JPH1180362A - シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法 - Google Patents
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 12
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 8
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 7
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 8
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 17
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 abstract description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- -1 heptadecafluorooctyl group Chemical group 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 2-butyne Chemical compound CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKTDTMONXHODTI-UHFFFAOYSA-N 2-pentyne Chemical compound CCC#CC NKTDTMONXHODTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical compound CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPRVMIZFRCAGC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-methylbenzene Chemical compound CC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F SXPRVMIZFRCAGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyne Chemical compound CCCCC#C CGHIBGNXEGJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004809 1-methylpropylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- PPWNCLVNXGCGAF-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-yne Chemical compound CC(C)(C)C#C PPWNCLVNXGCGAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USCSRAJGJYMJFZ-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-butyne Chemical compound CC(C)C#C USCSRAJGJYMJFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical compound C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIFXYFOVERKZLG-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-(2-phenylethenyl)silane Chemical compound C[SiH](Cl)C=CC1=CC=CC=C1 ZIFXYFOVERKZLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- GZTNBKQTTZSQNS-UHFFFAOYSA-N oct-4-yne Chemical compound CCCC#CCCC GZTNBKQTTZSQNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical compound CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 229960003986 tuaminoheptane Drugs 0.000 description 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 分子量の調節が容易であるシルフェニレンシ
ルアルキレンポリマーの新規な製造方法を提供する。 【解決手段】 (A)式: 【化1】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。
ルアルキレンポリマーの新規な製造方法を提供する。 【解決手段】 (A)式: 【化1】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はシルフェニレンシル
アルキレンポリマーの製造方法に関し、詳しくは、分子
量の調節が容易であるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーの製造方法に関する。
アルキレンポリマーの製造方法に関し、詳しくは、分子
量の調節が容易であるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】シルフェニレンシルアルキレンポリマー
は、光ファイバ被覆材や耐熱性材料として広く使用され
ている。そしてその製法としては、一般に、式:
は、光ファイバ被覆材や耐熱性材料として広く使用され
ている。そしてその製法としては、一般に、式:
【化9】 で示されるような両末端にアルケニル基を有するジシリ
ルフェニレンと、式:
ルフェニレンと、式:
【化10】 で示されるような両末端にケイ素原子結合水素原子を有
するジシリルフェニレンとを白金系触媒存在下で付加反
応させる方法が使用されている(特開平6−28730
8号公報、特開平4−84108号公報および特開平4
−325524号公報参照)。しかしこの方法では、原
料のジシリルフェニレンのモル比が生成するシルフェニ
レンシルアルキレンポリマーの分子量に直接影響し、こ
れらの仕込み比が等モルでないと高分子量のポリマーが
得られないため、生成するポリマーによって仕込み比を
厳密に調整しなければならず、分子量の調節が難しいと
いった欠点があった。一方、式:−Me2Si−Ph−
Me2Si−O−(式中、Meはメチル基を表し、−P
h−は置換もしくは非置換のフェニレン環を表してい
る。)で表される主鎖を有するシルフェニレンシロキサ
ンポリマーも耐熱性材料として知られている。しかし、
このポリマーを製造するには、式:Cl−Me2Si−
Ph−Me2Si−Cl(式中、Meおよび−Ph−は
前記と同じである。)で表されるモノマーを加水分解
し、次いで縮重合する方法が知られているが、これはプ
ロセスが長く収率が低いという欠点があるため、実用化
が進んでいない。
するジシリルフェニレンとを白金系触媒存在下で付加反
応させる方法が使用されている(特開平6−28730
8号公報、特開平4−84108号公報および特開平4
−325524号公報参照)。しかしこの方法では、原
料のジシリルフェニレンのモル比が生成するシルフェニ
レンシルアルキレンポリマーの分子量に直接影響し、こ
れらの仕込み比が等モルでないと高分子量のポリマーが
得られないため、生成するポリマーによって仕込み比を
厳密に調整しなければならず、分子量の調節が難しいと
いった欠点があった。一方、式:−Me2Si−Ph−
Me2Si−O−(式中、Meはメチル基を表し、−P
h−は置換もしくは非置換のフェニレン環を表してい
る。)で表される主鎖を有するシルフェニレンシロキサ
ンポリマーも耐熱性材料として知られている。しかし、
このポリマーを製造するには、式:Cl−Me2Si−
Ph−Me2Si−Cl(式中、Meおよび−Ph−は
前記と同じである。)で表されるモノマーを加水分解
し、次いで縮重合する方法が知られているが、これはプ
ロセスが長く収率が低いという欠点があるため、実用化
が進んでいない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解消するために鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、本発明の目的は、分子量の調節が容易である
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの新規な製造方
法を提供することにある。
点を解消するために鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、本発明の目的は、分子量の調節が容易である
