KR100725136B1

KR100725136B1 - 유리 기판의 처리 방법과 디스플레이 스크린 제조용 유리기판

Info

Publication number: KR100725136B1
Application number: KR1020027004716A
Authority: KR
Inventors: 제랄딘 드위시; 올리비어 고메; 르노 지
Original assignee: 쌩-고벵 글래스 프랑스
Priority date: 1999-11-22
Filing date: 2000-11-22
Publication date: 2007-06-08
Anticipated expiration: 2020-11-22
Also published as: ES2233483T3; FR2801302B1; CN1391538A; PT1246780E; KR20020059417A; CN1239425C; EP1246780B1; JP2003514758A; DE60016461D1; ATE283830T1; EP1246780A1; CA2391934A1; DE60016461T2; US6810688B1; FR2801302A1; WO2001038249A1

Abstract

본 발명은 변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 구성되어 있고 디스플레이 스크린을 제조하도록 제작된 유리판을 처리하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 유리판 표면 중 적어도 일부분에 행하는 이온 교환 처리 단계와, 가열 및 어닐링 처리 단계를 포함한다.

Description

유리 기판의 처리 방법과 디스플레이 스크린 제조용 유리 기판{METHOD FOR TREATING GLASS SUBSTRATES AND GLASS SUBSTRATES FOR PRODUCING DISPLAY SCREENS}

본 발명은, 유리 기판을 처리하는 방법에 관한 것이고, 보다 구체적으로는 디스플레이 스크린을 제조하기 위해 층이나 다른 코팅으로 추후 코팅되도록 의도된 유리 기판에 관한 것이다.

특히, 본 발명의 디스플레이 스크린은, FED (전기장 방출 디스플레이) 스크린, LED (발광 디스플레이) 스크린, LCD (액정 디스플레이) 스크린과 같은 모든 유형의 플라즈마 스크린이고, 보다 일반적으로는, 스크린을 제조하는 동안 유리 기판이 열 처리를 거쳐야만 하는 모든 디스플레이 스크린이다.

본 발명은, 두 장의 유리판으로 필수 구성된 플라즈마 스크린의 제조에 관해 보다 구체적으로 설명될 것이다. 이러한 유리판 중 적어도 하나의 유리판에는 하나 이상의 전극 배열과, 유전 물질층과, 예를 들어 녹색, 적색, 청색에 해당하는 인광체(phosphor)로 구성된 층이 증착되어 있다. 결합되기 전, 유리판은 또한 그 기능이 다수의 셀(cell)을 형성하고 두 장의 유리판을 서로 이격시키는 장벽(barrier)과 스페이서(spacer)를 수용한다.

이러한 전극, 층 또는 심지어 스페이서를 제조하는 모든 작업에는 열처리가 수반된다.

이러한 유형의 기판에 보통 사용되는 유리 조성물은 실리카 소다 석회 유형의 유리 조성물로, 이것이 원래대로 사용되면, 상기 조성물의 변형점 온도보다 높은 도달된 온도 때문에 앞에서 명시한 열처리 동안 치수 변화(dimensional change)를 거친다.

발생하는 이러한 치수 변화는, 다른 애플리케이션에 대해서는 극히 미미하다. 그러나, 앞에서 명시한 디스플레이 스크린의 경우, 특히 플라즈마가 형성되는 각 셀을 형성하기 위해서, 상당한 치수 정확성이 요구된다. 이는, 이러한 셀 제조의 정확성, 보다 정확하게는 상술한 여러 층의 증착 정확성이 스크린의 작동 품질에 직접적인 영향을 미치기 때문이다. 전극 정렬과 여러 증착 단계의 정확성은 스크린 해상도와 영상 품질을 향상시킬 수 있다.

이에 따라, 이러한 유리판에 대한 제 1 조건은, 디스플레이 스크린을 제조하는 동안 유리판이 거치는 여러 열 처리 중의 치수 안정성이다.

이러한 치수 안정성을 개선하기 위한 해결책이 이미 제안되어 있다.

이미 제안되어 있는 첫 번째 해결책은 유리판이 "예비 수축" 처리를 거치게 하는 방법으로, 이러한 처리는 유리 조성물에 알맞고 스크린을 제조하는 동안 유리판이 거치는 열 처리에도 맞는 열 사이클(heat cycle)을 갖는 열 처리로 구성된다. 이러한 처리는 예를 들어, 디스플레이 스크린 제조에 해당되는 열 처리를 실행하기 전에 실리카 소다 석회 종류의 유리 조성물로 제조된 유리판에서 실행한다.

