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JPS617695A - Long flexible both-side printed circuit board and method of producing same - Google Patents

Long flexible both-side printed circuit board and method of producing same

Info

Publication number
JPS617695A
JPS617695A JP12820784A JP12820784A JPS617695A JP S617695 A JPS617695 A JP S617695A JP 12820784 A JP12820784 A JP 12820784A JP 12820784 A JP12820784 A JP 12820784A JP S617695 A JPS617695 A JP S617695A
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JP
Japan
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manufacturing
adhesive layer
base material
resin
plating
Prior art date
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Granted
Application number
JP12820784A
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Japanese (ja)
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JPH0243358B2 (en
Inventor
近藤 正秀
智昭 中西
古川 和弘
吉岡 道博
垣見 育男
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP12820784A priority Critical patent/JPS617695A/en
Publication of JPS617695A publication Critical patent/JPS617695A/en
Publication of JPH0243358B2 publication Critical patent/JPH0243358B2/ja
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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、長尺の可撓性両面プリント配線板及びその製
造方法に係り、特に本発明は、長尺の可撓性絶縁基材の
両面に無電解めっき層を連続的に形成し、両面プリント
配線板を製造する方法に関し、例えばICカード等の作
製に当たり、連続実装に適しtこ長尺で可撓性のある両
面プリント配線板を提供することができるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a long flexible double-sided printed wiring board and a method for manufacturing the same, and in particular, the present invention relates to a long flexible double-sided printed wiring board and a method for manufacturing the same. Regarding a method of manufacturing a double-sided printed wiring board by continuously forming an electroless plating layer on both sides, a long and flexible double-sided printed wiring board suitable for continuous mounting is used, for example, in the production of IC cards, etc. It is something that can be provided.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の技術とし、では1例えば次のようなものがある。 As a conventional technique, for example, there is the following one.

(11枚葉のプリント配線板製造技術として、現在一般
的には、銅箔より不必要部分をエツチングして回路を作
成するサブトラクティブ法が用いられ、場合によ−では
、最初から必要な回路部分のみを作成するアディティブ
法や、その両者の中間的なセミアディティブ法が用いら
れる。
(11) Currently, the subtractive method is generally used to create a circuit by etching unnecessary parts from copper foil, and in some cases, the necessary circuit is created from the beginning. An additive method that creates only a portion, and a semi-additive method that is intermediate between the two methods are used.

また、絶縁基材に関しても、紙、ガラス繊維、合成繊維
に、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリイミド樹脂、テフロン樹脂、等を
含浸させtこ各種の材料があり、それぞれの用途に応じ
fこものが使われている。
Regarding insulating base materials, there are various materials such as paper, glass fiber, and synthetic fiber impregnated with epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, polyimide resin, Teflon resin, etc., and each has its own purpose. Depending on the situation, f-komono is used.

(2)株式会社 経営システム研究新編の「高密度多機
能実装技術集大成」(昭和56年10月1日初版第1刷
発行)によれば、ICの自動組み立て技術として、フィ
ルムキャリア技術が紹介されている。これは、テ・−プ
状の絶縁性フ(A/ム上に、銅箔よりリードフレームを
形成し、フィルムに明けられたコマ送り用の穴により、
テープの送りと位置合わせを自動的に行いICの組み立
てを自動化するものである。この方法はICの生産コス
トを低減し、信頼度を上げることができる方法である、
同書には、このフィルムキャリア技術に必要なキャリア
テープの作製工程が示され、さらに、フィルムを直接基
板として使用する際、両面キャリアテープも実用化され
ていることが述べられている。
(2) According to Management System Research New Edition's ``High-density multifunctional packaging technology collection'' (first edition published on October 1, 1981), film carrier technology was introduced as an automatic IC assembly technology. ing. This is done by forming a lead frame from copper foil on a tape-shaped insulating film (A/m), and using holes drilled in the film for frame-by-frame feeding.
It automatically feeds and aligns the tape and automates IC assembly. This method is a method that can reduce IC production costs and increase reliability.
The book describes the process for manufacturing carrier tapes necessary for this film carrier technology, and also states that double-sided carrier tapes have been put into practical use when films are directly used as substrates.