シルフェニレンシルアルキレンポリマーの新規な製造方
法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)式:
【化11】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
一般式(X):
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
一般式(X):
【化12】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであり、
R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基またはアルキ
レンオキシアルキレン基であり、xは1以上の整数であ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法、(A)式:
R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基またはアルキ
レンオキシアルキレン基であり、xは1以上の整数であ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法、(A)式:
【化13】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを、(B)ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、(C)式:
る。)で表されるジシリルフェニレンを、(B)ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、(C)式:
【化14】 (式中、Rおよび−Ph−は前記と同じである)で表さ
れるジシリルフェニレンを重合開始剤または重合停止剤
として用いて、ヒドロシリル化重合することを特徴とす
る、一般式(Y):
れるジシリルフェニレンを重合開始剤または重合停止剤
として用いて、ヒドロシリル化重合することを特徴とす
る、一般式(Y):
【化15】 (式中、R,R2,−Ph−およびxは前記と同じであ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法、および、(A)式:
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法、および、(A)式:
【化16】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを、(B)ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、(D)炭素−炭素三重結
合を1個有する炭素原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化
水素化合物、炭素−炭素二重結合を2個有する炭素原子
数3〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニ
ルエーテル、または、式:
る。)で表されるジシリルフェニレンを、(B)ヒドロ
シリル化反応用触媒の存在下、(D)炭素−炭素三重結
合を1個有する炭素原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化
水素化合物、炭素−炭素二重結合を2個有する炭素原子
数3〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニ
ルエーテル、または、式:
【化17】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤また
は重合停止剤として用いて、ヒドロシリル化重合するこ
とを特徴とする、一般式(Z):
る。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤また
は重合停止剤として用いて、ヒドロシリル化重合するこ
とを特徴とする、一般式(Z):
【化18】 (式中、R,R1,R2,−Ph−およびxは前記と同じ
である。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーの製造方法に関する。
である。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーの製造方法に関する。
【0005】
【発明の実施の形態】最初に、一般式(X):
【化19】 で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマーの製
造方法について説明する。
造方法について説明する。
【0006】本発明の製造方法に使用される(A)成分
のジシリルフェニレンは、式:
のジシリルフェニレンは、式:
【化20】 で表される。上式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない
炭素原子数1〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水
素基であり、具体的には、メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル
基;フェニル基,トリル基,キシリル基等のアリール
基;ベンジル基,フェネチル基等のアラルキル基;トリ
フルオロプロピル基,ノナフルオロヘキシル基,ヘプタ
デカフルオロオクチル基等のフッ化炭化水素基が例示さ
れる。R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基または
アルケニルオキシアルキレン基である。かかるアルケニ
ル基としては、ビニル基,アリル基,ブテニル基,ヘキ
セニル基,オクテニル基が例示され、また、アルケニル
オキシアルキレン基としては、ビニルオキシエチレン
基,ビニルオキシプロピレン基,アリルオキシエチレン
基,アリルオキシプロピレン基,アリルオキシブチレン
基が例示される。−Ph−は置換もしくは非置換のフェ
ニレン環を表し、具体的には、p−フェニレン、m−フ
ェニレン、o−フェニレン、2−メチル−1,4−フェ
ニレン、2−メトキシ−1,4−フェニレンが例示され
る。これらの中でも、p−フェニレンが好ましい。
炭素原子数1〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水
素基であり、具体的には、メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル
基;フェニル基,トリル基,キシリル基等のアリール
基;ベンジル基,フェネチル基等のアラルキル基;トリ
フルオロプロピル基,ノナフルオロヘキシル基,ヘプタ
デカフルオロオクチル基等のフッ化炭化水素基が例示さ
れる。R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基または
アルケニルオキシアルキレン基である。かかるアルケニ
ル基としては、ビニル基,アリル基,ブテニル基,ヘキ
セニル基,オクテニル基が例示され、また、アルケニル
オキシアルキレン基としては、ビニルオキシエチレン
基,ビニルオキシプロピレン基,アリルオキシエチレン
基,アリルオキシプロピレン基,アリルオキシブチレン
基が例示される。−Ph−は置換もしくは非置換のフェ
ニレン環を表し、具体的には、p−フェニレン、m−フ
ェニレン、o−フェニレン、2−メチル−1,4−フェ
ニレン、2−メトキシ−1,4−フェニレンが例示され
る。これらの中でも、p−フェニレンが好ましい。
【0007】このような(A)成分のジシリルフェニレ
ンとしては、下記式で示される化合物が例示される。下
式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル基を表
し、C6H5−はフェニル基を表している。
ンとしては、下記式で示される化合物が例示される。下
式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル基を表
し、C6H5−はフェニル基を表している。
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【0008】本発明の製造方法に使用される(B)成分
のヒドロシリル化反応用触媒は、本発明の製造方法にお
いて、(A)成分のジシリルフェニレンのヒドロシリル
化重合を促進してシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーを製造するための触媒である。このような(B)成分
は特に限定されず、例えば、白金系触媒,ロジウム系触
媒,パラジウム系触媒,有機過酸化物が挙げられる。こ
れらの中でも、ヒドロシリル化重合を著しく促進するこ
とから白金系触媒であることが好ましい。好ましい白金
系触媒として具体的には、白金担持のシリカ微粉末,白
金担持のカーボン粉末,塩化白金酸,塩化白金酸のアル
コール溶液,白金とビニルシロキサンとの錯体,白金と
オレフィンとの錯体が例示される。また、本発明の製造
方法において(B)成分の添加量は触媒量であり特に限
定されないが、(A)成分100万重量部に対して0.
