KR101383638B1

KR101383638B1 - 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치

Info

Publication number: KR101383638B1
Application number: KR1020120061951A
Authority: KR
Inventors: 박준영; 정주현; 송영진; 배상모; 이성림; 김진주
Original assignee: (주)티메이; 박준영; (주)티모스
Priority date: 2012-06-11
Filing date: 2012-06-11
Publication date: 2014-04-09
Anticipated expiration: 2032-06-11
Also published as: KR20140015643A

Abstract

키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치는 폰트가 부여된 키 모듈; 및 키 모듈에서 사용자의 손가락에 의한 터치 시그널 또는 버튼 입력에 의한 키 시그널을 포함한 터치에 의한 신호 입력을 감지하는 금속 코팅층 패턴과, 금속 코팅층 패턴의 가장 자리 영역과 연결되어 버스 전극을 나타내는 배선전극 패턴으로 형성된 터치 패널을 포함하며, 금속 코팅층 패턴은 미세 패턴의 메탈 메쉬 구조로 형성되고, 금속 코팅층 패턴과 배선전극 패턴은 하나의 금속 코팅층으로 이루어진다.

Description

키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치{Apparatus for both Keypad and Touchpad}

본 발명은 키패드 입력 장치에 관한 것으로서, 특히 메탈 메쉬 구조를 적용한 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치에 관한 것이다.

정보 처리 장치는 버튼 형태의 키패드, 마우스 등의 다양한 입력 장치를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.

이러한 입력 장치는 PC 이외의 용도 확대에 따라 사용자가 사용하기 편리한 인터페이스 장치로 손가락의 접촉만으로 내용을 입력할 수 있는 터치 센싱 기술을 이용한 터치 패널이 등장하였다.

일반적으로 터치 패널은 버튼을 손가락으로 접촉하여 컴퓨터 등을 대화적, 직감적으로 조작함으로써 누구나 쉽게 사용할 수 있는 입력 장치인데, 이를 디스플레이와 함께 집적한 경우 터치 스크린으로 사용되며 손가락을 스크린에 접촉하여 입력을 수행하는 입력 장치이다.

이와 같은 터치 패널은 접촉을 감지하는 방식에 따라 저항막 방식과 정전용량 방식, 적외선 방식, 초음파 방식 등이 사용되고 있고, 향후 내구성 및 경박 단소한 특성에 유리한 정전용량 방식의 사용이 증가될 것이다.

터치 패널과 버튼 형태의 키패드를 구비한 통신 단말 장치는 터치 패널과 키패드를 각각 별도의 층 또는 회로로 구성해야 하므로 복잡한 제조 공정을 거쳐야 하는 문제점이 있었다.

이러한 문제점을 해결하기 위한 종래 기술에 따른 키 모듈의 키 시그널과 터치 패널의 터치 시그널(정전용량)을 선택적으로 활용하는 셀롤러폰용 키패드는 다음의 도 1 내지 도 3과 같다.

도 1은 종래 기술에 따른 셀롤러폰용 키패드가 적용된 제품을 나타낸 사시도이고, 도 2는 종래 기술에 따른 셀롤러폰용 키패드가 적용된 제품을 나타낸 단면도이고, 도 3은 종래 기술에 따른 셀룰러폰용 키패드에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널을 나타낸 도면이다.

종래 기술에 따른 셀룰러폰용 키패드(10)는 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 프런트 하우징(F)에 조립되어 폰트(31)가 부여된 키 모듈(30)과 돔 스위치(14)를 경유하여 인쇄회로기판(15)의 접점(15a)을 가압하기 위한 돌기(81)를 갖는 패드(80)가 주축을 이루어 터치에 의한 신호 입력이 가능한 터치 패널(50)이 패드(80) 위에 세팅되는 구조로 이루어지며, 돔 스위치(14) 아래에는 인쇄회로기판(15)과 일정한 간격을 유지시켜 주기 위한 스페이서(16)가 위치되고, 이 스페이서(16)는 돔 스위치(14)가 인쇄회로기판(15)에 위치한 접점(15a)과 직접 접촉할 수 있도록 구멍(16a)을 구비한다.

종래 기술에 따른 셀룰러폰용 키패드(10)에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널(50)은 절연체(52) 위에 ITO(Indium Tin Oxide), TAO(Tin Antimony Oxide)와 같은 투명전극(54)을 적층하고 투명전극(54)의 가장 자리 영역의 버스 전극을 나타내는 금속층(56)을 적층한다. 투명전극(54)과 금속층(56)의 상면에는 손가락과 투명전극(54)의 전기적인 단락을 방지하기 위해 보호막(58)을 코팅한다.

