JPH077115B2 - Radiation image conversion panel - Google Patents
Radiation image conversion panelInfo
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- JPH077115B2 JPH077115B2 JP5743887A JP5743887A JPH077115B2 JP H077115 B2 JPH077115 B2 JP H077115B2 JP 5743887 A JP5743887 A JP 5743887A JP 5743887 A JP5743887 A JP 5743887A JP H077115 B2 JPH077115 B2 JP H077115B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stimulable phosphor
- phosphor layer
- radiation
- panel
- layer
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Landscapes
- Luminescent Compositions (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Description
本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは水分による劣化が小
さく、かつ高画質の放射線画像を与える放射線画像変換
パネル及びその製造方法に関するものである。The present invention relates to a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor, and more particularly to a radiation image conversion panel which gives a high quality radiation image with little deterioration due to moisture and a method for producing the same.
X線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。このX線画像を得るために、被写体に透
過したX線を蛍光体層(蛍光スクリーン)に照射し、こ
れにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真を
とるときと同じように銀塩を使用したフィルムに照射し
て現像した、いわゆる放射線写真が利用されている。 一方近年銀塩を塗布したフィルムを使用しないで蛍光体
層から直接画像を取り出す方法が工夫された。この方法
としては被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収せし
め、しかる後この蛍光体を例えば光又は熱エネルギーで
励起することによりこの蛍光体が上記吸収により蓄積し
ている放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ、この
蛍光を検出して画像化する方法である。具体的には、例
えば米国特許3,859,527号及び特開昭55−12144号には輝
尽性蛍光体を用い可視光線又は赤外線を輝尽励起光とし
て放射線画像変換方法が示されている。この方法は支持
体上に輝尽性蛍光体層を形成した放射線画像変換パネル
を使用するもので、この放射線画像変換パネルの輝尽性
蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて被写体各部
の放射線透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させ
て潜像を形成し、しかる後にこの輝尽性蛍光体層を輝尽
励起光で走査することによって各部の蓄積された放射線
エネルギーを放射させてこれを光に変換し、この光の強
弱による光信号により画像を得るものである。この最終
的な画像はハードコピィとして再生しても良いし、CRT
上に再生しても良い。 この放射線画像変換方法に用いられる輝尽性蛍光体層を
有する放射線画像変換パネルは、前述の蛍光スクリーン
を用いる放射線写真法の場合と同様に放射線吸収率及び
光変換率(両者を含めて以下「放射線感度」という)が
高いことは言うに及ばず画像の粒状性が良く、しかも高
鮮鋭性であることが要求される。 ところが、一般に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変
換パネルは粒径1〜30μm程度の粒状の輝尽性蛍光体と
有機結着剤とを含む分散液を支持体あるいは保護層上に
塗布、乾燥して作成されるので、輝尽性蛍光体の充填密
度が低く(充填率50%)、放射線感度を充分高くするに
は輝尽性蛍光体層の層厚を厚くする必要があった。 一方、これに対し前記放射線画像変換方法における画像
の鮮鋭性は、放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層の
層厚が薄いほど高い傾向にあり、鮮鋭性の向上のために
は、輝尽性蛍光体層の薄層化が必要であった。 また、前記放射線画像変換方法における画像の粒状性
は、放射線量子数の場所的ゆらぎ(量子モトル)あるい
は放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層の構造的乱れ
(構造モトル)等によって決定されるので、輝尽性蛍光
体層の層厚が薄くなると、輝尽性蛍光体層に吸収される
放射線量子数が減少して量子モトルが増加したり、構造
的乱れが顕在化して構造モトルが増加したりして画質の
低下を生ずる。よって画像の粒状性を向上させるために
は輝尽性蛍光体層の層厚は厚い必要があった。 即ち、前述のように、従来の放射線画像変換パネルは放
射線に対する感度および画像の粒状性と、画像の鮮鋭性
とが輝尽性蛍光体層の層厚に対してまったく逆の傾向を
示すので、前記放射線画像変換パネルは放射線に対する
感度と粒状性と鮮鋭性間のある程度の相互犠牲によって
作成されてきた。 本出願人は、このような特性間の相反性に鑑みて、特開
昭61−73100号において輝尽性蛍光体層に結着剤を含有
しない放射線画像変換パネル及びその製造方法を提案し
ている。これによれば、前記放射線画像変換パネルの輝
尽性蛍光体層は気相堆積などの方法を用いて形成されて
おり、結着剤を含有しないので、輝尽性蛍光体層の充填
率が著しく向上すると共に輝尽性蛍光体層中での輝尽励
起光及び輝尽発光の指向性が向上し、放射線画像変換パ
ネルの放射線に対する感度と画像の粒状性が改善される
と同時に画像の鮮鋭性も改善される。 該パネルは、放射線画像情報を蓄積した後励起光の走査
によって蓄積エネルギーを放出するので走査後再度放射
線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。 そこで、前記放射線画像変換パネルにおいて、得られる
画像の高画質化が望まれるのは当然のことであるが、さ
らに長期間の使用に耐える性能が要求される。 ところが、一般に輝尽性蛍光体は吸湿性が大であり、通
常の気候条件の下で室内に放置すると、空気中の水分を
吸着し、時間の経過とともにその性能が劣化する。具体
的には、放射線に対する感度が低下したり、放射線照射
により生成した潜像の褪行速度が増大する現像が起こ
る。 さて、気相堆積法により設けられた輝尽性蛍光体層は、
前述のごとく数々の優れた特長をもつにもかかわらず、
輝尽性蛍光体が結着剤により保護されていないために水
分の影響を受けやすいという欠点を有していた。輝尽性
蛍光体粒子を結着剤中に分散した蛍光体層においては、
たとえば特開昭61−20982に述べられているように蛍光
体層中に疎水性微粒子を輝尽性蛍光体に対して0.005重
量%以上10重量%以下の量で含有させる方法、特願昭61
−53269号に述べられているように蛍光体層中にシラン
カップリング剤を含有させる方法、および特願昭61−53
270号に述べられているように輝尽性蛍光体粒子をマイ
クロカプセル化する方法など、輝尽性蛍光体層そのもの
の耐湿性を向上するための方法が提案されているが、気
相堆積型の輝尽性蛍光体層においてはそのような方法は
用いられていなかった。Radiation images such as X-ray images are often used for disease diagnosis. In order to obtain this X-ray image, X-rays transmitted through the subject are irradiated onto the phosphor layer (fluorescent screen) to generate visible light, and this visible light is used in the same manner as when taking a normal photograph. A so-called radiograph in which a film using salt is irradiated and developed is used. On the other hand, in recent years, a method of directly taking out an image from the phosphor layer without using a film coated with silver salt has been devised. As this method, the radiation that has passed through the subject is absorbed by the phosphor, and then the phosphor is excited by, for example, light or thermal energy so that the radiation energy accumulated by the absorption by the phosphor is emitted as fluorescence. A method of detecting this fluorescence and imaging. Specifically, for example, U.S. Pat. No. 3,859,527 and JP-A-55-12144 disclose a radiation image conversion method in which a stimulable phosphor is used and visible rays or infrared rays are used as stimulated excitation light. This method uses a radiation image conversion panel in which a stimulable phosphor layer is formed on a support, and the radiation that has passed through the subject is applied to the stimulable phosphor layer of this radiation image conversion panel to apply the radiation to each part of the subject. A latent image is formed by accumulating the radiation energy corresponding to the radiation transmittance, and thereafter, the stimulable phosphor layer is scanned with stimulable excitation light to radiate the accumulated radiation energy of each part to generate a latent image. The light is converted into light and an image is obtained by an optical signal depending on the intensity of the light. This final image may be played back as a hard copy or a CRT