1〜500重量部の範囲であることが好ましい。
のヒドロシリル化反応用触媒は、本発明の製造方法にお
いて、(A)成分のジシリルフェニレンのヒドロシリル
化重合を促進してシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーを製造するための触媒である。このような(B)成分
は特に限定されず、例えば、白金系触媒,ロジウム系触
媒,パラジウム系触媒,有機過酸化物が挙げられる。こ
れらの中でも、ヒドロシリル化重合を著しく促進するこ
とから白金系触媒であることが好ましい。好ましい白金
系触媒として具体的には、白金担持のシリカ微粉末,白
金担持のカーボン粉末,塩化白金酸,塩化白金酸のアル
コール溶液,白金とビニルシロキサンとの錯体,白金と
オレフィンとの錯体が例示される。また、本発明の製造
方法において(B)成分の添加量は触媒量であり特に限
定されないが、(A)成分100万重量部に対して0.
1〜500重量部の範囲であることが好ましい。
【0009】本発明の製造方法において各成分を添加す
る順序は任意であり、例えば、(A)成分と(B)成分
の混合系を加熱攪拌する方法,(A)成分を加熱攪拌し
ながら、この系に(B)成分を徐々に添加する方法,
(B)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分を
徐々に添加する方法等が挙げられる。このようにして
(A)成分を(B)成分の存在下にヒドロシリル化重合
することにより、一般式(X):
る順序は任意であり、例えば、(A)成分と(B)成分
の混合系を加熱攪拌する方法,(A)成分を加熱攪拌し
ながら、この系に(B)成分を徐々に添加する方法,
(B)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分を
徐々に添加する方法等が挙げられる。このようにして
(A)成分を(B)成分の存在下にヒドロシリル化重合
することにより、一般式(X):
【化25】 で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマーを得
ることができる。上式中、R,R1および−Ph−は前
記と同じである。R2は炭素原子数2〜10のアルキレ
ン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、アル
キレン基として具体的には、エチレン基,メチルエチレ
ン基,エチルエチレン基,プロピルエチレン基,ブチル
エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,1−メチルプ
ロピレン基,ペンチレン基,ヘキシレン基,ヘプチレン
基,オクチレン基,ノニレン基,デシレン基等の直鎖ま
たは分岐鎖状のアルキレン基が例示される。これらの中
でも、エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,ヘキシ
レン基が好ましい。アルキレンオキシアルキレン基とし
ては、エチレンオキシプロピレン基,エチレンオキシブ
チレン基が例示される。xは1以上の整数であるが、通
常、1〜1,000の範囲である。
ることができる。上式中、R,R1および−Ph−は前
記と同じである。R2は炭素原子数2〜10のアルキレ
ン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、アル
キレン基として具体的には、エチレン基,メチルエチレ
ン基,エチルエチレン基,プロピルエチレン基,ブチル
エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,1−メチルプ
ロピレン基,ペンチレン基,ヘキシレン基,ヘプチレン
基,オクチレン基,ノニレン基,デシレン基等の直鎖ま
たは分岐鎖状のアルキレン基が例示される。これらの中
でも、エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,ヘキシ
レン基が好ましい。アルキレンオキシアルキレン基とし
ては、エチレンオキシプロピレン基,エチレンオキシブ
チレン基が例示される。xは1以上の整数であるが、通
常、1〜1,000の範囲である。
【0010】このような本発明の製造方法により得られ
る一般式(X)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C6H5−はフェニル基を表している。
る一般式(X)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C6H5−はフェニル基を表している。
【化26】
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】
【化31】
【化32】
【0011】次に、一般式(Y):
【化33】 (式中、R,R2,−Ph−およびxは前記と同じであ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法について説明する。
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法について説明する。
【0012】この製造方法は、前記(A)成分のジシリ
ルフェニレンを前記(B)成分のヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、(C)式:
ルフェニレンを前記(B)成分のヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、(C)式:
【化34】 (式中、Rおよび−Ph−は前記と同じである。)で表
されるジシリルフェニレンを重合開始剤または重合停止
剤として用いてヒドロシリル化重合することを特徴とす
る。このとき(C)成分の添加量は特に限定されない
が、所望の分子量のシルフェニレンシルアルキレンポリ
