KR102425803B1 - 붕소 원자층 시트 및 적층 시트와 그 제조 방법 및 액정 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 X선 구조 해석에 의한 붕소 층상 결정의 구조를 나타낸 도면이며, (a)는 층상 단면, (b)와 (c)는 평면의 결정 구조를 나타낸다.
도 3은 X선 구조 해석에 의한 붕소 층상 결정의 구조를 나타낸 도면이며, (a)는 붕소 원자층의 단위 격자의 추정 구조, (b)는 말단·결손 부위의 단위 격자의 추정 구조, (c)는 B-B 결합과 B-O 결합의 거리를 나타내고 있다.
도 4는 붕소 층상 결정(위)과 B(OH)3(아래)의 IR 스펙트럼이다.
도 5는 (a) 붕소 층상 결정과 (b) B2O3 및 KBH4의 XPS 스펙트럼이다.
도 6의 (a)는 X선 단결정 구조 해석에 있어서의 면 지수 분석, (b)는 캐필러리 내의 붕소 층상 결정의 XRD 패턴을 나타낸다.
도 7은 붕소 층상 결정, B(OH)3 및 B2O3의 (a) 자외-가시 흡수 스펙트럼, (b) 근적외 흡수 스펙트럼이다.
도 8의 (a)는 붕소 층상 결정의 SEM상, (b)는 붕소 층상 결정으로부터 기계적 압력에 의해 박리한 나노시트의 SEM상이다.
도 9는 붕소 층상 결정으로부터 박리한 나노시트의 AFM상이다.
도 10은 붕소 층상 결정으로부터 박리한 나노시트의 AFM상과 높이 프로파일이다.
도 11은 붕소 층상 결정을 크라운에테르에 의해 용해하여 HOPG 기판에 캐스트한 나노시트의 AFM상이다.
도 12는 붕소 층상 결정으로부터 박리한 나노시트의 (a) STEM상과 (b) 고분해 TEM상이다.
도 13은 붕소 층상 결정으로부터 박리한 나노시트의 격자 패턴의 고분해 TEM상이다.
도 14의 (a)는 50℃로부터 120℃까지 가열하는 동안에 있어서의 붕소 층상 결정의 결정으로부터 액정으로의 상전이 과정, (b)는 120℃로부터 35℃까지 냉각하는 동안에 있어서의 붕소 층상 결정의 형상 변화ㄹ의 편광 현미경상이다.
도 15는 (a) 붕소 층상 결정과 (b) B(OH)3의 TG 곡선 및 (c) 붕소 층상 결정과 붕소 액정의 IR 스펙트럼이다.
도 16의 (a)는 붕소 층상 결정과 붕소 액정의 XPS 스펙트럼, (b)는 결정으로부터 액정으로의 변화로서 생각되는 메커니즘을 나타낸다.
도 17의 (a)는 붕소 층상 결정의 TG 곡선 및 DTG 곡선, (b)는 아르곤 및 진공 분위기 하(캐필러리 내)에 있어서의 붕소 결정의 DSC 곡선이다.
도 18의 (a)는 붕소 액정의 2시간에서의 IR 스펙트럼의 변화, (b)는 대기중에서의 냉각 과정 동안에 있어서의 붕소 액정의 TG-DTA 곡선이다.
도 19는 고화 후의 붕소 액정의 SEM상이다.
도 20은 붕소 액정의 나노시트의 TEM상(위)과 나노시트의 격자 패턴(아래)이다.
도 21은 유리 캐필러리 내에 있어서의 진공 하에서의 붕소 결정의 DSC 곡선이다.
도 22는 액정상 I로부터 액정상 II로의 상전이 동안(좌)과, 액정상 I와 액정상 II의 가역 상전이 동안(우)에 있어서의 붕소 액정의 편광 현미경상이다.
도 23은 (a) 실온에 있어서의 붕소 액정의 편광 현미경상과 (b) 그 확대상이다.
도 24는 붕소 층상 결정(시뮬레이션) 및 액정상 II의 붕소 액정의 XRD 패턴이다.
도 25는 고온에서의 붕소 액정의 TG 곡선(좌)과 처리 전후의 시료의 사진(우)이다.
도 26의 (a)는 20℃로부터 -38.5℃로의 냉각 과정 동안에 있어서의 붕소 액정의 편광 현미경상, (b)는 아르곤 조건에 있어서의 붕소 액정의 DSC 곡선이다.
