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JPH10188563A - Semiconductor memory circuit - Google Patents

Semiconductor memory circuit

Info

Publication number
JPH10188563A
JPH10188563A JP8341097A JP34109796A JPH10188563A JP H10188563 A JPH10188563 A JP H10188563A JP 8341097 A JP8341097 A JP 8341097A JP 34109796 A JP34109796 A JP 34109796A JP H10188563 A JPH10188563 A JP H10188563A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
circuit
input
data
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8341097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Okuda
省二 奥田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP8341097A priority Critical patent/JPH10188563A/en
Publication of JPH10188563A publication Critical patent/JPH10188563A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 前のサイクルのアドレスのデータが誤ってメ
モリセル3に書き込まれることを防止することができる
半導体メモリ回路を提供する。 【解決手段】 入出力線7,8及びビット線4,5に接
続された複数のメモリセル3を備えた半導体メモリ回路
において、プリチャージ駆動信号発生回路12は、ライ
トデータ信号/WEに基づいて、データをメモリセル3
に書き込んだ後に、プリチャージ駆動信号A,/Aを発
生して出力する。次いで、プリチャージ回路であるプリ
チャージ用PMOSトランジスタ13a,13bは、プ
リチャージ駆動信号に基づいて、入出力線7,8及びビ
ット線4,5をプリチャージする。従って、データの書
き込み後、入出力線7,8及びビット線4,5のレベル
を従来例に比較して迅速に引き上げることができ、前の
サイクルのアドレスのデータが誤ってメモリセル3に書
き込まれることを防止することができる。
(57) [Problem] To provide a semiconductor memory circuit capable of preventing data of an address in a previous cycle from being erroneously written to a memory cell 3. SOLUTION: In a semiconductor memory circuit provided with a plurality of memory cells 3 connected to input / output lines 7, 8 and bit lines 4, 5, a precharge drive signal generation circuit 12 is based on a write data signal / WE. , Data into memory cell 3
, And generates and outputs precharge driving signals A and / A. Next, the precharge PMOS transistors 13a and 13b, which are precharge circuits, precharge the input / output lines 7 and 8 and the bit lines 4 and 5 based on the precharge drive signal. Therefore, after the data is written, the levels of the input / output lines 7 and 8 and the bit lines 4 and 5 can be raised more quickly than in the conventional example, and the data of the address in the previous cycle is erroneously written to the memory cell 3. Can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、SRAM
回路などの、ビット線に接続された複数のメモリセルを
備えた半導体メモリ回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to a semiconductor memory circuit including a plurality of memory cells connected to a bit line, such as a circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】図9は、例えばSRAM回路などの、従
来例の半導体メモリ回路の回路図である。本願の明細書
及び図面において、データLでイネーブルする、すなわ
ちローイネーブルする信号(ただし、実施の形態の駆動
信号Aを除く。)については、バー(上線)の代わり
に、例えば/WEなどのように、符号の前に“/”を付
与するものとする。
2. Description of the Related Art FIG. 9 is a circuit diagram of a conventional example of a semiconductor memory circuit such as an SRAM circuit. In the specification and the drawings of the present application, a signal to be enabled by data L, that is, a low enable signal (excluding the drive signal A in the embodiment) is replaced with a bar (overline) instead of, for example, / WE. , "/" Is added before the code.

【0003】図9において、データを伝達するビット線
4と/ビット線5との間に、それぞれデータを記憶する
複数のメモリセル3と、アクセス時間を短縮するための
イコライズ信号/BEQBによりゲートがオンされるP
MOSトランジスタ20のソース・ドレインが接続され
る。ビット線4の一端は、プリチャージを行うPMOS
トランジスタ2aのドレイン・ソースを介して電源Vc
cに接続される一方、/ビット線5の他端は、プリチャ
ージを行うPMOSトランジスタ2bのドレイン・ソー
スを介して電源Vccに接続される。各PMOSトラン
ジスタ2a,2bのゲートは接地される。
In FIG. 9, a plurality of memory cells 3 for storing data and an equalizing signal / BEQB for shortening an access time have a gate between bit lines 4 and 5 transmitting data. P turned on
The source and drain of the MOS transistor 20 are connected. One end of the bit line 4 is a PMOS for precharging.
Power supply Vc via the drain / source of transistor 2a
c, while the other end of the / bit line 5 is connected to the power supply Vcc via the drain and source of the PMOS transistor 2b for precharging. The gates of the PMOS transistors 2a and 2b are grounded.

【0004】一方、ビット線4と/ビット線5の各他端
には、ビット線を選択するためのYゲート回路6が接続
される。Yゲート回路6は、互いのソース及びドレイン
が接続されたPMOSトランジスタ21及びNMOSト
ランジスタ22と、互いのソース及びドレインが接続さ
れたPMOSトランジスタ23及びNMOSトランジス
タ24と、インバータ25とを備えて構成される。ビッ
ト線4の他端は、PMOSトランジスタ21及びNMO
Sトランジスタ22の各ソース・ドレインを介してI/
O1線7に接続され、/ビット線5の他端は、PMOS
トランジスタ23及びNMOSトランジスタ24の各ソ
ース・ドレインを介して/I/O1線8に接続される。
ここで、1対のI/O1線7及び/I/O1線8をあわ
せて、以下、入出力線(以下、I/O線という。)7,
8という。例えば、Yゲート信号/YDEC1はPMO
Sトランジスタ21,23の各ゲートに印加されるとと
もに、インバータ25を介してNMOSトランジスタ2
2,24の各ゲートに印加される。以上のように構成さ
れた回路で、1対のビット線4,5に対するメモリセル
ライン回路ML1が構成され、さらに、同様の回路を有
するメモリセルライン回路が例えば15個備えて構成さ
れ、従って、1対のI/O線7,8に対して16個のメ
モリセルライン回路ML1乃至ML16が設けられる。
On the other hand, a Y gate circuit 6 for selecting a bit line is connected to the other ends of the bit lines 4 and 5. The Y gate circuit 6 includes a PMOS transistor 21 and an NMOS transistor 22 whose sources and drains are connected to each other, a PMOS transistor 23 and an NMOS transistor 24 whose sources and drains are connected to each other, and an inverter 25. You. The other end of the bit line 4 is connected to a PMOS transistor 21 and an NMO
I / I via each source / drain of S transistor 22
The other end of the / bit line 5 is connected to a PMOS
The source / drain of the transistor 23 and the NMOS transistor 24 are connected to the / I / O1 line 8.
Here, the pair of I / O1 lines 7 and / I / O1 lines 8 are combined to form an input / output line (hereinafter, referred to as an I / O line) 7,
8 For example, the Y gate signal / YDEC1 is PMO
The NMOS transistor 2 is applied to each gate of the S transistors 21 and 23, and
2 and 24 are applied to each gate. With the circuit configured as described above, the memory cell line circuit ML1 for the pair of bit lines 4 and 5 is configured, and further, for example, 15 memory cell line circuits having similar circuits are provided. Sixteen memory cell line circuits ML1 to ML16 are provided for a pair of I / O lines 7 and 8.

【0005】メモリセル3に書き込むべきデータは、入
力バッファ回路11に入力され、入力バッファ回路11
は、入力されたデータを所定の時間だけ遅延してDTD
信号発生回路10に出力するとともに、反転されたライ
トデータを示す/WD信号(ライトデータ信号)を発生
してライトドライバ回路9に出力する。DTD信号発生
回路10は、入力された遅延入力データに基づいて、デ
ータの遷移を検出して所定の期間書き込み期間を活性さ
せるためのDTD(Data Transition Detection)信号
を発生するとともに、データの書き込みを示す/WE信
号(ライトイネーブル信号)を発生して、データ書き込
み時のI/O1線7及び/I/O1線8を制御するライ
トドライバ回路9に出力する。これに応答して、ライト
ドライバ回路9は、/WE信号がローイネーブルである
ときに、/WD信号に対応したI/O線制御信号をI/
O1線7又は/I/O1線8に出力する。
The data to be written to the memory cell 3 is input to an input buffer circuit 11 and the input buffer circuit 11
Delays the input data by a predetermined time and
In addition to outputting to the signal generation circuit 10, it generates a / WD signal (write data signal) indicating inverted write data and outputs it to the write driver circuit 9. The DTD signal generation circuit 10 detects a data transition and generates a DTD (Data Transition Detection) signal for activating a write period for a predetermined period based on the input delayed input data, and also writes data. A / WE signal (write enable signal) is generated and output to a write driver circuit 9 that controls the I / O1 line 7 and / I / O1 line 8 at the time of data writing. In response to this, when the / WE signal is low enable, the write driver circuit 9 outputs an I / O line control signal corresponding to the / WD signal to the I / O line.
Output to the O1 line 7 or the / I / O1 line 8.

