KR100920603B1 - 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터 - Google Patents
감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100920603B1 KR100920603B1 KR1020060136211A KR20060136211A KR100920603B1 KR 100920603 B1 KR100920603 B1 KR 100920603B1 KR 1020060136211 A KR1020060136211 A KR 1020060136211A KR 20060136211 A KR20060136211 A KR 20060136211A KR 100920603 B1 KR100920603 B1 KR 100920603B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- weight
- resin composition
- photosensitive resin
- color filter
- pigment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
| 성분 (단위 g) | 실시예 | 비교예 1 | 비교예 2 | 비교예 3 |
| 브롬화 아연 프탈로시아닌 녹색 안료 | 7 | - | 7 | 7 |
| 구리 프탈로시아닌계 녹색 안료 | - | 7 | - | - |
| 카르복실기 함유 아크릴계 바인더 수지 | 15 | 15 | 16.3 | 15.3 |
| 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| 글리세롤트리아크리레이트의 변형 단량체 | 1 | 1 | - | 1 |
| 광중합 개시제 1(TAZ-110) | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
| 광중합 개시제 2(이가큐어 907) | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
| 광중합 개시제 3 (4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논) | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
| 프로필렌글리콜모노메틸에테르 | 70.8 | 70.8 | 70.8 | 70.8 |
| 오르토 크레졸 노볼락 에폭시 수지 | 0.3 | 0.3 | - | - |
| 메타크릴옥시 실란 커플링제 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| 불소계 계면활성제 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| 휘도 향상 | 현상공정성 | 내화학성 | |
| 실시예 1 | ○ | ○ | ○ |
| 비교예 1 | × | ○ | △ |
| 비교예 2 | ○ | △ | × |
| 비교예 3 | ○ | ○ | × |
Claims (13)
- 하기 화학식 1의 구조를 갖는 함아연 프탈로시아닌계 녹색 안료: 1 내지 40중량%카르복실기 함유 아크릴계 바인더 수지: 0.1 내지 30중량%광중합성 단량체: 0.5 내지 30중량%광중합 개시제: 0.1 내지 10중량%오르토 크레졸 노볼락 에폭시 수지: 0.1 내지 10중량%및 잔량으로서 용제를 포함하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 광중합성 단량체는 트리메틸올프로판 폴리프로폭실레이트 트리아크릴레이트를 0.5~10중량% 포함하는 감광성 수지 조성물.[화학식 1](상기 식에서, R은 서로 독립적으로 Cl, Br, H, F, 및 OH로 구성되는 군에서 선택된다).
- 삭제
- 제 1항에 있어서, 상기 함아연 프탈로시아닌계 녹색 안료의 함량이 5~20 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 삭제
- 삭제
- 제 1항에 있어서, 상기 조성물이 구리 프탈로시아닌계 녹색 안료, C.I. 안료 황색 138호, 및 C.I. 안료 황색 150호로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 삭제
- 삭제
- 제 1항에 있어서, 상기 조성물은 폴리에스테르계, 폴리에틸렌이민계, 폴리우레탄계 및 아크릴산계로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 분산제를 안료 100 중량부당 0.001 내지 100 중량부 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 조성물은 불소계 계면활성제를 전체 조성물 대비 0.01 내지 5 중량% 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제 1항, 제 3항, 제 6항, 제 9항 또는 제 10항 중 어느 한 항 기재의 감광성 수지 조성물에 의해 형성된 패턴을 포함하는 컬러 필터.
- 제 11항에 있어서, 상기 컬러필터는 파장이 500 nm 내지 570 nm에서 투과도 가 90 내지 100인 것을 특징으로 하는 컬러 필터.
