JPH0912681A - 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
印刷配線板用エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH0912681A JPH0912681A JP16067295A JP16067295A JPH0912681A JP H0912681 A JPH0912681 A JP H0912681A JP 16067295 A JP16067295 A JP 16067295A JP 16067295 A JP16067295 A JP 16067295A JP H0912681 A JPH0912681 A JP H0912681A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- printed wiring
- wiring board
- bisphenol
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 14
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 10
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 10
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 19
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 10
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- -1 glycidyl ester Chemical class 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-4-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CCC1=NC(C)=CN1CCC#N UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=CN=C(C)N1 LLPKQRMDOFYSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- QCTJRYGLPAFRMS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound OC(=O)C=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 QCTJRYGLPAFRMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCCN1 QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCVGSSQICKMAIA-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NCCN1 NCVGSSQICKMAIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC1=NCCN1 VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1CCN=C1C1=CC=CC=C1 BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NC=CN1 FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NCCN1 BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQHUDZKKDCTQET-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NCCN1 FQHUDZKKDCTQET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJUVAPMVTXLLFR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)CN=C1C1=CC=CC=C1 JJUVAPMVTXLLFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical group C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001291 polyvinyl halide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた
耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、か
つ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を提供する。 【構成】(a)化1で表されるエポキシ樹脂及び、
(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮合
物、(c)硬化促進剤を必須成分として配合してなる印
刷配線板用エポキシ樹脂組成物。 【化1】
耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、か
つ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を提供する。 【構成】(a)化1で表されるエポキシ樹脂及び、
(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮合
物、(c)硬化促進剤を必須成分として配合してなる印
刷配線板用エポキシ樹脂組成物。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、印刷配線板などの製造
に用いられる印刷配線板用エポキシ樹脂組成物に関す
る。
に用いられる印刷配線板用エポキシ樹脂組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】電子機器の小型化、高性能化に伴い、そ
の中に搭載される印刷配線板は、高多層化、薄物化、ス
ルーホールの小径化及び穴間隔の減少などによる高密度
