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JPH03136758A - Carrier plate type infield polishing device capable of inprocess electrolytic dressing by using ultra-abrasive grain metal bond grind stone - Google Patents

Carrier plate type infield polishing device capable of inprocess electrolytic dressing by using ultra-abrasive grain metal bond grind stone

Info

Publication number
JPH03136758A
JPH03136758A JP1275487A JP27548789A JPH03136758A JP H03136758 A JPH03136758 A JP H03136758A JP 1275487 A JP1275487 A JP 1275487A JP 27548789 A JP27548789 A JP 27548789A JP H03136758 A JPH03136758 A JP H03136758A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier plate
grinding wheel
disk
electrolytic dressing
grindstone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1275487A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Sumida
隅田 雄一
Kunio Kawashima
邦雄 河島
Hiroyuki Nojima
野嶋 弘之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NSK Ltd filed Critical NSK Ltd
Priority to JP1275487A priority Critical patent/JPH03136758A/en
Publication of JPH03136758A publication Critical patent/JPH03136758A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、超砥粒(すなわち、タイヤモンド砥粒又は
立方晶窒化ホウ素砥粒等)メタルボンド砥石を用いたキ
ャリアプレート型でありかつインフィード型である研摩
加工装置において、インプロセス電解ドレッシングを可
能とした研摩加工装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention is a carrier plate type grinding wheel using a superabrasive grain (i.e., Tiremond abrasive grain or cubic boron nitride abrasive grain, etc.) metal bonded abrasive wheel and an inorganic abrasive grain. The present invention relates to a feed-type polishing device that enables in-process electrolytic dressing.

〔従来の技術] 従来の超砥粒メタルボンド砥石を用いたキャリアプレー
ト型兼インフィード型の研摩加工装置としては、例えば
第7図に示すものがある、この従来装置は、導電性材料
からなる円盤状の台盤1に超砥粒メタルボンド製の砥石
盤2を接着して円盤体3を形成し、この2個の円盤体3
.3の各砥石盤2.2の作用面を対向させて配置すると
ともに、砥石盤2.2の間に、多数の被加工物4を保持
したキャリアプレート5を配置する。そして、一方何の
円盤体3を回転軸に沿ってD方向に押して、2個の円盤
体3.3で被加工物4を加圧するとともに、2個の円盤
体3,3を例えば同一方向に同一あるいは異なった速度
で、それぞれA及びB方向に回転させる。同時に、キャ
リアプレート5を円盤体3.3とは逆方向(C方向)に
回転させて、インフィードで(すなわち、所定時間だけ
被加工物4を保持しながら)被加工物4を研摩加工する
[Prior Art] An example of a carrier plate type and infeed type polishing device using a conventional superabrasive metal bonded grindstone is shown in FIG. 7. This conventional device is made of a conductive material. A disc body 3 is formed by bonding a grinding wheel disc 2 made of super-abrasive metal bond to a disc-shaped base disc 1, and these two disc bodies 3
.. The working surfaces of each of the grinding wheels 2.2 are arranged to face each other, and a carrier plate 5 holding a large number of workpieces 4 is arranged between the grinding wheels 2.2. On the other hand, some disc body 3 is pushed in the D direction along the rotation axis, and the workpiece 4 is pressurized by the two disc bodies 3.3, and the two disc bodies 3, 3 are moved, for example, in the same direction. Rotate in directions A and B, respectively, at the same or different speeds. At the same time, the carrier plate 5 is rotated in the direction opposite to the disk body 3.3 (direction C), and the workpiece 4 is polished in an in-feed manner (that is, while holding the workpiece 4 for a predetermined time). .

また、従来の超微細超砥粒メタルボンド砥石を用いたイ
ンプロセス電解ドレッシングが可能なインフィード型の
研摩加工装置としては、例えば、日本工業新聞紙、「鏡
面まで加工できる超微細研削盤」、平成元年8月31日
1日本工業新聞社発行に記載されたものが知られている
In addition, as in-feed type polishing equipment that can perform in-process electrolytic dressing using conventional ultra-fine super-abrasive metal bond grinding wheels, for example, Nippon Kogyo Shimbun, ``Ultra-fine grinding machine that can process up to mirror surfaces'', Heisei The one published by Nippon Kogyo Shimbun on August 31, 1998 is known.

この従来装置は、第8図に示すように、回転するテーブ
ル7上に被加工物8を固定し、また、導電性のスピンド
ル軸9に、同じ(導電性の台盤10と超微細超砥粒メタ
ルボンド製の砥石盤11とを接着して構成した円盤体1
2を固定する。そして、テーブル7上の被加工物8の一
部分をスピンドル軸9により砥石盤11の一部分で加圧
しながら、テーブル7及び被加工物8を一方向(D方向
)に、かつスピンドル軸9及び円盤体12を反対方向(
H方向)に回転させ、さらに、配管13により切削液を
供給しながら、被加工物8の鏡面研削(すなわち研摩加
工)を行う。
As shown in FIG. 8, in this conventional apparatus, a workpiece 8 is fixed on a rotating table 7, and a conductive spindle shaft 9 is connected to the same (conductive base 10 and ultra-fine super-abrasive). A disk body 1 configured by bonding a grindstone disk 11 made of grain metal bond
Fix 2. Then, while pressing a part of the workpiece 8 on the table 7 with a part of the grindstone 11 by the spindle shaft 9, the table 7 and the workpiece 8 are moved in one direction (direction D), and the spindle shaft 9 and the disc body 12 in the opposite direction (
H direction), and further, while supplying cutting fluid through the pipe 13, the workpiece 8 is mirror-finished (ie, polished).

