KR101065611B1

KR101065611B1 - 고주파 피부 미용 장치

Info

Publication number: KR101065611B1
Application number: KR1020100121227A
Authority: KR
Inventors: 이기세; 김병철
Original assignee: 주식회사 은성글로벌상사
Priority date: 2010-12-01
Filing date: 2010-12-01
Publication date: 2011-09-19
Anticipated expiration: 2030-12-01

Abstract

본 발명은 고주파 피부 미용 장치에 관한 것으로, 특히 고주파 에너지를 피부에 전달하는 팁을 통해 미리 피부의 상태를 확인하여 그에 적절한 고주파 에너지를 피부에 공급할 수 있도록 하는 고주파 피부 미용 장치에 관한 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 팁에 형성된 전극을 통해 피부에 고주파 에너지를 공급하여 피부를 미용하는 고주파 피부 미용 장치에 있어서, 몸체의 전방부 면에 하나 또는 그 이상의 (+)전극이 형성되고, 상기 (+)전극의 외측으로 복수개의 (-)전극이 형성되며, 전방부 가장자리에는 피부 상태를 센싱하기 위한 전류를 인가하는 센싱전극이 형성된 팁; 상기 팁의 센싱전극에 센싱전류를 인가하여 피드백되는 전류값에 의해 고주파 에너지의 발생을 제어하는 프로세서; 상기 프로세서의 제어에 의해 상기 팁의 (+)전극과 (-)전극에 고주파 에너지를 공급하는 고주파 발생기;로 구성된다.

Description

고주파 피부 미용 장치{Skin beauty apparatus}

본 발명은 고주파 피부 미용 장치에 관한 것으로, 특히 고주파를 피부에 전달하는 팁을 통해 미리 피부의 상태를 확인하여 그에 적절한 고주파를 피부에 공급할 수 있도록 하는 고주파 피부 미용 장치에 관한 것이다.

피부 미용과 재생의 방안으로 콜라겐의 재성장을 촉진시킴으로써 효과를 가질 수 있는데, 이러한 방안으로 비침습법을 들 수 있다.

비침습법은 RF 고주파를 피부에 조사하여 진피층을 가열함으로써 상승된 진피층의 온도에 의해 콜라겐의 생성이 촉진되도록 하는 방법으로서, 단극성 또는 양극성의 전극을 가진 팁을 이용하여 피부에 고주파를 조사하게 된다.

이러한 종래의 팁은 도6에 도시한 바와 같이 팁의 몸체(1) 전방부 면에는 다수개의 (+)전극(6)이 격자형태로 일정간격마다 설치되어 있고, 상기 (+)전극(6)의 외측 가장자리 둘레를 따라 (-)전극(2,3,4,5)가 설치되어 있는 구조를 가진다.

따라서, (+)전극(6)과 (-)전극(2,3,4,5) 사이에는 피부를 통해 고주파가 흐르게 되어 진피층에 고주파를 공급할 수 있는 것이다.

종래의 고주파 피부 미용 장치는 피부의 상태를 확인하기 위하여, 피부 치료중에 (+)전극(6)과 (-)전극(2,3,4,5)를 통해 흐르는 고주파 전류를 피드백 받아서 피부와 접촉상태를 확인함으로써 피부의 상태(예를들면, 피부와 팁의 접촉도, 건조도 등)를 확인하게 되는 구조를 가진다.

그런데, 이러한 고주파 피부 미용 장치는 피부의 상태를 확인하기 위해 피드백 되는 전류의 상태를 분석하여 판단하게 되지만, 이는 매우 복잡한 처리과정을 거치게 되어 장치가 복잡해짐과 아울러 정확하고 빠르게 피부 상태를 확인하지 못하는 문제점을 가진다.