化が進行している。さらに近年では、半導体チップを印
刷配線板上に直接搭載し樹脂封止した、プラスチックピ
ングリッドアレイやプラスチックボールグリッドアレイ
等の半導体パッケージに、印刷配線板が用いられるよう
になっている。半導体パッケージに用いられる場合、印
刷配線板はその製造工程において175℃以上の高温で
ワイヤボンディングや樹脂封止といった工程を経ること
になる。その際に印刷配線板の強度や弾性率が不足する
とボンディングワイヤの接続不良や樹脂封止後のそり、
ねじれ等の問題が発生する。175℃以上の高温域での
強度や弾性率等の高温特性を向上させるためには、従来
以上の高いTg(ガラス転移温度)が必要である。半導
体パッケージ用の印刷配線板はこれまで以上の高密度配
線が要求されており、絶縁信頼性も重要である。
の中に搭載される印刷配線板は、高多層化、薄物化、ス
ルーホールの小径化及び穴間隔の減少などによる高密度
化が進行している。さらに近年では、半導体チップを印
刷配線板上に直接搭載し樹脂封止した、プラスチックピ
ングリッドアレイやプラスチックボールグリッドアレイ
等の半導体パッケージに、印刷配線板が用いられるよう
になっている。半導体パッケージに用いられる場合、印
刷配線板はその製造工程において175℃以上の高温で
ワイヤボンディングや樹脂封止といった工程を経ること
になる。その際に印刷配線板の強度や弾性率が不足する
とボンディングワイヤの接続不良や樹脂封止後のそり、
ねじれ等の問題が発生する。175℃以上の高温域での
強度や弾性率等の高温特性を向上させるためには、従来
以上の高いTg(ガラス転移温度)が必要である。半導
体パッケージ用の印刷配線板はこれまで以上の高密度配
線が要求されており、絶縁信頼性も重要である。
【0003】これらの要求に対して、印刷配線板の絶縁
材料としてはエポキシ樹脂の高Tg化が進んでいる。高
Tg化の手法としては、多官能エポキシ樹脂をジシアン
ジアミドで硬化させる系が広く検討されている。しかし
ながら、ジシアンジアミド硬化系では吸湿性が高くなる
欠点があり、今後の印刷配線板の更なる高密度化に伴う
高い絶縁信頼性を満足することは困難となっており、特
に絶縁特性の中でも、絶縁材料上または絶縁材料内の配
線や回路パターンあるいは電極などを構成する金属が、
高湿度環境下、電位差の作用によって絶縁材料上または
絶縁材料内を移行する金属マイグレーション(電食)の
発生は非常に大きな問題となってきた。
材料としてはエポキシ樹脂の高Tg化が進んでいる。高
Tg化の手法としては、多官能エポキシ樹脂をジシアン
ジアミドで硬化させる系が広く検討されている。しかし
ながら、ジシアンジアミド硬化系では吸湿性が高くなる
欠点があり、今後の印刷配線板の更なる高密度化に伴う
高い絶縁信頼性を満足することは困難となっており、特
に絶縁特性の中でも、絶縁材料上または絶縁材料内の配
線や回路パターンあるいは電極などを構成する金属が、
高湿度環境下、電位差の作用によって絶縁材料上または
絶縁材料内を移行する金属マイグレーション(電食)の
発生は非常に大きな問題となってきた。
【0004】これに対して、多官能性フェノール樹脂を
硬化剤に用いた印刷配線板は、吸水率が低く耐電食性が
良好となる。ただし、このような多官能性フェノールを
用いた印刷配線板は、フェノール類の種類によっては加
熱処理時に変色する問題が生じる場合がある。特公昭6
2−28168号公報では、この加熱変色性を向上させ
る目的で、フェノールまたはビスフェノールAを主原料
とするハイオルソフェノール・ホルムアルデヒド樹脂を
配合した系を提案しているが、175℃以上の高温での
使用に耐えるTgは得られない。
硬化剤に用いた印刷配線板は、吸水率が低く耐電食性が
良好となる。ただし、このような多官能性フェノールを
用いた印刷配線板は、フェノール類の種類によっては加
熱処理時に変色する問題が生じる場合がある。特公昭6
2−28168号公報では、この加熱変色性を向上させ
る目的で、フェノールまたはビスフェノールAを主原料
とするハイオルソフェノール・ホルムアルデヒド樹脂を
配合した系を提案しているが、175℃以上の高温での
使用に耐えるTgは得られない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
に鑑みなされたもので、印刷配線板とした場合に吸湿性
が低く、優れた耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変
色性を有し、かつ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物
を提供することを目的とする。
に鑑みなされたもので、印刷配線板とした場合に吸湿性
が低く、優れた耐熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変
色性を有し、かつ高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物
を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明のエポ
キシ樹脂組成物は、(a)化1で表されるエポキシ樹脂
及び(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮
合物(c)硬化促進剤を必須成分として配合してなるこ
とを特徴とする。
キシ樹脂組成物は、(a)化1で表されるエポキシ樹脂
及び(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮
合物(c)硬化促進剤を必須成分として配合してなるこ
とを特徴とする。
【0007】
【化1】
【0008】(式中、RはHまたは、メチル、エチル、
プロピル、tert−ブチルなどのアルキル基であ
る。)
プロピル、tert−ブチルなどのアルキル基であ
る。)
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。(a)の
化1で表されるエポキシ樹脂としては、例えば、EXA
−T610、EXA−T710(大日本インキ化学工業
株式会社製商品名)などがある。また、本発明において
は、化1で表されるエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂を
併用してもよい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノーAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノ
ボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族
鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹
脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型
エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、その
他、二官能フェノール類のグリシジルエーテル化物、二
官能アルコールのグリシジルエーテル化物及びそれらの
ハロゲン化物、水素添加物などがある。これらの化合物
はどのようなものでもよく、また何種類かを併用するこ
とができる。
化1で表されるエポキシ樹脂としては、例えば、EXA
−T610、EXA−T710(大日本インキ化学工業
株式会社製商品名)などがある。また、本発明において
は、化1で表されるエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂を
併用してもよい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノーAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノ
ボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族
鎖状エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹
脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型
エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、その
他、二官能フェノール類のグリシジルエーテル化物、二
官能アルコールのグリシジルエーテル化物及びそれらの
ハロゲン化物、水素添加物などがある。これらの化合物
はどのようなものでもよく、また何種類かを併用するこ
とができる。
【0010】(b)のビスフェノールAとホルムアルデ
ヒドの重縮合物の分子量については制限がなく、ビスフ
ェノールAモノマーが含まれていても良い。また、ビス
フェノールAとホルムアルデヒドの重縮合物以外の硬化
剤を併用してもよく、例えば、ビスフェノールA、ビス
フェノールF、ポリビニルフェノール及びこれらのハロ
ゲン化物、またはフェノール、クレゾール、アルキルフ
ェノール、カテコール、ビスフェノールFなどのノボラ
ツク樹脂及びこれらのハロゲン化物などがある。これら
の化合物の分子量はどのようなものでも良く、また何種
類かを併用することができる。配合量は、エポキシ基に
対してフェノール性水酸基が0.5〜1.5当量の範囲
であることが好ましい。
ヒドの重縮合物の分子量については制限がなく、ビスフ
ェノールAモノマーが含まれていても良い。また、ビス
フェノールAとホルムアルデヒドの重縮合物以外の硬化
剤を併用してもよく、例えば、ビスフェノールA、ビス
フェノールF、ポリビニルフェノール及びこれらのハロ
ゲン化物、またはフェノール、クレゾール、アルキルフ
ェノール、カテコール、ビスフェノールFなどのノボラ
ツク樹脂及びこれらのハロゲン化物などがある。これら
の化合物の分子量はどのようなものでも良く、また何種
類かを併用することができる。配合量は、エポキシ基に
対してフェノール性水酸基が0.5〜1.5当量の範囲
であることが好ましい。
【0011】(c)の硬化促進剤としては、エポキシ基
とフェノール性水酸基のエーテル化反応を促進させるよ
うな触媒機能を持つ化合物であればどのようなものでも
良く、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属
化合物、イミダゾール化合物、有機りん化合物、第二級
アミン、第三級アミン、第四級アンモニウム塩などがあ
る。イミノ基がアクリロニトリル、イソシアネート、メ
ラミンアクリレートなどでマスク化されたイミダゾール
を用いると、従来の2倍以上の保存安定性を有するプリ
プレグを得ることができる。
とフェノール性水酸基のエーテル化反応を促進させるよ
うな触媒機能を持つ化合物であればどのようなものでも
良く、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属
化合物、イミダゾール化合物、有機りん化合物、第二級
アミン、第三級アミン、第四級アンモニウム塩などがあ
る。イミノ基がアクリロニトリル、イソシアネート、メ
ラミンアクリレートなどでマスク化されたイミダゾール
を用いると、従来の2倍以上の保存安定性を有するプリ
プレグを得ることができる。
【0012】ここで用いられるイミダゾール化合物とし
ては、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾ
ール、2−ウンデシルイミダゾール、1−べンジル−2
−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾー
ル、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミ
ダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシル
イミダゾリン、2−へプタデシルイミダゾリン、2−イ
ソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチ
ルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,
4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチル
イミダゾリンなどがあり、マスク化剤としては、アクリ
ロニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルイジン
イソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、メチレ
ンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレート
などがある。これらの硬化促進剤は何種類かを併用して
もよく、配合量はエポキシ樹脂100重量部に対して
0.01〜5重量部が好ましい。0.01重量部より少
ないと促進効果が小さく、5重量部より多いと保存安定