また、砥石盤11の被加工物8とは干渉しない位置に、
電解ドレッシング用の電極14を適宜の間隔を置いて対
向して配置するとともに、砥石盤11と電極14との間
に電解液を供給する。また、スピンドル軸9の円盤体1
2とは反対側に給電ブラシ15を接触させ、この電極1
4及び給電ブラシ15を図示の通りに電源16の(−)
端子及び(+)端子に接続する。そして、砥石盤11に
目詰まりが発生したり砥粒の突き出し量が小さくなって
切れ味が悪くなったりした場合には、砥石盤11及び電
極14に直流電流を供給して、電解液により砥石盤11
の作用面のメタルを溶融させて、インプロセス(すなわ
ち研摩加工を行いながら)電解ドレッシングを行うもの
である。
In addition, at a position that does not interfere with the workpiece 8 of the grinding wheel 11,
Electrodes 14 for electrolytic dressing are arranged facing each other at appropriate intervals, and an electrolytic solution is supplied between the grinding wheel 11 and the electrodes 14. Also, the disk body 1 of the spindle shaft 9
The power supply brush 15 is brought into contact with the opposite side of the electrode 1.
4 and the power supply brush 15 to the (-) side of the power supply 16 as shown.
Connect to the terminal and (+) terminal. If the grinding wheel 11 becomes clogged or the amount of protruding abrasive grains becomes small and the sharpness becomes poor, DC current is supplied to the grinding wheel 11 and the electrodes 14, and the electrolytic solution is applied to the grinding wheel. 11
Electrolytic dressing is performed in-process (that is, while polishing is being performed) by melting the metal on the working surface.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、このような従来の前者の超砥粒メタルボ
ンド砥石を用いたキャリアプレート型兼インフィード型
の研摩加工装置にあっては、砥石盤2.2の砥粒の突き
出し量が小さくなったり目詰まりを起こすなどして、切
れ味が悪くなった場合には、研摩加工を中断して砥石盤
2.2と被加工物4とを離してから、電解ドレッシング
を行わなければならず、生産性が悪くかつコストも高く
なり、作業に手間が掛かるという問題点があった。
However, in such conventional carrier plate type and infeed type polishing equipment using the former superabrasive metal bonded grindstone, the amount of protrusion of the abrasive grains of the grinding wheel plate 2.2 becomes small, and If the grinding becomes dull due to clogging, etc., it is necessary to stop the polishing process, separate the grinding wheel 2.2 from the workpiece 4, and then perform electrolytic dressing, which reduces productivity. There were problems in that the process was unfavorable, the cost was high, and the work was time-consuming.

また、後者の従来装置にあっては、インプロセス電解ド
レッシングは可能であるが、被加工物8は1個ずつしか
生産できず、これも生産性が悪いという問題点があった
Furthermore, although in-process electrolytic dressing is possible with the latter conventional apparatus, only one workpiece 8 can be produced at a time, which also has the problem of poor productivity.

この発明は、こめような従来の問題点に着目してなされ
たもので、超砥粒メタルボンド砥石を用いたキャリアプ
レート型兼インフィード型研摩加工装置において、イン
プロセス電解ドレッシングを可能とし、高精度かつ均一
な大−量の被加工物を短時間で生産し、生産性がよく、
コストも安く、作業性のよい研摩加工装置を提供するこ
とを目的とするものである。
This invention was made by focusing on the problems of the conventional methods, and enables in-process electrolytic dressing in a carrier plate type/infeed type polishing machine using a super-abrasive metal bonded grinding wheel. It can produce large quantities of workpieces with high accuracy and uniformity in a short time, and has high productivity.
The purpose of this invention is to provide a polishing device that is low in cost and has good workability.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

そこで、この発明に係わる超砥粒メタルボンド砥石を用
いたインプロセス電解ドレッシング可能なキャリアプレ
ート型兼インフィード型研摩加工装置は、導電性材料か
らなる円盤状の台盤及び超砥粒メタルボンド製の円盤状
の砥石盤とを接着して円盤体を形成するとともに、2個
のその円盤体の砥石盤の作用面を対向させて配置し、・
かつ、その2個の円盤体の中の少なくとも一方を回転可
能とするとともに、その2個の円盤体の中の少なくとも
一方を回転軸方向に移動可能とし、さらに、2個の円盤
体の間に複数個の被加工物を保持するキャリアプレート
を配置するとともに、一方の円盤体を回転軸方向に移動
させて被加工物を砥石盤により加圧し、かつ、キャリア
プレートを2個の円盤体と互いに相対回転可能に配置し
、キャリアプレートにより保持された複数個の被加工物
を所定時間の間だけ継続して研摩加工する超砥粒メタル
ボンド砥石を用いたキャリアプレート型兼インフィード
型研摩加工装置において、 キャリアプレートの両面の被加工物を保持していない位
置それぞれに、2個の円盤体のそれぞれの砥石盤と所定
の間隔をもって対向する電解ドレッシング用の電極を装
着し、かつその電極及び砥石盤間に直流電流を供給する
電流供給手段を設けたことを特徴とするものである。
Therefore, a carrier plate type/infeed type polishing device capable of in-process electrolytic dressing using a superabrasive metal bond grinding wheel according to the present invention has a disc-shaped base plate made of a conductive material and a superabrasive metal bond grinding wheel. A disc-shaped grindstone disk is bonded to form a disc body, and the working surfaces of the two disc bodies are placed opposite to each other,
At least one of the two disc bodies is rotatable, at least one of the two disc bodies is movable in the direction of the rotation axis, and further, there is a space between the two disc bodies. A carrier plate that holds a plurality of workpieces is arranged, one disk body is moved in the direction of the rotation axis to pressurize the workpieces with a grindstone, and the carrier plate and the two disk bodies are mutually pressed. A carrier plate-type and infeed-type polishing device that uses a super-abrasive metal bond grindstone that is arranged so that it can rotate relative to each other and continuously polishes multiple workpieces held by a carrier plate for a predetermined period of time. In this step, an electrode for electrolytic dressing is mounted on each of the positions on both sides of the carrier plate where the workpiece is not held, and that faces each of the grinding wheels of the two disk bodies at a predetermined distance, and that the electrodes and the grinding wheel are connected to each other. The present invention is characterized in that a current supply means for supplying direct current between the panels is provided.

