JPH112764A - 光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置の製造方法 - Google Patents
光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置の製造方法Info
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- JPH112764A JPH112764A JP15193997A JP15193997A JPH112764A JP H112764 A JPH112764 A JP H112764A JP 15193997 A JP15193997 A JP 15193997A JP 15193997 A JP15193997 A JP 15193997A JP H112764 A JPH112764 A JP H112764A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光の利用効率が高く高コントラスト比を得る
ことのできる光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置
の製造方法を提供する。 【解決手段】 所定間隔で対向する第１の透明基板５，
第２の透明基板８に、透明部分と不透明部分とを有する
可撓性部材２の両端が固定されている。可撓性部材２に
は第１の透明電極３が形成され、第１の透明基板５，第
２の透明基板８にはそれぞれ第２の透明電極６，第３の
透明電極９が形成されている。駆動電源１４は、第１の
透明電極３と第２の透明電極６、第１の透明電極３と第
３の透明電極９との間に電力を供給する。この駆動電源
１４からの電力を制御することにより、可撓性部材２を
変形させ、可撓性部材２の光開閉領域３００に対応する
部分を、透明部分にするか不透明部分にするかを制御す
る。
ことのできる光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置
の製造方法を提供する。 【解決手段】 所定間隔で対向する第１の透明基板５，
第２の透明基板８に、透明部分と不透明部分とを有する
可撓性部材２の両端が固定されている。可撓性部材２に
は第１の透明電極３が形成され、第１の透明基板５，第
２の透明基板８にはそれぞれ第２の透明電極６，第３の
透明電極９が形成されている。駆動電源１４は、第１の
透明電極３と第２の透明電極６、第１の透明電極３と第
３の透明電極９との間に電力を供給する。この駆動電源
１４からの電力を制御することにより、可撓性部材２を
変形させ、可撓性部材２の光開閉領域３００に対応する
部分を、透明部分にするか不透明部分にするかを制御す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射光束の遮断及
び透過を行う光開閉装置に関し、特に、可撓性部材の変
形により入射光束の遮断及び透過を行う光開閉装置及び
表示装置並びに光開閉装置の製造方法に関する。
び透過を行う光開閉装置に関し、特に、可撓性部材の変
形により入射光束の遮断及び透過を行う光開閉装置及び
表示装置並びに光開閉装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光開閉部材を用いて光の透過・遮断を行
う表示装置について特開平６−２２２２９０号公報に記
載されている。
う表示装置について特開平６−２２２２９０号公報に記
載されている。
【０００３】ここでは、透明領域と不透明領域がガラス
基板上に形成されており、光を透過させる場合には不透
明な光開閉部材（シャッター）が不透明領域内に配置さ
れ、光を遮断する場合には光開閉部材（シャッター）が
スライド移動され透明領域内に配置される。これによ
り、光の透過・遮断が制御され、所望の画像が表示され
ることとなる。
基板上に形成されており、光を透過させる場合には不透
明な光開閉部材（シャッター）が不透明領域内に配置さ
れ、光を遮断する場合には光開閉部材（シャッター）が
スライド移動され透明領域内に配置される。これによ
り、光の透過・遮断が制御され、所望の画像が表示され
ることとなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平６−２２２２９０号公報に記載の光開閉部材を備え
た表示装置では、 不透明領域は光の透過・遮断に関わらず常に不透明で
あり、少なくとも光透過領域と同等以上の面積を有して
いなければならないため、十分な開口率が得られない。 同様に、不透明領域は光の透過・遮断に関わらず、常