性が悪くなる。
ては、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾ
ール、2−ウンデシルイミダゾール、1−べンジル−2
−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾー
ル、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミ
ダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシル
イミダゾリン、2−へプタデシルイミダゾリン、2−イ
ソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾー
ル、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチ
ルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2,
4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチル
イミダゾリンなどがあり、マスク化剤としては、アクリ
ロニトリル、フェニレンジイソシアネート、トルイジン
イソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、メチレ
ンビスフェニルイソシアネート、メラミンアクリレート
などがある。これらの硬化促進剤は何種類かを併用して
もよく、配合量はエポキシ樹脂100重量部に対して
0.01〜5重量部が好ましい。0.01重量部より少
ないと促進効果が小さく、5重量部より多いと保存安定
性が悪くなる。
【0013】本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、各種
の形態で利用されるが基材に塗布、含浸する際にはしば
しば溶剤が用いられる。それらの溶剤としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、N,N−ジメチルアセトアミド、メ
タノール、エタノールなどがありこれらは何種類かを混
合しても良い。
の形態で利用されるが基材に塗布、含浸する際にはしば
しば溶剤が用いられる。それらの溶剤としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、N,N−ジメチルアセトアミド、メ
タノール、エタノールなどがありこれらは何種類かを混
合しても良い。
【0014】本発明に係るエポキシ樹脂組成物には、無
機充填剤として、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、
ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪
素、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、マグネシア、ジ
ルコニア、フォーステライト、ステアライト、スピネ
ル、ムライト、チタニアなどの粉体及びチタン酸カリウ
ム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナなどの単結晶繊維、
ガラス繊維などを1種類以上配合することができる。
機充填剤として、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、
ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪
素、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、マグネシア、ジ
ルコニア、フォーステライト、ステアライト、スピネ
ル、ムライト、チタニアなどの粉体及びチタン酸カリウ
ム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナなどの単結晶繊維、
ガラス繊維などを1種類以上配合することができる。
【0015】前記(a)〜(c)を必須成分として配合
して得たワニスは、ガラス布、ガラス不織布または紙、
ガラス以外を成分とする布などの基材に含浸させ、乾燥
炉内で80〜200℃の範囲で乾燥させることにより、
印刷配線板用プリプレグを得る。プリプレグは150〜
190℃、20〜80kgf/cm2の範囲で加熱加圧
して印刷配線板または金属張積層板を製造することに用
いられる。ここでの乾燥とは、溶剤を使用した場合には
溶剤を除去すること、溶剤を使用しない場合には室温で
流動性がなくなるようにすることをいう。
して得たワニスは、ガラス布、ガラス不織布または紙、
ガラス以外を成分とする布などの基材に含浸させ、乾燥
炉内で80〜200℃の範囲で乾燥させることにより、
印刷配線板用プリプレグを得る。プリプレグは150〜
190℃、20〜80kgf/cm2の範囲で加熱加圧
して印刷配線板または金属張積層板を製造することに用
いられる。ここでの乾燥とは、溶剤を使用した場合には
溶剤を除去すること、溶剤を使用しない場合には室温で
流動性がなくなるようにすることをいう。
【0016】
【作用】本発明では、化1で表されるエポキシ樹脂及び
ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮合物、硬化
促進剤を必須成分として用いることにより、従来のエポ
キシ樹脂組成物に比べグリシジルエーテル基とフェノー
ル性水酸基の反応率が高く、硬化物の架橋密度が高くな
るため、印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた
耐熱性と高温特性、耐電食性を有し、かつ高いTgを与
えるエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮合物、硬化
促進剤を必須成分として用いることにより、従来のエポ
キシ樹脂組成物に比べグリシジルエーテル基とフェノー
ル性水酸基の反応率が高く、硬化物の架橋密度が高くな
るため、印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた
耐熱性と高温特性、耐電食性を有し、かつ高いTgを与
えるエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0018】[実施例1]EXA−T710(大日本イ
ンキ化学工業株式会社商品名、エポキシ当量221)1
