KR101152406B1 - 아크 플라즈마 토치 - Google Patents
아크 플라즈마 토치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101152406B1 KR101152406B1 KR1020100091072A KR20100091072A KR101152406B1 KR 101152406 B1 KR101152406 B1 KR 101152406B1 KR 1020100091072 A KR1020100091072 A KR 1020100091072A KR 20100091072 A KR20100091072 A KR 20100091072A KR 101152406 B1 KR101152406 B1 KR 101152406B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode
- ground electrode
- driving electrode
- plasma torch
- solenoid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 32
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 51
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 12
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 11
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 71
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3436—Hollow cathodes with internal coolant flow
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/28—Cooling arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3457—Nozzle protection devices
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3468—Vortex generators
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/40—Details, e.g. electrodes, nozzles using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K10/00—Welding or cutting by means of a plasma
- B23K10/02—Plasma welding
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/20—Waste processing or separation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
도 2는 도 1에 도시한 아크 플라즈마 토치 중 접지 전극과 구동 전극의 단면도이다.
도 3은 도 1에 도시한 아크 플라즈마 토치 중 절연부와 기체 주입부의 확대도이다.
도 4는 도 3에 도시한 기체 주입부의 단면과 우측면을 나타낸 도면이다.
도 5는 도 1에 도시한 아크 플라즈마 토치의 구동 과정에서 아크점의 이동을 설명하기 위해 도시한 접지 전극과 구동 전극의 개략도이다.
도 6은 방전 가스가 공기인 경우 아크 플라즈마 토치에 인가되는 전압과 전류 파형을 나타낸 예시도이다.
도 7은 방전 가스가 이산화탄소인 경우 아크 플라즈마 토치에 인가되는 전압과 전류 파형을 나타낸 예시도이다.
도 8과 도 9는 각각 도 6과 도 7에 도시한 전류 파형을 확대된 시간 스케일로 나타낸 그래프이다.
도 10은 방전 가스가 공기인 경우 방전 전력 변화에 따른 전압-전류 특성을 나타낸 그래프이다.
도 11은 방전 가스가 이산화탄소인 경우 방전 전력 변화에 따른 전압-전류 특성을 나타낸 그래프이다.
도 12는 주파수가 20kHz인 조건(주기: 50㎲)에서 시간 변화에 따른 플라즈마 제트의 형상을 2.5㎲ 간격으로 측정한 결과를 나타낸 도면이다.
도 13은 주파수가 20kHz인 조건(주기: 50㎲)에서 시간 변화에 따른 플라즈마 제트의 형상을 50㎲ 간격으로 측정한 결과를 나타낸 도면이다.
도 14는 도 12 및 도 13과 같은 조건에서 250㎲ 동안 측정된 플라즈마 제트 형상을 나타낸 도면이다.
도 15는 전력 변화에 따른 아크점의 이동을 설명하기 위해 도시한 구동 전극과 접지 전극의 개략도이다.
도 16 내지 도 20은 각각 본 발명의 제2 실시예 내지 제6 실시예에 따른 아크 플라즈마 토치의 일부를 나타낸 단면도이다.
도 21은 종래 기술에 의한 아크 플라즈마 토치의 개략도이다.