(3)特開昭58−70593号公報には、「所定のピ
ッチ間隔でガイドホールを穿設した可撓性長尺帯状プリ
ント板に、プリントパターンを形成し、このプリントパ
ターンに所定の部品を装着して成る多数のシートを帯状
に連接形成し、これを個々のシ・−トに切断して成る電
子パッケージ」の製造方法が開示されている。
(3) Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-70593 states, ``A print pattern is formed on a flexible long strip-shaped printed board in which guide holes are bored at predetermined pitch intervals, and predetermined parts are attached to this print pattern. A method for manufacturing an electronic package is disclosed in which a number of attached sheets are connected and formed into a band shape, which is then cut into individual sheets.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、前記従来の技術(2)における長尺のキ
ャリアテープは、前記従来の技術(1)におけるサブト
ラクティブ法のみで製造されているに止まり、その基材
にしても、ポリイミド樹脂、ガラス布エポキシ樹脂等の
表面に予め銅箔が積層された、かなり限定された種類の
プリント配線板用基材しが使用されていない。また前述
のように可撓性プリント配線板の基材として銅張積層板
を使用することには、以下のような欠点がある。
However, the long carrier tape in the conventional technique (2) is manufactured only by the subtractive method in the conventional technique (1), and its base material is polyimide resin, glass cloth epoxy, etc. A fairly limited type of base material for printed wiring boards, in which a copper foil is preliminarily laminated on the surface of a resin or the like, is not used. Furthermore, as mentioned above, using a copper-clad laminate as a base material for a flexible printed wiring board has the following drawbacks.

(イ)銅箔製造時に発生するピンホール等の影響上、製
造できる銅箔の厚さは現在のところ18μmカ最低であ
り、銅箔エツチング工程におけるエッチファクターを考
慮すると前記厚さの銅箔層は、微細パターンの作成には
不向きである。
(b) Due to the influence of pinholes etc. that occur during copper foil manufacturing, the minimum thickness of copper foil that can be manufactured is currently 18 μm, and considering the etch factor in the copper foil etching process, a copper foil layer of this thickness is not possible. is not suitable for creating fine patterns.

(ロ)両面に銅箔を積層することができる絶縁性基材の
皿類はガラス布などに限られており、用途に応じて広い
範囲より基材を選択することができない。また、このこ
とは製造経費が両謄する要因となる。
(b) Dishes made of insulating substrates that can be laminated with copper foil on both sides are limited to glass cloth, etc., and the substrate cannot be selected from a wide range depending on the purpose. Additionally, this is a factor that increases manufacturing costs.

f勺 両面銅箔積層板の価格は、同種の基材で銅箔を有
しないものより高価である。
The price of double-sided copper foil laminates is higher than that of the same type of substrate without copper foil.

に)銅箔が基材両面にラミネートされることにより、基
材の可撓性がかなり損なわれる。このことは、可撓性基
材の長所を生かして、基材を屈曲させて連続的に搬送し
、当該製造装置を小型化しようとする際、その長所を十
分に生かすことができない。
2) The flexibility of the substrate is significantly impaired due to the copper foil being laminated on both sides of the substrate. This means that when attempting to downsize the manufacturing apparatus by bending the base material and continuously conveying it by taking advantage of the advantages of the flexible base material, the advantages cannot be fully utilized.

また、前記従来の技術(3)においては、長尺のプリン
ト配線板に連続実装することの利点は同公報にも記載さ
れているものの、具体的に長尺のプリント配線板を製造
する方法及びその方法によりどのような構造のプリント
配線板が得られるのかは、伺ら明らかにされていない。
In addition, in the conventional technique (3), although the advantages of continuous mounting on a long printed wiring board are also described in the same publication, there is no specific method for manufacturing a long printed wiring board. It is not yet clear what kind of structure a printed wiring board can be obtained using this method.

本発明は、長尺の可撓性プリント配線板における前記従
来の技術の欠点を除去・改善することを目的とし、前記
特許請求の範囲に記載の長尺の可撓性両面プリント配線
板及びその製造方法によって、本発明の目的を達成しよ
うとするものである。
The present invention aims to eliminate and improve the shortcomings of the conventional technology in the long flexible printed wiring board, and the present invention includes the long flexible double-sided printed wiring board and its The object of the present invention is achieved by a manufacturing method.