マーを得るために、(A)成分のモル数と(C)成分の
モル数の比を適宜調整することが好ましい。
されるジシリルフェニレンを重合開始剤または重合停止
剤として用いてヒドロシリル化重合することを特徴とす
る。このとき(C)成分の添加量は特に限定されない
が、所望の分子量のシルフェニレンシルアルキレンポリ
マーを得るために、(A)成分のモル数と(C)成分の
モル数の比を適宜調整することが好ましい。
【0013】重合開始剤または重合停止剤として用いら
れる(C)成分のジシリルフェニレンとしては、下記式
で示される化合物が挙げられる。下式中、Meはメチル
基を表し、Prはプロピル基を表し、C6H5−はフェニ
ル基を表している。
れる(C)成分のジシリルフェニレンとしては、下記式
で示される化合物が挙げられる。下式中、Meはメチル
基を表し、Prはプロピル基を表し、C6H5−はフェニ
ル基を表している。
【化35】
【0014】この製造方法において各成分を添加する順
序は任意であり、例えば、(A)成分,(B)成分およ
び(C)成分の混合系を加熱攪拌する方法,(B)成分
と(C)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分
を徐々に添加する方法,(A)成分と(B)成分を加熱
攪拌しながら、この系に(C)成分を最後に添加する方
法等が挙げられる。
序は任意であり、例えば、(A)成分,(B)成分およ
び(C)成分の混合系を加熱攪拌する方法,(B)成分
と(C)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分
を徐々に添加する方法,(A)成分と(B)成分を加熱
攪拌しながら、この系に(C)成分を最後に添加する方
法等が挙げられる。
【0015】このような本発明の製造方法により得られ
る一般式(Y)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C6H5−はフェニル基を表している。
る一般式(Y)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C6H5−はフェニル基を表している。
【化36】
【化37】
【化38】
【化39】
【化40】
【化41】
【化42】
【0016】次に、一般式(Z):
【化43】 (式中、R,R1,R2,−Ph−およびxは前記と同じ
である)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリ
マーの製造方法について説明する。
である)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリ
マーの製造方法について説明する。
【0017】この製造方法は、前記(A)成分のジシリ
ルフェニレンを前記(B)成分のヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、(D)炭素−炭素三重結合を1個有する
炭素原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、炭
素−炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜10の不
飽和脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニルエーテル、ま
たは、式:
ルフェニレンを前記(B)成分のヒドロシリル化反応用
触媒の存在下、(D)炭素−炭素三重結合を1個有する
炭素原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、炭
素−炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜10の不
飽和脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニルエーテル、ま
たは、式:
【化44】 (式中、R,R1および−Ph−は前記と同じであ
る。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤また
は重合停止剤として用いてヒドロシリル化重合すること
を特徴とする。このとき(D)成分の添加量は特に限定
されないが、所望の分子量のシルフェニレンシルアルキ
レンポリマーを得るために、(A)成分のモル数と
(D)成分のモル数の比を適宜調整することが好まし
い。
る。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤また
は重合停止剤として用いてヒドロシリル化重合すること
を特徴とする。このとき(D)成分の添加量は特に限定
されないが、所望の分子量のシルフェニレンシルアルキ
レンポリマーを得るために、(A)成分のモル数と
(D)成分のモル数の比を適宜調整することが好まし
い。
【0018】重合開始剤または重合停止剤として用いら
れる(D)成分の炭素−炭素三重結合を1個有する炭素
原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物として
は、アセチレン,プロピン,1−ブチン,2−ブチン,
1−ペンチン,2−ペンチン,3−メチル−1−ブチ
ン,3,3−ジメチル−1−ブチン,1−ヘキシン,2
−ヘキシン,1−ヘプチン,1−オクチン,4−オクチ
ン,1−ノニン,1−デシン,5−デシンが例示され
る。炭素−炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜1
0の不飽和脂肪族炭化水素化合物としては、1,2−プ
ロパジエン(通称、アレン),1,3−ブタジエン,2
−メチル−1,3−ブタジエン(通称、イソプレン),
2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン,1,3−ペンタ