12: 구동 전극 13: 제1 냉각 몸체
14: 제2 냉각 몸체 15: 절연부
16: 기체 주입부 17: 교류 전원부
18: 냉각수 주입구 19: 냉각수 배출구
20: 방전 가스 주입구 21: 솔레노이드
22: 영구 자석 23: 제1 솔레노이드
24: 제2 솔레노이드 25: 제1 영구 자석
26: 제2 영구 자석 111: 소구경부
112: 대구경부 30: 플라즈마 제트
Claims (22)
- 중심축을 관통하는 제1 방전 공간을 형성하는 접지 전극;
상기 접지 전극과 거리를 두고 위치하며 상기 접지 전극을 향해 개방된 제2 방전 공간을 중심축과 나란하게 형성하는 구동 전극;
상기 접지 전극과 상기 구동 전극 사이에 위치하며 상기 접지 전극과 상기 구동 전극의 내부로 소용돌이 흐름의 공기 또는 이산화탄소의 방전 가스를 제공하는 기체 주입부; 및
상기 구동 전극과 전기적으로 연결되어 상기 구동 전극으로 교류 전압-전류 파형을 인가하는 교류 전원부
를 포함하고,
상기 교류 전원부는,
상기 구동 전극에 1kHz 내지 999kHz 범위의 주파수를 인가하며,
상기 구동 전극은 음극 침식 영역과 양극 침식 영역을 포함하고,
상기 접지 전극은 상기 구동 전극을 향한 소구경부 및 상기 소구경부와 접하는 대구경부를 포함하고,
상기 음극 침식 영역의 외측에 설치된 제1 솔레노이드와, 상기 대구경부의 외측에 설치된 제2 솔레노이드를 포함하는
아크 플라즈마 토치. - 제1항에 있어서,
상기 접지 전극은 원통 모양으로 형성되고, 상기 구동 전극은 측벽 및 상기 측벽의 가장자리와 접하는 원통부를 포함하는 아크 플라즈마 토치. - 제2항에 있어서,
상기 접지 전극과 상기 구동 전극은 각자의 중심축이 일치하도록 직선상으로 배치되는 아크 플라즈마 토치. - 제3항에 있어서,
상기 접지 전극을 둘러싸며 상기 접지 전극과의 사이에 제1 냉각 채널을 형성하는 제1 냉각 몸체;
상기 구동 전극을 둘러싸며 상기 구동 전극과의 사이에 제2 냉각 채널을 형성하는 제2 냉각 몸체; 및
상기 제1 냉각 몸체와 상기 제2 냉각 몸체 사이에 결합된 절연부
를 더 포함하는 아크 플라즈마 토치. - 제4항에 있어서,
상기 기체 주입부는 상기 절연부의 내부에 위치하며, 고리 모양으로 형성되고, 반경 방향으로부터 기 설정된 각도로 경사진 복수의 관통 홀을 형성하는 아크 플라즈마 토치. - 제4항에 있어서,
상기 제1 냉각 몸체는 상기 접지 전극과 통전되고 접지 전원에 연결되며, 상기 제2 냉각 몸체는 상기 구동 전극과 통전되고 상기 교류 전원부에 연결되는 아크 플라즈마 토치. - 삭제
- 제3항에 있어서,
상기 제1 솔레노이드의 감긴 방향은 상기 제1 솔레노이드에 의해 유도된 자기장에 의한 아크점의 회전 방향이 상기 기체 주입부에 의한 방전 가스의 소용돌이 방향과 일치하도록 설정되는 아크 플라즈마 토치. - 제10항에 있어서,
상기 양극 침식 영역의 외측에 설치된 제3 솔레노이드를 더 포함하며,
상기 제3 솔레노이드의 감긴 방향은 상기 제1 솔레노이드와 반대인 아크 플라즈마 토치. - 제11항에 있어서,
상기 제1 솔레노이드와 상기 제3 솔레노이드 중 적어도 하나는 상기 교류 전원부에 연결되어 상기 교류 전원부에 의해 구동하는 아크 플라즈마 토치. - 중심축을 관통하는 제1 방전 공간을 형성하는 접지 전극;
상기 접지 전극과 거리를 두고 위치하며 상기 접지 전극을 향해 개방된 제2 방전 공간을 중심축과 나란하게 형성하는 구동 전극;
상기 접지 전극과 상기 구동 전극 사이에 위치하며 상기 접지 전극과 상기 구동 전극의 내부로 소용돌이 흐름의 공기 또는 이산화탄소의 방전 가스를 제공하는 기체 주입부; 및
상기 구동 전극과 전기적으로 연결되어 상기 구동 전극으로 교류 전압-전류 파형을 인가하는 교류 전원부
를 포함하고,
상기 교류 전원부는,
상기 구동 전극에 1kHz 내지 999kHz 범위의 주파수를 인가하며,
상기 구동 전극은 음극 침식 영역과 양극 침식 영역을 포함하고,
상기 접지 전극은 상기 구동 전극을 향한 소구경부 및 상기 소구경부와 접하는 대구경부를 포함하고,
상기 음극 침식 영역의 외측에 설치된 제1 영구 자석과, 상기 대구경부의 외측에 설치되는 제2 영구자석을 포함하는 아크 플라즈마 토치. - 제13항에 있어서,
상기 제1 영구 자석의 N극/S극 위치는 상기 제1 영구 자석에 의해 유도된 자기장에 의한 아크점의 회전 방향이 상기 기체 주입부에 의한 방전 가스의 소용돌이 방향과 일치하도록 설정되는 아크 플라즈마 토치. - 제13항에 있어서,
상기 양극 침식 영역의 외측에 설치된 제3 영구 자석을 더 포함하며,
상기 제3 영구 자석의 N극/S극 위치는 상기 제1 영구 자석과 반대인 아크 플라즈마 토치. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제1 솔레노이드의 감긴 방향과 상기 제2 솔레노이드의 감긴 방향은 서로 반대인 아크 플라즈마 토치. - 삭제
- 제13항에 있어서,
상기 제1 영구 자석의 N극/S극의 위치는 상기 제2 영구 자석의 N극/S극의 위치와 반대인 아크 플라즈마 토치. - 삭제