なお、本発明は従来のこの種の両面用基材として使用さ
れているポリイミド樹脂基材は特性は優れているものの
高価であり、ポリエステルは逆に比較的安価であるが特
性が劣ることに鑑み、また両面用のガラスエポキシ基板
が工業的に実施使用されていないことに鑑み、次に示す
ようにガラス布などの可撓性絶縁材の基材にフェノール
、エホキシ、ポリイミド又はトリアジンなどの各種樹脂
の接着剤を塗布するものから出発することをもう一つの
目的とするものである。
The present invention is based on the fact that the polyimide resin base material conventionally used as this type of double-sided base material has excellent properties but is expensive, while polyester, on the other hand, is relatively cheap but has poor properties. In addition, considering that double-sided glass epoxy substrates are not used industrially, various resins such as phenol, epoxy, polyimide, or triazine are used as base materials for flexible insulating materials such as glass cloth, as shown below. Another purpose is to start with something that applies adhesive.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明によれば、長尺の可撓性両面プリント配線板をヤ
ミアデイテイプ法で製造することが可能となり、前記従
来の技術の欠点が解決できる。ここで、長尺のプリント
配線板とは、第1図に示すように、基材がプリント板と
しての回路機能を有するだけでなく、それ自身が、部品
の実装工程において、搬送媒体としての機能をも有する
ものをいい、本発明では、長尺基材の各部に、導体回路
形成のための反復処理を施して製品化する。
According to the present invention, it is possible to manufacture a long flexible double-sided printed wiring board by the Yamia day tape method, and the drawbacks of the conventional techniques can be solved. Here, as shown in Figure 1, a long printed wiring board means that the base material not only has a circuit function as a printed circuit board, but also functions as a transport medium in the component mounting process. In the present invention, each part of a long base material is subjected to repeated processing to form a conductor circuit, and then manufactured into a product.

次に、本発明の製造方法を特許請求の範囲に記載した順
序で図面に基づいて具体的に説明する。
Next, the manufacturing method of the present invention will be specifically explained based on the drawings in the order described in the claims.

第2図は本発明の製造方法の主要工程を示す説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing the main steps of the manufacturing method of the present invention.

まず<8)の工程において、長尺の可撓性絶縁基材(1
)に接着層(2)を両面に形成する、可撓性絶縁材とし
ては、現在使用されているものに、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、ガラス布芯材のエポキシ樹脂
等の各種基材があるが、特にガラス布を芯材にする場合
、その表面にある毛羽が存在するために、塗布された樹
脂がその部分に樹脂上を形成し、銅箔のラミネートが困
難となる。そのため、ガラス布を芯材にしたものは、寸
法安定性が良好であるにもかかわらず、厚み0.211
nlr以下の可撓性プリント配線板用に製造されている
ものは少ない。ところが、本製造方法では、プリント配
線用基板表面に銅箔を必要としないため、広い範囲より
相料を選*ことができ、例えば既存のガラス布芯材のエ
ポキシ基材に比べ、同程度の寸法安定性とを維持しつつ
、それ以上の耐熱性を有するガラス布トリアジン基材な
どを使用できる。また、接着層(2)としては、フェノ
ール、エポキシ、ポリイミド、トリアジン樹脂の1種以
上を使用し、その表面に形成する無電解めっきと基材と
の密着を良くするために絶縁材に使用されたものと同成
分のものが使用され、塗布又はロールコートにより、特
に好ましくは10〜50μ亀の厚みに形成することがで
きる。さらにその後、接着層が流動しないように、接着
層の成分に合った条件で熱処理をし、熱硬性樹脂におけ
るBステージの硬化状態にしておく。
First, in the step <8), a long flexible insulating base material (1
), with the adhesive layer (2) formed on both sides.Currently used flexible insulating materials include various base materials such as polyester film, polyimide film, and epoxy resin with a glass cloth core material. In particular, when glass cloth is used as the core material, the presence of fluff on its surface causes the applied resin to form a resin layer on that part, making it difficult to laminate the copper foil. Therefore, although the glass cloth core material has good dimensional stability, it has a thickness of 0.211 mm.
There are few products manufactured for flexible printed wiring boards below NLR. However, since this manufacturing method does not require copper foil on the surface of the printed wiring board, it is possible to select a complementary material from a wide range. A glass cloth triazine base material having higher heat resistance while maintaining dimensional stability can be used. In addition, the adhesive layer (2) uses one or more of phenol, epoxy, polyimide, and triazine resin, and is used as an insulating material to improve the adhesion between the electroless plating formed on the surface and the base material. A material having the same composition as the above material is used, and can be particularly preferably formed to a thickness of 10 to 50 μm by coating or roll coating. Furthermore, after that, heat treatment is performed under conditions suitable for the components of the adhesive layer so that the adhesive layer does not flow, and the thermosetting resin is brought into a B-stage cured state.

次に(b)の工程において、基材に位置決め穴と貫通穴
を設ける。これらの穴の形成法は、NCドリルを用いて
も良いし、金型を用いてもよい。一般に、ドリルを用い
た場合は、穴壁面の形状がシャープで良く、金型を用い
た場合は、同時に多くの穴を設けることが可能である。
Next, in step (b), positioning holes and through holes are provided in the base material. These holes may be formed using an NC drill or a mold. Generally, when a drill is used, the shape of the hole wall surface can be sharp, and when a mold is used, it is possible to make many holes at the same time.