또한, 팁과 피부간의 접촉상태가 불량한 경우 즉, 팁의 단부가 피부에 밀착되지 않고 일부분만이 접촉된 경우에는 그 접촉된 부위로 전류의 쏠림현상이 발생하여 과도한 전류가 흐르게 되므로 피부조직을 손상시키게 되는 문제점이 발생한다.

본 발명은 이러한 종래의 문제점을 해결하기 위하여, 팁에 별도의 피부 상태를 센싱할 수 있는 단자를 형성하여 센싱 전류에 의해 간단히 피부 상태를 확인할 수 있도록 함과 아울러 팁과 피부와의 접촉상태가 양호한 경우에만 고주파 전류를 방사할 수 있도록 하는 고주파 피부 미용 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은,

팁에 형성된 전극을 통해 피부에 고주파 에너지를 공급하여 피부를 미용하는 고주파 피부 미용 장치에 있어서,

몸체의 전방부 면에 하나 또는 그 이상의 (+)전극이 형성되고, 상기 (+)전극의 외측으로 복수개의 (-)전극이 형성되며, 전방부 가장자리에는 피부 상태를 센싱하기 위한 전류를 인가하는 센싱전극이 형성된 팁;

상기 팁의 센싱전극에 센싱전류를 인가하여 피드백되는 전류값에 의해 고주파 에너지의 발생을 제어하는 프로세서;

상기 프로세서의 제어에 의해 상기 팁의 (+)전극과 (-)전극에 고주파 에너지를 공급하는 고주파 발생기;로 구성된다.

본 발명은 상기의 구성에 의해서 피부의 상태를 빠르고 쉽게 확인하여 그에 적절한 고주파 에너지를 피부에 공급함으로써 최적의 상태로 피부를 미용할 수 있으며, 또한 종래와 같이 복잡한 구조를 가지지 않음으로써 제조 비용도 그만큼 낮아져 가격 경쟁력을 가지는 효과가 있다.

또한, 피부의 접촉상태를 센싱하여 최적의 접촉상태가 되었을 경우에 고주파 에너지를 방사하도록 하여 접촉불량에 의한 전류 쏠림 현상을 방지함으로써 정확하고 안전한 시술이 가능하며, 또한 최적의 상태에서 고주파 에너지를 자동으로 방사기능을 갖게 되어 안전하고 편리한 시술이 가능한 장점이 있다.

도1은 본 발명에 의한 피부 미용 장치의 구조를 보인 블록도.
도2는 본 발명에 의한 팁의 구조를 보인 도.
도3은 (+)전극과 (-)전극의 다양한 형태를 보인 도.
도4는 팁의 다른 형태를 보인 도.
도5는 단극성 방식의 팁 구조를 보인 도,
도6은 종래의 팁 구조를 보인 도.

이러한 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도1과 같이 본 발명의 고주파 피부 미용 장치(100)는 외측으로 돌출되어 고주파를 피부에 공급하기 위한 팁(200)을 가지며, 내부에는 고주파 피부 미용 장치(100)의 동작을 결정하기 위한 버튼부(110)와, 버튼부(110)의 입력에 따라 제어명령을 발생하는 프로세서(120)와, 프로세서(120)의 제어에 의해 고주파 에너지 출력을 발생하여 팁(200)에 공급하는 고주파 발생기(130)와, 전원을 공급하기 위한 전원부(140)가 내장된다.

팁(200)은 도2에서와 같이 돌출된 몸체(201)의 전방부 면에 (+)전극(210)과 (-)전극(220,221,222,223), 그리고 센싱전극(230,231,232,233)이 돌출되어 형성되는데, 팁(200)은 그 전방부가 절연체로 된 절연면(202)에 각 전극이 형성된다.

(+)전극(210)은 다수개의 전극이 사각의 격자로 배열된 형태를 가지는데, 각 전극은 직경이 0.1~0.5mm정도이고, 높이는 0.1~0.5mm정도를 가지며, 갯수는 64개, 100개, 196개 정도를 가진다.

