JPH0780383A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
塗布方法及び塗布装置Info
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- JPH0780383A JPH0780383A JP24856593A JP24856593A JPH0780383A JP H0780383 A JPH0780383 A JP H0780383A JP 24856593 A JP24856593 A JP 24856593A JP 24856593 A JP24856593 A JP 24856593A JP H0780383 A JPH0780383 A JP H0780383A
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は、表面性に優れた高品位な塗布膜
を形成することができるようにしている。 【構成】 この発明は、上流側リップ２４及び下流側リ
ップ２５を備え、これらのリップ間に塗布液２２を押出
し可能なスロット部２６が形成され、上流側リップ及び
下流側リップに対向して走行するウエブ２１に塗布液を
塗布する塗布装置２０において、上記下流側リップに
は、ウエブに対向して塗布液に接する塗布作業面３０が
形成され、この塗布作業面の下流端Ｏとこれに対応する
ウエブ２１の位置Ｐとの間隙をＧc とし、ウエブに塗布
した直後の湿潤状態の塗布膜厚をＧhとすると、上記間
隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 の範囲に設定されたものである。
を形成することができるようにしている。 【構成】 この発明は、上流側リップ２４及び下流側リ
ップ２５を備え、これらのリップ間に塗布液２２を押出
し可能なスロット部２６が形成され、上流側リップ及び
下流側リップに対向して走行するウエブ２１に塗布液を
塗布する塗布装置２０において、上記下流側リップに
は、ウエブに対向して塗布液に接する塗布作業面３０が
形成され、この塗布作業面の下流端Ｏとこれに対応する
ウエブ２１の位置Ｐとの間隙をＧc とし、ウエブに塗布
した直後の湿潤状態の塗布膜厚をＧhとすると、上記間
隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 の範囲に設定されたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、走行する支持体に塗
布液を塗布する塗布方法及び塗布装置に係り、特に可撓
性ウエブに磁性分散液を塗布する塗布方法及び塗布装置
に関する。
布液を塗布する塗布方法及び塗布装置に係り、特に可撓
性ウエブに磁性分散液を塗布する塗布方法及び塗布装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、薄膜塗布の高速化等の要請から、
エクストルージョン型塗布装置が各方面で採用されてい
る（特開昭 58-104666号、特開昭 60-238179号、特開昭
62-117666号及び特開平2-265672号の各公報に記載の発
明）。これらのエクストルージョン型塗布装置は、ダイ
ヘッドの先端に上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液（例えば磁性分散液）を押出
し可能なスロット部が形成され、上流側リップ及び下流
側リップに対向して走行する支持体（例えばウエブ）に
上記塗布液を塗布するものである。
エクストルージョン型塗布装置が各方面で採用されてい
る（特開昭 58-104666号、特開昭 60-238179号、特開昭
62-117666号及び特開平2-265672号の各公報に記載の発
明）。これらのエクストルージョン型塗布装置は、ダイ
ヘッドの先端に上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液（例えば磁性分散液）を押出
し可能なスロット部が形成され、上流側リップ及び下流
側リップに対向して走行する支持体（例えばウエブ）に
上記塗布液を塗布するものである。
【０００３】この種の塗布装置による塗布における最大
の塗布故障の一つに、スロット部を含む塗布作業面に凝
集物等の異物がトラップされた結果発生する筋むらがあ
る。このため、従来の塗布装置の開発は塗布作業面に異
物や凝集物が極力トラップされないような形状を見いだ
すことに費やされてきた。
の塗布故障の一つに、スロット部を含む塗布作業面に凝
集物等の異物がトラップされた結果発生する筋むらがあ
る。このため、従来の塗布装置の開発は塗布作業面に異
物や凝集物が極力トラップされないような形状を見いだ
すことに費やされてきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の塗布装置では、
上述のように、異物や凝集物を原因とする筋むらの発生
防止策が講じられているが、特に、近年、磁気記録媒体
では、表面性に優れた高品質な製品が要望されており、
上記異物や凝集物以外の原因で発生する塗布膜表面の微
小な凹凸やむらが問題となっている。
上述のように、異物や凝集物を原因とする筋むらの発生
