JPS5846071A - 置換フエニルスルホニルウレア誘導体、その中間体、それらの製法、及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ａ新規な置換フェニルスルホニルウレア誘導体、
での中間体、それらの製法、及び除草剤に関する。

更に詳しくは、本発明の新規な置換フェニルスルホニル
ウレア誘導体ハ、 （式中、Ｘは酸素原子又は単結合、 Ｙｌ及び２は夫々、ハロゲン原子、低級アルキ”Ｍｉ、
低級アルコキシ基又はニトロ基、ここで％Ｒ１１及びＲ
２は夫々低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す。

ｍ５及びｎは夫々、θ、／又はコを示す。

ただし、ｍ、　ｎは同時に０を示すことはない。）で表
わされる。

マタ、上記一般式（［）の置換フェニルスルホニルフレ
ア誘導体は下記の方法により製造でき、本発明はその製
造方法にも関する。即ち、（式中、Ｘ、Ｙ、ｍ、及びｎ
は前記と同じ。）で表わされる化合物と、 一般式： ％式％（） （式中、Ｒｔｌｉ前記と同じ） で表わされる化合物とを、反応させることを特徴とする
、前記一般式（Ｄで表わされる置換フェニルスルホニル
ウレア誘導体の製造方法。

また不発明は、前記一般式（１）の置換フェニルスルホ
ニルウレア誘導体を有効成分として含有する除草剤にも
関する。

更に、不発明は紡記一般式（１）の置換フェニルスルホ
ニルウレア誘導体の製造中間体にも関する。

即ち、その中間体で・ある新規、置換ベンゼンスルホニ
ルイソシアネートハ、 （式中％　Ｘ％　Ｙ％　ｍ％及びｎは前記と同じ。）で
表わされる。

更にまた、上記一般式（Ｎ）の置換ベンゼンスルホニル
１ノシアネートは、下記の方法により製造でき、本発明
はその製造方法にも関する。即ち、（式中、ｘ、ｙ％２
％ｍ、及びｎは前記と同じ。）で表わされる置換ベンゼ
ンスルホンアミドと、ホスゲン（ＣＯＣｌ＊　）又は、
トリクロルメチルクロルホルメー）　（ＣＣ１５ＯＣＯ
Ｃ１）とを、ハイドロカルビル１ソシアネートの存在下
で反応させることを特徴とする、上記一般式（ＩＩ）の
置換ベンゼンスルホニル１ノシアネートの製造方法。

本発明出願前公知の米国特許第１１７２７４ｔ０３−号
、同第に／、４９７／ｑ号、および日本特許出願公開昭
和５２年第１２２３ｇ’１号には、（ここに、 ａｍおよびＲ６Ｆｉ独立的に水素、フッ素、臭素、沃素
、／−に炭素原子のアルキル、／〜す炭素原子のアルコ
キシ、ニトロ、トリフルオロメチル、シアノ、ＣＨａＳ
（０）。−またはＣＨａＣＨｉＳ（ｏ）ｎ−であり；融
は水素１．フッ素、塩素、臭素またはメチルでであり； ｆｈｔ；ｌ：水素、フッ素、臭素、／〜コ炭素原子のア
ルキルまたｉ／−コ炭素原子のアルコキシであり；ａｍ
は水素、メチル、塩素または臭素であυ；Ｒ９およびＲ
ＩＯは独立的に水素、メチル、塩素または臭素であり； ＷおよびＱ＃′ｉ、独立的に酸素または硫黄であり；ｎ
は０、ｌまたはコであり、 Ｘは水素、塩素、臭素、メチル、エテル、ｌ〜３炭素原
子アルコキシ、トリフルオロメチル、ＣＨａＳ−または
ＣＨｓＯＣＨｚ−であり；且つ２はメチルまたはメトキ
シであり； 但しここに： ａ）　　Ｒ１が水素以外のものであるときは％Ｒ３、Ｒ
４、Ｒ６およびＲフの中の少なくとも／は水素以外のも
のであり且りＲ３％　Ｒ４４Ｒ６およびＲ７の中の少な
くともコが水素でなければならない；ｂ）　　Ｒ，が水
素であり且つＲｓ％ＦＬ４、Ｒ６およびＲ７のすべてが
水素以外のものであるときは、Ｒａ、”４、Ｒ６および
Ｒ７のすべてが塩素またはメチルのどちらかでなければ
ならない：且つ Ｃ）　　ＲｓおよびＲ７が共に水素であるときは、Ｒ４
ｂＲ８またはＲ６の中の少なくとも／は水素でなければ
ならない；） を有する化合物または農薬として適するその塩が、除草
活性を有する旨、記載されている。