You may play on. A radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer used in this radiation image conversion method has a radiation absorption rate and a light conversion rate (including both of them, as in the case of the radiographic method using the above-described fluorescent screen). It is required that the image has good graininess and high sharpness, not to mention high radiation sensitivity. However, in general, a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer applies a dispersion containing a granular stimulable phosphor having a particle size of about 1 to 30 μm and an organic binder onto a support or a protective layer, Since it is produced by drying, the packing density of the stimulable phosphor is low (filling ratio 50%), and it was necessary to increase the layer thickness of the stimulable phosphor layer in order to sufficiently increase the radiation sensitivity. On the other hand, the sharpness of the image in the radiation image conversion method tends to be higher as the layer thickness of the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel is smaller. It was necessary to thin the luminescent phosphor layer. Further, the graininess of the image in the radiation image conversion method is determined by the spatial fluctuation of the radiation quantum number (quantum mottle), the structural disorder of the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel (structural mottle), or the like. Therefore, as the layer thickness of the stimulable phosphor layer becomes thinner, the number of radiation quantum absorbed in the stimulable phosphor layer decreases and the quantum mottle increases, or structural disorder becomes apparent and the structure mottle increases. As a result, the image quality is degraded. Therefore, in order to improve the graininess of the image, the stimulable phosphor layer needs to be thick. That is, as described above, in the conventional radiation image conversion panel, the sensitivity to radiation and the graininess of the image, and the sharpness of the image show the opposite tendency to the layer thickness of the stimulable phosphor layer. The radiation image conversion panels have been made at the trade-off between radiation sensitivity and some degree of graininess and sharpness. In view of the reciprocity between such properties, the present applicant proposes a radiation image conversion panel containing no binder in the stimulable phosphor layer and a method for producing the same in JP-A-61-73100. There is. According to this, the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel is formed by a method such as vapor deposition, since it does not contain a binder, the filling rate of the stimulable phosphor layer is The sharpness of the image is improved at the same time that the directivity of the stimulated excitation light and stimulated emission in the stimulable phosphor layer is significantly improved and the sensitivity of the radiation image conversion panel to radiation and the graininess of the image are improved. The sex is also improved. Since the panel releases accumulated energy by scanning excitation light after accumulating radiation image information, the radiation image can be accumulated again after scanning and can be repeatedly used. Therefore, it is a matter of course that the radiation image conversion panel is desired to have a high image quality of the obtained image, but it is required that the radiation image conversion panel has a performance that can be used for a longer period of time. However, stimulable phosphors generally have a high hygroscopic property, and when left in a room under normal climatic conditions, they adsorb moisture in the air and their performance deteriorates over time. Specifically, development occurs in which the sensitivity to radiation decreases and the fading speed of the latent image generated by irradiation of radiation increases. Now, the stimulable phosphor layer provided by the vapor deposition method is
Despite having many excellent features as described above,
Since the stimulable phosphor is not protected by the binder, it has a drawback that it is easily affected by moisture. In the phosphor layer in which the stimulable phosphor particles are dispersed in the binder,
For example, as described in JP-A-61-20982, a method in which hydrophobic fine particles are contained in the phosphor layer in an amount of 0.005% by weight or more and 10% by weight or less based on the stimulable phosphor, Japanese Patent Application No.
-53269, a method of containing a silane coupling agent in the phosphor layer, and Japanese Patent Application No. 61-53.
A method for improving the moisture resistance of the stimulable phosphor layer itself, such as a method of encapsulating stimulable phosphor particles as described in No. 270, has been proposed. No such method was used in the stimulable phosphor layer of No.