제안된 또 다른 해결책은 높은 변형점 값을 갖는 특정 조성물로 유리판을 제조하는 것이다. 이러한 유리판이 거치는 열 처리는 보다 일반적인 실리카 소다 석회 유형의 유리 조성물보다 치수의 변화가 더 적게 한다.

특히, 문서 WO 99/13471과 WO 99/15472에 설명되어 있는 최종 해결책은 일반적인 실리카 소다 석회 유형의 유리판을 알칼리성 배쓰(alkaline bath)에 담가서 화학적으로 강화시키는 것이다.

이러한 문서에 따라 얻어지는 보다 우수한 치수 안정성과는 별도로, 이 해결책은 또한 디스플레이 스크린의 애플리케이션과 관련된 제 2 요건을 만족하는데, 이는 유리판에서 실행되는 화학적인 강화는 기계 강도를 증가하는 압축 표면 응력(compressive surface stress)을 유리판에 가하기 때문이다. 이는, 이러한 유리판이 디스플레이 스크린 제조 사이클이 끝날 때까지 매우 많은 수의 처리 작업을 거치기 때문으로, 특히 실행되어야만 하는 많은 증착 단계(deposition step) 때문이다. 또한, 유리판은 디스플레이 스크린을 제조하는 공정 동안 층의 증착과 관련된 열 처리 중에 응력을 받는다. 열에 의해 유발되는 이러한 응력은 제조 중 균열이 일어날 위험을 일으키고, 이러한 위험은 제조업자가 제조 사이클을 가속화하고 생산율을 높이고자 할 때 더욱 심각해진다. 그래서 기계적 특성을 향상시키는 것은 상기 유리 기판의 균열 위험을 가능한 한 제한할 수 있다. 또한, 화학 강화에 의해 일어난 이러한 향상은 여러 층을 증착하기 위해 실행된 여러 열 처리 후 사라지는 것으로 보인다.

현재, 디스플레이 스크린을 제조하는 유리 기판에 관한 새로운 요건에 대한 경향이 존재하는데, 이는 디스플레이 스크린 산업의 요구가, 창유리가 이미 조립되어, 모든 열 처리가 위에서 수행되고, 충분한 기계 강도를 갖는 스크린을 제공하는 것이기 때문이다. 이와 같이 형성된 스크린은 또한 제조를 완성하기 위해 여러 처리 작업을 거쳐야 하고, 또한, 사용하는 동안 자연적인 또는 단순히 사용 때문에 발생하는 인장력을 받을 수 있다. 예를 들어, FED 타입의 스크린은 유리 표면에 가해지는 대기압에 의해 발생하는 인장력을 받는다. 이와 다른 예는, 특히, 가장자리에 대해 스크린의 중앙을 가열시키는 것으로 인한 열적 응력을 받는 플라즈마 스크린에 관한 것이다.

본 발명자는, 한편, 명시된 제 1 요건, 즉 층의 증착에 관한 열 처리 중의 만족할만한 치수 안정성과 상기 열 처리 전에 발생하는 기계적인 강화를 만족시키고, 다른 한편으로, 유리판 조립 후, 이에 따라 상기 모든 열 처리 후 만족할만한 기계 강도를 갖는 유리 기판이나 유리판의 제조를 맡았다.

이러한 목적은, 540℃ 이상의 변형점(10^14.6 푸아즈의 점성도에 해당하는 온도)을 갖는 유리 조성물로 구성되고 디스플레이 스크린을 제조하기 위한 유리판 처리 공정을 통해 본 발명에 따라 이루어지고, 상기 공정은 유리판 표면 중 적어도 일부에 대한 적어도 하나의 이온 교환 처리와 예비 수축 단계를 포함한다.

예비 수축 처리는 팽창 연화점(dilatometric softening point) 이하의 온도에서 실행하는 처리이다. 이러한 처리는, 구조가 여러 층 증착 작업에 해당하는 것과 같은 후속적인 열 사이클 동안 보다 안정하게 되도록 구조를 이완시키는데 사용된다.

따라서, 이러한 처리는 10¹² 푸아즈(poise)를 초과하는 유리 점성도에서 실행되는 것이 유리하다.

유리판은 log₁₀ρ> 7.5를 만족시키도록 고유저항(resistivity)(ρ)(250℃에서 ohm.cm의 단위로 표시)을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 고유저항은 디스플레이 스크린을 작동시키는데 사용되는 높은 전기 전압 때문에 디스플레이 스크린의 경우 특히 유리하다.