本発明者等ハ、＆換フェニルスルホニルウレア誘導体に
ついて、より優れた除草活性を有する新規な該誘導体を
求めるべく、試験研究を重ねた結果、比変前記一般式（
りで表わされる文献未記載の新規な置換フェニルスルホ
ニルウレア鋳導体が、上記一般式（Ｖ）の化合物には全
く見られない優れた選択的除草活性を有することを見い
だした。

すなわち、本発明の置換フェニルスルホニルウレア誘導
体は、上記一般式（Ｖ）の化合物が従来の除草剤に比し
、・かなり低薬量で除草効果を表わす一方で、稲に対し
ても、相当な薬害を呈するのに対し、全く稲に対し、薬
害を及はさず、且つ低薬量で、的確な優れた選択的除草
効果を表わす。

本発明の化合物は、特に水田雑草の発芽前土壌処理剤、
茎葉兼土壌処理剤として使用した場合、卓越した選択的
防除効力を示す。

本発明の化合物は安全性に優れ、かつ、卓越した除草活
性を発現し、巾広い除草スペクトルを有している。

例えば、水田雑草としては、 植物名　　　　ラテン名 双子葉植物 キカシグサ　Ｒｏｔａｌａ　１ｎｄｉｃａ　Ｋｏｅｈｎ
ｅアゼナ　　　Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ　Ｐｒｏｃｕｍｂｅ
ｎｓ　Ｐｈ１ｌｃｏｘチヨウジタデ　Ｌｕｄｗｉｇｉａ
　ｐｒｏｓｔｒａｔａ　Ｒｏｘｂｕｒｇｈヒルムシロ　
Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ　ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ　Ａ−
Ｂｅｎｎヒ　エ　　　　　　　　　　　　Ｅｃｈｉｎｏ
ｃｌ＋ｌｏａ　　ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ　　Ｂｅａｕｖ
−ｗａｒコナギ　　　Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ　ｖａｇｉ
ｎａｌｉｓ　Ｐｒｅｓｌ・マツバイ　　　Ｅｌｅｏｃｈ
ａｒｉｓ　ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ　Ｌ。

クログワイ　Ｅｌｅｏｃ、ｈａｒｉｓ　Ｋｕｒｏｇｕｗ
ａｉ　Ｏｈｗｉタマガヤツリ　　Ｃｙｐｅｒｕｓ　ｄｉ
ｆｆｏｒｍｉｓ　Ｌ。

ミズガヤツリ　　Ｃｙｐｅｒｕｓ　５ｅｒｏｔｉｎｕｓ
　Ｒｏｔｔｂｏｅｌウリカワ　　８ａｇｉｔｔａｒｉａ
　ｐｙｇｍａｅａ　Ｍｉｑ。

ヘラオモダカ　Ａｌｉｓｍａ　ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔ
ｕｍ　Ａ、Ｂｒ、　ｅｔ　Ｂｏｕｃｈｅホタル’ｌ　　
　５ｃｉｒｐｕｓ　ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ　Ｒｏｘｂｕｒ
ｇｈ　ｖａｒ。

等に除草活性が認められ、水稲に対して全く害作用が認
められない特徴を有する。

また畑地雑草としては、例えば、 植物名　　　　ラテン名 双子葉植物 タデ　　　　Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ　Ｓｐ。

アカザ　　　Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ　ａｌｂｕｍ　Ｌ
ｉｎｎａｅｕｓハコベ　　　８ｔｅｌｌａｒｉａ　ｍｅ
ｄｉａ　Ｖｉｌｌａｒｓスベリヒュ　Ｐｏｒｔｕｌａｃ
ａ　ｏｌｅｒａｃｐａ　Ｌｉｎｎａｅｕｓ。

単子葉植物 ヒエ　　　　Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ　ｃｒｕｓ−ｇａ
ｌｌｉ　Ｂｅａｕｖ、　ｖａｒ。

メヒシバ　　Ｄｉｇｉｔａｒｉａ　ａｄｓｃｅｎｄｅｎ
ｓ　Ｈｅｎｒ。

カヤツリグサ　　Ｃｙｐｅｒｕｓ　　１ｒｉａ　Ｌ−等
に除草活性が認められ、次のような作物には全く害作用
が認められない特徴を有する。

例えば、双子葉植物として、カラン、カラシナ、棉、人
参、豆類、馬鈴薯、ビート、カンラン等。

単子葉植物として、トウモロコシ、稲、カラス麦、大麦
、小麦、キビ、サトウキビ等を挙げることができる。た
だし、上述の植物の種類は、ラテン名で挙げた属（ｇｅ
ｎｕｓ　）の代表釣力例であると考えられたい。

しかし、本発明の活性化合物の適応性は、水田、畑地雑
草に対してのみに限定されるものではなく、１草等に有
害な雑草、および休耕地等の雑草等に対しても、有効で
ある。ここ゛でいう雑草という言葉は、最も広い意味に
おいて望ましくない場所に生えるすべての植物を意味す
る。

