JPH0912674A - Epoxy resin and manufacturing method thereof - Google Patents
Epoxy resin and manufacturing method thereofInfo
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- JPH0912674A JPH0912674A JP17616795A JP17616795A JPH0912674A JP H0912674 A JPH0912674 A JP H0912674A JP 17616795 A JP17616795 A JP 17616795A JP 17616795 A JP17616795 A JP 17616795A JP H0912674 A JPH0912674 A JP H0912674A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】低融点を有し、溶剤への溶解性の良いスチルベ
ン系エポキシ樹脂およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式(1)
【化1】
(ここで、R1〜R8はそれぞれ独立に炭素数1〜6の鎖
状または環状アルキル基、水素原子またはハロゲン原子
を示す。炭素−炭素二重結合に結合している二つのアリ
ール基は互いに同じではない。)で表され、融点が15
0℃以下であるスチルベン系エポキシ樹脂、またはこれ
の一種または二種以上と、一般式(2)
【化2】
(ここでR9〜R12はそれぞれ独立に、炭素数1〜6の
鎖状または環状アルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を示す。)で表される、炭素−炭素二重結合に結合し
ている二つのアリール基は互いに同じであるスチルベン
系エポキシ樹脂の一種もしくは二種以上を必須成分とす
る、融点が150℃以下であるエポキシ樹脂混合物、お
よびこれらの製造方法。(57) Abstract: A stilbene-based epoxy resin having a low melting point and good solubility in a solvent, and a method for producing the same. SOLUTION: General formula (1) (Here, R 1 to R 8 each independently represent a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom. Two aryl groups bonded to a carbon-carbon double bond are Are not the same as each other) and have a melting point of 15
A stilbene-based epoxy resin having a temperature of 0 ° C. or lower, or one or two or more thereof, and a compound represented by the general formula (2): (Wherein R 9 to R 12 each independently represents a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom), and is bonded to a carbon-carbon double bond. An epoxy resin mixture having a melting point of 150 ° C. or lower, which comprises one or more stilbene-based epoxy resins having the same two aryl groups as each other as essential components, and a method for producing the same.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、接着、塗料、絶縁
材料や積層板等の電気電子材料、特に、電子部品の封止
用として有用なエポキシ樹脂またはその混合物、および
その製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electric / electronic material such as an adhesive, a paint, an insulating material and a laminated board, and more particularly to an epoxy resin useful for sealing electronic parts or a mixture thereof, and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】スチルベン骨格を有するエポキシ樹脂に
ついては多くの研究例がある。例えば、無置換、あるい
はアルキル基が置換されたスチルベン骨格、好ましくは
メチル基が対称的な位置に置換されたスチルベン骨格を
有するビスフェノール化合物のグリシジルエーテル体が
開示されている(米国特許第4762901号、独国特許第362
2613号、特開昭63-23931)。エポキシ樹脂の原料とな
る、炭素−炭素二重結合に同じアリール基が置換したス
チルベン型ビスフェノール化合物についても報告例があ
り、4,4'-ジヒドロキシスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ
-3,3'-ジメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',
5,5'-テトラメチルスチルベン等の化合物の製法と物性
が開示されている(von Rolf H.Sieber,Liebigs Ann.Ch
em.730,31-46(1969))。また、スチルベン骨格を有する
エポキシ樹脂には液晶構造を発現するものがあり、液晶
性を有する化合物を液晶状態下にて少量の触媒を加えて
重合を行うと、液晶構造をそのまま保持した架橋体を得
ること、特定条件の電場下にて重合を行うことで液晶ド
メインの配向が起こることが報告されている(第3回次
世代産業基盤技術シンポジウム予稿集P182(1985))。
この中で4,4'-ジヒドロキシ−α−シアノスチルベンの
エポキシ化物が液晶性を示す化合物として例示されてい
る。また、機械特性を改良するために液晶性を示すもし
くはロッド状部分を有するエポキシ樹脂が提案されてい
る(特開平2-275872)。この特許でエポキシ化する水酸
基含有化合物として、4,4'-ジヒドロキシ−α−メチル
スチルベン、4,4'-ジヒドロキシスチルベン、4,4'-ジヒ
ドロキ-3,3',5,5'-テトラブロモスチルベン、4,4'-ジヒ
ドロキ-3,3',5,5'-テトラメチルスチルベン等が例示さ
れている。この様にスチルベン系エポキシ樹脂は、その
応用開発が数多く提案されている。2. Description of the Related Art There are many studies on epoxy resins having a stilbene skeleton. For example, glycidyl ethers of bisphenol compounds having a stilbene skeleton, which is unsubstituted or substituted with an alkyl group, preferably a methyl group is symmetrically substituted, are disclosed (US Pat. No. 4,762,901). German Patent No. 362
2613, JP-A-63-23931). There are also reported examples of stilbene-type bisphenol compounds in which the same aryl group is substituted on the carbon-carbon double bond, which is the raw material of the epoxy resin, 4,4'-dihydroxystilbene, 4,4'-dihydroxy.
-3,3'-dimethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3 ',
Manufacturing methods and physical properties of compounds such as 5,5'-tetramethylstilbene are disclosed (von Rolf H. Sieber, Liebigs Ann. Ch.
em.730, 31-46 (1969)). Further, some epoxy resins having a stilbene skeleton exhibit a liquid crystal structure. When a compound having a liquid crystallinity is polymerized in a liquid crystal state with a small amount of a catalyst, a crosslinked product retaining the liquid crystal structure as it is is obtained. It has been reported that alignment of liquid crystal domains occurs by obtaining and polymerizing under an electric field under specific conditions (Proceedings of the 3rd Next Generation Industrial Fundamental Technology Symposium P182 (1985)).
Of these, epoxidized products of 4,4'-dihydroxy-α-cyanostilbene are exemplified as compounds exhibiting liquid crystallinity. In addition, an epoxy resin exhibiting liquid crystallinity or having a rod-shaped portion has been proposed in order to improve mechanical properties (Japanese Patent Laid-Open No. 2-275872). As the hydroxyl group-containing compound that is epoxidized in this patent, 4,4'-dihydroxy-α-methylstilbene, 4,4'-dihydroxystilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetrabromo Examples include stilbene and 4,4′-dihydro-3,3 ′, 5,5′-tetramethylstilbene. As described above, the stilbene-based epoxy resin has been proposed for many applications and developments.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スチル
ベン系エポキシ樹脂は一般に融点が高く、溶剤への溶解
性も低いため、その使用方法は限られる。例えば、4,4'
-ジヒドロキシスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ
メチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テト
ラメチルスチルベンのグリシジルエーテル化物の融点
は、それぞれ208〜215℃、150℃、151℃と高く、エポキ
シ硬化剤との均一混合や他の成分との均一混練が困難で
ある等の問題点があった。本発明の目的は、低融点を有
し、溶剤への溶解性の良いスチルベン系エポキシ樹脂お
よびその製造方法を提供することにある。However, since the stilbene type epoxy resin generally has a high melting point and a low solubility in a solvent, its usage is limited. For example, 4,4 '
-Dihydroxystilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylstilbene glycidyl ether compound melting point is 208 ~ respectively It was high at 215 ° C, 150 ° C, 151 ° C, and there was a problem that uniform mixing with an epoxy curing agent or uniform kneading with other components was difficult. An object of the present invention is to provide a stilbene-based epoxy resin having a low melting point and good solubility in a solvent, and a method for producing the same.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】このような事情に鑑み、
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は次のとおりである。 [1]一般式(1)[Means for Solving the Problems] In view of such circumstances,
As a result of intensive studies, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention is as follows. [1] General formula (1)
【化3】 (ここで、R1〜R8はそれぞれ独立に炭素数1〜6の鎖
状または環状アルキル基、水素原子またはハロゲン原子
を示す。炭素−炭素二重結合に結合している二つのアリ
ール基は互いに同じではない。)で表され、融点が15
0℃以下であるスチルベン系エポキシ樹脂。Embedded image (Here, R 1 to R 8 each independently represent a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom. Two aryl groups bonded to a carbon-carbon double bond are Are not the same as each other) and have a melting point of 15
A stilbene-based epoxy resin having a temperature of 0 ° C. or lower.
【0005】[2]一般式(1)において、R1がt−
ブチル基である上記[1]記載のスチルベン系エポキシ
樹脂。[2] In the general formula (1), R 1 is t-
The stilbene-based epoxy resin according to the above [1], which is a butyl group.
【0006】[3]一般式(1)において、R1がt−
ブチル基であり、R5〜R8がt−ブチル基以外である上
記[1]記載のスチルベン系エポキシ樹脂。[3] In the general formula (1), R 1 is t-
The stilbene-based epoxy resin according to [1] above, which is a butyl group and R 5 to R 8 are other than a t-butyl group.
【0007】[4]一般式(1)において、R1のt−
ブチル基が酸素原子の結合位置に対してオルソ位に結合
している上記[2]または[3]記載のスチルベン系エ
ポキシ樹脂。[4] In the general formula (1), t-of R 1
The stilbene-based epoxy resin according to the above [2] or [3], wherein the butyl group is bonded to the ortho position with respect to the bonding position of the oxygen atom.