防止策が講じられているが、特に、近年、磁気記録媒体
では、表面性に優れた高品質な製品が要望されており、
上記異物や凝集物以外の原因で発生する塗布膜表面の微
小な凹凸やむらが問題となっている。
【０００５】この発明は、上述の事情を考慮してなされ
たものであり、表面性に優れた高品位な塗布膜を形成で
きる塗布方法及び塗布装置を提供することを目的とす
る。
たものであり、表面性に優れた高品位な塗布膜を形成で
きる塗布方法及び塗布装置を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
係る塗布方法は、上流側リップ及び下流側リップを備
え、これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット
部が形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対
向して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布方法
において、上記下流側リップのうち上記支持体と対向し
上記塗布液に接する塗布作業面の下流端とこれに対応し
た上記支持体との間隙をＧc とし、上記支持体の走行速
度をＶとし、上記支持体への塗布幅をＷとすると、上記
塗布液の押出量Ｑを 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ の範囲に調整して塗布を実施するようにしたものであ
る。
係る塗布方法は、上流側リップ及び下流側リップを備
え、これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット
部が形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対
向して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布方法
において、上記下流側リップのうち上記支持体と対向し
上記塗布液に接する塗布作業面の下流端とこれに対応し
た上記支持体との間隙をＧc とし、上記支持体の走行速
度をＶとし、上記支持体への塗布幅をＷとすると、上記
塗布液の押出量Ｑを 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ の範囲に調整して塗布を実施するようにしたものであ
る。
【０００７】また、請求項２に記載の発明に係る塗布装
置は、上流側リップ及び下流側リップを備え、これらの
リップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成さ
れ、上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行
する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、
上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布
液に接する塗布作業面が形成され、この塗布作業面の下
流端とこれに対応する支持体との間隔をＧc とし、上記
支持体に塗布した直後の湿潤状態の塗布膜厚をＧh とす
ると、上記間隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 の範囲に設定されたものである。
置は、上流側リップ及び下流側リップを備え、これらの
リップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成さ
れ、上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行
する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、
上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布
液に接する塗布作業面が形成され、この塗布作業面の下
流端とこれに対応する支持体との間隔をＧc とし、上記
支持体に塗布した直後の湿潤状態の塗布膜厚をＧh とす
ると、上記間隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 の範囲に設定されたものである。
【０００８】
【作用】請求項１記載の塗布方法では、塗布装置のスロ
ット部からの塗布液の押出量を 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ の範囲に調整して塗布し、また、請求項２に記載の塗布
装置によれば、塗布装置における塗布作業面の下流端と
支持体との間隙Ｇc が Ｇh ／Ｇc ≦0.6 に設定されたので、湿潤状態の塗布膜が塗布作業面の下
流端から離れる際に形成されるメニスカス（自由界面）
が安定化し、塗布膜の表面に乱れが生ずることがない。
更に、0.3 ＜Ｇh ＜Ｇc にすることにより、メニスカス
が３次元的に発達することがなく、３次元メニスカスに
よる縦筋むらの発生を防止することができる。これらの
ことから、表面性に優れた高品位な塗布膜を形成するこ
とができる。