00重量部とビスフェノールAノボラック樹脂(水酸基
当量114)32重量部及びテトラブロモビスフェノー
ルA(臭素含有率58%、水酸基当量272)46重量
部をメチルエチルケトンで溶解した。硬化促進剤とし
て、1−シアノエチルー2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール0.3重量部を配合し、不揮発分65%のワニス
を作製した。
ンキ化学工業株式会社商品名、エポキシ当量221)1
00重量部とビスフェノールAノボラック樹脂(水酸基
当量114)32重量部及びテトラブロモビスフェノー
ルA(臭素含有率58%、水酸基当量272)46重量
部をメチルエチルケトンで溶解した。硬化促進剤とし
て、1−シアノエチルー2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール0.3重量部を配合し、不揮発分65%のワニス
を作製した。
【0019】[実施例2]EXA−T710 56重量
部と臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(臭素含有
率49%、エポキシ当量400)44重量部及びビスフ
ェノールAノボラック樹脂41重量部をメチルエチルケ
トンで溶解した。硬化促進剤として、1−シアノエチル
−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3重量部を
配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
部と臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(臭素含有
率49%、エポキシ当量400)44重量部及びビスフ
ェノールAノボラック樹脂41重量部をメチルエチルケ
トンで溶解した。硬化促進剤として、1−シアノエチル
−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3重量部を
配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
【0020】[実施例3]EXA−T710 39重量
部と臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(臭素
含有率35.3%、エポキシ当量284)61重量部及
びビスフェノールAノボラソク樹脂45重量部をメチル
エチルケトンで溶解した。硬化促進剤として、1−シア
ノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3
重量部を配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
部と臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂(臭素
含有率35.3%、エポキシ当量284)61重量部及
びビスフェノールAノボラソク樹脂45重量部をメチル
エチルケトンで溶解した。硬化促進剤として、1−シア
ノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.3
重量部を配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
【0021】[実施例4]1−シアノエチル−2−エチ
ル−4−メチルイミダゾールに代えて、イソシアネート
マスクイミダゾールを0.5重量部配合した以外は実施
例1と同様の配合でワニスを作製した。
ル−4−メチルイミダゾールに代えて、イソシアネート
マスクイミダゾールを0.5重量部配合した以外は実施
例1と同様の配合でワニスを作製した。
【0022】[比較例1]実施例1において、EXA−
T710に代えて、o−クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(エポキシ当量195)100重量部とビスフェ
ノールAノボラック樹脂38重量部及びテトラブロモビ
スフェノールA48重量部とした以外は実施例1と同様
の配合でワニスを作製した。
T710に代えて、o−クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂(エポキシ当量195)100重量部とビスフェ
ノールAノボラック樹脂38重量部及びテトラブロモビ
スフェノールA48重量部とした以外は実施例1と同様
の配合でワニスを作製した。
【0023】[比較例2]実施例1において、ビスフェ
ノールAノボラック樹脂に代えてフェノールノボラツク
樹脂(水酸基当量106)30重量部及びテトラブロモ
ビスフェノールA46重量部とした以外は実施例1と同
様の配合でワニスを作製した。
ノールAノボラック樹脂に代えてフェノールノボラツク
樹脂(水酸基当量106)30重量部及びテトラブロモ
ビスフェノールA46重量部とした以外は実施例1と同
様の配合でワニスを作製した。
【0024】[比較例3]低臭素化エポキシ樹脂(臭素
含有率21%、エポキシ当量485)80重量部とEX
A−T710 20重量部に、あらかじめエチレングリ
コールモノメチルエーテルに溶解したジシアンジアミド
1重量部を配合した。硬化促進剤として1−シアノエチ
ル−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.2重量部
を配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
含有率21%、エポキシ当量485)80重量部とEX
A−T710 20重量部に、あらかじめエチレングリ
コールモノメチルエーテルに溶解したジシアンジアミド
1重量部を配合した。硬化促進剤として1−シアノエチ
ル−2−エチル−4−メチルイミダゾール0.2重量部
を配合し、不揮発分65%のワニスを作製した。
【0025】[比較例4]比較例3において、EXA−
T710に代えてo−クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂とした以外は、比較例3と同様の配合でワニスを作
製した。
T710に代えてo−クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂とした以外は、比較例3と同様の配合でワニスを作
製した。
【0026】各実施例及び比較例1〜4の主な配合を表
1に示す。各実施例及び比較例1〜4で得られたワニス
を、厚みが0.2mmのガラス布に含浸し、160℃で
