JPH10116556A - Partition structure of plasma display and method of forming the same - Google Patents
Partition structure of plasma display and method of forming the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単に製造できるとともに基板の放熱性が優
れたプラズマディスプレイの隔壁構造及びその形成方法
を提供する。
【解決手段】 陽極酸化可能な金属基板1の一主面に形
成された所定形状の凹凸部2、3の表面が陽極酸化膜か
ら成る絶縁膜4で覆われて成る。熱伝導性の良好な金属
基板1を用いることにより放熱性に優れ、またその形成
方法において陽極酸化可能な金属基板1の一主面に、化
学的なエッチング法または機械的な研削によって所定形
状の凹凸部2、3を形成し、その金属基板の表面に所定
厚みの陽極酸化膜を形成することにより簡単に製造でき
る。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a partition structure of a plasma display which can be easily manufactured and has excellent heat dissipation of a substrate, and a method of forming the same. SOLUTION: A surface of a concave and convex portion having a predetermined shape formed on one main surface of an anodizable metal substrate is covered with an insulating film made of an anodized film. By using the metal substrate 1 having good heat conductivity, the heat dissipation is excellent, and one main surface of the metal substrate 1 that can be anodized in the forming method is formed into a predetermined shape by a chemical etching method or mechanical grinding. It can be easily manufactured by forming the uneven portions 2 and 3 and forming an anodic oxide film having a predetermined thickness on the surface of the metal substrate.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイの背面基板に形成される隔壁構造及びその形成方法
に関するものである。The present invention relates to a partition structure formed on a rear substrate of a plasma display and a method of forming the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、OA分野、AV分野において、大
型のフラットディスプレイのカラー化の要望が高まって
いる。このような要望に応える大型カラーディスプレイ
としてカラープラズマディスプレイパネル(以下、カラ
ーPDPという)がある。2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for colorization of large flat displays in the OA and AV fields. There is a color plasma display panel (hereinafter, referred to as a color PDP) as a large color display that meets such a demand.
【0003】図4及び図5にそれぞれDC型とAC型の
カラーPDPの断面図を示す。カラーPDPは、前面ガ
ラス基板11と、背面ガラス基板12と、それらの間に
多数のセルを形成するように配置された隔壁13とを有
している。それぞれの基板11、12の対向する面には
各セルに対応する電極が互いに直交する方向に配列形成
されている。隔壁13は、AC型、DC型の放電方式の
如何に関わらず設けられている。この隔壁13によって
両ガラス基板11、12の間隔を規制することにより、
適切な放電ギャップを確保できるとともに隣接セルへの
クロストークを防止できる。FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views of DC and AC color PDPs, respectively. The color PDP has a front glass substrate 11, a rear glass substrate 12, and partition walls 13 arranged so as to form a large number of cells therebetween. Electrodes corresponding to each cell are arranged in a direction orthogonal to each other on opposing surfaces of the substrates 11 and 12. The partition 13 is provided irrespective of the type of AC or DC discharge. By regulating the distance between the two glass substrates 11 and 12 by the partition walls 13,
An appropriate discharge gap can be ensured, and crosstalk to an adjacent cell can be prevented.
【0004】通常、AC型のカラーPDPの隔壁13
は、図5に示すように、ストライプ状に形成され、DC
型のカラーPDPの隔壁13は、図4に示すように、マ
トリックス状に形成されている。隔壁13内部にはR
(赤)、G(緑)、B(青)の3色の蛍光体層14が形
成されているとともに、不活性ガスが封入されている。Usually, a partition 13 of an AC type color PDP is used.
Are formed in a stripe shape as shown in FIG.
The partition 13 of the mold color PDP is formed in a matrix as shown in FIG. R inside the partition 13
Phosphor layers 14 of three colors (red), G (green), and B (blue) are formed, and an inert gas is sealed therein.
【0005】このようなカラーPDPにおいては、画像
信号に応じて電極間に電圧を印加して所望のセル内で放
電させ、蛍光体層14を発光させることによりカラー画
像が表示される。In such a color PDP, a color image is displayed by applying a voltage between the electrodes in accordance with an image signal to discharge in a desired cell and cause the phosphor layer 14 to emit light.