また、導電性材料からなる円盤状の台盤及び超砥粒メタ
ルボンド製の円盤状の砥石盤を接着して形成した円盤体
のその砥石盤の作用面と、無砥粒の耐摩耗性材料からな
る円盤状の加圧盤とを対向させて配置し、かつ、円盤体
を回転可能とするとともに、加圧盤を回転軸方向に移動
可能とし、さらに、円盤体と加圧盤の間に複数個の被加
工物を保持するキャリアプレートを配置するとともに、
加圧盤を回転軸方向に移動させて被加工物を砥石盤及び
加圧盤により加圧し、かつ、キャリアプレートを円盤体
及び加圧盤を互いに相対回転可能に配置し、キャリアプ
レートにより保持された複数の被加工物を所定時間の間
だけ継続して研摩加工する超砥粒メタルボンド砥石を用
いたインプロセス電解ドレッシング可能なキャリアプレ
ート型兼インフィード型研摩加工装置において、キャリ
アプレートの砥石盤の作用面に対向する面の複数の被加
工物を保持していない位置に、砥石盤の作用面と所定の
間隔を以て対向する電解ドレッシング用の電極を装着し
−1かつその電極及び砥石盤間に直流電流を供給する電
流供給手段を設けたことを特徴とするものである。
In addition, the working surface of the grinding wheel of a disk body formed by adhering a disk-shaped base made of a conductive material and a disk-shaped grinding wheel made of super-abrasive metal bond, and a wear-resistant material without abrasive grains. A disc-shaped pressure plate made of In addition to arranging the carrier plate that holds the workpiece,
The pressure plate is moved in the direction of the rotation axis to pressurize the workpiece by the grinding wheel and the pressure plate, and the carrier plate is arranged so that the disk body and the pressure plate can rotate relative to each other, and the plurality of pieces held by the carrier plate are In a carrier plate type/infeed type polishing machine capable of in-process electrolytic dressing using a super-abrasive metal bonded grindstone that continuously polishes a workpiece for a predetermined period of time, the working surface of the carrier plate grinding wheel An electrode for electrolytic dressing facing the working surface of the grinding wheel at a predetermined distance is attached to a position on the surface facing the grinding wheel at a position not holding multiple workpieces, and a direct current is applied between the electrode and the grinding wheel. The present invention is characterized in that it is provided with a current supply means for supplying current.

さらに、2個の対向する円盤体の砥石盤の作用面に、断
面が曲線形状の溝を円周上に形成するとともに、キャリ
アプレートに電解ドレッシング用の電極をその溝の曲面
形状に対向して所定の間隔をもって装着したことを特徴
とするものである。
Furthermore, a groove with a curved cross section is formed on the circumference on the working surface of the grinding wheel of the two opposing disk bodies, and an electrode for electrolytic dressing is placed on the carrier plate facing the curved shape of the groove. It is characterized by being attached at predetermined intervals.

〔作用〕[Effect]

導電性材料からなる台盤及び超砥粒メタルボンド類の砥
石盤を接着してなる2個の対向する円盤体と、その円盤
体の間に配置された多数の被加工物を保持したキャリア
プレートとを、互いに相対的に回転するように、それぞ
れを適宜の回転方向及び回転速度で回転させて、被加工
物を研摩加工する。そして、砥石盤の砥粒の突き出し量
が小さくなったりあるいは目詰まりが発生して、砥石盤
の切れ味が悪くなったら、研摩加工はそのまま継続して
行いながら、随時、所定の時間だけ砥石盤及び電解ドレ
ッシング用の電極に電流供給手段より直流電流を供給し
電極に対向する砥石盤の作用面を電解ドレッシングする
Two opposing disc bodies made by bonding a base made of conductive material and a grinding wheel made of super-abrasive metal bond, and a carrier plate holding a large number of workpieces arranged between the disc bodies. The workpiece is polished by rotating them in appropriate rotational directions and rotational speeds so as to rotate relative to each other. If the amount of abrasive grains protruding from the grinding wheel decreases or the grinding wheel becomes dull due to clogging, the grinding process is continued and the grinding wheel is turned on and off for a predetermined period of time. Direct current is supplied to the electrode for electrolytic dressing from the current supply means, and the working surface of the grindstone facing the electrode is electrolytically dressed.

また、被加工物の片面だけを研摩加工し、かつその加工
面に対向する砥石盤の電解ドレッシングを行う場合は、
2個の円盤体の一方側を無砥粒の耐摩耗性材料より形成
した加圧盤とする。
In addition, when polishing only one side of the workpiece and electrolytically dressing the grinding wheel facing the polished surface,
One side of the two disc bodies is a pressure disc made of abrasive-free wear-resistant material.

さらに、2個の円盤体の対向する砥石盤の作用面に、例
えば断面が半円形状の円周溝を形成し、二の溝の曲面形
状に対向して、キャリアプレートに電解ドレッシング用
の電極をその溝形状に対向して所定の間隔をもって装着
すれば、ボールあるいは球面コロ等の曲面体を、インプ
ロセス電解ドレッシングしながら、継続して研摩加工を
行うことができる。
Further, a circumferential groove having a semicircular cross section, for example, is formed on the working surfaces of the grinding wheels facing each other, and an electrode for electrolytic dressing is placed on the carrier plate, facing the curved surface of the second groove. By mounting the grooves facing the groove shape at a predetermined interval, it is possible to continuously polish a curved object such as a ball or a spherical roller while performing in-process electrolytic dressing.

〔実施例〕 以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。〔Example〕 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

まず第一実施例の構成を説明する。First, the configuration of the first embodiment will be explained.

第1図及び第2図において、導電性材料からなる台盤1
に超砥粒メタルボンド類の砥石盤2を接着して円盤体3
を形成し、この2個の円盤体3゜3の各砥石盤2,2の
作用面を対向させて配置するとともに、砥石盤2.2の
間に、少なくとも1個(図示の例では6個)の被加工物
4の相互の位置間隔を保持するキャリアプレート1日を
配置する。そして、一方何の円盤体3を回転軸に沿って
軸方向に往復移動可能とするとともに、第1図に示すよ
うにその一方側の円盤体3をD方向に押して、2個の円
盤体3.3で被加工物4を加圧可能とするとともに、2
個の円盤体3.3を図示しないモータにより同一方向に
同一速度で、ぞれぞれA及びB方向に回転可能とする。
In Figures 1 and 2, a base plate 1 made of conductive material is shown.
A super abrasive metal bond type grindstone disk 2 is bonded to the disk body 3.
The working surfaces of each grinding wheel 2, 2 of these two disk bodies 3°3 are arranged to face each other, and at least one (six in the illustrated example) is arranged between the two grinding wheels 2.2. ) A carrier plate is arranged to maintain the mutual positional spacing of the workpieces 4. Then, one of the disc bodies 3 is made reciprocating in the axial direction along the rotation axis, and the disc body 3 on one side is pushed in the direction D as shown in FIG. .3 makes it possible to pressurize the workpiece 4, and 2
The disk bodies 3.3 can be rotated in the A and B directions, respectively, in the same direction and at the same speed by a motor (not shown).

同時に、キャリアプレート18を図示しないモータによ
り、円盤体3.3とは逆方向(C方向)に回転可能とす
る。
At the same time, the carrier plate 18 is made rotatable in the direction opposite to the disk body 3.3 (direction C) by a motor (not shown).