本発明の前記一般式（１）で表わされる置換フェニルス
ルホニルウ、レア誘導体は、下記の一般的な方法により
合成される。

（式中、Ｘ％Ｙ、Ｚ、８％ｍ１及びｎは前記と同じ。）
上記反応式において、 Ｘは具体的には酸素原子又は単結合を示し、Ｙ及び２は
、具体的には夫々独立して、フルオル、クロル、ブロム
、ヨード等のノλロゲン原子、メチエテル 辻ごフヘピル、１ンプロビル、ｒｌ　−（１ｓｏ−１３
ｅＣ−、又はｔｅｒｔ−）ブチル等の低級アルキル基、
前記と同様な低級アルキルを有する低級アルコキシ基又
はニトロ基、 Ｒは具体的にはピリミジン環又はｌ、３，５−トｌノア
ジン環において、そのψ位及び６位を夫々、前６己と同
様な低級アルキル基、及び／又は、前８己と同様な低級
アルコキシ基で置換されたコービＩＪミジル基又は／、
３．！；　−）リアジン−２−づル基を示す。

ｍ及びｎは具体的には、夫々独立して、０、／又Ｆｉコ
を示し、ただし１ｍ％ｎは同時にθであることはない。

上記反応式で示される前記一般式（［）の置換フェニル
スルホニルウレア誘導体の製造方法において、原料であ
る一般式（ＩＩ）の化合物の具体例としては例えば、 ５−メチル−ノーフェノキシベンゼンスルホニル１ンシ
アネート、 １ンシアネート、 等を挙げることができる。

また、同様に原料である一般式（ＩＩＩ）の化合物の具
体例としては、例えば、 ユーアミノーリーメトキシー乙−メチルピリミジン、 ニーアミノ−ｕ、ｌ）−ジメトキシピリミジン、コーア
ミノーリ、６−ジメテルビリミジン、ニーアミノ−に、
６−ジプロビルビ１ノミジン、等を挙げることかで色る
。

次に代表例を挙けて、具体的に上記製造方法を本発明の
前記一般式（１）化合物の製造方法は、望ましくは溶剤
または稀釈剤を用いて実施される。

このためにはすべての不活性溶剤、稀着（斉ｊは使用す
ることができる。

かかる溶剤ないし稀釈剤としては、脂肪族、環脂肪族お
よび芳香族炭化水素＠（場合によっては塩素化されても
よい）例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテ
ル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチ
レンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素、エチレン
フロラづドおよびトリークロルエチレン、クロルベンゼ
ン；その他−エーテル類例えば、ジエチルエーテル、メ
チルエチルエーテル、シー１ｓｏ−７’ロピルエーテル
、ジブチルエーテル、プロピレンオキサ１ド、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン；ケトン類例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチル−１ｓｏ−フ。

ロビルケトン、メチル−１ｓｏ−フ゛チルケトン；ニト
リル類例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ア
クリロニトリル；エステル類例えば、酢酸エチル、酢酸
アミル；酸アミド類例えば、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド；スルホン、スルホキシド類例えば
、ジメチルスルホキシド、スルホラン；および塩基例え
ば、ピリジン等を挙げることができる。

また、本発明の方法は触媒下で効率良く行うことができ
、斯る触媒としては例えば、／、ｑ−ジアザビシクロ［
２，２，２）オクタン等を挙げることができる。

本発明の方法は、広い温度範囲内において実施すること
ができる。一般には一２０℃と混合物の沸点との間で実
施され、望ましくは０〜７００℃の間で実施される。ま
た、反応は常圧の下で行うのが望ましいが、加圧または
減圧下で操作することも可能である。

前記一般式（ｎ）で表わされる置換ベンゼンスルホニル
イソシアネートは文献未記載の新規な化合物であり、且
つ、前記の如く、優れた選択的除草活性を有する前記一
般式（１）の置換フェニルスルホニルフレア誘導体の製
造中間体として有用なものである。

前Ｅ−一般式川）の置換ベンゼンスルホニルイソシアネ
ートは例えば、下記の方法により合成される。

（式中、Ｘ　ｓ　Ｙ　％　　Ｚ　ｂ　ｍ　ｓ　及びｎは
前記と同じ。）上記反応式において、ホスゲン（Ｃ０Ｃ
ｈ　）の代わりに、トリクロルメチルクロルホルメート
（ＣＣ１ａＯＣＯＣＩ　）を反応させることができる。

