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JPS61179413A - optical isolator - Google Patents

optical isolator

Info

Publication number
JPS61179413A
JPS61179413A JP60020330A JP2033085A JPS61179413A JP S61179413 A JPS61179413 A JP S61179413A JP 60020330 A JP60020330 A JP 60020330A JP 2033085 A JP2033085 A JP 2033085A JP S61179413 A JPS61179413 A JP S61179413A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
optical isolator
magneto
substrate
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60020330A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kaoru Takahashi
薫 高橋
Satoshi Ishizuka
石塚 訓
Osamu Kamata
修 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP60020330A priority Critical patent/JPS61179413A/en
Publication of JPS61179413A publication Critical patent/JPS61179413A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4204Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
    • G02B6/4207Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms with optical elements reducing the sensitivity to optical feedback
    • G02B6/4208Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms with optical elements reducing the sensitivity to optical feedback using non-reciprocal elements or birefringent plates, i.e. quasi-isolators
    • G02B6/4209Optical features

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光通信、光計測、光記録等の分野で用いられる
光アイソレータに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to an optical isolator used in fields such as optical communication, optical measurement, and optical recording.

従来の技術 従来、光アイソレータに用いる磁気光学素子としては、
使用波長1.371Zm用にはY3Fe5O12゜0.
8μm用としては常磁性ファラデーガラスが用いられて
きた。
Conventional technology Conventionally, magneto-optical elements used in optical isolators include:
For use wavelength 1.371Zm, Y3Fe5O12°0.
Paramagnetic Faraday glass has been used for 8 μm.

ところが、希土類鉄ガーネットの希土類サイトをBi 
原子で置換することによってファラデー回転能が大きく
なるので、最近種々のBi置換希土類鉄ガーネットを磁
気光学素子として用いた光アイソレータの報告がなされ
ている。例えば、日本応用磁気学会Bi Vol s 
yvh2. P125 (1984)に報告された攪拌
すくい上げフラックス法で成長1.15  1.85 
Fe5O12を磁気光字素させたBi    Gd 子として用いた光アイソレータである。また、応用磁気
学会5c+ Vo l 8 tK 2 、 P 129
  (1984)  に報告された液相エピタキシャル
法により成長されだYb   Pr   Bi   G
d   Fe 02.25  0.34   0.73
   1.85   5 12を磁気光学素子として導
波路型に用いた光アイソレータの報告がある。
However, the rare earth site of rare earth iron garnet is Bi
Since atomic substitution increases the Faraday rotation ability, optical isolators using various Bi-substituted rare earth iron garnets as magneto-optical elements have recently been reported. For example, the Japanese Society of Applied Magnetics Bi Vol s
yvh2. Growth using the stirring scooping flux method reported in P125 (1984) 1.15 1.85
This is an optical isolator using Fe5O12 as a BiGd element with magnetic optical elements. Also, Applied Magnetics Society 5c+ Vol 8 tK 2, P 129
(1984), Yb Pr Bi G was grown by the liquid phase epitaxial method reported in (1984).
dFe 02.25 0.34 0.73
There is a report on an optical isolator using 1.85 5 12 as a magneto-optical element in a waveguide type.

その他にも、光アイソレータ用の磁気光学素子として液
相エピタキシャル成長させたBi置換ガーネットの報告
はいくつかある。
In addition, there are several reports on Bi-substituted garnet grown by liquid phase epitaxial growth as magneto-optical elements for optical isolators.