本発明は、輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネ
ルにおける前述のような現状に鑑みてなされたものであ
り、本発明の目的は、気相堆積法により形成された輝尽
性蛍光体層における画質上の優れた特性を有しながらか
つ水分の吸着に起因する性能劣化の小さい放射線画像変
換パネルを提供することにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned current situation in a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer, and an object of the present invention is to provide a stimulable phosphor formed by a vapor deposition method. It is an object of the present invention to provide a radiation image conversion panel which has excellent characteristics in image quality in a layer and whose performance deterioration due to adsorption of moisture is small.
前記した本発明の目的は、気相堆積法により設けられた
少くとも一層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像パネ
ルに於て、前記輝尽性蛍光体層が亀裂を有し、該亀裂に
疎水性高分子物質を含浸させたことを特徴とする放射線
画像変換パネルにより達成される。 ここで疎水性高分子物質としてはとくにシリコンオイル
および含弗素有機化合物が好ましい。 次に本発明を具体的に説明する。 第1図(a)は本発明の放射線画像変換パネル(以後意
味明晰な場合には単にパネルと略称することがある)の
一例の厚み方向の断面図である。 同図に於いて10は本発明のパネルの形態を示す。11は支
持体であり、12は支持体上に設けられた輝尽性蛍光体層
であり、気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層を
表す。支持体11と輝尽性蛍光体層12との間には、必要に
応じ各層間の接着性をよくするための接着層を設けても
よいし、あるいは輝尽励起光および/または輝尽発光の
反射層もしくは吸収層を設けてもよい。また、13は設け
られることが好ましい保護層である。 本発明のパネルにおいて、輝尽性蛍光体層中にシリコン
オイルまたは含弗素有機化合物などの疎水性高分子物質
を含有させる形態としてはいかなる形態であってもよい
がとくに効果が高くかつ製造が容易であるのは、第1図
(b)および(c)に示すように輝尽性蛍光体層12が支
持体11に対し垂直方向に延びた微細な亀裂14を有し、該
亀裂14中にシリコンオイルまたは含弗素有機化合物(以
下特定疎水物と称す)15が充填されている形態である。 ここで輝尽性蛍光体中の亀裂とは、具体的には輝尽性蛍
光体の結晶粒界に沿って設けられた微細な亀裂、溝、窪
み、クレバス等を総称している。前記亀裂の形態として
は、たとえば第1図(b)に示すように支持体11に対し
ほぼ垂直方向に伸びた微細柱状ブロック構造を有する輝
尽性蛍光体層12において、該微細柱状ブロック夫々を区
画するクレバス14であってもよい。前記柱状ブロック構
造は任意のパターンを有してもよい。第2図(a),
(b)および(c)に該パターンの例を輝尽性蛍光体層
に平行な断面を平面図として示した。第2図において21
は輝尽性蛍光体層横断面を、22は前記微細柱状ブロック
を、23は前記クレバス(斜線部)を表している。 また、本発明のパネルは第1図(c)に示すように輝尽
性蛍光体層12の層表側から入る亀裂14を有し、該亀裂内
に特定疎水物15が充填された構造であってもよい。 また、第1図(d)のように特定疎水物15が亀裂14内に
充填されていると同時に蛍光体層12上に薄い被膜を形成
してもよい。該被膜の厚さは30μm以上であることが好
ましい。 以上の例において特定疎水物が亀裂内にすきまなく充填
されている必要はなく、亀裂の内側の面に付着している
のみでもよい。 本発明のパネルの輝尽性蛍光体層の厚みはパネルの放射
線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異なる
が10〜800μmの範囲であることが好ましく、50〜500μ
mの範囲であることが更に好ましい。 本発明のパネルにおいて、亀裂14の幅は1〜20μm程度
が好ましく、隣りあう亀裂間の間隔は1〜400μm程度
が好ましい。 本発明に於る前記特定疎水物としては下記のものが挙げ
られる。 (1) シリコンオイル シリコンオイルとしてはとくに有機ポリシロキサン化合
物が好しく、就中メチルハイドロジエンポリシロキサ
ン、 OH末端を有するジメチルポリシロキサン、 ジメチルポリシロキサン、 が好しい。上記に於てn=3〜200である。 (2) 含弗素有機有機化合物 標記化合物としてはとくに弗素化脂肪酸アミド、 FCH2nCO−NH−CHR−COOH (n=3〜20、R:C1〜C8のアルキル基) パーフロロモノカルボン酸クロム錯塩、 アクリル酸フッ素化アルキルエステル が挙げられる。 (3) その他 ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体などが使用できる。 蛍光体層に特定疎水物含浸させる方法としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、トリクロルエチレン、パーク
ロルエチレン、四塩化炭素、塩化メチレン、1,1,1−ト
リクロルエタン、炭化水素系溶剤などに0.1〜10重量%
程度の濃度に溶解し、蛍光体層に塗布または噴霧するか
あるいは蛍光体層を前記溶液中に浸漬し、室温〜70℃程
度で乾燥し溶剤を蒸発させる。更に必要に応じて100〜3
00℃で加熱処理を施してもよい。 とくに有機ポリシロキサン化合物あるいは含弗素有機化
合物の中には加熱処理により分子が重合して分子鎖が長
くなり防湿効果が高まるものがあり好ましい。 加熱処理時には必要に応じて触媒を加えてもよい。 該触媒としては、カプリル酸亜鉛、カプリル酸鉄、ジラ
ウリン酸ジブチル錫、カプリル酸第1錫、酢酸ナトリウ
ム、ナフテン酸亜鉛などが挙げられる。 また前記のようにポリマを含浸させる以外に、モノマま
たはオリゴマの適当な溶媒溶液を含浸させた後重合反応
を起こさせてもよい。 本発明のパネルにおける輝尽性蛍光体は、最初の光もし
くは高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱
的、機械的、光学的または電気的等の刺激(輝尽励起)
により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量
に対応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面
から好ましくは500nm以上の輝尽励起光によって輝尽発
光を示す蛍光体である。具体的には例えば特開昭48−80
487号に記載されているBaCO4:Axで表される蛍光体、特
開昭48−80488号記載のMgSO4:Axで表される蛍光体、特
開昭48−80489号に記載されているSrSO4:Axで表されて
いる蛍光体、特開昭51−29889号に記載されているNa2SO
4,CaSO4及びBaSO4等にMn,Dy及びTbのうち少なくとも1
種を添加した蛍光体、特開昭52−30487号に記載されて
いるBeO,LiF,MgSO4及びCaF2等の蛍光体、特開昭53−392
77号に記載されているLi2B4O7:Cu,Ag等の蛍光体、特開
昭54−47883号に記載されているLi2O・(B2O2)x:Cu及
びLi2O・(B2O2)x:Cu,Ag等の蛍光体、米国特許3,859,5
27号に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:E
u,Sm及び(Zn,Cd)S:Mn,Xで表される蛍光体が挙げられ
る。また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,
Pb蛍光体、一般式がBaO・xAl2O3:Euで表されるアルミン
酸バリウム蛍光体、及び一般式がMIIO・xSiO2:Aで表さ
れるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。ま
た、特開昭55−12143号に記載されている一般式 (Ba1−x−yMgxCay)FX:eEu2+ で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている。 LnOX:xA で表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されてい
る一般式 (Ba1−xMIIx)FX:yA で表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe,yA で表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 MIIFX・xA:yLn で表される希土類元素付活2価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A、ZnS:A,X及