【0006】そして、I/O1線7及び/I/O1線8
と同様の構成を有する1対のI/O線をさらに、例えば
7対備え、従って、合計8対のI/O線が1つのメモリ
セルブロックに対して設けられる。
The I / O1 line 7 and the / I / O1 line 8
Further, for example, seven pairs of I / O lines having the same configuration as that of are provided, so that a total of eight pairs of I / O lines are provided for one memory cell block.

【0007】次いで、以上のように構成された従来例の
半導体メモリ回路の動作について、図10及び図11を
参照して説明する。ここで、図10は、図9の半導体メ
モリ回路においてデータLをメモリセル3に書き込むと
きの動作を示すタイミングチャートであり、図11は、
図9の半導体メモリ回路においてデータHをメモリセル
3に書き込むときの動作を示すタイミングチャートであ
る。
Next, the operation of the conventional semiconductor memory circuit configured as described above will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 10 is a timing chart showing an operation when writing data L to the memory cell 3 in the semiconductor memory circuit of FIG. 9, and FIG.
10 is a timing chart showing an operation when writing data H to a memory cell 3 in the semiconductor memory circuit of FIG. 9;

【0008】図10において、ライトサイクルの後方で
入力バッファ回路11にデータLが入力されたとき、/
WD信号はHレベルになる。このとき、DTD信号がD
TD信号発生回路10によって発生され、それに応答し
てLレベルの/WE信号が発生される。ライトドライバ
回路9は、/WE信号がローイネーブルであるときに、
/WD信号に対応してI/O1線7をHレベルからLレ
ベルに変化させる。このLレベル信号は、Yゲート回路
6を介してビット線4に伝達され、メモリセル3にLレ
ベルのデータが書き込まれて記憶される。
In FIG. 10, when data L is input to input buffer circuit 11 after a write cycle,
The WD signal goes high. At this time, the DTD signal becomes D
The signal is generated by the TD signal generation circuit 10, and in response thereto, the / WE signal at L level is generated. When the / WE signal is low enable, the write driver circuit 9
The I / O1 line 7 is changed from H level to L level in response to the / WD signal. This L level signal is transmitted to the bit line 4 via the Y gate circuit 6, and the L level data is written and stored in the memory cell 3.

【0009】図11において、同様に、入力バッファ回
路11にデータHが入力されたとき、/WD信号はLレ
ベルになる。このとき、DTD信号がDTD信号発生回
路10によって発生され、これに応答してLレベルの/
WE信号が発生される。ライトドライバ回路9は、/W
E信号がローイネーブルであるときに、/WD信号に対
応して/I/O1線8をHレベルからLレベルに変化さ
せる。このLレベル信号は、Yゲート回路6を介して/
ビット線5に伝達され、メモリセル3にHレベルのデー
タが書き込まれて記憶される。
In FIG. 11, similarly, when data H is input to input buffer circuit 11, the / WD signal goes low. At this time, the DTD signal is generated by the DTD signal generation circuit 10, and in response to this, the L-level /
A WE signal is generated. The write driver circuit 9 is provided with / W
When the E signal is low enable, the / I / O1 line 8 is changed from H level to L level in response to the / WD signal. This L-level signal is output via the Y gate circuit 6 to /
The data is transmitted to bit line 5 and H-level data is written and stored in memory cell 3.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来例の半導体メモリ
回路において、図10における入力データLを書き込む
動作のときに、I/O1線7からビット線4までの配線
が長いと浮遊容量が大きくなる。好ましくは、メモリセ
ル3にLレベルのデータが記憶された後に、ビット線4
及びI/O1線7の各レベルをVcc−Vthのレベル
まで迅速に上げる必要がある。ここで、Vccは例えば
5Vである電源電圧であり、Vthはビット線4又は/
ビット線5のしきい値レベルである。しかしながら、I
/O1線7からビット線4までの配線における比較的大
きな浮遊容量のために、図10において100で示すよ
うに充電期間が長くなり、ワード線がLレベルからHレ
ベルに立ち上がった後の次のアドレスのリードサイクル
で当該Lレベルのデータをメモリセル3に誤って書き込
みしてしまうという問題点が生じる。
In the conventional semiconductor memory circuit, if the wiring from the I / O1 line 7 to the bit line 4 is long during the operation of writing the input data L in FIG. 10, the stray capacitance becomes large. . Preferably, after L level data is stored in memory cell 3, bit line 4
And the level of the I / O1 line 7 must be quickly raised to the level of Vcc-Vth. Here, Vcc is a power supply voltage of, for example, 5 V, and Vth is the bit line 4 or /
This is the threshold level of the bit line 5. However, I
Due to the relatively large stray capacitance in the wiring from the / O1 line 7 to the bit line 4, the charging period becomes long as shown by 100 in FIG. 10, and the next after the word line rises from the L level to the H level. There is a problem that the L-level data is erroneously written to the memory cell 3 in the address read cycle.

【0011】また、図11における入力データHを書き
込む動作のときに、/I/O1線8から/ビット線5ま
での配線が長いと浮遊容量が大きくなる。好ましくは、
メモリセル3にHレベルのデータが記憶された後に、/
ビット線5及び/I/O1線8の各レベルをVcc−V
thのレベルまで迅速に上げる必要がある。しかしなが
ら、/I/O1線8からビット線5までの配線における
比較的大きな浮遊容量のために、図11において101
で示すように充電期間が長くなり、ワード線がLレベル
からHレベルに立ち上がった後の次のアドレスのリード
サイクルで当該Hレベルのデータをメモリセル3に誤っ
て書き込みしてしまうという問題点が生じる。
In the operation of writing the input data H in FIG. 11, if the wiring from the / I / O1 line 8 to the / bit line 5 is long, the stray capacitance becomes large. Preferably,
After H-level data is stored in the memory cell 3,
Each level of bit line 5 and / I / O1 line 8 is set to Vcc-V
It needs to be raised quickly to the th level. However, due to the relatively large stray capacitance in the wiring from / I / O1 line 8 to bit line 5, 101 in FIG.
As shown by, the charging period becomes longer, and the H level data is erroneously written to the memory cell 3 in the read cycle of the next address after the word line rises from the L level to the H level. Occurs.

【0012】すなわち、DTD信号に基づいてデータを
メモリセル3に書き込むときに、ライトサイクルの後方
で行うと、ビット線4,5やI/O線7,8の浮遊容量
が大きいため、Vcc−Vthのレベルにプリチャージ
する時間が遅れて、前のサイクルのアドレスのデータが
誤ってメモリセル3に書き込まれる場合が生じる。
That is, if data is written to the memory cell 3 based on the DTD signal after the write cycle, the bit lines 4 and 5 and the I / O lines 7 and 8 have a large floating capacitance. There is a case where the time for precharging to the level of Vth is delayed and the data at the address in the previous cycle is erroneously written to the memory cell 3.