キャリアプレート18の外周縁部に導電リング19を固
定し、さらに、キャリアプレート18の被加工物4を保
持していない部分の上下両面にそれぞれ電解ドレッシン
グ用の電極20.20を接着し、かつこの電極20.2
0を導電リング19に接続させる。この導電リング19
に給電ブラシ21を常時接触させるとともに、円盤体3
.3の台盤1.1の外面それぞれにも給電ブラシ22゜
22を常時接触させる。そして、給電ブラシ21を共通
のスイッチ23を介して、電解ドレッシング用の電源2
4.24の(−)端子に接続し、また、給電ブラシ22
.22をそれぞれ電解用の電[24,24の(+)端子
に接続させる。
A conductive ring 19 is fixed to the outer peripheral edge of the carrier plate 18, and electrodes 20 and 20 for electrolytic dressing are adhered to both upper and lower surfaces of the portion of the carrier plate 18 that does not hold the workpiece 4, and this Electrode 20.2
0 to the conductive ring 19. This conductive ring 19
While keeping the power supply brush 21 in constant contact with the disk body 3
.. The power supply brushes 22 and 22 are also kept in constant contact with each of the outer surfaces of the base plate 1.1 of No. 3. Then, the power supply brush 21 is connected to the power supply 2 for electrolytic dressing via the common switch 23.
4. Connect to the (-) terminal of 24, and also connect the power supply brush 22
.. 22 are respectively connected to the (+) terminals of the electrolytic electrodes [24, 24].

また、円盤体3.3の砥石盤2.2の作用面と、被加工
物4との間及び電極20.20との間には、導電性の切
削液兼電解液が供給される。
Further, a conductive cutting fluid/electrolyte is supplied between the working surface of the grinding wheel 2.2 of the disc body 3.3 and the workpiece 4 and the electrode 20.20.

上記の導電リング19−スイッチ23−電極20.20
−給電ブラシ22.22−台盤1. 1により電流供給
手段が構成される。
Above conductive ring 19 - switch 23 - electrode 20.20
- Power supply brush 22.22 - Base plate 1. 1 constitutes a current supply means.

次ぎに上記第一実施例の動作を説明する。Next, the operation of the first embodiment will be explained.

第1図及び第2図において、台盤1.1及び砥石盤2,
2を接着してなる円盤体3,3をそれぞれ、同一方向か
つ同一速度でA及びB方向に回転させ、砥石盤2,2の
間に配置された例えば6個の被加工物4を保持したキャ
リアプレート18を逆方向(C方向)に回転させて、一
方の砥石盤2と被加工物4の一方の加工面、及び他方の
砥石盤2と被加工物4の他方の加工面をそれぞれ相対回
転させる、そして、一方の円盤体3を他方の円盤体3側
に向けてD方向に押して、被加工物4の両面を砥石盤2
,2により加圧する。砥石盤2,2と被加工物4との間
には切削液兼電解液が供給されて、被加工物4の研摩加
工が行われる。
In Fig. 1 and Fig. 2, a base plate 1.1 and a grindstone plate 2,
The disc bodies 3, 3 formed by gluing 2 are rotated in the A and B directions in the same direction and at the same speed, and for example, six workpieces 4 placed between the grinding wheels 2, 2 are held. The carrier plate 18 is rotated in the opposite direction (direction C) so that one machining surface of one grinding wheel 2 and the workpiece 4 and the other machining surface of the other grinding wheel 2 and the workpiece 4 are moved relative to each other. Then, push one disc body 3 toward the other disc body 3 side in the D direction, and grind both sides of the workpiece 4 with the grindstone 2.
, 2. A cutting fluid/electrolyte is supplied between the grinding wheels 2, 2 and the workpiece 4, and the workpiece 4 is polished.

砥石盤2.2の砥粒の突き出し量が小さくなったり、あ
るいは、目詰まりを起こして、切れ味が悪くなったとき
には、スイッチ23をオンにして、電源24.24から
給電ブラシ22.22−台盤1.1−砥石盤2,2−電
解液(兼切削液)−電極20.20−導電リング19−
給電ブラシ21−スイッチ23−電源24.24からな
る電解ドレッシング用の電流供給回路を閉じる。こうす
ると、電解液により砥石盤2.2の作用面の結合剤であ
るメタルが溶融し、砥粒が適度に突き出し、かつ気泡の
目詰まりが除去され、砥石l:!12.2の作用面の切
れ味が良い状態で安定し、常に適切な砥粒の突き出し量
で研摩加工できる。
When the amount of abrasive grains protruding from the grinding wheel 2.2 becomes small, or when it becomes clogged and becomes dull, turn on the switch 23 and turn on the power supply brush 22.22 from the power source 24.24. Disc 1.1 - Grinding disc 2, 2 - Electrolyte (also cutting fluid) - Electrode 20.20 - Conductive ring 19 -
The current supply circuit for electrolytic dressing consisting of the power supply brush 21, switch 23, and power supply 24, 24 is closed. In this way, the metal that is the binder on the working surface of the grinding wheel 2.2 is melted by the electrolytic solution, the abrasive grains are appropriately protruded, and the clogging of air bubbles is removed, and the grinding wheel l:! The working surface of 12.2 remains sharp and stable, and polishing can always be performed with an appropriate amount of abrasive grain protrusion.

このため、高精度かつ均一の大量の被加工物の研摩加工
が可能となり、生産性が大幅に向上し、被加工物のコス
トを低減するとともに、作業性が向上する。
Therefore, it becomes possible to polish a large number of workpieces with high precision and uniformity, greatly improving productivity, reducing the cost of workpieces, and improving workability.

この第一実施例の研摩加工装置によれば、被加工物4と
しては、例えば、第6図(a)に示すゲージブロックの
6面、第6図(ロ)に示す円筒コロの側面及び端面、第
6図(C)に示すリングの平面部分、あるいは、第6図
(d)に示す円錐コロの平面部分等の研摩加工を行うこ
とができる。
According to the polishing apparatus of the first embodiment, the workpiece 4 includes, for example, the six faces of the gauge block shown in FIG. 6(a), and the side and end faces of the cylindrical roller shown in FIG. 6(b). , the flat part of the ring shown in FIG. 6(C), or the flat part of the conical roller shown in FIG. 6(d), etc. can be polished.