に不透明であるため、コントラストが十分に得られな
い。 という課題があった。
開平６−２２２２９０号公報に記載の光開閉部材を備え
た表示装置では、 不透明領域は光の透過・遮断に関わらず常に不透明で
あり、少なくとも光透過領域と同等以上の面積を有して
いなければならないため、十分な開口率が得られない。 同様に、不透明領域は光の透過・遮断に関わらず、常
に不透明であるため、コントラストが十分に得られな
い。 という課題があった。
【０００５】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであって、光の利用効率が高く高コントラスト
比を得ることのできる光開閉装置及び表示装置並びに光
開閉装置の製造方法を提供することを目的とする。
れたものであって、光の利用効率が高く高コントラスト
比を得ることのできる光開閉装置及び表示装置並びに光
開閉装置の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の光開閉
装置は、光開閉領域へ入射した光束の遮断及び透過を行
う光開閉装置において、前記光開閉領域を有し、所定間
隔で対向する第１の基板，第２の基板と、透明部分と不
透明部分とが形成され、一端が前記第１の基板に固定さ
れ、他端が前記第２の基板に固定された可撓性部材と、
該可撓性部材を前記第１の基板側に吸着するよう変形さ
せることで、前記可撓性部材の前記光開閉領域に対応す
る部分を前記透明部分とするとともに、前記可撓性部材
を前記第２の基板側に吸着するよう変形させることで、
前記可撓性部材の前記光開閉領域に対応する部分を前記
不透明部分とする駆動部と、を備えてなることを特徴と
している。
装置は、光開閉領域へ入射した光束の遮断及び透過を行
う光開閉装置において、前記光開閉領域を有し、所定間
隔で対向する第１の基板，第２の基板と、透明部分と不
透明部分とが形成され、一端が前記第１の基板に固定さ
れ、他端が前記第２の基板に固定された可撓性部材と、
該可撓性部材を前記第１の基板側に吸着するよう変形さ
せることで、前記可撓性部材の前記光開閉領域に対応す
る部分を前記透明部分とするとともに、前記可撓性部材
を前記第２の基板側に吸着するよう変形させることで、
前記可撓性部材の前記光開閉領域に対応する部分を前記
不透明部分とする駆動部と、を備えてなることを特徴と
している。
【０００７】請求項２に記載の光開閉装置は、請求項１
に記載の光開閉装置において、前記駆動部は、前記可撓
性部材に形成された可撓性部材電極と、前記第１の基
板，第２の基板に形成された２つの基板電極と、前記可
撓性部材電極と前記基板電極間に電力を供給することに
より、前記可撓性部材の変形を制御する電力供給部と、
を備えてなることを特徴としている。
に記載の光開閉装置において、前記駆動部は、前記可撓
性部材に形成された可撓性部材電極と、前記第１の基
板，第２の基板に形成された２つの基板電極と、前記可
撓性部材電極と前記基板電極間に電力を供給することに
より、前記可撓性部材の変形を制御する電力供給部と、
を備えてなることを特徴としている。
【０００８】請求項３に記載の光開閉装置は、請求項１
または請求項２に記載の光開閉装置において、前記第１
の基板と前記第２の基板との間隔をｇ、前記可撓性部材
の透明部分および不透明部分の前記第１の基板または前
記第２の基板との固定部を除く可動部の長さをａとした
ときに、１．８＜ａ／ｇ＜２．２であることを特徴とし
ている。
または請求項２に記載の光開閉装置において、前記第１
の基板と前記第２の基板との間隔をｇ、前記可撓性部材
の透明部分および不透明部分の前記第１の基板または前
記第２の基板との固定部を除く可動部の長さをａとした
ときに、１．８＜ａ／ｇ＜２．２であることを特徴とし
ている。
【０００９】請求項４に記載の光開閉装置は、請求項１
乃至請求項３のいずれかに記載の光開閉装置において、
前記可撓性部材の不透明部分もしくは前記第１の基板，
第２の基板の前記光開閉領域以外の部分に、金属膜が被
覆されてなることを特徴としている。
乃至請求項３のいずれかに記載の光開閉装置において、
前記可撓性部材の不透明部分もしくは前記第１の基板，
第２の基板の前記光開閉領域以外の部分に、金属膜が被
覆されてなることを特徴としている。
【００１０】請求項５に記載の表示装置は、請求項１乃
至請求項４のいずれかに記載の光開閉装置が、平面もし
くは曲面に、一定の配置規則に従って配列されてなるこ
とを特徴としている。
至請求項４のいずれかに記載の光開閉装置が、平面もし
くは曲面に、一定の配置規則に従って配列されてなるこ
とを特徴としている。
【００１１】請求項６に記載の表示装置は、請求項５に
