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KR101383808B1 - Apparatus for measuring evaporation amount of ash in a snout - Google Patents

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KR101383808B1
KR101383808B1 KR1020120091143A KR20120091143A KR101383808B1 KR 101383808 B1 KR101383808 B1 KR 101383808B1 KR 1020120091143 A KR1020120091143 A KR 1020120091143A KR 20120091143 A KR20120091143 A KR 20120091143A KR 101383808 B1 KR101383808 B1 KR 101383808B1
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주식회사 포스코
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Abstract

본 발명은, 가열로와 도금조 사이에 배치되고 끝단부가 상기 도금조의 탕면 아래로 침지되는 스나우트와, 상기 스나우트와 연결되어 상기 스나우트의 내부기체가 유입되는 패스라인과, 상기 내부기체에 포함된 도금입자를 포집하는 필터를 포함하는 기체포집부와, 상기 필터에 전압을 인가하여 측정신호를 검출하는 신호검출부, 및 상기 측정신호에 따라 상기 스나우트 내부의 도금성분 증발량을 산출하는 제어부를 포함하는 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치를 개시한다.The present invention includes a snout disposed between a heating furnace and a plating bath, and an end portion of which is immersed under the hot water surface of the plating bath, a pass line connected to the snout, and an internal gas of the snout being introduced into the internal gas. A gas collecting unit including a filter collecting the plated particles included therein; a signal detecting unit detecting a measurement signal by applying a voltage to the filter; and a control unit configured to calculate a plating component evaporation amount in the snout according to the measurement signal. Disclosed is an apparatus for measuring evaporation amount of ash inside a snout.

Description

스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치{APPARATUS FOR MEASURING EVAPORATION AMOUNT OF ASH IN A SNOUT}Ash evaporation measuring device inside the snout {APPARATUS FOR MEASURING EVAPORATION AMOUNT OF ASH IN A SNOUT}

본 발명은 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for measuring ash evaporation amount inside a snout.

도금강판, 특히 용융아연 도금 강판은 우수한 내식성을 바탕으로 일반 건축 자재용을 비롯하여 엄격한 품질 관리가 필요한 자동차용 외판재까지 사용범위가 확대되고 있다. Plated steel sheets, in particular hot-dip galvanized steel sheets, are expanding their range of application from general building materials to automotive exterior plates that require strict quality control.

특히 근래 사용량이 증대되는 자동차용 외판재의 경우, 내식성 못지않게 표면 특성이 매우 중요하게 여겨지고 있기 때문에 엄격한 표면 품질관리가 요구된다. In particular, in the case of the automobile exterior plate material which is recently increased in use, since the surface properties are very important as well as the corrosion resistance, strict surface quality control is required.

종래에 사용되는 아연도금공정은 도 1과 같이, 냉간 압연된 강판(1)이 잔류응력을 제거하도록 가열로(10)에서 열처리 되고, 가열된 강판(1)은 적당한 온도로 유지되는 상태에서 용융아연(A)이 충진된 도금조(12)로 인입된다.Conventionally used galvanizing process is, as shown in Figure 1, the cold-rolled steel sheet 1 is heat-treated in the heating furnace 10 to remove the residual stress, the heated steel sheet 1 is melted while being maintained at an appropriate temperature Zinc (A) is introduced into the plating bath 12 filled with.

이때 가열로(10)와 도금조(12) 사이에 연계되는 설비는 고온으로 열처리된 강판이 대기에 노출됨에 따른 표면 산화를 방지하기 위하여 제공되는 스나우트(11)이다. 스나우트(11)의 내부에는 표면 산화에 의한 강판의 도금불량을 방지하기 위하여 불활성 가스가 충진될 수 있다. In this case, the facility connected between the heating furnace 10 and the plating bath 12 is a snout 11 provided to prevent surface oxidation as the steel plate heat treated at a high temperature is exposed to the atmosphere. An inside of the snout 11 may be filled with an inert gas to prevent plating failure of the steel sheet by surface oxidation.