투명전극(54)은 하부의 LED 조명이 투과되어 키 모듈(30)의 주위로 빛이 빠져 나와야 하기 때문에 사용된다.

그러나 투명전극(54)은 경도가 높기 때문에 여러 번 눌려져야 하고 굴곡성이 확보되어야 하는 키패드(10)에 적용하기가 부적합하다.

또한, 버스 전극인 금속층(56)을 형성하기 위해서는 실버 페이스트를 인쇄해야 하므로 추가적인 공정이 필요하고 이에 따라 제조 비용이 증가되는 문제점이 있다.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 투명전극을 사용하지 않고 미세 패턴의 메탈 메쉬 구조의 금속 코팅층 패턴과 금속 코팅층 패턴의 가장 자리 영역과 연결되어 버스 전극을 나타내는 배선전극 패턴을 형성하는 터치 패널과 키 모듈을 동시에 구현하는 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명은 투명전극을 사용하지 않고 미세 패턴의 메탈 메쉬 구조의 메탈 1개층으로 센싱 전극과 드라이빙 전극을 형성하는 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치는 폰트가 부여된 키 모듈; 및 키 모듈에서 사용자의 손가락에 의한 터치 시그널 또는 버튼 입력에 의한 키 시그널을 포함한 터치에 의한 신호 입력을 감지하는 금속 코팅층 패턴과, 금속 코팅층 패턴의 가장 자리 영역과 연결되어 버스 전극을 나타내는 배선전극 패턴으로 형성된 터치 패널을 포함하며, 금속 코팅층 패턴은 미세 패턴의 메탈 메쉬 구조로 형성되고, 금속 코팅층 패턴과 배선전극 패턴은 하나의 금속 코팅층으로 이루어진다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치는 폰트가 부여된 키 모듈; 및 키 모듈에서 사용자의 손가락에 의한 터치 시그널 또는 버튼 입력에 의한 키 시그널을 포함한 터치에 의한 신호 입력을 감지하고 절연체의 상면에 반투명한 재질의 전도성 물질인 반투명 도전층을 적층하여 이루어진 반투명전극 패턴과, 반투명전극 패턴의 일측 끝단인 가장 자리 영역과 연결되어 버스 전극을 나타내고 절연체의 상면에 상기 반투명 도전층과 그 위에 금속 코팅층을 적층하여 이루어진 배선전극 패턴으로 형성된 터치 패널을 포함한다.

본 발명은 손가락에 의한 터치 시그널과 버튼 입력에 의한 키 시그널을 포함한 터치에 의한 신호 입력을 감지하는 터치 패널의 금속 코팅층 패턴과 배선전극 패턴을 메탈 1개층으로 형성하여 원자재 및 공정 비용을 감소하는 효과가 있다.

본 발명은 터치 패널의 금속 코팅층 패턴을 미세 패턴의 메탈 메쉬 구조로 형성하여 터치 패널의 하부에 형성된 조명 장치의 빛을 투과하도록 하는 효과가 있다.

본 발명은 터치 패널을 구리, 은 등의 굴곡성이 있는 금속을 사용하여 터치시 눌림 데미지(Damage)의 회피를 위한 굴곡성 확보가 가능한 효과가 있다.

본 발명은 실버 페이스트를 인쇄하는 대신에 메탈 스퍼터 기술을 이용하여 인쇄 회로의 단차를 감소로 인한 터치 오동작을 감소하는 효과가 있다.

도 1은 종래 기술에 따른 셀롤러폰용 키패드가 적용된 제품을 나타낸 사시도이다.
도 2는 종래 기술에 따른 셀롤러폰용 키패드가 적용된 제품을 나타낸 단면도이다.
도 3은 종래 기술에 따른 셀룰러폰용 키패드에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치를 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치의 개념을 나타낸 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제2 실시예에 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 도면이다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치를 나타낸 단면도이고, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치의 개념을 나타낸 도면이다.

도 4에 도시된 바와 같이, 전술한 셀룰러폰용 키패드(10)에 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널(100)을 적용하여 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치를 제조한다.

도 5의 (a1), (b1), (b2), (c1)은 터치 패널(100)의 측면에서의 층 구조를 나타낸 것이다.

도 5의 (a2), (b3), (c2)는 터치 패널(100)을 위에서 본 평면 구조를 나타낸 것이다.

본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널(100)의 제조 방법은 광학 절연체(110)의 상면에 저저항 금속 코팅층(130)을 증착한다(도 5의 (a1) 및 (a2)).

