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KR100449310B1 - 2-데옥시-l-리보스의 제조방법 - Google Patents

2-데옥시-l-리보스의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 구조식 (IV)의 2-데옥시-L-리보스의 제조방법 및 이 화합물 제조에 유용한 하기 구조식 (Ⅱ)의 중간체에 관한 것으로, 본 발명의 제조방법은
(a) 하기 구조식(I)의 화합물을 비닐마그네슘브로마이드, 1-프로페닐마그네슘브로마이드 등과 반응시켜 하기 구조식 (II)의 화합물을 제조하는 단계;
(b) 상기 단계(a)에서 생성된 화합물을 오존과 반응시켜 하기 구조식(III)의 화합물을 제조하는 단계; 및
(c) 상기 단계(b)에서 생성된 화합물을 탈 보호화하여 구조식(IV)의 화합물을 제조하는 단계로 구성된다:
상기 식에서, R3, R4는 1,2-디히드록시의 보호기이고, R1와 R2는 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 페닐 등이다.

Description

2-데옥시-L-리보스의 제조방법{preparation method of 2-deoxy-L-ribose}
본 발명은 2-데옥시-L-리보스의 제조방법에 관한 것이다.
최근에 L-핵산이 에이즈바이러스, 간염 등에 D-핵산보다 보다 안정적으로 약효를 나타내는 것이 발표되면서 출발물질로 사용되는 2-데옥시-L-리보스의 중요성이 점점 부각되고 있다.
국제특허공개공보 제 WO98/39347 호에는 L-리보스를 출발 물질로 하여 6단계 공정을 전체수율 39%로 합성하는 방법이 게재되어 있으나, 이 방법은 L-리보스와 페닐셀레놀이 고가일 뿐 아니라 에틸머캅탄은 냄새가 심하게 나므로 환경 친화적인 방법이 아니다.
또한, 같은 특허에서 L-아라비노스를 출발물질로 한 것은 4단계에 걸쳐 30%수율로 합성하였으나, 고가이고 부 반응으로 냄새가 심하게 나는 트리부틸틴하이드리드를 사용하여 공업화하기 어려운 단점이 있었다.
상기에서 알 수 있는 바와 같이, 현재까지 보고된 방법으로는 낮은 수율과 합성 중에 발생하는 유독성가스 때문에 공업화가 어려운 실정이다.
이에 본 발명은 이러한 종래 방법의 문제점을 해소시키기 위하여 높은 수득률과 화합물 정제를 위하여 컬럼크로마토그라피를 사용하지 않는 간편한 공정으로 저렴하게 2-데옥시-L-리보스를 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
본 발명은 특별히 다른 부 생성물이 없이 높은 수득률과 간편한 공정으로 하기 구조식(IV)으로 표시되는 2-데옥시-L-리보스를 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 하기 구조식(IV)의 2-데옥시-L-리보스리보스 제조방법은,
(a) R3, R4가 1,2-디히드록시의 보호기인 하기 구조식(I)의 화합물을 비닐마그네슘브로마이드, 1-프로페닐마그네슘브로마이드 등과 반응시켜, R3, R4가 상기와 같고 R1와 R2가 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 페닐 등인 하기 구조식 (II)의 화합물을 제조하는 단계와 ;
(b) 상기 단계(a)에서 생성된 화합물을 오존과 반응시켜 R3, R4가 상기와 같은 하기 구조식(III)의 화합물을 제조하는 단계와;
(c) 상기 단계(b)에서 생성된 화합물을 탈 보호화하여 구조식(IV)의 화합물을 제조하는 단계로 구성된다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명에서 출발물질로 사용하는 상기 구조식(I)의 화합물은 J. Org. Chem. 1988, 53, 2598-2602와 J. Chem. Soc. Perkin Trans 1 1995, 1783-1785.에 기재된 공지의 방법에 따라 저렴하게 제조할 수 있다.
상기 구조식 (I)의 화합물에서 R3, R4은 1,2-디히드록시의 보호기로서, 바람직하게는 이소프로필리덴, 에틸프로필리덴과 시클로펜틸리덴, 또는 시클로헥실리덴 등이다.
본 발명에 따른 2-데옥시-L-리보스의 제조방법은 먼저 상기 구조식(1)화합물을 테트라히드로푸란,에틸에테르, 톨루엔 등의 용매에 용해한 후 요오드화구리를촉매량 가하고 여기에 비닐마그네슘브로마이드를 -78∼25oC에서 바람직하게는 -78∼-30oC온도 범위 내에서 첨가하여 동 온도에서 1-24시간 교반하여 상기 구조식(II)의 화합물을 약 95%의 수율로 얻는다〔단계(a)〕.