一般式（Ｉ［）ノｆｉｔ換ベンゼンスルホニルづンンア
ネートの製造原料でおる一般式（ＩＶ）の置換ベンゼン
スルホンアミドの具体例としては、例えば アミ　ド、 アミド、 ２−（０−トリクキシ）ベンゼンスルホンアミド、 Ｓ−メチルーコーフエノキシベンゼシスルホンアばド、 コーエトキシーターフェニルベンゼンスルホンアミ　ド
、 ミド°、 等を挙げることができる。

上記反応は、ノ・１ドロカルビル１ンシアネートの存在
下で行うことが必要であり、ここで、ノ・１ドロカルビ
ルの種類としては炭素原子数３〜ｇのアルキル基、炭素
原子’ｔｌ　！；　−ｇ　１７）　シフｏ　７　ルキｙ
ｖ基等を挙げることができ、その具体例としては、例え
ば、 ｎ−ブチル１ソシアネート、 ｎ−ヘキシル１ンシアネート、 シクロヘキシルイソシアネート 等を挙げることができる。

次に代表例を挙げて、具体的に上記、中間体の製造方法
を説明する。

ＱＳＯａＮＨ＊　”　”Ａ　ＣＣ１５ＯｃＯｃＩ上記製
造方法に必須のハイドロカルビルづソシアネートは反応
終了時に、回収することができ、従って、工業上、有利
である。

上記方法を実施するためには、前記したと同様な不活性
溶剤又は希釈剤を使用することができる。

また、本発明の方法は触媒下で効率良く行うことができ
、斯る触媒としては３級アミン例えば、トリエチルアミ
ン、ジメチルシクロヘキシルアミン、へり−ジアザビシ
クロ（２，２，２〕オクタン等を挙げることができる。

本発明の方法は、広い温度範囲内において実施すること
ができる。一般には一２０℃と混合物の沸点との間で実
施され、望ましくはｇθ〜／ＳＯ℃の間で実施される。

また、反応は常圧の下でおこなうのが望ましいが、加圧
または減圧下で操作することも可能である。

本発明の前記一般式（１）で表わされる化合物を、除草
剤として使用する場合、そのま＼直接水で希釈して使用
するか、または農薬補助剤を用いて農薬製造分野におい
て一般に行なわれている方法により、種々の製剤形態に
して使用することができる。これらの種々の製剤は、実
際の使用に際しては、直接そのま＼使用するか、または
水で所望濃度に希釈して′使用することができる。ここ
に言う、農薬補助剤は例えば、希釈剤（溶剤、増量剤、
担体）、界面活性剤（可溶化剤、乳化剤、分散剤、湿展
剤）、安定剤、固着剤、エーロゾ用噴射削、共力剤を挙
げることができる。

溶剤としては、水：有機溶剤；炭化水素類〔例えば、ｎ
−ヘキサン、石油エーテル、ナフサ、石油留分（パラフ
１ン蝋、灯油、軽油、中油、重油）、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン９３、ノ＼ロゲンイヒ炭化水素類〔例えは
、クロルメチレン、四基イヒ炭素、トリクロルエチレン
、エチレンクＱ５’ｌト”、二車化エチレン、クロルベ
ンゼン、クロロホルム〕、アルコール類、（ｆｌＪｔは
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、エチレングリコール〕、エーテル類、〔例えは
、エチルエーテル、エチレンオキシド、ジオキサン〕、
アルコールエーテル類、（ｆｌＪ、ｔハエチレンクＩＪ
　コ−ルモノメチルエーテル〕、ケトン類、〔例えは、
アセトン、１ソ承ロン〕、エステル類、〔例えは酢酸エ
チル、酢酸アミル〕、アミド類、〔例えば、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド°〕、スルホキシド
類、〔例えは、ジメチルスルホ＊　’／ド〕を挙げるこ
とができる。

増量剤または担体としては無機質粉粒体；消石灰、マグ
ネシウム石灰、石膏、炭酸カルシウム、珪石、パーライ
ト、軽石、方解石、珪藻土、無晶形酸化ケイ素、アルミ
ナ、ゼオン１ト、粘土鉱物（例エバ、ハイロフ１う１ト
、滑石、モンモリロナ１ト、バ１デラ１ト、バーミキュ
ラ１ト、カオリナ１ト、雲母）：植物性粉粒体；穀粉、
澱粉、加工デンプン、砂糖、ブドウ糖、植物茎幹破砕物
：合成樹脂粉粒体；フェノ−７Ｌ／樹脂、尿素樹脂、塩
化ビニル樹脂を挙げることができる。