ット部からの塗布液の押出量を 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ の範囲に調整して塗布し、また、請求項２に記載の塗布
装置によれば、塗布装置における塗布作業面の下流端と
支持体との間隙Ｇc が Ｇh ／Ｇc ≦0.6 に設定されたので、湿潤状態の塗布膜が塗布作業面の下
流端から離れる際に形成されるメニスカス（自由界面）
が安定化し、塗布膜の表面に乱れが生ずることがない。
更に、0.3 ＜Ｇh ＜Ｇc にすることにより、メニスカス
が３次元的に発達することがなく、３次元メニスカスに
よる縦筋むらの発生を防止することができる。これらの
ことから、表面性に優れた高品位な塗布膜を形成するこ
とができる。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図１は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。図２は、塗布作業面の
下流端と支持体との間隙を設定する状況を示す作用図で
ある。図３は、塗装作業面の下流端と支持体との間隙を
計測するレーザ変位計をダイヘッドとともに示す断面図
である。図４（Ａ）は、Ｇh ／Ｇc の値が0.6 以上であ
るときの塗布膜を示す断面図であり、図４（Ｂ）は、Ｇ
h ／Ｇc の値が0.3 以下であるときの塗布膜を示す斜視
図である。
明する。図１は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。図２は、塗布作業面の
下流端と支持体との間隙を設定する状況を示す作用図で
ある。図３は、塗装作業面の下流端と支持体との間隙を
計測するレーザ変位計をダイヘッドとともに示す断面図
である。図４（Ａ）は、Ｇh ／Ｇc の値が0.6 以上であ
るときの塗布膜を示す断面図であり、図４（Ｂ）は、Ｇ
h ／Ｇc の値が0.3 以下であるときの塗布膜を示す斜視
図である。
【００１０】図１に示す塗布装置２０はエクストルージ
ョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持体に塗布
液を塗布するものである。ここで、支持体としてはプラ
スチック、紙、布あるいは金属等の可撓性シートまたは
ウエブである。また、塗布液としては磁性分散液、感光
液、感熱分散液あるいは粘着液であり、それぞれ磁気記
録媒体、写真フィルム、感熱紙あるいは粘着テープを製
造するものである。この実施例では、支持体としてウエ
ブ２１を用い、塗布液として磁性分散液２２を用いて、
磁気記録媒体を製造する場合を示す。
ョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持体に塗布
液を塗布するものである。ここで、支持体としてはプラ
スチック、紙、布あるいは金属等の可撓性シートまたは
ウエブである。また、塗布液としては磁性分散液、感光
液、感熱分散液あるいは粘着液であり、それぞれ磁気記
録媒体、写真フィルム、感熱紙あるいは粘着テープを製
造するものである。この実施例では、支持体としてウエ
ブ２１を用い、塗布液として磁性分散液２２を用いて、
磁気記録媒体を製造する場合を示す。
【００１１】塗布装置２０はダイヘッド２３を有し、こ
のダイヘッド２３に上流側リップ２４及び下流側リップ
２５が形成される。これらの上流側リップ２４及び下流
側リップ２５間にスロット部２６が形成され、このスロ
ット部２６が液バッファ部２７に連通される。上流側リ
ップ２４及び下流側リップ２５は、ウエブ２１の幅と略
同一幅に設定される。また、スロット部２６及び液バッ
ファ部２７は、上流側リップ２４及び下流側リップ２５
の略全幅方向に延在して構成される。
のダイヘッド２３に上流側リップ２４及び下流側リップ
２５が形成される。これらの上流側リップ２４及び下流
側リップ２５間にスロット部２６が形成され、このスロ
ット部２６が液バッファ部２７に連通される。上流側リ
ップ２４及び下流側リップ２５は、ウエブ２１の幅と略
同一幅に設定される。また、スロット部２６及び液バッ
ファ部２７は、上流側リップ２４及び下流側リップ２５
の略全幅方向に延在して構成される。
【００１２】液バッファ部２７は液供給系の塗布液供給
ポンプ２８に接続され、この塗布液供給ポンプ２８から
の磁性分散液２２を、塗布幅方向において塗布量が均一
となるように分配させ、スロット部２６へ供給する。こ
こで、ウエブ２１は、図示しないガイドローラ等に案内
されて、上記上流側リップ２４及び下流側リップ２５に
対向し、背面が支持されることなく走行する。この走行
するウエブ２１に、塗布装置２０の上記スロット部２６
から磁性分散液２２が、スロット部２６の全幅方向に均
一に押出されて塗布され、ウエブ２１の幅方向に均一な
塗布膜２９が形成される。
ポンプ２８に接続され、この塗布液供給ポンプ２８から
の磁性分散液２２を、塗布幅方向において塗布量が均一
となるように分配させ、スロット部２６へ供給する。こ
こで、ウエブ２１は、図示しないガイドローラ等に案内
されて、上記上流側リップ２４及び下流側リップ２５に
対向し、背面が支持されることなく走行する。この走行
するウエブ２１に、塗布装置２０の上記スロット部２６
から磁性分散液２２が、スロット部２６の全幅方向に均
一に押出されて塗布され、ウエブ２１の幅方向に均一な
塗布膜２９が形成される。