이러한 구성에 의하여, 가열로(10)와 스나우트(11) 및 도금조(12)의 싱크롤(13)을 통과한 도금강판(1)은 도금조(12)의 상부에 배치되는 에어 나이프(14)에 의해 고객사에서 요구하는 도금량으로 조절된다.Due to this configuration, the plated steel sheet 1 passing through the heating furnace 10, the snout 11, and the sink roll 13 of the plating bath 12 is disposed in the upper portion of the plating bath 12 by an air knife ( 14) is adjusted to the amount of plating required by the customer.

그러나, 스나우트(11)의 내벽(내면)에서는 증발한 아연증기가 에쉬(a, Ash)로 발전하여 응축됨으로써 아연재가 형성되고, 이러한 아연재는 스나우트(11)의 내벽에 부착 누적된다.However, in the inner wall (inner surface) of the snout 11, the zinc vapor is formed by condensation of the evaporated zinc vapor into ash (a, Ash), and the zinc material adheres and accumulates on the inner wall of the snout 11. .

아연재의 크기가 임계수준을 넘어서면, 도금조(12) 용융아연의 탕면에 떨어져 부유하다가 도금되는 강판(1)의 표면에 부착되면서 표면결함을 초래하는 문제가 있다. 또한, 아연재는 강판표면에 선상결함 및 미도금을 발생시키기 때문에 고급 아연도금제품에 있어서 치명적인 결함요인이 되는 문제가 있다.If the size of the zinc material exceeds the critical level, there is a problem that the surface of the steel plate (1) to be plated to float on the surface of the molten zinc floating in the plating bath 12, causing surface defects. In addition, since zinc material causes linear defects and non-plating on the surface of the steel sheet, there is a problem of being a fatal defect factor in high-quality galvanized products.

이러한 아연재는, 아연의 증발 및 응축과 스나우트 내부 분위기 가스의 정체, 용융아연의 파동 등과 같은 여러 요인으로 인한 아연증발로 발생되는데, 이와 같은 아연재는 통상 Zn 및 ZnO 화합물들이다.These zinc materials are caused by zinc evaporation due to various factors such as evaporation and condensation of zinc, stagnation of atmospheric gas inside the snout, fluctuations of molten zinc, and the like. These zinc materials are usually Zn and ZnO compounds.

이와 같은 스나우트 내부에서의 아연재의 발생을 억제하기 위하여 아연재의 생성을 방지하는 기술이 다수 개시되고 있으나, 이러한 기술은 스나우트 내부의 에쉬 증발량을 실시간으로 측정할 수 없기 때문에 아연재 발생에 따른 적절한 대책을 수립하기 어려운 문제가 있다.In order to suppress the generation of zinc in the snout, a number of techniques for preventing the production of zinc have been disclosed. However, such a technique cannot measure the ash evaporation in the snout in real time. There is a problem that it is difficult to establish appropriate measures.

