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JPH09167500A - Confirming device for operation of semiconductor memory - Google Patents

Confirming device for operation of semiconductor memory

Info

Publication number
JPH09167500A
JPH09167500A JP7348446A JP34844695A JPH09167500A JP H09167500 A JPH09167500 A JP H09167500A JP 7348446 A JP7348446 A JP 7348446A JP 34844695 A JP34844695 A JP 34844695A JP H09167500 A JPH09167500 A JP H09167500A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor memory
address
signal
input
dram device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7348446A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Chiharu Suzuki
千春 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
UMC Japan Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Semiconductor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Semiconductor Corp filed Critical Nippon Steel Semiconductor Corp
Priority to JP7348446A priority Critical patent/JPH09167500A/en
Publication of JPH09167500A publication Critical patent/JPH09167500A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a confirming device for operation of a semiconductor memory which is easily set and can efficiently confirm operation of a semiconductor memory. SOLUTION: This confirming device for operation of a semiconductor memory attached with a DRAM device 1 being a body to be tested is placed on a stage 3 in a black box 9. A defect address of the DRAM 1 is accessed, and an input waveform and an output waveform at the time are observed by an oscilloscope 4. Here, photons discharged by recombination of hot electrons generated in a defect part are captured by an emission microscope 5, and displayed on a picture monitor 7. The confirming device 2 for operation of a semiconductor memory is constituted with a single substrate on which all circuits for generating an input signal and a control signal required for operating the DRAM device 1 are mounted. An address signal can be set by a manual binary switch, and an input signal can be set by a manual switch.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はDRAM(Dynamic R
andom Access Memory)等の半導体メモリの動作を確認す
るための半導体メモリ動作確認装置に関する。
The present invention relates to a DRAM (Dynamic R
and a semiconductor memory operation checking device for checking the operation of a semiconductor memory such as an andom access memory).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、DRAMをはじめとする半導体記
憶装置(以下、半導体メモリという。)においては、集
積度が飛躍的に高まり、ますます超微細化が進んでい
る。しかし、このような超微細化が進むと、半導体メモ
リが動作不良を引き起こした場合に、その原因を解析す
ることがますます困難となってくる。
2. Description of the Related Art In recent years, in semiconductor memory devices such as DRAMs (hereinafter referred to as semiconductor memories), the degree of integration has dramatically increased, and ultra-miniaturization has been further advanced. However, when such ultra-miniaturization progresses, it becomes more and more difficult to analyze the cause when the semiconductor memory causes a malfunction.

【0003】従来、このような半導体メモリの動作不良
の解析は、例えば特開平5−152408号、特開平5
−335394号、特開平6−5679号、特開平6−
302663号、特開平7−14899号等の公報に開
示されているように、次のように行われていた。すなわ
ち、まず、高精度のメモリLSIテスタや、高精度かつ
高性能の24チャネル程度のパルスジェネレータ等を用
い、不良可能性のある特定アドレスにデータを書き込ん
だ後、これを読み出し、その出力波形をオシロスコープ
で確認する。次に、出力波形に基づいて不良箇所を確認
した後、半導体メモリを動作状態にし、そのときのメモ
リセル内部の状態をエミッションマイクロスコープによ
り観測する。これにより、リーク不良等の動作不良の原
因を解析するようになっていた。このエミッションマイ
クロスコープは、動作状態にある半導体装置の拡散層の
pn接合リークや絶縁膜の破壊等に起因して発生するホ
ットキャリアが再結合するときに放出されるエネルギー
をフォトンの形でカウントしてメモリ内に2次元的に蓄
積し、この発光像を光学像と重ね合わせて出力するよう
にしたものである。このため、このエミッションマイク
ロスコープを使用して半導体メモリの動作不良の解析を
行うには、エミッションマイクロスコープを暗箱中に配
設すると共に、この暗箱の外部から上記のパルスジェネ
レータを接続し、電源や各種の信号を暗箱内部に取り込
むようにする必要があった。
Conventionally, such an operation failure analysis of a semiconductor memory has been carried out, for example, in Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-152408 and 5-5.
-335394, JP-A-6-5679, JP-A-6-
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 302663, Japanese Patent Laid-Open No. 7-14899, etc., it has been carried out as follows. That is, first, by using a high-precision memory LSI tester, a high-precision and high-performance pulse generator of about 24 channels, etc., after writing data to a specific address having a possibility of failure, the data is read out and its output waveform is determined. Check with an oscilloscope. Next, after confirming the defective portion based on the output waveform, the semiconductor memory is brought into an operating state and the internal state of the memory cell at that time is observed by an emission microscope. As a result, the cause of operation failure such as leak failure has been analyzed. This emission microscope counts the energy released in the form of photons when hot carriers are recombined, which are generated due to a pn junction leak of a diffusion layer of an operating semiconductor device or a breakdown of an insulating film. It is stored two-dimensionally in the memory, and this luminescent image is superposed on the optical image and output. Therefore, in order to analyze the operation failure of the semiconductor memory using this emission microscope, the emission microscope is arranged in a dark box, and the pulse generator is connected from the outside of this dark box to supply power or It was necessary to capture various signals inside the dark box.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来は、
高価で高精度のメモリLSIテスタを使用すると共に、
パルスジェネレータの信号を暗箱の外部から接続し、電
源や信号を暗箱内部に取り込む必要があったので、解析
装置の構成が複雑になっていた。特に、半導体メモリが
多ビット構成の場合には、アドレス信号、クロック信号
および入力信号等の入力のためのチャネル数が多くなる
ため、装置構成はさらに複雑となる。例えば、容量が1
Mビットで4ビット構成のメモリの場合には20チャネ
ルの信号線が必要となり、容量が4Mビットで16ビッ
ト構成のメモリの場合には40チャネルの信号線が必要
となる。このため、装置のセッティングに多大の労力と
時間とを要し、半導体メモリの動作確認を効率的に行う
ことができないという問題があった。
As described above, conventionally,
While using an expensive and highly accurate memory LSI tester,
Since it was necessary to connect the signal of the pulse generator from the outside of the dark box and take in the power supply and the signal into the dark box, the configuration of the analysis device was complicated. In particular, when the semiconductor memory has a multi-bit configuration, the number of channels for inputting address signals, clock signals, input signals and the like increases, so that the device configuration becomes more complicated. For example, the capacity is 1
A 20-channel signal line is required for an M-bit 4-bit memory, and a 40-channel signal line is required for a 4-Mbit 16-bit memory. Therefore, there is a problem that it takes a lot of labor and time to set the device, and it is not possible to efficiently check the operation of the semiconductor memory.