【0013】本発明の目的は以上の問題点を解決し、前
のサイクルのアドレスのデータが誤ってメモリセル3に
書き込まれることを防止することができる半導体メモリ
回路を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a semiconductor memory circuit capable of preventing data of an address in a previous cycle from being erroneously written to the memory cell 3.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体メモ
リ回路は、入出力線及びビット線に接続された複数のメ
モリセルを備えた半導体メモリ回路において、ライトデ
ータ信号に基づいて、データをメモリセルに書き込んだ
後に、プリチャージ駆動信号を発生して出力するプリチ
ャージ駆動信号発生回路と、上記プリチャージ駆動信号
に基づいて、上記入出力線及び上記ビット線をプリチャ
ージするプリチャージ回路を備えたことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory circuit including a plurality of memory cells connected to an input / output line and a bit line. The semiconductor memory circuit stores data based on a write data signal. A precharge drive signal generation circuit that generates and outputs a precharge drive signal after writing to a cell; and a precharge circuit that precharges the input / output line and the bit line based on the precharge drive signal. It is characterized by having.

【0015】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記プリチャージ回路を、電源に接続された負荷ト
ランジスタに並列に接続する。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the precharge circuit is connected in parallel to a load transistor connected to a power supply.

【0016】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記プリチャージ回路を、入出力線に接続する。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the precharge circuit is connected to an input / output line.

【0017】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記半導体メモリ回路は、それぞれ入出力線に接続
された第1と第2のセンスアンプを備え、上記プリチャ
ージ回路を、上記第1のセンスアンプが接続された入出
力線と、上記第2のセンスアンプが接続された入出力線
との間の入出力線に接続する。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the semiconductor memory circuit includes first and second sense amplifiers respectively connected to input / output lines, and the precharge circuit includes the first sense amplifier. It is connected to an input / output line between the connected input / output line and the input / output line to which the second sense amplifier is connected.

【0018】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記半導体メモリ回路は、少なくとも2個のメモリ
セルブロックを備え、上記プリチャージ回路は、上記少
なくとも2個のメモリセルブロックの間に形成されたビ
ット線に接続される。
Preferably, in the semiconductor memory circuit, the semiconductor memory circuit includes at least two memory cell blocks, and the precharge circuit includes a bit line formed between the at least two memory cell blocks. Connected to.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
る実施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】本発明に係る実施の形態の半導体メモリ回
路は、例えばSRAM回路であって、図1、図5、図6
及び図7に示すように、(a)データをメモリセル3に
書き込んだ後に、ビット線4又は/ビット線5及びI/
O1線7又は/I/O1線8を、Vcc−Vthのレベ
ルまで、従来例に比較して迅速に上昇させるために、/
WD信号に基づいてプリチャージ駆動信号A及び/Aを
発生して出力するプリチャージ駆動信号発生回路(以
下、駆動信号発生回路という。)12と、(b)プリチ
ャージ駆動信号A及び/Aに基づいて、ビット線4又は
/ビット線5及びI/O1線7又は/I/O1線8を、
Vcc−Vthのレベルまで従来例に比較して迅速に上
昇させるためのプリチャージ回路であるプリチャージ用
PMOSトランジスタ13a,13bを備えたことを特
徴としている。
The semiconductor memory circuit according to the embodiment of the present invention is, for example, an SRAM circuit, and is shown in FIGS.
As shown in FIG. 7 and (a), after data is written in the memory cell 3, the bit line 4 or the / bit line 5 and the I / O
To raise the O1 line 7 or the / I / O1 line 8 to the level of Vcc-Vth more quickly than in the conventional example,
A precharge drive signal generation circuit (hereinafter, referred to as a drive signal generation circuit) 12 that generates and outputs precharge drive signals A and / A based on the WD signal, and (b) precharge drive signals A and / A. The bit line 4 or / bit line 5 and the I / O1 line 7 or / I / O1 line 8 are
It is characterized by including PMOS transistors 13a and 13b for precharging, which are precharge circuits for rapidly increasing the voltage to the level of Vcc-Vth as compared with the conventional example.

【0021】実施の形態1 図1は、本発明に係る実施の形態1である半導体メモリ
回路の回路図であり、従来例を示す図9と同様のものに
ついては、同一の符号を付している。実施の形態1の半
導体メモリ回路は、特に、データをメモリセル3に書き
込んだ後に、Vcc−Vthのレベルまで、従来例に比
較して迅速に上昇させるためのプリチャージ用PMOS
トランジスタ13a,13bをそれぞれPMOS負荷ト
ランジスタ2a,2bと並列に接続したことを特徴とし
ている。
Embodiment 1 FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to Embodiment 1 of the present invention. The same reference numerals as in FIG. 9 showing a conventional example denote the same parts. I have. In the semiconductor memory circuit of the first embodiment, in particular, a precharge PMOS for raising the voltage to the level of Vcc-Vth more quickly than in the conventional example after writing data to the memory cell 3.
It is characterized in that the transistors 13a and 13b are connected in parallel with the PMOS load transistors 2a and 2b, respectively.

【0022】図1において、データを伝達するビット線
4と/ビット線5との間に、それぞれデータを記憶する
複数のメモリセル3と、アクセス時間を短縮するための
イコライズ信号/BEQBによりゲートがオンされるP
MOSトランジスタ20のソース・ドレインが接続され
る。ビット線4の一端は、プリチャージを行うPMOS
トランジスタ2aのドレイン・ソースを介して電源Vc
cに接続される一方、/ビット線5の他端は、プリチャ
ージを行うPMOSトランジスタ2bのドレイン・ソー
スを介して電源Vccに接続される。各PMOSトラン
ジスタ2a,2bのゲートは接地される。ここで、プリ
チャージ用PMOSトランジスタ13a,13bの各ソ
ース及びドレインはそれぞれPMOS負荷トランジスタ
2a,2bと並列にそれらの各ソース及びドレインに接
続される。プリチャージ用PMOSトランジスタ13
a,13bは、詳細後述する駆動信号発生回路12によ
って発生されたLレベルの駆動信号A,/Aに応答して
オンとされる。
Referring to FIG. 1, a plurality of memory cells 3 for storing data and an equalizing signal / BEQB for shortening an access time form a gate between bit lines 4 and 5 transmitting data. P turned on
The source and drain of the MOS transistor 20 are connected. One end of the bit line 4 is a PMOS for precharging.
Power supply Vc via the drain / source of transistor 2a
c, while the other end of the / bit line 5 is connected to the power supply Vcc via the drain and source of the PMOS transistor 2b for precharging. The gates of the PMOS transistors 2a and 2b are grounded. Here, the respective sources and drains of the precharge PMOS transistors 13a and 13b are connected to the respective sources and drains in parallel with the PMOS load transistors 2a and 2b, respectively. Precharge PMOS transistor 13
The signals a and 13b are turned on in response to the L-level drive signals A and / A generated by the drive signal generation circuit 12 described in detail below.

【0023】一方、ビット線4と/ビット線5の各他端
には、ビット線を選択するためのYゲート回路6が接続
される。Yゲート回路6は、互いのソース及びドレイン
が接続されたPMOSトランジスタ21及びNMOSト
ランジスタ22と、互いのソース及びドレインが接続さ
れたPMOSトランジスタ23及びNMOSトランジス
タ24と、インバータ25とを備えて構成される。ビッ
ト線4の他端は、PMOSトランジスタ21及びNMO
Sトランジスタ22の各ソース・ドレインを介してI/
O1線7に接続され、/ビット線5の他端は、PMOS
トランジスタ23及びNMOSトランジスタ24の各ソ
ース・ドレインを介して/I/O1線8に接続される。
例えば、Yゲート信号/YDEC1はPMOSトランジ
スタ21,23の各ゲートに印加されるとともに、イン
バータ25を介してNMOSトランジスタ22,24の
各ゲートに印加される。以上のように構成された回路
で、1対のビット線4,5に対するメモリセルライン回
路ML1が構成され、さらに、同様の回路を有するメモ
リセルライン回路が例えば15個備えて構成され、従っ
て、1対のI/O線7,8に対して16個のメモリセル
ライン回路ML1乃至ML16が設けられる。
On the other hand, a Y gate circuit 6 for selecting a bit line is connected to the other ends of the bit lines 4 and / bit line 5. The Y gate circuit 6 includes a PMOS transistor 21 and an NMOS transistor 22 whose sources and drains are connected to each other, a PMOS transistor 23 and an NMOS transistor 24 whose sources and drains are connected to each other, and an inverter 25. You. The other end of the bit line 4 is connected to a PMOS transistor 21 and an NMO
I / I via each source / drain of S transistor 22
The other end of the / bit line 5 is connected to a PMOS
The source / drain of the transistor 23 and the NMOS transistor 24 are connected to the / I / O1 line 8.
For example, the Y gate signal / YDEC1 is applied to each gate of the PMOS transistors 21 and 23 and is also applied to each gate of the NMOS transistors 22 and 24 via the inverter 25. With the circuit configured as described above, the memory cell line circuit ML1 for the pair of bit lines 4 and 5 is configured, and further, for example, 15 memory cell line circuits having similar circuits are provided. Sixteen memory cell line circuits ML1 to ML16 are provided for a pair of I / O lines 7 and 8.