【0008】[5]上記[1]記載の一般式(1)で表
されるスチルベン系エポキシ樹脂の一種または二種以上
と、一般式(2)[5] One or more of the stilbene-based epoxy resins represented by the general formula (1) described in [1] above and the general formula (2).
【化4】 (ここでR9〜R12はそれぞれ独立に、炭素数1〜6の
鎖状または環状アルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を示す。)で表される、炭素−炭素二重結合に結合し
ている二つのアリール基は互いに同じであるスチルベン
系エポキシ樹脂の一種もしくは二種以上を必須成分とす
る、融点が150℃以下であるエポキシ樹脂混合物。Embedded image (Wherein R 9 to R 12 each independently represents a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom), and is bonded to a carbon-carbon double bond. An epoxy resin mixture having one or two or more stilbene type epoxy resins in which the two aryl groups are the same as each other and having a melting point of 150 ° C. or less.
【0009】[6]一般式(1)で表されるスチルベン
系エポキシ樹脂において、R1がt−ブチル基である上
記[5]記載のエポキシ樹脂混合物。[6] The epoxy resin mixture according to the above [5], wherein R 1 is a t-butyl group in the stilbene type epoxy resin represented by the general formula (1).
【0010】[7]一般式(1)において、R1がt−
ブチル基であり、R5〜R8がt−ブチル基以外である上
記[5]または[6]記載のエポキシ樹脂混合物。[7] In the general formula (1), R 1 is t-
The epoxy resin mixture according to the above [5] or [6], which is a butyl group and R 5 to R 8 are other than a t-butyl group.
【0011】[8]一般式(1)において、R1がt−
ブチル基であり、アリール基において酸素原子の置換位
置に対してオルソ位に置換している上記[5]、[6]
または[7]記載のエポキシ樹脂混合物。[8] In the general formula (1), R 1 is t-
[5], [6] above which is a butyl group and is substituted at the ortho position with respect to the substitution position of the oxygen atom in the aryl group.
Alternatively, the epoxy resin mixture described in [7].
【0012】[9]150℃での溶融粘度が1ポイズ以
下である上記[5]、[6]、[7]または[8]記載
のエポキシ樹脂混合物。[9] The epoxy resin mixture as described in [5], [6], [7] or [8], which has a melt viscosity at 150 ° C. of 1 poise or less.
【0013】[10]2種以上のフェノール類とクロロ
アセトアルデヒド類とを酸性物質の存在下で反応させて
得られた1,1−ビス(ヒドロキシフェニル)−2−ク
ロロエタン誘導体を塩基性物質の存在下に脱塩酸反応を
行ってジヒドロキシスチルベン誘導体とした後、該ジヒ
ドロキシスチルベン誘導体を塩基性物質の存在下にエピ
ハロヒドリンと反応させることを特徴とするエポキシ樹
脂またはその混合物の製造方法。[10] The presence of a basic substance in a 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative obtained by reacting two or more phenols with chloroacetaldehyde in the presence of an acidic substance. A process for producing an epoxy resin or a mixture thereof, which comprises subjecting a dihydroxystilbene derivative to a dihydroxystilbene derivative under the following conditions and then reacting the dihydroxystilbene derivative with epihalohydrin in the presence of a basic substance.
【0014】[11]フェノール類が2,6−キシレノ
ール、2,4−キシレノール、3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール、2−メチル−6−t−ブチルフェノー
ルからなる群から選ばれる2種以上である上記[10]
記載のエポキシ樹脂またはその混合物の製造方法。[11] Two or more phenols selected from the group consisting of 2,6-xylenol, 2,4-xylenol, 3-methyl-6-t-butylphenol and 2-methyl-6-t-butylphenol. Above [10]
A method for producing the described epoxy resin or a mixture thereof.
【0015】[12]フェノール類が2,6−キシレノ
ールおよび3−メチル−6−t−ブチルフェノールの混
合物である上記[10]記載のエポキシ樹脂またはその
混合物の製造方法。[12] The method for producing an epoxy resin or a mixture thereof according to the above [10], wherein the phenol is a mixture of 2,6-xylenol and 3-methyl-6-t-butylphenol.
【0016】本発明における一般式(1)または(2)
で表されるエポキシ樹脂の置換基R 1〜R12を具体的に
例示すると、それぞれメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基(各異性体を含む)、塩素原子および臭素原子等があ
げられる。中でも製品の溶融粘度の低さや原料の入手の
容易さからメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
が好ましい。The general formula (1) or (2) in the present invention
Substituent R of the epoxy resin represented by 1~ R12Specifically
For example, methyl group, ethyl group, propyl group
Group, butyl group, amyl group, hexyl group, cyclohexyl
Group (including each isomer), chlorine atom, bromine atom, etc.
I can do it. Above all, the low melt viscosity of products and the availability of raw materials
Methyl, ethyl, propyl, butyl for ease of use
Is preferred.
【0017】本発明における一般式(1)で表されるエ
ポキシ樹脂の原料となる、炭素−炭素二重結合に結合し
ている二つのアリール基が互いに同じではないスチルベ
ン系フェノール類の具体例としては、3-t-ブチル-4,4'-
ジヒドロキシ-3'-メチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-
ジヒドロキシ-5,3'-ジメチルスチルベン、3-t-ブチル-
4,4'-ジヒドロキシ-3',6-ジメチルスチルベン、3-t-ブ
チル-4,4'-ジヒドロキシ-5-エチル-3'-メチルスチルベ
ン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3'-メチル-5-プロ
ピルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-5-ブ
チル-3'-メチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロ
キシ-5-アミル-3'-メチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'
-ジヒドロキシ-5-ヘキシル-3'-メチルスチルベン、3-t-
ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-5-シクロヘキシル-3'-メチ
ルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5,5'
-トリメチルスチルベン、3-t-ブチル-2,4'-ジヒドロキ
シ-3',5',6-トリメチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'-
ジヒドロキシ-3',5',6-トリメチルスチルベン、3-t-ブ
チル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5,-ジメチル-5'-プロピル
スチルベン、3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3',6,-ジ
メチル-5'-プロピルスチルベン等(置換位置の異なる異
性体を含む)が例示できるが、合成の容易さ、性能、原
料の価格の面から3-t-ブチル-4,4'-ジヒドロキシ-3',5,
5'-トリメチルスチルベン、3-t-ブチル-2,4'-ジヒドロ
キシ-3',5',6-トリメチルスチルベン、3-t-ブチル-4,4'
-ジヒドロキシ-3',5',6-トリメチルスチルベンが特に好
ましい。Specific examples of stilbene-based phenols in which two aryl groups bonded to a carbon-carbon double bond are not the same as each other, which is a raw material of the epoxy resin represented by the general formula (1) in the present invention, Is 3-t-butyl-4,4'-
Dihydroxy-3'-methylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-
Dihydroxy-5,3'-dimethylstilbene, 3-t-butyl-
4,4'-dihydroxy-3 ', 6-dimethylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy-5-ethyl-3'-methylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy -3'-methyl-5-propylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy-5-butyl-3'-methylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy-5-amyl -3'-methylstilbene, 3-t-butyl-4,4 '
-Dihydroxy-5-hexyl-3'-methylstilbene, 3-t-
Butyl-4,4'-dihydroxy-5-cyclohexyl-3'-methylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy-3 ', 5,5'
-Trimethylstilbene, 3-t-butyl-2,4'-dihydroxy-3 ', 5', 6-trimethylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-
Dihydroxy-3 ', 5', 6-trimethylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy-3 ', 5, -dimethyl-5'-propylstilbene, 3-t-butyl-4,4' -Dihydroxy-3 ', 6, -dimethyl-5'-propylstilbene etc. (including isomers with different substitution positions) can be exemplified, but 3-t-butyl is used in terms of ease of synthesis, performance, and raw material price. -4,4'-dihydroxy-3 ', 5,
5'-trimethylstilbene, 3-t-butyl-2,4'-dihydroxy-3 ', 5', 6-trimethylstilbene, 3-t-butyl-4,4 '
-Dihydroxy-3 ', 5', 6-trimethylstilbene is particularly preferred.