また、金型を用いた方法としては、まず位置決め用の穴
を形成し、次にその穴を利用して貫通穴を形成する方法
と、2つを同時に形成する方法があるが、前者の方法の
方が各穴の位置精度が良い。
Also, as methods using a mold, there are two methods: first forming a positioning hole and then using that hole to form a through hole, and a method of forming both at the same time. The position accuracy of each hole is better.

次に(Qの工程において接着層を半硬化状態にする。こ
こで半硬化状態とは、熱風又は赤外線を用いて、接着層
をBステージのままではあるが、無電解めっき等の各工
程における基材の膨潤を防ぎ得る程度に、さらに若干硬
化をさせた状態である。
Next, in the step (Q), the adhesive layer is brought into a semi-cured state. Here, the semi-cured state means that the adhesive layer remains in the B stage using hot air or infrared rays, but is not used in each process such as electroless plating. It is in a state where it is further slightly cured to the extent that swelling of the base material can be prevented.

このとき硬化を進行させすぎると、無電解めっき膜と基
材との密着力の良い回路パターンが得られなくなること
から、硬化条件は、例えば熱風中において、基材表面を
基材のTgの50〜90%の温度で10〜30分行なう
ことが好ましい。
If curing is allowed to proceed too much at this time, it will not be possible to obtain a circuit pattern with good adhesion between the electroless plated film and the base material. Preferably, the reaction is carried out at a temperature of ~90% for 10 to 30 minutes.

次に(d)の工程において、接着層を粗化する。この工
程の目的は、表面積を増加させることと、アンカー効果
を付与させることであり、これら両者の効果により基材
と回路パターンの密着力を向上させることである。粗化
方法としては、パフ研摩、レジストブラスト、化学処理
等があり、表面粗さとしては、J工5B0601による
10点平均粗さにおいて0.5〜3μmであることが好
ましい。
Next, in step (d), the adhesive layer is roughened. The purpose of this step is to increase the surface area and provide an anchor effect, and both of these effects improve the adhesion between the base material and the circuit pattern. Roughening methods include puff polishing, resist blasting, chemical treatment, etc., and the surface roughness is preferably 0.5 to 3 μm in 10-point average roughness according to J-Technology 5B0601.

ここで、このω)、(c)、 (d)の工程順に関して
、基本的にはどの順序で行なってもよいが、@)の表面
粗化を(b)の穴明けの後にすれば、穴明は時に発生す
るパリの除去に効果がある。
Here, the steps ω), (c), and (d) can basically be performed in any order, but if the surface roughening of @) is done after the drilling of (b), Anaming is effective in removing pari that sometimes occurs.

次に(e)の工程において、基材の全面に無電解めっき
層を形成する。無電解めっきは、銅、ニッケル、スズ等
導電性のあるものならいずれでもよいが、導電性の高さ
、価格等を考慮して、一般的には無電解銅めっきを用い
る。析出させるめっき厚みは、0.1〜3μmが好まし
く、これ以下の厚みでは、後の工程における電気めっき
時の通電性が損なわれ、これ以上の厚みでは、エツチン
グ量が多くなり、セミアディティブ法の長所が十分に生
かされない。なお、本発明において使用する無電解銅め
っき浴液には例えば市販のシップレイ社製のもの、日立
化成■製のものなどがある。また、これらのめっき浴液
にさらに各揮の界面活性剤を添加して使用することも良
好なめっき膜を得る上で好ましい。
Next, in step (e), an electroless plating layer is formed on the entire surface of the base material. The electroless plating may be made of any conductive material such as copper, nickel, tin, etc., but electroless copper plating is generally used in consideration of high conductivity, cost, etc. The thickness of the deposited plating is preferably 0.1 to 3 μm. If the thickness is less than this, the conductivity during electroplating in the subsequent process will be impaired, and if the thickness is more than this, the amount of etching will increase, and the semi-additive method Strengths are not fully utilized. The electroless copper plating bath solution used in the present invention includes, for example, commercially available products manufactured by Shipley Co., Ltd. and products manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. It is also preferable to use these plating bath solutions with the addition of various types of surfactants in order to obtain a good plated film.

次に(cの工程において、ホットプレスを行なう。Next, in step (c), hot pressing is performed.

この工程の目的は、基材に熱と圧力を同じに加えること
により、導体層と基材の密着力を向上させることである
。その方法としては、予め加熱したロール、エンドレス
ベルト、プレス機による。このとき、圧力は2切り以上
が好ましく、それ以下であると密着力が十分得られない
。また温度は。
The purpose of this step is to improve the adhesion between the conductor layer and the base material by applying both heat and pressure to the base material. The method uses a preheated roll, an endless belt, or a press. At this time, the pressure is preferably two or more cuts, and if it is less than that, sufficient adhesion cannot be obtained. Also, the temperature.