본 발명은 스나우트 내부의 에쉬 증발량을 실시간으로 측정할 수 있는 측정장치를 제공한다.The present invention provides a measuring device that can measure the amount of ash evaporation in the snout in real time.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치는, 가열로와 도금조 사이에 배치되고 끝단부가 상기 도금조의 탕면 아래로 침지되는 스나우트; 상기 스나우트와 연결되어 상기 스나우트의 내부기체가 유입되는 패스라인; 상기 내부기체에 포함된 도금입자를 포집하는 필터를 포함하는 기체포집부; 상기 필터에 전압을 인가하여 측정신호를 검출하는 신호검출부; 및 상기 측정신호에 따라 상기 스나우트 내부의 도금성분 증발량을 산출하는 제어부;를 포함한다.An apparatus for measuring evaporation amount of ash inside a snout according to the present invention includes: a snout disposed between a heating furnace and a plating bath, and an end portion of which is immersed below the hot water surface of the plating bath; A pass line connected to the snout and into which the internal gas of the snout flows; A gas collecting unit including a filter collecting the plating particles contained in the internal gas; A signal detector for detecting a measurement signal by applying a voltage to the filter; And a controller configured to calculate a plating component evaporation amount in the snout according to the measurement signal.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 패스라인은, 상기 스나우트와 연결되어 상기 내부기체가 유입되는 파이프 라인과, 상기 파이프 라인의 끝단에 배치되어 상기 필터에 내부기체를 분사하는 분사노즐을 포함한다.In the apparatus for measuring ash evaporation amount in a snout according to the present invention, the pass line is connected to the snout and the pipeline into which the internal gas flows, and is disposed at the end of the pipeline to inject the internal gas into the filter. It includes a spray nozzle.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 필터는 소정 간극을 갖는 메쉬망과 상기 메쉬망의 양단에는 형성된 전극을 포함하고, 상기 신호검출부는 상기 전극의 양단에 전압을 인가하여 상기 도금입자의 포집량에 따라 변화된 전류값 또는 저항값을 측정할 수 있다.In the ash evaporation measuring device in the snout according to the present invention, the filter includes a mesh network having a predetermined gap and electrodes formed at both ends of the mesh network, the signal detection unit by applying a voltage to both ends of the electrode The current value or the resistance value changed according to the amount of plating particles collected can be measured.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 분사노즐은 상기 필터의 일면에 밀착 또는 이격되도록 전후방으로 이동 가능할 수 있다.In the ash evaporation measuring apparatus inside the snout according to the present invention, the injection nozzle may be movable back and forth to be in close contact or spaced apart on one surface of the filter.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 분사노즐에서 내부기체 분사시 상기 필터의 타면에 밀착되어 내부기체를 흡입하는 흡입노즐을 포함한다.In the ash evaporation measuring device in the snout according to the present invention, the injection nozzle comprises a suction nozzle to be in close contact with the other surface of the filter when the internal gas is sprayed to suck the internal gas.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 필터는 복수 개가 서로 연결되어 띠 형상의 레일을 형성하고, 상기 레일은 회전롤러에 의해 회동 가능하도록 구성된다.In the ash evaporation measuring device in the snout according to the present invention, a plurality of filters are connected to each other to form a strip-shaped rail, the rail is configured to be rotatable by a rotating roller.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 레일은 일 끝단이 세척조에 침지되며, 상기 세척조에는 도금입자 세척액이 담지된다.In the ash evaporation measuring apparatus inside the snout according to the present invention, one end of the rail is immersed in the washing tank, the washing tank is the plated particle washing liquid is carried.

본 발명에 따른 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치에서, 상기 필터에 흡착된 도금성분을 제거하는 세척노즐을 포함한다.In the ash evaporation measuring device in the snout according to the present invention, a washing nozzle for removing the plating component adsorbed on the filter.

본 발명에 따르면, 스나우트 내부의 에쉬 증발량을 실시간으로 측정할 수 있다. 또한, 실시간으로 측정된 증발량에 따라 에쉬의 결함을 방지할 수 있는 다양한 조업이 가능해진다. According to the present invention, the amount of ash evaporation inside the snout can be measured in real time. In addition, depending on the amount of evaporation measured in real time, various operations are possible to prevent the defect of the ash.

도 1은 종래 도금장비의 개략도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 측정장치의 개념도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기체포집부의 사시도이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 분사노즐과 기체포집부의 배치를 보여주는 측면도이고,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 분사노즐과 필터가 밀착된 상태를 보여주는 사시도이고,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 분사노즐과 필터가 밀착 부분의 확대도이고,
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 측정장치의 블럭도이고,
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 세척장치의 변형예이고,
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 세척장치의 또 다른 변형예이다.
1 is a schematic diagram of a conventional plating equipment,
2 is a conceptual diagram of a measuring device according to an embodiment of the present invention,
3 is a perspective view of a gas collecting unit according to an embodiment of the present invention,
Figure 4 is a side view showing the arrangement of the injection nozzle and the gas collecting unit according to an embodiment of the present invention,
5 is a perspective view showing a state in which the injection nozzle and the filter in close contact according to an embodiment of the present invention,
6 is an enlarged view of a close contact portion of the injection nozzle and the filter according to an embodiment of the present invention,
7 is a block diagram of a measuring device according to an embodiment of the present invention,
8 is a modification of the washing apparatus according to an embodiment of the present invention,
9 is another modified example of the washing apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. In the present invention, the terms "comprising" or "having ", and the like, specify that the presence of a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

또한 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다. It is to be understood that the drawings are to be construed as illustrative and not restrictive.