記載の表示装置において、前記第１の基板，第２の基板
の少なくとも一方に、カラーフィルターが形成されてな
ることを特徴としている。
記載の表示装置において、前記第１の基板，第２の基板
の少なくとも一方に、カラーフィルターが形成されてな
ることを特徴としている。
【００１２】請求項７に記載の光開閉装置の製造方法
は、請求項２に記載の光開閉装置の製造方法であって、
前記第１の基板上に前記基板電極を形成する工程と、前
記第１の基板上の前記基板電極上に絶縁膜を形成する工
程と、前記絶縁膜上にフォトレジストを塗布して、前記
可撓性部材の前記不透明部分の形状にパターニングする
工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔を規
定するスペーサーを形成する工程と、前記第１の基板を
傾けて、前記フォトレジスト上及び一側面に、前記可撓
性部材の主要部をなす透明な高分子材料を形成する工程
と、前記第１の基板を傾けたまま前記高分子材料上に前
記可撓性部材電極を形成する工程と、前記可撓性部材の
前記不透明部分に対応する領域に金属膜を形成する工程
と、前記スペーサーの上面及び前記可撓性部材の上面の
一部に、接着剤を塗布する工程と、前記第２の基板上に
前記基板電極を形成する工程と、前記第２の基板上の前
記基板電極上に絶縁膜を形成する工程と、前記接着剤を
介して、前記第１の基板及び前記第２の基板を互いに前
記絶縁膜が対向するように接着する工程と、前記フォト
レジストをエッチングする工程と、を含むことを特徴と
している。
は、請求項２に記載の光開閉装置の製造方法であって、
前記第１の基板上に前記基板電極を形成する工程と、前
記第１の基板上の前記基板電極上に絶縁膜を形成する工
程と、前記絶縁膜上にフォトレジストを塗布して、前記
可撓性部材の前記不透明部分の形状にパターニングする
工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との間隔を規
定するスペーサーを形成する工程と、前記第１の基板を
傾けて、前記フォトレジスト上及び一側面に、前記可撓
性部材の主要部をなす透明な高分子材料を形成する工程
と、前記第１の基板を傾けたまま前記高分子材料上に前
記可撓性部材電極を形成する工程と、前記可撓性部材の
前記不透明部分に対応する領域に金属膜を形成する工程
と、前記スペーサーの上面及び前記可撓性部材の上面の
一部に、接着剤を塗布する工程と、前記第２の基板上に
前記基板電極を形成する工程と、前記第２の基板上の前
記基板電極上に絶縁膜を形成する工程と、前記接着剤を
介して、前記第１の基板及び前記第２の基板を互いに前
記絶縁膜が対向するように接着する工程と、前記フォト
レジストをエッチングする工程と、を含むことを特徴と
している。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係わ
る可撓性部材を備えた光開閉装置を説明する。
る可撓性部材を備えた光開閉装置を説明する。
【００１４】ここでは、間隙を有して対向する２枚の透
明電極板の間で、両端が固定され且つ長さが固定部位間
の距離より長く、透明領域と不透明領域の２つの光学特
性が異なる領域を有する帯状の可撓性部材を用い、電気
的な信号に応じて発生する形状変化に伴う開口比率の変
化により、光の開閉を行う光開閉装置及び表示装置につ
いて説明する。
明電極板の間で、両端が固定され且つ長さが固定部位間
の距離より長く、透明領域と不透明領域の２つの光学特
性が異なる領域を有する帯状の可撓性部材を用い、電気
的な信号に応じて発生する形状変化に伴う開口比率の変
化により、光の開閉を行う光開閉装置及び表示装置につ
いて説明する。
【００１５】図１及び図２は、本発明の光開閉装置の構
成と原理を示す図である。
成と原理を示す図である。
【００１６】図１は、チャンネル１１が非透過、チャン
ネル１２が透過の場合を示す図であり、図２はチャンネ
ル１１が透過、チャンネル１２が非透過の場合を示す図
である。両図において、光は紙面下側から入射し、上側
から出射するようになっている。
ネル１２が透過の場合を示す図であり、図２はチャンネ
ル１１が透過、チャンネル１２が非透過の場合を示す図
である。両図において、光は紙面下側から入射し、上側
から出射するようになっている。
【００１７】図１において光開閉装置１は可撓性部材
２、第１の透明基板５、第２の透明基板８を有する。
２、第１の透明基板５、第２の透明基板８を有する。
【００１８】可撓性部材２は帯状でありその表面には第
１の透明電極３を、またその表面の一部にはマスク４を
備えており、マスク４の形成された部位が不透明領域と