【0018】一般式(2)で表されるエポキシ樹脂の原
料となるスチルベン系フェノール類の具体例としては、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルスチルベン、3,3'-ジ
エチル-4,4'-ジヒドロキシスチルベン、4,4'-ジヒドロ
キシ-3,3'-ジプロピルスチルベン、3,3'-ジアミル-4,4'
-ジヒドロキシスチルベン、3,3'-ジヘキシル-4,4'-ジヒ
ドロキシスチルベン、3,3'-ジシクロヘキシル-4,4'-ジ
ヒドロキシスチルベン、2,2'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-
テトラメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,
5'-テトラメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-
ジ-t-ブチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t
-ブチル-5,5'-ジメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ
-3,3'-ジ-t-ブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、2,2'-ジ
ヒドロキシ-3,3'-ジ-t-ブチル-6,6'-ジメチルスチルベ
ン、2,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t-ブチル-6,6'-ジメチ
ルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラ-t
-ブチルスチルベン等(置換位置の異なる異性体を含
む。)が例示できるが、中でも合成の容易さ、性能、原
料の価格の面から2,2'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラ
メチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テト
ラメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t-ブ
チル-5,5'-ジメチルスチルベン、4,4'-ジヒドロキシ-3,
3'-ジ-t-ブチル-6,6'-ジメチルスチルベン、2,2'-ジヒ
ドロキシ-3,3'-ジ-t-ブチル-6,6'-ジメチルスチルベ
ン、2,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ-t-ブチル-6,6'-ジメチ
ルスチルベンが特に好ましい。Specific examples of stilbene-based phenols, which are raw materials for the epoxy resin represented by the general formula (2), include:
4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethylstilbene, 3,3'-diethyl-4,4'-dihydroxystilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dipropylstilbene, 3,3 ' -Jiamil-4,4 '
-Dihydroxystilbene, 3,3'-dihexyl-4,4'-dihydroxystilbene, 3,3'-dicyclohexyl-4,4'-dihydroxystilbene, 2,2'-dihydroxy-3,3 ', 5,5' -
Tetramethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,
5'-tetramethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-
Di-t-butylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-di-t
-Butyl-5,5'-dimethylstilbene, 4,4'-dihydroxy
-3,3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene, 2,2'-dihydroxy-3,3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene, 2,4 '-Dihydroxy-3,3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene,4,4'-dihydroxy-3,3',5,5'-tetra-t
-Butylstilbene, etc. (including isomers with different substitution positions) can be exemplified. Among them, 2,2'-dihydroxy-3,3 ', 5,5' from the viewpoint of easiness of synthesis, performance, and raw material price. -Tetramethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-di-t-butyl-5,5'-dimethyl Stilbene, 4,4'-dihydroxy-3,
3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene, 2,2'-dihydroxy-3,3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene, 2,4'-dihydroxy- Particularly preferred is 3,3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene.
【0019】本発明において、スチルベン系エポキシ樹
脂の出発原料として用いられるフェノール類としては下
記のものが具体例として例示できる。t-ブチル基を含む
ものとして、3-メチル-6-t-ブチルフェノール、2-メチ
ル-6-t-ブチルフェノール、2-t-ブチルフェノール、2-
エチル-6-t-ブチルフェノール、2-プロピル-6-t-ブチル
フェノール、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、2-イソブチ
ル-6-t-ブチルフェノール、2-アミル-6-t-ブチルフェノ
ール、2-アミル-6-t-ブチルフェノール、2-ヘキシル-6-
t-ブチルフェノール、2-シクロヘキシル-6-t-ブチルフ
ェノール等が例示できるが、最終生成物の融点や入手の
し易さ、価格の面から3-メチル-6-t-ブチルフェノー
ル、2-メチル-6-t-ブチルフェノールが特に好ましい。
また、t-ブチル基を含まないものとして、クレゾール、
キシレノール、トリメチルフェノール、テトラメチルフ
ェノール、メチルエチルフェノール、メチルプロピルフ
ェノール、メチルイソブチルフェノール、メチルヘキシ
ルフェノール、メチルシクロヘキシルフェノール等(各
異性体を含む)が例示できる。これらの中でもキシレノ
ールが性能、価格のバランスで特に好ましい。In the present invention, the phenols used as a starting material for the stilbene type epoxy resin are as follows. As those containing a t-butyl group, 3-methyl-6-t-butylphenol, 2-methyl-6-t-butylphenol, 2-t-butylphenol, 2-
Ethyl-6-t-butylphenol, 2-propyl-6-t-butylphenol, 2,6-di-t-butylphenol, 2-isobutyl-6-t-butylphenol, 2-amyl-6-t-butylphenol, 2- Amyl-6-t-butylphenol, 2-hexyl-6-
Examples include t-butylphenol and 2-cyclohexyl-6-t-butylphenol, but 3-methyl-6-t-butylphenol and 2-methyl-6 from the viewpoint of the melting point of the final product, availability, and price. Particularly preferred is -t-butylphenol.
Also, as those not containing t-butyl group, cresol,
Examples include xylenol, trimethylphenol, tetramethylphenol, methylethylphenol, methylpropylphenol, methylisobutylphenol, methylhexylphenol, methylcyclohexylphenol and the like (including each isomer). Of these, xylenol is particularly preferable in terms of performance and price balance.
【0020】本発明において、スチルベン系エポキシ樹
脂の出発原料として用いられるクロロアセトアルデヒド
類としては、クロロアセトアルデヒド、クロロアセトア
ルデヒド水溶液、クロロアセトアルデヒドのアセタール
類、クロロアセトアルデヒドのトリオキサン型三量体等
が例示される。In the present invention, examples of the chloroacetaldehydes used as a starting material for the stilbene type epoxy resin include chloroacetaldehyde, an aqueous solution of chloroacetaldehyde, acetals of chloroacetaldehyde, and a trioxane type trimer of chloroacetaldehyde.
【0021】使用するクロロアセトアルデヒド類の量は
フェノール類の合計モル量を1として0.8〜1.4倍
モル、好ましくは等量配合で行う。この範囲より少ない
と未反応フェノール類が製品に残存し易く、この範囲を
超えると、製品が高分子量化し易い。The amount of chloroacetaldehyde to be used is 0.8 to 1.4 times mol, preferably 1 to 0, based on the total molar amount of phenols. If it is less than this range, unreacted phenols are likely to remain in the product, and if it exceeds this range, the product tends to have a high molecular weight.
【0022】クロロアセトアルデヒド類とフェノール類
との反応は通常、酸性物質の存在下に実施させるが、こ
の様な物質としては、発煙硫酸、濃硫酸、硫酸水溶液、
濃塩酸、塩化水素ガス、塩酸水溶液、トリフルオロスル
ホン酸等の無機酸、p-トルエンスルホン酸、クロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、ヘ
テロポリ酸、酸性イオン交換樹脂等が例示できるが、濃
硫酸が高純度の製品を簡便に得られる点で好ましい。使
用する量はクロロアセトアルデヒド類に対して0.1〜
10倍モル、好ましくは0.5〜2倍モルである。この
範囲より小さいと反応の進行が遅く、この範囲を超えて
使用しても一定以上の効果は得られない。The reaction between chloroacetaldehydes and phenols is usually carried out in the presence of an acidic substance, and examples of such substances include fuming sulfuric acid, concentrated sulfuric acid, an aqueous sulfuric acid solution,
Examples include concentrated hydrochloric acid, hydrogen chloride gas, aqueous hydrochloric acid, inorganic acids such as trifluorosulfonic acid, organic acids such as p-toluenesulfonic acid, chloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, heteropolyacids, acidic ion exchange resins, and the like. However, concentrated sulfuric acid is preferable in that a highly pure product can be easily obtained. The amount used is 0.1 to chloroacetaldehydes.
The molar ratio is 10 times, preferably 0.5 to 2 times. If it is less than this range, the reaction proceeds slowly, and if it is used beyond this range, a certain effect or more cannot be obtained.
【0023】反応溶媒としてはトルエン、キシレン等の
炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
メタノール、プロパノール等のアルコール類、ジメチル
スルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド等の非プロトン性極性溶媒、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール等のグリコール類、酢酸等の
酸性溶媒等が例示できるが、中でも酢酸が好ましい。こ
れらの溶媒は一種、もしくは二種以上が使用できる。As the reaction solvent, hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran,
Examples thereof include alcohols such as methanol and propanol, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide and dimethylformamide, glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, and acidic solvents such as acetic acid, with acetic acid being preferred. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
【0024】溶媒の使用量は、フェノール類とクロロア
セトアルデヒド類に対して0.1〜20重量倍、好まし
くは0.5〜10重量倍が好ましい。この範囲以下であ
ると反応によって析出した結晶により撹拌が困難とな
り、この範囲を超えると、反応一回当たりの製品得量が
低下し、経済的に不利となる。The amount of the solvent used is 0.1 to 20 times by weight, preferably 0.5 to 10 times by weight, based on the phenols and chloroacetaldehydes. If it is below this range, stirring will be difficult due to the crystals precipitated by the reaction, and if it exceeds this range, the product yield per reaction will decrease, which is economically disadvantageous.
【0025】反応は、フェノール類とクロロアセトアル
デヒド類を溶媒に溶かしておいてから、酸性物質を滴下
するか、フェノール類と酸性物質を先に反応容器に仕込
んでおいてから、クロロアセトアルデヒド類を滴下して
も良い。滴下時間は通常0.5時間から10時間以内で
ある。滴下後は3〜24時間反応を行う。温度は−30
〜60℃、好ましくは−10〜40℃で行う。この温度
以下では反応の進行が遅く、この範囲を超えると不純物
の生成が顕著となる。反応後、析出した結晶を濾別し、
水洗を行なってから減圧下に乾燥を行う。このようにし
て本発明のエポキシ樹脂の中間体である1,1-ビス(ヒド
ロキシフェニル)-2-クロロエタン誘導体が得られる。In the reaction, phenols and chloroacetaldehydes are dissolved in a solvent and then an acidic substance is dropped, or phenols and acidic substances are first charged in a reaction vessel and then chloroacetaldehydes are dropped. You may. The dropping time is usually 0.5 to 10 hours. After the dropping, the reaction is performed for 3 to 24 hours. The temperature is -30
It is carried out at -60 ° C, preferably -10-40 ° C. Below this temperature, the reaction progresses slowly, and above this range, the production of impurities becomes remarkable. After the reaction, the precipitated crystals are filtered off,
After washing with water, it is dried under reduced pressure. Thus, the 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative which is an intermediate of the epoxy resin of the present invention is obtained.