【0005】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、装置のセッティングが容易で半導体
メモリの動作確認を効率的に行うことができる半導体メ
モリ動作確認装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory operation confirmation apparatus which can easily set the apparatus and can efficiently confirm the operation of the semiconductor memory. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体メ
モリ動作確認装置は、半導体メモリの任意のアドレスに
対し、データの書き込みと読み出しとを行い、メモリ動
作の確認を行う単一基板からなる装置であって、検査対
象である被検半導体メモリを装着するためのメモリ装着
部と、前記被検半導体メモリに対する書き込み対象のデ
ータを設定するための書込データ設定手段と、前記被検
半導体メモリの動作を制御するための制御信号を生成す
る制御信号生成手段と、前記被検半導体メモリの書き込
みアドレスまたは読み出しアドレスを設定するためのア
ドレス設定手段と、前記被検半導体メモリから読み出し
たデータを出力するための出力手段とを備え、前記アド
レス設定手段は、手動操作により入力された任意のアド
レス値を受け付けてこれを2進数に変換するアドレス値
変換部と、このアドレス値変換部によって変換された2
進アドレス信号を時分割的に前記被検半導体メモリに入
力するマルチプレクサとを備えている。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory operation confirming device comprising a single substrate for writing and reading data to and from an arbitrary address of the semiconductor memory and confirming the memory operation. An apparatus, a memory mounting portion for mounting a test semiconductor memory to be inspected, a write data setting unit for setting data to be written to the semiconductor memory to be tested, and the semiconductor memory to be tested. Control signal generating means for generating a control signal for controlling the operation of the semiconductor memory, address setting means for setting a write address or a read address of the semiconductor memory to be tested, and data read from the semiconductor memory to be tested. Output means for receiving the address value, and the address setting means receives an arbitrary address value manually input. An address value converter for converting it into binary, 2 converted by the address value conversion unit
And a multiplexer for inputting a binary address signal to the semiconductor memory under test in a time division manner.

【0007】この半導体メモリ動作確認装置では、被検
半導体メモリを動作させるのに必要な書込データや制御
信号を発生させるためのすべての手段が単一基板上に形
成されているので、外部から制御信号等を与えることな
く被検半導体メモリを動作させることができる。特に、
アドレス値は手動操作によって任意に設定可能であり、
設定されたアドレス値は2進数に変換されて、時分割的
に被検半導体メモリに入力される。これにより、解析対
象である不良箇所のアドレスが特定される。
In this semiconductor memory operation confirmation apparatus, all the means for generating the write data and control signals necessary for operating the semiconductor memory under test are formed on a single substrate, so that it can be externally applied. The semiconductor memory under test can be operated without giving a control signal or the like. Especially,
The address value can be arbitrarily set by manual operation,
The set address value is converted into a binary number and input to the semiconductor memory under test in a time division manner. As a result, the address of the defective portion to be analyzed is specified.

【0008】請求項2記載の半導体メモリ動作確認装置
は、請求項1記載の半導体メモリ動作確認装置におい
て、前記メモリ装着部を前記基板の中央部に配置したも
のである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory operation confirming device according to the first aspect, wherein the memory mounting portion is arranged in a central portion of the substrate.

【0009】[0009]

【実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面を参照
して具体的に説明する。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0010】図1は本発明の実施の一形態に係る半導体
メモリ動作確認装置を適用した半導体メモリ解析システ
ムの概略構成を表すものである。ここでは、被検半導体
メモリをDRAM装置として説明する。
FIG. 1 shows a schematic configuration of a semiconductor memory analysis system to which a semiconductor memory operation confirmation device according to an embodiment of the present invention is applied. Here, the semiconductor memory to be tested will be described as a DRAM device.