이제 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described in detail with reference to the drawings, wherein like or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 측정장치의 개념도이다. 도 2를 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 측정장치는, 가열로와 도금조(120) 사이에 배치되고 끝단부가 도금조(120)의 탕면 아래로 침지되는 스나우트(100)와, 상기 스나우트(100)와 연결되어 스나우트(100)의 내부기체가 유입되는 패스라인(200)과, 상기 내부기체에 포함된 도금입자를 포집하는 필터를 포함하는 기체포집부(300)와, 상기 필터에 전압에 인가하여 상기 도금입자의 포집량에 따른 측정신호를 검출하는 신호검출부(400), 및 상기 측정신호에 따라 상기 스나우트(100) 내부로 증발된 도금성분 증발량을 산출하는 제어부(500)를 포함한다.2 is a conceptual diagram of a measuring device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, a measuring apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention includes a snout 100 disposed between a heating furnace and a plating bath 120 and having an end portion immersed under a bath surface of the plating bath 120. A gas collecting part 300 connected to the snout 100 and including a pass line 200 into which the internal gas of the snout 100 flows, and a filter for collecting the plated particles contained in the internal gas; A signal detector 400 detecting a measurement signal according to the collection amount of the plating particles by applying a voltage to a filter, and a controller 500 calculating an evaporation amount of the plating component evaporated into the snout 100 according to the measurement signal. ).

스나우트(100)는 가열로와 도금조(120) 사이에 배치되고, 일 끝단부가 도금조(120)의 탕면 아래로 침지되어 스나우트(100)를 통과하는 강판(1)이 외부 공기와 접촉되지 않고 바로 도금용액에 침지될 수 있도록 구성된다. 스나우트(100)의 내부에는 표면 산화에 의한 강판의 도금불량을 방지하기 위하여 불활성 가스가 충진될 수 있다. The snout 100 is disposed between the heating furnace and the plating bath 120, and one end thereof is immersed under the hot water surface of the plating bath 120 so that the steel sheet 1 passing through the snout 100 contacts the outside air. It is configured so that it can be directly immersed in the plating solution. Inside the snout 100 may be filled with an inert gas to prevent plating failure of the steel sheet by surface oxidation.

스나우트(100)를 통과하여 도금조(12)에 담지된 강판(1)은 도금조(120)의 상부에 배치되는 에어 나이프에 의해 도금량이 조절된다.The plated amount of the steel sheet 1 passed through the snout 100 and supported on the plating bath 12 is controlled by an air knife disposed above the plating bath 120.

패스라인(200)은 스나우트(100)의 측면과 연통되어 스나우트(100)의 내부기체가 유입될 수 있도록 구성되며, 구체적으로는 스나우트(100)와 연결된 파이프 라인(210)과 밸브(220), 및 분사노즐(230)을 포함한다. The pass line 200 is configured to be in communication with the side of the snout 100 so that the internal gas of the snout 100 can be introduced, and specifically, the pipeline 210 and the valve connected to the snout 100 are provided. 220, and injection nozzle 230.

밸브(220)는 파이프 라인(210)을 통해 유입된 내부기체의 흐름량을 조절하고, 평상시에는 클로즈되어 내부기체의 이동을 제어하다가 제어신호가 인가되면 오픈되어 내부기체를 이동시킨다. 필요에 따라 스나우트(100)로부터 내부기체를 흡입하기 위한 흡입펌프가 추가로 설치될 수도 있다. The valve 220 regulates the flow rate of the internal gas introduced through the pipeline 210, and is normally closed to control the movement of the internal gas, and is opened when the control signal is applied to move the internal gas. If necessary, a suction pump for sucking the internal gas from the snout 100 may be additionally installed.

분사노즐(230)은 파이프 라인(210)의 끝단에 위치하여 내부기체를 기체포집부(300)에 소정의 압력으로 분사할 수 있도록 구성된다. 분사노즐(230)을 통해 내부기체가 분사되면, 기체포집부(300)에 구비된 필터에는 내부기체에 포함된 도금입자가 포집된다. The injection nozzle 230 is configured to be positioned at the end of the pipeline 210 to inject the internal gas to the gas collecting unit 300 at a predetermined pressure. When the internal gas is injected through the injection nozzle 230, the plated particles included in the internal gas are collected in the filter provided in the gas collecting unit 300.