なり、マスク４の形成されていない部位が透明領域とな
る。
１の透明電極３を、またその表面の一部にはマスク４を
備えており、マスク４の形成された部位が不透明領域と
なり、マスク４の形成されていない部位が透明領域とな
る。
【００１９】第１の透明基板５の表面には第２の透明電
極６を、またその表面には第１の絶縁膜７を備えてい
る。第２の透明電極６は可撓性部材２の形状に対応して
パターニングされてある。第２の透明基板８の表面には
第３の透明電極９を、またその表面には第２の絶縁膜１
０を備えてある。第３の透明電極９は可撓性部材２の形
状に対応してパターニングされてある。
極６を、またその表面には第１の絶縁膜７を備えてい
る。第２の透明電極６は可撓性部材２の形状に対応して
パターニングされてある。第２の透明基板８の表面には
第３の透明電極９を、またその表面には第２の絶縁膜１
０を備えてある。第３の透明電極９は可撓性部材２の形
状に対応してパターニングされてある。
【００２０】可撓性部材２の透明領域の一端および不透
明領域の一端は、第１の透明基板５と第２の透明基板８
の対向する表面に、それぞれ接着されており、これによ
り両基板５、８に固定される。また、可撓性部材は高さ
（ｈ）が長さ（ｌ）の半分以下になるよう、座屈した形
状に付設されてある。
明領域の一端は、第１の透明基板５と第２の透明基板８
の対向する表面に、それぞれ接着されており、これによ
り両基板５、８に固定される。また、可撓性部材は高さ
（ｈ）が長さ（ｌ）の半分以下になるよう、座屈した形
状に付設されてある。
【００２１】上記の可撓性部材２、第２の透明電極６、
第３の透明電極９を複数配置することにより複数の光透
過領域が形成される。
第３の透明電極９を複数配置することにより複数の光透
過領域が形成される。
【００２２】第１の透明基板５と第２の透明基板８は、
スペーサー１３により所定のギャップ長さｇを隔てて固
定されてある。ここでは、ギャップ長さを一例として７
０μｍとした。
スペーサー１３により所定のギャップ長さｇを隔てて固
定されてある。ここでは、ギャップ長さを一例として７
０μｍとした。
【００２３】可撓性部材２の寸法は、ここでは一例とし
て、２０μｍ、長さ５０μｍ、高さ５０μｍとした。
て、２０μｍ、長さ５０μｍ、高さ５０μｍとした。
【００２４】以上のような構成の光開閉装置では、可撓
性部材２の第１の透明電極３、透明基板の第２の透明電
極６、第３の透明電極９への電圧の印加の仕方により、
可撓性部材２の形状を切り替えて、可撓性部材が第１の
透明基板５側へ吸着するか第２の透明基板８側へ吸着す
るかを選択できる。これにより、光開閉領域３００に対
応する部分を透明領域とするか不透明領域とするかを選
択することが可能となる。
性部材２の第１の透明電極３、透明基板の第２の透明電
極６、第３の透明電極９への電圧の印加の仕方により、
可撓性部材２の形状を切り替えて、可撓性部材が第１の
透明基板５側へ吸着するか第２の透明基板８側へ吸着す
るかを選択できる。これにより、光開閉領域３００に対
応する部分を透明領域とするか不透明領域とするかを選
択することが可能となる。
【００２５】次に、この光開閉装置の動作原理について
説明する。
説明する。
【００２６】チャンネル１１の第１の透明電極３と第２
の透明電極６を接地し、第３の透明電極９にプラスの電
圧を印加すると、図１に示すように可撓性部材２のマス
ク４で覆われた不透明領域が、静電気力により第２の透
明基板８側に吸着する。従って、光開閉装置１の第１の
透明基板５の垂直方向から入射した光はチャンネル１１
では遮断される。
の透明電極６を接地し、第３の透明電極９にプラスの電
圧を印加すると、図１に示すように可撓性部材２のマス
ク４で覆われた不透明領域が、静電気力により第２の透
明基板８側に吸着する。従って、光開閉装置１の第１の
透明基板５の垂直方向から入射した光はチャンネル１１
では遮断される。
【００２７】逆に、チャンネル１１の第１の透明電極３
と第３の透明電極９を接地したまま、第２の透明電極６
にプラスの電圧を印加すると、図２に示すように可撓性
部材２のマスク４で覆われていない透明領域が、第１の
透明基板５側へ吸着する。従ってチャンネル１１では光
が透過する。
と第３の透明電極９を接地したまま、第２の透明電極６
にプラスの電圧を印加すると、図２に示すように可撓性
部材２のマスク４で覆われていない透明領域が、第１の
透明基板５側へ吸着する。従ってチャンネル１１では光
が透過する。
【００２８】この光開閉の原理は他のチャンネルにおい
ても同様である。
ても同様である。
【００２９】以上説明した本発明の光開閉器装置は、従
来例のように光を遮断する光開閉部材（シャッター）を
