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JPH0881699A - 洗浄組成物 - Google Patents

洗浄組成物

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Publication number
JPH0881699A
JPH0881699A JP7217492A JP21749295A JPH0881699A JP H0881699 A JPH0881699 A JP H0881699A JP 7217492 A JP7217492 A JP 7217492A JP 21749295 A JP21749295 A JP 21749295A JP H0881699 A JPH0881699 A JP H0881699A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
low molecular
molecular weight
seconds
use according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7217492A
Other languages
English (en)
Inventor
Jean Jacques Martin
マルタン ジャン−ジャック
Pascal Michaud
ミショー パスカル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arkema France SA
Original Assignee
Elf Atochem SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elf Atochem SA filed Critical Elf Atochem SA
Publication of JPH0881699A publication Critical patent/JPH0881699A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/024—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C11D7/5022—Organic solvents containing oxygen
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
    • H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity

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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 アルカンと少なくとも１種の低分子量の
アルコールとの混合物を含む、非水性媒体中の表面洗浄
用の組成物の使用であって、55℃で80秒を超さない乾燥
時間を得るために十分な量の低分子量のアルコールを含
むことを特徴とする組成物の使用。 【効果】 乾燥時間を改善することができるとともに、
該組成物を再利用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、低分子量のアルコール
およびアルカンの混合物を基剤にした固体表面の洗浄の
ための組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】この組成物は、金属機械加工作業中およ
び/ または一時的な保護のために一般に使用される油脂
により汚損されている機械部品の油の除去のために特に
使用できる。この組成物は、印刷回路のフラックスの除
去(defluxing) のためにも使用できる。このフラックス
の除去作業ははんだ付けフラックスの除去にも存在す
る。
【０００３】これまで、これらの種々の作業に使用され
る溶剤は炭化水素および、主に、業務上 T 111という名
称で知られている特に1,1,1-トリクロロエタンのような
塩素化溶剤、および業務上 F 1113 という名称で知られ
ている1,1,2-トリクロロ-1,2,2- トリフルオロエタンの
ようなクロロフルオロアルカンであった。しかしなが
ら、これらのクロロおよびクロロフルオロ化合物は、あ
る種の放射線に対して保護を与える成層圏オゾン層の減
少の原因であると疑われている。
【０００４】環境に関する最近の国際議論により生まれ
たモントリオールプロトコルに基づいて、これらのクロ
ロまたはクロロフルオロ化合物は、成層圏オゾン層に対
してほとんどまたは全く破壊的影響を及ぼさない代用品
に直ちに取り替えなければならない。これらの化合物を
取り替えるために、欧州特許出願 EP 529869 は、アル
コールおよびアルカンを含む半水性媒体中で使用できる
組成物を提案している。さらに正確には、この出願は好
ましくは2-エチル-1- ヘキサノール 20 % および10-13
個の炭素原子を含有するパラフィンの混合物 80% を含
む組成物を提案している。
【０００５】しかしながら、この文書は乾燥時間の改善
については全く言及も示唆もしていない。さらに、組成
物の再利用を望むならば、組成物の種々の構成成分の割
合を再調整する必要がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】非水性媒体中での表面
の洗浄のための、そして印刷回路の油の除去のための組
成物が今回見出され、これは少なくとも１種の低分子量
のアルコールと少なくとも１種のアルカンの混合物を含
み、55℃での乾燥時間が80秒を超さず、そして好ましく
は70秒を超さないために十分量の低分子量のアルコール
を含むことを特徴とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の組成物は、重量
比で15-20%の範囲のそして好ましくは16-18%の範囲の低
分子量のアルコールを含む。ヘプタノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、2-エチル-1- ヘキサノールおよび少
なくとも2 種の上記のアルコールの混合物を、本発明に
従って使用できる低分子量のアルコールの例としてあげ
ることができる。
【０００８】低分子量のアルコールの中でも本発明はさ
らに特に2-エチル-1- ヘキサノールに関する。炭素数9-
12を有する石油留分を本発明に従って使用できるアルカ
ンの混合物の例としてあげることができる。これらの石
油留分の中でも本発明はさらに特に170-210 ℃の、好ま