【0011】このシステムは、被検半導体メモリとして
のDRAM装置1を装着した半導体メモリ動作確認装置
2と、この半導体メモリ動作確認装置2を載置するステ
ージ3と、半導体メモリ動作確認装置2に接続されたオ
シロスコープ4と、DRAM装置1の上方に配置された
エミッションマイクロスコープ5と、このエミッション
マイクロスコープ5から出力される画像を表示する画像
モニタ7と、エミッションマイクロスコープ5の動作を
制御するためのコントローラ8と、DRAM装置1を装
着した半導体メモリ動作確認装置2とエミッションマイ
クロスコープ5とを収容する暗箱9とを備えている。
This system is connected to a semiconductor memory operation confirmation device 2 equipped with a DRAM device 1 as a semiconductor memory to be tested, a stage 3 on which the semiconductor memory operation confirmation device 2 is mounted, and a semiconductor memory operation confirmation device 2. For controlling the operation of the emission oscilloscope 4, the emission microscope 5 arranged above the DRAM device 1, the image monitor 7 for displaying the image output from the emission microscope 5, and the operation of the emission microscope 5. It includes a controller 8, a semiconductor memory operation confirmation device 2 in which the DRAM device 1 is mounted, and a dark box 9 that houses the emission microscope 5.

【0012】半導体メモリ動作確認装置2は、図3に示
したような単一基板で構成された装置であり、その中央
部に設けられたソケットに被検半導体メモリであるDR
AM装置1が装着されている。ステージ3は、通常、半
導体ウェハを載置するのに用いられている移動可能なス
テージで、直径16cm程度の円形をしている。オシロ
スコープ4は、DRAM装置1からの出力信号波形を観
測するためのもので、暗箱9の外部に配置されている。
オシロスコープ4としては、観測可能な上限周波数が1
00MHz〜400MHzのものを使用する。エミッシ
ョンマイクロスコープ5は、DRAM装置1のチップ内
部を拡大して撮像すると共に、CMOSデバイス部分に
おけるリーク電流等に起因して発生するホットエレクト
ロンが再結合するときに放出される微弱なフォトンを感
知するためのものである。画像モニタ7は、エミッショ
ンマイクロスコープ5によって感知されたフォトン像を
DRAM装置1内部の2次元画像と重畳して視覚的に表
示するためのもので、暗箱9の外部に配置されている。
コントローラ8は、エミッションマイクロスコープ5の
動作や倍率、およびステージ3の移動動作、画像モニタ
7への表示状態等を制御するためのもので、暗箱9の外
部に配置されている。暗箱9は、高さ150cm、横1
00cm、奥行き100cm程度の寸法を有する函体で
あり、外部光が内部に侵入するのを遮断するためのもの
である。
The semiconductor memory operation confirmation device 2 is a device composed of a single substrate as shown in FIG. 3, and a semiconductor memory DR to be inspected is provided in a socket provided at the center thereof.
The AM device 1 is attached. The stage 3 is usually a movable stage used for mounting a semiconductor wafer, and has a circular shape with a diameter of about 16 cm. The oscilloscope 4 is for observing the output signal waveform from the DRAM device 1, and is arranged outside the dark box 9.
The oscilloscope 4 has an observable upper limit frequency of 1
00 MHz to 400 MHz is used. The emission microscope 5 magnifies and images the inside of the chip of the DRAM device 1, and senses weak photons emitted when hot electrons generated due to leak current in the CMOS device portion are recombined. It is for. The image monitor 7 is used to visually display the photon image sensed by the emission microscope 5 by superimposing it on the two-dimensional image inside the DRAM device 1, and is arranged outside the dark box 9.
The controller 8 is for controlling the operation and magnification of the emission microscope 5, the moving operation of the stage 3, the display state on the image monitor 7, and the like, and is arranged outside the dark box 9. The dark box 9 has a height of 150 cm and a width of 1
It is a box having dimensions of about 00 cm and a depth of about 100 cm, and is for blocking external light from entering the inside.