スライド移動させるものではないため、光を常に遮断し
ておく必要のある領域をごく僅かにすることができ、光
の透過率を高めることができる、また、コントラスト比
を高くすることができる。
来例のように光を遮断する光開閉部材（シャッター）を
スライド移動させるものではないため、光を常に遮断し
ておく必要のある領域をごく僅かにすることができ、光
の透過率を高めることができる、また、コントラスト比
を高くすることができる。
【００３０】なお、２枚の透明基板５、８の間隔ｇと可
撓性部材２の透明領域および不透明領域の有効可動部の
長さａ（＝ｌ＋ｈ）の関係は、１．８＜ａ／ｇ＜２．２
であるとき、可撓性部材２はスムーズに動き、かつ光の
開閉が確実で、光開閉装置１のコントラスト比が高くな
る。
撓性部材２の透明領域および不透明領域の有効可動部の
長さａ（＝ｌ＋ｈ）の関係は、１．８＜ａ／ｇ＜２．２
であるとき、可撓性部材２はスムーズに動き、かつ光の
開閉が確実で、光開閉装置１のコントラスト比が高くな
る。
【００３１】また、図１，２では、説明のため透明電極
の間隔を大きく表示してあるが、実際は、チャンネル間
の隙間は数μｍに制御され、隣接するチャネルへの光の
漏れは極めて小さくなる。
の間隔を大きく表示してあるが、実際は、チャンネル間
の隙間は数μｍに制御され、隣接するチャネルへの光の
漏れは極めて小さくなる。
【００３２】次に、この光開閉装置を応用した表示装置
について説明する。
について説明する。
【００３３】図３は、図１，２における光開閉装置１を
平面上にマトリックス状に配列し、平面表示素子２０を
作成したものである。但し、ここでは第１の透明基板
５、第２の透明基板８、スペーサー１３、透過、不透過
表示のみを図示し、可撓性部材等は省略している。
平面上にマトリックス状に配列し、平面表示素子２０を
作成したものである。但し、ここでは第１の透明基板
５、第２の透明基板８、スペーサー１３、透過、不透過
表示のみを図示し、可撓性部材等は省略している。
【００３４】各チャンネルの第２の透明電極６、第３の
透明電極９、への電圧のかけかたを切り替えることによ
り透過２１、不透過２２の状態を任意に切り替えること
ができるため、表示素子として利用することができる。
透明電極９、への電圧のかけかたを切り替えることによ
り透過２１、不透過２２の状態を任意に切り替えること
ができるため、表示素子として利用することができる。
【００３５】図４は、図１，２における光開閉装置１を
応用したカラー表示装置を示す図である。ここでは、２
枚の透明基板５，８のうちの少なくとも一方にカラーフ
ィルター３１を形成することにより、カラー表示素子３
０を形成している。
応用したカラー表示装置を示す図である。ここでは、２
枚の透明基板５，８のうちの少なくとも一方にカラーフ
ィルター３１を形成することにより、カラー表示素子３
０を形成している。
【００３６】図５は、図３，図４に記載の表示装置の変
形例を示すものであり、平面表示素子２０あるいはカラ
ー表示素子３０の２枚の透明基板５，８のうちのどちら
か一方の可撓性部材の可動領域が吸着しない部分で光開
閉効果を奏しない領域に、ブラックマスク４１を形成し
た表示装置である。このように構成することにより、各
チャンネルの隙間からの漏洩光を防止することが出来る
ため、光の遮蔽効果が向上し、コントラスト比の高い表
示装置を提供することができる。
形例を示すものであり、平面表示素子２０あるいはカラ
ー表示素子３０の２枚の透明基板５，８のうちのどちら
か一方の可撓性部材の可動領域が吸着しない部分で光開
閉効果を奏しない領域に、ブラックマスク４１を形成し
た表示装置である。このように構成することにより、各
チャンネルの隙間からの漏洩光を防止することが出来る
ため、光の遮蔽効果が向上し、コントラスト比の高い表
示装置を提供することができる。
【００３７】次に、光開閉装置１の製造方法について説
明する。
明する。
【００３８】図６，７は、その製造工程を説明するプロ
セス図である。図中（ａ）から（ｏ）はプロセスの手順
を示す。
セス図である。図中（ａ）から（ｏ）はプロセスの手順
を示す。
【００３９】（ａ）基板としてガラス基板１００（図
１，２における第１の透明基板５）を準備する。
１，２における第１の透明基板５）を準備する。
【００４０】（ｂ）ガラス基板１００の表面に、透明電
極１１０（図１，２における第２の透明電極６）を形成
する。透明電極１１０としては、例えば、ＩＴＯを所定
の厚さ（例えば０．０５μｍ）にスパッター法等で成膜
したものをパターニングしたものが使用できる。
極１１０（図１，２における第２の透明電極６）を形成
する。透明電極１１０としては、例えば、ＩＴＯを所定