基材のTgの50〜9096が好ましく、それ以下でも
、それ以上でも密着力は上昇しない。
The Tg of the base material is preferably 50 to 9096, and adhesion will not increase if it is lower or higher than that.

次に(nの工程において、基材表面に導体回路を形成す
る。導体回路の形成は、セミアディティブ法を用いた場
合、(i)レジスト形成、(i)電気銅パターンめっき
、010レジスト剥膜、4ψエツチング、の順に行なわ
れる。前記(:)において、レジストには、ドライフィ
ルム、液体レジスト、レジスト用インクが用いられ次の
露光、現像工程又はレジスト用インクに関しては印刷工
程を経て5次工程の電解銅めっきを施さない部分を覆う
ネガティブパターンを形成する。また、このとき施され
る露光工程又は印刷工程においては、本発明の有する特
徴の1つである位置決め用の穴を利用し、自動的かっ、
連続的に露光マスク、印刷スクリーンと基材の位置合わ
せを行なう。(II)の電解銅パターンめ−Iきにおい
ては、めっき面の電流密度が7〜30 A/dm”の高
速電解銅めっきが好ましい。一般にこの電流密度が、低
くなる程装置が大型化し、高くなる程、物性の良いめっ
きが得られ難くなる。(:IDのレジスト剥膜は、レジ
スト材料に合致した方法を用い、轢のエツチングは、被
エツチング部分以外にエツチングレジストを形成して、
その後エツチングにより導体回路を形成するか、そのま
ま全体をエツチングし、エツチング量を無電解銅めっき
部のみが完全に溶解される程度とすることで、めっきの
厚み差により、導体回路部分のみを基材上に形成する。
Next, in step (n), a conductor circuit is formed on the surface of the base material. When a semi-additive method is used to form the conductor circuit, (i) resist formation, (i) electrolytic copper pattern plating, 010 resist peeling. , 4ψ etching. In the above (:), a dry film, a liquid resist, or a resist ink is used for the resist, and the next exposure and development process or the resist ink is carried out through a printing process and then a 5th process. A negative pattern is formed to cover the areas not to be electrolytically plated with copper.In addition, in the exposure process or printing process performed at this time, the positioning holes, which are one of the features of the present invention, are used to automatically That's right,
Continuously align the exposure mask, printing screen and substrate. In (II) electrolytic copper pattern plating-I, high-speed electrolytic copper plating with a current density of 7 to 30 A/dm on the plating surface is preferred.Generally, the lower the current density, the larger the equipment, and the higher the current density. Indeed, it becomes difficult to obtain plating with good physical properties. (For ID resist removal, use a method that matches the resist material, and for track etching, form an etching resist on areas other than the area to be etched.
After that, either form a conductor circuit by etching, or simply etch the entire part, and set the amount of etching to such an extent that only the electroless copper plating part is completely dissolved. Form on top.

なお、ここでのエツチング液は、基本的には、酸性又は
アルカリ性のいずれも使用できるが、エツチングレジス
トを形成して行なう場合は、それに適した液を用いる必
要がある。
Incidentally, as for the etching liquid here, basically either acidic or alkaline etching liquid can be used, but when etching is to be performed after forming an etching resist, it is necessary to use a suitable liquid.

また上記(1)〜4■による方法以外に、第3図に示す
ように、無電解銅めっき後、基材全面に電解銅めっきを
施し、導体部の厚みを導体回路として必要な厚みとし、
エツチングレジスト形成後、不必要な部分をエツチング
によって取り除き、最後にエツチングレジストを剥膜し
て所望の導体回路を形成してもよい。この場合、−(P
2アディティブ法の長所は失なわれるものの導体部の厚
みを必要に応じて任意の厚みに設定できることが長所と
なる。
In addition to methods (1) to (4) above, as shown in FIG. 3, after electroless copper plating, electrolytic copper plating is applied to the entire surface of the base material, and the thickness of the conductor part is set to the thickness necessary for a conductor circuit.
After forming the etching resist, unnecessary portions may be removed by etching, and finally the etching resist may be peeled off to form a desired conductor circuit. In this case, −(P
Although the advantages of the 2-additive method are lost, the advantage is that the thickness of the conductor portion can be set to any thickness as required.

次に(h)の工程において、接着層をCステージまで硬
化させ、完全硬化状態とし、基材と導体回路の最終的な
密着力を得る。このとき、基材を基材のTgの50〜9
0%の非酸化性雰囲気中に1〜2時間放置することによ
り、最も高い密着力を得る。
Next, in the step (h), the adhesive layer is cured to the C stage to be in a completely cured state to obtain the final adhesion between the base material and the conductor circuit. At this time, the base material is 50 to 9 of the Tg of the base material.
The highest adhesion is obtained by leaving it in a 0% non-oxidizing atmosphere for 1 to 2 hours.