상기 구조식 (II)의 화합물을 메탄올, 디클로메탄 등의 용매에 가하고 -78∼0oC, 바람직하게는 -78∼-30oC에서 오존을 가하여 1-24시간, 바람직하게는 3시간 동안 교반하여 상기 구조식(III)의 화합물을 약 93%의 수율로 얻는다〔단계(b)〕.
상기 구조식 (III)의 화합물을 메탄올, 아세토니트릴 수용액 등 물과 섞이는 용매 또는 이들 용매와 물과의 혼합용매를 사용하고 여기에 염산, 인산, 아세트산, 포름산, 락트산, 또는 시트르산 등의 산이나 그 수용액, 또는 산성레진 등의 산을 사용하여 25-100oC, 바람직하게는 25-60oC에서 1-24시간 탈보호화 반응시켜 상기 구조식(IV)를 80% 내외의 수율로 얻는다〔단계(c)〕.
상기 식에서, R3, R4은 바람직하게는 이소프로필리덴, 에틸프로필리덴, 시클로펜틸리덴, 또는 시클로헥실리덴 등이고 R1와 R2는 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 페닐 등이다.
상기 구조식(IV)의 구조를 증명하기 위하여 광학활성도를 측정한 결과 2-데옥시-D-리보스의 광학활성도와 반대값인 〔α〕D+55(C=1,H2O,72h)를 얻어상기물질(IV)의 키랄리티가 증명되었다.
또한 수소 NMR, m.p.로서 알려진 구조와 일치함이 증명되었다.
이하 본 발명을 다음의 실시 예에 의거하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
실시예 1: 2-데옥시- 4,5,6-트리히드록시-5,6-O-이소프로필리덴-헥센의 합성
테트라히드로푸란 0.5L에 (2S,3S)-3,4-에폭시-1,2-이소프로필리덴-부탄-1,2-디올 106.0g (0.735mol), 요오드화구리1.4g(0.01당량)을 차례로 가하고 -45oC에서 비닐마그네슘브로미드 1몰 테트라히드로푸란용액 882㎖(1.2당량)을 서서히 가하고 동 온도에서 1시간 교반하였다. 반응액에 1N HCl을 가하여 pH 7-7.5로 조절하고 에틸아세테이드 2L를 가하고 30분 교반 후 층 분리하고 유층을 소금물로 세척하였다.
유층을 망초로 건조하고 감압 농축하여 엷은 노란색의 액체 2-데옥시- 4,5,6-트리히드록시-5,6-O-이소프로필리덴-헥센 120.3g(이론수율 : 95% )을 얻었다.
Rf 0.3(헥산 : 디에틸에테르 = 1:1, v/v)
1H NMR (200MHz, CDCl3)δ(ppm) 1.32(s, 3H, CH3), 1.41(s, 3H,CH3), 2.08(d,1H, OH),2.13-2.38(m,2H,C3),3.70-3.82(m,1H,C4),3.85-4.05(m,3H,C5,C6),5.14(dd,1H,C1), 5.20(dd,1H,C1), 5.73-5.94(m,1H,C2)
실시예 2: 2-데옥시-L-리보스의 합성
실시예 1에서 얻은 2-데옥시-4,5,6-트리히드록시-5,6-O-이소프로필리덴-헥센 120.3g을 메틸렌클로리드 1L에 용해한 후 -50oC로 냉각하였다. 반응기에 서서히 오존을 투입하고 동 온도에서 3시간 교반 한 다음 반응이 완료되면 반응액에 7% 나트륨티오설페이트 수용액 1L을 적가하고 10분 교반하였다. 반응액을 층 분리하고 유층을 정제수 2L로 세척하여 망초로 건조한 후 감압 농축하여 액상의 화합물 (III)을 113g(이론수율 ; 93%)을 얻었다.
상기에서 얻은 화합물(III)113g을 정제과정 없이 메탄올 1L를 가하여 용해하고 정제수 0.1L, 1N HCl을 가하여 pH를 2~3에 맞추고 40-45oC에서 14시간 교반하였다. 반응이 완료되면 반응액에 강염기성 레진( 삼양디아이오PA 408)을 가하여 pH7-7.2로 조절하였다. 반응액을 감압농축하고 농축액에 아세톤 1L를 가하고 2시간 환류교반하였다. 반응액을 실온으로 냉각하고 하루 교반하여 흰색의 고체 2-데옥시-L-리보스 69.7g(이론수율:80%)을 얻었다.
Rf 0.3(메탄올 : 에틸아세테이트=1:4, v/v);
m.p., 89oC: 〔α〕D+55(C=1,H2O,72h)
1H NMR (200MHz, D2O)δ(ppm) 1.64-2.05(m, 2H, C2), 3.57-4.51(m, 4H, C3,C4,C5), 5.30(t,1H,,C1)
본 발명의 제조방법은 특별히 다른 부 생성물이 없어 부생성물 제거에 따른 비용과 번거로움이 없다. 또한 수득률이 매우 높고 공정이 간단하여 경제성이 높은 것이 장점이다.