界面活性剤としては、アニオン（陰１オン）界面活性剤
；アルキル硫酸エステル類、〔例えばラウリル硫酸ナト
リウム〕、了リールスルホン酸類、〔例えばアルキルア
リールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム〕コノ−り酸塩類、ホＩＪエチレングリコール
アルキル了す−ルニーｆル硫酸エステル塩類：カチオン
（陽１オン）界面活性剤；アルキルアミン類、〔例えば
、ラウリルアミン、ステアリルトリメチルアンモニウム
フロラ１ド、アルキルジメチルベンジル了ンモニウムク
ロラ１ド〕、ポリオキシエチレンアルキルアミン類：非
１オン界面活性剤；ポリオキシエチレングリコールエー
テル類、〔例えば、ポリオキシエチレンアルキルアリー
ルエーテル、およびその８合物）　、ポリオキシエチレ
ングリコールエステル類、［例えば、ポリオキシエチレ
ン脂肪酸エステル〕、多価アルコールエステル類、（例
えば、ポリオキシエチレンンルピクンモノラウレート〕
二両性界面活性剤、等を挙げることができる。

その他、安定剤、固着剤〔例えば、農業川石けん一カゼ
イン石灰、アルギン酸ソーダ、ポリビニルアルコール（
ＰＶＡ）　、酢酸ビニル系接着剤、アクリル系接着剤〕
、効力延長剤、分散安定側〔例えば、カゼ１ン、トラガ
カント、カルホキ・ンメチルセルロース（ＣＭＣ）、ボ
ｌＪビニルアルコール（ＰＶＡ））、共力剤等を挙げる
ことができる。

本発明の化合物は、一般に農薬製造分野で行なわれてい
る方法により種々の製剤形態罠製造することができる。

製剤の形態としては、乳剤二油剤：水和剤：水溶剤：懸
濁剤：粉剤：粒剤：粉粒剤：カプセル剤等を挙げること
ができる。

本発明の除草剤は、前記活性成分を０．００　／〜１０
０重量％、好ましくはｏ、ｏ　０５〜９５重ｉｔ％含有
することができる。

実際の使用に際しては、前記した種々の製剤および散布
用調製物（ｒｅａｄｙ−ｔｏ−ｕｓｅ−ｐｒｅｐａｒａ
ｔ　ｉｏｎ　）中の活性化合物含量は、一般に０．０７
〜９３重量％、好ましくは０．０５〜６０重量襲の範囲
が適当である。

これら活性成分の含有量は、製剤の形態および施用する
方法、目的、時期、場所および雑草の発生状況等によっ
て適当に変更できる。

本発明の化合物は、更に必要ならば、他の農薬、例えば
、殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、抗ウィルス剤
、除草剤、植物生長調整剤、肪引剤、〔例えば、有機燐
酸エステル系化合物、カーバメート系化合物、ジテオ（
またはチオール）カーバメート系化合物、有機塩素系化
合物、ジニトｏ系化合物、有機硫黄または金属系化合物
、抗生物質、置換ジフェニルエーテル、系化合物、尿素
系化合物、トリアジン系化合物〕または／および肥料環
を共存させることもできる。

また特にそのほか、他の活性成分、例えは、□チオール
カーバメート、 Ｓ−エテル−Ｎ、Ｎ−ヘキサメナレンテオールカーバメ
ート、 オエート、 シクロへキシル−Ｎ−メチルアばド、 ドロ１ンドリド、 ／Ｉ、　Ｊ、　Ｊ′、ψ′−テトラヒドロキノリド、メ
ーチル了二す　ド、 ペンゾテアゾールーコー１ルオキシ酢酸Ｎ−メチルアニ
リド、 ベンゾオキサン°−ルー２−１ルオキシ酢鈑Ｎ−エテル
アニリド、 チル−Ｎ　−，２’−メトキシアニリド、ベンゾオキサ
ゾール−２−１ルオキシｒｎｗＮ−メチルーＮ　−、，
２’−メトキシアニリド、二リド、 ベンゾオキサン゛−ルー２−１ルオキシｆｆ１１Ｎ　−
メチル−Ｎ−ｒ−Ｍンダニル了ミド、 等を適量加えることにより、巾広い除草スペクトルとよ
り的確な防除効果を獲得すると共に、これらの混合によ
る相乗効果も期待される。

本発明の前記活性成分を含有する種々の製剤または散布
用調製物（ｒｅａｄｙ−ｔ　ｏ−ｕｓｅ−ｐｒｅｐａｒ
ａ　ｔ　ｉｏｎ　）は農薬製造分野にて通常一般に行な
われている施用方法、散布、〔例えば液剤散布（噴霧）
、ミスティング（ｍｉｓｔｉｎｇ）、アトマイズ１ング
（ａｔｏｍｉｚｉｎｇ）、散粉、散粒、水面施用、ボア
リング（ｐｏｕｒｉｎｇ）　］　：土壌施用、〔例えば
、土壌混入、スプリンクリング（ｓｐｒｉｎｋｌ　ｉｎ
ｇ））等により行なうことができる。またいわゆる超高
濃度少量散布法（ｕｌｔｒａ−ロｏｗ−ｖ　ｏ　ｌ　ｕ
ｍｅ　）により使用することもできる。この方法におい
ては、活性成分を１００チ含有することが可能である。