여기서, 광학 절연체(110)는 통상적인 언더 코팅층이 필요없기 때문에 기존 ITO(Indium Tin Oxide), TAO(Tin Antimony Oxide)와 같은 투명전극(54)에 통상적으로 사용되는 언더코팅층을 배제할 수 있어 원가 절감 효과가 있다.

저저항 금속 코팅층(130)은 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 알루미늄(Al), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 아연(Zn), 주석(Sn) 등의 금속 중 0.1-150옴(Ω)의 면저항을 갖는 저저항의 금속 물질을 나타낸다.
다음으로, 포토리소그래피(Photolithography)의 공정에 의해 저저항 금속 코팅층(130)으로 이루어지는 터치 영역인 금속 코팅층 패턴(121)과 버스 전극을 나타내는 배선전극 패턴(131)을 형성하게 된다(도 5의 (b1), (b2) 및 (b3)).

삭제

금속 코팅층 패턴(121)은 사용자의 터치에 의한 신호 입력을 감지하는 영역의 금속 회로로서 사용자의 터치 패턴 영역을 나타낸다. 여기서, 터치에 의한 신호 입력은 사용자의 손가락에 의한 터치 시그널 또는 키 모듈의 버튼 입력에 의한 키 시그널을 포함한다.

배선전극 패턴(131)은 금속 코팅층 패턴(121)과 연결되어 금속 코팅층 패턴(121)의 가장 자리 영역과 연결된 금속 회로이고 인쇄회로기판과 연결되어 터치 패널(100)을 제어하는 배선전극 영역을 나타낸다.

다시 상세하게 설명하면, 마스크(140)를 이용하여 금속 코팅층 패턴(121)과 배선전극 패턴(131)에 해당하지 않는 부분의 저저항 금속 코팅층(130)을 제거하여 금속 코팅층 패턴(121)과 금속 코팅층 패턴(121)과 연결된 배선전극 패턴(131)을 형성한다. 즉, 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 노광, 현상, 메탈 에칭, 박리 공정을 수행한다.

포토리소그래피의 공정시(Wet 공정) 금속 코팅층 패턴(121)은 복수의 제1 선형 전극부들(122)과 복수의 제1 선형 전극부들(122)과 상호 교차하는 복수의 제2 선형 전극부들(124)을 통해 미세 패턴의 메쉬 구조를 형성한다.

미세 패턴의 메쉬 구조는 포토리소그래피의 공정(Wet 공정)을 수행하여 금속 코팅층 패턴(121)을 형성하는 경우, 저저항 금속 코팅층(130)을 제거하여 직접 메쉬 구조로 패터닝하거나 저저항 금속 코팅층(130)을 증착한 후 레이저 에칭 방법을 이용하여 메쉬 구조로 형성하는 등 다양한 실시예(그라비아 옵셋 인쇄, 리버스 인쇄, Nano Imprinting 등)가 있을 수 있다.

이렇게 제조된 터치 패널(100)은 수신(Rx) 전극(센싱 전극)의 탑(Top) 패턴과 송신(Tx) 전극(드라이빙 전극)의 바텀(Bottom) 패턴을 접착제층(Optical Clear Adhesive, OCA)을 이용하여 합지하여 최종 터치 패널(100)을 완성한다.
여기서, 센싱 전극은 터치 여부 및 터치 위치를 전압값의 변화로 감지하고, 드라이빙 전극은 터치 패널의 구동 전압이 인가한다.

도 6에 도시된 바와 같이, 터치 패널(100)의 하부에 형성된 조명 장치(LED Lamp, 200)는 빛을 금속 코팅층 패턴(121)의 메탈 메쉬의 구조로 통과시켜 키 모듈(30)의 버튼 주위로 빛이 빠져 나와도록 한다.

금속 코팅층 패턴(121)은 조명 장치(200)의 빛을 투과하기 위하여 메탈 메쉬의 라인 폭(Line Width)을 1-200㎛로 하고, 메탈 메쉬의 라인 사이의 간격을 0.1-10mm로 형성한다.

바람직하게는, 메탈 메쉬의 라인 폭을 5-50㎛로 하여 조명 장치(200)의 투과도를 높일 수 있고, 메탈 메쉬의 라인 사이의 간격을 0.4-1.0mm 이내로 하여 메쉬 형성에 따른 선저항을 최소화할 수 있다.