신호측정부(400)는 필터에 전압을 인가하여 도금입자가 포집되는 양에 따라 변화된 측정신호(전류값 또는 저항값) 변화를 측정하여 제어부(500)로 송신한다.The signal measuring unit 400 applies a voltage to the filter and measures the change in the measured signal (current value or resistance value) that is changed according to the amount of plated particles are collected and transmits the measured signal to the controller 500.

제어부(500)는 수신된 측정신호를 이용하여 증발량을 산출함으로써 실시간으로 스나우트(100) 내부의 증발량을 측정한다. 이하 본 실시예에서는 도금입자를 아연(Zn)으로 설명하나, 도금입자는 필요에 따라 다양하게 변경될 수 있다.The controller 500 measures the evaporation amount inside the snout 100 in real time by calculating the evaporation amount using the received measurement signal. Hereinafter, in the present embodiment, the plated particles are described as zinc (Zn), but the plated particles may be variously changed as necessary.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기체포집부의 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 분사노즐과 기체포집부의 배치를 보여주는 측면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 분사노즐과 필터가 밀착된 상태를 보여주는 사시도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 분사노즐과 필터가 밀착 부분의 확대도이다.Figure 3 is a perspective view of the gas collecting unit according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a side view showing the arrangement of the injection nozzle and the gas collecting unit according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is an embodiment of the present invention FIG. 6 is a perspective view illustrating a state in which the injection nozzle and the filter are in close contact with each other, and FIG. 6 is an enlarged view of a part in which the injection nozzle and the filter are in close contact with each other according to an embodiment of the present invention.

도 3과 도 4를 참조하면, 기체포집부(300)는 복수 개의 필터(311)가 연결되어 띠 형상의 레일(310)을 형성하고, 레일(310)의 양 끝단에는 회전롤러(320)가 배치되어 레일(310)을 회전시켜 연속적으로 아연입자를 포집할 수 있도록 구성된다.3 and 4, the gas collecting unit 300 has a plurality of filters 311 connected to form a strip-shaped rail 310, and both ends of the rail 310 have a rotating roller 320. Is arranged to rotate the rail 310 is configured to continuously capture the zinc particles.

또한, 레일(310)의 일 끝단이 수용되는 세척조(330)가 구비되고 세척조(330)에는 도금용액 세척액이 담지되는 공간부(331)가 형성된다. 따라서, 분사노즐(230)에서 분사된 아연입자가 필터(311)에 포집된 경우, 회전에 의해 아연입자가 포집된 필터(311)는 세척조(330)의 세척액(B)에 담지되어 세척된다. 이때, 세척액(B)은 아연입자가 용융되는 황산수용액일 수 있으며, 세척조(330)는 세척액 투입노즐(331)과 배출노즐(332)이 구비되어 일정한 세척액 농도를 유지할 수 있다.In addition, a washing tank 330 is provided to accommodate one end of the rail 310, the washing tank 330 is formed with a space portion 331 for supporting the plating solution washing liquid. Therefore, when the zinc particles injected from the injection nozzle 230 are collected in the filter 311, the filter 311 in which the zinc particles are collected by rotation is supported by the washing solution B of the washing tank 330 and washed. At this time, the washing liquid (B) may be a sulfuric acid solution in which zinc particles are melted, and the washing tank 330 may be provided with a washing liquid input nozzle 331 and a discharge nozzle 332 to maintain a constant washing liquid concentration.

분사노즐(230)은 내부기체 분사시 필터(311)의 일면에 밀착 가능하도록 전후방으로 이동 가능하게 구성된다. 구체적으로 분사노즐(230)은 플렉서블 노즐로 구성되고 구동모터 등에 의해 필터(311)에 밀착 가능하도록 구성된다. 이러한 구성에 의하여 분사노즐(230)에서 분사된 내부기체는 대부분 필터(311)를 통과하게 되어 측정이 정밀해 진다.The injection nozzle 230 is configured to be movable back and forth to be in close contact with one surface of the filter 311 when the internal gas is injected. Specifically, the injection nozzle 230 is composed of a flexible nozzle and is configured to be in close contact with the filter 311 by a drive motor or the like. By this configuration, most of the internal gas injected from the injection nozzle 230 passes through the filter 311, so that the measurement is accurate.