유리하게도, 그리고 특히 산업적인 규모로 생산될 수 있는 제품을 얻기 위해, 플로트 공정(float process)에 따라 얻어진 유리판에 적용될 처리 공정이 설계된다.

본 발명을 실행하는 제 1 방법에 따라, 예비 수축 처리는 이온 교환 처리와 결합되어, 동시 실행되고, 예비 처리를 수행하기 위해 이온 교환 열 사이클이 조절된다.

본 발명을 실행하는 제 2 방법에 따라, 이 처리는 두 가지 연속 단계로 실행되는데, 첫 번째 단계는 예비 수축 단계로 구성되고, 두 번째 단계는 유리판 표면의 적어도 일부에서 이온 교환으로 이루어진다.

본 발명자는 변형점이 540℃ 이상인 유리에 가해지는 본 발명에 따른 처리가 한편으로 치수 안정성 제한을 만족시킬 수 있고, 다른 한편으로 디스플레이 스크린을 제조하기 위해 층의 증착에 해당하는 열 사이클 후에 남아있는 기계적인 강화를 유리판에 제공할 수 있다는 것을 사실상 증명했다.

본 발명에 따라 얻어진 결과는 놀라운데, 높은 변형점과 높은 고유저항을 갖는 유리에서 이온 교환 처리에 의해 얻어진 강화는 충분할 수 있고 또한 디스플레이 스크린의 제조에 해당되는 열 처리 이후에 (적어도 부분적으로) 유지될 수 있는 것으로 예상되지 않았는데, 이는 그 결합 특성 (높은 고유저항과 높은 변형점)이 유리의 알칼리 금속 농도가 제한될 것을 요구하기 때문으로, 이것은 유리에서 이온 교환을 위해 유리하지 않다.

본 발명을 실행하는 바람직한 방법에 따라서, 예비 수축 처리는 1 내지 200시간 동안, 그리고 유리하게는 특정 실행 방법에서 400 내지 660℃의 온도에서 1 내지 20 시간 동안 온도 유지로 이루어진 열처리로서, 이 온도 유지는 적어도 한 시간, 바람직하게는 적어도 두 시간 내에 도달되고, 온도는 적어도 한 시간, 바람직하게는 적어도 세 시간이 지나면 90℃로 돌아온다.

이온 교환 처리에 관해, 이온 교환 처리는 유리판 표면 중 적어도 일부에, 알루미나 또는 실리카, 또는 황산염이나 염화물을 원료로 한 내화물과 같이 녹는점이 높은 화합물과 칼륨염을 포함하는 페이스트를 증착시켜 제 1 변형예에 따라 실행된다. 이러한 이온 교환 강화 방법은 특히 프랑스 특허 FR-A-2 353 501에 설명되어 있다. 이러한 방법은 강화될 필요성이 있는 유리판 부분만을 강화시켜 비교적 단시간에 실행될 수 있다.

본 발명의 제 2 변형예에 따라, 유리판의 적어도 일부의 이온 교환은 적어도 하나의 알칼리 금속 염을 포함하는 배쓰에서 실행된다.

배쓰는 유리판 표면에서 나트륨/칼륨 교환을 일으키는 용융된 질산 칼륨염을 함유하는 것이 바람직하다.

또한, 이러한 화학적 강화 또는 이온 교환은 400 내지 660℃, 유리하게는 480℃ 이상의 온도에서 1 내지 360 시간, 유리하게는 200 시간 미만 동안 배쓰에서 실행하는 것이 바람직하다. 배쓰 온도는 적어도 한 시간, 바람직하게는 적어도 두 시간 동안 증가하는 것이 유리하다. 배쓰의 온도는 적어도 한 시간, 바람직하게는 세 시간 동안 90℃로 감소하는 것이 유리하다.

본 발명은 또한 디스플레이 스크린 제조에 사용되도록 하는 특성을 갖는 유리 기판 또는 유리판에 관한 것이다.

플로트 공정을 사용해서 제조되는 것이 유리한 이러한 유리 기판은 본 발명에 따라 변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 이루어지고, 디스플레이 스크린 제조를 위해 층을 증착하는 적어도 하나의 열 처리 후, 60 ppm 미만의 절대 수축값과 130℃를 초과하는 열 성능(DT)을 갖는다.

유리 조성물의 팽창 계수는 65 ×10^-7 K^-1을 초과하는 것이 유리하다. 이러한 팽창 계수 값은 스크린 제조에 필요한 밀봉 작업에 특히 유리하다.