전술한 메탈 메쉬의 라인 폭(Line Width)(1-200㎛)을 벗어나게 되면 빛의 투과도가 떨어지고, 메탈 메쉬의 라인 사이의 간격(0.1-10mm)을 벗어나게 되면 선저항이 높아지는 단점이 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널(100)의 제조 방법은 하나의 저저항 금속 코팅층(130)에 터치의 검출을 위하여 X축 정전전극과 Y축 정전전극을 나타내는 센싱 전극과 드라이빙 전극을 복수개 형성한다. 다시 말해, 전술한 제1 실시예의 수신(Rx) 전극(센싱 전극)의 탑(Top) 패턴과 송신(Tx) 전극(드라이빙 전극)의 바텀(Bottom) 패턴을 한 번의 포토리소그래피의 공정을 통해 하나의 저저항 금속 코팅층(130) 상에 형성하게 되는 것이다.

전술한 센싱 전극과 드라이빙 전극은 금속 코팅층 패턴(121)과, 금속 코팅층 패턴(121)과 연결된 배선전극 패턴(131)을 각각 포함하고 있다.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제2 실시예에 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치에 적용된 정전용량 방식의 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 도면이다.

본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 패널(100)의 제조 방법은 광학 절연체(110)의 상면에 반투명 도전층(120)을 코팅 또는 증착한 후, 반투명 도전층(120)의 상면에 저저항 금속 코팅층(130)을 증착한다(도 7a의 (a1) 및 (a2)).

여기서, 반투명 도전층(120)은 ITO, ZnO 등의 높은 투과도를 가지는 투명 도전성(Transparent Conductive Oxide)과 구분되는 용어로 색상을 가지고 있지만 빛을 투과하는 방향의 반대쪽이 빛을 투과하여 보이는 특성을 가지고 있는 전도성 물질을 나타낸다. 따라서, 반투명 도전층(120)은 회로 형성시 불투명 메탈을 사용하였을 때보다 회로 시인성을 개선하는 역할을 한다.

여기서, 반투명 도전층(120)은 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT), 그라핀(Graphene), 크롬(Cr), 니켈(Ni)과 크롬(Cr)의 합금, 니켈(Ni)과 금(Au)의 합금, AGNW(Ag Nano Wire)과 같은 반투명한 재질의 전도성 물질을 나타낸다. 니켈, 크롬, 금 등의 메탈은 증착 공정으로 적층되거나 습식 방식으로 코팅될 수 있다.

다음으로, 1차 포토리소그래피(Photolithography)의 공정에 의해 반투명 도전층(120)으로 이루어지는 반투명전극 패턴(121)과 저저항 금속 코팅층(130)으로 이루어지는 배선전극 패턴(131)을 형성하게 된다(도 7a의 (b1), (b2) 및 (b3)).

다시 상세하게 설명하면, 첫 번째 마스크(140)를 이용하여 반투명전극 패턴(121)과 배선전극 패턴(131)에 해당하지 않는 부분의 저저항 금속 코팅층(130)과 반투명 도전층(120)을 동시에 제거하여 반투명전극 패턴(121)과 반투명전극 패턴(121)과 연결된 배선전극 패턴(131)을 형성한다(1차 포토리소그래피의 공정은 저저항 금속 코팅층(130)과 반투명 도전층(120)의 1차 메탈 에칭 공정임). 즉, 1차 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 1차 노광, 1차 현상, 메탈 에칭(반투명 특성을 갖는 메탈과 저저항 특성을 갖는 메탈), 박리 공정을 수행한다.

1차 포토리소그래피의 공정을 수행한 반투명전극 패턴(121)과 배선전극 패턴(131)은 상부층을 저저항 금속 코팅층(130)으로, 하부층을 반투명 도전층(120)으로 이루어져 있다.

1차 포토리소그래피의 공정시(Wet 공정) 반투명전극 패턴(121)은 복수의 제1 선형 전극부들(122)과 복수의 제1 선형 전극부들(122)과 상호 교차하는 복수의 제2 선형 전극부들(124)을 통해 미세 패턴의 메쉬 구조를 형성한다.

다음으로, 두 번째 마스크(141)를 이용하여 터치에 의한 신호 입력을 감지하는 부분의 저저항 금속 코팅층(130)을 제거한다(2차 포토리소그래피의 공정은 저저항 금속 코팅층(130)의 2차 메탈 에칭 공정이고, 도 7b의 (c1), (c2) 및 (c3)).

즉, 2차 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 2차 노광, 2차 현상, 메탈 에칭(저저항 특성을 갖는 메탈), 박리 공정을 수행한다.