【0013】図2は半導体メモリ動作確認装置2を含む
解析システムの概略構成を表し、図3は半導体メモリ動
作確認装置2の実際の回路配置を表すものである。この
半導体メモリ動作確認装置2は、縦10cm、横15c
m程度の比較的小さいサイズの基板20(図3)と、書
き込みデータ(入力信号)を設定するための書込データ
設定部30(図2)と、DRAM装置1(図1)に対す
る書き込みおよび読み出しを制御するための各種の制御
信号を生成するための制御信号生成部40(図2)と、
DRAM装置1の書き込みアドレスまたは読み出しアド
レスを指定するアドレス信号を設定するためのアドレス
設定部50(図2)とを備えている。この半導体メモリ
動作確認装置2はまた、図3に示したように、被検半導
体メモリとしてのDRAM装置1を装着するためのソケ
ット28,29と、DRAM装置1からの出力波形をオ
シロスコープ4に入力するための出力波形ターミナル2
1,22とを備えている。ここで、ソケット28および
出力波形ターミナル21は1ビット構成のDRAM装置
用であり、ソケット29および出力波形ターミナル22
は4ビット構成のDRAM装置用である。出力波形ター
ミナル21,22には、それぞれインピーダンス調整用
の抵抗器26,27等が接続されている。
FIG. 2 shows a schematic configuration of an analysis system including the semiconductor memory operation checking device 2, and FIG. 3 shows an actual circuit arrangement of the semiconductor memory operation checking device 2. This semiconductor memory operation confirmation device 2 has a length of 10 cm and a width of 15 c.
A substrate 20 (FIG. 3) having a relatively small size of about m, a write data setting unit 30 (FIG. 2) for setting write data (input signal), and writing and reading to and from the DRAM device 1 (FIG. 1). A control signal generation unit 40 (FIG. 2) for generating various control signals for controlling
An address setting unit 50 (FIG. 2) for setting an address signal designating a write address or a read address of the DRAM device 1 is provided. As shown in FIG. 3, the semiconductor memory operation confirmation device 2 also inputs sockets 28 and 29 for mounting the DRAM device 1 as the semiconductor memory to be tested and the output waveform from the DRAM device 1 to the oscilloscope 4. Output waveform terminal 2 for
1 and 22 are provided. Here, the socket 28 and the output waveform terminal 21 are for a 1-bit DRAM device, and the socket 29 and the output waveform terminal 22 are
Is for a DRAM device having a 4-bit configuration. Resistors 26 and 27 for impedance adjustment are connected to the output waveform terminals 21 and 22, respectively.

【0014】書込データ設定部30は、入力スイッチ1
5とバッファラインドライブ回路16とを備えている。
入力スイッチ15は、DRAM装置1が1ビット構成の
ものである場合のデータ入力に用いられる入力スイッチ
15−1(図3)と、DRAM装置1が4ビット構成の
ものである場合のデータ入力に用いられる入力スイッチ
15−2〜15−5(図3)とからなり、各ビットごと
に“L”レベル(0V)または“H”レベル(電圧=電
源電圧5Vプラスマイナス0.5V)の入力信号を手動
で入力できるようになっている。バッファラインドライ
ブ回路16は、後述するライトイネーブル信号(以下、
/WE信号と記す。)が“L”レベルとなるタイミング
で入力スイッチ15からの入力信号を取り込んでDRA
M装置1のデータ入力端子(図示せず)に入力する一
方、/WE信号が“H”レベルのときには入力信号を取
り込まずにDRAM装置1の入力端子をハイインピーダ
ンス状態(“L”レベルでも“H”レベルでもない状
態)に保持するようになっている。DRAM装置1の入
力端子がハイインピーダンス状態であっても、これは出
力信号(読み出したデータに影響を与えない。なお、
“/”はローアクティブの信号であることを表す。
The write data setting section 30 includes an input switch 1
5 and a buffer line drive circuit 16.
The input switch 15 is used for inputting data when the DRAM device 1 has a 1-bit configuration (FIG. 3) and for inputting data when the DRAM device 1 has a 4-bit configuration. Input signal of "L" level (0V) or "H" level (voltage = power supply voltage 5V plus or minus 0.5V) for each bit, which is composed of the input switches 15-2 to 15-5 (Fig. 3) used. You can enter manually. The buffer line drive circuit 16 uses a write enable signal (hereinafter,
/ WE signal. ) Becomes "L" level, the input signal from the input switch 15 is taken in and DRA
While inputting to the data input terminal (not shown) of the M device 1, when the / WE signal is at "H" level, the input signal of the DRAM device 1 is not taken in and the input terminal of the DRAM device 1 is in a high impedance state (even at "L" level, It is designed to be held at a state that is not H level). Even if the input terminal of the DRAM device 1 is in a high impedance state, this does not affect the output signal (read data.
“/” Represents a low active signal.

【0015】制御信号生成部40は、電気的信号を与え
ることによって数MHzの周波数の発振する水晶発振器
9と、水晶発振器9による発振波形を矩形のクロック信
号に整形する発振回路10と、発振回路10からのクロ
ック信号を所定の周波数に分周してロウ・アドレス・ス
トローブ信号(以下、/RAS信号と記す。)を生成し
出力する分周回路11と、分周回路11から出力された
/RAS信号を20〜35ns程度遅延させてカラム・
アドレス・ストローブ(以下、/CAS信号と記す。)
を生成し出力するディレイ回路12と、分周回路11か
ら出力された/RAS信号のパルス幅および遅延量の調
整を可変抵抗24および可変抵抗25により調整して上
記したライトイネーブル信号/WE信号を生成し出力す
るマルチバイブレータ回路13と、手動操作によって
“L”レベルまたは“H”レベルの出力イネーブル信号
(以下、/OE信号と記す。)の入力が可能なOE入力
スイッチ14とを備えている。そして、/RAS信号、
/CAS信号、/WE信号および/OE信号は被検半導
体メモリであるDRAM装置1の各制御端子(図示せ
ず)に入力されるようになっている。
The control signal generator 40 includes a crystal oscillator 9 that oscillates at a frequency of several MHz by applying an electric signal, an oscillator circuit 10 that shapes the oscillation waveform of the crystal oscillator 9 into a rectangular clock signal, and an oscillator circuit. The clock signal from 10 is divided into a predetermined frequency to generate a row address strobe signal (hereinafter referred to as a / RAS signal), and a dividing circuit 11 that outputs the generated signal is output from the dividing circuit 11. The RAS signal is delayed by about 20 to 35 ns for the column
Address strobe (hereinafter referred to as / CAS signal)
Of the write enable signal / WE signal by adjusting the pulse width and the delay amount of the / RAS signal output from the frequency dividing circuit 11 by the variable resistor 24 and the variable resistor 25. A multivibrator circuit 13 for generating and outputting and an OE input switch 14 capable of inputting an output enable signal (hereinafter, referred to as / OE signal) of "L" level or "H" level by a manual operation are provided. . And the / RAS signal,
The / CAS signal, / WE signal and / OE signal are input to each control terminal (not shown) of the DRAM device 1 which is the semiconductor memory to be tested.

