브롬화납세슘으로 이루어지는 나노 결정을 중공 실리카 입자에 내포한 발광 입자 X-3을 얻었다. 발광 입자 X-3은, 중공 입자 내포 발광 입자이다.Next, hollow silica particles were supplied to the three-necked flask, and the obtained lead tribromide solution was impregnated into the hollow silica particles, and then the excess lead cesium tribromide solution was removed by filtration and solid matter was recovered. Thereafter, the obtained solid material was dried under reduced pressure at 120°C for 1 hour to obtain luminescent particles X-3 in which hollow silica particles contained perovskite nanocrystals composed of lead cesium tribromide. The luminescent particles X-3 are hollow particle-enclosed luminescent particles.

얻어진 발광 입자 X-3을 고형분 농도가 2.5질량%가 되도록 이소보닐메타크릴레이트에 분산시킴으로써, 발광 입자 X-3이 분산된 발광 입자 분산액 3을 얻었다.A luminescent particle dispersion 3 in which the luminescent particles X-3 were dispersed was obtained by dispersing the obtained luminescent particles X-3 in isobornyl methacrylate so that the solid concentration was 2.5% by mass.

(발광 입자 분산액 4의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 4)

우선, 1mL의 N,N-디메틸포름아미드 용액에, 15.0mg의 브롬화납(II), 8.5mg의 브롬화세슘, 올레산 및 올레일아민을 첨가함으로써, 반도체 나노 결정의 원료 화합물을 포함하는 용액을 얻었다.First, 15.0 mg of lead(II) bromide, 8.5 mg of cesium bromide, oleic acid and oleylamine were added to a 1 mL N,N-dimethylformamide solution to obtain a solution containing the raw material compound for semiconductor nanocrystals. .

한편, 0.25mL의 3-아미노프로필트리에톡시실란과, 5mL의 톨루엔을 혼합하여, 에톡시실란-톨루엔 용액을 얻었다. 그 후, 상술한 1mL의 반도체 나노 결정의 원료 화합물을 포함하는 용액을, 상술한 20mL의 에톡시실란-톨루엔 용액에 대기하, 실온에서 교반하면서 첨가하고, 또한, 그대로 1500rpm으로 20초간 실온에서 교반했다. 그 후, 원심 분리(12,100회전/분, 5분간)에 의하여 고형물을 회수하고, 발광 입자 X-4를 얻었다.On the other hand, 0.25 mL of 3-aminopropyltriethoxysilane and 5 mL of toluene were mixed to obtain an ethoxysilane-toluene solution. Thereafter, 1 mL of the solution containing the raw material compound for semiconductor nanocrystals described above was added to the 20 mL ethoxysilane-toluene solution described above while stirring at room temperature under air, and further stirred at 1500 rpm for 20 seconds at room temperature did. After that, the solid was collected by centrifugation (12,100 rotations/minute, 5 minutes) to obtain luminescent particles X-4.

이 발광 입자 X-4는, 표면층을 구비한 페로브스카이트형의 삼브롬화납세슘 결정이며, 투과형 전자 현미경 관찰에 의하여 평균 입자경은 11nm였다. 또, 표면층은 3-아미노프로필트리에톡시실란으로 구성되는 층이고, 그 두께는 약 1nm였다. 즉, 발광 입자 X-4는, 실리카로 피복된 입자이다.The luminescent particles X-4 were perovskite type lead cesium tribromide crystals provided with a surface layer, and the average particle size was 11 nm as observed with a transmission electron microscope. In addition, the surface layer was a layer composed of 3-aminopropyltriethoxysilane and had a thickness of about 1 nm. That is, the luminescent particle X-4 is a particle coated with silica.

또한, 발광 입자 X-4를 고형분 농도가 2.5질량%가 되도록 이소보닐메타크릴레이트에 분산시킴으로써, 발광 입자 X-4가 분산된 발광 입자 분산액 4를 얻었다.Further, the luminescent particle dispersion 4 in which the luminescent particles X-4 were dispersed was obtained by dispersing the luminescent particles X-4 in isobornyl methacrylate so that the solid content concentration was 2.5% by mass.

(발광 입자 분산액 5의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 5)

우선, 발광 입자 X-1 대신에 발광 입자 X-4를 이용한 것 이외에는, 폴리머 피복 발광 입자 X-2와 동일하게 하여, 모입자로서의 발광 입자 X-4가 소수성 폴리머로 이루어지는 폴리머층으로 피복된 폴리머 피복 발광 입자 X-5를 얻었다. 그리고, 발광 입자로서, 폴리머 피복 발광 입자 X-2 대신에 폴리머 피복 발광 입자 X-5를 이용한 것 이외에는 발광 입자 분산액 2와 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 5를 얻었다.First, except that the luminescent particle X-4 was used instead of the luminescent particle X-1, in the same manner as in the polymer-coated luminescent particle X-2, the luminescent particle X-4 as the mother particle was coated with a polymer layer composed of a hydrophobic polymer. Coated luminescent particles X-5 were obtained. Then, a luminescent particle dispersion 5 was obtained in the same manner as in the luminescent particle dispersion 2, except that polymer-coated luminescent particles X-5 were used instead of the polymer-coated luminescent particles X-2 as the luminescent particles.

(발광 입자 분산액 6의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 6)

우선, 온도계, 교반기, 셉텀 및 질소 가스 도입관을 구비한 4구 플라스크에, 0.814질량부의 탄산 세슘과, 40질량부의 옥타데센과, 2.5질량부의 올레산을 공급하고, 질소 분위기하, 150℃에서 균일한 용액이 될 때까지 가열 교반했다. 모두 용해시킨 후, 100℃까지 냉각함으로써, 올레산 세슘 용액을 얻었다.First, 0.814 parts by mass of cesium carbonate, 40 parts by mass of octadecene, and 2.5 parts by mass of oleic acid were supplied to a four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, septum, and nitrogen gas inlet tube, and uniformly stirred at 150° C. in a nitrogen atmosphere. It was heated and stirred until it became a solution. After dissolving all of them, a cesium oleate solution was obtained by cooling to 100°C.

다음으로, 온도계, 교반기, 셉텀 및 질소 가스 도입관을 구비한 4구 플라스크에, 0.069질량부의 브롬화납(II)과, 5질량부의 옥타데센을 공급하고, 질소 분위기하, 120℃에서 1시간 가열 교반했다. 계속해서 상기 4구 플라스크에, 0.5질량부의 올레일아민과 0.5질량부의 올레산을 공급하고, 질소 분위기하, 160℃에서 균일한 용액이 될 때까지 가열 교반했다. 또한 상기 4구 플라스크에, 0.4중량부의 올레산 세슘 용액을 공급하고, 160℃에서 5초간 교반한 후, 당해 4구 플라스크를 빙랭했다. 얻어진 반응액을 원심 분리에 의하여 분리하고, 상등액을 제거함으로써, 발광 입자 X-6으로서, 올레산 및 올레일아민이 배위한 페로브스카이트형의 삼브롬화납세슘 결정 0.45질량부를 얻었다. 그 후, 얻어진 발광 입자 X-6을, 고형분 농도가 2.5질량%가 되도록 이소보닐메타크릴레이트에 분산시킴으로써 발광 입자 분산액 6을 얻었다.Next, 0.069 parts by mass of lead (II) bromide and 5 parts by mass of octadecene were supplied to a four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, septum and nitrogen gas inlet tube, and heated at 120 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere Stirred. Subsequently, 0.5 parts by mass of oleylamine and 0.5 parts by mass of oleic acid were supplied to the four-necked flask, and heating and stirring were performed under a nitrogen atmosphere at 160°C until a uniform solution was obtained. Further, 0.4 part by weight of a cesium oleate solution was supplied to the four-necked flask, and after stirring at 160°C for 5 seconds, the four-necked flask was ice-cooled. The resulting reaction solution was separated by centrifugation, and the supernatant was removed to obtain 0.45 parts by mass of perovskite lead cesium tribromide crystals coordinated with oleic acid and oleylamine as luminescent particles X-6. Thereafter, a luminescent particle dispersion 6 was obtained by dispersing the obtained luminescent particles X-6 in isobornyl methacrylate so that the solid concentration was 2.5% by mass.

(발광 입자 분산액 7의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 7)

광중합성 화합물로서, 이소보닐메타크릴레이트 대신에, 이소보닐메타크릴레이트와 페녹시에틸메타크릴레이트를 30질량부:28.5질량부의 비율로 혼합한 용액을 이용한 것 이외에는 발광 입자 분산액 1과 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 7을 얻었다.As the photopolymerizable compound, instead of isobornyl methacrylate, a solution obtained by mixing isobornyl methacrylate and phenoxyethyl methacrylate at a ratio of 30 parts by mass: 28.5 parts by mass was used in the same manner as in the light-emitting particle dispersion 1. , obtaining luminescent particle dispersion 7.

(발광 입자 분산액 8의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 8)

광중합성 화합물로서, 이소보닐메타크릴레이트 대신에, 이소보닐메타크릴레이트와 페녹시에틸메타크릴레이트를 30질량부:28.5질량부의 비율로 혼합한 용액을 이용한 것 이외에는 발광 입자 분산액 4와 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 8을 얻었다.As the photopolymerizable compound, instead of isobornyl methacrylate, a solution obtained by mixing isobornyl methacrylate and phenoxyethyl methacrylate in a ratio of 30 parts by mass: 28.5 parts by mass was used in the same manner as in the light-emitting particle dispersion 4. , to obtain a dispersion of luminescent particles 8.

(발광 입자 분산액 9의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 9)

광중합성 화합물로서, 이소보닐메타크릴레이트 대신에, 이소보닐메타크릴레이트와 라우릴메타크릴레이트를 30질량부:28.5질량부의 비율로 혼합한 용액을 이용한 것 이외에는 발광 입자 분산액 1과 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 9를 얻었다.As the photopolymerizable compound, instead of isobornyl methacrylate, a solution obtained by mixing isobornyl methacrylate and lauryl methacrylate at a ratio of 30 parts by mass: 28.5 parts by mass was used in the same manner as in the light-emitting particle dispersion 1, A dispersion of luminescent particles 9 was obtained.