이때, 분사노즐(230)과 필터(311)가 밀착될 때, 반대면에는 흡입노즐(240)이 필터(311)에 밀착된다. 아연과 같은 도금입자는 일반적으로 유해성 물질이므로 필터(311)를 통과한 후 외부에 노출되면 환경 오염 등의 문제가 발생할 수 있다. 따라서 필터(311)를 통과한 내부기체는 흡수노즐(240)로 흡수되어 별도의 저장탱크에 저장되거나 추가적인 필터링(Filtering)을 거쳐 외부로 배출 배출됨으로써 환경오염의 문제가 해결된다. 또한, 분사노즐(230)과 흡입노즐(240)이 양 방향에서 필터(311)를 밀착되므로 측정이 더욱 정밀해 진다.At this time, when the injection nozzle 230 and the filter 311 is in close contact, the suction nozzle 240 is in close contact with the filter 311 on the opposite side. Since the plated particles such as zinc are generally harmful substances, when exposed to the outside after passing through the filter 311, problems such as environmental pollution may occur. Therefore, the internal gas passing through the filter 311 is absorbed by the absorption nozzle 240 is stored in a separate storage tank or discharged to the outside through additional filtering (filtration) to solve the problem of environmental pollution. In addition, since the injection nozzle 230 and the suction nozzle 240 are in close contact with the filter 311 in both directions, the measurement becomes more accurate.

도 5를 참고하면, 분사노즐(230)의 밀착부(231) 끝단에는 절연패드(231a)가 형성되어 필터(311)의 전극(311b)에 밀착된다. 따라서, 밀착시에 필터(311)에 인가되는 전류가 분사노즐(230)에 의해 쇼트되지 않도록 구성된다. 절연패드(231a)는 전극(331b)의 형성 위치와 대응되는 간격으로 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 전술한 흡수노즐(240)에도 동일한 이유로 절연패드가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 5, an insulating pad 231a is formed at the end of the contact portion 231 of the injection nozzle 230 to be in close contact with the electrode 311b of the filter 311. Therefore, the current applied to the filter 311 at the time of close contact is configured such that it is not shorted by the injection nozzle 230. The insulating pads 231a may be disposed at intervals corresponding to the positions at which the electrodes 331b are formed. In addition, an insulating pad may be formed in the above-described absorption nozzle 240 for the same reason.

도 6을 참고하면, 필터(311)는 사각 형상의 메쉬망(331a)과 메쉬망(331a)의 양단에 형성된 전극(331b)을 포함한다. 메쉬망(331a)은 도금입자의 종류에 따라 선택될 수 있다. 예를 들면, 도금입자가 아연인 경우 메쉬망(331a)은 간극이 약 5㎛인 메쉬망이 선택될 수 있다.Referring to FIG. 6, the filter 311 includes a square mesh network 331a and electrodes 331b formed at both ends of the mesh network 331a. The mesh net 331a may be selected according to the type of plating particles. For example, when the plating particles are zinc, a mesh network having a gap of about 5 μm may be selected as the mesh network 331a.

메쉬망(331a)은 각각 동일한 크기와 동일한 저항을 갖는 판으로 구성되어 레일(310)을 형성하며, 작업을 수행하는 메쉬망(331a)의 전극(331b)에만 전압이 인가되도록 구성된다. 따라서, 메쉬망(331a)에 아연입자가 포집된 경우에는 전류값 또는 저항값이 변화하게 되며 신호측정부는 이러한 전류값 또는 저항값을 측정한다.Each of the mesh nets 331a is formed of a plate having the same size and the same resistance to form a rail 310, and is configured such that a voltage is applied only to the electrode 331b of the mesh net 331a which performs the work. Therefore, when zinc particles are collected in the mesh network 331a, the current value or the resistance value is changed, and the signal measuring unit measures the current value or the resistance value.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 측정장치의 블럭도이다. 이하에서는 도 2, 도 4 및 도 7을 참조하여 본원발명에 따른 에쉬 증발량 측정과정을 설명한다.7 is a block diagram of a measuring device according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the ash evaporation measurement process according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2, 4 and 7.