【００１３】上記下流側リップ２５の先端面で、ウエブ
２１に対向し磁性分散液２２と接する面は、塗布に寄与
する塗布作業面３０である。この塗布作業面３０は、ウ
エブ２１側に凸に湾曲して構成され、スロット部２６か
ら押出された湿潤状態の磁性分散液２２をウエブ２１に
押付けて塗布させ、塗布膜２９を形成する。
２１に対向し磁性分散液２２と接する面は、塗布に寄与
する塗布作業面３０である。この塗布作業面３０は、ウ
エブ２１側に凸に湾曲して構成され、スロット部２６か
ら押出された湿潤状態の磁性分散液２２をウエブ２１に
押付けて塗布させ、塗布膜２９を形成する。
【００１４】ここで、塗布直後の湿潤状態にある塗布膜
２９の膜厚をＧh とすると、塗布作業面３０の下流端Ｏ
と、この下流端Ｏに対応するウエブ２１上の位置Ｐとの
間隙Ｇc は 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 …(1) に設定される。この間隙Ｇc は、図２に示すように、ダ
イヘッド２３の下流側のウエブ２１とダイヘッド２３と
の相対位置を変更することによって所望の寸法に設定さ
れる。Ｇh ／Ｇc の値が0.6 よりも大きいと、図４
（Ａ）に示すように、湿潤状態の磁性分散液２２が下流
側リップ２５における塗布作業面３０の下流端Ｏから離
れる際に形成されるメニスカス（自由界面）が不安定と
なるため、塗布膜２９の表面が乱れてしまう。一方、Ｇ
h ／Ｇc の値が0.3 以下の値になると、図４（Ｂ）に示
すように、上記メニスカスの曲率が大きくなって、この
メニスカスが塗布作業面３０とウエブ２１との間に入り
込んで３次元的に発達し、この結果、ウエブ２１の走行
方向に沿って３次元ピッチに合った縦筋むらが発生して
しまう。これらの理由から、Ｇh ／Ｇc の値が式 (1)の
範囲に設定される。
２９の膜厚をＧh とすると、塗布作業面３０の下流端Ｏ
と、この下流端Ｏに対応するウエブ２１上の位置Ｐとの
間隙Ｇc は 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 …(1) に設定される。この間隙Ｇc は、図２に示すように、ダ
イヘッド２３の下流側のウエブ２１とダイヘッド２３と
の相対位置を変更することによって所望の寸法に設定さ
れる。Ｇh ／Ｇc の値が0.6 よりも大きいと、図４
（Ａ）に示すように、湿潤状態の磁性分散液２２が下流
側リップ２５における塗布作業面３０の下流端Ｏから離
れる際に形成されるメニスカス（自由界面）が不安定と
なるため、塗布膜２９の表面が乱れてしまう。一方、Ｇ
h ／Ｇc の値が0.3 以下の値になると、図４（Ｂ）に示
すように、上記メニスカスの曲率が大きくなって、この
メニスカスが塗布作業面３０とウエブ２１との間に入り
込んで３次元的に発達し、この結果、ウエブ２１の走行
方向に沿って３次元ピッチに合った縦筋むらが発生して
しまう。これらの理由から、Ｇh ／Ｇc の値が式 (1)の
範囲に設定される。
【００１５】下流側リップ２５の塗布作業面３０とウエ
ブ２１との間隙Ｇc は、図３に示すレーザ変位計３１に
より測定され確認される。つまり、磁性分散液２２の非
塗布時には、ウエブ２１が塗布装置２０における下流側
リップ２５の塗布作業面３０上を摺接するので、上記レ
ーザ変位計３１による塗布作業面３０の下流端Ｏとウエ
ブ２１上の位置Ｐとの塗布時における間隙Ｇc の測定
は、塗布時と非塗布時とにおいて、ウエブ２１とレーザ
変位計３１との距離をそれぞれ計測し、これらの距離の
差から求められる。
ブ２１との間隙Ｇc は、図３に示すレーザ変位計３１に
より測定され確認される。つまり、磁性分散液２２の非
塗布時には、ウエブ２１が塗布装置２０における下流側
リップ２５の塗布作業面３０上を摺接するので、上記レ
ーザ変位計３１による塗布作業面３０の下流端Ｏとウエ
ブ２１上の位置Ｐとの塗布時における間隙Ｇc の測定
は、塗布時と非塗布時とにおいて、ウエブ２１とレーザ
変位計３１との距離をそれぞれ計測し、これらの距離の
差から求められる。
【００１６】上記湿潤状態の塗布膜厚Ｇh は、スロット
部２６から押出された磁性分散液２２が乾燥等により目
減りすることなく、均一なシート状に形成されたときの
塗布膜２９の理論膜厚である。このため、この湿潤状態
の塗布膜厚Ｇh は、ウエブ２１に塗布された塗布膜が下
流側リップ２５から離反し、未だ塗布膜内に速度勾配が
ある場合や、揮発成分を含む塗布液の場合には、測定さ
れる実際の塗布膜厚の値と若干異なる。この湿潤状態の
塗布膜厚Ｇh の値は、塗布液供給ポンプ２８の流量（つ
まりスロット部２６からの押出し流量）をＱとし、ウエ
ブ２１の走行速度をＶとし、ウエブ２１の塗布幅をＷと
すると、 Ｇh ＝Ｑ／Ｗ・Ｖ …(2) によって算出され、設定される。
部２６から押出された磁性分散液２２が乾燥等により目
減りすることなく、均一なシート状に形成されたときの
塗布膜２９の理論膜厚である。このため、この湿潤状態
の塗布膜厚Ｇh は、ウエブ２１に塗布された塗布膜が下
流側リップ２５から離反し、未だ塗布膜内に速度勾配が
ある場合や、揮発成分を含む塗布液の場合には、測定さ
れる実際の塗布膜厚の値と若干異なる。この湿潤状態の
塗布膜厚Ｇh の値は、塗布液供給ポンプ２８の流量（つ