- 제 11항의 컬러 필터를 포함하는 액정 표시 장치.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060136211A KR100920603B1 (ko) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터 |
| US11/949,114 US20080160432A1 (en) | 2006-12-28 | 2007-12-03 | Green Photosensitive Resin Composition and Color Filter Prepared Therefrom |
| TW096149636A TW200836003A (en) | 2006-12-28 | 2007-12-24 | Green photosensitive resin composition and color filter prepared therefrom |
| CNA2007103023503A CN101211110A (zh) | 2006-12-28 | 2007-12-25 | 绿色光敏树脂组合物和由其制备的彩色滤光片 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060136211A KR100920603B1 (ko) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20080061191A KR20080061191A (ko) | 2008-07-02 |
| KR100920603B1 true KR100920603B1 (ko) | 2009-10-08 |
Family
ID=39584458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020060136211A Expired - Fee Related KR100920603B1 (ko) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080160432A1 (ko) |
| KR (1) | KR100920603B1 (ko) |
| CN (1) | CN101211110A (ko) |
| TW (1) | TW200836003A (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101333700B1 (ko) | 2010-12-29 | 2013-11-27 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| KR101400197B1 (ko) | 2010-12-30 | 2014-06-19 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100881860B1 (ko) * | 2007-01-17 | 2009-02-06 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 이미지센서컬러필터 |
| JP5428198B2 (ja) * | 2008-05-12 | 2014-02-26 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタおよび液晶表示装置 |
| JP5644992B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-12-24 | Jsr株式会社 | 着色感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
| KR20100033928A (ko) * | 2008-09-22 | 2010-03-31 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 감광성 조성물, 컬러필터, 및 액정 표시 장치 |
| US8486591B2 (en) * | 2008-10-24 | 2013-07-16 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same |
| JP5329192B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-10-30 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| JP5444747B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2014-03-19 | ソニー株式会社 | カラー撮像素子およびその製造方法ならびに光センサーおよびその製造方法ならびに光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器 |
| JP5535692B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| JP5602448B2 (ja) * | 2009-03-26 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
| KR101368539B1 (ko) * | 2009-06-26 | 2014-02-27 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
| TWI404767B (zh) * | 2010-03-22 | 2013-08-11 | Chi Mei Corp | A color filter for a color filter, a color filter having a pixel layer formed by the composition, and a liquid crystal display element including the color filter |
| JP6210986B2 (ja) | 2011-09-07 | 2017-10-11 | マイクロケム コーポレイション | 低表面エネルギー基板上にレリーフパターンを製作するためのエポキシ配合物及び方法 |
| US11635688B2 (en) * | 2012-03-08 | 2023-04-25 | Kayaku Advanced Materials, Inc. | Photoimageable compositions and processes for fabrication of relief patterns on low surface energy substrates |
| CN102816477B (zh) * | 2012-07-19 | 2014-12-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 颜料分散液及其制备方法 |
| KR20140082459A (ko) * | 2012-12-24 | 2014-07-02 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| KR20140083620A (ko) | 2012-12-26 | 2014-07-04 | 제일모직주식회사 | 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
| KR101819656B1 (ko) | 2014-05-13 | 2018-01-17 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| KR20160026629A (ko) * | 2014-09-01 | 2016-03-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
| JP6652060B2 (ja) * | 2014-09-25 | 2020-02-19 | 日本電気株式会社 | 状態判定装置および状態判定方法 |
| WO2016152076A1 (ja) * | 2015-03-20 | 2016-09-29 | 日本電気株式会社 | 構造物の状態判定装置と状態判定システムおよび状態判定方法 |
| TWI533088B (zh) * | 2015-06-04 | 2016-05-11 | 住華科技股份有限公司 | 用於形成綠色光阻的組成物及使用其之彩色濾光片 |
| JP6578252B2 (ja) * | 2015-07-01 | 2019-09-18 | 株式会社Dnpファインケミカル | カラーフィルタ用色材分散液、カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置 |
| JP6645859B2 (ja) * | 2016-02-05 | 2020-02-14 | サカタインクス株式会社 | カラーフィルター用緑色顔料分散物 |
| TWI736595B (zh) * | 2016-03-25 | 2021-08-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感光性組成物、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置 |
| CN107450268B (zh) * | 2016-05-30 | 2021-03-16 | 住华科技股份有限公司 | 彩色光刻胶组成物及其介电常数损失率的检测方法 |
| CN106547168B (zh) * | 2016-10-28 | 2020-09-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种黑色矩阵材料组合物及应用 |
| JP6780511B2 (ja) * | 2017-01-16 | 2020-11-04 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
| JP6781216B2 (ja) * | 2018-08-30 | 2020-11-04 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003161828A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-06-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料分散組成物、顔料分散レジスト、およびカラーフィルター |
| JP2003167113A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラーフィルター用光重合性着色組成物、カラーフィルター |
| KR20040060714A (ko) * | 2002-12-27 | 2004-07-06 | 후지 필름 아치 가부시키가이샤 | 광경화성 조성물, 컬러필터 및 액정표시장치 |