びCdS:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載
されている下記いづれかの一般式 xM3(PO4)2・NX2:yA M3(PO4)2・yA で表される蛍光体、特開昭59−155487号に記載の一般式 nReX3・mA▲X1 2▼:xEu nReX3・mA▲X1 2▼:xEu,ySm で表される蛍光体、及び特開昭61−72087号に記載の一
般式 MIX・aMII▲X1 2▼・bMIII▲X11 3▼:cA で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等
の方法で輝尽性蛍光体層を形成させやすく好ましい。 しかし、本発明のパネルに用いられる輝尽性蛍光体は、
前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射し
た後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光体
であればいかなる蛍光体であってもよい。 本発明のパネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくとも一種
類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽性蛍光体層から成
る輝尽性蛍光体層群であってもよい。また、それぞれの
輝尽性蛍光体層に含まれる輝尽性蛍光体は同一であって
もよいが異なっていてもよい。 次に、前記輝尽性蛍光体を気相成長させることにより輝
尽性蛍光体層を設ける方法について説明する。 第1の方法としては蒸着法がある。該方法に於いては、
まず支持体は蒸着装置内に設置した後装置内を排気して
10-6Torr程度の真空度とする。次いで、前記輝尽性蛍光
体層の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビー
ム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表面に輝尽性
蛍光体を所望の厚さに堆積させる。 この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成さ
れるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体
層を形成することも可能である。また、前記蒸着工程で
は複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用い
て共蒸着を行うことも可能である。 また、前記蒸着法においては、輝尽性蛍光体原料を複数
の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸
着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると
同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。 さらに前記蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて被
蒸着物を冷却あるいは加熱してもよい。また、蒸着終了
後輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。 第2の方法としてスパッタ法がある。該方法において
は、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した
後装置内を一旦排気して10-6Torr程度に真空度とし、次
いでスパッタ用のガスとしてAr,Ne等の不活性ガスをス
パッタ装置内に導入して10-3Torr程度のガス圧とする。 次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタ
リングすることにより前記支持体表面に輝尽性蛍光体を
所望の厚さに堆積させる。 前記スパッタ工程では蒸着法と同様に複数回に分けて輝
尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、また、そ
れぞれ異なった輝尽性蛍光体からなる複数のターゲット
を用いて、同時あるいは順次、前記ターゲットをスパッ
タリングして輝尽性蛍光体層を形成することも可能であ
る。 前記スパッタ法においては、複数の輝尽性蛍光体原料を
ターゲットとして用い、これを同時あるいは順次スパッ
タリングして、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合
成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能で
ある。また、前記スパッタ法においては、必要に応じて
O2,H2等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよ
い。 さらに、前記スパッタ法においては、スパッタ時必要に
応じて被蒸着物を冷却あるいは加熱してもよい。また、
スパッタ終了後輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。 第3の方法としてCVD法がある。該方法は目的とする輝
尽性蛍光体あるいは輝尽性蛍光体原料を含有する有機金
属化合物を熱、高周波電力等のエネルギーで分解するこ
とにより、支持体上に結着剤を含有しない輝尽性蛍光体
層を得る。 保護層の形成方法としては、以下に述べるような方法が
用いられる。 第1の方法として、特願昭59−42500号に開示されてい
るように膜形成性の高分子物質を適当な溶媒に溶解して
調整した溶液を保護層を設置すべき面に塗布し、乾燥さ
せて保護層を形成する方法がある。 第2の方法として、同じく特開昭59−42500号に開示さ
れているように高分子物質より成る薄膜の片面に適当な
結着剤を付与し、保護層を設置すべき面に接着する方法
がある。 第1の方法および第2の方法において用いられる保護層
用材料としては、たとえば酢酸セルロース、ニトロセル
ロース、エチルセルロースなどのセルロース誘導体、あ
るいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢
酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメチルアリルア
ルコール、ポリメチルビニルケトン、セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリグリシ
ン、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルアミン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアミ
ド(ナイロン)、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化
一塩化エチレン、ポリプロピレン、四フッ化エチレン−
六フッ化プロピレン共重合体、ポリビニルイソブチルエ
ーテル、ポリスチレンなどがあげられる。 第3の方法としては、特開昭61−176900号に述べられて
いるように放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂の少な
くともいずれか一方を含有する塗布液を保護層を設置す
べき面に塗布し、特開昭61−176900号に示したような設
置を用いて紫外線あるいは電子線などの放射線の照射お
よび/または加熱を施して前記塗布液を硬化させる方法
がある。 前記放射線硬化型樹脂としては、不飽和二重結合を有す
る化合物またはこれを含む組成物であればよく、このよ
うな化合物は、好ましくは不飽和二重結合を2個以上有
するプレポリマおよび/またはオリゴマであり、さら
に、これらに不飽和二重結合を有する単量体(ビニルモ
ノマ)を反応性希釈剤として含有させることができる。 前記放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂であ
るプレポリマおよび/またはオリゴマに必要に応じて反
応性希釈剤であるビニルモノマ、非反応性バインダ、架
橋剤、光重合開始剤、光増感剤、貯蔵安定剤および接着
性改良剤、その他の添加剤を混合して分散し、保護層用
塗布液を作成する。 前記保護層用塗布液には、放射線照射および加熱により
硬化しないバインダを必要に応じ含有させてもよい。た
とえばセルロースエステル、ポリビニルブチラール、ポ
リ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、スチ
ロール、アクリル酸共重合体などである。 前記の方法により形成される保護層の膜厚は1μm〜10
0μm程度、さらに好ましくは2μm〜50μm程度の範
囲にあることが好ましい。 本発明のパネルにおいて、保護層は一層とは限らず、二
層以上の保護層群、とくに特願昭61−156346号に述べら
れているように互いに吸湿性の異なる二層以上の保護層
群であってもよい。 保護層は特開昭62−15498号に述べられているようにそ
の防湿性の係数が40℃、90%RHにおいて1.5m224hr/g.mm
以上であることが好ましい。 また、本発明のパネルは特願昭61−53276号に述べられ