の厚さ（例えば０．０５μｍ）にスパッター法等で成膜
したものをパターニングしたものが使用できる。
【００４１】（ｃ）次に、表面に絶縁膜１２０（図１，
２における第１の絶縁膜）を形成する。一例としては、
二酸化シリコンを所定の厚さ（例えば０．１μｍ）に例
えばスパッター法等で成膜する。
２における第１の絶縁膜）を形成する。一例としては、
二酸化シリコンを所定の厚さ（例えば０．１μｍ）に例
えばスパッター法等で成膜する。
【００４２】（ｄ）続いて、表面に電界メッキの電極を
形成するための金属膜１３０をスぺーサー（図１，２に
おけるスペーサー１３）の形状にパターニング形成す
る。例えば、厚さ０．０１μｍのニッケルをスパッター
法でスぺーサーの形状にパターニング成膜する。
形成するための金属膜１３０をスぺーサー（図１，２に
おけるスペーサー１３）の形状にパターニング形成す
る。例えば、厚さ０．０１μｍのニッケルをスパッター
法でスぺーサーの形状にパターニング成膜する。
【００４３】（ｅ）次に、チャネルを形成するために、
絶縁膜１２０の上にフォトレジスト１４０を所定の厚さ
（例えば５０μｍ）に塗布し、不透明領域の形状にパタ
ーニングする（長さは例えば５０μｍ）。
絶縁膜１２０の上にフォトレジスト１４０を所定の厚さ
（例えば５０μｍ）に塗布し、不透明領域の形状にパタ
ーニングする（長さは例えば５０μｍ）。
【００４４】（ｆ）金属膜１３０を電極にして電解メッ
キ法によりスぺーサーの厚さ（例えば７０μｍ）のニッ
ケルメッキ１５０を行う。
キ法によりスぺーサーの厚さ（例えば７０μｍ）のニッ
ケルメッキ１５０を行う。
【００４５】（ｇ）ガラス基板１００を傾け、透明な高
分子材料からなる可撓性部材（図１，２における可撓性
部材２）１６０（例えばＰＥＴ：ポリエチレンテレフタ
レート）を、例えば真空蒸着等の手法により、所定の厚
さ（例えば２０μｍ）形成する。
分子材料からなる可撓性部材（図１，２における可撓性
部材２）１６０（例えばＰＥＴ：ポリエチレンテレフタ
レート）を、例えば真空蒸着等の手法により、所定の厚
さ（例えば２０μｍ）形成する。
【００４６】（ｈ）ガラス基板１００を傾けたまま、透
明電極１７０（図１，２における第１の透明電極３）と
して、例えばＩＴＯを例えばスパッター法等の手法によ
り、所定の厚さ（例えば０．０５μｍ）に成膜する。
明電極１７０（図１，２における第１の透明電極３）と
して、例えばＩＴＯを例えばスパッター法等の手法によ
り、所定の厚さ（例えば０．０５μｍ）に成膜する。
【００４７】（ｉ）不透明領域のパターン以外の領域
を、例えばメタルマスク１８０でマスクし、不透明領域
に金属１８５（例えばニッケル）を所定の厚さ（例えば
１μｍ）に例えばスパッター法等で成膜する。
を、例えばメタルマスク１８０でマスクし、不透明領域
に金属１８５（例えばニッケル）を所定の厚さ（例えば
１μｍ）に例えばスパッター法等で成膜する。
【００４８】（ｊ）別の基板としてガラス基板２００
（図１，２における第２の透明基板８）を準備する。
（図１，２における第２の透明基板８）を準備する。
【００４９】（ｋ）ガラス基板２００の表面に、透明電
極２１０（図１，２における第３の透明電極９）とし
て、例えばＩＴＯを所定の厚さ（例えば０．０５μｍ）
に例えばスパッター法等の手法により、成膜しパターニ
ングを行う。
極２１０（図１，２における第３の透明電極９）とし
て、例えばＩＴＯを所定の厚さ（例えば０．０５μｍ）
に例えばスパッター法等の手法により、成膜しパターニ
ングを行う。
【００５０】（ｌ）表面に絶縁膜２２０（図１，２にお
ける第２の絶縁膜１０）として、例えば二酸化シリコン
２２０を所定の厚さ（例えば０．１μｍ）に、例えばス
パッター法等の手法により成膜する。
ける第２の絶縁膜１０）として、例えば二酸化シリコン
２２０を所定の厚さ（例えば０．１μｍ）に、例えばス
パッター法等の手法により成膜する。
【００５１】（ｍ）ガラス基板１００のメタルマスク１
８０の表面の一部およびスぺーサーであるニッケルメッ
キ１５０の表面に接着剤１９０を塗布する。
８０の表面の一部およびスぺーサーであるニッケルメッ
キ１５０の表面に接着剤１９０を塗布する。
【００５２】（ｎ）ガラス基板１００と、別のガラス基
板２００を位置合わせして接着剤１９０で接合する。
板２００を位置合わせして接着剤１９０で接合する。
【００５３】（ｏ）この状態のガラス基板１００、２０
０を、例えば水酸化ナトリウム溶液に侵漬すると、フォ
トレジスト１４０がエッチングにより除去され、光開閉
装置１が完成する。
０を、例えば水酸化ナトリウム溶液に侵漬すると、フォ
トレジスト１４０がエッチングにより除去され、光開閉