【0016】アドレス設定部50は、16進表記のアド
レス値を手動で入力可能であると共に、入力されたアド
レス値を2進数のアドレス信号に変換するバイナリスイ
ッチ18と、変換された2進数のアドレス信号を時分割
的にロウアドレスとカラムアドレスとに分割してDRA
M装置1のアドレス端子に入力するマルチプレクサ回路
17とを備えている。バイナリスイッチ18は、図3に
示したように、ロウアドレス入力用スイッチ部18−1
とカラムアドレス入力用スイッチ部18−2とから構成
されている。ロウアドレス入力用スイッチ部18−1
は、16進表記のアドレス値のうち、ロウアドレスを表
す3桁をそれぞれ入力するための3つのスイッチ18−
11〜18−13からなり、カラムアドレス入力用スイ
ッチ部18−2は、カラムアドレスを表す3桁をそれぞ
れ入力するための3つのスイッチ18−21〜18−2
3からなる。そして、マルチプレクサ17からのアドレ
ス信号は、/RAS信号および/CAS信号の状態に応
じてDRAM装置1のアドレス入力端子(図示せず)に
入力されるようになっている。すなわち、/RAS信号
が“H”レベルのときはロウアドレス信号は取り込まれ
ず、“L”レベルのときにロウアドレス信号が取り込ま
れてDRAM装置1に入力される。このとき、/CAS
信号は“H”レベルになっているので、カラムアドレス
信号は取り込まれず、その後20〜35ns遅れて/C
AS信号が“H”レベルから“L”レベルに変化したと
きにカラムアドレス信号が取り込まれてDRAM装置1
に入力される。
The address setting section 50 is capable of manually inputting an address value in hexadecimal notation, a binary switch 18 for converting the input address value into a binary address signal, and a converted binary address. The signal is divided into a row address and a column address in a time division manner, and DRA is performed.
A multiplexer circuit 17 for inputting to the address terminal of the M device 1 is provided. As shown in FIG. 3, the binary switch 18 includes a row address input switch section 18-1.
And a column address input switch section 18-2. Row address input switch section 18-1
Is one of three switches 18-for inputting three digits representing a row address among hexadecimal address values.
The column address input switch unit 18-2 includes three switches 18-21 to 18-2, each of which inputs three digits representing a column address.
Consists of three. Then, the address signal from the multiplexer 17 is input to an address input terminal (not shown) of the DRAM device 1 according to the states of the / RAS signal and the / CAS signal. That is, when the / RAS signal is at "H" level, the row address signal is not captured, and when it is at "L" level, the row address signal is captured and input to the DRAM device 1. At this time, / CAS
Since the signal is at "H" level, the column address signal is not fetched, and after that, after a delay of 20 to 35 ns, / C
When the AS signal changes from the “H” level to the “L” level, the column address signal is fetched and the DRAM device 1
Is input to

【0017】半導体メモリ動作確認装置2のソケット2
8または29に装着されたDRAM装置1では、上記し
た/RAS信号、/CAS信号、/WE信号および/O
E信号に応じて入力データが、指定されたアドレスのメ
モリセルに書き込まれると共に、そのメモリセルから読
み出されたデータが出力信号として出力され、オシロス
コープ4に入力されるようになっている。
Socket 2 of semiconductor memory operation confirmation device 2
In the DRAM device 1 mounted on the 8 or 29, the above-mentioned / RAS signal, / CAS signal, / WE signal and / O signal
Input data is written to a memory cell at a specified address according to the E signal, and the data read from the memory cell is output as an output signal and input to the oscilloscope 4.