ているように蒸着法、スパッタ法、CVD法などの気相堆
積法により設けられた保護層を有してもよい。 このような保護層の層厚は一般的には0.1〜50μmが好
ましい。 気相堆積法により形成される保護層に用いられる無機物
質としては、弗化物系及び酸化物系素材が好ましい素材
としてあげられる。 弗化物系素材としてはCaF2,MgF2,CeF2,BaF2,SrF2、酸化
物素材としては、SiO3,SiO2,Al2O3,TiO2,Y2O3,ZrO2,Mg
O,Gd2O3,Sc2O3,HfO2,CeO2などである。 本発明の放射線画像変換パネルにおいて用いられる支持
体としては各種高分子材料、ガラス、金属等が用いられ
る。特に情報記録材料としての取り扱い上可撓性のある
シートあるいはウェブに加工できるものが好適であり、
この点から例えばセルロースアセテートフィルム、ポリ
エステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリア
セテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラ
スチックフィルム、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の
金属シート或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シー
トが好ましい。 また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μm〜1000μmであり、取
り扱い上の点が、さらに好ましくは80μm〜500μmで
ある。 これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。 さらに、これら支持体は、輝尽性蛍光体層との接着性を
向上させる目的で輝尽性蛍光体層が設けられる面に下引
層を設けてもよい。 前記のように考えられる本発明のパネルは第3図に概略
的に示される放射線画像変換方法に用いられる。すなわ
ち、第3図において、31は放射線発生装置、32は被写
体、33は本発明のパネル、34は輝尽励起光源、35は該パ
ネルより放射された輝尽発光を検出する光電変換装置、
36は35で検出された信号を画像として再生する装置37は
再生された画像を表示する装置、38は輝尽励起光と輝尽
発光とを分離し、輝尽発光のみを透過させるフィルタで
ある。尚35以降は33からの光情報を何らかの形で画像と
して再生できるものであればよく、上記に限定されるも
のではない。 第3図に示されるように放射線発生装置31からの放射線
は被写体32を通して本発明のパネル33に入射する。この
入射した放射線にはパネル33の輝尽性蛍光体層に吸収さ
れ、そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像
が形成される。次にこの蓄積層を輝尽励起光源34からの
輝尽励起光で励起して輝尽性発光として放出せしめる。
本発明のパネル33は、輝尽性蛍光体層中に結着剤が含ま
れておらず輝尽性蛍光体層の指向性が高いため上記輝性
尽励起光による走査の際に、輝尽性励起光が輝尽性蛍光
体層中で拡散するのが抑制される。 放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置35で光電変換し、画像再生装置36によ
って画像として再生し、画像表示装置37によって表示す
ることにより、被写体の放射線透過像を観察することが
できる。The above-mentioned object of the present invention is a radiographic image panel having at least one stimulable phosphor layer provided by a vapor deposition method, wherein the stimulable phosphor layer has a crack, and the crack It is achieved by a radiation image conversion panel characterized by impregnating a hydrophobic polymer substance. Silicon oil and fluorine-containing organic compounds are particularly preferable as the hydrophobic polymer substance. Next, the present invention will be specifically described. FIG. 1 (a) is a sectional view in the thickness direction of an example of the radiation image conversion panel of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a panel when the meaning is clear). In the figure, reference numeral 10 shows the form of the panel of the present invention. Reference numeral 11 is a support, and 12 is a stimulable phosphor layer provided on the support, which is a stimulable phosphor layer formed by a vapor deposition method. If necessary, an adhesive layer may be provided between the support 11 and the stimulable phosphor layer 12 to improve the adhesiveness between the layers, or stimulated excitation light and / or stimulated emission. You may provide the reflective layer or the absorption layer. Further, 13 is a protective layer which is preferably provided. In the panel of the present invention, any form may be used as a form of incorporating a hydrophobic polymer substance such as silicon oil or a fluorine-containing organic compound in the stimulable phosphor layer, but it is particularly effective and easy to manufacture. The reason is that, as shown in FIGS. 1 (b) and (c), the stimulable phosphor layer 12 has fine cracks 14 extending in a direction perpendicular to the support 11, and in the cracks 14, Silicon oil or a fluorine-containing organic compound (hereinafter referred to as a specific hydrophobic substance) 15 is filled. Here, the crack in the stimulable phosphor is a general term for fine cracks, grooves, dents, crevasses, etc. provided along the crystal grain boundaries of the stimulable phosphor. As the form of the cracks, for example, as shown in FIG. 1 (b), in the stimulable phosphor layer 12 having a fine columnar block structure extending in a direction substantially perpendicular to the support 11, each fine columnar block is formed. It may be the crevasse 14 for partitioning. The columnar block structure may have any pattern. Figure 2 (a),
Examples of the pattern are shown in (b) and (c) as a plan view of a cross section parallel to the stimulable phosphor layer. 21 in FIG.