装置１が完成する。
【００５４】
【発明の効果】以上より明らかなように本発明では、所
定の間隔で対向する２枚の基板に両端が固定され、透明
領域および不透明領域を有する可撓性部材を有し、その
可撓性部材が２枚の基板のどちらに吸着するかによっ
て、光開閉を行う領域を透明領域とするか不透明領域と
するかを決定する。
定の間隔で対向する２枚の基板に両端が固定され、透明
領域および不透明領域を有する可撓性部材を有し、その
可撓性部材が２枚の基板のどちらに吸着するかによっ
て、光開閉を行う領域を透明領域とするか不透明領域と
するかを決定する。
【００５５】このため、光の開閉が確実で透過率が高く
コントラスト比も高い。
コントラスト比も高い。
【００５６】また、基板への可撓性部材の吸着を静電気
力により行えば、消費電力を小さくできるため望まし
い。
力により行えば、消費電力を小さくできるため望まし
い。
【００５７】また、２枚の基板の間隔ｇと可撓性部材の
透明領域および不透明領域の有効可動部の長さａの関係
を１．８＜ａ／ｇ＜２．２とすれば、光開閉装置の動き
がスムーズでコントラスト比が高くなる。
透明領域および不透明領域の有効可動部の長さａの関係
を１．８＜ａ／ｇ＜２．２とすれば、光開閉装置の動き
がスムーズでコントラスト比が高くなる。
【００５８】また、不透明領域に金属膜を被覆している
ので、光の遮蔽力が強くコントラスト比が高い。
ので、光の遮蔽力が強くコントラスト比が高い。
【００５９】また、上記のような光開閉装置を、平面に
マトリックス状に配列しているので、高透過率で高コン
トラスト比の表示装置が実現できる。
マトリックス状に配列しているので、高透過率で高コン
トラスト比の表示装置が実現できる。
【００６０】また、２枚の基板のうちのどちらか一方に
カラーフィルターを形成しているので、高透過率で高コ
ントラスト比のカラー表示装置が実現できる。
カラーフィルターを形成しているので、高透過率で高コ
ントラスト比のカラー表示装置が実現できる。
【００６１】また、光開閉装置を、半導体製造プロセス
を用いて製造すれば、低コストで高精細な光開閉装置を
実現できる。
を用いて製造すれば、低コストで高精細な光開閉装置を
実現できる。
【図１】本発明の一例である光開閉装置の光遮断時の構
成と原理を示す図である。
成と原理を示す図である。
【図２】本発明の一例である光開閉装置の光透過時の構
成と原理を示す図である。
成と原理を示す図である。
【図３】本発明の表示装置の一構成例を示す図である。
【図４】本発明のカラー表示装置の一構成例を示す図で
ある。
ある。
【図５】図４のカラー表示装置の変形例を示す図であ
る。
る。
【図６】本発明の光開閉装置および表示装置の製造方法
を説明する工程図である。
を説明する工程図である。
【図７】図６に続く工程を説明する工程図である。
１ 光開閉装置 ２ 可撓性部材 ３ 第１の透明電極 ４ マスク ５ 第１の透明基板 ６ 第２の透明電極 ７ 第１の絶縁膜 ８ 第２の透明基板 ９ 第３の透明電極 １４ 駆動電源 ２０ 平面表示素子 ３０ カラー表示素子 ３１ カラーフィルタ ４１ ブラックマスク ３００ 光開閉領域
Claims (7)
- 【請求項１】 光開閉領域へ入射した光束の遮断及び透
過を行う光開閉装置において、 前記光開閉領域を有し、所定間隔で対向する第１の基
板，第２の基板と、 透明部分と不透明部分とが形成され、一端が前記第１の
基板に固定され、他端が前記第２の基板に固定された可
撓性部材と、 該可撓性部材を前記第１の基板側に吸着するよう変形さ
せることで、前記可撓性部材の前記光開閉領域に対応す
る部分を前記透明部分とするとともに、前記可撓性部材
を前記第２の基板側に吸着するよう変形させることで、
前記可撓性部材の前記光開閉領域に対応する部分を前記
不透明部分とする駆動部と、を備えてなることを特徴と
する光開閉装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光開閉装置において、 前記駆動部は、 前記可撓性部材に形成された可撓性部材電極と、 前記第１の基板，第２の基板に形成された２つの基板電
極と、 前記可撓性部材電極と前記基板電極間に電力を供給する
ことにより、前記可撓性部材の変形を制御する電力供給
部と、を備えてなることを特徴とする光開閉装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の光開閉
装置において、 前記第１の基板と前記第２の基板との間隔をｇ、前記可
撓性部材の透明部分および不透明部分の前記第１の基板
または前記第２の基板との固定部を除く可動部の長さを