単位面積当りの施用量は、／ヘクタール当り活性化合物
として約０．７〜３Ｋｆ、好ましくは０．２〜／Ｋｆが
使用される。しかしながら特別の場合には、これらの範
囲を超えることが、または下まわることが可能であり、
また時には必要でさえある。

本発明は活性成分として前記一般式（１）の化合物を含
Ａ１且つ希釈剤（溶剤および／または増量剤および／ま
たは担体）および／または界面活性剤、更に必要ならば
、例えは安定剤、固着剤、共力剤を含む除草組成物が提
供される。

更に、本発明は雑草および／またはそれらの生育個所に
前記一般式（［）の化合物を単独に、または希釈剤（溶
剤および／または増量剤および／または担体）および／
または界面活性剤、更に必要ならば、安定剤、固着剤、
共力剤とを混合して施用する雑草防除方法が提供さｔ、
る。

次に実施例により不発明の内容を具体的に説明するが、
本発明はこれのみに限定されるべきものではない。

実施例／（水和剤） 本発明化金物屋／、ｌＳ部、粉末珪藻土と粉末クレーと
の混合物（／：！ｒ）、ＫＯ部、アルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、２部、アルキルナフタレンスルホン
酸ナトリウムホルマリン綜合物、３ｓを粉砕混合し、水
和剤とする。これを水で希釈して、雑草および／または
、それらの生育個所に噴霧滴下処理する。

実施例２（乳剤） 本発明化合物４２．７０部、ジメチルホルムアミド、７
５部、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、
ｒｓ、アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム、７部を
混合攪拌して乳剤とする。

これを水で希釈して、雑草および／または、それらの生
育個所に噴霧滴下処理する。

実施例３（粉剤） 本発明化合物Ａ３、一部、粉末クレー、９ｇ部を粉砕混
合して粉剤とする。これを雑草および／または、それら
の生育個所に散粉する。

実施例す（粉剤） 本発明化合物Ａμ、　　／、、！ｉ’部％１ソプロビル
ノ１１ドロゲンホスフエート（ＰＡＰ）　、θ、夕部、
粉末クレー％９ｇ部を粉砕混合して粉剤とし、雑草およ
び／または、それらの生育個所に散粉する。

実施例５（粒剤） 本発明化合物Ａ、！−，／θ部、ベントナ１ト（モンモ
リロナイト）、３０部、タルク（滑石）、！；ｇ部、リ
グニンスルホン酸塩、２部の混合物に、水、２５部を加
え、良く捏化し、押し出し式造粒機により、１０〜すθ
メツシュの粒状として、ヴ０〜５０℃で乾燥して粒剤と
する。これを雑草および／またはそれらの生育個所に散
粒する。

実施例６（粒剤） ０・２〜２ｗｍに粒径分布を有する粒土鉱物粒、９５部
を回転混合機に入れ、回転下、有機溶剤に溶解させた本
発明化合物ムＡ、　、Ｓ一部を噴霧し均等にしめらせた
ｖｋμ０−３０℃で乾燥して粒剤とする。

これを雑草および／またはそれらの生育個所に散粒する
。

文献によりすでに公知の類似な構造の活性化合物及び同
様な活性型の化合物と比較した際、本発明による新、規
化合物は、効果が実質的に改善されたこと、並びに温血
動物に対して毒性が非常に低いことに特徴があり、従っ
て該化合物は非常にオ「用価値が高い。

本発明の活性化合物の予想以上にすぐれた点及び著しい
効果を、種々の雑草に対して使用した以下の試験結果か
ら認めることができる。

試験例１ 水田雑草に対する湛水下茎葉兼土壌処理試験（ボット区
数） 活性化合物の調製 担体ニア七トン３重量部 乳化剤：ペンジルオキシポリグリコールエーテル１重量
部 活性化合物の調合剤は、７重量部の活性化合物と上述し
た分量の担体および乳化剤とを混合し、乳剤として得ら
れる。その調合剤の所定薬量を、水で希釈して調製する
。

試験方法 ／／！ｒ０００アールのワグネルポットに水田土壌を充
填し、２〜３葉期（草丈的１０ｃｍ）の水稲草の種子及
びマツパ１の小片及びミズガヤツリ、クリカワの塊茎を
接種し、湿潤状態に保った。ノビエがａ葉期前後に生育
した時（接種後約７〜９日）約６備に湛水し、本発明化
合物を乳剤の形態にして所定量のピペットにて処理した
。処理後１日２〜３　ｃｍの割合で２日間漏水処理し、
その後は約３　ｃｍの湛水状態を保ち、薬剤処理９週間
口に除草効果、薬害の程度を次の基準によりθ〜１０の
段階に類別評価した。