(발광 입자 분산액 10의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 10)

광중합성 화합물로서, 이소보닐메타크릴레이트 대신에, 이소보닐메타크릴레이트와 라우릴메타크릴레이트를 31.5질량부:19.5질량부의 비율로 혼합한 용액을 이용하여, 발광 입자 X-1의 농도가 2.86질량%가 되도록 조절한 것 이외에는 발광 입자 분산액 1과 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 10을 얻었다.As the photopolymerizable compound, a solution obtained by mixing isobornyl methacrylate and lauryl methacrylate at a ratio of 31.5 parts by mass: 19.5 parts by mass was used instead of isobornyl methacrylate, and the concentration of the light-emitting particles X-1 was 2.86. A luminescent particle dispersion 10 was obtained in the same manner as in the luminescent particle dispersion 1, except that the mass% was adjusted.

(발광 입자 분산액 11의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 11)

광중합성 화합물로서, 이소보닐메타크릴레이트 대신에, 이소보닐메타크릴레이트와 라우릴메타크릴레이트를 16질량부:30질량부의 비율로 혼합한 용액을 이용하여, 발광 입자 X-1의 농도가 3.16질량%가 되도록 조절한 것 이외에는 발광 입자 분산액 1과 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 11을 얻었다.As the photopolymerizable compound, a solution obtained by mixing isobornyl methacrylate and lauryl methacrylate at a ratio of 16 parts by mass: 30 parts by mass was used instead of isobornyl methacrylate, and the concentration of the light-emitting particles X-1 was 3.16. A luminescent particle dispersion 11 was obtained in the same manner as in the luminescent particle dispersion 1, except that the mass% was adjusted.

(발광 입자 분산액 12의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 12)

광중합성 화합물로서, 이소보닐메타크릴레이트 대신에, 페녹시에틸메타크릴레이트를 이용한 것 이외에는 발광 입자 분산액 4와 동일하게 하여, 발광 입자 분산액 8을 얻었다.A luminescent particle dispersion 8 was obtained in the same manner as in the luminescent particle dispersion 4, except that phenoxyethyl methacrylate was used as the photopolymerizable compound instead of isobornyl methacrylate.

(발광 입자 분산액 13의 조제)(Preparation of luminescent particle dispersion 13)

우선, 0.12g의 탄산 세슘과, 5mL의 1-옥타데센과, 0.5mL의 올레산을 혼합하여 혼합액을 얻었다. 다음으로, 이 혼합액을 120℃에서 30분간, 감압 건조한 후, 아르곤 분위기하에 150℃에서 가열했다. 이에 의하여, 세슘-올레산 용액을 얻었다.First, 0.12 g of cesium carbonate, 5 mL of 1-octadecene, and 0.5 mL of oleic acid were mixed to obtain a liquid mixture. Next, after drying this liquid mixture under reduced pressure at 120°C for 30 minutes, it was heated at 150°C in an argon atmosphere. In this way, a cesium-oleic acid solution was obtained.

한편, 0.1g의 브롬화납(II)과 7.5mL의 1-옥타데센과, 0.75mL의 올레산을 혼합하여 혼합액을 얻었다. 다음으로, 이 혼합액을 90℃에서 10분간, 감압 건조한 후, 아르곤 분위기하에 혼합액에 0.75mL의 3-아미노프로필트리에톡시실란을 첨가했다. 그 후 추가로 20분간 감압 건조를 행한 후, 아르곤 분위기하에 140℃에서 가열했다.On the other hand, 0.1 g of lead (II) bromide, 7.5 mL of 1-octadecene, and 0.75 mL of oleic acid were mixed to obtain a liquid mixture. Next, after drying this mixed solution under reduced pressure at 90°C for 10 minutes, 0.75 mL of 3-aminopropyltriethoxysilane was added to the mixed solution in an argon atmosphere. After that, it was further dried under reduced pressure for 20 minutes and then heated at 140°C in an argon atmosphere.

그 후, 상기 브롬화납(II)을 포함하는 혼합액에 150℃에서 0.75mL의 상기 세슘-올레산 용액을 첨가하고, 5초간 가열 교반함으로써 반응시킨 후, 빙욕에서 냉각했다. 이어서, 60mL의 아세트산 메틸을 첨가했다. 얻어진 현탁액을 원심 분리(10,000회전/분, 1분간)한 후, 상등액을 제거함으로써, 전구체 입자를 포함하는 고형물을 얻었다. 또한, 전구체 입자를 구성하는 나노 결정은 페로브스카이트형의 삼브롬화납세슘 결정이며, 주사 투과 전자 현미경 관찰에 의하여 분석한바 그 평균 입자경은 10nm였다. 폴리머 B로서, 하기 식 (B3)으로 표시되는 구조를 갖는 블록 코폴리머(S2VP, PolymerSource.사 제조) 800mg을 톨루엔 80mL에 첨가하여, 60℃에서 가열 용해시켰다. 상기 전구체 입자를 포함하는 고형물에, 블록 코폴리머가 용해한 톨루엔 80mL를 첨가하여, 15분간 교반한 후, 원심 분리하고, 상등액을 회수함으로써, 전구체 입자 및 블록 코폴리머를 포함하는 톨루엔 분산액을 얻었다.Thereafter, 0.75 mL of the cesium-oleic acid solution was added to the mixture containing lead (II) bromide at 150°C, followed by heating and stirring for 5 seconds to react, followed by cooling in an ice bath. 60 mL of methyl acetate was then added. After the obtained suspension was centrifuged (10,000 rpm, 1 minute), a supernatant was removed to obtain a solid substance containing precursor particles. In addition, the nanocrystal constituting the precursor particle was a perovskite-type lead cesium tribromide crystal, and when analyzed by scanning transmission electron microscopy, the average particle diameter was 10 nm. As polymer B, 800 mg of a block copolymer (S2VP, manufactured by PolymerSource.) having a structure represented by the following formula (B3) was added to 80 mL of toluene, and dissolved by heating at 60°C. To the solid containing the precursor particles, 80 mL of toluene in which the block copolymer was dissolved was added, stirred for 15 minutes, centrifuged, and the supernatant was recovered to obtain a toluene dispersion containing the precursor particles and the block copolymer.

Figure 112023009896911-pct00035
Figure 112023009896911-pct00035

상기 톨루엔 분산액 2mL에 대하여, 하기 식 (C4)로 표시되는 화합물(MS-51, 콜코트 주식회사 제조, 식 (C4) 중의 m의 평균값은 4이다.) 10μL를 첨가하여, 5분간 교반하고, 이어서, 이온 교환수 5μL를 추가로 첨가하여 2시간 교반했다.To 2 mL of the toluene dispersion, 10 µL of a compound represented by the following formula (C4) (MS-51, manufactured by Colcoat Co., Ltd., the average value of m in the formula (C4) is 4) was added, stirred for 5 minutes, and then , 5 µL of ion-exchanged water was further added, and the mixture was stirred for 2 hours.

Figure 112023009896911-pct00036
Figure 112023009896911-pct00036

얻어진 용액을, 9,000회전/분, 5분간의 조건으로 원심 분리한 후, 상등액 2mL를 회수함으로써, 발광 입자가 톨루엔에 분산된 발광 입자 분산체 T를 얻었다. 발광 입자 분산체 T에 분산된 발광 입자에 대하여, 동적 광산란식 나노트랙 입도 분포계를 이용하여 평균 입자경을 측정한바, 109nm였다. 상기 발광 입자에 대하여, 주사 투과 전자 현미경을 이용한 에너지 분산형 X선 분석법(STEM-EDS)에 따라 원소 분포를 평가한바, 표면층에 Si가 포함되어 있는 것을 확인했다. 또, 당해 표면층의 두께는 49nm였다.The resulting solution was centrifuged at 9,000 rpm for 5 minutes, and 2 mL of the supernatant was recovered to obtain a luminescent particle dispersion T in which luminescent particles were dispersed in toluene. The average particle diameter of the luminescent particles dispersed in the luminescent particle dispersion T was measured using a dynamic light scattering nanotrac particle size distribution analyzer and found to be 109 nm. Elemental distribution of the light-emitting particles was evaluated by energy dispersive X-ray spectroscopy (STEM-EDS) using a scanning transmission electron microscope, and it was confirmed that Si was contained in the surface layer. Moreover, the thickness of the said surface layer was 49 nm.

발광 입자 분산체 T로부터 톨루엔을 제거함으로써, 발광 입자 X-7로서, 실리카 피복된 페로브스카이트형의 삼브롬화납세슘 결정 0.20질량부를 얻었다. 그 후, 얻어진 발광 입자 X-7을, 고형분 농도가 2.5질량%가 되도록 페녹시에틸아크릴레이트에 분산시킴으로써 발광 입자 분산액 13을 얻었다.By removing toluene from the luminescent particle dispersion T, 0.20 parts by mass of silica-coated lead cesium tribromide crystals were obtained as luminescent particles X-7. Thereafter, a luminescent particle dispersion liquid 13 was obtained by dispersing the obtained luminescent particles X-7 in phenoxyethyl acrylate so that the solid concentration was 2.5% by mass.

하기 표 1에, 얻어진 발광 입자 분산액 1~13에 대하여, 분산질과, 분산질에 있어서의 무기 피복층의 유무 및 폴리머층의 유무를 나타낸다.Table 1 below shows the dispersoids, the presence or absence of an inorganic coating layer, and the presence or absence of a polymer layer in the obtained dispersions of light-emitting particles 1 to 13.

Figure 112023009896911-pct00037
Figure 112023009896911-pct00037

<광확산 입자 분산액의 조제><Preparation of Light Diffusing Particle Dispersion>

(광확산 입자 분산액 1의 조제)(Preparation of light diffusing particle dispersion 1)

질소 가스로 채운 용기 내에서, 산화티탄(이시하라 산교 주식회사 제조 「CR60-2」) 10.0질량부와, 고분자 분산제 「Efka PX4701」(아민가: 40.0mgKOH/g, BASF 재팬 주식회사 제조) 1.0질량부와, 페녹시에틸메타크릴레이트(라이트 에스테르 PO; 교에이샤 화학 주식회사 제조) 14.0질량부를 혼합했다. 또한, 얻어진 배합물에 지르코니아 비즈(직경: 1.25mm)를 첨가하고, 상기 용기를 밀전(密栓)하고 페인트 컨디셔너를 이용하여 2시간 진탕시켜 배합물의 분산 처리를 행함으로써, 광확산 입자 분산체 1을 얻었다. 분산 처리 후의 광확산 입자의 평균 입자경은, NANOTRAC WAVE II를 이용하여 측정한바, 0.245μm였다.In a container filled with nitrogen gas, 10.0 parts by mass of titanium oxide (“CR60-2” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and 1.0 parts by mass of a polymer dispersant “Efka PX4701” (amine value: 40.0 mgKOH/g, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) 1.0 parts by mass, 14.0 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate (light ester PO; manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was mixed. Further, zirconia beads (diameter: 1.25 mm) were added to the obtained formulation, the container was hermetically sealed and shaken for 2 hours using a paint conditioner to disperse the formulation, thereby obtaining a light-diffusing particle dispersion 1. . The average particle diameter of the light-diffusing particles after the dispersion treatment was measured using NANOTRAC WAVE II and found to be 0.245 µm.