発明が解決しようとする問題点 上記従来の技術の光アイソレータは磁気光学素子として
用いているBi置換ガーネン)のBi 置換量が少なく
、Bi 置換量に伴って大きくなるファラデー回転能も
小さい。Bi 置換量を多くすれば、ファラデー回転能
が大きくなり、光アイソレータ用に使用するために必要
なファラデー回転角45°を得る磁気光学素子を小さく
することができる。磁気光学素子中の光路長を短かくす
ることによって直線偏光のりタープジョンが小さくなり
、アイソレーション比を向上することができる。攪拌す
くい上げフラックス法では分留りが悪く、量産性、低価
格化をめさせば、分留りよく、短時間で成長できる液相
エピタキシャル成長が適している。さらに液相エピタキ
シャル成長においテハ、成長させた磁性ガーネット膜の
膜厚が150μmを越えると、欠陥のない均質な膜を得
ることが困難である。成長の容易な膜厚の薄いガーネッ
ト膜でも光アイソレータ用に使用できるようにするため
には、Bi 置換量を多くする必要がある。
Problems to be Solved by the Invention In the optical isolator of the prior art described above, the amount of Bi substitution in the Bi-substituted glass used as a magneto-optical element is small, and the Faraday rotation ability, which increases with the amount of Bi substitution, is also small. If the amount of Bi substitution is increased, the Faraday rotation ability increases, and the magneto-optical element that obtains the Faraday rotation angle of 45° necessary for use in an optical isolator can be made smaller. By shortening the optical path length in the magneto-optical element, the turbulence of linearly polarized light can be reduced and the isolation ratio can be improved. The stirred scooping flux method has poor fractionation, and if mass production and cost reduction are desired, liquid phase epitaxial growth, which has good fractionation and can grow in a short time, is suitable. Furthermore, in liquid phase epitaxial growth, if the thickness of the grown magnetic garnet film exceeds 150 μm, it is difficult to obtain a homogeneous film without defects. In order to be able to use a thin garnet film that is easy to grow for an optical isolator, it is necessary to increase the amount of Bi 2 substitution.

液相エピタキシャル成長においては基板と成長膜の格子
定数差を少なくすることが成長膜が歪まず欠陥のない均
質な膜を得るのに必要であるが、希土類鉄ガーネットに
Bi  を置換するとBi置換量に伴ってBi置換希土
類鉄ガーネットの格子定数は大きくなる。成長膜が歪ん
でいると成長膜の消光比は低下するため、光アイソレー
タに使用した時、アイソレージラン比の低下の原因とな
る。
In liquid phase epitaxial growth, it is necessary to reduce the difference in lattice constant between the substrate and the grown film in order to obtain a homogeneous film without distortion and defects in the grown film, but when rare earth iron garnet is replaced with Bi, the amount of Bi replaced is reduced. Accordingly, the lattice constant of Bi-substituted rare earth iron garnet increases. If the grown film is distorted, the extinction ratio of the grown film decreases, which causes a decrease in the isolation run ratio when used in an optical isolator.

光アイソレータの構成としては、磁気光学素子である液
相エピタキシャル成長された磁性ガーネットを導波路と
して光が伝搬、もしくは基板の面方向と垂直な方向に光
が通過する構成をとると光へ 源もしくは光ファイバ等の光アイソレータの光の人出材
部での結合損失が大きい。
The structure of an optical isolator is such that light propagates using a liquid-phase epitaxially grown magnetic garnet, which is a magneto-optical element, as a waveguide, or a structure in which light passes in a direction perpendicular to the surface direction of the substrate. Coupling loss at the optical fiber part of an optical isolator such as a fiber is large.

また、光アイソレータを構成する各部品からの反射光に
よって光源である半導体レーザの動作が不安定になると
いう問題点がある。
Further, there is a problem in that the operation of the semiconductor laser, which is the light source, becomes unstable due to reflected light from each component that constitutes the optical isolator.

本発明は以上の点を解決し、軽量、小型で量産性に富み
、高アイソレーシヨン比、低損失な高性能な光アイソレ
ータを低価格で提供することを目的としている。
It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems and provide a high-performance optical isolator that is lightweight, compact, easily mass-produced, has a high isolation ratio, and has low loss at a low price.