なお、上記第一実施例では、2個の円盤体3゜3を同一
方向かつ同一速度で回転させたものを例示したが、例え
ば、円盤体3,3を上下方向に対向させる平面研摩加工
装置においては、通常は、被加工物4の両面を同一の精
度に研摩加工するためには、被加工物4の自重を考慮す
る必要があり、このため、上方側の円盤体3の回転速度
を下側の円盤体3の回転速度より若干速くする。また、
第6図(d)に示す円錐コロの両平面を同一の精度に研
摩加工する場合も、一方何の円盤体3と他方側の円盤体
3とで回転速度や回転方向を異ならしめる。
In the first embodiment, the two disc bodies 3°3 are rotated in the same direction and at the same speed. In order to polish both sides of the workpiece 4 with the same precision, it is usually necessary to consider the weight of the workpiece 4, and therefore the rotational speed of the upper disk body 3 is The rotation speed is set to be slightly faster than the rotation speed of the lower disc body 3. Also,
Even when both planes of the conical roller shown in FIG. 6(d) are polished to the same precision, the rotational speed and direction of rotation are made to be different between the disk bodies 3 on one side and the disk bodies 3 on the other side.

さらに、第6図(a)、 (C)、(ロ)に示した被加
工物の研摩加工において、両面の加工精度を異ならしめ
る場合もあり、このために、一方の円盤体3と他方の円
盤体3とで、回転速度や回転方向を異なるものとするこ
ともある。さらに、特に、回転軸方向に移動して加圧す
る側の円盤体を固定すると、キャリアプレート18に負
荷が掛り過ぎることを防止することができる。
Furthermore, in the polishing of the workpieces shown in FIGS. 6(a), (C), and (b), the machining accuracy on both surfaces may be different, and for this reason, one disk body 3 and the other The rotational speed and direction of rotation may be different from that of the disk body 3. Furthermore, in particular, by fixing the disk body that moves in the direction of the rotation axis to apply pressure, it is possible to prevent excessive load from being applied to the carrier plate 18.

さらに、電極20.20と給電ブラシ21との間に配置
される導電リング19は、キャリアプレート18の外周
に形成するものを例示したが、図示の如くに、ドーナツ
形のキャリアプレート18の内周縁部に導電リング25
を形成して、これを電極20.20と接続してもよく、
また、給電ブラシ21をこの内周縁部の導電リング25
に接触させるようにしてもよい。
Further, the conductive ring 19 disposed between the electrodes 20, 20 and the power supply brush 21 is formed on the outer periphery of the carrier plate 18, but as shown in the figure, the conductive ring 19 is formed on the inner periphery of the donut-shaped carrier plate 18. conductive ring 25
may be formed and connected to the electrode 20.20,
In addition, the power supply brush 21 is connected to the conductive ring 25 on the inner peripheral edge of the power supply brush 21.
It may be made to come in contact with.

次ぎに、第二実施例を第3図及び第4図を参照して説明
する。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

まず構成を説明するが、上述した第一実施例と同一の部
品には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
First, the configuration will be explained. The same parts as in the first embodiment described above are given the same reference numerals, and the explanation will be omitted.

この第二実施例は、台盤l及び砥石盤2からなる円盤体
3の1個と、無砥粒の耐摩耗性材料から形成された加圧
盤27とを対向して配置し、円盤体3を一方向(B方向
)に回転可能とするとともに、加圧盤27を回転軸方向
に往復移動可能とし、かつ加圧盤27の回転は停止ある
いは連れ回り可能とする。
In this second embodiment, one disk body 3 consisting of a base l and a grindstone disk 2 and a pressure plate 27 made of an abrasive-free wear-resistant material are arranged facing each other, and the disk body 3 is is rotatable in one direction (direction B), the pressure plate 27 is movable back and forth in the direction of the rotation axis, and rotation of the pressure plate 27 can be stopped or rotated together.

キャリアプレートは遊星歯車型とし、すなわち、中心に
太陽ギ・728を一方向(E方向)に回転可能とすると
ともに、例えばそれぞれ6個ずつの被加工物29を保持
する例えば4個のキャリアプレート30a、30b、3
0b、30bを、太陽ギア28と噛み合わせて自転及び
公転可能とし、これらのキャリアプレー)30a、30
b、30b。
The carrier plates are of a planetary gear type, that is, the sun gear 728 is rotatable in one direction (E direction) at the center, and there are, for example, four carrier plates 30a each holding six workpieces 29. , 30b, 3
0b, 30b are meshed with the sun gear 28 to enable rotation and revolution, and their carrier play) 30a, 30
b, 30b.

30bを導電性材料からなる内歯ギア31と噛み合わせ
、この内歯ギア31を図示しない装置のハウジングに固
定する。そして、4個のキャリアプレー)30a、30
b、30b、30bの中の1個のキャリアプレート30
aの外周縁部に導電リング32を形成して、この導電リ
ング32を内歯ギア31に噛み合わせるとともに、キャ
リアプレー)30aの被加工物29を保持していない位
置の砥石盤2と対向する部分に、電解ドレッシング用の
電極33を形成する。この電極33は少なくとも1個で
よいが、各キャリアプレート30 a。
30b is engaged with an internal gear 31 made of a conductive material, and this internal gear 31 is fixed to a housing of an apparatus (not shown). and 4 career plays) 30a, 30
One carrier plate 30 among b, 30b, 30b
A conductive ring 32 is formed on the outer peripheral edge of the carrier plate 30a, and the conductive ring 32 is engaged with the internal gear 31, and is opposed to the grinding wheel 2 at a position where the workpiece 29 of the carrier play 30a is not held. An electrode 33 for electrolytic dressing is formed in the portion. There may be at least one electrode 33, but each carrier plate 30a has one electrode.

30b、30b、30bに1個ずつ設けてもよい。You may provide one each for 30b, 30b, and 30b.

そして、内歯ギア31をスイッチ23に電気的に接続す
るとともに、給電ブラシ22及び電源24を図示の如く
に接続する。
Then, the internal gear 31 is electrically connected to the switch 23, and the power supply brush 22 and power source 24 are connected as shown.

そして、導電リング32−内歯ギア31−スイッチ23
−電極20給電ブラシ22−台盤1とで電流供給手段を
構成する。
Conductive ring 32 - internal gear 31 - switch 23
The electrode 20, the power supply brush 22, and the base 1 constitute a current supply means.

この第二実施例の動作も第一実施例と同様であり、太陽
ギア28を一方向(E方向)に回転駆動することにより
、キャリアプレート30a、30b、30b、30bが
F方向に自転しながら、C方向に公転し、被加工物29
が研摩加工される。
The operation of the second embodiment is also similar to that of the first embodiment, and by rotating the sun gear 28 in one direction (E direction), the carrier plates 30a, 30b, 30b, 30b rotate in the F direction. , revolves in the C direction, and the workpiece 29
is polished.