| KR20060096882A (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-13 | 제일모직주식회사 | 고-색재현 컬러필터 제조용 감광성 수지 조성물 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6410206B1 (en) * | 1999-02-25 | 2002-06-25 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, color filter, and copolymer resin useful for them |
| JP4518651B2 (ja) * | 2000-08-22 | 2010-08-04 | 大日本印刷株式会社 | 着色レジスト材セット及びカラーフィルタ |
| WO2002067022A1 (en) * | 2001-02-23 | 2002-08-29 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Color filter |
| KR20040030534A (ko) * | 2001-05-15 | 2004-04-09 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 감광성 착색 조성물, 이 조성물을 사용한 컬러필터 및 그제조방법 |
| MXPA05004015A (es) * | 2002-10-28 | 2005-06-08 | Ciba Sc Holding Ag | Mejora en la estabilidad al almacenamiento de fotoiniciadores. |
-
2006
- 2006-12-28 KR KR1020060136211A patent/KR100920603B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-12-03 US US11/949,114 patent/US20080160432A1/en not_active Abandoned
- 2007-12-24 TW TW096149636A patent/TW200836003A/zh unknown
- 2007-12-25 CN CNA2007103023503A patent/CN101211110A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003161828A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-06-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料分散組成物、顔料分散レジスト、およびカラーフィルター |
| JP2003167113A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラーフィルター用光重合性着色組成物、カラーフィルター |
| KR20040060714A (ko) * | 2002-12-27 | 2004-07-06 | 후지 필름 아치 가부시키가이샤 | 광경화성 조성물, 컬러필터 및 액정표시장치 |
| KR20060096882A (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-13 | 제일모직주식회사 | 고-색재현 컬러필터 제조용 감광성 수지 조성물 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101333700B1 (ko) | 2010-12-29 | 2013-11-27 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| KR101400197B1 (ko) | 2010-12-30 | 2014-06-19 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200836003A (en) | 2008-09-01 |
| CN101211110A (zh) | 2008-07-02 |
| KR20080061191A (ko) | 2008-07-02 |
| US20080160432A1 (en) | 2008-07-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100920603B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 컬러필터 | |
| KR101574089B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR20100078845A (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 | |
| KR100924010B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR101400193B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR20090066242A (ko) | 박리액 내성이 우수한 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| US8961837B2 (en) | Photosensitive resin composition for color filter and color filter using same | |
| KR101277721B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR20140083615A (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR102243364B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 소자 | |
| KR20100089589A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치 | |
| KR101288559B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR20240062805A (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러 필터 | |
| KR101690514B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR100655044B1 (ko) | 우수한 전기적 특성을 가지는 컬러필터용 감광성 수지조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR100930671B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR100655049B1 (ko) | 현상성이 우수한 고 색재현성 감광성 수지 조성물 및 이를이용한 컬러필터 | |
| KR20090057814A (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터 | |
| KR100922842B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터 | |
| KR101443757B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR101247621B1 (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 | |
| KR20090067948A (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
| KR102624673B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 | |
| KR20090065220A (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 차광층 | |
| KR20100073674A (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| E14-X000 | Pre-grant third party observation filed |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E14-opp-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
St.27 status event code: N-2-6-B10-B15-exm-PE0601 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PJ0201 | Trial against decision of rejection |
St.27 status event code: A-3-3-V10-V11-apl-PJ0201 |
|
| PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-6-3-E10-E12-rex-PB0901 |
|
| B701 | Decision to grant | ||
| PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-3-4-F10-F13-rex-PB0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130607 Year of fee payment: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140605 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150825 Year of fee payment: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160816 Year of fee payment: 8 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170809 Year of fee payment: 9 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 9 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190822 Year of fee payment: 11 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 11 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 12 |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20210930 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20210930 |