除幕効果の評価 ｌＯ：無処理区に対する殺草″”４ｓ　　１００％Ｃ児
全枯死）９：　　　　　　Ｉ　　　　　　　　　９０’
！６以上７００％Ｍ１、ｇ：　　　　　’　　　　　　
　　ｇＯＴｏｚ　　　９０ｆｂｚ７：　　　　　ｌ　　
　　　　　７θＴｏｚｇＯ’４’６：　　　　　　＃　
　　　　　　　６０％　ｌ　　７θチ　１５：　　　　
　　＃　　　　　　　　！；０％ｉ　　　ｂＯＴｏｌダ
ニ　　　　　ｌ　　　　　　　リ０チ　、　５０％　Ｉ
２　：　　　　　ｚ　　　　　２　（）％　、３０％Ｎ
／：　　　　　＃　　　　　１（）チ　コ。％ｌＯ：　
　　　　　　＃　　　　　　　１　（７チ未満（除草効
果なし）薬害の評価 １０　無処理区に対する薬害率　９ｏ％以上（致命的損
傷）”　　　　　　　ｇｏ％以上９ｏ％未満ｇ　　　　
　　　’　　　　　　　７０％　１ｇθ％　〃”　　　
　　　　６０’１６ｚ７（）％　１１’　　　　　　　
　　　　　　　ｇｏ％　１６０％　　＃ｓ　　　　　　
ｌ　　　　　　ＶθＴｏ　　ｚ　！ｒＱｔ１６　　＃Ｉ
Ｉ　　　　　　　　　　　　　　３０’！６　１４ｔＯ
％　Ｉ３　　　　　　　　　　　　　コ。％　１３０％
　　１２　　　　　　　　　　　　　１０％　ｌコ。％
　ｌ／　　　　　　ｌ　　　　　　　θ越ＩＱ％未満Ｑ
　　　　　　　ｌ　　　　　　　　ｏ％（薬害なし）試
験結果を第１表に示す。

第１表 註） ｉ、化合物Ａは後記合成例、第３表および第９表と同じ
。

ｉｉ・　雑草の欄の記号Ａ、Ｂ％Ｃ，Ｄ％Ｅ、Ｆ％Ｇ。

Ｈは下記の雑草を示す。

Ａ：ノビエ、Ｂ：マツパ１、Ｃ：カヤツリグサ、Ｄ：ホ
タル１、Ｅ：コナギ、Ｆ：広葉雑草（アゼナ、キガシグ
サ、ミゾハコベ婢）、Ｇ：ミズガヤツリ、Ｈ：ウリカワ １１１・　比較Ｖ−／： Ｎ−、ｌ−クロルフェニルスルホニル＋−Ｎ’　−（グ
ーメトキシ−６−メへルー八３，５１°リアジン−２−
１ル）ウレア （特開昭！；２−／コ２３ｇ（１号記載化合物）尚、化
合物ＡＫ、４〜／！；、／９．２／、ユリ、２ｓ％２乙
（後記、第３表及び第ダ表と同じ。）も、上記試験結果
と同様に、イネに対して、全く薬害を呈さす、優れた選
択的除草活性を有することを確認した。

次に合成例を示し、本発明の前記一般式（■）で表わさ
れる製造中間体並びに、その中間体を原料として合成さ
れる前記一般式（［）で表わされる置換フェニルスルホ
ニルウレア誘導体の製造方法を具体的に述べる。

合成例１（中間体） ２−　Ｃ２−１０ルフエノキシ）ベンゼンスルポンアミ
ド／　／、＠　９％　ｎ−ブチル１ンシアネートグｔ、
／ｌグージアザビシクロ〔コ、２．２”Ｊオクタン０．
５２をキシレンｇｏａｌに加えて、コ時間攪拌下に加熱
還流する。次に内温を／、２５ＣＫ下げ、トリクミルメ
チルクロルホルメートＡＰをキシレン／Ｓ１に溶かした
溶液を、７２０〜７２５℃で一時間に渡って上記溶液に
滴下する。滴下後、一時間加熱する。溶液を冷却し、不
溶物を戸別して、溶媒を留去後、蒸留すると、目的物で
ある２御（２−クロルフェノキシ）ベンゼンスルホニル
インシアネート９．３ｆが得られる。ｂ、ｐ、　／す５
〜ｉｔｉｔｇｃ／　０−３　ｓｉ＋Ｈｇ　０ 合成例２（中間体） 下記第２表に示す合成原料を用いるほかは、上記合成例
１とほぼ同様に行って、下記第２表に示す本発明の一般
式（ＩＩ）で表わされる置換ベンゼンスルホニル１ンシ
アネートを合成した。