【0018】DRAM装置1に対するデータの書き込み
および読み出しは次のようにして行われるようになって
いる。すなわち、/RAS信号が“H”レベルのときは
DRAM装置1は動作せず、この信号が“H”レベルか
ら“L”レベルに立ち下がるタイミングでアドレス設定
部50からロウアドレス信号を取り込む。次に、/CA
S信号が“H”レベルから“L”レベルに立ち下がるタ
イミングでカラムアドレス信号を取り込む。ここで、上
記のように/WE信号が“H”レベルのときは入力信号
は取り込まれず、“L”レベルになるタイミングで入力
信号が取り込まれる。これにより、指定されたアドレス
のメモリセルに入力データが書き込まれる。このとき、
/OE信号は“H”レベル状態となっている。この/O
E信号が“H”レベルのときは、出力波形はハイインピ
ーダンス状態となっており、/OE信号を“L”レベル
にしたときに初めて出力信号が出力波形確認ターミナル
21または22から出力される。この出力信号はオシロ
スコープ4に入力され、その出力波形が観測可能とな
る。このとき、入力信号もまたオシロスコープ4に入力
するように構成すれば、出力波形と入力波形とを同時に
観測することができる。そして、両者に相違があれば、
そのアドレスのメモリセルに動作不良部分が存在すると
判断できる。DRAM装置1に不良箇所が存在する場合
には、そこから放出された光(フォトン)がエミッショ
ンマイクロスコープ5に入射し、その様子が画像モニタ
7に視覚的に表示される。これにより、例えばCMOS
デバイス部におけるリーク電流等の不良原因を解析する
ことができる。その際、エミッションマイクロスコープ
5は、コントローラ8によって表示倍率等が制御され
る。また、コントローラ8は、ステージ駆動部60を制
御してステージ3(図1)を所望の方向に移動させるよ
うになっている。
The writing and reading of data to and from the DRAM device 1 are performed as follows. That is, when the / RAS signal is at "H" level, the DRAM device 1 does not operate, and the row address signal is fetched from the address setting section 50 at the timing when this signal falls from "H" level to "L" level. Then / CA
The column address signal is fetched at the timing when the S signal falls from the “H” level to the “L” level. Here, as described above, when the / WE signal is at the "H" level, the input signal is not captured, but the input signal is captured at the timing when it becomes the "L" level. As a result, the input data is written in the memory cell at the designated address. At this time,
The / OE signal is in the "H" level state. This / O
When the E signal is at "H" level, the output waveform is in a high impedance state, and the output signal is output from the output waveform confirmation terminal 21 or 22 only when the / OE signal is set at "L" level. This output signal is input to the oscilloscope 4, and its output waveform can be observed. At this time, if the input signal is also input to the oscilloscope 4, the output waveform and the input waveform can be observed simultaneously. And if there is a difference between the two,
It can be determined that the memory cell at that address has a malfunctioning portion. When there is a defective portion in the DRAM device 1, light (photons) emitted from the defective portion enters the emission microscope 5, and the state is visually displayed on the image monitor 7. This allows, for example, CMOS
It is possible to analyze the cause of defects such as leak current in the device section. At this time, the display magnification and the like of the emission microscope 5 are controlled by the controller 8. Further, the controller 8 controls the stage driving unit 60 to move the stage 3 (FIG. 1) in a desired direction.

【0019】以上のような構成の半導体メモリ動作確認
装置の使用方法を説明する。なお、ここでは、/WE信
号を予めオシロスコープ4にも入力するようにしておく
ものとする。
A method of using the semiconductor memory operation confirmation device having the above-described structure will be described. Note that here, the / WE signal is input to the oscilloscope 4 in advance.

【0020】まず、モールドパッケージ部分を発煙硝酸
によってデキャップしたDRAM装置1を準備し、これ
を半導体メモリ動作確認装置2のソケット28または2
9に装着する。次に、/WE信号をオシロスコープ4で
観測しながらそのパルス幅と/RAS信号からの遅延量
とを調整する。
First, a DRAM device 1 in which the mold package portion is decapped with fuming nitric acid is prepared, and this is used as a socket 28 or 2 of the semiconductor memory operation confirming device 2.
9 Next, while observing the / WE signal with the oscilloscope 4, the pulse width and the delay amount from the / RAS signal are adjusted.

【0021】次に、不良箇所と思われる特定アドレスを
アドレス設定部50のバイナリスイッチ18によって手
動で設定し、さらに書込データ設定部30の入力スイッ
チ15によって入力信号を手動で入力する。ここで、入
力信号が“1”のときは“H”レベル、“0”のときは
“L”レベルとして入力する。
Next, a specific address considered to be a defective portion is manually set by the binary switch 18 of the address setting section 50, and an input signal is manually input by the input switch 15 of the write data setting section 30. Here, when the input signal is "1", it is input as "H" level, and when it is "0", it is input as "L" level.

【0022】次に、ここで、OE入力スイッチ14によ
って/OE信号が“H”レベルとなっていると、マルチ
バイブレータ回路13から出力される/WE信号に応じ
て入力信号がDRAM装置1に書き込まれる。次に、O
E入力スイッチ14によって/OE信号を“L”レベル
にすると、DRAM装置1からデータが読み出され出力
信号としてオシロスコープ4に入力される。そして、オ
シロスコープ4に現れた出力波形と入力波形とを比較
し、指定したアドレスが動作不良箇所か否かを判断す
る。
Next, when the / OE signal is set to the "H" level by the OE input switch 14, the input signal is written in the DRAM device 1 according to the / WE signal output from the multivibrator circuit 13. Be done. Next, O
When the / OE signal is set to the "L" level by the E input switch 14, data is read from the DRAM device 1 and input to the oscilloscope 4 as an output signal. Then, the output waveform appearing on the oscilloscope 4 is compared with the input waveform, and it is determined whether or not the designated address is a malfunctioning portion.