(광확산 입자 분산액 2의 조제)(Preparation of light diffusing particle dispersion 2)

고분자 분산제로서, 「Efka PX4701」 대신에 「아지스퍼 PB821」(아민가: 10mgKOH/g, 산가: 17mgKOH/g, 아지노모토 파인 테크노 주식회사 제조)을 이용한 것 이외에는 광확산 입자 분산액 1과 동일하게 하여, 광확산 입자 분산액 2를 얻었다. 분산 처리 후의 광확산 입자의 평균 입자경은, NANOTRAC WAVE II를 이용하여 측정한바, 0.315μm였다.As the polymer dispersant, "Ajisper PB821" (amine value: 10 mgKOH/g, acid value: 17 mgKOH/g, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) was used instead of "Efka PX4701". Particle dispersion 2 was obtained. The average particle diameter of the light-diffusing particles after the dispersion treatment was measured using NANOTRAC WAVE II and found to be 0.315 µm.

(광확산 입자 분산액 3의 조제)(Preparation of light diffusing particle dispersion 3)

고분자 분산제로서, 「Efka PX4701」 대신에 「DISPERBYK-111」(산가: 129mgKOH/g, 빅케미·재팬 주식회사 제조)을 이용한 것 이외에는 광확산 입자 분산액 1과 동일하게 하여, 광확산 입자 분산액 3을 얻었다. 분산 처리 후의 광확산 입자의 평균 입자경은, NANOTRAC WAVE II를 이용하여 측정한바, 0.550μm였다.Light-diffusion particle dispersion 3 was obtained in the same manner as in light-diffusion particle dispersion 1, except that "DISPERBYK-111" (acid value: 129 mgKOH/g, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) was used instead of "Efka PX4701" as the polymer dispersant. . The average particle diameter of the light-diffusing particles after the dispersion treatment was measured using NANOTRAC WAVE II and found to be 0.550 µm.

(광확산 입자 분산액 4의 조제)(Preparation of light diffusing particle dispersion 4)

질소 가스로 채운 용기 내에서, 산화티탄(이시하라 산교 주식회사 제조 「CR60-2」) 10.0질량부와, 페녹시에틸메타크릴레이트(라이트 에스테르 PO; 교에이샤 화학 주식회사 제조) 14.0질량부를 혼합했다. 또한, 얻어진 배합물에 지르코니아 비즈(직경: 1.25mm)를 첨가하고, 상기 용기를 밀전하고 페인트 컨디셔너를 이용하여 2시간 진탕시켜 배합물의 분산 처리를 행함으로써, 광확산 입자 분산체 4를 얻었다. 또한, 광확산 입자 분산체 4는, 고분자 분산제를 포함하지 않는다. 분산 처리 후의 광확산 입자의 평균 입자경은, NANOTRAC WAVE II를 이용하여 측정한바, 0.855μm였다.In a container filled with nitrogen gas, 10.0 parts by mass of titanium oxide (“CR60-2” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and 14.0 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate (light ester PO; manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) were mixed. Further, zirconia beads (diameter: 1.25 mm) were added to the obtained formulation, the container was hermetically sealed and shaken for 2 hours using a paint conditioner to disperse the formulation, thereby obtaining a light-diffusing particle dispersion 4. In addition, the light-diffusing particle dispersion 4 does not contain a polymeric dispersant. The average particle diameter of the light-diffusing particles after the dispersion treatment was measured using NANOTRAC WAVE II and found to be 0.855 μm.

<발광 입자 함유 잉크 조성물의 조제><Preparation of Ink Composition Containing Luminous Particles>

(발광 입자 함유 잉크 조성물 (1)의 조제)(Preparation of Ink Composition (1) Containing Luminescent Particles)

실시예 1의 발광 입자 함유 잉크 조성물로서, 발광 입자 분산액 1(발광 입자 농도 2.5질량%) 6.0질량부와, 광확산 입자 분산체 1(산화티탄 함유량 40.0질량%) 0.75질량부와, 광중합성 화합물로서 「라우릴메타크릴레이트」(제품명: 라이트 에스테르 LM, 교에이샤 화학 주식회사 제조) 0.65질량부 및 「1,6-헥산디올디메타크릴레이트」(제품명: 라이트 에스테르 1,6-HX, 교에이샤 화학 주식회사 제조) 2.0질량부와, 광중합 개시제로서 「디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드」(제품명: Omnirad TPO-H, BASF 재팬 주식회사 제조) 0.3질량부 및 「페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드」(제품명: Omnirad 819, BASF 재팬 주식회사 제조) 0.1질량부와, 제1 산화 방지제(A)로서 「펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]」(제품명: Irganox1010, BASF 재팬 주식회사 제조) 0.1질량부와, 제2 산화 방지제(B)로서 「3,9-비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸」(제품명: 아데카스타브 PEP-36, 주식회사 ADEKA 제조) 0.1질량부를, 아르곤 가스로 채운 용기 내에서 혼합, 균일하게 용해한 후, 글로브 박스 내에서, 용해물을 공경 5μm의 필터로 여과했다. 또한, 얻어진 여과물을 넣은 용기 내에 아르곤 가스를 도입하여, 용기 내를 아르곤 가스로 포화시켰다. 이어서, 감압하여 아르곤 가스를 제거함으로써, 발광 입자 함유 잉크 조성물 (1)을 얻었다. 발광 입자의 함유량은 1.5질량%이고, IB-X의 함유량은 58.5질량%이며, LM의 함유량은 6.5질량%이고, PO의 함유량은 4.2질량%이며, 1,6-HX의 함유량은 20.0질량%이고, TPO-H의 함유량은 3.0질량%이며, 819의 함유량은 1.0질량%이고, Irganox1010의 함유량은 1.0질량%이며, PEP-36의 함유량은 1.0질량%이고, 광산란성 입자의 함유량은 3.0질량%이며, 고분자 분산제의 함유량은, 0.3질량%였다. 또한, 상기 함유량은 잉크 조성물의 전체 질량을 기준으로 하는 함유량이다.An ink composition containing luminescent particles of Example 1, comprising 6.0 parts by mass of luminescent particle dispersion 1 (concentration of luminescent particles: 2.5% by mass), 0.75 parts by mass of light-diffusing particle dispersion 1 (content of titanium oxide: 40.0% by mass), and a photopolymerizable compound. As "lauryl methacrylate" (product name: light ester LM, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 0.65 parts by mass and "1,6-hexanediol dimethacrylate" (product name: light ester 1,6-HX, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 2.0 parts by mass of Eisha Chemical Co., Ltd.) and 0.3 parts by mass of "diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide" (product name: Omnirad TPO-H, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator and "phenyl Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide” (product name: Omnirad 819, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) 0.1 parts by mass, and “pentaerythritol tetrakis [3-(3 ,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]" (product name: Irganox 1010, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) 0.1 parts by mass, and as the second antioxidant (B), "3,9-bis( 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane” (product name: Adekastab PEP-36 , manufactured by ADEKA Co., Ltd.) After mixing and uniformly dissolving 0.1 part by mass in a container filled with argon gas, the melt was filtered with a filter having a pore size of 5 μm in a glove box. Furthermore, argon gas was introduced into the container containing the obtained filtrate, and the inside of the container was saturated with argon gas. Subsequently, the pressure was reduced and argon gas was removed to obtain the ink composition (1) containing luminescent particles. The content of luminescent particles is 1.5% by mass, the content of IB-X is 58.5% by mass, the content of LM is 6.5% by mass, the content of PO is 4.2% by mass, and the content of 1,6-HX is 20.0% by mass The content of TPO-H is 3.0% by mass, the content of 819 is 1.0% by mass, the content of Irganox1010 is 1.0% by mass, the content of PEP-36 is 1.0% by mass, and the content of light scattering particles is 3.0% by mass %, and the content of the polymer dispersant was 0.3% by mass. In addition, the said content is a content based on the total mass of an ink composition.

(발광 입자 함유 잉크 조성물 (2)~(37) 및 (C1)~(C5)의 조제)(Preparation of Ink Compositions (2) to (37) and (C1) to (C5) Containing Luminous Particles)

발광 입자 분산액 1~11, 광확산 입자 분산액 1~4, 광중합성 화합물 D-1~D-8, 광중합 개시제 E-1~E-4, 제1 산화 방지제(A) A-1~A-3 및 제2 산화 방지제(B) B-1~B-4, 광안정제 H-1~H-4의 첨가량을, 하기 표 2~표 6에 나타내는 첨가량으로 변경한 것 이외에는, 발광 입자 함유 잉크 조성물 (1)의 조제와 동일 조건으로, 실시예 2~37의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (2)~(37) 및 비교예 1~5의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (C1)~(C5)를 얻었다.Luminous particle dispersion 1 to 11, light diffusing particle dispersion 1 to 4, photopolymerizable compound D-1 to D-8, photopolymerization initiator E-1 to E-4, first antioxidant (A) A-1 to A-3 and second antioxidants (B) B-1 to B-4 and light stabilizers H-1 to H-4, except that the addition amounts shown in Tables 2 to 6 below were changed, the ink composition containing luminescent particles ( Under the same conditions as the preparation in 1), ink compositions (2) to (37) containing luminescent particles of Examples 2 to 37 and ink compositions (C1) to (C5) containing luminescent particles of Comparative Examples 1 to 5 were obtained.

또한, 하기 표 7 및 표 8에, 발광 입자 함유 잉크 조성물 중에 사용한 산화 방지제 B에 대한 산화 방지제 A의 비율(A/B), 광중합성 화합물 (M)의 총량 중에 있어서의 환상 구조를 갖는 광중합성 화합물 (Mc)의 질량 비율(Mc/M), 환상 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량 MC에 대한, 탄소수가 3 이상인 직쇄 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량 ML의 질량 비율(ML/MC)을 나타낸다.Further, in Tables 7 and 8 below, the ratio of antioxidant A to antioxidant B used in the ink composition containing luminescent particles (A/B) and the photopolymerizable compound having a cyclic structure in the total amount of the photopolymerizable compound (M) The mass ratio (Mc/M) of the compound ( Mc ) and the mass ratio (M L /M C ).