そして、必要に応じてスイッチ23をオンにして、砥石
盤2のインプロセス電解ドレッシングを行う。
Then, if necessary, the switch 23 is turned on to perform in-process electrolytic dressing of the grindstone 2.

この第二実施例は、被加工物4の片面のみを研摩加工す
る場合に使用される また、この第二実施例によれば、第一実施例よりさらに
多数の被加工物29を高精度かつ均一に研摩加工するこ
とができる。
This second embodiment is used when polishing only one side of the workpiece 4. Also, according to the second embodiment, a larger number of workpieces 29 can be polished with high precision than in the first embodiment. Can be polished uniformly.

また、加圧盤27は、装置のハウジングに固定してもよ
いし、キャリアプレート30a、30b。
Further, the pressure plate 27 may be fixed to the housing of the device, or may be fixed to the carrier plate 30a, 30b.

30b、30bの公転に連れ回るようにしてもよい。こ
うすると、キャリアプレート30a、30b、30b、
30bに負荷が掛り過ぎることを防止することができる
It may be arranged to rotate along with the revolution of 30b and 30b. In this way, the carrier plates 30a, 30b, 30b,
It is possible to prevent an excessive load from being applied to 30b.

また、電極33を内歯ギア31側に導通するようにした
が、太陽ギア28側から導通させるようにしてもよい。
Further, although the electrode 33 is electrically connected to the internal gear 31 side, it may be electrically connected to the sun gear 28 side.

次ぎに、第三実施例を第5図を参照して説明する。同様
に、上述した第一実施例と同一の部品については、同一
の参照番号を付して、説明を省略する。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. Similarly, parts that are the same as those in the first embodiment described above are given the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted.

まず構成を説明すると、台盤1及び砥石盤35からなる
円盤体36を2個、その砥石盤35.35の作用面を対
向させて配置する。その砥石盤35.35の作用面に、
断面が曲線形状の一例である半円形の溝37を円周上に
形成する。そして、第2図に示したものと同様に、砥石
盤35.35の間に、被加工物としての曲面体の一例で
あるボール38を少なくとも1個(例えば6個)を保持
したキャリアプレート39を配置する。そして、第一実
施例と同様に、一方側の円盤体36をD方向に押すとと
もに、その一方側の円盤体36をA方向に、かつ他方側
の円盤体36をB方向に、そして、キャリアプレート3
9をC方向にそれぞれ適宜の速度で回転可能とする。ま
た、そのボール38と砥石盤35.35の間に、切削液
(無電解液)を供給する。
First, to explain the configuration, two disk bodies 36 each consisting of a base plate 1 and a grindstone disk 35 are arranged with the working surfaces of the grindstone disks 35 and 35 facing each other. On the working surface of the grindstone 35.35,
A semicircular groove 37 whose cross section is an example of a curved shape is formed on the circumference. Similarly to the one shown in FIG. 2, a carrier plate 39 holding at least one ball 38 (for example, six balls), which is an example of a curved object as a workpiece, is placed between the grinding wheels 35 and 35. Place. Then, as in the first embodiment, while pushing the disk body 36 on one side in the direction D, the disk body 36 on one side is pushed in the direction A, the disk body 36 on the other side is pushed in the direction B, and the carrier plate 3
9 can be rotated in the C direction at appropriate speeds. Further, a cutting fluid (electroless fluid) is supplied between the ball 38 and the grinding wheel 35.35.

キャリアプレート39の外周縁部に導電リング19を固
定し、また、キャリアプレート39のボール38を保持
していない部分の両面に、上記砥石盤35.35の円周
上の溝37に合致する一個所を球状に膨らませ、その球
状部40を渡って、電解ドレッシング用の電極41.4
1を、砥石盤35.35の溝37を含む作用面と所定の
間隔をもって、キャリアプレート39に接着し、かつこ
の電極41.41を導電リング19に接続させる。
A conductive ring 19 is fixed to the outer peripheral edge of the carrier plate 39, and a conductive ring 19 is fixed on both sides of the portion of the carrier plate 39 that does not hold the balls 38, and one ring that matches the groove 37 on the circumference of the grinding wheel 35. The electrode 41.4 for electrolytic dressing is inflated into a spherical shape, and across the spherical part 40, an electrode 41.4 for electrolytic dressing is inserted.
1 is glued to the carrier plate 39 at a predetermined distance from the working surface including the groove 37 of the grinding wheel 35.35, and this electrode 41.41 is connected to the conductive ring 19.

そして、第一実施例と同様に、給電ブラシ21゜22.
22.スイッチ23及び電′a24,24を設ける。ま
た、砥石盤35.35の作用面と電極41.41との間
には電解液(無切削液)が供給される。
As in the first embodiment, the power supply brushes 21, 22.
22. A switch 23 and electric terminals 24 and 24 are provided. Further, an electrolytic solution (non-cutting fluid) is supplied between the working surface of the grinding wheel 35.35 and the electrode 41.41.

この第三実施例の動作も第一実施例とほぼ同様であって
、一方の円盤体36をD方向に加圧しながら、その一方
の円盤体36をA方向に、他方の円盤体36をB方向に
、そして、キャリアプレート39をC方向に回転させる
と、被加工物であるボール38が砥石盤35.35に形
成された転走用の溝37に沿って転走しながら、このボ
ール38の研摩加工が行われる。
The operation of this third embodiment is almost the same as that of the first embodiment, and while pressing one disc body 36 in the D direction, one disc body 36 is pressed in the A direction, and the other disc body 36 is pressed in the B direction. When the carrier plate 39 is rotated in the C direction, the ball 38, which is the workpiece, rolls along the rolling groove 37 formed on the grinding wheel 35.35. Polishing process is performed.

この第三実施例においても、多数のボール38を研摩加
工しながら、砥石盤35.35の砥粒の突き出し量が小
さくなったり、目詰まりが発生したような場合には、そ
の研摩加工を中断することなく継続しながら、スイッチ
23を閉じて砥石盤35.35及び電極41.41の間
に電解ドレッシング用の直流電流を供給する。こうする
と、砥石盤35.35の作用面のメタルが電解液に溶融
して、砥石盤35.35の砥粒の突き出し量が適正とな
り、従って一高精度かつ均一な大量のボール38が短時
間の間に生産でき、生産性が向上するとともに、コスト
を低減し、作業性を向上させることができる。
Also in this third embodiment, while polishing a large number of balls 38, if the protruding amount of abrasive grains on the grinding wheel 35 or 35 becomes small or if clogging occurs, the polishing process is interrupted. While continuing without cutting, the switch 23 is closed to supply a direct current for electrolytic dressing between the grinding wheel 35.35 and the electrode 41.41. In this way, the metal on the working surface of the grinding wheel 35.35 is melted into the electrolyte, and the amount of protrusion of the abrasive grains of the grinding wheel 35.35 becomes appropriate, so that a large number of highly accurate and uniform balls 38 can be produced in a short time. It is possible to improve productivity, reduce costs, and improve workability.