Is a cross section of the stimulable phosphor layer, 22 is the fine columnar block, and 23 is the crevasse (hatched portion). Further, the panel of the present invention has a structure in which cracks 14 are formed from the surface side of the stimulable phosphor layer 12 as shown in FIG. 1 (c), and the specific hydrophobic substance 15 is filled in the cracks. May be. Further, as shown in FIG. 1D, a thin coating may be formed on the phosphor layer 12 at the same time that the specific hydrophobic substance 15 is filled in the cracks 14. The thickness of the coating is preferably 30 μm or more. In the above example, it is not necessary that the specific hydrophobic substance is filled in the cracks without any clearance, and it may be only attached to the inner surface of the cracks. The thickness of the stimulable phosphor layer of the panel of the present invention varies depending on the sensitivity of the panel to radiation, the type of the stimulable phosphor, etc., but is preferably in the range of 10 to 800 μm, and 50 to 500 μm.
The range of m is more preferable. In the panel of the present invention, the width of the crack 14 is preferably about 1 to 20 μm, and the distance between adjacent cracks is preferably about 1 to 400 μm. The specific hydrophobic substance in the present invention includes the following. (1) Silicone oil As a silicone oil, an organic polysiloxane compound is particularly preferable. Among them, methylhydrogenpolysiloxane, OH-terminated dimethylpolysiloxane, Dimethyl polysiloxane, Is preferred. In the above, n = 3 to 200. (2) Fluorine-containing organic organic compound As the title compound, especially fluorinated fatty acid amide, FCH 2 nCO-NH-CHR-COOH (n = 3 to 20, R: C 1 to C 8 alkyl group) perfluoromonocarboxylic acid Chromium complex salt, Acrylic acid fluorinated alkyl ester Is mentioned. (3) Others Polystyrene, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer and the like can be used. As a method for impregnating the phosphor layer with a specific hydrophobic material, acetone, methyl ethyl ketone, trichloroethylene, perchlorethylene, carbon tetrachloride, methylene chloride, 1,1,1-trichloroethane, a hydrocarbon solvent, etc. %
It is dissolved in a certain concentration and then applied or sprayed on the phosphor layer, or the phosphor layer is immersed in the solution, dried at room temperature to about 70 ° C., and the solvent is evaporated. 100 to 3 as required
You may heat-process at 00 degreeC. In particular, among the organic polysiloxane compounds and the fluorine-containing organic compounds, there are preferable ones in which molecules are polymerized by heat treatment to lengthen the molecular chain and enhance the moisture-proof effect. A catalyst may be added as necessary during the heat treatment. Examples of the catalyst include zinc caprylate, iron caprylate, dibutyltin dilaurate, stannous caprylate, sodium acetate, zinc naphthenate and the like. Besides the polymer impregnation as described above, the polymerization reaction may be carried out after impregnation with a suitable solvent solution of a monomer or an oligomer. The stimulable phosphor in the panel of the present invention is a stimulus (stimulant excitation) such as optical, thermal, mechanical, optical or electrical after being irradiated with the first light or high energy radiation.
According to the above, the phosphor is a phosphor exhibiting stimulated emission corresponding to the dose of the first light or high-energy radiation, but from a practical viewpoint, it is preferably a phosphor exhibiting stimulated emission by stimulated excitation light of 500 nm or more. . Specifically, for example, JP-A-48-80
BaCO are described in JP 487 4: phosphor represented by Ax, MgSO described in JP 48-80488 4: phosphor represented by Ax, are described in JP-A-48-80489 SrSO 4 : Ax phosphor, Na 2 SO described in JP-A-51-29889
At least 1 of Mn, Dy and Tb in 4 , CaSO 4 and BaSO 4 etc.