도 27의 (a)는 붕소 액정을 액체 질소 중에 1분 및 12시간 침지한 전(좌)과 후(우)의 편광 현미경상, (b)는 급속하게 냉각한 붕소 액정과 그 상변화의 편광 현미경상이다.
도 28은 용해된 붕소 층상 결정의 광학 현미경상(좌)과 각종 용매에의 붕소 층상 결정의 용해도의 측정 결과(우)이다.
도 29의 (a)는 DMF 중에 있어서의 리오트로픽 액정의 형성, (b)는 리오트로픽 액정의 DMF 휘발 과정과 결정의 생성을 나타내는 광학 현미경상이다.
도 30은 DMF 휘발 후에 퇴적한 결정의 SEM상이다.
도 31은 DMF 중에의 용해에 의해 박리된 붕소 나노시트의 AFM상이다.
Claims (46)
- 골격 원소에 붕소와 산소를 갖고, 붕소-붕소 결합을 갖는 비평형 결합에 의해 네트워크화된, 산소와 붕소의 몰 비율(산소/붕소)이 1.5 미만이고, 말단 부위 및/또는 결손 부위에 B-OH를 갖는 원자층 시트.
- 제 1 항에 있어서,
알칼리 금속 이온을 더 포함하고, 알칼리 금속 이온과 붕소의 몰 비율(알칼리 금속 이온/붕소)이 1 미만인 원자층 시트. - 제 1 항에 있어서,
MBH4(M은 알칼리 금속 이온을 나타냄)의 산화 생성물인 원자층 시트. - 제 1 항에 있어서,
골격 조성이 B5O3인 원자층 시트. - 제 4 항에 있어서,
상기 골격이 붕소-붕소 결합을 갖는 3회 대칭성을 갖는 원자층 시트. - 제 4 항에 있어서,
상기 골격 부위인 구성요소 X와, 그 이외의 구성요소 Y를 포함하고, 상기 구성요소 Y가 말단 부위 및/또는 결손 부위인 원자층 시트. - 제 6 항에 있어서,
상기 구성요소 Y가 B-OH를 포함하는 원자층 시트. - 제 6 항에 있어서,
X선 광전자 분광 측정에 있어서, 190.5~193.0eV와 192.5~194.0eV에 각각 B-1s 준위로부터 유래되는 피크를 갖는 원자층 시트. - 제 8 항에 있어서,
상기 X선 광전자 분광 측정에 있어서, 190.5~193.0eV의 피크가 상기 구성요소 X에 대응하고 있는 원자층 시트. - 제 6 항에 있어서,
IR 측정에 있어서, B-O 신축으로부터 유래되는 2종류의 피크를 1300~1500㎝-1 부근에 갖고, 또한 BO-H 신축으로부터 유래되는 피크를 3100㎝-1 부근에 갖는 원자층 시트. - 제 10 항에 있어서,
상기 IR 측정에 있어서, B-O 신축으로부터 유래되는 2종류의 피크 중 저파수측의 피크가 상기 구성요소 X에 대응하고 있는 원자층 시트. - 제 1 항에 기재된 복수의 원자층 시트와, 상기 원자층 시트 사이의 알칼리 금속 이온을 포함하는 적층 시트.
- 제 12 항에 있어서,
알칼리 금속 이온과 붕소의 몰 비율(알칼리 금속 이온/붕소)이 1 미만인 적층 시트. - 제 12 항에 기재된 적층 시트를 포함하는 결정.
- 유기용매를 포함하는 용매 중에 불활성 가스 분위기 하에서 MBH4(M은 알칼리 금속 이온을 나타냄)를 첨가하여 용액을 조제하는 공정과,
상기 용액을, 산소를 포함하는 분위기에 노출시키는 공정을 포함하는, 붕소와 산소를 포함하는 원자층 시트의 제조 방법. - 제 15 항에 있어서,
상기 원자층 시트가 골격 원소에 붕소와 산소를 갖고, 붕소-붕소 결합을 갖는 비평형 결합에 의해 네트워크화된, 산소와 붕소의 몰 비율(산소/붕소)이 1.5 미만인 원자층 시트인 원자층 시트의 제조 방법. - 제 12 항에 기재된 적층 시트와, 크라운에테르 및 크립탄드로부터 선택되는 적어도 1종을, 유기용매를 포함하는 용매 중에 첨가하고, 상기 적층 시트를 박리하는 공정을 포함하는, 적층 시트의 박리물의 제조 방법.