【0023】不良箇所と判断した場合は、DRAM装置
1を装着したままの半導体メモリ動作確認装置2を暗箱
9(図1)のステージ3上にセットし、エミッションマ
イクロスコープ5によって不良箇所の故障解析を行う。
具体的には、コントローラ8によって倍率調整やフォー
カシング動作等を行い、DRAM装置1のチップ内部の
表面に焦点を合わせる。そして、エミッションマイクロ
スコープ5の光量を調節して画像モニタ7上にチップ内
部が表示される状態にする。
When it is determined that the defective portion is present, the semiconductor memory operation confirmation device 2 with the DRAM device 1 still mounted is set on the stage 3 of the dark box 9 (FIG. 1), and the emission microscope 5 analyzes the failure of the defective portion. I do.
Specifically, the controller 8 performs magnification adjustment, focusing operation, and the like to focus on the surface inside the chip of the DRAM device 1. Then, the light quantity of the emission microscope 5 is adjusted so that the inside of the chip is displayed on the image monitor 7.

【0024】次に、DRAM装置1を動作不良状態にし
て、エミッション時間等を設定し、エミッションを開始
する。チップ内部のCMOSデバイス部分にリーク電流
等の不良箇所があれば、ホットエレクトロンが発生する
ので、その再結合によって微小なフォトンが放出され、
これがエミッションマイクロスコープ5によって捉えら
れて画像モニタ7に表示される。この画像は、図示しな
い画像記録装置に記録される。
Next, the DRAM device 1 is brought into a malfunctioning state, the emission time and the like are set, and the emission is started. If there is a defective portion such as a leak current in the CMOS device portion inside the chip, hot electrons are generated, so that minute photons are emitted by recombination thereof,
This is captured by the emission microscope 5 and displayed on the image monitor 7. This image is recorded in an image recording device (not shown).

【0025】そして、必要であれば、DRAM装置1の
チップ内部の不良箇所をエッチバックして素子構造の上
層部分を除去し、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて
外観観察しながら原因解析を行う。
Then, if necessary, the defective portion inside the chip of the DRAM device 1 is etched back to remove the upper layer portion of the element structure, and the cause analysis is performed while observing the external appearance using a SEM (scanning electron microscope). To do.

【0026】このように、本実施の形態では、手動式の
バイナリスイッチによって対象アドレスを設定可能とし
たので、従来用いられていたパルスジェネレータを用い
ることなく、極めて簡単な操作でDRAM装置1の動作
確認を行うことができる。また、DRAM装置1を動作
させるのに必要なすべての信号を生成するための回路を
比較的小さいサイズの単一基板上に配置すると共に、こ
の基板上に被検対象のDRAM装置1を装着するように
したので、この基板(半導体メモリ動作確認装置2)を
暗箱9内にセットするのみでDRAM装置を動作状態に
することができ、従来のように多数の信号配線を暗箱9
の外部から内部に引き入れて接続するというセッティン
グ作業が不要となる。しかも、基板の中央部に被検体
(DRAM装置1)を装着するようにしたので、エミッ
ションマイクロスコープ5による観測が容易となる。
As described above, in this embodiment, since the target address can be set by the manual binary switch, the operation of the DRAM device 1 can be performed by an extremely simple operation without using the pulse generator which has been conventionally used. Confirmation can be done. Further, the circuits for generating all the signals necessary for operating the DRAM device 1 are arranged on a single substrate of a relatively small size, and the DRAM device 1 to be tested is mounted on this substrate. Since this is done, the DRAM device can be put into operation by simply setting this substrate (semiconductor memory operation confirming device 2) in the dark box 9, and as in the conventional case, a large number of signal wirings can be provided in the dark box 9.
The setting work of pulling in from the outside to the inside and connecting is unnecessary. Moreover, since the subject (DRAM device 1) is mounted on the central portion of the substrate, observation by the emission microscope 5 becomes easy.

【0027】なお、本実施の形態では、1ビット構成の
DRAM装置と4ビット構成のDRAMとを装着して動
作確認可能としたが、より多ビット(例えば16ビッ
ト)構成のDRAM装置をも装着できるように構成する
ことも可能である。
In this embodiment, the operation can be confirmed by mounting the 1-bit DRAM device and the 4-bit DRAM device, but a DRAM device having a larger number of bits (for example, 16 bits) is also installed. It is also possible to configure so that it can.