도1에서는 자수의 (+)전극이 사각의 형태를 갖는 것을 예시하였지만, 사각의 격자형태뿐만 아니라 도3과 같이 동심원 형태, 원형태, 다각을 갖는 형태로 구성될 수 있다.

(-)전극(220,221,222,223)은 사각 격자형태의 배열된 (+)전극(210)의 사방 가장자리에서 이격되어 각각 형성되는데, 길이는 (+)전극(210)의 변의 길이에 대응되고, 폭은 2~10mm정도이며, 높이는 (+)전극(210)과 마찬가지로 0.1~0.5mm정도이다.

이러한 (-)전극(220,221,222,223)은 (+)전극(210)이 사각의 형태를 가지는 경우에는 4개의 변의 외측부에 형성되지만, 만약 동심원이나 원형태로 (+)전극이 형성되는 경우 그 외측둘레를 따라 원의 형태를 가지면서 1개 또는 복수개로 분할되어 형성될 수 있으며, 다각형의 형태로 (+)전극이 형성되는 경우 그 각 변에 대응되어 (-)전극이 형성될 수 있다.

한편, 센싱전극(230,231,232,233)은 절연면(202)의 가장자리 모서리부분에 형성되는데, 그 중 센싱전극(230,231)은 (+)전극으로 하고, 센싱전극(232,233)은 (-)전극으로 하여 피부를 통해 전류가 흐르도록 형성한다.

샌싱전극(230,231,232,233)이 팁(200)의 가장자리에 형성되는 이유는 팁(200)이 피부에 접촉하는 범위를 최대한 넓게 센싱하기 위함이다.

이러한 각 전극들은 절연면(202)에서 에칭공법 등을 통해 형성될 수 있다.

상기 팁(200)에 센싱 전류와 고주파 전류를 공급하여 피부를 미용하는 동작을 설명한다.

사용자가 버튼부(110)를 누르게 되면, 프로세서(120)는 초기에 팁(200)의 센싱전극(230,231)에 센싱전류를 공급하게 되고, 피부를 통하여 센싱전극(232,233)으로 폐회로가 구성되면 프로세서(120)는 센싱전류를 피드백받아 피부의 상태 즉, 접촉도, 수분함유 정도 등을 판단하게 된다.

예를들면, 공급된 센싱전류보다 현저히 약한 전류가 프로세서(120)로 입력되어 임피던스가 큰 경우이면, 이는 팁(200)이 피부에 밀착되어 접촉되지 않은 경우이므로 표시부(150)를 통해 그 상태를 표시하여 올바른 접촉이 될 수 있도록 유도한다.

또한, 프로세서(120)로 입력되는 전류가 피부 건조상태를 나타내는 임피던스 범위내에 있다면, 프로세서(120)는 고주파 발생기(130)를 제어하여 그에 적절한 고주파 에너지를 발생시키고, 이러한 고주파 에너지는 (+)전극(210)과 (-)전극(220,221,222,223)을 통해 피부에 공급된다.

이때 (+)전극(210)과 (-)전극(220,221,222,223)을 통해 공급되는 고주파 출력은 비교적 높은 고주파 에너지가 되어야만 높은 임피던스 상태에서 진피층까지 도달될 수 있으며, 이와 동시에 프로세서(120)는 센싱전극(230,231,232,233)에 센싱 전류의 공급을 중지시킨다.

한편, 프로세서(120)로 입력되는 전류가 적절한 수분 함유 상태의 임피던스 범위내에 있다면, 프로세서(120)는 고주파 발생기(130)를 제어하여 비교적 낮은 고주파 에너지를 발생시키게 된다.

이는 곧 피부가 수분을 충분히 함유하고 있으므로 높은 고주파 에너지를 인가하는 경우 피부가 손상을 입을 수 있으므로 낮은 고주파 에너지를 인가하여야 하며, 낮은 고주파 에너지로도 피부 깊숙이 고주파가 전달될 수 있어 피부 미용의 효과를 갖게 된다.