ａとしたときに、 １．８＜ａ／ｇ＜２．２ であることを特徴とする光開閉装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
の光開閉装置において、 前記可撓性部材の不透明部分もしくは前記第１の基板，
第２の基板の前記光開閉領域以外の部分に、金属膜が被
覆されてなることを特徴とする光開閉装置。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のいずれかに記載
の光開閉装置が、平面もしくは曲面に、一定の配置規則
に従って配列されてなることを特徴とする表示装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の表示装置において、 前記第１の基板，第２の基板の少なくとも一方に、カラ
ーフィルターが形成されてなることを特徴とする表示装
置。 - 【請求項７】 請求項２に記載の光開閉装置の製造方法
であって、 前記第１の基板上に前記基板電極を形成する工程と、 前記第１の基板上の前記基板電極上に絶縁膜を形成する
工程と、 前記絶縁膜上にフォトレジストを塗布して、前記可撓性
部材の前記不透明部分の形状にパターニングする工程
と、 前記第１の基板と前記第２の基板との間隔を規定するス
ペーサーを形成する工程と、 前記第１の基板を傾けて、前記フォトレジスト上及び一
側面に、前記可撓性部材の主要部をなす透明な高分子材
料を形成する工程と、 前記第１の基板を傾けたまま前記高分子材料上に前記可
撓性部材電極を形成する工程と、 前記可撓性部材の前記不透明部分に対応する領域に金属
膜を形成する工程と、 前記スペーサーの上面及び前記可撓性部材の上面の一部
に、接着剤を塗布する工程と、 前記第２の基板上に前記基板電極を形成する工程と、 前記第２の基板上の前記基板電極上に絶縁膜を形成する
工程と、 前記接着剤を介して、前記第１の基板及び前記第２の基
板を互いに前記絶縁膜が対向するように接着する工程
と、 前記フォトレジストをエッチングする工程と、を含むこ
とを特徴とする光開閉装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15193997A JPH112764A (ja) | 1997-06-10 | 1997-06-10 | 光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15193997A JPH112764A (ja) | 1997-06-10 | 1997-06-10 | 光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH112764A true JPH112764A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15529518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15193997A Pending JPH112764A (ja) | 1997-06-10 | 1997-06-10 | 光開閉装置及び表示装置並びに光開閉装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH112764A (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000352943A (ja) * | 1999-06-07 | 2000-12-19 | Xerox Corp | 超精密電気機械式シャッタ・アセンブリ及び同形成方法 |
| US6583533B2 (en) * | 1997-02-07 | 2003-06-24 | Sri International | Electroactive polymer electrodes |
| KR100933294B1 (ko) | 2007-11-29 | 2009-12-22 | 삼성전자주식회사 | 셔터 및 이를 구비한 마이크로 카메라 모듈 |
| JP2010020350A (ja) * | 2002-07-02 | 2010-01-28 | Idc Llc | 光吸収性マスクを有する装置 |
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-
1997
- 1997-06-10 JP JP15193997A patent/JPH112764A/ja active Pending
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