また、導体回路形成後に完全硬化を行なうことが、接着
層からのガスの放出を容易にし、密着力を高める効果を
生じる。非酸化性ガスの使用に関しては、銅表面の酸化
を防ぎ、後工程での表面処理を容易にするためであり、
窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、水素ガス、等
を使用することができる。
Further, complete curing after the formation of the conductor circuit facilitates the release of gas from the adhesive layer and has the effect of increasing adhesion. The purpose of using non-oxidizing gas is to prevent oxidation of the copper surface and facilitate surface treatment in the subsequent process.
Nitrogen gas, argon gas, helium gas, hydrogen gas, etc. can be used.

以上により本発明における導体回路が形成されるが、そ
の後必要があれば、ソルダーレジスト、ニッケルめっき
、金めつき、スズめっき、半田めっき等の表面処理を施
すこともできる。このように本発明によれば、長尺帯状
の基材上に両面プリント配線板が連続形成されて成る、
長尺の可撓性両面プリント配線板を提供することができ
る。
The conductor circuit of the present invention is formed as described above, but if necessary thereafter, surface treatments such as solder resist, nickel plating, gold plating, tin plating, and solder plating can be performed. As described above, according to the present invention, double-sided printed wiring boards are continuously formed on a long strip-shaped base material.
A long flexible double-sided printed wiring board can be provided.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の最も代表的なセミアディティブ法によろ長
尺の可撓性基材への導体回路形成の実施例について説明
する。
Next, an example of forming a conductor circuit on a long flexible base material by the most typical semi-additive method of the present invention will be described.

まず、絶縁基材としては、厚さ0−13ggのガラス布
芯材BTレジンプリント配線板用基材を用い、接着剤付
フィルムのラミネートにより、その両面に厚さ30μm
のBTレジン接着層を形成し、この接着層を60°C1
15時間の加熱によりBステージの状態の半硬化とした
。次に金型を用いてこの基材の両端部に5H間隔で直径
3ffの位置決め用の穴を明け、その穴を利用して、同
様に金型によりスルホール用の貫通穴を明ける。次に1
75°Cの熱風中、15分間で半硬化し、バフロールを
用いて約2μm程の表面粗花を行なった。次にこの基材
の全面に、市販の無電解銅めっきシステムにより、°c
 1分間で0.5μmの薄膜導体層を形成した。次にホ
ットプレスは、ホットロールプレスで行ない、温度17
5°Cで圧力41下ノロール中を、t、am、z=で搬
送して行なった。その後、パターン形成は、無電解銅上
に25μmのアルカリ可溶型のドライフイMムをラミネ
ートし、回路パターンの自動位置決めによる露光後、0
.7596の炭酸ソーダ溶液にて現像を行ない、めっき
レジストの形成後、導体回路部に硫酸銅浴中で20μm
の電解銅めっきを施した。次に、レジストを  %の苛
性ソーダ溶液で剥膜し、そのまま、塩化第二銅溶液で約
2μmのエツチングを行ない、導体回路部を基材上に残
した。
First, as an insulating base material, a glass cloth core material BT resin printed wiring board base material with a thickness of 0 to 13 gg is used, and a 30 μm thick film on both sides is laminated with an adhesive film.
BT resin adhesive layer is formed and this adhesive layer is heated at 60°C1.
By heating for 15 hours, it was semi-cured to a B stage state. Next, using a mold, positioning holes of 3 ff in diameter are made at both ends of this base material at intervals of 5H, and using the holes, through holes for through holes are similarly made using the mold. Next 1
It was semi-hardened in hot air at 75°C for 15 minutes, and the surface was roughened to about 2 μm using a buff roll. The entire surface of this substrate is then coated with a commercially available electroless copper plating system at °C.
A 0.5 μm thin film conductor layer was formed in 1 minute. Next, hot pressing is performed using a hot roll press at a temperature of 17
The test was carried out at 5°C and under a pressure of 41°C while being transported at t, am, and z=. After that, pattern formation was carried out by laminating a 25 μm alkali-soluble dry film on electroless copper, and after exposure by automatic positioning of the circuit pattern,
.. After developing with 7596 sodium carbonate solution and forming a plating resist, a 20 μm thick film was applied to the conductor circuit area in a copper sulfate bath.
Electrolytic copper plating was applied. Next, the resist was peeled off with a 2% caustic soda solution, and then etched to a thickness of about 2 μm with a cupric chloride solution, leaving the conductor circuit portion on the base material.