- 제 12 항에 기재된 적층 시트를 비프로톤성 고극성 용매 중에 첨가하고, 상기 적층 시트를 박리하는 공정을 포함하는, 적층 시트의 박리물의 제조 방법.
- 제 17 항에 있어서,
상기 박리물은 단층의 원자층 시트를 포함하는 적층 시트의 박리물의 제조 방법. - 제 1 항에 기재된 복수의 상기 원자층 시트 사이에 금속 이온을 내포하는 적층 시트를 포함하는 서모트로픽 액정.
- 제 20 항에 있어서,
상기 금속 이온이 알칼리 금속 이온이며, 상기 적층 시트는 알칼리 금속 이온과 붕소의 몰 비율(알칼리 금속 이온/붕소)이 1 미만인 서모트로픽 액정. - 제 20 항에 있어서,
적어도 -196~350℃의 온도 영역에서 액정 상태를 유지하는 서모트로픽 액정. - 제 20 항에 있어서,
고온측의 액정상 I와 저온측의 액정상 II 사이에서 온도에 대하여 가역인 상전이를 제어할 수 있는 서모트로픽 액정. - 제 20 항에 있어서,
상기 원자층 시트가 MBH4(M은 알칼리 금속 이온을 나타냄)의 산화 생성물인 서모트로픽 액정. - 제 20 항에 있어서,
상기 원자층 시트는 골격 조성이 B5O3인 서모트로픽 액정. - 제 25 항에 있어서,
상기 원자층 시트의 골격이 붕소-붕소 결합을 갖는 3회 대칭성을 갖는 서모트로픽 액정. - 제 25 항에 있어서,
상기 원자층 시트가 상기 골격 부위인 구성요소 X와, 그 이외의 구성요소 Y를 포함하고, 상기 구성요소 Y가 말단 부위 및/또는 결손 부위인 서모트로픽 액정. - 제 27 항에 있어서,
상기 구성요소 Y가 B2O3 단위를 포함하는 붕소 산화물 부위인 서모트로픽 액정. - 제 20 항에 기재된 서모트로픽 액정의 제조 방법으로서,
골격 원소에 붕소와 산소를 갖고, 붕소-붕소 결합을 갖는 비평형 결합에 의해 네트워크화된, 산소와 붕소의 몰 비율(산소/붕소)이 1.5 미만인 복수의 원자층 시트 사이에 금속 이온을 내포하는 적층 시트를 포함하는 결정을, 100℃ 이상으로 가열하는 공정을 포함하는 서모트로픽 액정의 제조 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 가열에 의해 상기 원자층 시트 사이의 거리가 증가하는 서모트로픽 액정의 제조 방법. - 제 29 항에 있어서,
상기 가열에 의해 상기 원자층 시트의 말단 부위 및/또는 결손 부위에 있어서의 B-OH 사이의 탈수 축합 반응이 진행되는 서모트로픽 액정의 제조 방법. - 제 1 항에 기재된 복수의 상기 원자층 시트 사이에 금속 이온을 내포하는 적층 시트를 포함하는 리오트로픽 액정.
- 제 32 항에 있어서,
상기 금속 이온이 알칼리 금속 이온이며, 상기 적층 시트는 알칼리 금속 이온과 붕소의 몰 비율(알칼리 금속 이온/붕소)이 1 미만인 리오트로픽 액정. - 제 32 항에 있어서,
상기 원자층 시트는 골격 조성이 B5O3인 리오트로픽 액정. - 제 34 항에 있어서,
상기 원자층 시트의 골격이 붕소-붕소 결합을 갖는 3회 대칭성을 갖는 리오트로픽 액정. - 제 34 항에 있어서,
상기 원자층 시트가 상기 골격 부위인 구성요소 X와, 그 이외의 구성요소 Y를 포함하고, 상기 구성요소 Y가 말단 부위 및/또는 결손 부위인 리오트로픽 액정. - 제 36 항에 있어서,
상기 구성요소 Y가 B-OH를 포함하는 리오트로픽 액정. - 용매와, 이 용매 중에 있어서의 제 32 항에 기재된 리오트로픽 액정을 포함하는 조성물.
- 제 38 항에 있어서,
상기 용매가 N,N-디메틸포름아미드인 조성물. - 삭제
- 삭제
- 삭제
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- 삭제
- 삭제
- 삭제
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