ジエン,1,4−ペンタジエン,1,5−ヘキサジエン,
1,3−シクロヘキサジエンが例示される。ジアルケニ
ルエーテルとしては、ジアリルエーテル,ジビニルエー
テルが例示される。上式で表されるジシリルフェニレン
としては、下記式で示される化合物が例示される。下式
中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル基を表し、
C6H5−はフェニル基を表している。
れる(D)成分の炭素−炭素三重結合を1個有する炭素
原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物として
は、アセチレン,プロピン,1−ブチン,2−ブチン,
1−ペンチン,2−ペンチン,3−メチル−1−ブチ
ン,3,3−ジメチル−1−ブチン,1−ヘキシン,2
−ヘキシン,1−ヘプチン,1−オクチン,4−オクチ
ン,1−ノニン,1−デシン,5−デシンが例示され
る。炭素−炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜1
0の不飽和脂肪族炭化水素化合物としては、1,2−プ
ロパジエン(通称、アレン),1,3−ブタジエン,2
−メチル−1,3−ブタジエン(通称、イソプレン),
2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン,1,3−ペンタ
ジエン,1,4−ペンタジエン,1,5−ヘキサジエン,
1,3−シクロヘキサジエンが例示される。ジアルケニ
ルエーテルとしては、ジアリルエーテル,ジビニルエー
テルが例示される。上式で表されるジシリルフェニレン
としては、下記式で示される化合物が例示される。下式
中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル基を表し、
C6H5−はフェニル基を表している。
【化45】
【化46】
【0019】この製造方法において各成分を添加する順
序は任意であり、例えば、(A)成分,(B)成分およ
び(D)成分の混合系を加熱攪拌する方法,(B)成分
と(D)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分
を徐々に添加する方法,(A)成分と(B)成分を加熱
攪拌しながら、この系に(D)成分を最後に添加する方
法等が挙げられる。
序は任意であり、例えば、(A)成分,(B)成分およ
び(D)成分の混合系を加熱攪拌する方法,(B)成分
と(D)成分を加熱攪拌しながら、この系に(A)成分
を徐々に添加する方法,(A)成分と(B)成分を加熱
攪拌しながら、この系に(D)成分を最後に添加する方
法等が挙げられる。
【0020】このような本発明の製造方法により得られ
る一般式(Z)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C6H5−はフェニル基を表している。
る一般式(Z)で表されるシルフェニレンシルアルキレ
ンポリマーとしては、下記式で示される化合物が例示さ
れる。下式中、Meはメチル基を表し、Prはプロピル
基を表し、C6H5−はフェニル基を表している。
【化47】
【化48】
【化49】
【化50】
【化51】
【化52】
【化53】
【0021】上記のような本発明の製造方法では、本発
明の目的を損なわない限り、有機溶媒を使用することが
できる。有機溶媒を使用することにより、より高分子量
のシルフェニレンシルアルキレンポリマーを製造するこ
とができる。使用できる有機溶媒として具体的には、ト
ルエン,キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタン,ノナン等の脂肪族炭化水素系
溶媒;シクロヘキサン,シクロヘプタン,シクロオクタ
ン等の脂環式炭化水素系溶媒;トリフルオロメチルベン
ゼン,1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン,
メチルペンタフルオロベンゼン等の含フッ素原子芳香族
炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル,ジブチルエーテ
ル,フェニルメチルエーテル,テトラヒドロフラン等の
エーテル系化合物;ジエチレングリコールジブチルエー
テル,ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジ
アルキレングリコールジアルキレンエーテル類;ジクロ
ロメタン,1,2−ジクロロエタン,1,1,2,2−テト
ラクロロエタン,クロロホルム,1,1,1−トリクロロ
エタン,四塩化炭素,モノクロロベンセン,ジクロロベ
ンゼン等の塩素化炭化水素類が例示される。尚、重合時
の反応条件は特に限定されず、常圧でヒドロシリル化重
合を行う場合には、その反応温度は、室温から前記
(A)成分〜(D)成分の沸点もしくは使用する有機溶
媒の沸点までであることが好ましい。また、加圧下でヒ
ドロシリル化重合を行うこともできる。
明の目的を損なわない限り、有機溶媒を使用することが
できる。有機溶媒を使用することにより、より高分子量
のシルフェニレンシルアルキレンポリマーを製造するこ
とができる。使用できる有機溶媒として具体的には、ト
ルエン,キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;ヘキサ
ン,ヘプタン,オクタン,ノナン等の脂肪族炭化水素系
溶媒;シクロヘキサン,シクロヘプタン,シクロオクタ
ン等の脂環式炭化水素系溶媒;トリフルオロメチルベン
ゼン,1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン,
メチルペンタフルオロベンゼン等の含フッ素原子芳香族
炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル,ジブチルエーテ