이러한 공정에 의해 광학 절연층 위에 상부층(저저항 금속 코팅층(130))과 하부층(반투명 도전층(120))을 포함한 배선전극 패턴(131)과 반투명 도전층(120)을 포함한 반투명전극 패턴(121)이 형성된 터치 패널을 제조한다.

이렇게 제조된 터치 패널은 2차 포토리소스그래피의 공정을 완료하면, 도 7b의 (d1) 및 (d2)와 같이, 수신(Rx) 전극의 탑(Top) 패턴과 송신(Tx) 전극의 바텀(Bottom) 패턴을 접착제층(Optical Clear Adhesive, OCA)을 이용하여 합지하여 최종 터치 패널용 패드를 완성한다.
전술한 제1 실시예의 금속 코팅층 패턴(121)과 같이, 반투명전극 패턴(121)은 조명 장치(200)의 빛을 투과하기 위하여 메쉬의 라인 폭(Line Width)을 1-200㎛로 하고, 메쉬의 라인 사이의 간격을 0.1-10mm로 형성한다.
바람직하게는, 메쉬의 라인 폭을 5-50㎛로 하여 조명 장치(200)의 투과도를 높일 수 있고, 메쉬의 라인 사이의 간격을 0.4-1.0mm 이내로 하여 메쉬 형성에 따른 선저항을 최소화할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 패널(100)의 제조 방법은 반투명 도전층(120)에 터치의 검출을 위하여 X축 정전전극과 Y축 정전전극을 나타내는 센싱 전극과 드라이빙 전극을 복수개 형성한다.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 장치 및/또는 방법을 통해서만 구현이 되는 것은 아니며, 본 발명의 실시예의 구성에 대응하는 기능을 실현하기 위한 프로그램, 그 프로그램이 기록된 기록 매체 등을 통해 구현될 수도 있으며, 이러한 구현은 앞서 설명한 실시예의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 전문가라면 쉽게 구현할 수 있는 것이다

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

100: 터치 패널
110: 광학 절연체
120: 반투명 도전층
121: 금속 코팅층 패턴, 반투명전극 패턴
130: 저저항 금속 코팅층
131: 배선전극 패턴
140: 첫 번째 마스크
141: 두 번째 마스크
200: 조명 장치

Claims

삭제
폰트가 부여된 키 모듈;
상기 키 모듈에서 사용자의 손가락에 의한 터치 시그널 또는 버튼 입력에 의한 키 시그널을 포함한 터치에 의한 신호 입력을 감지하고 절연체의 상면에 미세 패턴의 메탈 메쉬 구조로 이루어지고 색상을 갖지만 빛을 투과하는 방향의 반대쪽이 빛이 투과되는 반투명한 재질의 전도성 물질의 반투명 도전층을 적층하여 이루어진 반투명전극 패턴과, 상기 반투명전극 패턴의 일측 끝단인 가장 자리 영역과 연결되어 버스 전극을 나타내고 상기 절연체의 상면에 상기 반투명 도전층과 그 위에 금속 코팅층을 적층하여 이루어진 배선전극 패턴으로 형성된 터치 패널; 및
상기 터치 패널의 하부에 형성되고 빛이 상기 반투명도전층을 투과하여 상기 키 모듈의 주위로 투과하도록 빛을 발생하는 조명 장치를 포함하며,
상기 터치 패널은 상기 반투명전극 패턴과 상기 배선전극 패턴으로 이루어진 터치 여부 및 터치 위치를 전압값의 변화로 감지하는 센싱 전극(Receive, Rx)의 탑(Top) 패턴과, 상기 반투명전극 패턴과 상기 배선전극 패턴으로 이루어진 터치 패널의 구동 전압이 인가되는 드라이빙 전극(Transfer, Tx)의 바텀(Bottom) 패턴을 형성하고 상기 탑 패턴과 상기 바텀 패턴을 접착제층에 의해 합지하는 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치.
삭제
제2항에 있어서,
상기 반투명 도전층은 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT), 그라핀(Graphene), 크롬(Cr), 니켈(Ni)과 크롬(Cr)의 합금, 니켈(Ni)과 금(Au)의 합금 중 하나이거나 색상이 있으면서 빛을 투과하는 방향의 반대쪽이 빛을 투과하여 보이는 전도성 물질인 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치.
삭제
삭제
제2항에 있어서,
상기 반투명전극 패턴은 상기 조명 장치의 빛을 투과하기 위하여 메쉬의 라인 폭(Line Width)을 1-200㎛로 하고, 메쉬의 라인 사이의 간격을 0.1-10mm로 하는 키패드 및 터치패드 겸용 입력 장치.