しくは175-200 ℃の蒸留範囲を有するものに関する。
【０００９】本発明の組成物中で石油留分の重量比は85
-80%、そして好ましくは84-82%の範囲である。これらの
石油留分の中で実質的に芳香族および/ またはナフテン
炭化水素を含まないものを使用することが好ましい。本
発明の組成物は好ましくは、ASTM標準 D 56 に従って測
定して55℃またはそれ以上の引火点を有する。
【００１０】本発明の組成物は、全油(whole oil) 並び
に水溶性の油を除去、洗浄し、汚損物を溶解することに
より作用し、そして使用が容易である。本発明の組成物
は、初期の割合を維持しつつ減圧で蒸留することにより
容易に再利用できるという有利な点を提供する。本発明
の組成物は低粘度および低表面張力という有利な点も有
している。
【００１１】組成物は安定化できる。軽金属の存在下で
アルコール官能基が存在すると、プラントを爆発の危険
にさらされ易くする、望ましくない水素発生反応を生じ
得る。このような反応の阻害剤の中で、ニトロメタン、
ニトロエタン、ニトロプロパンおよびニトロトルエンの
ようなニトロ誘導体、ジメトキシメタン、1,3-ジオキソ
ランまたはジメトキシメタンのようなエーテルまたはア
セタール、トリエチルアミン、ジプロピルアミンまたは
ジメチルアミンのようなアミンおよびトリイソデシルホ
スファイトまたはトリイソオクチルホスファイトのよう
なリン誘導体を使用することができる。
【００１２】以下の実施例は本発明を説明するものであ
る。
【００１３】
【実施例】実施例１ ( 本発明の通りではない) 40×30 mm のステンレス鋼のグリッドをカストロール、
シェル、モービルまたはエルフから供給された全油(who
le oil) または水溶性油で被覆した後秤量し、以下2-EH
と呼ぶ2-エチル-1- ヘキサノールが入っている受け器中
で手動で攪拌して周囲温度(21 ℃) で油を除去した。2-
EHは粘度が9.8 mPa s 、表面張力が 30mN/mそしてASTM
標準 D 56 による引火点85℃を有する。
【００１４】10分後油の痕跡は残らなくなった。55℃の
温風を吹きつける装置を配して過剰の溶剤を除去した。
乾燥時間は4 分30秒であった。
【００１５】実施例２( 本発明の通りではない) 油の溶解を促進するために、温度60℃に加熱した2-EHの
浴槽中でグリッドを浸漬して実施例１を繰り返した。こ
れらの条件下では、グリッドは20秒で洗浄された; 乾燥
時間は4 分30秒(270秒) であった。汚損の痕跡は存在し
なかった。
【００１６】実施例３ (本発明の通りではない) 手順は実施例１の通りであり、グリッドを2-EH 50 重量
% およびイソパール(Isopar) Hと呼ばれる石油留分 50
重量% から成る組成物が入っている受け器中に浸漬し
た。この留分は179-192 ℃の蒸留範囲とASTM標準 D 56
による引火点60℃を有していた。組成物はASTM 標準 D
56 による引火点 57 ℃、粘度は 2.5 mPa s、そして表
面張力は 25 mN/mであった。グリッドの洗浄を 40 ℃で
実施した。もはや汚損の痕跡も存在しなくなった;55℃
での乾燥時間は105 秒であった。
【００１７】実施例４ 手順は実施例 3の通りであり、2-EH 20 重量% および実
施例 3と同一の石油留分( イソパール H) 80重量% から
成る組成物を用いた。この組成物はASTM標準 D56 によ
る引火点 55 ℃、粘度は1.5 mPa s および表面張力は 2
3 mN/mを有していた。もはや汚損の痕跡もなく、55℃で
の乾燥時間は80秒であった。
【００１８】実施例５ 手順は実施例３の通りであり、2-EH 17.5 重量% および
セプサ(Cepsa) D 180-200 と呼ばれている石油留分82.5
重量% から成る組成物を用いた。この留分は179-202
℃の蒸留範囲および引火点 60 ℃を有していた。この組
成物はASTM標準 D 56 による引火点58.5℃、粘度は 1.5
mPa sそして表面張力は 23 mN/mを有していた。もはや
少しの汚損もなくなった。55℃での乾燥時間は70秒であ
った。
【００１９】実施例６( 本発明の通りではない) 手順は実施例３の通りであり、2-EH 15 重量% およびセ
プサ D 200-250と呼ばれる石油留分 85 重量％から成る
組成物を用いた。この留分は200-250 ℃の蒸留範囲を有
していた。もはや少しの汚損も存在しなくなった。55℃
での乾燥時間は360 秒であった。
【００２０】実施例７ 手順は実施例３の通りであり、2-EH 15 重量% 、そして
実施例３と同一の石油留分( イソパール H) 85 重量％
から成る組成物を用いた。この組成物は ASTM 標準 D 5
6 による引火点 56 ℃、粘度は 1.5 mPa sそして表面張
力は 23 mN/mであった。もはや少しの汚損もなくなっ
た。乾燥時間は70秒であった。
【００２１】実施例８( フラックス除去試験) 2-EH 17.5 重量% およびイソパール H 87.5 重量% から
成る組成物 125 ml を、超音波発生器を装備した小型双
タンク実験機械の各タンクに導入し、そして各タンクの
液体をその後40℃に加熱した。
【００２２】ロジン基剤のはんだ付けフラックス( アル
ファメタル社からのR8F フラックス) で被覆された、５
個の標準化回路( IPC-B-25モデル )を230 ℃で30秒間ア
ニール化し、そして冷却し、超音波下で40℃で液体中で
3 秒間浸漬した。回路を１分間排水し、その後二番目の
タンクで3 分間すすぎ、そしてその後再び１分間排水
し、そして最後に55℃で乾燥した。
【００２３】乾燥時間は70秒であった。洗浄の質を、標
準化手順IPC-TM 650 No. 2.3.25 および2.3.26に従っ
て、そして標準 MIL-STD-2000 に従ってイオン残存量を
測定して評価した。得られた値、1.43 μg NaCl当量/c
m2は電子工学の領域で許容されている限界値(2.5 μg
NaCl当量/cm2) よりはるかに低かった。
【００２４】実施例９ (再生能力試験) 実施例７の組成物 100 グラムを小型蒸留設備のボイラ
ーに導入した。水銀柱110 mm の減圧下で蒸留を実施し
た。混合物の92% が110-120 ℃の間で蒸留され、回収さ
れたが、以下のものから成っていた: - イソパール H 84.8重量% 、および - 2-EH 15.2重量% 。 これらの百分率は、混合物をガス相クロマトグラフィー
分析にかけて測定した。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:26 7:24）