이러한 고주파 에너지는 10~200W의 출력을 가지면서, 0.5~100MHz정도의 범위를 가지게 된다.

상기에서 설명한 센싱전극(230,231,232,233)을 이용한 피부 상태의 센싱은 고주파 에너지 방사 타이밍 이외에 항상 행하게 되는데, 피부에 팁(200)이 접촉되면, 센싱전극(230,231,232,233)과 프로세서(120)간에 폐회로가 구성되므로 피부 상태를 센싱할 수 있어서 프로세서(120)는 자동으로 최적의 상태로 고주파 에너지 출력을 제어할 수 있는 것이다.

이는 곧 시술자가 별도의 버튼입력이 없이도 팁(200)을 피부에 접촉만 시키면 자동으로 고주파 에너지의 출력 여부가 결정되므로 연속적이고 빠른 시술이 이루어질 수 있는 것이다.

상기에서 설명한 부분은 시술자가 팁(200)을 피부에 접촉시키면, 피부 상태와 접촉도에 의해 자동을 고주파 에너지를 방사시킬 수 있는 개념이며, 다른 방안으로는 표시부(150) 또는 팁(200)부분에 다색의 LED로 구성된 별도의 표시부를 두어 피부 상태와 접촉도를 표시함으로써 시술자가 수동으로 버튼부(110)를 눌러 고주파 에너지가 인가되도록 할 수 있다.

즉, 시술자가 팁(200)을 피부에 접촉시키면, 상기에서 이미 설명한 과정으로 피부 상태와 접촉도를 센싱하고, 프로세서(120)는 이를 표시부(150) 또는 팁(200)에 설치된 별도의 표시부를 통해 표시함으로써 시술자가 그 표시부를 통해 표시된 내용을 보고 고주파 에너지의 인가여부를 결정하도록 하는 것이다.

예를들면, 피부의 건조도 또는 접촉도가 적절한 상태이면, 표시부(150)를 통해 고주파 에너지의 방사가 가능하다는 표시를 하거나 또는 팁(200)에 설치된 다색 LED로 구성된 별도의 표시부에 파란색 LED를 점등시키도록 한다.

반대로, 피부의 건조도 또는 접촉도가 적절하지 않다면, 표시부(150)나 별도의 표시부에 빨간색 LED를 점등시켜 무리한 고주파 에너지의 인가를 방지하게 되는 것이다.

도4는 본 발명의 또 다른 팁의 구조를 보인 도로서, (+)전극(240)이 하나의 판 형태로 된 구조를 보인 것이다.

이러한 (+)전극(240)은 도2에서 이미 설명한 (+)전극(210)의 형성 범위에 해당하는 넓이를 가지며, 높이는 마찬가지로 0.1~0.5mm정도이다.

위에서 설명한 방식의 팁(200)은 (+)전극과 (-)전극이 하나의 팁에 형성된 양극성(bi-polar) 방식이지만, 또다른 방식으로 팁(100)에는 (+)전극만 형성되고, (-)전극은 핸드피스 형태로 피부미용장치(100)의 본체로부터 이격되어 형성된 단극성(mono-polar)방식을 가질 수 있다.

이를 위해 팁(200)에는 도5에서와 같이 (+)전극(250)만 형성되고, 그 자장자리 주변으로는 센싱전극(230,231,232,233)이 형성되며, (-)전극을 갖는 별도의 핸드피스(160)가 프로세서(120)와 전기적으로 연결된 상태에서 피부미용장치(100)의 본체로부터 이격되어 설치된다.

따라서 핸드피스(160)를 시술을 받는자가 손에 쥐고, 팁을 피부 미용 부위에 접촉시키면 신체를 통해 폐회가 구성되어 고주파 에너지가 방사될 수 있으며, 피부 상태의 센싱은 위에서 이미 설명한 방식으로 동작된다.