ル,フェニルメチルエーテル,テトラヒドロフラン等の
エーテル系化合物;ジエチレングリコールジブチルエー
テル,ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジ
アルキレングリコールジアルキレンエーテル類;ジクロ
ロメタン,1,2−ジクロロエタン,1,1,2,2−テト
ラクロロエタン,クロロホルム,1,1,1−トリクロロ
エタン,四塩化炭素,モノクロロベンセン,ジクロロベ
ンゼン等の塩素化炭化水素類が例示される。尚、重合時
の反応条件は特に限定されず、常圧でヒドロシリル化重
合を行う場合には、その反応温度は、室温から前記
(A)成分〜(D)成分の沸点もしくは使用する有機溶
媒の沸点までであることが好ましい。また、加圧下でヒ
ドロシリル化重合を行うこともできる。
【0022】このような本発明の製造方法によれば、2
種の原料を等モル使用する従来の方法のように原料の仕
込み比を厳密に調節しなくても、効率よく高分子量のシ
ルフェニレンシルアルキレンポリマーを製造することが
できる。そしてこの方法により得られるシルフェニレン
シルアルキレンポリマーは、成形加工性、耐候性、離型
性、撥水性、機械特性等に優れ、加えて、酸やアルカリ
等のイオン性物質による分子鎖の切断が生じ難い。即
ち、イオン性物質による解重合劣化が生じ難く耐加水分
解性にも優れるという利点を有する。さらに、主鎖にベ
ンゼン環を有しているので耐熱性に優れており、また表
面張力がポリジメチルシロキサン(PDMS)と有機材
料の中間(20〜30mN/m)を示すので、このよう
な特徴を要求される各種用途に有用である。尚、上記一
般式(X)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーは両末端の基が異なるために、それを利用して各
種有機樹脂のグラフト型の変性剤として有用であり、一
般式(Y)および(Z)で表されるシルフェニレンシル
アルキレンポリマーは、両末端の基が同一であるため
に、各種有機樹脂のブロック型の変性剤として有用であ
る。
種の原料を等モル使用する従来の方法のように原料の仕
込み比を厳密に調節しなくても、効率よく高分子量のシ
ルフェニレンシルアルキレンポリマーを製造することが
できる。そしてこの方法により得られるシルフェニレン
シルアルキレンポリマーは、成形加工性、耐候性、離型
性、撥水性、機械特性等に優れ、加えて、酸やアルカリ
等のイオン性物質による分子鎖の切断が生じ難い。即
ち、イオン性物質による解重合劣化が生じ難く耐加水分
解性にも優れるという利点を有する。さらに、主鎖にベ
ンゼン環を有しているので耐熱性に優れており、また表
面張力がポリジメチルシロキサン(PDMS)と有機材
料の中間(20〜30mN/m)を示すので、このよう
な特徴を要求される各種用途に有用である。尚、上記一
般式(X)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポ
リマーは両末端の基が異なるために、それを利用して各
種有機樹脂のグラフト型の変性剤として有用であり、一
般式(Y)および(Z)で表されるシルフェニレンシル
アルキレンポリマーは、両末端の基が同一であるため
に、各種有機樹脂のブロック型の変性剤として有用であ
る。
【0023】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。実施例中、Meはメチル基を表し、C6H5はフェニ
ル基を表している。
る。実施例中、Meはメチル基を表し、C6H5はフェニ
ル基を表している。
【0024】
【合成例1】窒素気流下で乾燥したフラスコに、60.
75g(2.5モル)のMg粉末を投入し、これを80
℃の温度条件下で3時間加熱攪拌した。冷却後、210
g(1.15モル)のメチルフェニルビニルクロロシラ
ンと113g(1.15モル)のジメチルクロロシラン
を加えた。次いでこれに、575g(2.5モル)のパ
ラジブロモベンゼンと1,000gのTHF溶液との混
合液を、25℃の温度条件下で滴下した。この滴下によ
り発熱が認められ、反応が開始したことが確認された。
反応系を冷却して50℃に保持しながら、この混合液を
2時間かけて滴下した。滴下終了後、50℃の温度条件
下で2時間加熱した。その後、生成した塩を溶解するた
めに850gの水を加えた。中性になるまで水洗を行っ
た後、有機層を分液ロートにより分離して、モレキュラ
ーシーブを用いて一晩乾燥した。次いでろ過し、減圧下
で分別蒸留することにより、下記式で表される1−ジメ
チルシリル−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレ
ン96g(0.34モル)を得た。
75g(2.5モル)のMg粉末を投入し、これを80
℃の温度条件下で3時間加熱攪拌した。冷却後、210
g(1.15モル)のメチルフェニルビニルクロロシラ
ンと113g(1.15モル)のジメチルクロロシラン
を加えた。次いでこれに、575g(2.5モル)のパ
ラジブロモベンゼンと1,000gのTHF溶液との混
合液を、25℃の温度条件下で滴下した。この滴下によ
り発熱が認められ、反応が開始したことが確認された。
反応系を冷却して50℃に保持しながら、この混合液を
2時間かけて滴下した。滴下終了後、50℃の温度条件
下で2時間加熱した。その後、生成した塩を溶解するた
めに850gの水を加えた。中性になるまで水洗を行っ
た後、有機層を分液ロートにより分離して、モレキュラ
ーシーブを用いて一晩乾燥した。次いでろ過し、減圧下
で分別蒸留することにより、下記式で表される1−ジメ
チルシリル−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレ
ン96g(0.34モル)を得た。
【化54】
【0025】
【実施例1】合成例1で得た、1−ジメチルシリル−4
−メチルフェニルビニルシリルフェニレン2.8g(0.