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも１種の低分子量のアルコール
    および少なくとも１種のアルカンの混合物を含む組成物
    の、固体表面の洗浄、印刷回路のフラックスの除去(def
    luxing) および機械部品の油の除去への使用において、
    上記組成物が、55℃で80秒を超さない乾燥時間を得るた
    めに、15-20%の範囲の量の低分子量のアルコールを含む
    ことを特徴とする使用。
  2. 【請求項２】 乾燥時間が55℃で70秒を超えないことを
    特徴とする、請求項１の使用。
  3. 【請求項３】 重量比が16-18%の範囲の低分子量のアル
    コールを含むことを特徴とする、請求項１の使用。
  4. 【請求項４】 低分子量のアルコールが2-エチル-1- ヘ
    キサノールであることを特徴とする、請求項１から３ま
    でのいずれか一項の使用。
  5. 【請求項５】 アルカンの混合物が炭素数9-12の範囲の
    石油留分であることを特徴とする、請求項１の使用。
  6. 【請求項６】 石油留分が170-210 ℃の蒸留範囲を有す
    ることを特徴とする、請求項５の使用。
  7. 【請求項７】 石油留分が175-200 ℃の蒸留範囲を有す
    ることを特徴とする、請求項６の使用。
JP7217492A 1994-08-25 1995-08-25 洗浄組成物 Pending JPH0881699A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9410289 1994-08-25
FR9410289A FR2723958B1 (fr) 1994-08-25 1994-08-25 Composition de nettoyage a base d'un melange d'alcanes et d'alcools de faible masse molaire.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0881699A true JPH0881699A (ja) 1996-03-26

Family

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JP7217492A Pending JPH0881699A (ja) 1994-08-25 1995-08-25 洗浄組成物

Country Status (6)

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EP (1) EP0699747A1 (ja)
JP (1) JPH0881699A (ja)
KR (1) KR960007828A (ja)
CN (1) CN1127293A (ja)
FI (1) FI953985A7 (ja)
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EP0699747A1 (fr) 1996-03-06
FI953985A0 (fi) 1995-08-24
CN1127293A (zh) 1996-07-24
FR2723958B1 (fr) 1996-09-20
FI953985L (fi) 1996-02-26
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