なお、キャリアプレート39の内周縁部に電極41.4
1と接続される導電リング25を設けてもよい。
Note that an electrode 41.4 is provided on the inner peripheral edge of the carrier plate 39.
A conductive ring 25 connected to 1 may be provided.

また、上述した第三実施例では、被加工物としてボール
38を例示したが、第6図(f)に示すような球面コロ
等にも適用でき、溝37の断面形状も、これに合わせて
形成する。
In addition, in the third embodiment described above, the ball 38 was used as an example of the workpiece, but it can also be applied to a spherical roller as shown in FIG. 6(f), and the cross-sectional shape of the groove 37 can be changed accordingly Form.

上述した第一〜第三各実施例において、円盤体を上下に
対向させた平面研摩加工装置を図示して説明したが、円
盤体を左右方向に対向させた横型の研摩加工装置につい
ても、同様に適用できる。
In each of the first to third embodiments described above, a planar polishing device in which disk bodies are vertically opposed is illustrated and explained, but the same applies to a horizontal polishing device in which disk bodies are opposed in the left-right direction. Applicable to

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明によれば、超砥粒メタル
ボンド砥石を用いたキャリアプレート型兼インフィード
型の研摩加工装置において、インプロセス電解ドレッシ
ングを可能にしたので、多数の被加工物をキャリアプレ
ートで保持しながら、インフィードで同時に研摩加工す
るとともに、砥石の砥粒の突き出し量が小さくなったり
、あるいは目詰まりを起こす等により、砥石の切れ味が
悪くなった場合には、研摩加工を中断することなく継続
して行いながら、随時、適正な時間だけ電解ドレッシン
グを行うことができ、高精度かつ均一な大量の被加工物
を、短時間の中に生産でき、生産性が向上するとともに
、被加工物のコストを低減でき、さらに作業性を向上さ
せることができるという効果が得られる。
As explained above, according to the present invention, in-process electrolytic dressing is enabled in a carrier plate-type and in-feed type polishing device using a super-abrasive metal bonded grindstone, so that a large number of workpieces can be processed. In addition to holding the grinding wheel with a carrier plate and simultaneously grinding it in the infeed, if the grinding wheel becomes dull due to the protruding amount of the abrasive grains becoming small or clogging, etc., the grinding process should be carried out. Electrolytic dressing can be performed continuously for an appropriate amount of time without interruption, and a large number of highly accurate and uniform workpieces can be produced in a short period of time, improving productivity. , it is possible to reduce the cost of the workpiece and further improve workability.

また、高精度研摩加工、特にランプ加工においては、母
性原理による形状転写が高精度を出す重要な因子の一つ
であり、研摩盤(ラップ盤)の精度は加工の進行ととも
に、変化することが知られている。
In addition, in high-precision polishing, especially ramp machining, shape transfer based on the maternal principle is one of the important factors for achieving high precision, and the accuracy of the polishing machine (lap machine) may change as the process progresses. Are known.

