KR101058697B1 - 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조, 실장 방법과 이를 위한 회로 기판의 랜드 패턴, 수평 방향으로 테이핑한 적층 세라믹 커패시터의 포장체 및 수평 방향 정렬방법 - Google Patents
적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조, 실장 방법과 이를 위한 회로 기판의 랜드 패턴, 수평 방향으로 테이핑한 적층 세라믹 커패시터의 포장체 및 수평 방향 정렬방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 폭과 두께가 동일, 유사한 적층 세라믹 커패시터(a) 및 폭이 두께보다 큰 적층 세라믹 커패시터(b)를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 랜드 패턴을 갖는 회로 기판의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 랜드와 적층 세라믹 커패시터의 폭, 길이간 상관관계를 나타내기 위한 모식도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 의한 회로 기판의 평면도이다.
도 6은 상기한 본 발명의 또 다른 일 실시예에 의한 랜드와 적층 세라믹 커패시터의 폭, 길이간 상관관계를 나타내기 위한 모식도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 의한 적층 세라믹 커패시터를 수평하게 배치되도록 정렬된 적층 세라믹 커패시터 포장체를 나타낸 것이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 의한 권취된 릴 형태의 적층 세라믹 커패시터 포장체를 나타낸 것이다.
도 9는 적층 세라믹 커패시터가 자기에 의하여 정렬된 상태를 나타낸 모식도이다.
도 10 내지 도 11은 적층 세라믹 커패시터가 이송부에 의하여 이송되는 동안 자기에 의하여 정렬되는 모습을 나타낸 모식도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 의한 적층 세라믹 커패시터의 수평 방향 정렬 방법을 나타내기 위한 모식도이다.
도 13은 본 발명의 시험예로서, 적층 세라믹 커패시터를 회로 기판상에 수평 실장하는 경우(a)와 수직 실장하는 경우(b)를 나타낸 모식도이다.
도 14는 본 발명의 시험예로서, 적층 세라믹 커패시터를 회로 기판상에 수평 실장하는 경우와 수직 실장하는 경우 도전재(땜납)의 높이가 진동 소음에 미치는 영향을 나타낸 그래프이다.
도 15는 본 발명의 시험예로서, 적층 세라믹 커패시터를 회로 기판상에 수평 실장하는 경우와 수직 실장하는 경우 랜드의 크기가 진동 소음에 미치는 영향을 나타낸 그래프이다.
한편, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판(20) 실장 시 업계에서는 통상적으로 30dB 미만으로 진동 소음을 제한하고 있으며, 최근 전자제품의 박형화와 소형화 추세에 따라 25dB 까지의 진동 소음을 허용치로 규제하고 있다.
이에 대하여, 아래의 표 1에서와 같이 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판(20) 실장 시 회로 기판과 적층 세라믹 커패시터를 접합하기 위하여 적층 세라믹 커패시터의 외부 전극(14a, 14b)에 접합되는 도전재(15)의 높이(TS)를 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)에 대하여 1/3 수준으로 유지할 때 진동 소음이 30dB 미만으로 유지될 수 있으며, 더 바람직하게는 도전재(15)의 높이(TS)를 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)에 대하여 1/5 미만으로로 형성하였을 때 25dB 이하로 적층 세라믹 커패시터의 진동 소음이 관리될 수 있다.
이때, 앞에서도 언급한 바와 같이 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)를 기준으로 한 도전재의 높이(TS)가 낮을수록 진동 소음이 감소하는 것을 알 수 있다.
또한,적층 세라믹 커패시터의 회로 기판(20) 실장 시 업계에서는 통상적으로 30dB 미만으로 진동 소음을 제한하고 있으며, 최근 전자제품의 박형화와 소형화 추세에 따라 25dB 까지의 진동 소음을 허용치로 규제하고 있다.
이에 대하여, 아래의 표 2에서와 같이 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판(20) 실장 시 회로 기판의 랜드(21, 22)의 바깥쪽 모서리를 기준으로 커패시터의 폭(WMLCC)과 길이(LMLCC)는 0.8 ≤ LLAND(a) / LMLCC ≤ 1.1, 0.6 ≤ WLAND(a) / WMLCC ≤ 1.0 수준으로 유지할 때 진동 소음이 30dB 미만으로 유지될 수 있다.
이때, 앞에서도 언급한 바와 같이 적층 세라믹 커패시터와 랜드를 접합하는 도전재의 면적을 최소화할수록 진동 소음이 감소하는 것을 알 수 있으나, LLAND(a) / LMLCC와 WLAND(a) / WMLCC가 각가 0.8과 0.6 미만으로 형성될 경우에는 적층 세라믹 커패시터의 외부 전극과 회로 기판의 랜드 간 접합력이 현저히 감소됨에 따라 접합 신뢰성이 저하될 수 있다.