【0028】また、本実施の形態ではDRAM装置を例
に説明したが、本発明はこれに限定されるものではな
く、その他の半導体メモリ動作確認装置、例えばSRA
M装置、ROM装置、EEPROM、フラッシュメモリ
等にも適用できることはいうまでもない。
Although the DRAM device has been described as an example in the present embodiment, the present invention is not limited to this, and other semiconductor memory operation confirming device, for example, SRA.
It goes without saying that the present invention can also be applied to an M device, a ROM device, an EEPROM, a flash memory and the like.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体メ
モリ動作確認装置によれば、被検半導体メモリを動作さ
せるのに必要な書込データや制御信号を発生させるため
のすべての手段を単一基板上に形成するようにしたの
で、エミッションマイクロスコープを用いて不良箇所を
解析する場合に、被検半導体メモリを装着した半導体メ
モリ動作確認装置を暗箱内にセットするだけで被検半導
体メモリを動作状態にすることができる。このため、従
来のように、多数の信号配線を暗箱外部から内部に引き
込んで接続するという煩雑なセッティング作業が不要と
なり、不良箇所解析における労力と時間とを低減するこ
とができる。また、手動操作によって任意のアドレス値
を設定可能にしたので、従来のようにパルスジェネレー
タを使用する場合に比べて操作が極めて簡単である。
As described above, according to the semiconductor memory operation confirming apparatus of the present invention, all the means for generating the write data and the control signal necessary for operating the semiconductor memory to be tested are provided. Since it is formed on one substrate, when analyzing a defective part using an emission microscope, the semiconductor memory operation confirmation device equipped with the semiconductor memory to be tested is set in the dark box to Can be activated. Therefore, unlike the conventional case, the complicated setting work of pulling in a large number of signal wirings from the outside of the dark box to the inside and connecting them is not necessary, and the labor and time in the defect location analysis can be reduced. Further, since an arbitrary address value can be set by a manual operation, the operation is extremely simple as compared with the conventional case where a pulse generator is used.

【0030】特に、請求項2記載の半導体メモリ動作確
認装置によれば、被検半導体メモリを基板の中央部に配
置するようにしたので、エミッションマイクロスコープ
による観測が容易である。
In particular, according to the semiconductor memory operation confirmation apparatus of the second aspect, since the semiconductor memory to be tested is arranged in the central portion of the substrate, the observation with the emission microscope is easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る半導体メモリ動作
確認装置を用いた半導体メモリ解析システムの概略構成
を表す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor memory analysis system using a semiconductor memory operation confirmation device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態に係る半導体メモリ動作
確認装置の回路構成およびその周辺装置を表すブロック
図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a circuit configuration of a semiconductor memory operation confirmation device and its peripheral device according to an embodiment of the present invention.

【図3】この半導体メモリ動作確認装置の回路配置を表
す外観図である。
FIG. 3 is an external view showing a circuit arrangement of the semiconductor memory operation checking device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 DRAM装置 2 半導体メモリ動作確認装置 3 ステージ 4 オシロスコープ 5 エミッションマイクロスコープ 7 画像モニタ 8 コントローラ 9 暗箱 30 データ入力部 40 制御信号生成部 50 アドレス設定部 17 マルチプレクサ 18 バイナリスイッチ 18−1 ロウアドレス入力用スイッチ部 18−2 カラムアドレス入力用スイッチ部 1 DRAM device 2 Semiconductor memory operation confirmation device 3 Stage 4 Oscilloscope 5 Emission microscope 7 Image monitor 8 Controller 9 Dark box 30 Data input section 40 Control signal generation section 50 Address setting section 17 Multiplexer 18 Binary switch 18-1 Row address input switch Section 18-2 Column address input switch section

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体メモリの任意のアドレスに対し、
データの書き込みと読み出しとを行い、メモリ動作の確
認を行う単一基板からなる装置であって、 検査対象である被検半導体メモリを装着するためのメモ
リ装着部と、 前記被検半導体メモリに対する書き込み対象のデータを
設定するための書込データ設定手段と、 前記被検半導体メモリの動作を制御するための制御信号
を生成する制御信号生成手段と、 前記被検半導体メモリの書き込みアドレスまたは読み出
しアドレスを設定するためのアドレス設定手段と、 前記被検半導体メモリから読み出したデータを出力する
ための出力手段とを備え、 前記アドレス設定手段は、手動操作により入力された任
意のアドレス値を受け付けてこれを2進数に変換するア
ドレス値変換部と、このアドレス値変換部によって変換
された2進アドレス信号を時分割的に前記被検半導体メ
モリに入力するマルチプレクサとを備えたことを特徴と
する半導体メモリ動作確認装置。
1. An arbitrary address of a semiconductor memory,
An apparatus comprising a single substrate for writing and reading data and confirming memory operation, comprising: a memory mounting part for mounting a semiconductor memory to be tested, and writing to the semiconductor memory to be tested. Write data setting means for setting target data; control signal generating means for generating a control signal for controlling the operation of the semiconductor memory under test; and a write address or a read address of the semiconductor memory under test. An address setting unit for setting and an output unit for outputting the data read from the semiconductor memory under test are provided, and the address setting unit receives an arbitrary address value input by a manual operation and outputs it. An address value conversion unit for converting to a binary number and a binary address signal converted by this address value conversion unit Semiconductor memory operation check device characterized by comprising a multiplexer for inputting the split to the subject semiconductor memory.
【請求項2】 前記メモリ装着部は、前記基板の中央部
に配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導
体メモリ動作確認装置。
2. The semiconductor memory operation checking device according to claim 1, wherein the memory mounting portion is arranged in a central portion of the substrate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7871930B2 (en) 2000-12-28 2011-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing a light emitting device and thin film forming apparatus

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US9412948B2 (en) 2000-12-28 2016-08-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing a light emitting device and thin film forming apparatus

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