Claims (7)

  1. (a) 하기 구조식(II)의 화합물을 오존과 반응시켜 하기 구조식(III)의 화합물을 제조하는 단계; 및
    (b) 상기 단계(a)에서 생성된 하기 구조식 (III)의 화합물을 탈 보호화하여 구조식(IV)의 화합물을 제조하는 단계로 구성되는 하기 구조식 (IV)의 2-데옥시-L-리보스의 제조방법:
    상기 식에서,
    R1, R2는 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 또는 페닐이다.
    R3, R4는 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 또는 페닐이고 또한 R3, R4는 5,6,7,또는 8원환을 이룰 수 있으며 한 개 이상의 치환체를 가질 수 있다.
  2. 제 1 항에 있어서, R3, R4은 이소프로필리덴, 에틸프로필리덴과 시클로펜틸리덴, 또는 시클로헥실리덴인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 단계(b)의 탈보호화는 극성 용매 중에서 산을 사용하여 25-100oC에서 1-24시간 행해지는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 삭제
  5. 하기 구조식(I)의 화합물을 비닐마그네슘브로마이드 또는 1-프로페닐마그네슘브로마이드와 반응시키는 것으로 구성되는 하기 구조식 (II)의 화합물의 제조방법.
    상기 식에서,
    R1, R2는 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 또는 페닐이다.
    R3, R4는 각각 H, C1-15 알킬, C3-15 시클로알킬, 또는 페닐이고 또한 R3, R4는 5,6,7,또는 8원환을 이룰 수 있으며 한 개 이상의 치환체를 가질 수 있다.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 반응은 -78∼25oC의 온도에서 1∼24시간, 용매로 테트라히드로푸란, 에테르, 또는 톨루엔을 사용하여 행해지는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 5 항에 있어서, R3, R4은 이소프로필리덴, 에틸프로필리덴과 시클로펜틸리덴, 또는 시클로헥실리덴인 것을 특징으로 하는 방법.
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