01モル)とトルエン30gの混合液に、塩化白金酸の
10%イソプロパノール溶液を反応系中の白金金属自体
の含有量が30ppmとなる量投入して、60℃の温度条
件下で攪拌した。さらにこれに、上記の1−ジメチルシ
リル−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレン2
5.4g(0.09モル)を滴下した。この反応混合液を
2時間加熱還流した後、これを60gのメタノールに加
えて、デカンテーションして沈澱物を回収した。次い
で、減圧下で揮発分を除去して、18gの固形の反応生
成物を得た。得られた反応生成物を、トルエンを溶媒と
して用いたGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー),フーリエ変換赤外線分光分析(以下、FT−
IR),13C−核磁気共鳴スペクトル分析(以下、13C
−NMR)および29Si−核磁気共鳴スペクトル分析
(以下、29Si−NMR)により分析したところ、この
反応生成物は、平均構造式:
−メチルフェニルビニルシリルフェニレン2.8g(0.
01モル)とトルエン30gの混合液に、塩化白金酸の
10%イソプロパノール溶液を反応系中の白金金属自体
の含有量が30ppmとなる量投入して、60℃の温度条
件下で攪拌した。さらにこれに、上記の1−ジメチルシ
リル−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレン2
5.4g(0.09モル)を滴下した。この反応混合液を
2時間加熱還流した後、これを60gのメタノールに加
えて、デカンテーションして沈澱物を回収した。次い
で、減圧下で揮発分を除去して、18gの固形の反応生
成物を得た。得られた反応生成物を、トルエンを溶媒と
して用いたGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー),フーリエ変換赤外線分光分析(以下、FT−
IR),13C−核磁気共鳴スペクトル分析(以下、13C
−NMR)および29Si−核磁気共鳴スペクトル分析
(以下、29Si−NMR)により分析したところ、この
反応生成物は、平均構造式:
【化55】 で表される、一方の末端にケイ素原子結合水素原子を有
し、もう一方の末端にビニル基を有する重量平均分子量
約7万のシルフェニレンシルエチレンポリマーであるこ
とが判明した。
し、もう一方の末端にビニル基を有する重量平均分子量
約7万のシルフェニレンシルエチレンポリマーであるこ
とが判明した。
【0026】
【実施例2】式:
【化56】 で表される1,4−ビス(ジメチルシリル)フェニレン
0.194g(0.001モル)とトルエン30gの混合
液に、塩化白金酸の10%イソプロパノール溶液を反応
系中の白金金属自体の含有量が30ppmとなる量投入し
た。これを60℃の温度条件下で攪拌しながら、合成例
1で得た1−ジメチルシリル−4−メチルフェニルビニ
ルシリルフェニレン28g(0.1モル)を滴下した。
この反応混合液を2時間加熱還流した後、これを60g
のメタノールに加えて、デカンテーションして沈澱物を
回収した。次いで、減圧下で揮発分を除去して、20g
の固形の反応生成物を得た。得られた反応生成物を、G
PC,FT−IR,13C−NMRおよび29Si−NMR
により分析したところ、この反応生成物は、平均構造
式:
0.194g(0.001モル)とトルエン30gの混合
液に、塩化白金酸の10%イソプロパノール溶液を反応
系中の白金金属自体の含有量が30ppmとなる量投入し
た。これを60℃の温度条件下で攪拌しながら、合成例
1で得た1−ジメチルシリル−4−メチルフェニルビニ
ルシリルフェニレン28g(0.1モル)を滴下した。
この反応混合液を2時間加熱還流した後、これを60g
のメタノールに加えて、デカンテーションして沈澱物を
回収した。次いで、減圧下で揮発分を除去して、20g
の固形の反応生成物を得た。得られた反応生成物を、G
PC,FT−IR,13C−NMRおよび29Si−NMR
により分析したところ、この反応生成物は、平均構造
式:
【化57】 で表される、両末端にケイ素原子結合水素原子を有する
重量平均分子量約2.8万のシルフェニレンシルエチレ
ンポリマーであることが判明した。
重量平均分子量約2.8万のシルフェニレンシルエチレ
ンポリマーであることが判明した。
【0027】
【実施例3】式:
【化58】 で表される1,4−ビス(メチルフェニルビニルシリ
ル)フェニレン0.74g(0.002モル)とトルエン
10gの混合液に、白金とジビニルテトラメチルジシロ
キサンとの錯体溶液を反応系中の白金金属自体の含有量
が30ppmとなる量投入した。これを60℃の温度条件
下で攪拌しながら、合成例1で得た1−ジメチルシリル
−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレン28g
(0.1モル)を滴下した。この反応混合液を2時間加
熱還流した後、減圧下で揮発分を除去して、21gの固
形の反応生成物を得た。得られた反応生成物を、GP
C,FT−IR,13C−NMRおよび29Si−NMRに
より分析したところ、この反応生成物は、平均構造式:
ル)フェニレン0.74g(0.002モル)とトルエン
10gの混合液に、白金とジビニルテトラメチルジシロ
キサンとの錯体溶液を反応系中の白金金属自体の含有量
が30ppmとなる量投入した。これを60℃の温度条件
下で攪拌しながら、合成例1で得た1−ジメチルシリル
−4−メチルフェニルビニルシリルフェニレン28g
(0.1モル)を滴下した。この反応混合液を2時間加
熱還流した後、減圧下で揮発分を除去して、21gの固
形の反応生成物を得た。得られた反応生成物を、GP
C,FT−IR,13C−NMRおよび29Si−NMRに
より分析したところ、この反応生成物は、平均構造式:
【化59】 で表される、両末端にビニル基を有する重量平均分子量
約1.4万のシルフェニレンシルエチレンポリマーであ
ることが判明した。
約1.4万のシルフェニレンシルエチレンポリマーであ
ることが判明した。
【0028】
【発明の効果】以上のような本発明のシルフェニレンシ
ルアルキレンポリマ−の製造方法は、(A)成分の特殊
なジシリルフェニレンを出発原料としているので、従来
の方法に比べて生成するポリマーの分子量の調節が容易
であるという特徴を有する。
ルアルキレンポリマ−の製造方法は、(A)成分の特殊
なジシリルフェニレンを出発原料としているので、従来
の方法に比べて生成するポリマーの分子量の調節が容易