유리 조성물은 log₁₀ρ> 7.5를 만족하는 고유저항(ρ)(250℃에서 ohm.cm의 단위로 표시됨)을 갖는 것이 또한 유리하다. 이러한 고유저항 값은 디스플레이 스크린에 존재할 수 있는 높은 전압에 특히 더 적합하다.

수축값은 백만분의 일(ppm) 단위로 표시되고, 유리 기판의 치수 안정성을 나타내는 양에 해당한다. 수축값은, 열처리 전후 시험편을 측정해서, 기판에서 측정된 해당 초기 길이에 대해, 열 처리에 의한 치수 변화의 비를 결정해서 열 처리 후 결정된다. 사용된 열처리는 580℃에서 두 시간의 온도 유지에 해당하고, 10℃/min로 온도가 증가하고, 다음에 5℃/min의 속도로 온도가 떨어진다. 이러한 처리는 디스플레이 스크린을 제조하기 위해 유리 기판이 거치는 하나 이상의 열 처리를 나타낸다.

열 성능은 디스플레이 스크린을 형성하는 규격을 거친 유리 기판 위에서 열 균열 시험에 의해 결정된다. 이 시험은, 치수가 415 ×415mm²이고 두께가 2.8mm인 유리판인 8개의 시험편에서 실행된다. 이러한 시험은 유리판의 중심을 복사선으로 가열하는 반면, 가장자리를 차게 유지하는 것이다. 이러한 시험을 실행하기 위해, 기판의 가장자리는 20℃의 물이 순환하는 프레임에서 폭이 12.5mm 미만인 래빗(rabbet)에 고정된다. 기판의 중심은 저항 가열 요소를 통해 4℃/min으로 가열된다. 중심과 가장자리의 온도는 균열시 기록된다. 기판의 열 성능(DT)은 균열시 중심 온도와 가장자리 온도의 온도차이다. 이러한 열 성능과 상술된 열 시험은 디스플레이 스크린 애플리케이션을 나타낸다. 이러한 스크린 제조업자들은 생산성을 향상시키기를 원하고, 이를 위해 특히 생산율을 증가시키고자 한다. 물론 이것은 더 짧은 가열 시간과 냉각 시간을 초래하고, 이에 따라 유리 기판이 상술된 시험과 매우 유사한 열적 충격을 받게 한다. 또한, 사용중 스크린의 디스플레이 영역은 단순히 이 사용 때문에 온도 증가를 거치는 반면, 프레임에 고정된 기판의 가장자리는 더 낮은 온도에서 유지된다. 이에 따라 열적 시험은 디스플레이 스크린이 제조되고 상기 스크린이 사용되는 동안 유리 기판이 받는 응력을 나타낸다.

본 발명에 따른 기판의 유리 조성물은 아래 구성성분을 다음 중량비로 포함하는 것이 유리하다.

SiO₂ 40 내지 75%

Al₂O₃ 0 내지 12%

Na₂O 0 내지 9%

K₂O 3.5 내지 10%

MgO 0 내지 10%

CaO 2 내지 11%

SrO 0 내지 11%

BaO 0 내지 17%

ZrO₂ 2 내지 8%.

본 발명의 바람직한 제 1 실시예에 따라, 기판의 유리 조성물은 아래 구성성분을 다음 중량비로 포함한다.

SiO₂ 60.1%

Al₂O₃ 3.3%

Na₂O 3.7%

K₂O 8.5%

MgO 1%

CaO 5.6%

SrO 10.3%

ZrO₂ 6.9%.

본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따라, 기판의 유리 조성물은 아래 구성성분을 다음 중량비로 포함한다.

SiO₂ 68.3%

Al₂O₃ 0.7%

Na₂O 4.6%

K₂O 5.6%

MgO 0.1%

CaO 9.7%

SrO 6.5%

ZrO₂ 4.1%.

본 발명의 보다 상세한 사항과 유리한 특징은 본 발명에 따라 제조된 기판과 다른 기판에 행한 비교 측정을 설명함으로써 아래에서 명백해질 것이다.

상대 측정을 행하기 위해서, 기판을 제조하는 두 개의 유리 조성물, 즉 변형점이 높은 조성물인 본 발명에 따른 제 1 조성물(조성물 I)과 실리카 소다 석회 종류의 표준 유리에 해당하는 제 2 조성물(조성물 II)을 우선 선택했다. 아래 표에는 이러한 조성물의 상세 사항(중량% 단위)과 변형점 값이 제공되어 있다.