最後に、175°Cの窒素ガス雰囲気中で1時間加熱し
て、接着層をCステージの完全硬化状態とし、最終的に
JI8C6481による引き剥し強さにおいて、平均的
2 kg/fflの値を有する長尺の可撓性両面プリン
ト配線板が得られた。
Finally, the adhesive layer is heated in a nitrogen gas atmosphere at 175°C for 1 hour to bring the adhesive layer to a C-stage completely cured state, and finally has an average peel strength of 2 kg/ffl according to JI8C6481. A long flexible double-sided printed wiring board was obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、本発明によればセミアディティブ法によ
る長尺の可撓性両面プリント配線板の製造が可能である
ため、従来の長尺のものに比較して次のような特徴があ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to manufacture a long flexible double-sided printed wiring board by a semi-additive method, and therefore it has the following characteristics compared to conventional long sheets.

(イ)銅箔ラミネートの困難な基材も使用でき、用途に
応じて広い範囲から基材を選択することができる。
(a) Base materials that are difficult to laminate with copper foil can also be used, and base materials can be selected from a wide range depending on the application.

(ロ)銅箔の無い分だけ基材が安価である。(b) The base material is cheaper because there is no copper foil.

(ハ)基材の可撓性を損なわないまま製品化できるため
、その可撓性を生かして長尺の両面プリント配線板を比
較的小型な装置で連続的に生産できる。
(c) Since it can be commercialized without impairing the flexibility of the base material, long double-sided printed wiring boards can be continuously produced using relatively small equipment by taking advantage of its flexibility.

に)セミアディティブ法の長所であるシャープなパター
ン形成としての高いエッチファクターを有するため、微
細な導体回路の作製にも適している。
2) It has a high etch factor for forming sharp patterns, which is an advantage of the semi-additive method, so it is also suitable for producing fine conductor circuits.

(ホ)また、導体部の厚みを電気量などの諸条件を適宜
設定することにより、所望の厚さのものを容易にしかも
自由に得ることができる。それゆえ、プリント配線板の
全体の厚みを必要゛最小限としさらに均一の厚さとする
ことができるので経済上有利である。
(e) Furthermore, by appropriately setting various conditions such as the amount of electricity for the thickness of the conductor portion, a desired thickness can be easily and freely obtained. Therefore, the overall thickness of the printed wiring board can be minimized and the thickness can be made uniform, which is economically advantageous.