であるという特徴を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正富 亨 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)式: 【化1】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下にヒドロシリル化重合することを特徴とする、
一般式(X): 【化2】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、R2は炭素原子数2〜
10のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン
基であり、−Ph−は置換もしくは非置換のフェニレン
環を表し、xは1以上の整数である。)で表されるシル
フェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。 - 【請求項2】 (A)式: 【化3】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下、(C)式: 【化4】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
−Ph−は置換もしくは非置換のフェニレン環を表して
いる。)で表されるジシリルフェニレンを重合開始剤ま
たは重合停止剤として用いて、ヒドロシリル化重合する
ことを特徴とする、一般式(Y): 【化5】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基またはアルキ
レンオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表し、xは1以上の整数であ
る。)で表されるシルフェニレンシルアルキレンポリマ
ーの製造方法。 - 【請求項3】 (A)式: 【化6】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを、(B)ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下、(D)炭素−炭素三重結合を1個有する炭素
原子数2〜10の不飽和脂肪族炭化水素化合物、炭素−
炭素二重結合を2個有する炭素原子数3〜10の不飽和
脂肪族炭化水素化合物、ジアルケニルエーテル、また
は、式: 【化7】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、−Ph−は置換もしく
は非置換のフェニレン環を表している。)で表されるジ
シリルフェニレンを重合開始剤または重合停止剤として
用いて、ヒドロシリル化重合することを特徴とする、一
般式(Z): 【化8】 (式中、Rは脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1
〜10の置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
R1は炭素原子数2〜10のアルケニル基またはアルケ
ニルオキシアルキレン基であり、R2は炭素原子数2〜
10のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン
基であり、−Ph−は置換もしくは非置換のフェニレン
環を表し、xは1以上の整数である。)で表されるシル
フェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24952197A JPH1180362A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24952197A JPH1180362A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1180362A true JPH1180362A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17194221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24952197A Pending JPH1180362A (ja) | 1997-08-29 | 1997-08-29 | シルフェニレンシルアルキレンポリマーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1180362A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006009123A1 (ja) * | 2004-07-16 | 2008-05-01 | 東亞合成株式会社 | ポリカルボシラン及びその製造方法 |
| JP2014084417A (ja) * | 2012-10-24 | 2014-05-12 | Dow Corning Toray Co Ltd | オルガノポリシロキサン、硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置 |
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| JP2015526555A (ja) * | 2012-08-02 | 2015-09-10 | ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. | ポリカルボシラン、およびポリカルボシランを含んでなるled向け封入剤用硬化性組成物 |
| JP2015529713A (ja) * | 2012-08-02 | 2015-10-08 | ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. | ポリカルボシランおよびヒドロシリコーンを含んでなるled封入剤用硬化性組成物 |
| EP3569638A1 (en) * | 2018-05-17 | 2019-11-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymer containing silphenylene and polyether structures |
| JP2019200344A (ja) * | 2018-05-17 | 2019-11-21 | 信越化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及びパターン形成方法 |
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