Figure 112023009896911-pct00038
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Figure 112023009896911-pct00039
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Figure 112023009896911-pct00040
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Figure 112023009896911-pct00041
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Figure 112023009896911-pct00042
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Figure 112023009896911-pct00043
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Figure 112023009896911-pct00044
Figure 112023009896911-pct00044

(제1 산화 방지제 A)(First antioxidant A)

Figure 112023009896911-pct00045
Figure 112023009896911-pct00045

화합물 (A-1): 「테트라키스[메틸렌-3(3'5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄」(제품명: IRGANOX 1010, 융점 110~130℃, 분자량 1178, BASF 재팬 주식회사 제조)Compound (A-1): "tetrakis[methylene-3(3'5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate]methane" (product name: IRGANOX 1010, melting point 110-130°C) , molecular weight 1178, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)

화합물 (A-2): 「3,9-비스[2-[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸」(제품명: 아데카스타브 AO-80, 융점 110~120℃, 분자량 741, 주식회사 ADEKA 제조)Compound (A-2): "3,9-bis[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl]-2; 4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane” (product name: Adekastab AO-80, melting point 110-120°C, molecular weight 741, manufactured by ADEKA Co., Ltd.)

화합물 (A-3): 「부틸하이드록시톨루엔」(제품명: ANTAGE BHT, 융점 70℃, 분자량 220, 가와구치 화학 공업 주식회사 제조)Compound (A-3): “butyl hydroxytoluene” (product name: ANTAGE BHT, melting point 70° C., molecular weight 220, manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.)

(제2 산화 방지제 B)(Second antioxidant B)

Figure 112023009896911-pct00046
Figure 112023009896911-pct00046

화합물 (B-1): 「3,9-비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸」(제품명: 아데카스타브 PEP-36, 융점 237℃, 분자량 633, 주식회사 ADEKA 제조)Compound (B-1): "3,9-bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [ 5.5] Undecane" (product name: Adekastab PEP-36, melting point 237°C, molecular weight 633, manufactured by ADEKA Co., Ltd.)

화합물 (B-2): 「아인산 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)」(제품명: 아데카스타브 2112, 융점 183℃, 분자량 647, 주식회사 ADEKA 제조)Compound (B-2): "tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite" (product name: Adekastab 2112, melting point 183°C, molecular weight 647, manufactured by ADEKA Corporation)

화합물 (B-3): 「2,4,8,10-테트라키스(1,1-디메틸에틸)-6-[(2-에틸헥실)옥시]-12H-디벤조[d,g][1,3,2]디옥사포스포신」(제품명: 아데카스타브 HP-10, 융점 148℃, 분자량 583, 주식회사 ADEKA 제조)Compound (B-3): "2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)-6-[(2-ethylhexyl)oxy]-12H-dibenzo[d,g][1 ,3,2]dioxaphosphosine” (product name: Adekastab HP-10, melting point 148°C, molecular weight 583, manufactured by ADEKA Co., Ltd.)

화합물 (B-4): 「트리페닐포스파이트」(제품명: JP-360, 융점 25℃, 분자량 310, 조호쿠 화학 공업 주식회사 제조)Compound (B-4): “triphenylphosphite” (product name: JP-360, melting point 25° C., molecular weight 310, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.)

(광중합성 화합물)(photopolymerizable compound)

화합물 (D-1): 「이소보닐메타크릴레이트」(제품명: 라이트 에스테르 IB-X, 교에이샤 화학 주식회사 제조)Compound (D-1): "Isobornyl methacrylate" (Product name: Light Ester IB-X, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

화합물 (D-2): 「라우릴메타크릴레이트」(제품명: 라이트 에스테르 L, 교에이샤 화학 주식회사 제조)Compound (D-2): "Lauryl methacrylate" (Product name: Light Ester L, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

화합물 (D-3): 「페녹시에틸메타크릴레이트」(제품명: 라이트 에스테르 PO, 교에이샤 화학 주식회사 제조)Compound (D-3): "Phenoxyethyl methacrylate" (Product name: Light Ester PO, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

화합물 (D-4): 「1,6-헥산디올디메타크릴레이트」(제품명: 라이트 에스테르 1,6-HX, 교에이샤 화학 주식회사 제조)Compound (D-4): “1,6-hexanediol dimethacrylate” (product name: light ester 1,6-HX, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

화합물 (D-5): 「1,6-헥산디올디아크릴레이트」(제품명: 라이트 아크릴레이트 1,6-HX-A, 교에이샤 화학 주식회사 제조)Compound (D-5): "1,6-hexanedioldiacrylate" (product name: light acrylate 1,6-HX-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

화합물 (D-6): 「네오펜틸글리콜디아크릴레이트」(제품명: 라이트 아크릴레이트 NP-A, 교에이샤 화학 주식회사 제조)Compound (D-6): "Neopentylglycol diacrylate" (product name: Light Acrylate NP-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

화합물 (D-7): 「PO 변성 글리세린트리아크릴레이트」(제품명: OTA480, 다이셀·올넥스 주식회사 제조)Compound (D-7): "PO modified glycerin triacrylate" (product name: OTA480, manufactured by Daicel Allnex Co., Ltd.)

화합물 (D-8): 「디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트」(제품명: LUMICURE DTA-400S, 도아 고세이 주식회사 제조)Compound (D-8): "Ditrimethylolpropane tetraacrylate" (product name: LUMICURE DTA-400S, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

(광중합 개시제)(photopolymerization initiator)

화합물 (E-1): 「디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드」(제품명: Omnirad TPO-H, 모노아실포스핀옥사이드계 화합물, IGM RESINS사 제조)Compound (E-1): "Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide" (product name: Omnirad TPO-H, monoacylphosphine oxide compound, manufactured by IGM RESINS)

화합물 (E-2): 「페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀산 에틸」(제품명: Omnirad TPO-L, 모노아실포스핀옥사이드계 화합물, IGM RESINS사 제조)Compound (E-2): “ethyl phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphinate” (product name: Omnirad TPO-L, monoacylphosphine oxide compound, manufactured by IGM RESINS)

화합물 (E-3): 「페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드」(제품명: Omnirad 819, 비스아실포스핀옥사이드계 화합물, IGM RESINS사 제조)Compound (E-3): "Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide" (product name: Omnirad 819, bisacylphosphine oxide compound, manufactured by IGM RESINS)

화합물 (E-4): 「2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논」 (제품명: Omnirad 651, 아세토페논계 화합물, IGM RESINS사 제조)Compound (E-4): "2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone" (product name: Omnirad 651, acetophenone compound, manufactured by IGM RESINS)

(광안정제)(light stabilizer)

화합물 (H-1): 아데카스타브 LA63P(제품명, 주식회사 ADEKA 제조, 관능기 당량: 269)Compound (H-1): ADEKA STAB LA63P (product name, manufactured by ADEKA Corporation, functional group equivalent: 269)

화합물 (H-2): TinuvinNOR371FF(제품명, BASF 재팬 주식회사 제조, 관능기 당량: 350)Compound (H-2): TinuvinNOR371FF (product name, manufactured by BASF Japan Co., Ltd., functional group equivalent: 350)

화합물 (H-3): 아데카스타브 LA72(제품명, 주식회사 ADEKA 제조, 관능기 당량: 255)Compound (H-3): ADEKA STAB LA72 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd., functional group equivalent: 255)

화합물 (H-4): 아데카스타브 LA52(제품명, 주식회사 ADEKA 제조, 관능기 당량: 212)Compound (H-4): ADEKA STAB LA52 (product name, manufactured by ADEKA Co., Ltd., functional group equivalent: 212)

<발광 입자 함유 잉크 조성물의 평가><Evaluation of Ink Composition Containing Luminous Particles>

(실시예 1)(Example 1)

(잉크 점도의 안정성)(stability of ink viscosity)

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (1)의 점도의 안정성을 이하의 방법으로 평가했다. 조제 직후의 잉크 조성물의 점도와, 조제 후에 40℃의 항온조에 1주간 보관한 잉크 조성물의 점도를 비교하여, 점도의 상승률을 산출했다. 구체적으로는, 조제 직후의 잉크 조성물의 점도를 η0으로 하고, 조제 후에 40℃의 항온조에 1주간 보관한 잉크 조성물의 점도를 η1로 하여 이하의 식으로 산출한바, 0.11%였다.The viscosity stability of the ink composition containing luminescent particles (1) of the present invention was evaluated by the following method. The viscosity of the ink composition immediately after preparation and the viscosity of the ink composition stored in a thermostat at 40°C for one week after preparation were compared to calculate the rate of increase in viscosity. Specifically, when η 0 was the viscosity of the ink composition immediately after preparation and η 1 was the viscosity of the ink composition stored in a thermostat at 40°C for 1 week after preparation, it was 0.11%.

점도 상승률(%)=(η10)/η0×100Viscosity increase rate (%) = (η 10 )/η 0 × 100

(분산 안정성)(variance stability)

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (1)을 대기하에서 10일간 방치한 후, 용기의 바닥면에 침전물의 유무를 눈으로 보아 확인한바, 침전물은 전혀 생기지 않았다.After the ink composition (1) containing luminescent particles of the present invention was left in the atmosphere for 10 days, the presence or absence of a precipitate was visually confirmed on the bottom surface of the container, and no precipitate was formed.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

A: 침전물이 전혀 생기지 않았다.A: No precipitate was formed.

B: 침전물이 매우 조금 생기고 있다. 진탕함으로써 침전물이 용해된다.B: A precipitate is formed very little. Shaking dissolves the precipitate.

C: 침전물이 약간 많이 생기고 있다. 진탕해도 침전물이 남는다.C: A lot of precipitate is formed. Shaking also leaves a precipitate.

D: 침전물이 상당히 생기고 있고, 침전물과 액체 성분이 확실하게 나뉘어 있다. 진탕해도 침전물이 남는다.D: A precipitate is formed considerably, and the precipitate and the liquid component are clearly separated. Shaking also leaves a precipitate.

(실시예 2~30)(Examples 2 to 30)

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (2)~(37)을 이용하여, 실시예 1과 동일하게, 발광 입자 함유 잉크 조성물 (2)~(37)의 초기 점도, 점도 안정성, 분산 안정성의 평가를 행했다.Evaluation of the initial viscosity, viscosity stability and dispersion stability of the ink compositions (2) to (37) containing luminescent particles was performed in the same manner as in Example 1 using the ink compositions (2) to (37) containing luminescent particles of the present invention. did

(비교예 1~6)(Comparative Examples 1 to 6)

비교용 발광 입자 함유 잉크 조성물 (C1)~(C6)을 이용하여, 실시예 1과 동일하게, 발광 입자 함유 잉크 조성물 (C1)~(C6)의 초기 점도, 점도 안정성, 분산 안정성의 평가를 행했다.Using the comparative luminescent particle-containing ink compositions (C1) to (C6), the initial viscosity, viscosity stability, and dispersion stability of the luminescent particle-containing ink compositions (C1) to (C6) were evaluated in the same manner as in Example 1. .