【0024】メモリセル3に書き込むべきデータは、入
力バッファ回路11に入力され、入力バッファ回路11
は、入力されたデータを所定の時間だけ遅延してDTD
信号発生回路10に出力するとともに、反転されたライ
トデータを示す/WD信号(ライトデータ信号)を発生
してライトドライバ回路9及び駆動信号発生回路12に
出力する。DTD信号発生回路10は、入力された遅延
入力データに基づいて、データの遷移を検出して所定の
期間書き込み期間を活性させるためのDTD信号を発生
するとともに、データの書き込みを示す/WE信号(ラ
イトイネーブル信号)を発生して、データ書き込み時の
I/O1線7及び/I/O1線8を制御するライトドラ
イバ回路9及び駆動信号発生回路12に出力する。これ
に応答して、ライトドライバ回路9は、/WE信号がロ
ーイネーブルであるときに、/WD信号に対応したI/
O線制御信号をI/O1線7又は/I/O1線8に出力
する。
Data to be written to the memory cell 3 is input to the input buffer circuit 11 and
Delays the input data by a predetermined time and
In addition to outputting to the signal generation circuit 10, a / WD signal (write data signal) indicating inverted write data is generated and output to the write driver circuit 9 and the drive signal generation circuit 12. The DTD signal generation circuit 10 detects a data transition based on the input delayed input data, generates a DTD signal for activating a writing period for a predetermined period, and generates a / WE signal (WWE signal) indicating data writing. A write enable signal) is generated and output to a write driver circuit 9 and a drive signal generation circuit 12 that control the I / O1 line 7 and / I / O1 line 8 during data writing. In response to this, when the / WE signal is low enable, the write driver circuit 9 outputs the I / D signal corresponding to the / WD signal.
An O line control signal is output to the I / O1 line 7 or / I / O1 line 8.

【0025】そして、I/O1線7及び/I/O1線8
と同様の構成を有する1対のI/O線をさらに、例えば
7対備え、従って、合計8対のI/O線が1つのメモリ
セルブロックに対して設けられる。
Then, the I / O1 line 7 and the / I / O1 line 8
Further, for example, seven pairs of I / O lines having the same configuration as that of are provided, so that a total of eight pairs of I / O lines are provided for one memory cell block.

【0026】図2は、図1の駆動信号発生回路12の詳
細を示す回路図である。図2において、DTD信号発生
回路10によって発生された/WE信号(ライトイネー
ブル信号)はNORゲート31の第1の入力端子とNO
Rゲート32の第1の入力端子とに入力され、入力バッ
ファ回路11によって発生された/WD信号(ライトデ
ータ信号)はNORゲート31の第2の入力端子に入力
されるとともに、インバータ30を介してNORゲート
32の第2の入力端子に入力される。NORゲート31
から出力されるWDH信号は、縦続接続された4個のイ
ンバータ41,42,43,44を介してNANDゲー
ト46の第1の入力端子に入力されるとともに、インバ
ータ45を介してNANDゲート46の第2の入力端子
に入力される。一方、NORゲート32から出力される
WDL信号は、縦続接続された4個のインバータ51,
52,53,54を介してNANDゲート56の第1の
入力端子に入力されるとともに、インバータ55を介し
てNANDゲート56の第2の入力端子に入力される。
そして、NANDゲート46は、2つの入力信号に基づ
いてプリチャージのための駆動信号Aを発生してプリチ
ャージ用PMOSトランジスタ13aのゲートに印加す
る。一方、NANDゲート56は、2つの入力信号に基
づいてプリチャージのための駆動信号/Aを発生してプ
リチャージ用PMOSトランジスタ13bのゲートに印
加する。
FIG. 2 is a circuit diagram showing details of the drive signal generation circuit 12 of FIG. In FIG. 2, the / WE signal (write enable signal) generated by the DTD signal generation circuit 10 is connected to a first input terminal of a NOR gate 31 and NO.
The / WD signal (write data signal) input to the first input terminal of the R gate 32 and generated by the input buffer circuit 11 is input to the second input terminal of the NOR gate 31 and passed through the inverter 30. Is input to the second input terminal of the NOR gate 32. NOR gate 31
Is input to a first input terminal of a NAND gate 46 through four inverters 41, 42, 43, and 44 connected in cascade, and is also input to a NAND gate 46 through an inverter 45. The signal is input to the second input terminal. On the other hand, the WDL signal output from the NOR gate 32 includes four cascaded inverters 51,
The signal is input to the first input terminal of the NAND gate 56 via 52, 53, 54, and is input to the second input terminal of the NAND gate 56 via the inverter 55.
The NAND gate 46 generates a driving signal A for precharging based on the two input signals and applies the driving signal A to the gate of the precharging PMOS transistor 13a. On the other hand, the NAND gate 56 generates a driving signal / A for precharging based on the two input signals and applies the driving signal / A to the gate of the precharging PMOS transistor 13b.

【0027】以上のように構成された駆動信号発生回路
12においては、プリチャージ用PMOSトランジスタ
13a,13bをオン・オフさせるために、DTD信号
発生回路10によって発生された/WE信号と、入力バ
ッファ回路11によって発生された/WD信号とに基づ
いて、WDH信号とWDL信号を発生させ、これらのW
DH信号及びWDL信号に基づいてプリチャージ用駆動
信号A,/Aを発生している。
In the drive signal generation circuit 12 configured as described above, the / WE signal generated by the DTD signal generation circuit 10 and the input buffer are used to turn on / off the precharge PMOS transistors 13a and 13b. Based on the / WD signal generated by the circuit 11, a WDH signal and a WDL signal are generated.
The precharge driving signals A and / A are generated based on the DH signal and the WDL signal.

【0028】以上のように構成された本実施の形態1の
半導体メモリ回路の動作について、図3及び図4を参照
して説明する。図3は、図1の半導体メモリ回路におい
てデータLをメモリセル3に書き込むときの動作を示す
タイミングチャートであり、図4は、図1の半導体メモ
リ回路においてデータHをメモリセル3に書き込むとき
の動作を示すタイミングチャートである。
The operation of the semiconductor memory circuit according to the first embodiment configured as described above will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a timing chart showing an operation when data L is written into the memory cell 3 in the semiconductor memory circuit of FIG. 1, and FIG. 4 is a timing chart when data H is written into the memory cell 3 in the semiconductor memory circuit of FIG. 6 is a timing chart showing an operation.