Species-doped phosphors, phosphors such as BeO, LiF, MgSO 4 and CaF 2 described in JP-A-52-30487, JP-A-53-392
No. 77, phosphors such as Li 2 B 4 O 7 : Cu, Ag, Li 2 O. (B 2 O 2 ) x: Cu and Li 2 described in JP-A-54-47883. O ・ (B 2 O 2 ) x: phosphor such as Cu, Ag, US Pat. No. 3,859,5
SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, La 2 O 2 S: E described in No. 27
Examples include phosphors represented by u, Sm and (Zn, Cd) S: Mn, X. Further, ZnS: Cu, described in JP-A-55-12142,
Pb phosphor general formula BaO · xAl 2 O 3: barium aluminate phosphor represented by Eu, and the general formula M II O · xSiO 2: alkaline earth represented by A metal silicate phosphor Is mentioned. Further, the general formulas described in JP-A-55-12143 (Ba 1 -x-yMgxCay) FX: eEu alkaline earth fluoride halide phosphor represented by 2+, JP 55-12144 It is described in. A phosphor represented by LnOX: xA, a phosphor represented by the general formula (Ba 1 -xM II x) FX: yA described in JP-A-55-12145, and JP-A-55-84389. Phosphor represented by the general formula BaFX: xCe, yA described, rare earth element-activated divalent metal represented by the general formula M II FX.xA: yLn described in JP-A-55-160078 Fluorohalide phosphors, phosphors represented by the general formulas ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, ZnS: A, X and CdS: A, X, in JP-A-59-38278. A phosphor represented by any of the following general formulas xM 3 (PO 4 ) 2 · NX 2 : yA M 3 (PO 4 ) 2 · yA, the general formula nReX described in JP-A-59-155487. 3 · mA ▲ X 1 2 ▼ : xEu nReX 3 · mA ▲ X 1 2 ▼: xEu, phosphor represented by YSM, and general formula described in JP-a-61-72087 M I X · aM II ▲ Examples thereof include alkali halide phosphors represented by X 1 2 ▼ · bM III ▲ X 11 3 ▼: cA. In particular, an alkali halide phosphor is preferable because it facilitates formation of a stimulable phosphor layer by a method such as vapor deposition and sputtering. However, the stimulable phosphor used in the panel of the present invention is
The phosphor is not limited to the above-mentioned phosphor, and any phosphor may be used as long as it exhibits stimulated emission when irradiated with radiation and then stimulated with excitation light. The panel of the present invention may be a stimulable phosphor layer group composed of one or two or more stimulable phosphor layers containing at least one kind of the stimulable phosphor described above. The stimulable phosphor contained in each stimulable phosphor layer may be the same or different. Next, a method for providing a stimulable phosphor layer by vapor-depositing the stimulable phosphor will be described. The first method is a vapor deposition method. In the method,
First, the support is installed in the vapor deposition equipment and then the equipment is evacuated.
The degree of vacuum is about 10 -6 Torr. Then, at least one of the stimulable phosphor layers is heated and evaporated by a method such as a resistance heating method or an electron beam method to deposit the stimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness. As a result, a stimulable phosphor layer containing no binder is formed, but it is possible to form the stimulable phosphor layer in a plurality of times in the vapor deposition step. Further, in the vapor deposition step, co-evaporation can be performed using a plurality of resistance heaters or electron beams. In the vapor deposition method, the stimulable phosphor raw material is co-deposited by using a plurality of resistance heaters or electron beams to synthesize the target stimulable phosphor on the support and at the same time stimulable phosphor. It is also possible to form a body layer. Further, in the vapor deposition method, the vapor deposition target may be cooled or heated during vapor deposition, if necessary. In addition, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after completion of vapor deposition. The second method is a sputtering method. In this method, as in the vapor deposition method, after the support is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is temporarily evacuated to a vacuum degree of about 10 -6 Torr, and then an inert gas such as Ar or Ne is used as a gas for sputtering. The gas is introduced into the sputtering apparatus to a gas pressure of about 10 -3 Torr. Next, the stimulable phosphor is deposited on the surface of the support to a desired thickness by sputtering using the stimulable phosphor as a target. In the sputtering step, it is possible to form the stimulable phosphor layer in a plurality of times in the same manner as in the vapor deposition method, and it is also possible to simultaneously use a plurality of targets made of different stimulable phosphors. Alternatively, it is also possible to sequentially sputter the target to form a stimulable phosphor layer. In the sputtering method, a plurality of stimulable phosphor raw materials are used as targets, and these are simultaneously or sequentially sputtered to synthesize a target stimulable phosphor on a support and at the same time a stimulable phosphor layer. Can also be formed. In the sputtering method, if necessary
Reactive sputtering may be performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 . Further, in the sputtering method, the material to be vapor-deposited may be cooled or heated during the sputtering, if necessary. Also,
After completion of sputtering, the stimulable phosphor layer may be heat-treated. The third method is the CVD method. In this method, a target stimulable phosphor or an organometallic compound containing a raw material for a stimulable phosphor is decomposed by energy such as heat or high-frequency power to give a binder containing no binder on the support. A fluorescent phosphor layer is obtained. As a method of forming the protective layer, the following method is used. As a first method, a solution prepared by dissolving a film-forming polymer substance in a suitable solvent as disclosed in Japanese Patent Application No. 59-42500 is applied to the surface on which a protective layer is to be placed, There is a method of forming a protective layer by drying. As a second method, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 59-42500, a suitable binder is applied to one side of a thin film made of a polymeric material and the protective layer is adhered to the side to be provided. There is. Examples of the material for the protective layer used in the first method and the second method include cellulose derivatives such as cellulose acetate, nitrocellulose, and ethyl cellulose, or polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, polyvinyl acetate. Acrylonitrile, polymethylallyl alcohol, polymethyl vinyl ketone, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyglycine, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylamine, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride , Polyvinyl chloride, polyamide (nylon), polytetrafluoride ethylene, polytrifluoride monochloride ethylene, Polypropylene, tetrafluoroethylene -
Examples include hexafluoropropylene copolymer, polyvinyl isobutyl ether, polystyrene and the like. As a third method, as described in JP-A No. 61-176900, a coating solution containing at least one of a radiation curable resin and a thermosetting resin is applied to the surface on which the protective layer is to be provided. However, there is a method in which the coating liquid is cured by irradiating with radiation such as ultraviolet rays or electron beams and / or heating by using the installation as shown in JP-A-61-176900. The radiation curable resin may be a compound having an unsaturated double bond or a composition containing the same, and such a compound is preferably a prepolymer and / or an oligomer having two or more unsaturated double bonds. Further, a monomer having an unsaturated double bond (vinyl monomer) can be contained therein as a reactive diluent. A vinyl monomer, a non-reactive binder, a cross-linking agent, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, which is a reactive diluent as required for the prepolymer and / or oligomer which is the radiation curable resin and / or the thermosetting resin, A storage stabilizer, an adhesion improver and other additives are mixed and dispersed to prepare a protective layer coating solution. The protective layer coating solution may contain a binder that is not cured by irradiation with radiation and heating, if necessary. Examples thereof include cellulose ester, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, styrene and acrylic acid copolymer. The protective layer formed by the above method has a thickness of 1 μm to 10 μm.