【0026】次に、1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2
-クロロエタン誘導体の脱塩酸/転位反応を行う。この
化合物を溶媒に溶解し、苛性ソーダ水溶液等の塩基性物
質を滴下することにより、容易に行うことができる。使
用する溶媒としては、トルエン、キシレン等の炭化水素
類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノー
ル、プロパノール等のアルコール類、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等
の非プロトン性極性溶媒、エチレングリコール、プロピ
レングリコール等のグリコール類、酢酸等の酸性溶媒等
が例示できるが、中でもメタノール、プロパノール等の
アルコール類が好ましい。これらの溶媒は一種、もしく
は二種以上が使用できる。Next, 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2
-Dehydrochlorination / rearrangement reaction of chloroethane derivative. It can be easily carried out by dissolving this compound in a solvent and dropping a basic substance such as an aqueous solution of caustic soda. Examples of the solvent to be used include hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, alcohols such as methanol and propanol, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide and dimethylformamide. Examples thereof include aprotic polar solvents, glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, acidic solvents such as acetic acid, and alcohols such as methanol and propanol are preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
【0027】溶媒の使用量は、1,1-ビス(ヒドロキシフ
ェニル)-2-クロロエタン誘導体に対して0.1〜20
重量倍、好ましくは0.5〜10重量倍が好ましい。こ
の範囲以下であると反応中に析出した塩により撹拌が困
難となり、この範囲を超えると、反応一回当たりの製品
得量が低下し、経済的に不利となる。The amount of the solvent used is 0.1 to 20 relative to the 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative.
Weight times, preferably 0.5 to 10 times by weight are preferable. If it is below this range, stirring will be difficult due to the salt precipitated during the reaction, and if it exceeds this range, the product yield per reaction will be reduced, which is economically disadvantageous.
【0028】反応に使用する塩基性物質としては、苛性
ソーダ、苛性カリ等の粉末、ペレット、水溶液がある
が、中でも苛性ソーダの水溶液が取扱い性や価格の面で
好ましい。使用する量は1,1-ビス(ヒドロキシフェニ
ル)-2-クロロエタン誘導体に対して1〜5倍モル、好
ましくは1〜2倍モルが好ましい。この範囲以下である
と未反応物が残存し、この範囲を超えて使用しても、一
定以上の効果は得られない。As the basic substance used in the reaction, powders of caustic soda, caustic potash and the like, pellets and aqueous solutions thereof are preferred, of which aqueous solutions of caustic soda are preferred in view of handling and cost. The amount used is 1 to 5 times, preferably 1 to 2 times the mol of the 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative. If it is below this range, unreacted substances remain, and if it is used beyond this range, the effect of a certain level or more cannot be obtained.
【0029】反応は、1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)
-2-クロロエタン誘導体を溶媒に溶かしておいてから、
塩基性物質を滴下するか、フェノール類と酸性物質を先
に反応容器に仕込んでおいてから、1,1-ビス(ヒドロキ
シフェニル)-2-クロロエタン誘導体を粉体のまま、あ
るいは溶液、スラリーの状態で滴下する。滴下時間は通
常0.5時間から10時間以内が好ましい。滴下後は3
〜24時間反応を行うのが好ましい。温度は好ましくは
−20〜150℃、さらに好ましくは20〜100℃で
ある。この温度以下では反応の進行が遅く、この範囲を
超えて反応を行っても一定以上の効果は得られない。The reaction is 1,1-bis (hydroxyphenyl)
After dissolving the -2-chloroethane derivative in a solvent,
After dropping the basic substance or charging the phenols and acidic substances into the reaction vessel first, the 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative as a powder or as a solution or slurry Drop in the state. Usually, the dropping time is preferably 0.5 hours to 10 hours. 3 after dropping
It is preferable to carry out the reaction for -24 hours. The temperature is preferably -20 to 150 ° C, more preferably 20 to 100 ° C. When the temperature is lower than this temperature, the reaction progresses slowly, and even if the reaction is carried out beyond this range, a certain effect or more cannot be obtained.
【0030】反応後は反応系を中和してから溶媒回収を
行う。溶媒回収後、反応容器内に水を入れることによ
り、反応混合物は容易に結晶化する。これを濾取後、水
洗してから減圧下に乾燥する。このようにして本発明の
エポキシ樹脂の中間体であるスチルベン骨格を持つビス
フェノール化合物が得られる。After the reaction, the reaction system is neutralized and the solvent is recovered. After collecting the solvent, the reaction mixture is easily crystallized by adding water into the reaction vessel. This is collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure. Thus, a bisphenol compound having a stilbene skeleton, which is an intermediate of the epoxy resin of the present invention, is obtained.
【0031】本発明のスチルベン系エポキシ樹脂は、上
記のようにして得たスチルベン系のビスフェノールをグ
リシジルエーテル化する周知の方法によって得ることが
できる。つまり、ビスフェノールとエピハロヒドリンと
を、苛性ソーダ等のアルカリの存在下で反応させる方法
である。特に、高純度品を得る場合には、特開昭60-315
17号の様に、非プロトン性溶媒やジオキサン等の溶媒を
用いる反応が好適である。The stilbene type epoxy resin of the present invention can be obtained by a known method of converting the stilbene type bisphenol obtained as described above into a glycidyl ether. That is, this is a method of reacting bisphenol and epihalohydrin in the presence of an alkali such as caustic soda. Particularly, when a high-purity product is obtained, the method disclosed in JP-A-60-315
As in No. 17, a reaction using an aprotic solvent or a solvent such as dioxane is preferable.
【0032】本発明において、一般式(1)で表される
エポキシ樹脂と一般式(2)で表されるエポキシ樹脂の
混合物は、それぞれ別々に合成して、混合して調製して
も良い。また、エポキシ化までの工程の途中まで別々に
合成し、その段階で混合してから残りの工程の反応を行
うことによって得ることもできる。In the present invention, the mixture of the epoxy resin represented by the general formula (1) and the epoxy resin represented by the general formula (2) may be separately synthesized and mixed to prepare. It can also be obtained by separately synthesizing up to the middle of the steps up to the epoxidation, mixing at that stage, and then performing the reaction of the remaining steps.
【0033】[0033]
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。例中、エポキシ当量と
は、エポキシ基1個あたりのエポキシ樹脂の分子量で定
義される。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, the epoxy equivalent is defined as the molecular weight of the epoxy resin per epoxy group.
【0034】参考例1 (1)1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2-クロロエタ
ン誘導体の合成−1 温度計、撹拌機、コンデンサーを備えた2リットル四ツ
口フラスコに2,6−キシレノール(以下26XYと略
す。)244.4g(2.0mol)、40.5%クロ
ロアセトアルデヒド水溶液193.8g(1.0mo
l)および酢酸376gを仕込み、撹拌、溶解し、5℃
まで冷却した。次に、濃硫酸122g(1.2mol)
を酢酸84gに混合した溶液を5℃にて3時間かけて滴
下、その後25℃で6時間反応系を保温し、終夜室温で
撹拌を続けた。系の温度を5℃まで冷却し、析出した結
晶を濾別した。結晶を500gの水で6回洗浄し、その
後40℃にて8時間真空乾燥し、無色結晶264g(収
率86.6%)を得た(XYCEとする)。ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー(以下GPCと略す。2
54nmの紫外線により検出)による純度は98.3
%、赤外吸収スペクトルにより3500cm-1付近に水酸
基による幅広い吸収が確認された。また、質量分析スペ
クトルにより、分子量304のフラグメントが観察でき
た。Reference Example 1 (1) Synthesis of 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative-1 In a 2-liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser, 2,6-xylenol ( Hereinafter, abbreviated as 26XY.) 244.4 g (2.0 mol), 43.8% aqueous chloroacetaldehyde solution 193.8 g (1.0 mo)
l) and 376 g of acetic acid, and stirred and dissolved.
Cooled down. Next, 122 g (1.2 mol) of concentrated sulfuric acid
Was added dropwise to acetic acid (84 g) over 3 hours at 5 ° C., and then the reaction system was kept warm at 25 ° C. for 6 hours and stirred at room temperature overnight. The temperature of the system was cooled to 5 ° C., and the precipitated crystals were separated by filtration. The crystals were washed six times with 500 g of water, and then vacuum dried at 40 ° C. for 8 hours to obtain 264 g (yield: 86.6%) of colorless crystals (referred to as XYCE). Gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC. 2
Purity of 98.3).
%, A broad absorption due to hydroxyl group was confirmed at around 3500 cm -1 by infrared absorption spectrum. In addition, a fragment having a molecular weight of 304 was observed from the mass spectrum.
【0035】(2)スチルベン系ビスフェノールの合成
−1 温度計、撹拌機、コンデンサーの付いたリットル四ツ口
フラスコに(1)で得たXYCE225.6gとメタノ
ール451.2gを仕込み、窒素気流下、撹拌して溶解
させた。48.3%苛性ソーダ水溶液91.9gを内温
30℃、1時間で滴下した。次に昇温しメタノールを還
流させながら3時間反応させた。反応後、高速液体クロ
マトグラフィー(以下LCと略す)で原料のXYCEは
完全に消失していた。60℃まで冷却後、濃塩酸37.