Claims (31)
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판에의 실장 구조에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 내부 전극 층과 상기 회로 기판은 수평 방향이 되도록 배치되어 상기 외부 단자 전극과 회로 기판의 랜드를 도전 접속하며,
상기 외부 단자 전극과 랜드를 도전 접속하는 도전재의 높이(Ts)는 상기 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)의 1/3 미만인 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조.
- 제 1항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터는 수평방향으로 실장되도록 테이핑(taping)된 것으로 폭(WMLCC), 두께(TMLCC)가 동일, 유사한 것인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 유전체층의 층수는 200층 이상인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 유전체층의 유전체 두께는 3㎛이하인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 유전체층은 층수가 200층 이상이고, 유전체 두께는 3㎛이하인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조.
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판에의 실장 방법에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 내부 전극 층과 상기 회로 기판이 수평 방향이 되도록 배치되어 상기 외부 단자 전극과 회로 기판의 랜드를 도전 접속하며,
상기 외부 단자 전극과 랜드를 도전 접속하는 도전재의 높이(Ts)는 상기 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)의 1/3 미만이 되도록 하는 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 6항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터는 수평방향으로 실장되도록 정렬하는 테이핑(taping)을 실시하고 폭(WMLCC), 두께(TMLCC)가 동일, 유사한 것인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 유전체층의 층수는 200층 이상인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 유전체층의 유전체 두께는 3㎛이하인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 유전체층은 층수가 200층 이상이고, 유전체 두께는 3㎛이하인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판에의 실장 방법에 있어서,
상기 회로 기판의 표면에 상기 적층 세라믹 커패시터가 실장되는 랜드를 형성하고,
상기 적층 세라믹 커패시터의 내부 전극 층과 상기 회로 기판이 수평 방향이 되도록 배치하여 상기 외부 단자 전극과 회로 기판의 랜드를 도전 접속하되,
상기 랜드는 상기 적층 세라믹 커패시터의 외부 단자 전극이 형성된 부분에 대응하도록 이격되어 회로 기판의 표면에 복수 개 형성되며,
상기 적층 세라믹 커패시터의 폭을 WMLCC, 길이를 LMLCC로 정의하고, 상기 이격된 각각의 랜드 중 어느 하나의 랜드의 바깥쪽 모서리와 다른 하나의 랜드의 바깥쪽 모서리를 기준으로 기판에서 차지하는 폭을 WLAND (a), 길이를 LLAND (a)로 정의하는 경우,
상기 WMLCC, LMLCC, WLAND (a), LLAND (a) 의 관계는 하기식,
0 < LLAND (a) / LMLCC ≤ 1.2, 0 < WLAND (a) / WMLCC ≤ 1.2인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판에의 실장 방법에 있어서,
상기 회로 기판의 표면에 상기 적층 세라믹 커패시터가 실장되는 랜드를 형성하고,
상기 적층 세라믹 커패시터의 내부 전극 층과 상기 회로 기판이 수평 방향이 되도록 배치하여 상기 외부 단자 전극과 회로 기판의 랜드를 도전 접속하되,
상기 랜드는 남땜량의 감소를 위해 상기 적층 세라믹 커패시터의 외부 단자 전극이 형성된 모서리 부분에 대응하도록 이격되어 회로 기판의 표면에 복수 개 형성된, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 12항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터의 폭을 WMLCC, 길이를 LMLCC로 정의하고, 상기 이격된 각각의 랜드 중 어느 한 측의 랜드의 바깥쪽 모서리와 타측의 랜드의 바깥쪽 모서리를 기준으로 기판에서 차지하는 폭을 WLAND (b), 길이를 LLAND (b)로 정의하는 경우,
상기 WMLCC, LMLCC, WLAND (b), LLAND (b) 의 관계는 하기식,
0 < LLAND (b) / LMLCC ≤ 1.2, 0 < WLAND (b) / WMLCC ≤ 1.2인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 11항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 외부 단자 전극과 랜드를 도전 접속하는 도전재의 높이(Ts)는 상기 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)의 1/3 미만이 되도록 하는 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 11항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터는 수평방향으로 실장되도록 정렬하는 테이핑(taping)을 실시하고, 폭(WMLCC), 두께(TMLCC)가 동일, 유사한 것인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제 14항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터는 수평방향으로 실장되도록 정렬하는 테이핑(taping)을 실시하고, 폭(WMLCC), 두께(TMLCC)가 동일, 유사한 것인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터가 실장되는 회로 기판 상의 랜드 패턴으로서,
상기 랜드 패턴은 상기 적층 세라믹 커패시터의 외부 단자 전극이 형성된 부분에 대응하도록 이격되어 회로 기판의 표면에 복수 개 형성되고,
상기 적층 세라믹 커패시터의 폭을 WMLCC, 길이를 LMLCC로 정의하고, 상기 이격된 각각의 랜드 중 어느 하나의 랜드의 바깥쪽 모서리와 다른 하나의 랜드의 바깥쪽 모서리를 기준으로 기판에서 차지하는 폭을 WLAND (a), 길이를 LLAND (a)로 정의하는 경우,
상기 WMLCC, LMLCC, WLAND (a), LLAND (a) 의 관계는 하기식,
0 < LLAND (a) / LMLCC ≤ 1.2, 0 < WLAND (a) / WMLCC ≤ 1.2인, 회로 기판 상의 랜드 패턴.