결과를 표 9 및 표 10에 나타낸다.The results are shown in Table 9 and Table 10.

Figure 112023009896911-pct00047
Figure 112023009896911-pct00047

Figure 112023009896911-pct00048
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<광변환층의 평가><Evaluation of light conversion layer>

(실시예 31)(Example 31)

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (1)을, 유리 기판 상에, 건조 후의 막 두께가 15μm가 되도록, 스핀 코터로 대기 중에서 도포했다. 도포막을 질소 분위기하, 주파장 395nm의 LED 램프를 이용한 UV 조사 장치로 적산 광량 10J/cm2가 되도록 UV를 조사하여 경화시킨 후, 산소 농도 1체적% 이하의 글로브 박스 중에서 30분간, 180℃에서 가열하여, 유리 기판 상에 당해 잉크 조성물의 경화물로 이루어지는 층을 형성하고, 이것을 광변환층 1로 했다. 이하와 같이 하여, 광변환층의 표면 평활성 및 외부 양자 효율 유지율을 평가했다.The ink composition (1) containing luminescent particles of the present invention was applied onto a glass substrate in air with a spin coater so that the film thickness after drying was 15 µm. The coated film was cured by UV irradiation in a nitrogen atmosphere with a UV irradiation device using a LED lamp with a dominant wavelength of 395 nm to a cumulative light amount of 10 J/cm 2 , and then in a glove box with an oxygen concentration of 1 vol% or less at 180 ° C. for 30 minutes. It was heated to form a layer made of a cured product of the ink composition on a glass substrate, and this was referred to as the light conversion layer 1. The surface smoothness and external quantum efficiency retention rate of the light conversion layer were evaluated as follows.

(도막 경화성)(Coating film curability)

얻어진 광변환층 1의 표면을, 면봉을 이용한 촉진으로, 이하의 기준으로 평가한바, 도막 표면에 상처는 나지 않고, 약간 택(tack)감이 있었지만, 실용상 문제가 없는 레벨이었다.The surface of the obtained light conversion layer 1 was evaluated by the following criteria by palpation using a cotton swab. The surface of the coating film was not damaged and had a slightly tacky feeling, but the level was satisfactory in practical use.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

◎: 도막 표면에 상처가 나지 않는다◎: No damage to the surface of the coating film

○: 도막 표면에 상처는 나지 않고, 약간의 택감이 있지만, 실용상 문제없는 레벨○: There is no scratch on the surface of the coating film, and there is a slight tackiness, but it is a level that is not problematic in practical use.

△: 도막 표면에 약간 상처가 나고, 택감이 있다△: The surface of the coating film is slightly scratched and has a tacky feel

×: 도막 표면에 상처가 나고, 경화막의 일부가 면봉에 부착한다×: The surface of the coating film is scratched, and a part of the cured film adheres to the cotton swab

(표면 평활성 평가)(surface smoothness evaluation)

얻어진 광변환층 1의 표면 거칠기(Sa값; 단위 μm)를, 료카 시스템의 VertScan3.0R4300을 이용하여 측정한바, 0.07μm였다.The surface roughness (Sa value; unit μm) of the obtained light conversion layer 1 was measured using VertScan3.0R4300 of Ryoka Systems, and was 0.07 μm.

(외부 양자 효율(EQE)의 평가)(Evaluation of external quantum efficiency (EQE))

면 발광 광원으로서의 시시에스 주식회사 제조의 청색 LED(피크 발광 파장: 450nm)의 상방에 적분구를 설치하고, 이 적분구에 오쓰카 전자 주식회사 제조의 방사 분광 광도계(상품명 「MCPD-9800」)를 접속했다. 다음으로, 청색 LED와 적분구의 사이에 상술한 평가용 시료 1을 삽입하고, 청색 LED를 점등시켜, 관측되는 스펙트럼 및 각 파장에 있어서의 조도를 방사 분광 광도계에 의하여 측정했다. 얻어진 스펙트럼 및 조도로부터, 이하와 같이 하여 외부 양자 효율(EQE)을 구했다.An integrating sphere was placed above a blue LED (peak emission wavelength: 450 nm) manufactured by CISS Co., Ltd. as a surface emitting light source, and a radiation spectrophotometer manufactured by Otsuka Electric Co., Ltd. (trade name "MCPD-9800") was connected to the integrating sphere. . Next, the evaluation sample 1 described above was inserted between the blue LED and the integrating sphere, the blue LED was turned on, and the observed spectrum and illuminance at each wavelength were measured with a radiation spectrophotometer. From the obtained spectrum and illuminance, the external quantum efficiency (EQE) was determined as follows.

외부 양자 효율은, 광변환층에 입사한 광(광자) 중, 어느 정도의 비율로 형광으로서 관측자 측에 방사되는지를 나타내는 값이다. 따라서, 이 값이 크면 광변환층이 발광 특성이 우수한 것을 나타내고 있어, 중요한 평가 지표이다. 외부 양자 효율(EQE)은, 이하의 식 (1)로 산출된다.The external quantum efficiency is a value indicating what ratio of light (photons) incident on the light conversion layer is emitted to the observer side as fluorescence. Therefore, when this value is large, it indicates that the light conversion layer has excellent light emitting properties, and is an important evaluation index. The external quantum efficiency (EQE) is calculated by the following formula (1).

EQE[%]=P2/E(Blue)×100…(1)EQE[%]=P2/E(Blue)×100... (One)

식 중, E(Blue)는, 380~490nm의 파장역에 있어서의 「조도×파장÷hc」의 합계값을 나타내고, P2는, 500~650nm의 파장역에 있어서의 「조도×파장÷hc」의 합계값을 나타내며, 이들은 관측한 광자수에 상당하는 값이다. 또한, h는, 플랑크 상수, c는 광속을 나타낸다.In the formula, E (Blue) represents the total value of “illuminance × wavelength ÷ hc” in the wavelength range of 380 to 490 nm, and P2 is “illuminance × wavelength ÷ hc” in the wavelength range of 500 to 650 nm. represents the total value of , and these are values corresponding to the number of observed photons. In addition, h represents Planck's constant, and c represents the speed of light.

그리고, 상기 광변환층 1을 제작한 직후에 측정한 EQE를 초기의 외부 양자 효율 EQE0으로 하고, EQE0을 측정한바, 32%였다. 그 후, 광변환층 1을 80℃ 또한 대기하에서 1주간 보관했다. 보관 후의 외부 양자 효율을 EQEh로 하고, 이하의 식 (2)에 의하여, 광변환층의 외부 양자 효율의 유지율 EQEHT[%]를 산출했다.And, when the EQE measured immediately after producing the light conversion layer 1 was set as the initial external quantum efficiency EQE 0 and EQE 0 was measured, it was 32%. Thereafter, the photoconversion layer 1 was stored at 80°C and in the air for 1 week. The external quantum efficiency after storage was set to EQE h , and the retention rate EQE HT [%] of the external quantum efficiency of the light conversion layer was calculated by the following formula (2).

EQEHT[%]=EQEh/EQE0×100…(2)EQE HT [%]=EQE h /EQE 0 ×100… (2)

여기서, EQE0은, 수치가 클수록, 도막의 경화 공정에 있어서의 자외선에 의한 반도체 나노 결정의 열화가 작은, 즉, 자외선에 대한 안정성이 우수한 것을 의미한다. 광변환층으로서 사용하기 위해서는, EQE0은 20% 이상이 바람직하고, 25% 이상이 보다 바람직하며, 우수한 것을 의미한다. 또한, 광변환층은, EQE0에 더하여, 추가로 EQEh가 높은 것이 바람직하고, 외부 양자 효율 유지율 EQEHT가 높을수록, 발광 입자를 포함하는 광변환층의 산소 가스 및 수증기에 대한 안정성이 높은 것을 의미한다.Here, EQE 0 means that the higher the numerical value, the smaller the deterioration of the semiconductor nanocrystal by ultraviolet rays in the curing process of the coating film, that is, the better the stability against ultraviolet rays. For use as a light conversion layer, EQE 0 is preferably 20% or more, more preferably 25% or more, and means excellent. In addition, the photo conversion layer preferably has a higher EQE h in addition to EQE 0 , and the higher the external quantum efficiency retention rate EQE HT , the higher the stability of the photo conversion layer including light-emitting particles against oxygen gas and water vapor. means that

(도막 내광성의 평가)(Evaluation of coating light resistance)

상기 광변환층 1을 50℃하에서 LED광을 1주간 계속 조사했다. 조사 후의 외부 양자 효율을 EQEu로 하고, 이하의 식 (3)에 의하여, 광변환층의 외부 양자 효율의 유지율 EQEUV[%]를 산출했다.The light conversion layer 1 was continuously irradiated with LED light at 50° C. for one week. The external quantum efficiency after irradiation was set to EQE u , and the retention rate EQE UV [%] of the external quantum efficiency of the light conversion layer was calculated by the following formula (3).

EQEUV[%]=EQEu/EQE0×100…(3)EQE UV [%]=EQE u /EQE 0 ×100… (3)

광변환층은, EQE0에 더하여, 추가로 EQEu가 높은 것이 바람직하다. 광변환층은, 외부 양자 효율 유지율 EQEUV가 높을수록, 고온하에서의 내광성이 우수한 것을 의미한다.The photoconversion layer preferably has a higher EQE u in addition to EQE 0 . A light conversion layer means that the light resistance under high temperature is excellent, so that the external quantum efficiency retention rate EQE UV is high.

(실시예 39~74)(Examples 39 to 74)

본 발명의 발광 입자 함유 잉크 조성물 (2)~(37)을 이용하여, 실시예 38과 동일하게, 광변환층 1~37의 표면 거칠기 Sa(μm), EQE0(%), EQEHT(%) 및 EQEUV(%)의 평가를 행했다.Surface roughness Sa (μm), EQE 0 (%), EQE HT (% ) and EQE UV (%) were evaluated.