【0006】この種のカラーPDPは、以下のように製
造される。まず、ガラス基板上に電極や隔壁などとなる
各種の凸部を形成して前面基板11と背面基板12とを
製造し、両基板11、12を対向させた後、周囲をシー
ルしてその内部に不活性ガスを封入する。そして、最後
に制御回路やシャーシを組み立ててカラーPDPを完成
する。[0006] This type of color PDP is manufactured as follows. First, a front substrate 11 and a rear substrate 12 are manufactured by forming various projections serving as electrodes and partition walls on a glass substrate, and the substrates 11 and 12 are opposed to each other. Is filled with an inert gas. Finally, the control circuit and the chassis are assembled to complete the color PDP.
【0007】背面基板12を製造する際には、DC型の
場合、まずガラス基板上に電極およびそれを接続する母
線をスクリーン印刷法により形成する。続いて、母線と
電極を接続する抵抗を形成する。電極が形成されると、
その上にガラスペーストをスクリーン印刷法により塗布
して絶縁層を形成する。この絶縁層において陰極形成部
分には電極が露出するように孔を形成する。この孔に金
属ペーストがスクリーン印刷法により充填されて陰極が
形成される。陰極が形成されると、複数回の印刷とサン
ドブラスト法により陰極の周りに隔壁13がマトリック
ス状に形成される。最後に、隔壁13で囲まれた空間に
蛍光体層14をスクリーン印刷法によりR、G、Bそれ
ぞれ順番に挿入形成される。When manufacturing the rear substrate 12, in the case of the DC type, first, electrodes and buses connecting the electrodes are formed on a glass substrate by a screen printing method. Subsequently, a resistor for connecting the bus bar and the electrode is formed. Once the electrodes are formed,
A glass paste is applied thereon by a screen printing method to form an insulating layer. In the insulating layer, holes are formed in the portion where the cathode is formed so that the electrodes are exposed. The holes are filled with a metal paste by a screen printing method to form a cathode. When the cathode is formed, partition walls 13 are formed in a matrix around the cathode by printing and sandblasting a plurality of times. Finally, the phosphor layer 14 is inserted and formed in the order of R, G, and B in the space surrounded by the partition 13 by the screen printing method.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
カラーPDPの製造過程では、その隔壁13は主として
スクリーン印刷により形成されているが、隔壁13の高
さが150〜200μm程度必要であるため、印刷、乾
燥を10数回から20回近く繰り返さなければならず、
かなりの時間を要するという問題がある。また、最近と
みに大型化の要望が大きいが、大きくなると消費電力も
大きく、発熱によりガラス基板が割れる恐れがあるとい
う問題もある。As described above, in the conventional process of manufacturing a color PDP, the partition 13 is mainly formed by screen printing. However, the height of the partition 13 needs to be about 150 to 200 μm. , Printing and drying must be repeated more than 10 to 20 times,
There is a problem that it takes considerable time. In addition, although there is a great demand for a large size recently, there is also a problem that as the size increases, the power consumption is large and the glass substrate may be broken due to heat generation.
【0009】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、簡単
に製造できるとともに背面基板の放熱性の優れたプラズ
マディスプレイの隔壁構造及びその形成方法を提供する
ことを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a partition wall structure of a plasma display which can be easily manufactured and has excellent heat dissipation of a back substrate, and a method of forming the same, in view of the above-mentioned conventional problems.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイの隔壁構造は、背面基板となる金属基板の一主面
に形成された所定形状の凹凸部の表面が絶縁膜で覆われ
てなり、好適には金属基板が陽極酸化可能な金属板、絶
縁膜が陽極酸化膜から成るものであり、凹凸部の表面を
絶縁膜で覆って隔壁を構成しているので隔壁を簡単に形
成できかつ背面基板に熱伝導性の悪いガラスではなく、
熱伝導性の良好な金属基板を用いることにより放熱性に
優れる。また、陽極酸化可能な金属基板の一主面に、化
学的なエッチング法または機械的な研削によって所定形
状の凹凸部を形成し、その金属基板の表面に所定厚みの
陽極酸化膜を形成することにより、信頼性の高い絶縁膜
を簡単に製造できる。The partition structure of a plasma display according to the present invention is preferably configured such that the surface of a concavo-convex portion having a predetermined shape formed on one main surface of a metal substrate serving as a back substrate is covered with an insulating film. The metal substrate is a metal plate that can be anodized and the insulating film is composed of an anodic oxide film. The partition walls are formed by covering the surface of the irregularities with the insulating film. Not glass with poor thermal conductivity,
By using a metal substrate having good thermal conductivity, heat dissipation is excellent. In addition, an uneven portion having a predetermined shape is formed on one main surface of the anodizable metal substrate by a chemical etching method or mechanical grinding, and an anodic oxide film having a predetermined thickness is formed on the surface of the metal substrate. Thereby, a highly reliable insulating film can be easily manufactured.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明のプラズマディスプ
レイの隔壁構造及びその形成方法の一実施形態を図1〜
図3を参照しながら説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a partition structure of a plasma display and a method of forming the same according to the present invention are shown in FIGS.