5gを加えて中和し、メタノールを留去した。続いて温
水1000gを加えて、析出した結晶を濾取した。結晶
を水洗後、80℃で8時間真空乾燥を行い黄色結晶19
2g(96.7%)を得た(XYSBとする)。GPC
による純度は98.1%、赤外吸収スペクトルにより3
400cm-1付近に水酸基による幅広い吸収が確認され
た。また、質量分析スペクトルにより、分子量268の
フラグメントが観察できた。(2) Synthesis of stilbene-type bisphenol-1 A liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser was charged with 225.6 g of XYCE obtained in (1) and 451.2 g of methanol, and under a nitrogen stream, Stir to dissolve. 91.9 g of a 48.3% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at an internal temperature of 30 ° C. for 1 hour. Next, the mixture was reacted for 3 hours while heating and refluxing methanol. After the reaction, XYCE as a raw material had completely disappeared by high performance liquid chromatography (hereinafter abbreviated as LC). After cooling to 60 ° C., concentrated hydrochloric acid 37.
5 g was added for neutralization, and methanol was distilled off. Subsequently, 1000 g of warm water was added, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were washed with water and vacuum dried at 80 ° C. for 8 hours to obtain yellow crystals 19
2 g (96.7%) was obtained (referred to as XYSB). GPC
Is 98.1%, and 3 according to infrared absorption spectrum.
Broad absorption by a hydroxyl group was confirmed at around 400 cm -1 . In addition, a fragment having a molecular weight of 268 was observed from the mass spectrum.
【0036】(3)エポキシの合成−1 (2)で得られた原料フェノール(XYSB)100g
を温度計、撹拌機、滴下漏斗、分離管付きコンデンサー
の付いた反応容器に仕込み、エピクロルヒドリン48
5.6g、1,4−ジオキサン242.8gに溶解し
た。反応系内を140torrに保ちながら、温度62
℃で、48.3%苛性ソーダ61.71gを5時間で連
続的に滴下した。 この間、温度は62℃に保ちなが
ら、共沸するエピクロルヒドリンと水を冷却液化し、有
機層を反応系内に戻しながら反応させた。反応終了後
に、未反応エピクロルヒドリンと1,4−ジオキサンと
を減圧濃縮により除去し、副生塩とグリシジルエーテル
をメチルイソブチルケトン800gに溶解させ、副生塩
とジメチルスルホキシドを水洗により除去した。その後
160℃、10torrにてメチルイソブチルケトンを
減圧留去し目的物を122.2g(86.2%)得た
(XYCC−Eとする)。GPC(示差屈折率計により
検出)による純度は93.0%、このものの融点は15
1℃、エポキシ当量は198g/eqであった。赤外吸
収スペクトル測定の結果、フェノール性水酸基による吸
収は消失し、エポキシによる1240cm -1、915c
m-1の吸収を有することが確認された。(3) Synthesis of Epoxy-1 100 g of raw material phenol (XYSB) obtained in (2)
The thermometer, stirrer, dropping funnel, condenser with separation tube
Into a reaction vessel marked with, and add epichlorohydrin 48
5.6 g, dissolved in 242.8 g of 1,4-dioxane
Was. While maintaining the inside of the reaction system at 140 torr, a temperature of 62
At 4 ° C., 61.71 g of 48.3% caustic soda was added in 5 hours.
It was dropped continuously. During this time, keep the temperature at 62 ° C
Liquefied epichlorohydrin and water,
The reaction was carried out while returning the layers to the reaction system. After the reaction
And unreacted epichlorohydrin and 1,4-dioxane
Was removed by vacuum concentration, and the by-product salt and glycidyl ether were removed.
Dissolved in 800 g of methyl isobutyl ketone,
And dimethyl sulfoxide were removed by washing with water. afterwards
Methyl isobutyl ketone at 160 ° C, 10 torr
Evaporation under reduced pressure gave 122.2 g (86.2%) of the desired product.
(Named XYCC-E). GPC (by differential refractometer
Purity by detection) is 93.0%, melting point of this is 15
The epoxy equivalent was 198 g / eq at 1 ° C. Infrared absorption
As a result of absorption spectrum measurement, absorption by the phenolic hydroxyl group
Loss disappears, 1240 cm due to epoxy -1, 915c
m-1It was confirmed to have absorption of.
【0037】参考例2 (1)1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2-クロロエタ
ン誘導体の合成−2 参考例1(1)の場合で26XY244.4g(2.0
mol)の代わりに3−メチル−6−t−ブチルフェノ
ール(以下3M6Bと略す。)328.5g(2.0m
ol)を用いた他は同様に操作を行い、淡紫結晶を31
7g(81.5%)得た(XMCE−100とする)。
GPC(254nmの紫外線により検出)による純度は
87.7%、赤外吸収スペクトルにより3500cm-1付
近に水酸基による幅広い吸収が確認された。また、質量
分析スペクトルにより、分子量389のフラグメントが
観察できた。Reference Example 2 (1) Synthesis of 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative-2 In the case of Reference Example 1 (1), 26XY244.4 g (2.0
mol) instead of 3-methyl-6-t-butylphenol (hereinafter abbreviated as 3M6B) 328.5 g (2.0 m)
ol) was used in the same manner as described above, and the light purple crystals were washed with 31
7 g (81.5%) was obtained (designated as XMCE-100).
Purity by GPC (detected by ultraviolet rays at 254 nm) was 87.7%, and infrared absorption spectrum confirmed wide absorption by hydroxyl groups at around 3500 cm -1 . In addition, a fragment having a molecular weight of 389 could be observed by mass spectrometry.
【0038】(2)スチルベン系ビスフェノールの合成
−2 参考例1(2)の場合で、XYCEの代わりに参考例2
(1)で得られたXMCE−100を用いて同様に実験
を行い、淡黄色結晶134g(94.8%)を得た(X
MSB−100とする)。GPCによる純度は93.5
%、赤外吸収スペクトルにより3100cm-1付近に水
酸基による幅広い吸収が確認された。また、質量分析ス
ペクトルにより、分子量352のフラグメントが観察で
きた。(2) Synthesis of stilbene bisphenol-2 Reference example 1 In the case of (2), reference example 2 was used instead of XYCE.
The same experiment was carried out using the XMCE-100 obtained in (1), and 134 g (94.8%) of pale yellow crystals were obtained (X
MSB-100). Purity by GPC is 93.5
%, An infrared absorption spectrum confirmed a wide absorption due to a hydroxyl group near 3100 cm −1 . In addition, a fragment having a molecular weight of 352 could be observed by mass spectrometry.
【0039】(3)エポキシの合成−2 参考例1(3)の場合でXYSBの代わりにXMSB−
100を用いた他は同様に操作を行い、同様にエポキシ
化を行って目的物を54.7g(36.2%)得た(X
MCC−100Eとする)。GPC(示差屈折率計によ
り検出)による純度は95.2%であった。また、この
ものの融点は220〜224℃、エポキシ当量は230
g/eqであった。赤外吸収スペクトル測定の結果、フ
ェノール性水酸基による吸収は消失し、エポキシによる
1230、920cm-1の吸収を有することが確認され
た。(3) Synthesis of Epoxy-2 XMSB-instead of XYSB in Reference Example 1 (3)
Other than using 100, the same operation was carried out and epoxidation was carried out in the same manner to obtain 54.7 g (36.2%) of the desired product (X
MCC-100E). The purity by GPC (detected by a differential refractometer) was 95.2%. The melting point of this product is 220 to 224 ° C, and the epoxy equivalent is 230.
g / eq. As a result of infrared absorption spectrum measurement, it was confirmed that the absorption due to the phenolic hydroxyl group disappeared and that the epoxy had absorptions at 1230 and 920 cm −1 .
【0040】実施例1 (1)1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2-クロロエタ
ン誘導体の合成−3 参考例1(1)の場合で26XY244.4g(2.0
mol)の代わりに26XY195.5g(1.6mo
l)と3M6B65.7g(0.4mol)を用いた他
は同様に操作を行い、淡紫結晶を271g(84.1
%)得た(XMCE−20とする)。GPC(254n
mの紫外線により検出)による純度は97.7%、赤外
吸収スペクトルにより3450と3550cm-1付近に
水酸基による幅広い吸収が確認された。また、質量分析
スペクトルにより、分子量346、304のフラグメン
トが観察できた。また、LCによる分析で参考例4のX
MCE−100は検出されなかった。Example 1 (1) Synthesis of 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative-3 In the case of Reference Example 1 (1), 26XY244.4 g (2.0
mol) instead of 26XY195.5g (1.6mo)
1) and 65.7 g (0.4 mol) of 3M6B were used in the same manner, and 271 g (84.1 g) of pale purple crystals were obtained.
%) Obtained (referred to as XMCE-20). GPC (254n
m, detected by ultraviolet rays) and the infrared absorption spectrum confirmed broad absorption by hydroxyl groups at around 3450 and 3550 cm -1 . In addition, fragments having molecular weights of 346 and 304 were observed by mass spectrometry. In addition, X of Reference Example 4 was analyzed by LC.