먼저, 제어부(500)는 밸브(220)에 오픈 제어신호를 출력하여 파이프 라인(210)을 통해 스나우트(100)의 내부기체가 유입되도록 한다. 이후, 분사노즐(230)과 흡입노즐(240)를 필터(311)에 밀착시킨 후 내부기체를 필터(311)에 분사한다.First, the controller 500 outputs an open control signal to the valve 220 to allow the internal gas of the snout 100 to flow through the pipeline 210. Thereafter, the injection nozzle 230 and the suction nozzle 240 are in close contact with the filter 311, and then the internal gas is injected into the filter 311.

이때, 신호측정부(400)는 해당 필터(311)에 전압을 인가하여 변화된 전류값 또는 저항값을 측정하여 제어부(500)에 송신한다. 제어부(500)는 수신한 전류값 또는 저항값에 따라 스타우트 내부의 에쉬 증발량을 산출한다.At this time, the signal measuring unit 400 applies a voltage to the filter 311 and measures the changed current value or resistance value and transmits it to the control unit 500. The controller 500 calculates the amount of ash evaporated in the stout according to the received current value or resistance value.

제어부(500)는 아연입자의 포집농도에 따른 전류값 또는 저항값의 데이터와 측정된 전류값 또는 저항값을 비교하여 증발량을 산출할 수 있다. 메모리부(410)에는 전류값 또는 저항값에 따른 에쉬 증발량 테이블값이 저장될 수 있다.The controller 500 may calculate the amount of evaporation by comparing the measured current value or the resistance value with the data of the current value or the resistance value according to the concentration of zinc particles. The memory evaporation amount table value according to the current value or the resistance value may be stored in the memory unit 410.

제어부(500)는 측정된 증발량을 디스플레이부(600)에 출력하고, 증발량에 따라 배기밸브(110)를 제어하여 스나우트(100) 내부의 기체를 강제로 배출함으로써 스나우트(100) 내부의 에쉬 증발량을 조절할 수 있다. 또한, 증발량이 미리 설정된 기준치를 초과하는 경우에는 디스플레이부(600)에 경고 알람 신호를 출력할 수도 있다.The control unit 500 outputs the measured evaporation amount to the display unit 600 and controls the exhaust valve 110 according to the evaporation amount to forcibly discharge the gas inside the snout 100 to thereby remove the ashes in the snout 100. The amount of evaporation can be controlled. In addition, when the evaporation amount exceeds a preset reference value, a warning alarm signal may be output to the display unit 600.

이후, 제어부(500)는 1회 측정이 종료하면, 회전롤러(320)를 구동시켜 측정에 사용된 필터(311)를 회전시켜 세척과정을 진행할 수 있다. 그러나, 이러한 세척방법은 다양하게 변형될 수도 있다. 예를 들면, 도 8과 같이 필터(311)의 후방에 세척노즐(340)을 구비하여 세척기체를 분사함으로써 세척할 수도 있고, 도 9와 같이 전자기 척력장치(350)를 이용하여 필터(311)에 분사된 아연입자를 제거할 수도 있는 것이다.
After that, once the measurement is finished, the control unit 500 may drive the rotary roller 320 to rotate the filter 311 used for the measurement to proceed with the washing process. However, this cleaning method may be variously modified. For example, the cleaning nozzle 340 may be provided at the rear of the filter 311 to spray the washing gas, and the filter 311 may be formed using the electromagnetic repulsive device 350 as shown in FIG. It is also possible to remove the zinc particles sprayed on.

이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, .

100: 스나우트 200: 패스라인
210: 파이프 라인 220: 밸브
230: 분사노즐 300: 기체포집부
310: 레일 311: 필터
311a: 메쉬망 311b: 전극
320: 회전롤러 330: 세척조
400: 신호측정부 500: 제어부
100: snout 200: passline
210: pipeline 220: valve
230: injection nozzle 300: gas collecting unit
310: rail 311: filter
311a: mesh network 311b: electrode
320: rotary roller 330: washing tank
400: signal measuring unit 500: control unit

Claims (8)