This will be described with reference to FIG.
【0012】AC型のプラズマディスプレイの隔壁構造
を形成した背面基板を図1に示す。FIG. 1 shows a rear substrate on which a partition structure of an AC type plasma display is formed.
【0013】図1において、1は背面基板の基材となる
陽極酸化可能な金属基板である。2は金属基板1の表面
に形成された凹部であり、3は凸部である。4は凹凸部
が形成された金属基板の全体を覆うように形成された絶
縁膜であり、陽極酸化膜で構成されている。5はアドレ
ス電極、6は蛍光体層である。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an anodizable metal substrate serving as a base material of a rear substrate. 2 is a concave portion formed on the surface of the metal substrate 1, and 3 is a convex portion. Reference numeral 4 denotes an insulating film formed so as to cover the entire metal substrate on which the uneven portions are formed, and is formed of an anodic oxide film. 5 is an address electrode, and 6 is a phosphor layer.
【0014】次に、上記カラーPDPの製造方法につい
て図2、図3を参照して説明する。Next, a method of manufacturing the color PDP will be described with reference to FIGS.
【0015】背面基板を作成する金属基板1は、大きさ
300mm×400mmで、厚さ2mmのアルミニウム
板から成る。このアルミニウム板の表面に、ピッチ20
0μmで、凹部2の幅が150μm、凸部3の幅が50
μm、深さ200μmのストライプ状の凹凸部を形成す
る(図2(a)参照)。この凹凸部は、研削により形成
した。The metal substrate 1 for forming the back substrate is made of an aluminum plate having a size of 300 mm × 400 mm and a thickness of 2 mm. A pitch of 20 is formed on the surface of this aluminum plate.
0 μm, the width of the concave portion 2 is 150 μm, and the width of the convex portion 3 is 50 μm.
A stripe-shaped uneven portion having a thickness of 200 μm and a depth of 200 μm is formed (see FIG. 2A). This uneven portion was formed by grinding.
【0016】続いてこの金属基板1に対して酒石酸アン
モニウム水溶液を用いて陽極酸化を行い、陽極酸化膜か
ら成る絶縁膜4を形成した(図2(b)参照)。陽極酸
化は、酸化電圧300V、酸化電流5mA/cm2 の条
件で行った。Subsequently, the metal substrate 1 was subjected to anodic oxidation using an aqueous solution of ammonium tartrate to form an insulating film 4 made of an anodic oxide film (see FIG. 2B). The anodic oxidation was performed under the conditions of an oxidation voltage of 300 V and an oxidation current of 5 mA / cm 2 .
【0017】次に、上記のようにして形成した隔壁の凹
部2の底部に、銀−パラジウムペーストをスクリーン印
刷により印刷し、空気中で約500℃の温度で焼成して
バインダー成分を蒸発させ、アドレス電極5を形成した
(図2(c)参照)。Next, a silver-palladium paste is printed on the bottom of the concave portion 2 of the partition wall formed as described above by screen printing, and baked at about 500 ° C. in air to evaporate the binder component. The address electrode 5 was formed (see FIG. 2C).