	조성물 I	조성물 II
SiO₂	60.1%	71%
Al₂O₃	3.3%	0.6%
Na₂O	3.7%	13.6%
K₂O	8.5%	0.3%
MgO	1%	4.1%
CaO	5.6%	9.7%
SrO	10.3%	0%
ZrO₂	6.9%	0%
변형점	602℃	508℃

비교 시험은 유리 조성물(I과 II)로부터 제조되고, 두께는 2.8mm이며, 예비수축 처리나 화학적 강화를 거치거나 거치지 않고, 또는 예비수축 처리와 화학적 강화 처리의 조합을 거치거나 거치지 않는 기판 위에서 수축과 열 성능(DT)을 측정하는 것이다. 모든 기판은 처리 전 서로 동일한 형성 작업을 거쳤다.

사용된 예비 수축 처리(precontraction treatment)(이후 PT로 표시함)는 유리 조성물과 이후 거친 열 처리에 따라 한정된다. 시험을 위해, 예비수축 처리는, 이것이 디스플레이 스크린의 제조 단계를 시뮬레이션하고 아래와 같이 한정된 열 사이클을 위한 "안정화제(stabilizer)"가 되도록 한정된다.

조성물 I에 대해 사용된 예비수축 처리는 열 처리로서, 1시간 동안 638℃로 온도를 증가시키는 단계와, 5시간에 걸쳐 552℃로 온도가 처음 감소하는 단계와, 최종적으로 3시간에 걸쳐 실온으로 온도가 감소하는 단계를 포함한다.

조성물 II에 대해 사용된 예비수축 처리는 열 처리로서, 580℃의 온도에서 2시간 동안 온도를 유지하는 단계를 포함한다. 이러한 예비수축 처리에 대해, 온도는 10℃/min의 속도로 증가하고, 상기 기판의 온도는 5℃/min의 속도로 90℃로 감소했다.

화학적 강화(chemical toughening)(이후 CT)로 표시함)는 490℃의 온도에서 16시간 동안 질산 칼륨 배쓰에서 실행되었다.

이러한 처리를 거치지 않거나, 어느 하나의 처리만을 거치거나 모든 처리를 거친 유리 기판은 다음으로 디스플레이 스크린의 제조시 하나 이상의 단계를 시뮬레이션하는 열 사이클을 거쳤다. 이러한 이론적인 사이클(이후 제조 사이클이라 불리는)은 580℃에서 두 시간 동안 온도를 유지하는 단계를 포함하고, 온도는 10℃/min로 증가한 다음, 5℃/min로 감소한다.

수축값(ppm 단위, 오차 ±30ppm)과 열 성능(DT)(℃ 단위로 표시)에 관한 여러 결과가 다음 표에 기재되어 있다.

"미처리(untreated)"라는 용어는, 기판이 예비수축 처리나 화학적인 강화 처리 모두를 거치지 않았음을 의미한다.

	기판	수축값(ppm)	제조 사이클 전의 DT	제조 사이클 후의 DT
A	조성물I(미처리)	346	125	-
B	조성물I + PT	0	80	-
C	조성물I + CT	174	275	210
D	조성물I + PT + CT	27	310	145
E	조성물 II(미처리)	465	110	-
F	조성물II + PT	0	100	-
G	조성물II + CT	-510	>320	-
H	조성물II + PT + CT	-490	>320	75

PT: 예비수축 처리, CT: 화학적 강화

수축값은 "제조 사이클" 이후에 측정되었다. 양의 값은 기판이 수축됨을 나타내는 값이고, 음의 값은 기판이 확장됨을 나타낸다.

나타나 있지 않은 열 성능(DT) 값은 기판이 그 수축 값 때문에 허용되지 않거나 기판이 강화되지 않았기 때문에, 측정되지 않았다.

이러한 결과는, 제조 사이클 후, 60ppm 미만의 만족할만한 수축 값과 130℃를 초과하는 만족할만한 열 성능(DT)을 갖는 기판만이 조성물I로부터 제조된 "D" 기판이고, 이러한 기판은 변형점이 602℃로서, 예비수축 처리 후 화학적인 강화 처리를 거쳤다는 것을 보여준다.

이러한 결과와, 특히 시험 "D"와 "H"의 비교는, 본 발명에 따라 얻어진 치수 안정성이 특히 변형점이 높은 유리 조성물을 사용하는 것에 의한 선험적 사실(priori)이라는 것을 보여준다.