- 제1항 내지 제8항, 제10항 내지 제15항, 제18항 및 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 교류 전원부는 상기 구동 전극의 작동 과정에서 상기 구동 전극에 가변 전력을 인가하는 아크 플라즈마 토치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100091072A KR101152406B1 (ko) | 2010-09-16 | 2010-09-16 | 아크 플라즈마 토치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100091072A KR101152406B1 (ko) | 2010-09-16 | 2010-09-16 | 아크 플라즈마 토치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120029495A KR20120029495A (ko) | 2012-03-27 |
| KR101152406B1 true KR101152406B1 (ko) | 2012-06-05 |
Family
ID=46133869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020100091072A Active KR101152406B1 (ko) | 2010-09-16 | 2010-09-16 | 아크 플라즈마 토치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101152406B1 (ko) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101381666B1 (ko) | 2013-10-02 | 2014-04-04 | 지에스플라텍 주식회사 | 비이송식 공동형 플라즈마 토치 |
| CN105578702A (zh) * | 2016-02-16 | 2016-05-11 | 衢州迪升工业设计有限公司 | 一种熔蚀式引弧的电极结构 |
| KR20220036830A (ko) * | 2020-09-16 | 2022-03-23 | 한국기계연구원 | 플라즈마 토치 및 플라즈마 토치의 구동 방법 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101629683B1 (ko) | 2015-03-27 | 2016-06-14 | 한국수력원자력 주식회사 | 역극성/정극성 동작이 가능한 구조의 플라즈마 토치 |
| CN108566715B (zh) * | 2018-04-11 | 2020-12-18 | 航天神洁(北京)科技发展有限公司 | 一种等离子煤制乙炔等离子枪 |
| CN108770172B (zh) * | 2018-08-06 | 2023-09-26 | 重庆新离子环境科技有限公司 | 一种用于危险废弃物处理的直流电弧等离子体炬 |
| CN110213874B (zh) * | 2019-06-26 | 2024-03-15 | 中国航天空气动力技术研究院 | 一种三相交流电弧等离子体喷枪装置 |
| CN112118663A (zh) * | 2020-10-20 | 2020-12-22 | 江苏天楹等离子体科技有限公司 | 一种新型直流等离子体炬 |
| CN113905498B (zh) * | 2021-08-31 | 2024-04-09 | 中国航天空气动力技术研究院 | 一种阴极弧根分散的电弧等离子加热器及使用方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100456788B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-11-16 | 주식회사 성일산업 | 장수명 플라즈마 토치 |
| KR100459315B1 (ko) * | 2002-03-26 | 2004-12-03 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 유해 폐기물 처리용 공동형 플라즈마 토치 |
| WO2009092234A1 (zh) * | 2007-12-27 | 2009-07-30 | Beijing Guangyao Electricity Equipment Co., Ltd | 交流等离子发射枪及其供电方法和煤粉燃烧器 |
-
2010
- 2010-09-16 KR KR1020100091072A patent/KR101152406B1/ko active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100456788B1 (ko) * | 2002-01-09 | 2004-11-16 | 주식회사 성일산업 | 장수명 플라즈마 토치 |
| KR100459315B1 (ko) * | 2002-03-26 | 2004-12-03 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 유해 폐기물 처리용 공동형 플라즈마 토치 |
| WO2009092234A1 (zh) * | 2007-12-27 | 2009-07-30 | Beijing Guangyao Electricity Equipment Co., Ltd | 交流等离子发射枪及其供电方法和煤粉燃烧器 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101381666B1 (ko) | 2013-10-02 | 2014-04-04 | 지에스플라텍 주식회사 | 비이송식 공동형 플라즈마 토치 |
| CN105578702A (zh) * | 2016-02-16 | 2016-05-11 | 衢州迪升工业设计有限公司 | 一种熔蚀式引弧的电极结构 |
| KR20220036830A (ko) * | 2020-09-16 | 2022-03-23 | 한국기계연구원 | 플라즈마 토치 및 플라즈마 토치의 구동 방법 |
| KR20220036829A (ko) * | 2020-09-16 | 2022-03-23 | 한국기계연구원 | 플라즈마 토치 및 플라즈마 토치의 구동 방법 |
| KR102541918B1 (ko) * | 2020-09-16 | 2023-06-12 | 한국기계연구원 | 플라즈마 토치 및 플라즈마 토치의 구동 방법 |