この発明において新たに見いだされたもう一つの効果と
しては、加工中に被加工物と研摩盤(ラップ盤)の微妙
な接触状態を変えることなく切れ味をコントロールする
ことができるようになり、部分的にではあるが、上記の
ラップ盤の精度もインプロセスにコントロールできるよ
うになって、−段と製品精度の向上が得られるという効
果を奏する。
Another effect newly discovered with this invention is that it is now possible to control the sharpness without changing the delicate contact state between the workpiece and the polishing machine (lap machine) during machining. However, the accuracy of the above-mentioned lapping machine can be controlled in-process, resulting in a significantly improved product accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明に係わる超砥粒メタルボンド砥石を用
いたインプロセス電解ドレッシング可能なキャリアプレ
ート型兼インフィード型研摩加工装置の第一実施例を示
す、第2図の1−1線における切断正面図、第2図は第
1図の■−■線における切断平面図、第3図は第二実施
例を示す第4図の■−■線における切断平面図、第4図
は第3図のIV−IV線における切断正面図、第5図は
第三実施例を示す第1図と同様の切断正面図、第6図(
a)〜(f)はそれぞれ各種の被加工物を示す斜視図、
第7図は従来のキャリアプレート型兼インフィード型研
摩加工装置の一例を示す切断正面図、第8図は従来のイ
ンプロセス電解ドレッシング可能な研摩加工装置の一例
を示す正面図である。 l・・・台盤、2,35・・・砥石盤、3.36・・・
円盤体、4.29−・・被加工物、18.30a、30
b。 39・・・キャリアプレート、19.25.32・・・
導電リング、20.33.41・・・電極、21.22
・・・給電ブラシ、23・・・スイッチ、24・・・電
源、27・・・加圧盤、28・・・太陽ギア、31・・
・内歯ギア、37・・・溝、38・・・ボール、40・
・・球状部。
FIG. 1 shows a first embodiment of a carrier plate type/infeed type polishing device capable of in-process electrolytic dressing using a super-abrasive metal bonded grindstone according to the present invention, taken along line 1-1 in FIG. 2 is a cutaway plan view taken along the line ■-■ in FIG. 1; FIG. 3 is a cutaway plan view taken along the line ■-■ in FIG. 4 showing the second embodiment; FIG. FIG. 5 is a cutaway front view taken along line IV-IV in the figure, FIG. 5 is a cutaway front view similar to FIG. 1 showing the third embodiment, and FIG.
a) to (f) are perspective views showing various workpieces, respectively;
FIG. 7 is a cutaway front view showing an example of a conventional carrier plate type/infeed type polishing device, and FIG. 8 is a front view showing an example of a conventional polishing device capable of in-process electrolytic dressing. l...base plate, 2,35...grinding wheel, 3.36...
Disc body, 4.29--Workpiece, 18.30a, 30
b. 39...Carrier plate, 19.25.32...
Conductive ring, 20.33.41... Electrode, 21.22
... Power supply brush, 23... Switch, 24... Power supply, 27... Pressure board, 28... Sun gear, 31...
・Internal tooth gear, 37...Groove, 38...Ball, 40・
... Spherical part.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電性材料からなる円盤状の台盤及び超砥粒メタ
ルボンド製の円盤状の砥石盤とを接着して円盤体を形成
するとともに、2個の該円盤体の前記砥石盤の作用面を
対向させて配置し、かつ、該2個の円盤体の中の少なく
とも一方を回転可能とするとともに、該2個の円盤体の
中の少なくとも一方を回転軸方向に移動可能とし、さら
に、前記2個の円盤体の間に複数個の被加工物を保持す
るキャリアプレートを配置するとともに、前記一方の円
盤体を回転軸方向に移動させて前記被加工物を前記砥石
盤により加圧し、かつ、前記キャリアプレートを前記2
個の円盤体と互いに相対回転可能に配置し、前記キャリ
アプレートにより保持された前記複数個の被加工物を所
定時間の間だけ継続して研摩加工する超砥粒メタルボン
ド砥石を用いたキャリアプレート型兼インフィード型研
摩加工装置において、 前記キャリアプレートの両面の前記被加工物を保持して
いない位置それぞれに、前記2個の円盤体のそれぞれの
砥石盤と所定の間隔をもって対向する電解ドレッシング
用の電極を装着し、かつ該電極及び前記砥石盤間に直流
電流を供給する電流供給手段を設けたことを特徴とする
超砥粒メタルボンド砥石を用いたインプロセス電解ドレ
ッシング可能なキャリアプレート型兼インフィード型研
摩加工装置。
(1) A disk-shaped base made of a conductive material and a disk-shaped grindstone made of super-abrasive metal bond are bonded together to form a disk, and the functions of the grinding wheels of the two disks are disposed with their surfaces facing each other, at least one of the two disc bodies is rotatable, and at least one of the two disc bodies is movable in the direction of the rotation axis; A carrier plate holding a plurality of workpieces is disposed between the two disk bodies, and the one disk body is moved in the direction of the rotation axis to pressurize the workpiece with the grindstone, and the carrier plate is
A carrier plate using a super-abrasive metal-bonded grindstone that is arranged so as to be able to rotate relative to each other and that is capable of relative rotation with a disc body, and that continuously grinds the plurality of workpieces held by the carrier plate for a predetermined period of time. In the die-cum-infeed type polishing device, an electrolytic dressing plate is provided at each position on both sides of the carrier plate where the workpiece is not held, and faces each of the grinding wheels of the two disk bodies at a predetermined interval. A carrier plate type and in-process electrolytic dressing capable of in-process electrolytic dressing using a super-abrasive metal bonded grindstone, which is equipped with an electrode and is provided with a current supply means for supplying a direct current between the electrode and the grindstone disk. Infeed type polishing equipment.
(2)導電性材料からなる円盤状の台盤及び超砥粒メタ
ルボンド製の円盤状の砥石盤を接着して形成した円盤体
の該砥石盤の作用面と、無砥粒の耐摩耗性材料からなる
円盤状の加圧盤とを対向させて配置し、かつ、前記円盤
体を回転可能とするとともに、前記加圧盤を回転軸方向
に移動可能とし、さらに、前記円盤体と前記加圧盤の間
に複数個の被加工物を保持するキャリアプレートを配置
するとともに、前記加圧盤を回転軸方向に移動させて前
記被加工物を前記砥石盤及び該加圧盤により加圧し、か
つ、前記キャリアプレートを前記円盤体及び加圧盤を互
いに相対回転可能に配置し、前記キャリアプレートによ
り保持された前記複数の被加工物を所定時間の間だけ継
続して研摩加工する超砥粒メタルボンド砥石を用いたイ
ンプロセス電解ドレッシング可能なキャリアプレート型
兼インフィード型研摩加工装置において、 前記キャリアプレートの前記砥石盤の作用面に対向する
面の前記複数の被加工物を保持していない位置に、前記
砥石盤の作用面と所定の間隔を以て対向する電解ドレッ
シング用の電極を装着し、かつ該電極及び前記砥石盤間
に直流電流を供給する電流供給手段を設けたことを特徴
とする超砥粒メタルボンド砥石を用いたインプロセス電
解ドレッシング可能なキャリアプレート型兼インフィー
ド型研摩加工装置。
(2) Working surface of the grinding wheel of a disk body formed by bonding a disk-shaped base made of a conductive material and a disk-shaped grinding wheel made of superabrasive metal bond, and the abrasive-free wear resistance disc-shaped pressure plates made of material are arranged to face each other, the disc body is rotatable, and the pressure plate is movable in the direction of the rotation axis; A carrier plate holding a plurality of workpieces is disposed between them, and the pressurizing plate is moved in the direction of the rotation axis to pressurize the workpieces by the grinding wheel and the pressurizing plate, and the carrier plate The disk body and the pressure plate are arranged so as to be able to rotate relative to each other, and a super-abrasive metal bond grindstone is used to continuously grind the plurality of workpieces held by the carrier plate for a predetermined period of time. In a carrier plate type and infeed type polishing apparatus capable of in-process electrolytic dressing, the grinding wheel is placed at a position where the plurality of workpieces are not held on a surface of the carrier plate that faces the working surface of the grinding wheel. A superabrasive metal bonded grinding wheel, characterized in that it is equipped with an electrode for electrolytic dressing that faces the working surface of the wheel at a predetermined distance, and is provided with current supply means for supplying a direct current between the electrode and the grinding wheel. Carrier plate type and infeed type polishing equipment capable of in-process electrolytic dressing using.
(3)2個の対向する円盤体の砥石盤の作用面に、断面
が曲線形状の溝を円周上に形成するとともに、キャリア
プレートに電解ドレッシング用の電極を前記溝の曲面形
状に対向して所定の間隔をもって装着したことを特徴と
する請求項1記載の超砥粒メタルボンド砥石を用いたイ
ンプロセス電解ドレッシング可能なキャリアプレート型
兼インフィード型研摩加工装置。
(3) A groove with a curved cross section is formed on the circumference of the working surface of the grinding wheel of the two opposing disc bodies, and an electrode for electrolytic dressing is provided on the carrier plate facing the curved shape of the groove. 2. A carrier plate type and infeed type polishing apparatus capable of in-process electrolytic dressing using the superabrasive metal bonded grindstone according to claim 1, wherein said superabrasive metal bonded grindstone is mounted at a predetermined interval.
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