MCE-100 was not detected.
【0041】(2)スチルベン系ビスフェノールの合成
−3 参考例1(2)の場合で、XYCEの代わりに実施例1
(1)で得られたXMCE−20を144.8gを用い
て同様に実験を行い、黄色結晶124g(96.6%)
を得た(XMSB−20とする)。GPC(254nm
の紫外線により検出)による純度は97.1%、赤外吸
収スペクトルにより3400cm-1付近に水酸基による
幅広い吸収が確認された。また、質量分析スペクトルに
より、分子量310、268のフラグメントが観察でき
た。また、LCによる分析で参考例5のXMSB−10
0は検出されなかった。(2) Synthesis of Stilbene Bisphenol-3 Reference Example 1 In the case of (2), Example 1 was used instead of XYCE.
The same experiment was performed using 144.8 g of XMCE-20 obtained in (1), and 124 g (96.6%) of yellow crystals were obtained.
(Referred to as XMSB-20). GPC (254 nm
Of 97.1%, and a broad absorption due to hydroxyl group was confirmed at around 3400 cm -1 by infrared absorption spectrum. In addition, fragments having molecular weights of 310 and 268 were observed by mass spectrometry. In addition, XMSB-10 of Reference Example 5 was analyzed by LC.
0 was not detected.
【0042】(3)エポキシの合成−3 参考例1(3)の場合でXYSBの代わりに上記(2)
で得られたXMSB−20を99.7g用いた他は同様
に操作を行い、目的物を131g(94%)得た(XM
CC−20Eとする)。GPC(示差屈折率計により検
出)による純度は93.6%、26XYと3M6Bを分
子中に持つスチルベン系エポキシ化合物は39.6%で
あった。このものの融点は110〜130℃、エポキシ
当量は208g/eqであった。赤外吸収スペクトル測
定の結果、フェノール性水酸基による吸収は消失し、エ
ポキシによる1240、920cm-1の吸収を有するこ
とが確認された。(3) Epoxy synthesis-3 In the case of Reference Example 1 (3), the above (2) was used instead of XYSB.
The same operation was performed except that 99.7 g of the XMSB-20 obtained in the above was used to obtain 131 g (94%) of the desired product (XM
CC-20E). Purity by GPC (detected by a differential refractometer) was 93.6%, and that of a stilbene-based epoxy compound having 26XY and 3M6B in a molecule was 39.6%. This had a melting point of 110 to 130 ° C. and an epoxy equivalent of 208 g / eq. As a result of infrared absorption spectrum measurement, absorption by the phenolic hydroxyl group disappeared, and it was confirmed that the epoxy resin had absorptions of 1240 and 920 cm -1 .
【0043】実施例2 (1)1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2-クロロエタ
ン誘導体の合成−4 参考例1(1)の場合で26XY244.4g(2.0
mol)の代わりに26XY171.1g(1.4mo
l)と3M6B98.6g(0.6mol)gを用いた
他は同様に操作を行い、淡紫結晶を253g(76.7
%)得た(XMCE−30とする)。GPC(254n
mの紫外線により検出)による純度は96.0%、赤外
吸収スペクトルにより3450と3550cm-1付近に
水酸基による幅広い吸収が確認された。また、質量分析
スペクトルにより、分子量346、304のフラグメン
トが観察できた。また、LCによる分析で参考例4のX
MCE−100は検出されなかった。Example 2 (1) Synthesis of 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative-4 In the case of Reference Example 1 (1), 26XY244.4 g (2.0
mol instead of 26XY171.1 g (1.4 mo
l) and 3M6B 98.6 g (0.6 mol) g were used in the same manner as above, and 253 g (76.7 g) of light purple crystals were obtained.
%) Obtained (designated as XMCE-30). GPC (254n
The purity was 96.0% as detected by ultraviolet light of m), and the infrared absorption spectrum confirmed wide absorption by hydroxyl groups at around 3450 and 3550 cm -1 . In addition, fragments having molecular weights of 346 and 304 were observed by mass spectrometry. In addition, X of Reference Example 4 was analyzed by LC.
MCE-100 was not detected.
【0044】(2)スチルベン系ビスフェノールの合成
−4 参考例1(2)の場合で、XYCEの代わりに上記
(1)で得られたXMCE−30を122.1gを用い
て同様に実験を行い、黄色結晶108g(99.4%)
を得た(XMSB−30とする)。GPC(254nm
の紫外線により検出)による純度は93.3%、赤外吸
収スペクトルにより3400cm-1付近に水酸基による
幅広い吸収が確認された。また、質量分析スペクトルに
より、分子量310、268のフラグメントが観察でき
た。また、LCによる分析で参考例2(2)のXMSB
−100は検出されなかった。(2) Synthesis of stilbene bisphenol-4 In the case of Reference Example 1 (2), the same experiment was carried out using 122.1 g of XMCE-30 obtained in (1) above instead of XYCE. , Yellow crystals 108g (99.4%)
Was obtained (designated as XMSB-30). GPC (254 nm
The purity was 93.3% (detected by ultraviolet light), and the infrared absorption spectrum confirmed wide absorption at 3400 cm -1 due to the hydroxyl group. In addition, fragments having molecular weights of 310 and 268 were observed by mass spectrometry. In addition, the XMSB of Reference Example 2 (2) was analyzed by LC.
-100 was not detected.
【0045】(3)エポキシの合成−4 参考例1(3)の場合でXYSBの代わりに上記(2)
で得られたXMSB−30を95.4g用いた他は同様
に操作を行い、目的物を118g(89.5%)得た
(XMCC−30Eとする)。GPC(示差屈折率計に
より検出)による純度は86.6%、26XYと3M6
Bを分子中に持つスチルベン系エポキシ化合物は53.
2%であった。このものは室温で半固形状であり、エポ
キシ当量は200g/eqであった。溶融粘度は150
℃で0.16ポイズであった。赤外吸収スペクトル測定
の結果、フェノール性水酸基による吸収は消失し、エポ
キシによる吸収1260、910cm-1の吸収を有する
ことが確認された。(3) Synthesis of Epoxy-4 In the case of Reference Example 1 (3), the above (2) was used instead of XYSB.
The same operation was performed except that 95.4 g of XMSB-30 obtained in 1. was used to obtain 118 g (89.5%) of the desired product (referred to as XMCC-30E). Purity by GPC (detected by differential refractometer) is 86.6%, 26XY and 3M6
The stilbene type epoxy compound having B in the molecule is 53.
2%. This product was semi-solid at room temperature and had an epoxy equivalent of 200 g / eq. Melt viscosity is 150
It was 0.16 poise at ° C. As a result of the infrared absorption spectrum measurement, it was confirmed that the absorption due to the phenolic hydroxyl group disappeared and that the absorptions due to the epoxy were 1260 and 910 cm −1 .
【0046】実施例3 (1)1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2-クロロエタ
ン誘導体の合成−5 参考例1(1)の場合で26XY244.4g(2.0
mol)の代わりに26XY122.2g(1.0mo
l)と3M6B164.3g(1.0mol)gを用い
た他は同様に操作を行い、無色結晶を321g(92.
5%)得た(XMCE−50とする)。GPC(254
nmの紫外線により検出)による純度は90.7%、赤
外吸収スペクトルにより3450と3550cm-1付近
に水酸基による幅広い吸収が確認された。また、質量分
析スペクトルにより、分子量346、304および微量
の389のフラグメントが観察できた。Example 3 (1) Synthesis of 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative-5 In the case of Reference Example 1 (1), 26XY244.4 g (2.0
mol instead of 26XY122.2 g (1.0 mo
l) and 3M6B164.3 g (1.0 mol) g were used in the same manner, and 321 g (92.
5%) was obtained (designated as XMCE-50). GPC (254
The purity was 90.7% by detection with ultraviolet rays of nm), and the infrared absorption spectrum confirmed wide absorption by hydroxyl groups at around 3450 and 3550 cm −1 . In addition, by mass spectrometry, molecular weights of 346 and 304 and a trace amount of 389 fragment were observed.
【0047】(2)スチルベン系ビスフェノールの合成
−5 参考例1(2)の場合で、XYCEの代わりに上記
(1)で得られたXMCE−50を114.7gを用い
て同様に実験を行い、淡褐色結晶98.5g(95.8
%)を得た(XMSB−50とする)。GPC(254
nmの紫外線により検出)による純度は96.5%であ
り、26XYと3M6Bを分子中に持つスチルベン化合
物が86.4%であった。赤外吸収スペクトルにより3
400cm-1付近に水酸基による幅広い吸収が確認され
た。また、質量分析スペクトルにより、分子量310、
268および微量の352のフラグメントが観察でき
た。(2) Synthesis of stilbene bisphenol-5 In the case of Reference Example 1 (2), the same experiment was conducted using 114.7 g of XMCE-50 obtained in (1) above instead of XYCE. , Light brown crystals 98.5 g (95.8)
%) Was obtained (designated as XMSB-50). GPC (254
The purity was 96.5% by detection with ultraviolet light of nm), and the stilbene compound having 26XY and 3M6B in the molecule was 86.4%. 3 according to infrared absorption spectrum
Wide absorption due to hydroxyl groups was confirmed near 400 cm -1 . In addition, the molecular weight of 310,
268 and trace 352 fragments could be observed.