問題点を解決するだめの手段 本発明は上記問題点を解決するために、Bi置換を行う
希土類鉄ガーネット母材として、希土類鉄ガーネット中
で最も格子定数の小さいLu3Fe5Q12 を用い、
0.8μm帯、1.3μm帯及び1.5μm帯で透明な
Gd Ga O格子定数が犬き3312’ くかつ波長がO,aμm帯、1.3μm帯及び1.5μ
m光に対して透明なCa −Mg −Zr置換Gd5G
a5Q12もしくはまたさらに格子定数が大きく、0.
8μm帯、1.3μm帯、 1.5 μm帯で透明なN
d3G a 3O12を基板として液相エピタキシャル
成長させた組成り ix L u 3−、F e501
2 (但し1.Q≦x≦3.0)の高アイソレーシヨン
比、低リターデーションの磁性ガーネット薄膜を磁気光
学素子として用い、光入射方向が基板の面方向と平行に
なる構成をとり、軽量、小型で量産性に富み、高アイソ
レーシヨン比、低損失な高性能な光アイソレータを得る
ものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention uses Lu3Fe5Q12, which has the smallest lattice constant among rare earth iron garnets, as a rare earth iron garnet base material for Bi substitution,
Transparent Gd Ga O lattice constant is 3312' in the 0.8 μm band, 1.3 μm band, and 1.5 μm band, and the wavelength is O, a μm band, 1.3 μm band, and 1.5 μm.
Ca-Mg-Zr substituted Gd5G transparent to m light
a5Q12 or even larger lattice constant, 0.
Transparent N in 8 μm band, 1.3 μm band, and 1.5 μm band
Composition grown by liquid phase epitaxial growth using d3G a 3O12 as a substrate ix Lu 3-, Fe501
2 (however, 1.Q≦x≦3.0), a high isolation ratio, low retardation magnetic garnet thin film is used as a magneto-optical element, and the light incident direction is parallel to the plane direction of the substrate, The object is to obtain a high-performance optical isolator that is lightweight, compact, easily mass-produced, has a high isolation ratio, and has low loss.

作  用 本発明は上記した構成により、基板との格子定故の差が
大きくならずにBi置換量の多い磁性ガーネット膜を得
ることができ、光アインレータ用の磁気光学素子として
薄くすることができ、軽量小型で量産性に富み、高アイ
ソレーシヨン比、低損失な光アイソレータが得られる。
Effect of the Invention With the above-described configuration, the present invention can obtain a magnetic garnet film with a large amount of Bi substitution without increasing the difference in lattice properties with the substrate, and can be made thin as a magneto-optical element for an optical inlator. This makes it possible to obtain an optical isolator that is lightweight, compact, easily mass-produced, has a high isolation ratio, and has low loss.

実施例 以下、本発明の一実施例として光アインレータ付半導体
レーザモジュールを第1図に基づいて説明する。第1図
において、1は半導体レーザ、2はレンズで半導体レー
ザ1から出射された光を集光し、光ファイバ3へと結合
している。4は格子定数12.497AのCa−Mg−
Zr置換Gd3Ga5O12基板で、5はその片面上に
格子定数のミスマツチなく液相エピタキシャル成長させ
た(B iL u ) s F e so12膜である
。6は(B t L u ) 3F e s 012に
飽和磁場を加えるだめの永久磁石、7は半導体レーザ1
からの出射直線偏光の偏光力=j9Jから46°回転し
た方向に配された偏光子である。
EXAMPLE A semiconductor laser module with an optical inulator will be described below as an example of the present invention with reference to FIG. In FIG. 1, 1 is a semiconductor laser, and 2 is a lens that condenses light emitted from the semiconductor laser 1 and couples it to an optical fiber 3. 4 is Ca-Mg- with a lattice constant of 12.497A
A Zr-substituted Gd3Ga5O12 substrate is used, and 5 is a (B iL u ) s Fe so12 film grown on one side thereof by liquid phase epitaxial growth without mismatching of lattice constants. 6 is a permanent magnet for applying a saturation magnetic field to (B t L u ) 3F e s 012, 7 is a semiconductor laser 1
This is a polarizer arranged in a direction rotated by 46° from the polarizing power of the linearly polarized light emitted from = j9J.

(BiLu)3Fe601□ 5の組成はB 12. 
oLu 1.。
The composition of (BiLu)3Fe601□ 5 is B 12.
oLu 1. .