（以下余白） 合成例８ ２−Ｃ２−クロルフェノキシ）ベンゼンスルホニル１ン
シアネート３．７２を、キシレン／３−に溶解する。こ
の溶液を、ニーアミノ−Ｖ−メトキシ−６−メチルピリ
ミジン／、３９　ｆをアセトニトリル／３ＨＩＶＣ懸濁
させた溶液に、攪拌しながら滴下する。滴下後、この溶
液を、１時間加熱還流し、その後、室温で一昼夜放置す
る。生成した結晶を戸数すると、目的物であるＮ−２−
（２−クロルフェノキシ）フェニルスルホニル、Ｎ’−
（＜＜−メトキシ−６−メチル−ニーピリミジル）ウレ
アＬ、？　ｆが得られる。

ｍ−ｐ−２／　４〜２２０℃ 合成例４ 下記、第３表に示す合成原料を用いるほかは、上記合成
例３と同様に行って、下記、第３表に示す本発明の一般
式（１）で表わされる置換フェニルスルホニルウレア誘
導体を合成した。

（以下余白） 合成例５ 前記合成例と・はぼ同様な方法により、下掲第Ｖ表に示
した本発明の一般式（１）で表わされる置換フェニルス
ルホニルウレア誘導体力ｌうｔｉ、り。

第９表 第９表（続） 第ｑ表（続） 〔註〕上掲表の見方としては、ムロは）紀の化合物をボ
す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （式中、Ｘは酸素原子又は単結合、 Ｙｌ及び２は夫々、ハロゲン原子、低級アルキル基、低
   級アルコキシ基又はニトロ基、ここで、Ｒ”、及びＲ２
   は夫々低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す。 ｍ、及びｎは夫々、０、ｌ又はコを示す。 ただし％ｍ％ｎは同時に０を示すことはない。）で表ワ
   される置換フェニルスルホニルウレア８導体。 で表わされる特許請求の範囲第１項記載のＮ−（２−Ｃ
   ２−クロルフェノキシ）フェニルスルホニル］、Ｎ’−
   （ｕ−メトキシ−６−メテルーコーピリミジル）ウレア
   。 （式中、Ｘは酸素原子又は単結合、 Ｙ、及び２は夫々、ハロゲン原子、低級アルキル基、低
   級アルコキシ基又はニトロ基、ｍ５及びｎは夫々、０、
   ／又はコを示す。 ただし、ｍ、ｎｔ′ｉ同時にθを示すことはない。）で
   表わされる化合物と、 一般式： ここで　ｇｌ及びＲ２は夫々、低級アルキル基又は低級
   アルコキシ基を示す。） で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする、
   一般式： （式中、ｘ、ｙ％　Ｒ，ｍ及びｎは前記と同じ。）で表
   わされる置換フェニルスルボニル−レア０導体の製造方
   法。 （４）一般式： （式中、Ｘｔｊ酸素原子又は単結合、 Ｙｌ及び２は夫々、ハロゲン原子、低級アルキル基、低
   級アルコキシ基又はニトロ基、ココで、Ｒ１、及びａｔ
   は夫々、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す。 ｍ、及びｎは夫々、ｏｌ　／又はコを示す。 ただし、ｍ、ｎは同時にθを示すことはない。）で表わ
   される置換フェニルスルボニルウレア誘導体を有効成分
   として含有する除草剤。 （５）　　一般式： （式中、Ｘは酸素原子又は単結合、 Ｙ、　及ＵＺは夫々、ハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級アルキル基又はニトロ基、 ｍ、及ＵｎＦｉ夫々、ｏｌ　／又はコを示す。 ただし、ｍ％ｎは同時に。を示すことはない。）テ表ワ
   サれる置換ベンゼンスルホニルインシアネート。 （式中、Ｘは酸素原子又は単結合、 Ｙｌ及び２は夫々、ハロゲン原子、低級アルキル基、低
   級アルコキシ基又はニトロ基、ｍｌ及びｎは夫々、０、
   ｌ又は−を示す。、ただし、ｍ％ｎは同時にＱを示すこ
   とはない。）で表わされる置換ベンゼンスルホンアミド
   と、ホスゲン（ＣＯＣＩｓ）又は、トリクロルメチルク
   ロルホルメート（ｃｃｔ、ｏｃｏｃｔ　）とを、ハイド
   ロカルビルイソシアネートの存在下で反応させることを
   特徴とする、一般式： （式中、ｘ、ｙ、ｚ、ｍ及びｎは前記と同じ。）で表わ
   される置換ベンゼンスルホニルイノシアネートの製造方
   法。