2〜5分加熱してプリプレグを得た。得られたプリプレ
グ4枚を重ね、その両側に18μmの銅箔を重ねて、1
75℃、90分、2.5MPaのプレス条件で両面銅張
積層板を作製した。得られた両面銅張積層板について、
Tg、はんだ耐熱性、吸水率、加熱変色性、耐電食性な
らびに常温及び200℃での曲げ強さ、曲げ弾性率を調
べた。その結果を表2及び表3に示す。
1に示す。各実施例及び比較例1〜4で得られたワニス
を、厚みが0.2mmのガラス布に含浸し、160℃で
2〜5分加熱してプリプレグを得た。得られたプリプレ
グ4枚を重ね、その両側に18μmの銅箔を重ねて、1
75℃、90分、2.5MPaのプレス条件で両面銅張
積層板を作製した。得られた両面銅張積層板について、
Tg、はんだ耐熱性、吸水率、加熱変色性、耐電食性な
らびに常温及び200℃での曲げ強さ、曲げ弾性率を調
べた。その結果を表2及び表3に示す。
【0027】試験方法は以下の通りである。 Tg:銅箔をエッチングし、TMA(熱機械分析)によ
り測定。単位:℃ はんだ耐熱性:銅箔をエッチングし、プレッシャークッ
カーテスター中に2時間保持した後、260℃のはんだ
に20秒間浸漬して、外観を目視で調べた。表中NGと
は、ミーズリング、ふくれ発生を意味する。 吸水率:銅箔をエッチングし、プレッシャークッカーテ
スター中に4時間保持した前後の重量の差から算出し
た。単位:% 加熱変色性:銅箔をエッチングし、気中において160
℃で5時間処理した後、目視により評価した。変色のな
いものを〇、若干変色したものを△、変色したものを×
とした。 耐電食性試験:スルーホール穴壁間隔を350μmとし
たテストパターンを用いて、各試料について400穴の
絶縁抵抗を経時的に測定した。試験条件は、85℃、9
0%RH雰囲気中100V印加して行い、導通破壊が発
生するまでの時間を測定した。 曲げ試験:JIS C6481に従い、常温及び200
℃で測定した。単位:曲げ強さ(MPa)、曲げ弾性率
(GPa)
り測定。単位:℃ はんだ耐熱性:銅箔をエッチングし、プレッシャークッ
カーテスター中に2時間保持した後、260℃のはんだ
に20秒間浸漬して、外観を目視で調べた。表中NGと
は、ミーズリング、ふくれ発生を意味する。 吸水率:銅箔をエッチングし、プレッシャークッカーテ
スター中に4時間保持した前後の重量の差から算出し
た。単位:% 加熱変色性:銅箔をエッチングし、気中において160
℃で5時間処理した後、目視により評価した。変色のな
いものを〇、若干変色したものを△、変色したものを×
とした。 耐電食性試験:スルーホール穴壁間隔を350μmとし
たテストパターンを用いて、各試料について400穴の
絶縁抵抗を経時的に測定した。試験条件は、85℃、9
0%RH雰囲気中100V印加して行い、導通破壊が発
生するまでの時間を測定した。 曲げ試験:JIS C6481に従い、常温及び200
℃で測定した。単位:曲げ強さ(MPa)、曲げ弾性率
(GPa)
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】
【表3】
【0031】以上の結果から、次のことが分る。エポキ
シ樹脂に、EXA−T710を用いた実施例1〜4は、
190℃以上の高いTgを有し、はんだ耐熱性、耐電食
性も良好である。また、常温における曲げ強さ、曲げ弾
性率に対する200℃における曲げ強さ、曲げ弾性率の
低下が小さい。また、硬化促進剤にイソシアネートマス
クイミダゾールを用いた実施例4は、プリプレグの保存
安定性が良好である。さらに、ビスフェノールAノボラ
ック樹脂を用いた実施例1〜4及び比較例1は加熱変色
性が良好である。これに対して、エポキシ樹脂にo−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂を用いた比較例1及
び、ビスフェノールAノボラック樹脂に代えてフェノー
ルノボラック樹脂を用いた比較例2は、Tgが低く、2
00℃における曲げ強さ、曲げ弾性率とも低い。さら
に、硬化剤にフェノールノボラックを用いた比較例2
は、加熱変色性が悪く、またジシアンジアミドを用いた
比較例3及び4は吸水率が大きく、耐電食性に劣る。
シ樹脂に、EXA−T710を用いた実施例1〜4は、
190℃以上の高いTgを有し、はんだ耐熱性、耐電食
性も良好である。また、常温における曲げ強さ、曲げ弾
性率に対する200℃における曲げ強さ、曲げ弾性率の
低下が小さい。また、硬化促進剤にイソシアネートマス
クイミダゾールを用いた実施例4は、プリプレグの保存
安定性が良好である。さらに、ビスフェノールAノボラ
ック樹脂を用いた実施例1〜4及び比較例1は加熱変色
性が良好である。これに対して、エポキシ樹脂にo−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂を用いた比較例1及
び、ビスフェノールAノボラック樹脂に代えてフェノー
ルノボラック樹脂を用いた比較例2は、Tgが低く、2
00℃における曲げ強さ、曲げ弾性率とも低い。さら
に、硬化剤にフェノールノボラックを用いた比較例2
は、加熱変色性が悪く、またジシアンジアミドを用いた
比較例3及び4は吸水率が大きく、耐電食性に劣る。
【0032】
【発明の効果】本発明の印刷配線板用エポキシ樹脂組成
物は、印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた耐
熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、かつ
高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を得ることができ
る。
物は、印刷配線板とした場合に吸湿性が低く、優れた耐
熱性と高温特性、耐電食性、耐加熱変色性を有し、かつ
高いTgを与えるエポキシ樹脂組成物を得ることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐瀬 茂雄 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】(a)化1で表されるエポキシ樹脂及び、
(b)ビスフェノールAとホルムアルデヒドの重縮合
物、(c)硬化促進剤を必須成分として配合してなる印
刷配線板用エポキシ樹脂組成物。 【化1】 (式中、RはHまたは、メチル、エチル、プロピル、t