(비교예 7~12)(Comparative Examples 7 to 12)

비교용 발광 입자 함유 잉크 조성물 (C1)~(C6)을 이용하여, 실시예 38과 동일하게, 광변환층 C1~C6의 표면 거칠기 Sa(μm), EQE0(%) 및 EQEHT(%) 및 EQEUV(%)의 평가를 행했다.Surface roughness Sa (μm), EQE 0 (%) and EQE HT (%) of the light conversion layers C1 to C6 using the comparative light-emitting particle-containing ink compositions (C1) to (C6), as in Example 38 and EQE UV (%) were evaluated.

결과를 표 11 및 표 12에 나타낸다.A result is shown in Table 11 and Table 12.

Figure 112023009896911-pct00049
Figure 112023009896911-pct00049

Figure 112023009896911-pct00050
Figure 112023009896911-pct00050

<발광 입자 함유 잉크 조성물 및 광변환층의 평가 결과><Evaluation results of ink composition containing light emitting particles and light conversion layer>

우선, 실시예 1~11, 및 비교예 1~6의 발광 입자 함유 잉크 조성물, 그리고, 그들을 이용하여 제작한 실시예 38~48 및 비교예 7~11의 광변환층에 대하여 검토한다. 비교예 1의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 광중합 개시제를 1종만 사용하고, 또한 산화 방지제를 포함하지 않기 때문에, 잉크 점도의 경시 상승이 억제되어 있지 않고, 또한 비교예 7의 광변환층에서의 EQEHT 및 EQEUV가 낮다. 비교예 2~4, 6에서는, 산화 방지제를 함유하지만, 광중합 개시제를 1종만 다량으로 사용하고 있는 점에서, 잉크 초기 점도가 높고, 또한 점도의 경시 상승도 억제되어 있지 않고, 또한 비교예 8~10, 12의 광변환층에서는 경화성이 뒤떨어져 도막 표면은 보다 거칠며, EQEHT 및 EQEUV가 낮다. 또한, 비교예 5의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 광중합 개시제를 1종만, 또한 0.5질량%로 극소량을 사용하고 있어, 잉크 점도는 낮게 억제되어 있지만, 비교예 11의 광변환층을 형성할 때에, 충분한 경화성이 얻어져 있지 않아, 광변환층으로서의 성능을 전혀 갖지 않는다.First, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6, and the light conversion layers of Examples 38 to 48 and Comparative Examples 7 to 11 prepared using them are examined. Since the ink composition containing luminescent particles of Comparative Example 1 uses only one photopolymerization initiator and does not contain an antioxidant, the increase in ink viscosity over time is not suppressed, and the EQE in the light conversion layer of Comparative Example 7 is not suppressed. HT and EQE UVs are low. In Comparative Examples 2 to 4 and 6, antioxidants are included, but since only one type of photopolymerization initiator is used in a large amount, the ink initial viscosity is high, and the increase in viscosity with time is not suppressed, and Comparative Examples 8 to In the light conversion layers of Nos. 10 and 12, the curability was poor, the coating film surface was rougher, and EQE HT and EQE UV were low. Further, the ink composition containing luminescent particles of Comparative Example 5 uses only one photopolymerization initiator and a very small amount of 0.5% by mass, and the ink viscosity is suppressed to a low level. However, when forming the light conversion layer of Comparative Example 11, Sufficient curability was not obtained, and it did not have any performance as a light conversion layer.

이에 대하여, 실시예 1~6의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 2종의 광중합 개시제를 사용함으로써 전체의 사용량을 저감시키면서, 제1 산화 방지제 및 제2 산화 방지제를 함유하는 점에서, 잉크 초기 점도가 낮고, 또한 경시 증점이 억제되어 있으며, 또한 실시예 38~43의 광변환층으로 했을 때의 경화성, 표면 거칠기, EQEHT 및 EQEUV도 양호하다. 또한, 실시예 7~11의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 2종의 광중합 개시제를 사용함으로써 전체의 사용량을 저감시키면서, 제1 산화 방지제 및 제2 산화 방지제를 보다 적게 적절량을 함유하는 점에서, 잉크 초기 점도가 더욱 낮고, 또한 경시 증점이 억제되어 있으며, 또한 실시예 44~48의 광변환층으로 했을 때의 경화성, 표면 거칠기, EQEHT 및 EQEUV도 양호하다. 이것으로부터, 실시예 1~11의 발광 입자 함유 잉크 조성물은, 비교예 1~4와 비교하여, 잉크젯에 적정한 잉크 점도와, 분산 안정성을 유지하면서, 도막이 된 경우에는, 경화성에 문제가 없는, 평활한 광변환층을 형성할 수 있고, 그 도막은, 산소, 수증기 및 열에 대한 우수한 안정성을 확보하고, 우수한 발광 특성을 갖는 광변환층인 것이 분명하다.In contrast, the ink compositions containing luminescent particles of Examples 1 to 6 contain the first antioxidant and the second antioxidant while reducing the total amount of use by using two types of photopolymerization initiators, so that the ink initial viscosity is It is low, and the thickening over time is suppressed, and the curability, surface roughness, EQE HT and EQE UV when the light conversion layers of Examples 38 to 43 are also good. In addition, the luminescent particle-containing ink compositions of Examples 7 to 11 contain less appropriate amounts of the first antioxidant and the second antioxidant while reducing the total usage amount by using two types of photopolymerization initiators, The initial viscosity of the ink is lower, and the thickening over time is suppressed, and the curability, surface roughness, EQE HT and EQE UV when the light conversion layers of Examples 44 to 48 are also good. From this, compared with Comparative Examples 1 to 4, the ink compositions containing luminescent particles of Examples 1 to 11 maintain a suitable ink viscosity and dispersion stability for inkjet, and when formed into a coating film, have no problem in curability and smoothness. A light conversion layer can be formed, and it is clear that the coating film is a light conversion layer that secures excellent stability against oxygen, water vapor and heat and has excellent light emitting properties.

다음으로, 실시예 1, 12~15의 발광 입자 함유 잉크 조성물, 및 그들을 이용하여 제작한 실시예 38, 49~52의 광변환층에 대하여 검토한다. 실시예 1, 12~15의 잉크 조성물은, 표면에 실리카 피복층이 존재하는 발광 입자를 이용하고 있고, 실시예 12 및 15의 잉크 조성물은, 추가로 폴리머층으로 피복된 발광 입자를 이용하고 있다. 이들 잉크 조성물은, 잉크 점도의 안정성 및 분산 안정성이 우수하고, 실시예 49 및 52의 광변환층에 있어서의 경화성은 양호하며, 표면 거칠기는 작고, EQEHT 및 EQEUV도 우수하며, 특히, 실시예 15의 잉크 조성물에 이용한 발광 입자를 함유하는 경우에 가장 우수한 특성이 얻어지고 있다. 이것으로부터, 광중합 개시제를 2종 사용하고, 또한 제1 산화 방지제 및 제2 산화 방지제를 함유하는 경우에, 실리카층 및 폴리머층에 의하여 피복된 발광 입자를 이용하는 것이, 우수한 특성을 부여하는 것이 분명하다.Next, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 1 and 12 to 15 and the photoconversion layers of Examples 38 and 49 to 52 prepared using them are reviewed. The ink compositions of Examples 1 and 12 to 15 use luminescent particles having a silica coating layer on the surface, and the ink compositions of Examples 12 and 15 use luminescent particles further coated with a polymer layer. These ink compositions have excellent stability of ink viscosity and dispersion stability, good curability in the light conversion layer of Examples 49 and 52, small surface roughness, and excellent EQE HT and EQE UV . The most excellent properties were obtained when the ink composition of Example 15 contained the luminescent particles used. From this, it is clear that when two types of photopolymerization initiators are used and the first antioxidant and the second antioxidant are contained, using light-emitting particles coated with a silica layer and a polymer layer gives excellent properties. .

다음으로, 실시예 7, 17 및 19의 발광 입자 함유 잉크 조성물, 및 그들을 이용하여 제작한 실시예 44, 54 및 56의 광변환층에 대하여 검토한다. 이들 잉크 조성물은, 상이한 구조를 갖는 중합성 화합물을 함유하고, 구체적으로는, 환상 구조를 갖는 화합물, 쇄상 구조를 갖는 화합물을 함유한다. 환상 구조의 광중합성 화합물을 많이 함유하는 실시예 7 및 17의 잉크 조성물은, 잉크 점도 안정성, 분산 안정성이 우수하고, 실시예 44 및 54의 광변환층에 있어서의 경화성, 표면 거칠기, EQEHT 및 EQEUV도 양호하다. 이에 대하여, 실시예 19의 잉크 조성물은, 잉크 점도 안정성, 분산 안정성이 약간 뒤떨어지고, 실시예 56의 광변환층에 있어서의 EQEHT 및 EQEUV도 약간 뒤떨어지지만, 실용상 문제가 없는 레벨인 것은 분명하다. 이들 점에서, 발광 입자 함유 잉크 조성물에는, 광중합성 화합물 중의 환상 구조를 갖는 광중합성 화합물의 비율을 많게 하는 것이, 잉크 특성과 광변환층에 있어서의 특성이 우수한 것이 분명하다.Next, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 7, 17, and 19, and the photoconversion layers of Examples 44, 54, and 56 prepared using them are reviewed. These ink compositions contain polymerizable compounds having different structures, specifically, compounds having a cyclic structure and compounds having a chain structure. The ink compositions of Examples 7 and 17 containing a large amount of the photopolymerizable compound having a cyclic structure are excellent in ink viscosity stability and dispersion stability, and the curability, surface roughness, EQE HT and EQE UV is also good. On the other hand, the ink composition of Example 19 is slightly inferior in ink viscosity stability and dispersion stability, and slightly inferior in EQE HT and EQE UV in the light conversion layer of Example 56, but it is a level that is not problematic in practical use. Obvious. From these points, it is clear that the ratio of the photopolymerizable compound having a cyclic structure in the photopolymerizable compound in the ink composition containing the luminescent particles is excellent in ink properties and properties in the light conversion layer.

또한, 실시예 19~25의 발광 입자 함유 잉크 조성물, 및 그들을 이용하여 제작한 실시예 56~62의 광변환층에 대하여 검토한다. 이들 잉크 조성물에서는, 가교 성분으로서 작용하는 2관능 이상의 광중합성 화합물의 종류가 상이하지만, 제1 산화 방지제 A 및 제2 산화 방지제 B를 함유하는 경우에는, 어느 조성물의 경우에 있어서도, 잉크 점도의 안정성, 분산 안정성이 우수하고, 광변환층에 있어서의 경화성, 표면 거칠기, EQEHT 및 EQEUV가 우수한 점에서, 실용상 문제가 없는 잉크 조성물인 것이 분명하다.In addition, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 19 to 25 and the light conversion layers of Examples 56 to 62 produced using them are reviewed. In these ink compositions, although the types of the bifunctional or higher-functional photopolymerizable compound acting as a crosslinking component are different, when the first antioxidant A and the second antioxidant B are contained, the stability of the ink viscosity in either composition. , excellent in dispersion stability, and excellent in curability, surface roughness, EQE HT and EQE UV in the light conversion layer, it is clear that the ink composition is satisfactory in practical use.