【0048】(3)スチルベン系ビスフェノールの精製 実施例3(2)で得られたXMSB−50をトルエンか
ら再結晶した。結晶をシクロヘキサンで洗浄後、減圧下
に乾燥して褐色微結晶を得た。高速液体クロマトグラフ
ィー(以下LCと略)による純度は99.1%であり、
実施例3(2)で得られた26XYと3M6Bを分子中
に持つスチルベン系ビスフェノールのLCの保持時間と
完全に一致した。赤外吸収スペクトルにより3500cm
-1付近に水酸基による幅広い吸収が確認された。また、
質量分析スペクトルにより、分子量310のフラグメン
トが観察できた。 ・融点 175〜179℃ ・ 1H−NMR δ:1.43ppm(s、t−ブチル基、9H) 2.27ppm(s、Ar−CH3、6H) 2.33ppm(s、Ar−CH3、3H) 4.77ppm(brs、水酸基、2H) 6.5〜7.5ppm (m、Ar−H、−CH=CH−、6H)(3) Purification of stilbene bisphenol XMSB-50 obtained in Example 3 (2) was recrystallized from toluene. The crystals were washed with cyclohexane and dried under reduced pressure to give brown fine crystals. Purity by high performance liquid chromatography (hereinafter abbreviated as LC) is 99.1%,
The retention time of LC of stilbene bisphenol having 26XY and 3M6B in the molecule obtained in Example 3 (2) was completely the same. 3500 cm by infrared absorption spectrum
Wide absorption due to hydroxyl groups was confirmed around -1 . Also,
By mass spectrometry, a fragment with a molecular weight of 310 could be observed. Melting point 175 to 179 ° C. 1 H-NMR δ: 1.43 ppm (s, t-butyl group, 9H) 2.27 ppm (s, Ar—CH 3 , 6H) 2.33 ppm (s, Ar—CH 3 , 3H) 4.77 ppm (brs, hydroxyl group, 2H) 6.5-7.5 ppm (m, Ar-H, -CH = CH-, 6H)
【0049】(4)エポキシの合成−5 参考例1(3)の場合でXYSBの代わりに上記(2)
で得られたXMSB−50を99.7g用いた他は同様
に操作を行い、目的物を131g(94%)得た(XM
CC−50Eとする)。GPC(示差屈折率計により検
出)による純度は93.5%、26XY残基と3M6B
残基を分子中に持つスチルベン系エポキシ化合物は8
0.5%であった。このものの融点は45℃、エポキシ
当量は226g/eq、溶融粘度は150℃で0.2ポ
イズであった。赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノ
ール性水酸基による吸収は消失し、エポキシによる吸収
1260、920cm-1の吸収を有することが確認され
た。(4) Synthesis of epoxy-5 In the case of Reference Example 1 (3), the above (2) was used instead of XYSB.
The same operation was performed except that 99.7 g of the XMSB-50 obtained in 1. was used and 131 g (94%) of the desired product was obtained (XM
CC-50E). Purity by GPC (detected by differential refractometer) is 93.5%, 26XY residue and 3M6B
There are 8 stilbene-based epoxy compounds that have a residue in the molecule.
0.5%. This product had a melting point of 45 ° C., an epoxy equivalent of 226 g / eq and a melt viscosity of 0.2 poise at 150 ° C. As a result of the infrared absorption spectrum measurement, it was confirmed that the absorption due to the phenolic hydroxyl group disappeared and the absorption due to the epoxy was 1260 and the absorption at 920 cm -1 .
【0050】(5) エポキシの合成−6 参考例1(3)の場合でXYSBの代わりに実施例3
(3)で得られた再結晶品を38.8g用いた他は同様
に操作を行い、淡黄色の粘稠液状物を50.2g(95
%)得た。LCによる26XYと3M6Bを分子中に持
つスチルベン系エポキシ化合物の純度は94.2%であ
った。赤外吸収スペクトル測定の結果、フェノール性水
酸基による吸収は消失し、エポキシによる吸収126
0、910cm -1の吸収を有することが確認された。 ・ 1H−NMR δ:1.42ppm(s、t−ブチル基、9H) 2.32ppm(s、Ar−CH3、6H) 2.38ppm(s、Ar−CH3、3H) 2.7〜3.0ppm(m、エポキシ−CH2、4H) 3.4ppm(m、エポキシ−CH、2H) 3.7〜4.3ppm(m、−OCH2、4H) 6.6〜7.5ppm (m、Ar−H、−CH=CH−、6H)(5) Synthesis of Epoxy-6 In the case of Reference Example 1 (3), Example 3 was used instead of XYSB.
The same except that 38.8 g of the recrystallized product obtained in (3) was used.
To 50.2 g (95%) of a pale yellow viscous liquid.
%)Obtained. Holds 26XY and 3M6B in the molecule by LC
The purity of the stilbene type epoxy compound is 94.2%.
Was. As a result of infrared absorption spectrum measurement, phenolic water
Absorption by acid groups disappears, absorption by epoxy 126
0,910 cm -1It was confirmed to have absorption of.・1H-NMR δ: 1.42 ppm (s, t-butyl group, 9H) 2.32 ppm (s, Ar-CHThree, 6H) 2.38 ppm (s, Ar-CHThree3H) 2.7 to 3.0 ppm (m, epoxy-CHTwo4H) 3.4 ppm (m, epoxy-CH, 2H) 3.7-4.3 ppm (m, -OCHTwo4H) 6.6 to 7.5 ppm (m, Ar-H, -CH = CH-, 6H).
【0051】実施例4 (1)1,1-ビス(ヒドロキシフェニル)-2-クロロエタ
ン誘導体の合成−6 参考例1(1)の場合で26XY244.4g(2.0
mol)の代わりに26XY91.7g(0.75mo
l)と3M6B164.3g(1.25mol)を用い
た他は同様に操作を行い、淡紫結晶を315g(88.
0%)得た(XMCE−62.5とする)。GPC(2
54nmの紫外線により検出)による純度は94.4
%、赤外吸収スペクトルにより3450と3550cm
-1付近に水酸基による幅広い吸収が確認された。また、
質量分析スペクトルにより、分子量346、389、3
04のフラグメントが観察できた。Example 4 (1) Synthesis of 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative-6 In the case of Reference Example 1 (1), 26XY244.4 g (2.0
mol instead of 26XY91.7g (0.75mo)
1) and 3M6B164.3 g (1.25 mol) were used in the same manner, and 315 g (88.
0%) was obtained (designated as XMCE-62.5). GPC (2
Purity by detection with 54 nm UV light) is 94.4
%, 3450 and 3550 cm by infrared absorption spectrum
Wide absorption due to hydroxyl groups was confirmed around -1 . Also,
By mass spectrometry, the molecular weights of 346, 389, 3
04 fragments could be observed.
【0052】(2)スチルベン系ビスフェノールの合成
−6 参考例1(2)の場合で、XYCEの代わりに上記
(1)で得られたXMCE−62.5を121.1gを
用いて同様に実験を行い、淡褐色結晶103g(94.
7%)を得た(XMSB−62.5とする)。GPC
(254nmの紫外線により検出)による純度は92.
0%、赤外吸収スペクトルにより3500cm -1付近に
水酸基による幅広い吸収が確認された。また、質量分析
スペクトルにより、分子量310、268、352のフ
ラグメントが観察できた。(2) Synthesis of stilbene bisphenol
-6 In the case of Reference Example 1 (2), the above is used instead of XYCE.
121.1 g of XMCE-62.5 obtained in (1)
The same experiment was carried out using 103 g (94.
7%) was obtained (designated as XMSB-62.5). GPC
The purity according to (detected by ultraviolet rays at 254 nm) is 92.
0%, 3500 cm according to infrared absorption spectrum -1In the vicinity
Wide absorption due to hydroxyl groups was confirmed. Mass spectrometry
According to the spectrum, the molecular weight of 310, 268, 352
I was able to observe the lagment.
【0053】(3)エポキシの合成−7 参考例1(3)の場合でXYSBの代わりに実施例4
(2)で得られたXMSB−62.5を80.3g用い
た他は同様に操作を行い、目的物を95.2g(87.
9%)得た(XMCC−62.5Eとする)。GPC
(示差屈折率計により検出)による純度は85.8%、
26XYと3M6Bを分子中に持つスチルベン系エポキ
シ化合物は71.0%であった。このものの融点は10
5〜125℃、エポキシ当量は230g/eq、また、
溶融粘度は150℃で0.4ポイズであった。赤外吸収
スペクトル測定の結果、フェノール性水酸基による吸収
は消失し、エポキシによる吸収1260、915cm-1
の吸収を有することが確認された。(3) Synthesis of Epoxy-7 In the case of Reference Example 1 (3), Example 4 was used instead of XYSB.
The same operation was performed except that 80.3 g of XMSB-62.5 obtained in (2) was used, and 95.2 g (87.