【0029】データLをライトサイクルの後方で書き込
む場合を示す図3において、外部回路からデータLが入
力バッファ回路11に入力されるとき、/WE信号がL
レベルの期間(すなわち、DTD信号の活性期間)I/
O1線7はLレベルとなり、/I/O1線8はVcc−
Vthのレベルのままである。従って、ビット線4には
Lレベルの信号が伝達される一方、/ビット線5にはV
cc−Vthのレベルの信号が伝達され、メモリセル3
にLレベルのデータが書き込まれて記憶される。当該デ
ータの書き込み後、次のサイクルまでI/O1線7とビ
ット線4のレベルがLレベルのままになっている。この
とき、従来例におけるデータLの誤書き込みを防止する
ために、本実施の形態では、次のサイクルのワード線の
立ち上がりの直前付近で、駆動信号発生回路12により
発生された駆動信号Aによりプリチャージ用PMOSト
ランジスタ13aをオンさせることにより、図3におい
て200で示すように、I/O1線7とビット線4のレ
ベルをLレベルからVcc−Vthのレベルに、従来例
に比較して迅速に引き上げる。ここで、プリチャージ用
PMOSトランジスタ13aのプリチャージ駆動能力が
大きいほど、引き上げ効果は大きい。
Referring to FIG. 3 showing a case where data L is written after the write cycle, when data L is input to input buffer circuit 11 from an external circuit, / WE signal is low.
Level period (that is, the active period of the DTD signal) I /
O1 line 7 is at L level, and / I / O1 line 8 is at Vcc-
It remains at the Vth level. Therefore, an L-level signal is transmitted to bit line 4 while V bit is transmitted to / bit line 5.
cc-Vth level signal is transmitted to memory cell 3
At the L level is written and stored. After writing the data, the levels of the I / O1 line 7 and the bit line 4 remain at the L level until the next cycle. At this time, in order to prevent the erroneous writing of the data L in the conventional example, in the present embodiment, the drive signal A generated by the drive signal generation circuit 12 is used in the vicinity of immediately before the rising of the word line in the next cycle. By turning on the charging PMOS transistor 13a, as shown by 200 in FIG. 3, the levels of the I / O1 line 7 and the bit line 4 are rapidly changed from the L level to the level of Vcc-Vth as compared with the conventional example. Pull up. Here, the greater the precharge driving capability of the precharge PMOS transistor 13a, the greater the pulling effect.

【0030】図2の駆動信号発生回路12においては、
プリチャージ用PMOSトランジスタ13a,13bを
オン・オフするために、DTD信号発生回路10によっ
て発生された/WE信号と、入力バッファ回路11によ
って発生された/WD信号とに基づいて、WDH信号と
WDL信号を発生させ、次いで、WDH信号により/I
/O1線8を制御する一方、WDL信号はI/O1線7
を制御している。データLを書き込む場合、WDH信号
はLレベルとなる一方、WDL信号はHレベルになり、
HレベルとなったI/O1線7によりビット線4はLレ
ベルに引かれている。データLの書き込みが終了する
と、WDL信号はHレベルからLレベルに変化するの
で、その変化時にパルス信号である駆動信号Aを発生さ
せる。駆動信号AがLレベルの期間だけプリチャージ用
PMOSトランジスタ13aはオンして、I/O1線7
及びビット線4をVcc−Vthのレベルに引き上げる
働きをする。
In the drive signal generation circuit 12 shown in FIG.
In order to turn on / off the precharge PMOS transistors 13a and 13b, a WDH signal and a WDL signal are generated based on the / WE signal generated by the DTD signal generation circuit 10 and the / WD signal generated by the input buffer circuit 11. Signal, and then the / DH signal
Control the / O1 line 8 while the WDL signal is on the I / O1 line 7
Is controlling. When writing data L, the WDH signal goes low while the WDL signal goes high,
The bit line 4 is pulled down to the L level by the I / O1 line 7 that has gone to the H level. When the writing of the data L is completed, the WDL signal changes from the H level to the L level, and at that time, the drive signal A which is a pulse signal is generated. The precharge PMOS transistor 13a is turned on only when the drive signal A is at the L level, and the I / O1 line 7
And raises the bit line 4 to the level of Vcc-Vth.

【0031】データHをライトサイクルの後方で書き込
む場合を示す図4において、外部回路からデータHが入
力バッファ回路11に入力されるとき、/WE信号がL
レベルの期間(すなわち、DTD信号の活性期間)/I
/O1線8はLレベルとなり、I/O1線7はVcc−
Vthのレベルのままである。従って、/ビット線5に
はLレベルの信号が伝達される一方、ビット線4にはV
cc−Vthのレベルの信号が伝達され、メモリセル3
にHレベルのデータが書き込まれて記憶される。当該デ
ータの書き込み後、次のサイクルまで/I/O1線8と
/ビット線5のレベルがLレベルのままになっている。
このとき、従来例におけるデータHの誤書き込みを防止
するために、本実施の形態では、次のサイクルのワード
線の立ち上がりの直前付近で、駆動信号発生回路12に
より発生された駆動信号/Aによりプリチャージ用PM
OSトランジスタ13bをオンさせることにより、図4
において201で示すように、/I/O1線8と/ビッ
ト線5のレベルをLレベルからVcc−Vthのレベル
に、従来例に比較して迅速に引き上げる。ここで、プリ
チャージ用PMOSトランジスタ13bのプリチャージ
駆動能力が大きいほど、引き上げ効果は大きい。
Referring to FIG. 4 showing a case where data H is written after the write cycle, when data H is input to input buffer circuit 11 from an external circuit, / WE signal is low.
Level period (ie, active period of DTD signal) / I
/ O1 line 8 is at L level, and I / O1 line 7 is at Vcc-
It remains at the Vth level. Accordingly, an L-level signal is transmitted to / bit line 5, while V line is transmitted to bit line 4.
cc-Vth level signal is transmitted to memory cell 3
Is written and stored. After the writing of the data, the levels of the / I / O1 line 8 and the / bit line 5 remain at the L level until the next cycle.
At this time, in order to prevent erroneous writing of the data H in the conventional example, in the present embodiment, the drive signal / A generated by the drive signal generation circuit 12 near the rise of the word line in the next cycle. PM for precharge
By turning on the OS transistor 13b, FIG.
As indicated by reference numeral 201, the levels of the / I / O1 line 8 and the / bit line 5 are quickly raised from the L level to the level of Vcc-Vth as compared with the conventional example. Here, the higher the precharge driving capability of the precharge PMOS transistor 13b, the greater the pulling effect.

【0032】図2の駆動信号発生回路において、データ
Hをサイクルの後方で書き込む場合には、WDH信号は
Hレベルとなる一方、WDL信号はLレベルになり、H
レベルとなった/I/O1線8がLレベルに引かれる。
データHの書き込みが終了すると、WDH信号はHレベ
ルからLレベルに変化するので、その変化時にパルス信
号である駆動信号/Aを発生させる。駆動信号/AがL
レベルの期間だけプリチャージ用PMOSトランジスタ
13bはオンして、/I/O1線8及び/ビット線5を
Vcc−Vthのレベルへ引き上げる働きをする。
In the drive signal generation circuit of FIG. 2, when data H is written at the end of the cycle, the WDH signal goes high while the WDL signal goes low,
The / I / O1 line 8 at the level is pulled down to the L level.
When the writing of the data H is completed, the WDH signal changes from the H level to the L level, so that a drive signal / A which is a pulse signal is generated at the time of the change. Drive signal / A is L
The precharge PMOS transistor 13b is turned on only during the level period, and functions to raise the / I / O1 line 8 and the / bit line 5 to the level of Vcc-Vth.

【0033】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、駆動信号発生回路12とプリチャージ用PMOSト
ランジスタ13a,13bを備えたので、データの書き
込み後、I/O1線7及びビット線4、もしくは/I/
O1線8及び/ビット線5をLレベルからVcc−Vt
hのレベルに、従来例に比較して迅速に引き上げること
ができる。従って、前のサイクルのアドレスのデータが
誤ってメモリセル3に書き込まれることを防止すること
ができる。
As described above, according to the present embodiment, since the drive signal generation circuit 12 and the precharge PMOS transistors 13a and 13b are provided, the I / O1 line 7 and the bit line 4 Or / I /
O1 line 8 and / bit line 5 are changed from L level to Vcc-Vt.
It can be quickly raised to the level of h as compared with the conventional example. Therefore, it is possible to prevent the data of the address in the previous cycle from being erroneously written to the memory cell 3.