F li) s 012  であり、使用波長O,Sμ
mでのファラデー回転能が約14000 deg/Cn
1であるため、45゜のファラデー回転角を得るために
膜厚は約32μmである。また( BiLu)3Fe5
0125は永久磁石6によって、膜の面方向と平行な方
向に磁化が飽和している。
F li) s 012 , and the wavelength used is O, Sμ
Faraday rotation ability at m is approximately 14000 deg/Cn
1, the film thickness is approximately 32 μm in order to obtain a Faraday rotation angle of 45°. Also (BiLu)3Fe5
0125 is magnetized by the permanent magnet 6 in a direction parallel to the surface direction of the film.

半導体レーザ1からの出射直線偏光はレンズ2によって
集光され、(B iL u ) s F e so 1
25を通過する時に偏光方向を46°回転され、Ca 
−Mg −Zr置換Gd3Ga5O12基板4を通過し
、通過可能なように偏光方向を平行に配した偏光子7を
通過して、光ファイバ3に結合される。
The linearly polarized light emitted from the semiconductor laser 1 is focused by the lens 2, and (B iL u ) s F e so 1
25, the polarization direction is rotated by 46°, and Ca
The light passes through the -Mg-Zr substituted Gd3Ga5O12 substrate 4, passes through a polarizer 7 whose polarization directions are parallel to each other, and is coupled to the optical fiber 3.

一方、光ファイバ3からの戻り光のうち偏光子を通過し
てきた直線偏光はCa −Mg −Z r  置換Gd
3Ga5O12基板4を通過し、(B IL u )3
Fes○1゜5を通過する時に、ファラデー効果のもつ
非相反性により、さらに偏光方向を45°回転されて、
半導体レーザ1からの出射光の偏光方向と上記半導体レ
ーザ1への光ファイバ3からの戻り光の偏光方向が直交
した状態で、半導体レーザ1に戻る。上記戻シ光の偏光
方向が半導体レーザ1からの出射光の偏光方向と直交し
ているため、上記戻シ光は半導体レーザ1の雑音の原因
にはならない。
On the other hand, among the returned light from the optical fiber 3, the linearly polarized light that has passed through the polarizer is Ca-Mg-Zr substituted Gd
3Ga5O12 substrate 4, (B IL u )3
When passing through Fes○1°5, due to the non-reciprocity of the Faraday effect, the polarization direction is further rotated by 45°,
The light returns to the semiconductor laser 1 in a state where the polarization direction of the light emitted from the semiconductor laser 1 and the polarization direction of the return light from the optical fiber 3 to the semiconductor laser 1 are orthogonal to each other. Since the polarization direction of the returned light is perpendicular to the polarization direction of the light emitted from the semiconductor laser 1, the returned light does not cause noise in the semiconductor laser 1.

以上のようにして、半導体レーザ1への戻り光を制御し
て、戻り光に起因する半導体レーザの雑音を抑圧した光
アイソレータが実現され、上記実施例の光アイソレータ
のアイソレーション比は39dBと高い値が得られた。
As described above, an optical isolator that controls the return light to the semiconductor laser 1 and suppresses the noise of the semiconductor laser caused by the return light is realized, and the isolation ratio of the optical isolator of the above embodiment is as high as 39 dB. value was obtained.

また光アイソレータにおいては、偏光子、レンズ、磁気
光学素子等の各使用部品端から半導体レーザへの反射戻
シ光が特性劣化の原因となりうるが、本実施例では、 (1)  レンズ2によって、半導体レーザ1からの出
射光を光ファイバ3に集光する構成をとっているため、
平行光線が各使用部品を通過する構成をとる場合に比べ
て、各使用部品での反射光のうち半導体レーザ1に戻る
光量が少ない。
In addition, in an optical isolator, light reflected back to the semiconductor laser from the ends of each used component such as a polarizer, lens, and magneto-optical element can cause characteristic deterioration, but in this example, (1) the lens 2 Since the configuration is such that the light emitted from the semiconductor laser 1 is condensed onto the optical fiber 3,
Compared to a configuration in which parallel light rays pass through each used component, the amount of light that returns to the semiconductor laser 1 among the reflected light from each used component is smaller.