가열로와 도금조 사이에 배치되고 끝단부가 상기 도금조의 탕면 아래로 침지되는 스나우트;
상기 스나우트와 연결되어 상기 스나우트의 내부기체가 유입되는 패스라인;
상기 패스라인과 연결되어 상기 내부기체에 포함된 도금입자를 포집하는 필터를 포함하는 기체포집부;
상기 필터에 전압을 인가하여 측정신호를 검출하는 신호검출부; 및
상기 측정신호에 따라 상기 스나우트 내부의 에쉬 증발량을 산출하는 제어부;를 포함하는 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
A snout disposed between the heating furnace and the plating bath, the end portion of which is immersed below the bath surface of the plating bath;
A pass line connected to the snout and into which the internal gas of the snout flows;
A gas collecting part connected to the pass line and including a filter to collect plating particles included in the internal gas;
A signal detector for detecting a measurement signal by applying a voltage to the filter; And
And an evaporation amount of the ash inside the snout according to the measurement signal.
제1항에 있어서, 상기 패스라인은,
상기 스나우트와 연결되어 상기 내부기체가 유입되는 파이프 라인과,
상기 파이프 라인의 끝단에 배치되어 상기 필터에 내부기체를 분사하는 분사노즐을 포함하는 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
The method of claim 1, wherein the pass line,
A pipeline connected to the snout and into which the internal gas flows;
An apparatus for measuring evaporation amount of ash inside a snout including a spray nozzle disposed at an end of the pipeline and spraying an internal gas to the filter.
제2항에 있어서,
상기 필터는 소정 간극을 갖는 메쉬망과 상기 메쉬망의 양단에는 형성된 전극을 포함하고, 상기 신호검출부는 상기 전극의 양단에 전압을 인가하여 상기 도금입자의 포집량에 따라 변화된 전류값 또는 저항값을 측정하는 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
3. The method of claim 2,
The filter includes a mesh network having a predetermined gap and electrodes formed at both ends of the mesh network, and the signal detection unit applies a voltage to both ends of the electrode to change a current value or a resistance value changed according to the collection amount of the plating particles. Ash evaporation measuring device inside the measuring snout.
제2항에 있어서,
상기 분사노즐은 상기 필터의 일면에 밀착 또는 이격되도록 전후방으로 이동 가능한 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
3. The method of claim 2,
The injection nozzle is an ash evaporation measuring device inside the snout which is movable back and forth to be in close contact with or spaced from one surface of the filter.
제4항에 있어서,
상기 분사노즐에서 내부기체 분사시 상기 필터의 타면에 밀착되어 내부기체를 흡입하는 흡입노즐을 포함하는 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
5. The method of claim 4,
An apparatus for measuring evaporation amount of ash inside a snout including a suction nozzle which is in close contact with the other surface of the filter and sucks the internal gas when the internal gas is injected from the injection nozzle.
제1항에 있어서,
상기 필터는 복수 개가 서로 연결되어 띠 형상의 레일을 형성하고, 상기 레일은 회전롤러에 의해 회동가능한 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
The method of claim 1,
The plurality of filters are connected to each other to form a strip-shaped rail, the rail is an ash evaporation measuring device inside the snout rotatable by a rotating roller.
제6항에 있어서,
상기 레일은 일 끝단이 세척조에 침지되며, 상기 세척조에는 도금입자 세척액이 담지된 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
The method according to claim 6,
The end of the rail is immersed in the washing tank, the washing tank is the ash evaporation measuring apparatus inside the snout in which the plated particle washing solution is carried.
제1항에 있어서,
상기 필터에 흡착된 도금성분을 제거하는 세척노즐을 포함하는 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치.
The method of claim 1,
An apparatus for measuring evaporation amount of ash inside a snout including a washing nozzle for removing a plating component adsorbed on the filter.
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KR100212301B1 (en) 1996-07-10 1999-08-02 박문찬 Method for purifying polluted air and exhaust gas, apparatus and apparatus and annular filter used therein
KR20060025158A (en) * 2003-06-03 2006-03-20 히노 지도샤 가부시키가이샤 Exhaust emission control device
KR20120074157A (en) * 2010-12-27 2012-07-05 주식회사 포스코 Apparatus for removing pollutant source in snout of galvanizing line

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100212301B1 (en) 1996-07-10 1999-08-02 박문찬 Method for purifying polluted air and exhaust gas, apparatus and apparatus and annular filter used therein
KR20060025158A (en) * 2003-06-03 2006-03-20 히노 지도샤 가부시키가이샤 Exhaust emission control device
KR20120074157A (en) * 2010-12-27 2012-07-05 주식회사 포스코 Apparatus for removing pollutant source in snout of galvanizing line

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