9%) was obtained (designated as XMCC-62.5E). GPC
Purity by (detected by differential refractometer) is 85.8%,
The stilbene type epoxy compound having 26XY and 3M6B in the molecule was 71.0%. The melting point of this product is 10
5 to 125 ° C., epoxy equivalent is 230 g / eq,
The melt viscosity at 150 ° C. was 0.4 poise. As a result of infrared absorption spectrum measurement, the absorption due to the phenolic hydroxyl group disappeared, and the absorption due to the epoxy 1260, 915 cm -1
It was confirmed to have absorption of.
【0054】実施例5、溶媒に対するエポキシ樹脂の溶
解度試験 実施例1、2、3、4または参考例1、2で得られたエ
ポキシ樹脂(それぞれXMCC−20E、XMCC−3
0E、XMCC−50E、XMCC−62.5E、XM
CC−100E、XYCC−E)20重量部にメチルイ
ソブチルケトン80重量部を加え、80℃に加熱した時
の溶解度を調べた。また、参考例1と2で得られたエポ
キシ樹脂をそれぞれ10重量部ずつをメチルイソブチル
ケトン80重量部に加えて同様に溶解度を調べた。結果
を表1に示す。溶解した場合には○、溶解しなかった場
合には×の記号で示した。また、それぞれの樹脂の融点
も併記した。Example 5, Solubility Test of Epoxy Resin in Solvents Epoxy resins obtained in Examples 1, 2, 3, 4 or Reference Examples 1 and 2 (XMCC-20E and XMCC-3, respectively).
0E, XMCC-50E, XMCC-62.5E, XM
80 parts by weight of methyl isobutyl ketone was added to 20 parts by weight of CC-100E, XYCC-E), and the solubility when heated to 80 ° C. was examined. Further, 10 parts by weight of each of the epoxy resins obtained in Reference Examples 1 and 2 was added to 80 parts by weight of methyl isobutyl ketone, and the solubility was similarly examined. Table 1 shows the results. When dissolved, it is indicated by ◯, and when not dissolved, by x. In addition, the melting points of the respective resins are also shown.
【0055】[0055]
【表1】 [Table 1]
【0056】[0056]
【発明の効果】本発明の互いに異なるアリール基を持つ
スチルベン系エポキシ化合物またはそれをを含むエポキ
シ樹脂混合物は、互いに等しいアリール基を持つスチル
ベン系エポキシ樹脂またはそれを含むエポキシ樹脂混合
物と比較して低融点である。このためこれらの樹脂等
は、従来品に比べ作業性や成形性が改善され、これらを
用いて成形加工を行う場合、製品化工程の時間短縮等、
経済性や生産性の面で優れる。また、本発明のエポキシ
樹脂等を用いると従来のものに比べ応用範囲も広がる。
本発明のエポキシ樹脂等の融点はアリール基の置換基を
変えることによって大きく変化させることができ、例え
ば150℃から室温で液状のものまで幅広い対応が可能
であり、目的や用途に応じて柔軟に対応することができ
る。また、本発明のエポキシ樹脂等は、従来のものと比
べ溶剤への溶解度も向上しており、ワニスや塗料といっ
た用途にも対応できる。この様に本発明のエポキシ樹脂
等は、接着、塗料、絶縁材料や積層板等の電気電子材
料、特に電子部品の封止用として有用である。INDUSTRIAL APPLICABILITY The stilbene-type epoxy compound having different aryl groups or the epoxy resin mixture containing the same according to the present invention has a lower temperature than the stilbene-type epoxy resin having equal aryl groups or the epoxy resin mixture containing the same. Melting point. Therefore, these resins and the like have improved workability and moldability as compared to conventional products, and when molding is performed using these, shortening the time of the commercialization process, etc.
Excellent in terms of economy and productivity. Further, when the epoxy resin or the like of the present invention is used, the range of application is expanded compared to the conventional one.
The melting point of the epoxy resin or the like of the present invention can be largely changed by changing the substituent of the aryl group, and for example, it can be widely applied from 150 ° C. to liquid at room temperature, and flexibly according to the purpose and application. Can respond. Further, the epoxy resin and the like of the present invention have improved solubility in a solvent as compared with conventional ones, and can be used for applications such as varnish and paint. As described above, the epoxy resin or the like of the present invention is useful as an adhesive, a paint, an electric / electronic material such as an insulating material or a laminated board, and particularly for sealing an electronic component.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 宏 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株式 会社内 (72)発明者 内藤 茂樹 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株式 会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Nakamura 6 Kitahara, Tsukuba-shi, Ibaraki Prefecture Sumitomo Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Shigeki Naito 6 Kitahara, Tsukuba-shi, Ibaraki Sumitomo Chemical Co., Ltd.
Claims (12)
状または環状アルキル基、水素原子またはハロゲン原子
を示す。炭素−炭素二重結合に結合している二つのアリ
ール基は互いに同じではない。)で表され、融点が15
0℃以下であるスチルベン系エポキシ樹脂。1. A compound of the general formula (1) (Here, R 1 to R 8 each independently represent a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom. Two aryl groups bonded to a carbon-carbon double bond are Are not the same as each other) and have a melting point of 15
A stilbene-based epoxy resin having a temperature of 0 ° C. or lower.
基である請求項1記載のスチルベン系エポキシ樹脂。2. The stilbene type epoxy resin according to claim 1 , wherein R 1 in the general formula (1) is a t-butyl group.
基であり、R5〜R8がt−ブチル基以外である請求項1
記載のスチルベン系エポキシ樹脂。3. In the general formula (1), R 1 is t-butyl group and R 5 to R 8 are other than t-butyl group.
The stilbene-based epoxy resin described.
基が酸素原子の結合位置に対してオルソ位に結合してい
る請求項2または3記載のスチルベン系エポキシ樹脂。4. The stilbene type epoxy resin according to claim 2, wherein in the general formula (1), the t-butyl group of R 1 is bonded to the ortho position with respect to the bonding position of the oxygen atom.
チルベン系エポキシ樹脂の一種または二種以上と、一般
式(2) 【化2】 (ここでR9〜R12はそれぞれ独立に、炭素数1〜6の
鎖状または環状アルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を示す。)で表される、炭素−炭素二重結合に結合し
ている二つのアリール基は互いに同じであるスチルベン
系エポキシ樹脂の一種もしくは二種以上を必須成分とす
る、融点が150℃以下であるエポキシ樹脂混合物。5. A stilbene-based epoxy resin represented by the general formula (1) according to claim 1 or a combination of two or more stilbene-based epoxy resins represented by the general formula (2): (Wherein R 9 to R 12 each independently represents a chain or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom or a halogen atom), and is bonded to a carbon-carbon double bond. An epoxy resin mixture having one or two or more stilbene type epoxy resins in which the two aryl groups are the same as each other and having a melting point of 150 ° C. or less.
基である請求項5記載のエポキシ樹脂混合物。6. The epoxy resin mixture according to claim 5, wherein R 1 in the general formula (1) is a t-butyl group.
基であり、R5〜R8がt−ブチル基以外である請求項
5、6または7記載のエポキシ樹脂混合物。7. The epoxy resin mixture according to claim 5 , wherein in the general formula (1), R 1 is a t-butyl group and R 5 to R 8 are other than the t-butyl group.
基であり、アリール基において酸素原子の置換位置に対
してオルソ位に置換している請求項5、6または7記載
のエポキシ樹脂混合物。8. The epoxy according to claim 5, 6 or 7, wherein in the general formula (1), R 1 is a t-butyl group, and the aryl group is substituted at the ortho position with respect to the substitution position of the oxygen atom. Resin mixture.
る請求項5、6、7または8記載のエポキシ樹脂混合
物。9. The epoxy resin mixture according to claim 5, 6, 7 or 8 having a melt viscosity at 150 ° C. of 1 poise or less.
アルデヒド類とを酸性物質の存在下で反応させて得られ
た1,1−ビス(ヒドロキシフェニル)−2−クロロエ
タン誘導体を塩基性物質の存在下に脱塩酸反応を行って
ジヒドロキシスチルベン誘導体とした後、該ジヒドロキ
シスチルベン誘導体を塩基性物質の存在下にエピハロヒ
ドリンと反応させることを特徴とするエポキシ樹脂また
はその混合物の製造方法。10. A 1,1-bis (hydroxyphenyl) -2-chloroethane derivative obtained by reacting two or more phenols and chloroacetaldehydes in the presence of an acidic substance in the presence of a basic substance. A method for producing an epoxy resin or a mixture thereof, which comprises subjecting the compound to a dehydrochlorination reaction to give a dihydroxystilbene derivative, and then reacting the dihydroxystilbene derivative with epihalohydrin in the presence of a basic substance.
2,4−キシレノール、3−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール、2−メチル−6−t−ブチルフェノールから
なる群から選ばれる2種以上である請求項10記載のエ
ポキシ樹脂またはその混合物の製造方法。11. A phenol is 2,6-xylenol,
The method for producing an epoxy resin or a mixture thereof according to claim 10, which is two or more selected from the group consisting of 2,4-xylenol, 3-methyl-6-t-butylphenol, and 2-methyl-6-t-butylphenol.
よび3−メチル−6−t−ブチルフェノールの混合物で
ある請求項10記載のエポキシ樹脂またはその混合物の
製造方法。12. The method for producing an epoxy resin or a mixture thereof according to claim 10, wherein the phenol is a mixture of 2,6-xylenol and 3-methyl-6-t-butylphenol.
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1995
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