상술한 바와 같이, 본 발명은 열 처리 중 만족할만한 치수 안정성과 열 처리 전의 기계적인 강화를 만족하고, 또한 유리판을 조립한 후 모든 열 처리를 행한 후에 만족할만한 기계 강도를 갖는 유리 기판이나 유리판을 제조할 수 있는 효과를 갖는다.

Claims

변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 이루어지고 디스플레이 스크린을 제조하기 위한 유리판의 처리 방법으로서,

상기 유리판 표면의 적어도 일부에 대한 적어도 한 번의 이온 교환 처리 단계와,

예비 수축 처리(precontraction treatment)를 포함하며;

상기 이온 교환 처리는 상기 유리판 표면의 적어도 일부에, 칼륨염과 녹는점이 높은 화합물을 포함하는 페이스트(paste)를 증착시켜 수행되거나 적어도 하나의 알칼리 금속염을 함유하는 배쓰(bath)에서 실행되고,

상기 예비 수축 처리는 팽창 연화점(dilatometric softening point) 이하의 온도에서 실행되는 열처리 단계인 것을 특징으로 하는,

유리판 처리 방법.
제 1항에 있어서, 상기 예비 수축 처리 단계는 10¹² 푸아즈(poise)를 초과하는 유리 점성도에 해당하는 온도에서 실행되는 열 처리인 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 유리 조성물은 log₁₀ρ> 7.5이 되도록 하는 고유저항(resistivity)(ρ)을 갖는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 이온 교환 및 예비 수축 처리 단계는 동시에 실행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 유리판 처리 방법은, 예비 수축 처리로 이루어진 제 1 단계와, 상기 유리판 표면의 적어도 일부에 대한 이온 교환으로 이루어진 제 2 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 5항에 있어서, 상기 예비 수축 단계는 400 내지 660℃의 온도에서 1 내지 20 시간 동안 온도를 유지하는 것으로 이루어진 열 처리이고, 적어도 한 시간 안에 상기 온도 유지가 도달되며, 상기 온도는 그 다음에 적어도 한 시간에 걸쳐 90℃로 되돌아오는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 이온 교환 단계는, 상기 유리판 표면의 적어도 일부에, 칼륨염과 녹는점이 높은 화합물을 포함하는 페이스트(paste)를 증착시켜 수행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 유리판의 적어도 일부에 대한 이온 교환 단계는 적어도 하나의 알칼리 금속염을 함유하는 배쓰(bath)에서 실행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 8항에 있어서, 상기 배쓰는 용융된 질산 칼륨염을 함유하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 8항에 있어서, 상기 이온 교환 단계는 1 내지 360 시간 동안 400 내지 660℃의 온도에서 실행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 이루어진 유리 기판 또는 유리판으로서,

디스플레이 스크린을 제조하기 위해 층을 증착하기 위한 적어도 한 번의 열 처리 후, 상기 기판은 60ppm 미만의 수축값(contraction value)을 갖고, 상기 기판의 열 성능(thermal performance)(DT)은 130℃를 초과하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 11항에 있어서, 상기 유리 조성물의 팽창 계수는 65 ×10⁷ K^-1를 초과하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 11항 또는 제 12항에 있어서, 상기 유리 조성물은 log₁₀ρ> 7.5이 되도록 하는 고유저항(ρ)을 갖는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 11항 또는 제 12항에 있어서, 상기 유리 조성물은 다음 구성성분, 즉

SiO₂ 40 내지 75%

Al₂O₃ 0 초과 내지 12%

Na₂O 0 초과 내지 9%

K₂O 3.5 내지 10%

MgO 0 초과 내지 10%

CaO 2 내지 11%

SrO 0 초과 내지 11%

BaO 0 초과 내지 17%

ZrO₂ 2 내지 8%를

상기 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 14항에 있어서, 상기 유리 조성물은 다음 구성성분, 즉

SiO₂ 60.1%

Al₂O₃ 3.3%

Na₂O 3.7%

K₂O 8.5%

MgO 1%

CaO 5.6%

SrO 10.3%

ZrO₂ 6.9%를

상기 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 14항에 있어서, 상기 유리 조성물은 다음 구성성분, 즉

SiO₂ 68.3%

Al₂O₃ 0.7%

Na₂O 4.6%

K₂O 5.6%

MgO 0.1%

CaO 9.7%

SrO 6.5%

ZrO₂ 4.1%를

상기 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.