まりスロット部２６からの押出し流量）をＱとし、ウエ
ブ２１の走行速度をＶとし、ウエブ２１の塗布幅をＷと
すると、 Ｇh ＝Ｑ／Ｗ・Ｖ …(2) によって算出され、設定される。
【００１７】従って、式(1) 及び式(2) から、塗布液供
給ポンプ２８のポンプ流量Ｑを 0.3 Ｇc ・Ｗ・Ｖ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ・Ｗ・Ｖ なる範囲に設定して、磁性分散液２２をウエブ２１に塗
布する。
給ポンプ２８のポンプ流量Ｑを 0.3 Ｇc ・Ｗ・Ｖ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ・Ｗ・Ｖ なる範囲に設定して、磁性分散液２２をウエブ２１に塗
布する。
【００１８】次に、実験例を示す。実験例では、塗布液
をシェアレート１×102sec-1において１ポアズで擬塑性
を示す磁性分散液を用い、湿潤状態の塗布膜厚Ｇh をＧ
h ＝15μm とし、ウエブ２１をポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルムとし、このウエブ２１の走行速
度（塗布速度）ＶをＶ＝100m／min として、塗布作業面
３０の下流端Ｏとウエブ２１の位置Ｐとの間隙Ｇc をＧ
c ＝75μm 、60μm 、50μm 、45μm 、30μm 、25μm
、20μm の各場合について塗布を実施する。
をシェアレート１×102sec-1において１ポアズで擬塑性
を示す磁性分散液を用い、湿潤状態の塗布膜厚Ｇh をＧ
h ＝15μm とし、ウエブ２１をポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）フィルムとし、このウエブ２１の走行速
度（塗布速度）ＶをＶ＝100m／min として、塗布作業面
３０の下流端Ｏとウエブ２１の位置Ｐとの間隙Ｇc をＧ
c ＝75μm 、60μm 、50μm 、45μm 、30μm 、25μm
、20μm の各場合について塗布を実施する。
【００１９】この実験例では、表１に示すように、Ｇh
／Ｇc の値が式 (1)の範囲にある時に、塗布膜２９の表
面に凹凸やむらがなく、表面性が優れた高品位の塗布膜
２９となっている。
／Ｇc の値が式 (1)の範囲にある時に、塗布膜２９の表
面に凹凸やむらがなく、表面性が優れた高品位の塗布膜
２９となっている。
【００２０】
【表１】
【００２１】上述の実験例でも明らかなように、上記実
施例によれば、塗布装置２０における下流側リップ２５
の塗布作業面３０の下流端Ｏとウエブ２１の位置Ｐとの
間隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 に設定され、即ち、塗布装置２０の塗布液供給ポンプ２
８におけるポンプ流量Ｑが 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ に設定されたことから、湿潤状態の塗布膜２９が下流側
リップ２５の塗布作業面３０の下流端Ｏから離れる際に
形成されるメニスカスが安定化し、塗布膜２９の表面に
乱れが生ずることがない。更に、このメニスカスが必要
以上に大きくならないことから、メニスカスが下流側リ
ップ２５の塗布作業面３０とウエブ２１との間に入り込
んで、塗布膜２９の塗布幅方向に発達することがなく、
メニスカスによる縦筋むらの発生も防止できる。これら
のことから、表面性に優れた高品位な塗布膜２９を形成
することができる。
施例によれば、塗布装置２０における下流側リップ２５
の塗布作業面３０の下流端Ｏとウエブ２１の位置Ｐとの
間隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 に設定され、即ち、塗布装置２０の塗布液供給ポンプ２
８におけるポンプ流量Ｑが 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ に設定されたことから、湿潤状態の塗布膜２９が下流側
リップ２５の塗布作業面３０の下流端Ｏから離れる際に
形成されるメニスカスが安定化し、塗布膜２９の表面に
乱れが生ずることがない。更に、このメニスカスが必要
以上に大きくならないことから、メニスカスが下流側リ
ップ２５の塗布作業面３０とウエブ２１との間に入り込
んで、塗布膜２９の塗布幅方向に発達することがなく、
メニスカスによる縦筋むらの発生も防止できる。これら
のことから、表面性に優れた高品位な塗布膜２９を形成
することができる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る塗布方法
及び塗布装置によれば、表面性に優れた高品位な塗布膜
を形成することができる。
及び塗布装置によれば、表面性に優れた高品位な塗布膜
を形成することができる。
【図１】図１は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。
示すダイヘッドの断面図である。
【図２】図２は、塗布作業面の下流端と支持体との間隙
を設定する状況を示す作用図である。
を設定する状況を示す作用図である。
【図３】図３は、塗装作業面の下流端と支持体との間隙
を計測するレーザ変位計をダイヘッドとともに示す断面
図である。