【0034】実施の形態2 図5は、本発明に係る実施の形態2である半導体メモリ
回路の回路図である。実施の形態2の半導体メモリ回路
は、図1の実施の形態1に比較して、プリチャージ用P
MOSトランジスタ13aをI/O1線7に接続する一
方、プリチャージ用PMOSトランジスタ13bを/I
/O1線8に接続することを特徴としている。以下、実
施の形態2と実施の形態1との間の相違点について説明
する。
Second Embodiment FIG. 5 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a second embodiment of the present invention. The semiconductor memory circuit according to the second embodiment is different from the first embodiment in FIG.
While the MOS transistor 13a is connected to the I / O1 line 7, the precharge PMOS transistor 13b is connected to / I
/ O1 line 8. Hereinafter, differences between the second embodiment and the first embodiment will be described.

【0035】図5において、プリチャージ用PMOSト
ランジスタ13aのソースは電源Vccに接続され、そ
のドレインはI/O1線7に接続され、そのゲートに
は、駆動信号Aが印加される。また、PMOS負荷トラ
ンジスタ2aのゲートは電源Vccに接続される。一
方、プリチャージ用PMOSトランジスタ13bのソー
スは電源Vccに接続され、そのドレインは/I/O1
線8に接続され、そのゲートには、駆動信号/Aが印加
される。また、PMOS負荷トランジスタ2bのゲート
は電源Vccに接続される。
In FIG. 5, the source of the precharging PMOS transistor 13a is connected to the power supply Vcc, the drain is connected to the I / O1 line 7, and the drive signal A is applied to the gate. The gate of the PMOS load transistor 2a is connected to the power supply Vcc. On the other hand, the source of precharge PMOS transistor 13b is connected to power supply Vcc, and its drain is / I / O1.
The drive signal / A is applied to the gate of the line 8. The gate of the PMOS load transistor 2b is connected to the power supply Vcc.

【0036】以上のように構成された実施の形態2の半
導体メモリ回路は、「データLの書き込み後に、駆動信
号Aに基づいてプリチャージ用PMOSトランジスタ1
3aがI/O1線7をLレベルからVcc−Vthのレ
ベルに迅速に引き上げることにより、ビット線4をLレ
ベルからVcc−Vthのレベルに、従来例に比較して
迅速に引き上げる一方、データHの書き込み後に、駆動
信号/Aに基づいてプリチャージ用PMOSトランジス
タ13bが/I/O1線8をLレベルからVcc−Vt
hのレベルに迅速に引き上げることにより、/ビット線
5をLレベルからVcc−Vthのレベルに従来例に比
較して迅速に引き上げること」を除いて実施の形態1と
同様に動作し、同様の作用効果を有する。従って、従っ
て、前のサイクルのアドレスのデータが誤ってメモリセ
ル3に書き込まれることを防止することができる。
The semiconductor memory circuit according to the second embodiment configured as described above has the following structure: “After writing data L, the precharge PMOS transistor 1
3a quickly raises I / O1 line 7 from the L level to the level of Vcc-Vth, thereby raising bit line 4 from the L level to the level of Vcc-Vth more quickly than in the conventional example, while data H is raised. Is written, the precharge PMOS transistor 13b drives the / I / O1 line 8 from the L level to Vcc-Vt based on the drive signal / A.
The operation is the same as that of the first embodiment except that the bit line 5 is quickly raised from the L level to the level of Vcc-Vth as compared with the conventional example. Has an effect. Therefore, it is possible to prevent the data at the address of the previous cycle from being erroneously written to the memory cell 3.

【0037】実施の形態3 図6は、本発明に係る実施の形態3である半導体メモリ
回路の回路図である。実施の形態3の半導体メモリ回路
は、図5の実施の形態2に比較して、プリチャージ用P
MOSトランジスタ13aを、センスアンプ61が接続
されたI/O1線7と、センスアンプ62が接続された
I/O1線7との間に接続する一方、プリチャージ用P
MOSトランジスタ13bを、センスアンプ61が接続
された/I/O1線8と、センスアンプ62が接続され
た/I/O1線8との間に接続することを特徴としてい
る。以下、実施の形態3と実施の形態1との間の相違点
について説明する。
Third Embodiment FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a third embodiment of the present invention. The semiconductor memory circuit according to the third embodiment is different from the second embodiment in FIG.
The MOS transistor 13a is connected between the I / O1 line 7 to which the sense amplifier 61 is connected and the I / O1 line 7 to which the sense amplifier 62 is connected.
The MOS transistor 13b is connected between the / I / O1 line 8 to which the sense amplifier 61 is connected and the / I / O1 line 8 to which the sense amplifier 62 is connected. Hereinafter, differences between the third embodiment and the first embodiment will be described.

【0038】図6において、センスアンプ61はI/O
1線7及び/I/O1線8に接続され、I/O1線7及
び/I/O1線8上のメモリセル3から読み出されたデ
ータを検出しかつ増幅して出力する。また、センスアン
プ62はI/O1線7及び/I/O1線8に接続され、
I/O1線7及び/I/O1線8上のメモリセル3から
読み出されたデータを検出しかつ増幅して出力する。こ
こで、I/O1線7及び/I/O1線8はグローバルI
/O線とも呼ばれる。
In FIG. 6, a sense amplifier 61 has an I / O
It is connected to the 1 line 7 and the / I / O1 line 8, detects data read from the memory cell 3 on the I / O1 line 7 and the / I / O1 line 8, and amplifies and outputs the data. The sense amplifier 62 is connected to the I / O1 line 7 and the / I / O1 line 8,
The data read from the memory cell 3 on the I / O1 line 7 and / I / O1 line 8 is detected, amplified, and output. Here, I / O1 line 7 and / I / O1 line 8 are global I
Also called / O line.

【0039】以上のように構成された実施の形態3の半
導体メモリ回路は、実施の形態2と同様に動作し、同様
の作用効果を有する。従って、従って、前のサイクルの
アドレスのデータが誤ってメモリセル3に書き込まれる
ことを防止することができる。
The semiconductor memory circuit of the third embodiment configured as described above operates in the same manner as the second embodiment, and has the same function and effect. Therefore, it is possible to prevent the data at the address of the previous cycle from being erroneously written to the memory cell 3.

【0040】実施の形態4 図7は、本発明に係る実施の形態4である半導体メモリ
回路の回路図である。実施の形態4の半導体メモリ回路
は、図5の実施の形態2に比較して、プリチャージ用P
MOSトランジスタ13a及び13bを、第1Tゲート
回路6aと第2Tゲート回路6bとの間であって、2個
のメモリセルブロックMB1,MB2の間に形成された
第2のアルミ配線であるビット線14及び/ビット線1
5に接続したことを特徴としている。以下、実施の形態
4と実施の形態2との間の相違点について説明する。
Fourth Embodiment FIG. 7 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a fourth embodiment of the present invention. The semiconductor memory circuit according to the fourth embodiment is different from the second embodiment in FIG.
The MOS transistors 13a and 13b are connected to the first T gate circuit 6a and the second T gate circuit 6b by a bit line 14 which is a second aluminum wiring formed between the two memory cell blocks MB1 and MB2. And / or bit line 1
5 is connected. Hereinafter, differences between the fourth embodiment and the second embodiment will be described.