ert−ブチルなどのアルキル基である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16067295A JPH0912681A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16067295A JPH0912681A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0912681A true JPH0912681A (ja) | 1997-01-14 |
Family
ID=15719992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16067295A Pending JPH0912681A (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0912681A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007314748A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-12-06 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂プリプレグ、金属張積層板および印刷配線板 |
-
1995
- 1995-06-27 JP JP16067295A patent/JPH0912681A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007314748A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-12-06 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂プリプレグ、金属張積層板および印刷配線板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6329474B1 (en) | Epoxidized phenol-hydroxybenzaldehyde condensate, bisphenol-formaldehyde condensate and masked imidazole | |
| US6524717B1 (en) | Prepreg, metal-clad laminate, and printed circuit board obtained from these | |
| KR100260340B1 (ko) | 인쇄회로기판용에폭시조성물및이를이용한프리프레그및금속적층판 | |
| JP2022508986A (ja) | 絶縁接着フィルム及びその製造方法、多層プリント配線板 | |
| JPH11279376A (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物およびこれを用いた印刷配線板 | |
| KR100635897B1 (ko) | 접착제 코팅된 구리 호일, 구리-클래딩된 적층물 및 이를사용한 인쇄 배선판 | |
| JPH0912677A (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 | |
| EP0933385B1 (en) | Flame retardant epoxy resin for printed board, prepreg, and metal foil clad laminate using the same | |
| JPH10279779A (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物及び該組成物を用いたプリプレグ、金属張り積層板 | |
| JP2000239640A (ja) | 接着剤付き銅箔並びにそれを用いた銅張り積層板及び印刷配線板 | |
| JPH0912681A (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物 | |
| JP2005187800A (ja) | 樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、金属張積層板及びプリント配線板 | |
| KR100305626B1 (ko) | 인쇄 배선판용 적층판의 제조방법 | |
| JPH11228670A (ja) | エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂プリプレグ、エポキシ樹脂積層板及び金属はく張エポキシ樹脂積層板 | |
| KR20010101310A (ko) | 시아네이트-에폭시 수지 조성물, 및 이를 이용한프리프레그, 금속 호일 적층판 및 인쇄 배선판 | |
| JP2001151995A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いた絶縁樹脂シート | |
| JP5157045B2 (ja) | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板およびプリント配線板 | |
| KR20110080419A (ko) | 절연필름용 수지 조성물, 그를 이용한 절연필름 및 그 절연필름의 제조방법 | |
| JPWO1997001591A1 (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた積層板 | |
| HK1015388B (en) | Epoxy resin composition for printed wiring board and laminate produced with the use of the same | |
| JPH11279372A (ja) | 印刷配線板用エポキシ樹脂組成物およびこれを用いた印刷配線板 | |
| JP2004231788A (ja) | 絶縁樹脂シートおよび絶縁樹脂付き金属箔の製造方法 | |
| JPH0155659B2 (ja) | ||
| JP2011006573A (ja) | プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板、およびプリント配線板 | |
| JP2000226431A (ja) | エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂積層板、金属はく張エポキシ樹脂積層板及びプリント配線板 |