以上のように、最近電子関連製品の小型化、低価格化が
要求される中で、フィルムキャリア方式は、部品実装の
自動化に貢献し製品コストを低くした。しかし、これま
でのキャリアテープより発する長尺のプリント配線板は
、プリント配線板自体の製造コストは必ずしも低くなっ
ておらず、また、高密度な配線にも適せず、製品の小型
化には十分貢献できなかった。これに対し本発明によれ
ば、前記の理由によりプリント配線板自体のコストが低
くなり、また部品実装のコストも低くなると共に、高密
度配線にも適するため電子関連様製品の小型化が可能と
なり、さらに低価格化に大きく貢献するものである。
As described above, amid the recent demand for smaller size and lower prices for electronic products, the film carrier method contributes to automation of component mounting and lowers product costs. However, with the long printed wiring boards produced by conventional carrier tapes, the manufacturing costs of the printed wiring boards themselves are not necessarily low, and they are not suitable for high-density wiring, and are not suitable for miniaturizing products. I couldn't contribute enough. On the other hand, according to the present invention, the cost of the printed wiring board itself is lower due to the above-mentioned reasons, the cost of mounting components is also lower, and since it is suitable for high-density wiring, it is possible to downsize electronic-related products. , which will also greatly contribute to lower prices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の両面プリント配線板の斜視図、第2図
は本発明の両面プリント配線板の一例であるセミアディ
ティブ法による製造方法におけ主要工程のフロー・シー
ト図、第3図は本発明の両面プリント配線板の縦断面図
である。 (1)・・・可撓性絶縁基材 (2)・・・Bステージの接着層 (3)・・・貫通穴及び製品として必要な穴(4)・・
・半硬上状態の接着層 (5)・・・表面の粗化された接着層 (e)・・・無電解めっき層 (7)・・・ホットロール (8)・・・めっきレジスト (9)・・・電解めっき層 (1の・・・完全硬化状態の接着層 (11)・・・銅箔層
FIG. 1 is a perspective view of the double-sided printed wiring board of the present invention, FIG. 2 is a flow sheet diagram of the main steps in the semi-additive manufacturing method, which is an example of the double-sided printed wiring board of the present invention, and FIG. FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view of a double-sided printed wiring board of the present invention. (1)...Flexible insulating base material (2)...B-stage adhesive layer (3)...Through holes and holes necessary for the product (4)...
・Semi-hard adhesive layer (5)...Adhesive layer with roughened surface (e)...Electroless plating layer (7)...Hot roll (8)...Plating resist (9) )...Electrolytic plating layer (1...Adhesive layer (11) in a fully cured state...Copper foil layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(a)長尺の可撓性絶縁材の両面に接着層を形成し
、その接着層をBステージにする第1工程と、 (b)長尺基材のまま穴明けをする工程と、(c)前記
接着層の半硬化状態をさらに完全硬化状態に近づける工
程と、 (d)接着層表面を粗化する工程と、 (e)基材表面の全面に、無電解めっきによる導体層を
形成する第5工程と、 (f)連続ホットプレスを施す第6工程と、(g)基材
表面に導体回路を形成する第7工程と、(h)前記接着
層を完全硬化する第8工程から成る、長尺の可撓性両面
プリント配線板の製造方法。 2、前記可撓性絶縁材は、ガラス芯材のシート状物の両
面にフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、
トリアジン樹脂から選ばれる1種以上の樹脂を塗布した
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の製造方法。 3、前記(b)〜(d)の工程は、(c)の工程、(b
)の工程、(d)の工程の順に実施することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項、又は第2項記載の製造方法。 4、前記(b)〜(d)の工程は、(c)の工程、(d
)の工程、(b)の工程の順に実施することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項〜第3項記載の製造方法。 5、前記(c)の工程における半硬化は、基材表面を当
該熱硬化性樹脂のガラス転移点(Tg)の50〜90%
に相当する温度において行なうことを特徴とする特許請
求の範囲第1項〜第4項記載の製造方法。 6、前記(e)の工程における無電解めっきは、無電解
銅めっきであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
〜第5記載の製造方法。 7、前記の無電解銅めっきの厚みは、0.1〜3μmで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第6項記
載の製造方法。 8、前記(f)の工程における連続ホットプレスは、圧
力が2kg/cm^2以上であって、該樹脂のTgの5
0〜90%の温度で行なうことを特徴とする特許請求の
範囲第1項〜第7項記載の製造方法。 9、前記(h)の工程における完全硬化は、非酸化性雰
囲気下において、該樹脂のTgの50〜90%の温度で
行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第8項
記載の製造方法。 10、長尺の可撓性絶縁材の両面に、少くとも接着層を
介在して無電解めっき層を有し、その表面に電解めっき
層を有することを特徴とする長尺の可撓性プリント配線
板。
[Claims] 1. (a) A first step of forming an adhesive layer on both sides of a long flexible insulating material and turning the adhesive layer into a B stage; (b) leaving the long base as it is; (c) a step of bringing the semi-cured state of the adhesive layer closer to a fully cured state; (d) a step of roughening the surface of the adhesive layer; (e) on the entire surface of the base material, a fifth step of forming a conductor layer by electroless plating, (f) a sixth step of applying continuous hot pressing, (g) a seventh step of forming a conductor circuit on the surface of the base material, and (h) the adhesive layer. A method for producing a long flexible double-sided printed wiring board, comprising an eighth step of completely curing the board. 2. The flexible insulating material is made of phenol resin, epoxy resin, polyimide resin,
2. The manufacturing method according to claim 1, wherein one or more resins selected from triazine resins are coated. 3. The steps (b) to (d) above are the steps (c), (b)
3. The manufacturing method according to claim 1 or 2, characterized in that step (a) and step (d) are carried out in this order. 4. The steps (b) to (d) above are the steps (c) and (d).
4. The manufacturing method according to claim 1, wherein step (b) is carried out in this order. 5. Semi-curing in the step (c) above is performed by heating the base material surface to 50 to 90% of the glass transition point (Tg) of the thermosetting resin.
5. The manufacturing method according to claim 1, wherein the manufacturing method is carried out at a temperature corresponding to . 6. The manufacturing method according to claims 1 to 5, wherein the electroless plating in step (e) is electroless copper plating. 7. The manufacturing method according to claims 1 to 6, wherein the thickness of the electroless copper plating is 0.1 to 3 μm. 8. The continuous hot press in step (f) above is performed at a pressure of 2 kg/cm^2 or more, and the Tg of the resin is 5
8. The manufacturing method according to claim 1, wherein the manufacturing method is carried out at a temperature of 0 to 90%. 9. Complete curing in the step (h) is performed at a temperature of 50 to 90% of the Tg of the resin in a non-oxidizing atmosphere. manufacturing method. 10. A long flexible print characterized by having an electroless plating layer on both sides of a long flexible insulating material with at least an adhesive layer interposed therebetween, and having an electrolytic plating layer on the surface thereof. wiring board.
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