다음으로, 실시예 19, 26~28 및 비교예 4의 발광 입자 함유 잉크 조성물과, 그들을 이용하여 제작한 실시예 56, 63~65 및 비교예 10의 광변환층에 대하여 검토한다. 실시예 19, 26~28의 잉크 조성물에서는, 어느 것도, 아실포스핀옥사이드계 화합물을 2종류 이상 함유하고, 또한 제1 산화 방지제 A 및 제2 산화 방지제 B를 함유하는 것이며, 광중합 개시제의 종류 및 첨가량이 상이하나, 어느 잉크 조성에 있어서도, 잉크 점도의 안정성 및 분산 안정성이 우수하고, 또한 실시예 56, 63~65의 광변환층에 있어서의 경화성, 표면 거칠기 및 EQE 유지율도 우수하며, 아실포스핀옥사이드계 화합물만을 함유하는 조성물이 특히 양호하다. 한편, 비교예 4의 잉크 조성에서는, 아실포스핀옥사이드계 화합물의 광중합 개시제를 1종만 함유하지만, 어느 정도의 경화성을 부여하기 위하여 다량을 함유하고 있고, 그 결과, 제1 및 제2 산화 방지제를 함유하고 있어도, 잉크 점도 및 분산 안정성이 뒤떨어지고, 비교예 10의 광변환층에 있어서의 특성도 뒤떨어지는 것이다. 이것으로부터, 광중합 개시제를 2종류 함유함으로써 잉크 조성물 중의 용해성을 확보하는 것이 중요한 것을 알 수 있다.Next, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 19, 26 to 28 and Comparative Example 4, and the light conversion layer of Examples 56, 63 to 65 and Comparative Example 10 prepared using them are reviewed. In the ink compositions of Examples 19 and 26 to 28, all of them contain two or more types of acylphosphine oxide compounds, and also contain first antioxidant A and second antioxidant B, and the type of photopolymerization initiator and Although the addition amount is different, in any ink composition, the stability of ink viscosity and dispersion stability are excellent, and the curability, surface roughness and EQE retention rate in the light conversion layers of Examples 56 and 63 to 65 are also excellent, and acylphos Compositions containing only pinoxide-based compounds are particularly preferred. On the other hand, in the ink composition of Comparative Example 4, only one type of photopolymerization initiator of an acylphosphine oxide compound is contained, but a large amount is contained in order to impart a certain degree of curability, and as a result, the first and second antioxidants are Even if it is contained, the ink viscosity and dispersion stability are inferior, and the characteristics in the light conversion layer of Comparative Example 10 are also inferior. From this, it turns out that it is important to ensure solubility in an ink composition by containing two types of photoinitiators.

또한, 실시예 19, 29~30 및 비교예 6의 발광 입자 함유 잉크 조성물과 그들을 이용하여 제작한 실시예 56, 66~67 및 비교예 12의 광변환층에 대하여 검토한다. 실시예 19, 29~30의 잉크 조성물은, 함유하는 고분자 분산제가 서로 상이하고, 비교예 6의 잉크 조성물은, 광중합 개시제가 1종일뿐만 아니라 고분자 분산제를 함유하지 않는다. 실시예 19, 29~30의 잉크 조성물은, 아민가 및 산가가 상이한 고분자 분산제를 함유한다. 이들 평가 결과로부터는, 아민가를 갖는 고분자 분산제를 함유하는 잉크 조성물에 있어서는, 광산란 입자 및 발광 입자의 양호한 분산 안정성을 나타내고 있다. 특히, 아민가만을 갖는 고분자 분산제에 있어서는 매우 우수한 분산 안정성을 갖고 있는 것을 알 수 있다. 잉크의 분산 안정성이 약간 뒤떨어지는 실시예 30의 잉크 조성물에서는, 실시예 67의 광변환층의 표면 거칠기가 약간 뒤떨어져 있다. 이것으로부터, 평탄한 광변환층을 얻기 위해서는 분산 안정성이 우수한 것이 잉크 조성물로서는 중요한 것을 알 수 있다. 이들 잉크 조성물은, 실제의 사용상에서는 문제가 되는 레벨은 아니다. 한편, 광중합 개시제가 1종일뿐만 아니라 고분자 분산제를 함유하지 않는 비교예 6의 잉크 조성물은, 잉크 초기 점도도 현저하게 높고, 점도 안정성도 매우 뒤떨어지며, 분산 안정성도 뒤떨어져 있다. 그 때문에, 비교예 12의 광변환층의 각 특성도 매우 뒤떨어져, 실사용에 견디지 못할 것이 분명하다.In addition, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 19 and 29 to 30 and Comparative Example 6 and the photoconversion layer of Examples 56 and 66 to 67 and Comparative Example 12 prepared using them are reviewed. The ink compositions of Examples 19 and 29 to 30 contained different polymer dispersants, and the ink composition of Comparative Example 6 had only one photopolymerization initiator and did not contain a polymer dispersant. The ink compositions of Examples 19 and 29 to 30 contain polymeric dispersants having different amine values and acid values. From these evaluation results, good dispersion stability of the light-scattering particles and the light-emitting particles is shown in the ink composition containing the polymer dispersant having an amine value. In particular, it can be seen that a polymer dispersant having only an amine value has very excellent dispersion stability. In the ink composition of Example 30, which is slightly inferior in dispersion stability of the ink, the surface roughness of the light conversion layer of Example 67 is slightly inferior. From this, it can be seen that excellent dispersion stability is important as an ink composition in order to obtain a flat light conversion layer. These ink compositions are not at a level that becomes a problem on actual use. On the other hand, the ink composition of Comparative Example 6 containing not only one photopolymerization initiator but also no polymer dispersant had a remarkably high initial ink viscosity, very poor viscosity stability, and poor dispersion stability. Therefore, each characteristic of the light conversion layer of Comparative Example 12 is also very inferior, and it is clear that it cannot withstand practical use.

다음으로, 실시예 31~37의 발광 입자 함유 잉크 조성물과, 그들을 이용하여 작성한 실시예 68~74의 광변환층에 대하여 검토한다. 실시예 31의 잉크 조성물은, 표면에 실리카 피복층이 존재하는 발광 입자를 이용하고 있다. 이 잉크 조성물은, 잉크 점도의 안정성 및 분산 안정성이 우수하고, 실시예 68의 광변환층에 있어서의 경화성은 양호하며, 표면 거칠기는 작고, EQEHT 및 EQEUV도 우수하다. 또, 실시예 32 및 33의 잉크 조성물은, 표면에 실리카층이 더욱 두껍게 존재하는 발광 입자를 이용하고 있어, 잉크 점도의 안정성 및 분산 안정성이 우수하고, 실시예 69 및 70의 광변환층에 있어서의 경화성은 매우 양호하며, EQEHT 및 EQEUV도 매우 우수하다. 또한, 실시예 34~37의 잉크 조성물은, 광안정제를 이용하고 있어, 잉크 점도의 안정성 및 분산 안정성이 우수하고, 실시예 71~74의 광변환층에 있어서의 경화성, EQEHT 및 EQEUV가 매우 우수하다. 이것으로부터, 실리카층에 의하여 피복된 발광 입자를 이용하는 것이, 우수한 특성을 부여하는 것이 분명하다.Next, the light-emitting particle-containing ink compositions of Examples 31 to 37 and the light conversion layers of Examples 68 to 74 prepared using them are examined. The ink composition of Example 31 uses luminescent particles having a silica coating layer on the surface. This ink composition has excellent ink viscosity stability and dispersion stability, good curability in the light conversion layer of Example 68, small surface roughness, and excellent EQE HT and EQE UV . In addition, the ink compositions of Examples 32 and 33 use light-emitting particles having a thicker silica layer on the surface, and thus have excellent ink viscosity stability and dispersion stability, and in the light conversion layers of Examples 69 and 70 The curability of is very good, and EQE HT and EQE UV are also very good. In addition, the ink compositions of Examples 34 to 37 use a light stabilizer, and are excellent in stability of ink viscosity and dispersion stability, and the curability, EQE HT and EQE UV in the light conversion layer of Examples 71 to 74 are excellent. very excellent From this, it is clear that using the luminescent particles covered by the silica layer imparts excellent characteristics.

이상으로부터, 실시예 1~37의 발광 입자 함유 잉크 조성물에 의하여 얻어진 실시예 38~74의 광변환층은, 발광 특성이 우수하고, 평활한 표면을 구비하는 것이 분명하다. 따라서, 이들 광변환층을 이용하여, 발광 소자의 컬러 필터 화소부를 구성한 경우에는, 우수한 발광 특성을 얻을 수 있을 것으로 기대할 수 있다.From the above, it is clear that the light conversion layers of Examples 38 to 74 obtained by the ink compositions containing light emitting particles of Examples 1 to 37 have excellent light emission properties and have smooth surfaces. Therefore, when the color filter pixel portion of the light emitting element is constituted using these light conversion layers, it can be expected that excellent light emitting characteristics can be obtained.