【0018】引続き、スクリーン印刷により凹部2の底
面及び壁面に蛍光体R、G、Bを順次塗布し、同じく空
気中で約500℃の温度で焼成してバインダー成分を蒸
発させ、蛍光体層6を形成した(図2(d)参照)。こ
のようにして背面基板を作成した。Subsequently, phosphors R, G, and B are sequentially applied to the bottom surface and the wall surface of the concave portion 2 by screen printing, and baked at a temperature of about 500 ° C. in the same air to evaporate a binder component. Was formed (see FIG. 2D). Thus, a rear substrate was formed.
【0019】このようにして製造した背面基板と別工程
で製造した前面基板とを貼り合わせ、内部の空気を不活
性ガスに置換して表示部分が完成され、最後に電子回路
とシャーシを組み立ててカラーPDPが完成する。The rear substrate manufactured in this way and the front substrate manufactured in a separate process are bonded together, and the air inside is replaced with an inert gas to complete the display portion. Finally, the electronic circuit and the chassis are assembled. The color PDP is completed.
【0020】以上の説明では、金属基板1に凹凸を形成
する方法として、機械的な研削方法を例示したが、図3
に示すように、化学的なエッチング法にて形成してもよ
い。In the above description, a mechanical grinding method has been exemplified as a method for forming irregularities on the metal substrate 1.
As shown in (1), it may be formed by a chemical etching method.
【0021】具体例を説明すると、図3において、金属
基板1の表面に、厚さ2μm、ピッチ200μm、パタ
ーン幅100μmのレジストパターン7を形成し(図3
(a)参照)、エッチング液としてリン酸系の液を用い
てレジストで覆われていない部分をエッチングすること
により凹部2を形成した(図3(b)参照)。このよう
にして、ピッチ200μm、凹部2の幅150μm、凸
部3の幅50μm、深さ150μmのストライプ状の凹
凸部が形成された。図3に示す方法は、ストライプ状の
凹凸部を有するAC型のカラーPDPの製法としても、
又マトリックス状の凹凸部を有するDC型のカラーPD
Pの製法としても適している。A specific example will be described. In FIG. 3, a resist pattern 7 having a thickness of 2 μm, a pitch of 200 μm, and a pattern width of 100 μm is formed on the surface of the metal substrate 1.
(See (a)), a concave portion 2 was formed by etching a portion not covered with the resist using a phosphoric acid-based solution as an etchant (see FIG. 3B). In this way, a striped uneven portion having a pitch of 200 μm, a width of the concave portion 2 of 150 μm, a width of the convex portion 3 of 50 μm, and a depth of 150 μm was formed. The method shown in FIG. 3 is also applicable to a method of manufacturing an AC type color PDP having stripe-shaped uneven portions.
DC type color PD having matrix-shaped irregularities
It is also suitable as a method for producing P.
【0022】本発明は、上記実施形態で示した陽極酸化
条件や、エッチング条件に限定されるものではない。例
えば、陽極酸化液は、中性の電解質溶液であれば良く、
溶媒も水に限らずエチレングリコールなどの多価アルコ
ール系の溶剤との混合溶媒でもよい。また、酸化電圧、
電流ともそれに限定されるものでないことは言うまでも
ない。The present invention is not limited to the anodic oxidation conditions and the etching conditions shown in the above embodiment. For example, the anodizing solution may be a neutral electrolyte solution,
The solvent is not limited to water, and may be a mixed solvent with a polyhydric alcohol solvent such as ethylene glycol. Also, oxidation voltage,
It goes without saying that the current is not limited to that.
【0023】[0023]
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイの隔壁構
造及びその形成方法によれば、以上の説明から明らかな
ように、放熱性の良好な金属基板を用い、その一主面に
凹凸を形成してその表面を絶縁膜で覆って隔壁を構成し
ているので、従来のように何回もスクリーン印刷と乾燥
を繰り返す方法に比べて簡単に形成することができ、ま
た駆動中に発生する熱を速やかに放熱できるので、発熱
による影響も小さくすることができる。According to the partition structure of the plasma display and the method of forming the same according to the present invention, as is apparent from the above description, a metal substrate having good heat dissipation is used, and the unevenness is formed on one principal surface thereof. Since the surface is covered with an insulating film to form a partition wall, it can be formed more easily than the conventional method of repeating screen printing and drying many times, and the heat generated during driving can be quickly reduced. Since the heat can be dissipated, the influence of heat generation can be reduced.