(2)各使用部品には反射防止膜をほどこしているが、
Ca −Mg −Z r置換Gd3Ga5O12基板4
と(B iL u ) 3F e so1゜6との屈折
率の遣いによる境界面での反射は避けることができない
ため、(B iL u ) 3F e 60125をC
a −Mg −Zr置換Gd3Ga5O12基板4の片
面にのみ液相エピタキシャル成長し、成長面を半導体レ
ーザ1側にして配置している。上記の構成をとることに
より基板を研磨してとりさる工程をはふくことができる
うえ境界面での反射光は(BiLu)3F@601゜を
通過して半導体レーザ1に戻るため偏光方向を回転され
て、半導体レーザ1の偏光方向と直交するため雑音の原
因にはならない。
(2) Each part used is coated with an anti-reflection coating.
Ca-Mg-Zr-substituted Gd3Ga5O12 substrate 4
Since reflection at the interface between (B iL u ) 3F e so1゜6 and the refractive index cannot be avoided, (B iL u ) 3F e 60125 can be changed to C
Liquid phase epitaxial growth is performed only on one side of the a-Mg-Zr substituted Gd3Ga5O12 substrate 4, and the growth surface is placed on the semiconductor laser 1 side. By adopting the above configuration, it is possible to eliminate the process of polishing and removing the substrate, and the light reflected at the interface passes through (BiLu)3F@601° and returns to the semiconductor laser 1, so the polarization direction is rotated. Since the polarization direction is perpendicular to the polarization direction of the semiconductor laser 1, it does not cause noise.

以上の2点によって回避している。This can be avoided by the above two points.

次に本発明の別の実施例を説明する。Next, another embodiment of the present invention will be described.

(1)第2図に示すようにCa−Mg−Zr置換Gd3
Ga5O1゜基板4の両面に格子定数のミスマツチな(
B l 2. o L u 1. o F e s 0
12をそれぞれ60μm液相エピタキシャル成長させた
ものを磁気光学素子として用いた波長1.3μm用光ア
イソレータ。
(1) As shown in Fig. 2, Ca-Mg-Zr substituted Gd3
A mismatched lattice constant (
B l 2. o L u 1. o F e s 0
An optical isolator for a wavelength of 1.3 μm using a magneto-optical element obtained by liquid-phase epitaxial growth of each of No. 12 to 60 μm.

(2り  Ca −Mg −Z r置換Gd5Ga6o
1゜基板の片面に(BiLu)3Fe6o12を120
μm液相エビタキノヤル成長させたものを磁気光学素子
として用いた波長1.3μm用の光アイソレータ。
(2 Ca -Mg -Z r-substituted Gd5Ga6o
1゜(BiLu)3Fe6o12 on one side of the substrate
An optical isolator for a wavelength of 1.3 μm using a μm liquid-phase Evita crystal grown as a magneto-optical element.

(3) Sm3Fe5O12基板の片面に格子定数のミ
スマツチなくB11.3Lu1.7Fe5012を4’
7μm液相エピタキシャル成長させたものを磁気光学窓
子として用いた波長0.8μm用の光アイソレータ。
(3) 4' of B11.3Lu1.7Fe5012 on one side of the Sm3Fe5O12 substrate without mismatch of lattice constants.
An optical isolator for a wavelength of 0.8 μm using a 7 μm liquid-phase epitaxially grown magneto-optical window.

(4) Sm3Fe5O12基板の両面に格子定数のミ
スマツチな(Bl c 3Lu1.7 F eso12
をそれぞれ23゜7/1mずつ液相エピタキシャル成長
させたものを磁気光学素子として用いた波長0.8μm
用の光アイソレータ。この場合磁気光学素子成長に要す
る時間は46分であり、3インチの基板を用いたため■
記基板上に成長させたものから400コ以上の磁気光学
素子を得ることができだ。
(4) Mismatched lattice constants on both sides of the Sm3Fe5O12 substrate (Bl c 3Lu1.7 F eso12
were grown by liquid phase epitaxial growth of 23°7/1 m each and used as a magneto-optical element with a wavelength of 0.8 μm.
optical isolator for. In this case, the time required to grow the magneto-optical element was 46 minutes, and since a 3-inch substrate was used,
More than 400 magneto-optical elements could be obtained from those grown on the above substrate.