100 발광 소자
200 EL 광원부
1 하측 기판
2 양극
3 정공 주입층
4 정공 수송층
5 발광층
6 전자 수송층
7 전자 주입층
8 음극
9 봉지층
10 충전층
11 보호층
12 광변환층
13 상측 기판
14 EL층
20 화소부
20a 제1 화소부
20b 제2 화소부
20c 제3 화소부
21a 제1 광확산 입자
21b 제2 광확산 입자
21c 제3 광확산 입자
22a 제1 경화 성분
22b 제2 경화 성분
22c 제3 경화 성분
90a 제1 발광 입자
90b 제2 발광 입자
30 차광부
90 발광 입자, 폴리머 피복 입자
91 발광 입자
911 나노 결정
912 중공 나노 입자
912a 중공부
912b 세공
913 중간층
914 표면층
92 폴리머층
701 콘덴서
702 구동 트랜지스터
705 공통 전극
706 신호선
707 주사선
708 스위칭 트랜지스터
C1 신호선 구동 회로
C2 주사선 구동 회로
C3 제어 회로
PE, R, G, B 화소 전극
X 공중합체
XA 회합체
x1 지방족 폴리아민쇄
x2 소수성 유기 세그먼트
YA 코어-셸형 실리카 나노 입자
Z 반도체 나노 결정의 원료 화합물을 함유하는 용액
100 light-emitting elements
200 EL light source
1 lower board
2 anode
3 hole injection layer
4 hole transport layer
5 light emitting layer
6 electron transport layer
7 electron injection layer
8 cathode
9 bag layers
10 packed bed
11 protective layer
12 light conversion layer
13 upper board
14 EL layer
20 pixel part
20a first pixel unit
20b second pixel unit
20c third pixel unit
21a first light diffusion particles
21b second light diffusing particles
21c third light-diffusing particles
22a first curing component
22b second curing component
22c third curing component
90a first luminous particles
90b second luminous particles
30 light blocking part
90 Luminescent Particles, Polymer Coated Particles
91 Luminous Particles
911 nanocrystal
912 hollow nanoparticles
912a hollow part
912b handwork
913 Intermediate Layer
914 surface layer
92 polymer layer
701 capacitor
702 drive transistor
705 common electrode
706 signal line
707 scanline
708 switching transistor
C1 signal line driving circuit
C2 scan line driving circuit
C3 control circuit
PE, R, G, B pixel electrodes
X copolymer
XA association
x1 aliphatic polyamine chain
x2 hydrophobic organic segment
YA core-shell silica nanoparticles
A solution containing raw material compounds of Z semiconductor nanocrystals

Claims (17)

메탈할라이드로 이루어지고 발광성을 갖는 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자와, 광중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 산화 방지제를 함유하고,
상기 광중합 개시제로서, 아실포스핀옥사이드계 화합물을 2종 이상 함유하고,
상기 산화 방지제로서, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물 및 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물을 1종 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물.
Containing nanoparticles made of metal halide and containing semiconductor nanocrystals having luminescent properties, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an antioxidant;
As the photopolymerization initiator, two or more types of acylphosphine oxide compounds are contained,
An ink composition containing luminescent particles characterized by containing at least one compound selected from the group consisting of a compound having a hydroxyphenyl group and a compound having a phosphorous acid ester structure as the antioxidant.
청구항 1에 있어서,
상기 광중합 개시제의 함유량이, 1~15질량%인 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 1,
An ink composition containing luminescent particles, characterized in that the content of the photopolymerization initiator is 1 to 15% by mass.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 산화 방지제가, 하이드록시페닐기를 갖는 화합물을 적어도 1종 이상 포함하는 제1 산화 방지제 A와, 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물을 적어도 1종 이상 포함하는 제2 산화 방지제 B를 함유하는 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물.
According to claim 1 or claim 2,
The antioxidant comprises a first antioxidant A containing at least one compound having a hydroxyphenyl group and a second antioxidant B containing at least one compound having a phosphorous acid ester structure. An ink composition containing luminescent particles.
청구항 3에 있어서,
상기 제2 산화 방지제 B에 대한 상기 제1 산화 방지제 A의 질량비(A/B)가 0.05~5.0인, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 3,
The mass ratio (A/B) of the first antioxidant A to the second antioxidant B is 0.05 to 5.0, the ink composition containing luminescent particles.
청구항 3에 있어서,
상기 제1 산화 방지제 A에 포함되는 하이드록시페닐기를 갖는 화합물, 또는 상기 제2 산화 방지제 B에 포함되는 아인산 에스테르 구조를 갖는 화합물이, 분자량이 500 이상 1500 이하이고 또한 연화점 및 융점이 70℃ 이상 250℃ 이하인, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 3,
The compound having a hydroxyphenyl group contained in the first antioxidant A or the compound having a phosphorous acid ester structure contained in the second antioxidant B has a molecular weight of 500 or more and 1500 or less, and a softening point and a melting point of 70 ° C. or more and 250 C or lower, the ink composition containing luminescent particles.
청구항 3에 있어서,
상기 제1 산화 방지제 A가 일반식 (I)로 표시되는 화합물을 1종 또는 2종 이상을 함유하는, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
Figure 112023009982861-pct00051

(식 (I) 중, M1은, 1,4-페닐렌기, 트랜스-1,4-시클로헥실렌기, 2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸기, 탄소 원자, 탄소수 1~20의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기 중의 1개 또는 2개 이상의 -CH2-는, 산소 원자가 직접 인접하지 않는 범위에서, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-로 치환되어 있어도 되고, 당해 탄화수소기 중의 임의의 수소 원자는 치환기를 갖는 페닐기에 의하여 치환되어 있어도 되고,
X1은, 탄소수 1~15의 알킬렌기, -OCH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO-CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -C≡C-, 단결합, 1,4-페닐렌기 또는 트랜스-1,4-시클로헥실렌기를 나타내나, 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, 상기 알킬렌기 중의 1개 또는 2개 이상의 -CH2-는, 산소 원자가 직접 인접하지 않는 범위에서, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-로 치환되어 있어도 되고, 1,4-페닐렌기는 임의의 수소 원자가 탄소수 1~6의 탄화수소기에 의하여 치환되어 있어도 되고,
R11 및 R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내고,
k는 2~6의 정수를 나타낸다.)
The method of claim 3,
An ink composition containing luminescent particles, wherein the first antioxidant A contains one or two or more compounds represented by the general formula (I).
Figure 112023009982861-pct00051

(In formula (I), M 1 is a 1,4-phenylene group, a trans-1,4-cyclohexylene group, a 2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5]undecane group, or a carbon atom , represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and one or two or more -CH 2 - in the hydrocarbon group are -O-, -CO-, -COO-, -OCO- in a range where oxygen atoms are not directly adjacent to each other. , -NH- may be substituted, and any hydrogen atom in the hydrocarbon group may be substituted by a phenyl group having a substituent,
X 1 is an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, -OCH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -CH=CH-COO-, -CH=CH-OCO-, -COO- CH=CH-, -OCO-CH=CH-, -CH=CH-, -C≡C-, a single bond, a 1,4-phenylene group or a trans-1,4-cyclohexylene group, but the same It may or may not be different, and one or two or more -CH 2 - in the alkylene group may be substituted with -O-, -CO-, -COO-, or -OCO- within a range where oxygen atoms are not directly adjacent to each other. And, in the 1,4-phenylene group, any hydrogen atom may be substituted by a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms,
R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
k represents an integer from 2 to 6.)
청구항 3에 있어서,
상기 제2 산화 방지제 B가 일반식 (II)
Figure 112023009982861-pct00052

(일반식 II 중, R20 내지 R24는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내고, 당해 알킬기 중의 1개의 메틸기는 아릴기로 치환되어 있어도 된다.)
또는 일반식 (III)
Figure 112023009982861-pct00053

(식 (III) 중, R30 내지 R37은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내고,
R3a, R3b는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내거나, 혹은, R3a 및 R3b가 하나의 환 구조를 형성하는 것이어도 되고,
Z31은, 탄소 원자수 1~10의 직쇄 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 당해 아릴기의 임의의 수소 원자는 탄소 원자수 1~6의 직쇄 또는 분기의 알킬기에 의하여 치환되어 있어도 된다.)
으로 표시되는 화합물을 1종 또는 2종 이상 함유하는, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 3,
The second antioxidant B is of the general formula (II)
Figure 112023009982861-pct00052

(In Formula II, R 20 to R 24 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and one methyl group in the alkyl group may be substituted with an aryl group.)
or the general formula (III)
Figure 112023009982861-pct00053

(In formula (III), R 30 to R 37 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
R 3a and R 3b each independently represent a hydrogen atom or a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or R 3a and R 3b may form one ring structure;
Z 31 represents a straight-chain alkyl group or aryl group having 1 to 10 carbon atoms, and any hydrogen atom in the aryl group may be substituted with a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
An ink composition containing luminescent particles containing one or two or more compounds represented by
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 반도체 나노 결정이, 페로브스카이트 결정 구조를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물.
According to claim 1 or claim 2,
An ink composition containing light-emitting particles, wherein the semiconductor nanocrystal is a compound having a perovskite crystal structure.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자가, 당해 입자 표면에 무기 재료로 이루어지는 무기 피복층을 구비하는 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물.
According to claim 1 or claim 2,
An ink composition containing luminescent particles, wherein the nanoparticles containing semiconductor nanocrystals have an inorganic coating layer made of an inorganic material on the surface of the particles.
청구항 9에 있어서,
무기 피복층을 구비한 상기 반도체 나노 결정을 포함하는 나노 입자의 표면을 피복하는, 수지로 이루어지는 수지 피복층을 구비하는 것을 특징으로 하는 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 9,
An ink composition containing luminescent particles characterized by comprising a resin coating layer comprising a resin which coats the surface of the nanoparticles containing the semiconductor nanocrystals having an inorganic coating layer.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 광중합성 화합물이, 단관능 (메타)아크릴레이트 모노머 및 다관능 (메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2종 이상의 모노머를 함유하는, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
According to claim 1 or claim 2,
An ink composition containing luminescent particles, wherein the photopolymerizable compound contains at least two monomers selected from the group consisting of monofunctional (meth)acrylate monomers and polyfunctional (meth)acrylate monomers.
청구항 11에 있어서,
상기 광중합성 화합물에 함유되는 상기 2종 이상의 모노머 중, 적어도 1종은 환상 구조를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머인, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 11,
An ink composition containing light-emitting particles, wherein at least one of the two or more monomers contained in the photopolymerizable compound is a (meth)acrylate monomer having a cyclic structure.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
광확산 입자를 추가로 함유하는, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
According to claim 1 or claim 2,
An ink composition containing light-diffusing particles, further comprising light-diffusing particles.
청구항 13에 있어서,
고분자 분산제를 추가로 함유하는, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
The method of claim 13,
An ink composition containing luminescent particles, further containing a polymeric dispersant.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
잉크젯 방식으로 이용되는, 발광 입자 함유 잉크 조성물.
According to claim 1 or claim 2,
An ink composition containing luminescent particles used in an inkjet method.
화소부를 구비하는 광변환층으로서,
상기 화소부가 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 발광 입자 함유 잉크 조성물의 경화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광변환층.
As a light conversion layer having a pixel portion,
The light conversion layer, characterized in that the pixel portion comprises a cured product of the light emitting particle-containing ink composition according to claim 1 or claim 2.
청구항 16에 기재된 광변환층을 구비한 것을 특징으로 하는 발광 소자.
A light emitting element comprising the light conversion layer according to claim 16.
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