【0024】また、金属基板を陽極酸化可能な金属板
で、絶縁膜を陽極酸化膜にて構成し、陽極酸化可能な金
属基板の一主面に、化学的なエッチング法または機械的
な研削によって所定形状の凹凸部を形成し、その金属基
板の表面に所定厚みの陽極酸化膜を形成することによ
り、信頼性の高い絶縁膜をより簡単に形成することがで
きる。Further, the metal substrate is formed of an anodically oxidizable metal plate, and the insulating film is formed of an anodic oxide film. One main surface of the anodically oxidizable metal substrate is formed by chemical etching or mechanical grinding. By forming an irregular portion having a predetermined shape and forming an anodic oxide film having a predetermined thickness on the surface of the metal substrate, a highly reliable insulating film can be formed more easily.
【図1】本発明のプラズマディスプレイの隔壁構造にお
ける一実施形態を模式的に示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of a partition structure of a plasma display of the present invention.
【図2】同実施形態における隔壁構造の形成過程の説明
図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a process of forming a partition structure in the embodiment.
【図3】同実施形態における金属基板の凹凸のエッチン
グ法による形成過程の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a process of forming unevenness of a metal substrate by an etching method in the same embodiment.
【図4】従来例のDC型のカラーPDPの要部構造を示
す分解斜視図である。FIG. 4 is an exploded perspective view showing a main part structure of a DC type color PDP of a conventional example.
【図5】従来例のAC型のカラーPDPの要部構造を示
す分解斜視図である。FIG. 5 is an exploded perspective view showing a main structure of a conventional AC type color PDP.
1 金属基板 2 凹部 3 凸部 4 陽極酸化膜から成る絶縁膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal substrate 2 Concave part 3 Convex part 4 Insulating film consisting of an anodic oxide film
Claims (5)
された所定形状の凹凸部の表面が絶縁膜で覆われている
ことを特徴とするプラズマディスプレイの隔壁構造。1. A partition structure for a plasma display, wherein a surface of an uneven portion having a predetermined shape formed on one main surface of a metal substrate serving as a rear substrate is covered with an insulating film.
り、絶縁膜が陽極酸化膜から成ることを特徴とする請求
項1記載のプラズマディスプレイの隔壁構造。2. The partition structure of a plasma display according to claim 1, wherein the metal substrate is made of an anodizable metal plate, and the insulating film is made of an anodized film.
された所定形状の凹凸部を形成する工程と、金属基板の
表面に所定厚みの陽極酸化膜を形成する工程とを含むこ
とを特徴とするプラズマディスプレイの隔壁構造形成方
法。3. A method according to claim 1, further comprising the steps of: forming a concave and convex portion having a predetermined shape formed on one main surface of the anodizable metal substrate; and forming an anodic oxide film having a predetermined thickness on the surface of the metal substrate. A method for forming a partition structure of a plasma display.
された所定形状の凹凸部を化学的なエッチング法によっ
て形成することを特徴とする請求項3記載のプラズマデ
ィスプレイの隔壁構造形成方法。4. The method according to claim 3, wherein the irregularities having a predetermined shape formed on one main surface of the anodizable metal substrate are formed by a chemical etching method. .
された所定形状の凹凸部を機械的な研削によって形成す
ることを特徴とする請求項3記載のプラズマディスプレ
イの隔壁構造形成方法。5. The method for forming a partition structure of a plasma display according to claim 3, wherein an irregular portion having a predetermined shape formed on one main surface of the anodizable metal substrate is formed by mechanical grinding.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8270947A JPH10116556A (en) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | Partition structure of plasma display and method of forming the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8270947A JPH10116556A (en) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | Partition structure of plasma display and method of forming the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10116556A true JPH10116556A (en) | 1998-05-06 |
Family
ID=17493238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8270947A Pending JPH10116556A (en) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | Partition structure of plasma display and method of forming the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10116556A (en) |
Cited By (5)
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| KR100764388B1 (en) | 2006-03-17 | 2007-10-05 | 삼성전기주식회사 | Anodized Metal Substrate Module |
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-
1996
- 1996-10-14 JP JP8270947A patent/JPH10116556A/en active Pending
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