| KR102603051B1 (ko) * | 2020-09-16 | 2023-11-16 | 한국기계연구원 | 플라즈마 토치 및 플라즈마 토치의 구동 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20120029495A (ko) | 2012-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101152406B1 (ko) | 아크 플라즈마 토치 | |
| CN103260330B (zh) | 一种多阴极中轴阳极电弧等离子体发生器 | |
| US7411353B1 (en) | Alternating current multi-phase plasma gas generator with annular electrodes | |
| KR20070099345A (ko) | 직류 아크 플라즈마트론 장치 및 사용 방법 | |
| JPH04254580A (ja) | マグネトロン陰極を用いた基板のコーティング法および装置 | |
| KR101179650B1 (ko) | 양극 주변에 영구자석 자장을 인가하여 성능개선을 한 공동형 플라즈마 토치 | |
| JP2016511911A (ja) | プラズマ化学気相成長法(pecvd)源 | |
| US4034250A (en) | Plasmatron | |
| US12284746B2 (en) | Thermal plasma processing apparatus | |
| WO2012138311A1 (ru) | Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы | |
| KR100486939B1 (ko) | 계단형 노즐 구조를 갖는 자장인가형 비이송식 플라즈마토치 | |
| JPS6340299A (ja) | 非移行式プラズマト−チの電極構造 | |
| JP5597133B2 (ja) | ガス改質装置 | |
| KR20120041475A (ko) | 노즐 구조에 의한 상압 플라즈마 토치 발생장치 | |
| KR101337047B1 (ko) | 상압 플라즈마 장치 | |
| JP2010251162A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| US3585434A (en) | Plasma jet generating apparatus | |
| JP3662621B2 (ja) | 誘導プラズマの発生方法および装置 | |
| WO1989001281A1 (fr) | Structure de cathode d'un chalumeau au plasma | |
| JP2019536219A (ja) | バーノズル型プラズマトーチ | |
| RU2098512C1 (ru) | Вакуумно-дуговой источник плазмы | |
| KR101002082B1 (ko) | 플라즈마 아크 토치용 전극 | |
| KR20190094273A (ko) | 플라즈마 토치 | |
| JPH11209105A (ja) | オゾン発生装置 | |
| RU237203U1 (ru) | Электродуговой плазмотрон с магнитной стабилизацией дуги на базе использования постоянных магнитов на аноде плазмотрона |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20100916 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20111101 Patent event code: PE09021S01D |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20120508 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20120525 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20120525 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160308 Year of fee payment: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160308 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170308 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170308 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180416 Year of fee payment: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180416 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200309 Year of fee payment: 9 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200309 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210310 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220425 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240312 Start annual number: 13 End annual number: 13 |