【0041】図7において、当該半導体メモリ回路を構
成するための半導体基板(図示せず。)の上表面に、第
1のアルミ配線(図7及び図8において実線で示す。)
であるビット線4及び/ビット線5が形成される一方、
上記半導体基板の下表面に、第2のアルミ配線(図7及
び図8において一点鎖線で示す。)であるビット線14
及び/ビット線15、ビット線4a及び/ビット線5
a、並びに、I/O1線7a及び/I/O1線8aが形
成される。すなわち、2層構造のアルミ配線が形成さ
れ、これらはT型ビット線と呼ばれている。そして、図
5の実施の形態2のYゲート回路6の代わりに、Yゲー
ト回路6と同様の構成を有し、ビット線を選択するため
の第1Tゲート回路6aが設けられる。ここで、第1T
ゲート回路6aには、Yゲート信号の代わりに、第1T
ゲート信号/BS1がインバータ25及びPMOSトラ
ンジスタ21,23の各ゲートに印加される。
In FIG. 7, a first aluminum wiring (shown by a solid line in FIGS. 7 and 8) is provided on an upper surface of a semiconductor substrate (not shown) for forming the semiconductor memory circuit.
Bit line 4 and / or bit line 5 are formed,
On the lower surface of the semiconductor substrate, a bit line 14 as a second aluminum wiring (indicated by a dashed line in FIGS. 7 and 8).
And / or bit line 15, bit line 4a and / or bit line 5
a and the I / O1 line 7a and the / I / O1 line 8a. That is, aluminum wirings having a two-layer structure are formed, and these are called T-type bit lines. Then, instead of Y gate circuit 6 of the second embodiment in FIG. 5, a first T gate circuit 6a having the same configuration as Y gate circuit 6 and selecting a bit line is provided. Here, the first T
The gate circuit 6a includes a first T signal instead of the Y gate signal.
Gate signal / BS1 is applied to each gate of inverter 25 and PMOS transistors 21 and 23.

【0042】メモリセル3が接続されたビット線4は、
ビット線4a、第1Tゲート回路6aのPMOSトラン
ジスタ21及びNMOSトランジスタ22の各ソース・
ドレイン、ビット線14、第2Tゲート回路6bのPM
OSトランジスタ71及びNMOSトランジスタ72の
各ソース・ドレイン、I/O1線7a、並びに、I/O
1線7を介してライトドライバ回路9に接続される。ま
た、メモリセル3が接続された/ビット線5は、/ビッ
ト線5a、第1Tゲート回路6aのPMOSトランジス
タ23及びNMOSトランジスタ24の各ソース・ドレ
イン、/ビット線15、第2Tゲート回路6bのPMO
Sトランジスタ73及びNMOSトランジスタ74の各
ソース・ドレイン、/I/O1線8a、並びに、/I/
O1線8を介してライトドライバ回路9に接続される。
The bit line 4 to which the memory cell 3 is connected
Each source of the bit line 4a, the PMOS transistor 21 and the NMOS transistor 22 of the first T gate circuit 6a
Drain, bit line 14, PM of second T gate circuit 6b
The source / drain of each of the OS transistor 71 and the NMOS transistor 72, the I / O1 line 7a, and the I / O
It is connected to the write driver circuit 9 via one line 7. The / bit line 5 to which the memory cell 3 is connected includes the / bit line 5a, the source / drain of the PMOS transistor 23 and the NMOS transistor 24 of the first T gate circuit 6a, the / bit line 15, and the / bit line 5 of the second T gate circuit 6b. PMO
The source / drain of each of the S transistor 73 and the NMOS transistor 74, the / I / O1 line 8a, and / I /
It is connected to the write driver circuit 9 via the O1 line 8.

【0043】ビット線を選択するための第2Tゲート回
路6bは、互いのソース及びドレインが接続されたPM
OSトランジスタ71及びNMOSトランジスタ72
と、互いのソース及びドレインが接続されたPMOSト
ランジスタ73及びNMOSトランジスタ74と、イン
バータ25と、NANDゲート76とを備えて構成され
る。例えば第2Tゲート信号であるY2Y3信号、Y0
Y1信号及び/NED信号はNANDゲート76に入力
され、NANDゲート76から出力されるゲート信号
は、PMOSトランジスタ71,73の各ゲートに印加
されるとともに、インバータ75を介してNMOSトラ
ンジスタ72,74の各ゲートに印加される。
The second T gate circuit 6b for selecting a bit line has a PM connected to its source and drain.
OS transistor 71 and NMOS transistor 72
, A PMOS transistor 73 and an NMOS transistor 74 whose sources and drains are connected to each other, the inverter 25, and a NAND gate 76. For example, the second T gate signal Y2Y3 signal, Y0
The Y1 signal and the / NED signal are input to the NAND gate 76, and the gate signal output from the NAND gate 76 is applied to each gate of the PMOS transistors 71 and 73, and the NMOS transistors 72 and 74 Applied to each gate.

【0044】図8は、図7のライトドライバ回路9から
各メモリセルブロックMB1,MB2までの回路を示す
回路図である。図8に示すように、半導体基板(図示せ
ず。)の上表面に、第1のアルミ配線であるビット線4
及び/ビット線5が形成される一方、上記半導体基板の
下表面に、第2のアルミ配線であるビット線14及び/
ビット線15、ビット線4a及び/ビット線5a、並び
に、I/O1線7a及び/I/O1線8aが形成され、
プリチャージ用PMOSトランジスタ13a,13bは
2個のメモリセルブロックMB1,MB2の間に設けら
れて、第2のアルミ配線であるビット線14及び/ビッ
ト線15に接続される。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a circuit from the write driver circuit 9 of FIG. 7 to each of the memory cell blocks MB1 and MB2. As shown in FIG. 8, a bit line 4 as a first aluminum wiring is formed on an upper surface of a semiconductor substrate (not shown).
And / or bit lines 5 are formed, and on the lower surface of the semiconductor substrate, bit lines 14 and / or
A bit line 15, a bit line 4a and a / bit line 5a, and an I / O1 line 7a and a / I / O1 line 8a are formed.
Precharge PMOS transistors 13a and 13b are provided between two memory cell blocks MB1 and MB2, and are connected to bit lines 14 and / bit lines 15 which are second aluminum wirings.

【0045】以上のように構成された実施の形態4の半
導体メモリ回路は、実施の形態2と同様に動作し、同様
の作用効果を有する。従って、前のサイクルのアドレス
のデータが誤ってメモリセル3に書き込まれることを防
止することができる。
The semiconductor memory circuit of the fourth embodiment configured as described above operates in the same manner as the second embodiment, and has the same function and effect. Therefore, it is possible to prevent the data of the address in the previous cycle from being erroneously written to the memory cell 3.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る半導体
メモリ回路によれば、入出力線及びビット線に接続され
た複数のメモリセルを備えた半導体メモリ回路におい
て、ライトデータ信号に基づいて、データをメモリセル
に書き込んだ後に、プリチャージ駆動信号を発生して出
力するプリチャージ駆動信号発生回路と、上記プリチャ
ージ駆動信号に基づいて、上記入出力線及び上記ビット
線をプリチャージするプリチャージ回路を備える。従っ
て、データの書き込み後、入出力線及びビット線のレベ
ルを従来例に比較して迅速に引き上げることができ、前
のサイクルのアドレスのデータが誤ってメモリセルに書
き込まれることを防止することができる。
As described above in detail, according to the semiconductor memory circuit of the present invention, in a semiconductor memory circuit having a plurality of memory cells connected to input / output lines and bit lines, a semiconductor memory circuit based on a write data signal A precharge drive signal generating circuit for generating and outputting a precharge drive signal after writing data to the memory cell; and a precharge circuit for precharging the input / output line and the bit line based on the precharge drive signal. A charge circuit is provided. Therefore, after the data is written, the levels of the input / output lines and the bit lines can be quickly raised as compared with the conventional example, thereby preventing the data of the address in the previous cycle from being erroneously written to the memory cell. it can.

【0047】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記プリチャージ回路を、電源に接続された負荷ト
ランジスタに並列に接続する。従って、データの書き込
み後、入出力線及びビット線のレベルを従来例に比較し
て迅速に引き上げることができ、前のサイクルのアドレ
スのデータが誤ってメモリセルに書き込まれることを防
止することができる。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the precharge circuit is connected in parallel to a load transistor connected to a power supply. Therefore, after the data is written, the levels of the input / output lines and the bit lines can be quickly raised as compared with the conventional example, thereby preventing the data of the address in the previous cycle from being erroneously written to the memory cell. it can.