を計測するレーザ変位計をダイヘッドとともに示す断面
図である。
【図４】図４（Ａ）は、Ｇh ／Ｇc の値が0.6 以上であ
るときの塗布膜を示す断面図であり、図４（Ｂ）は、Ｇ
h ／Ｇc の値が0.3 以下であるときの塗布膜を示す斜視
図である。
るときの塗布膜を示す断面図であり、図４（Ｂ）は、Ｇ
h ／Ｇc の値が0.3 以下であるときの塗布膜を示す斜視
図である。
１０ 塗布装置 ２１ ウエブ ２２ 磁性分散液 ２３ 上流側リップ ２５ 下流側リップ ２６ スロット部 ２８ 塗布液供給ポンプ ２９ 塗布膜 ３０ 塗布作業面 Ｇh 湿潤状態の塗布膜厚 Ｇc 塗布作業面の下流端とウエブのＰ位置との間隙 Ｑ ポンプ流量 Ｖ 塗布速度 Ｗ 塗布幅
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 陳 永展 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社内
Claims (2)
- 【請求項１】 上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が
形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向し
て走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布方法にお
いて、 上記下流側リップのうち上記支持体と対向し上記塗布液
に接する塗布作業面の下流端とこれに対応した上記支持
体との間隙をＧc とし、上記支持体の走行速度をＶと
し、上記支持体への塗布幅をＷとすると、上記塗布液の
押出量Ｑを 0.3 Ｇc ＷＶ＜Ｑ≦0.6 Ｇc ＷＶ の範囲に調整して塗布を実施することを特徴とする塗布
方法。 - 【請求項２】 上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が
形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向し
て走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置にお
いて、 上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布
液に接する塗布作業面が形成され、この塗布作業面の下
流端とこれに対応する支持体との間隙をＧc とし、上記
支持体に塗布した直後の湿潤状態の塗布膜厚をＧh とす
ると、上記間隙Ｇc が 0.3 ＜Ｇh ／Ｇc ≦0.6 の範囲に設定されたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24856593A JPH0780383A (ja) | 1993-09-10 | 1993-09-10 | 塗布方法及び塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24856593A JPH0780383A (ja) | 1993-09-10 | 1993-09-10 | 塗布方法及び塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0780383A true JPH0780383A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=17180039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24856593A Pending JPH0780383A (ja) | 1993-09-10 | 1993-09-10 | 塗布方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0780383A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010106979A1 (ja) * | 2009-03-19 | 2010-09-23 | タツモ株式会社 | 基板用塗布装置 |
| WO2017086229A1 (ja) * | 2015-11-19 | 2017-05-26 | 住友電気工業株式会社 | 塗布装置及び塗布シートの製造方法 |
| CN120733942A (zh) * | 2025-09-03 | 2025-10-03 | 广东捷盟智能装备股份有限公司 | 一种高精度间隙调整装置 |
-
1993
- 1993-09-10 JP JP24856593A patent/JPH0780383A/ja active Pending
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| CN108290177A (zh) * | 2015-11-19 | 2018-07-17 | 住友电气工业株式会社 | 涂覆装置和生产涂覆片材的方法 |
| CN120733942A (zh) * | 2025-09-03 | 2025-10-03 | 广东捷盟智能装备股份有限公司 | 一种高精度间隙调整装置 |
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