아울러 고파주 에너지의 자동 또는 수동 방사방식도 이미 위에서 언급한 바와 같이 동작될 수 있다.

100 : 피부 미용 장치 110 : 버튼부
120 : 프로세서 130 : 고주파 발생기
140 : 전원부 150 : 표시부
200 : 팁 201 : 몸체
202 : 절연면 210 : (+)전극
220,221,222,223 : (-)전극 230,231,232,233 : 센싱 전극

Claims

팁에 형성된 전극을 통해 피부에 고주파 에너지를 공급하여 피부를 미용하는 고주파 피부 미용 장치에 있어서,
몸체의 전방부 면에 하나 또는 그 이상의 (+)전극이 형성되고, 상기 (+)전극의 외측으로 복수개의 (-)전극이 형성되며, 전방부 가장자리에는 접촉도의 센싱을 위한 전류를 인가하는 복수의 센싱전극이 형성된 팁;
상기 팁의 센싱전극에 센싱전류를 인가하여 피드백되는 전류값의 크기에 따라 접촉도를 판단하고, 접촉도에 따른 고주파 에너지의 발생을 제어하는 프로세서;
상기 프로세서의 제어에 의해 상기 팁의 (+)전극과 (-)전극에 고주파 에너지를 공급하는 고주파 발생기;로 구성되며,
상기 프로세서는 고주파 에너지의 방사 타이밍 이외의 시간에 센싱전류를 센싱전극에 인가하여 피드백되는 전류값의 크기에 따라 접촉도를 판단하도록 구성된 것을 특징으로 하는 고주파 피부 미용 장치.
제1항에 있어서, 프로세서는 센싱전극으로부터 피드백되는 전류값의 크기에 따라 고주파 에너지의 방사 가능여부를 표시부를 통해 표시하고, 버튼부로부터의 입력상태에 따라 고주파 발생기를 제어하도록 구성된 것을 특징으로 하는 고주파 피부 미용 장치.
삭제
제1항에 있어서, 프로세서는 센싱전극으로부터 피드백되는 전류값에 따라 고주파 발생기의 구동을 자동제어하는 것을 특징으로 하는 고주파 피부 미용 장치.
팁에 형성된 전극을 통해 피부에 고주파를 공급하여 피부를 미용하는 핸드피스형 고주파 피부 미용 장치에 있어서,
핸드피스 몸체의 전방부 면에 하나 또는 그 이상의 (+)전극이 형성되고, 전방부 가장자리에는 접촉도의 센싱을 위한 전류를 인가하는 복수개의 센싱전극이 형성된 팁;
상기 팁으로부터 이격되어 핸드피스 몸체에 구성된 (-)전극;
상기 팁의 센싱전극에 센싱전류를 인가하여 피드백되는 전류값의 크기에 따라 접촉도를 판단하고, 접촉도에 따른 고주파 에너지의 발생을 제어하는 프로세서;
상기 프로세서의 제어에 의해 상기 팁의 (+)전극에 고주파 에너지를 공급하는 고주파 발생기;로 구성되며,
상기 프로세서는 고주파 에너지의 방사 타이밍 이외의 시간에 센싱전류를 센싱전극에 인가하여 피드백되는 전류값의 크기에 따라 고주파 에너지의 출력을 제어하도록 구성된 것을 특징으로 하는 고주파 피부 미용 장치.
삭제
제5항에 있어서, 프로세서는 센싱전극으로부터 피드백되는 전류값의 크기에 따라 고주파 에너지의 방사 가능여부를 표시부를 통해 표시하고, 버튼부로부터의 입력상태에 따라 고주파 발생기를 제어하도록 구성된 것을 특징으로 하는 고주파 피부 미용 장치.
삭제
제5항에 있어서, 프로세서는 센싱전극으로부터 피드백되는 전류값에 따라 고주파 발생기의 구동을 자동제어하는 것을 특징으로 하는 고주파 피부 미용 장치.