【0048】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記プリチャージ回路を、入出力線に接続する。従
って、データの書き込み後、入出力線及びビット線のレ
ベルを従来例に比較して迅速に引き上げることができ、
前のサイクルのアドレスのデータが誤ってメモリセルに
書き込まれることを防止することができる。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the precharge circuit is connected to an input / output line. Therefore, after the data is written, the levels of the input / output lines and the bit lines can be quickly raised as compared with the conventional example.
It is possible to prevent the data at the address of the previous cycle from being erroneously written to the memory cell.

【0049】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記半導体メモリ回路は、それぞれ入出力線に接続
された第1と第2のセンスアンプを備え、上記プリチャ
ージ回路を、上記第1のセンスアンプが接続された入出
力線と、上記第2のセンスアンプが接続された入出力線
との間の入出力線に接続する。従って、データの書き込
み後、入出力線及びビット線のレベルを従来例に比較し
て迅速に引き上げることができ、前のサイクルのアドレ
スのデータが誤ってメモリセルに書き込まれることを防
止することができる。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the semiconductor memory circuit includes first and second sense amplifiers respectively connected to input / output lines, and the precharge circuit includes the first sense amplifier. It is connected to an input / output line between the connected input / output line and the input / output line to which the second sense amplifier is connected. Therefore, after the data is written, the levels of the input / output lines and the bit lines can be quickly raised as compared with the conventional example, thereby preventing the data of the address in the previous cycle from being erroneously written to the memory cell. it can.

【0050】上記半導体メモリ回路において、好ましく
は、上記半導体メモリ回路は、少なくとも2個のメモリ
セルブロックを備え、上記プリチャージ回路は、上記少
なくとも2個のメモリセルブロックの間に形成されたビ
ット線に接続される。従って、データの書き込み後、入
出力線及びビット線のレベルを従来例に比較して迅速に
引き上げることができ、前のサイクルのアドレスのデー
タが誤ってメモリセルに書き込まれることを防止するこ
とができる。
In the semiconductor memory circuit, preferably, the semiconductor memory circuit includes at least two memory cell blocks, and the precharge circuit includes a bit line formed between the at least two memory cell blocks. Connected to. Therefore, after the data is written, the levels of the input / output lines and the bit lines can be quickly raised as compared with the conventional example, thereby preventing the data of the address in the previous cycle from being erroneously written to the memory cell. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る実施の形態1である半導体メモ
リ回路の回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 図1の駆動信号発生回路12の詳細を示す回
路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing details of a drive signal generation circuit 12 of FIG. 1;

【図3】 図1の半導体メモリ回路においてデータLを
メモリセル3に書き込むときの動作を示すタイミングチ
ャートである。
FIG. 3 is a timing chart showing an operation when writing data L to a memory cell 3 in the semiconductor memory circuit of FIG. 1;

【図4】 図1の半導体メモリ回路においてデータHを
メモリセル3に書き込むときの動作を示すタイミングチ
ャートである。
FIG. 4 is a timing chart showing an operation when writing data H to a memory cell 3 in the semiconductor memory circuit of FIG. 1;

【図5】 本発明に係る実施の形態2である半導体メモ
リ回路の回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a second embodiment of the present invention;

【図6】 本発明に係る実施の形態3である半導体メモ
リ回路の回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a third embodiment of the present invention;

【図7】 本発明に係る実施の形態4である半導体メモ
リ回路の回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram of a semiconductor memory circuit according to a fourth embodiment of the present invention;

【図8】 図7のライトドライバ回路9から各メモリセ
ルブロックMB1,MB2までの回路を示す回路図であ
る。
8 is a circuit diagram showing a circuit from the write driver circuit 9 of FIG. 7 to each of the memory cell blocks MB1 and MB2.

【図9】 従来例の半導体メモリ回路の回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory circuit.

【図10】 図9の半導体メモリ回路においてデータL
をメモリセル3に書き込むときの動作を示すタイミング
チャートである。
10 shows data L in the semiconductor memory circuit of FIG. 9;
6 is a timing chart showing an operation when writing is performed in the memory cell 3.

【図11】 図9の半導体メモリ回路においてデータH
をメモリセル3に書き込むときの動作を示すタイミング
チャートである。
FIG. 11 shows data H in the semiconductor memory circuit of FIG. 9;
6 is a timing chart showing an operation when writing is performed in the memory cell 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電源、2a,2b PMOS負荷トランジスタ、3
メモリセル、4 ビット線、5 /ビット線、6 Y
ゲート回路、6a 第1Tゲート回路、6b 第2Tゲ
ート回路、7 I/O1線、8 /I/O1線、9 ラ
イトドライバ回路、10 DTD信号発生回路、11
入力バッファ回路、12 プリチャージ駆動信号発生回
路、13a,13b プリチャージ用PMOSトランジ
スタ、14ビット線、15 /ビット線、20,21,
23,71,73 PMOSトランジスタ、22,2
4,72,74 NMOSトランジスタ、25,30,
41乃至45,51乃至55,75 インバータ、3
1,32 NORゲート、46,56,76 NAND
ゲート、61,62 センスアンプ、MB1,MB2メ
モリセルブロック、ML1,ML2 メモリセルライン
回路。
1 power supply, 2a, 2b PMOS load transistor, 3
Memory cell, 4 bit line, 5 / bit line, 6 Y
Gate circuit, 6a first T gate circuit, 6b second T gate circuit, 7 I / O1 line, 8 / I / O1 line, 9 write driver circuit, 10 DTD signal generation circuit, 11
Input buffer circuit, 12 precharge drive signal generation circuit, 13a, 13b PMOS transistor for precharge, 14 bit line, 15 / bit line, 20, 21,
23, 71, 73 PMOS transistors, 22, 2
4, 72, 74 NMOS transistors, 25, 30,
41 to 45, 51 to 55, 75 Inverter, 3
1,32 NOR gate, 46,56,76 NAND
Gate, 61, 62 sense amplifier, MB1, MB2 memory cell block, ML1, ML2 memory cell line circuit.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入出力線及びビット線に接続された複数
のメモリセルを備えた半導体メモリ回路において、 ライトデータ信号に基づいて、データをメモリセルに書
き込んだ後に、プリチャージ駆動信号を発生して出力す
るプリチャージ駆動信号発生回路と、 上記プリチャージ駆動信号に基づいて、上記入出力線及
び上記ビット線をプリチャージするプリチャージ回路を
備えたことを特徴とする半導体メモリ回路。
In a semiconductor memory circuit having a plurality of memory cells connected to an input / output line and a bit line, a precharge drive signal is generated after writing data to the memory cell based on a write data signal. And a precharge circuit for precharging the input / output lines and the bit lines based on the precharge drive signal.
【請求項2】 上記プリチャージ回路を、電源に接続さ
れた負荷トランジスタに並列に接続したことを特徴とす
る請求項1記載の半導体メモリ回路。
2. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein said precharge circuit is connected in parallel to a load transistor connected to a power supply.
【請求項3】 上記プリチャージ回路を、入出力線に接
続したことを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ回
路。
3. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein said precharge circuit is connected to an input / output line.
【請求項4】 上記半導体メモリ回路は、それぞれ入出
力線に接続された第1と第2のセンスアンプを備え、 上記プリチャージ回路を、上記第1のセンスアンプが接
続された入出力線と、上記第2のセンスアンプが接続さ
れた入出力線との間の入出力線に接続したことを特徴と
する請求項1記載の半導体メモリ回路。
4. The semiconductor memory circuit includes first and second sense amplifiers connected to input / output lines, respectively, wherein the precharge circuit is connected to an input / output line connected to the first sense amplifier. 2. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein said input / output line is connected to an input / output line between said input / output line and said second sense amplifier.
【請求項5】 上記半導体メモリ回路は、少なくとも2
個のメモリセルブロックを備え、 上記プリチャージ回路は、上記少なくとも2個のメモリ
セルブロックの間に形成されたビット線に接続されたこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ回路。
5. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein at least two
2. The semiconductor memory circuit according to claim 1, further comprising a plurality of memory cell blocks, wherein said precharge circuit is connected to a bit line formed between said at least two memory cell blocks.
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