なお、本発明は上記実施例に示したもの以外であ−・で
も特許請求の範囲に記載の磁気光学素子を用いたもので
あれば、いかなる基板でも、いかなる成長条(牛でもよ
く、まだ光アイソレータの構成もいかなるものでもよい
It should be noted that the present invention does not apply to those shown in the above embodiments, but as long as it uses the magneto-optical element described in the claims, it can be applied to any substrate, any growth line (cow may be used, and still exposed to light). The isolator may have any configuration.

発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば、軽量。Effect of the invention As described above, according to the present invention, it is lightweight.

小型で量産性に富んだ高アイソレーシヨン比、低損失な
光アイソレータが得られた。
A compact, mass-producible optical isolator with high isolation ratio and low loss was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明における光アイソレータの一実施例の構
成を示す図、第2図は本発明の第2の実施例の構造を示
す断面図である。 1・・・・・・半導体レーザ、2・・・・・・レンズ、
3・・・・・・光ファイバ、4− ・−Ca −Mg 
−Z r置換Gd3Ga5O12基板、6・・・・・・
(BiLu)3Fe6012.6・・・・・・永久磁石
、7・・・・・・偏光子。
FIG. 1 is a diagram showing the structure of an embodiment of an optical isolator according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a second embodiment of the invention. 1... Semiconductor laser, 2... Lens,
3...Optical fiber, 4- ・-Ca-Mg
-Z r-substituted Gd3Ga5O12 substrate, 6...
(BiLu)3Fe6012.6...Permanent magnet, 7...Polarizer.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ガーネット結晶基板上にエピタキシャル成長され
た組成BixL_u_3_−_xFe_5O_1_2(
但し1.0≦x≦3.0)の磁性ガーネットよりなる磁
気光学素子を使ったことを特徴とする光アイソレータ。
(1) Composition BixL_u_3_-_xFe_5O_1_2(
An optical isolator characterized by using a magneto-optical element made of magnetic garnet (1.0≦x≦3.0).
(2)エピタキシャル成長が液相エピタキシャル成長で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ア
イソレータ。
(2) The optical isolator according to claim 1, wherein the epitaxial growth is liquid phase epitaxial growth.
(3)ガーネット結晶基板がGd_3Ga_5O_1_
2であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光アイソレータ。
(3) Garnet crystal substrate is Gd_3Ga_5O_1_
2. The optical isolator according to claim 1, wherein:
(4)ガーネット結晶基板がSm_3Fe_5O_1_
2であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光アイソレータ。
(4) Garnet crystal substrate is Sm_3Fe_5O_1_
2. The optical isolator according to claim 1, wherein:
(5)ガーネット結晶基板がCa−Mg−Zr置換Gd
_3Ga_5O_1_2であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の光アイソレータ。
(5) Garnet crystal substrate is Ca-Mg-Zr substituted Gd
_3Ga_5O_1_2 The optical isolator according to claim 1, wherein the optical isolator is made of _3Ga_5O_1_2.
(6)ガーネット結晶基板Nd_3Ga_3O_1_2
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光
アイソレータ。
(6) Garnet crystal substrate Nd_3Ga_3O_1_2
The optical isolator according to claim 1, characterized in that:
(7)光入射方向を基板の面方向と平行にしたことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の光アイソレータ。
(7) The optical isolator according to claim 1, wherein the direction of light incidence is parallel to the surface direction of the substrate.
(8)基板の片面にのみ磁性ガーネットをエピタキシャ
ル成長させた磁気光学素子を用い、上記磁気光学素子の
光源の光が入射する側を上記磁性ガーネットになるよう
に配したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光アイソレータ。
(8) A magneto-optical element in which magnetic garnet is epitaxially grown on only one side of a substrate is used, and the side of the magneto-optical element on which light from a light source is incident is arranged so that the magnetic garnet is on the side. Optical isolator according to range 1.
JP60020330A 1985-02-05 1985-02-05 optical isolator Pending JPS61179413A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02272419A (en) * 1989-04-13 1990-11-07 Hitachi Metals Ltd Small-sized two-stage optical isolator

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JPH02272419A (en) * 1989-04-13 1990-11-07 Hitachi Metals Ltd Small-sized two-stage optical isolator

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