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터가 실장되는 회로 기판 상의 랜드 패턴으로서,
상기 랜드 패턴은 납땜량의 감소를 위해 상기 적층 세라믹 커패시터의 외부 단자 전극이 형성된 모서리 부분에 대응하도록 이격되어 회로 기판의 표면에 복수 개 형성되고,
상기 적층 세라믹 커패시터의 폭을 WMLCC, 길이를 LMLCC로 정의하고, 상기 이격된 각각의 랜드 중 어느 한 측의 랜드의 바깥쪽 모서리와 타측의 랜드의 바깥쪽 모서리를 기준으로 기판에서 차지하는 폭을 WLAND(b), 길이를 LLAND(b)로 정의하는 경우,
상기 WMLCC, LMLCC, WLAND(b), LLAND(b) 의 관계는 하기식,
0 < LLAND (b) / LMLCC ≤ 1.2, 0 < WLAND (b) / WMLCC ≤ 1.2인, 회로 기판 상의 랜드 패턴.
- 내부 전극이 형성된 유전체 시트가 적층되고, 상기 내부 전극과 병렬 접속하는 외부 단자 전극이 양단부에 형성된 적층 세라믹 커패시터; 및
상기 적층 세라믹 커패시터가 수납되는 수납부가 형성되는 포장 시트;를 포함하며,
상기 내부 전극은 상기 수납부의 저면을 기준으로 수평하게 배치되도록 정렬되고, 상기 적층 세라믹 커패시터가 정렬된 포장시트가 릴 형태로 권취된 적층 세라믹 커패시터 포장체.
- 제 19항에 있어서,
상기 포장 시트에 결합되며, 상기 적층 세라믹 커패시터를 덮는 포장막을 더 포함하는 적층 세라믹 커패시터 포장체.
- 삭제
- 제 19항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터는 수평방향으로 실장되도록 정렬하는 테이핑(taping)을 실시하고, 폭(WMLCC), 두께(TMLCC)가 동일, 유사한 것인, 적층 세라믹 커패시터 포장체.
- 삭제
- 폭(WMLCC), 두께(TMLCC)가 동일 또는 유사한 적층 세라믹 커패시터의 수평 방향 테이핑 방법에 있어서,
상기 적층 세라믹 커패시터를 연속적으로 이송되도록 하며, 상기 적층 세라믹 커패시터가 일정하게 정렬되게 하는 한 쌍의 가이드부가 구비된 이송부에 실장하는 단계;
상기 이송부에서 이송되는 상기 적층 세라믹 커패시터에 자기장을 제공하여, 상기 적층 세라믹 캐패시터 내의 내부 전극층이 상기 자기장과 자기 저항이 줄어드는 방향으로 정렬되도록 하는 자기장 제공단계;
를 포함하는 적층 세라믹 커패시터의 수평 방향 정렬 방법.
- 제 24항에 있어서,
상기 자기장 제공단계를 거친 상기 적층 세라믹 커패시터의 상기 내부 전극층은 상기 이송부의 진행방향을 기준으로 수평하게 배치되는 것인 적층 세라믹 커패시터의 수평 방향 정렬 방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 외부 단자 전극과 랜드를 도전 접속하는 도전재의 높이(Ts)는 상기 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)의 1/5 미만인 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 구조.
- 제6항에 있어서,
상기 외부 단자 전극과 랜드를 도전 접속하는 도전재의 높이(Ts)는 상기 적층 세라믹 커패시터의 두께(TMLCC)의 1/5 미만이 되도록 하는 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제11항에 있어서,
상기 WMLCC, LMLCC, WLAND(a), LLAND(a) 의 관계는 하기식,
0.8 ≤ LLAND(a) / LMLCC ≤ 1.1, 0.6 ≤ WLAND(a) / WMLCC ≤ 1.0인, 적층 세라믹 커패시터의 회로 기판 실장 방법.
- 제17항에 있어서,
상기 WMLCC, LMLCC, WLAND(a), LLAND(a) 의 관계는 하기식,
0.8 ≤ LLAND(a) / LMLCC ≤ 1.1, 0.6 ≤ WLAND(a) / WMLCC ≤ 1.0인, 회로 기판 상의 랜드 패턴.
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