It is preferably in the range of about 0 μm, more preferably about 2 μm to 50 μm. In the panel of the present invention, the protective layer is not limited to one layer, and a protective layer group of two or more layers, particularly two or more protective layer groups having different hygroscopicity as described in Japanese Patent Application No. 61-156346. May be As described in JP-A-62-15498, the protective layer has a moisture-proof coefficient of 1.5 m 2 24 hr / g.mm at 40 ° C. and 90% RH.
The above is preferable. Further, the panel of the present invention may have a protective layer provided by a vapor deposition method such as a vapor deposition method, a sputtering method or a CVD method as described in Japanese Patent Application No. 61-53276. Generally, the thickness of such a protective layer is preferably 0.1 to 50 μm. As the inorganic material used for the protective layer formed by the vapor deposition method, fluoride-based and oxide-based materials are preferred. Fluoride-based materials are CaF 2 , MgF 2 , CeF 2 , BaF 2 , SrF 2 , and oxide materials are SiO 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Y 2 O 3 , ZrO 2 , Mg.
O, Gd 2 O 3 , Sc 2 O 3 , HfO 2 , CeO 2 and the like. As the support used in the radiation image conversion panel of the present invention, various polymer materials, glass, metal and the like are used. In particular, a material that can be processed into a flexible sheet or web for handling as an information recording material is preferable,
From this point, for example, a cellulose acetate film, a polyester film, a polyethylene terephthalate film, a polyamide film, a polyimide film, a triacetate film, a plastic film such as a polycarbonate film, a metal sheet of aluminum, iron, copper, chromium or the like, or a coating of the metal oxide. Metal sheets with layers are preferred. The layer thickness of these supports varies depending on the material of the support used and the like, but is generally 80 μm to 1000 μm, and the handling point is more preferably 80 μm to 500 μm. The surface of these supports may be a smooth surface or may be a matte surface for the purpose of improving the adhesiveness with the stimulable phosphor layer. Further, the surface of the support may be an uneven surface, or may have a surface structure in which individual small tile-shaped plates are densely arranged. Further, these supports may be provided with an undercoat layer on the surface on which the stimulable phosphor layer is provided for the purpose of improving the adhesiveness with the stimulable phosphor layer. The panel of the present invention considered as described above is used in the radiation image conversion method schematically shown in FIG. That is, in FIG. 3, 31 is a radiation generator, 32 is a subject, 33 is the panel of the present invention, 34 is a stimulated excitation light source, and 35 is a photoelectric conversion device for detecting stimulated emission emitted from the panel,
36 is a device that reproduces the signal detected in 35 as an image 37 is a device that displays the reproduced image, 38 is a filter that separates stimulated excitation light and stimulated emission, and transmits only stimulated emission . It should be noted that after 35, any optical information from 33 can be reproduced as an image in some form, and is not limited to the above. As shown in FIG. 3, the radiation from the radiation generator 31 enters the panel 33 of the present invention through the subject 32. The incident radiation is absorbed by the stimulable phosphor layer of the panel 33, the energy is accumulated, and an accumulated image of a radiation transmission image is formed. Next, this storage layer is excited by stimulated excitation light from the stimulated excitation light source 34 and emitted as stimulable luminescence.
The panel 33 of the present invention does not contain a binder in the stimulable phosphor layer and has high directivity of the stimulable phosphor layer. Diffusion of the photoexcitation light in the stimulable phosphor layer is suppressed. Since the intensity of the stimulated emission emitted is proportional to the amount of accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by the photoelectric conversion device 35 such as a photomultiplier tube, and reproduced as an image by the image reproduction device 36. By displaying with the image display device 37, the radiation transmission image of the subject can be observed.
次に実施例により本発明を説明する。 実施例 0.5mm厚のアルミニウム板を特開昭61−142498号に開示
された方法を用いて陽極酸化処理、封孔処理及び加熱処
理してタイル状板が微細な間隙により個々に独立して配
置された表面構造とした支持体を蒸着器中に設置した。
前記タイル状板の平均径65μmであった。 次に抵抗加熱用のタングステンボート中に輝尽性蛍光体
RbBr:Tlを入れ、抵抗加熱用電極にセットし、続いて蒸
着器を排気して2×10-6Torrの真空度とした。 次にタングステンボートに電流を流し、抵抗加熱法によ
って輝尽性蛍光体を蒸発させ前記アルミニウム板上に輝
尽性蛍光体層の層厚が300μmの厚さになるまで堆積さ
せた。 次に該パネルを蒸着器により取り出して窒素雰囲気中で
300℃まで加熱し、この状態で十分間保持した後、加熱
炉を取り去ると共に窒素流量を増して急速に冷却して、
クレバスで囲繞された微細柱状ブロック構造を有する輝
尽性蛍光体層を形成し、大気中に取り出した。このよう
にして支持体上に輝尽性蛍光体層を設けたパネル原体を
得た。 次にメチルハイドロジェンポリシロキサン(トーレシリ
コーンSH1107オイル;トーレシリコーン製)の2%トリ
クロルエチレン溶液に十分に乾燥した前記パネル原体を
1時間浸漬した後パネル原体を取り出して55℃で乾燥し
た。次に150℃で15分間加熱処理した。 このようにシリコンオイルを用いて処理した前記パネル
原体を厚さ15μmの延伸ポリプロピレン製保護袋に収納
し、特開昭61−220492号に述べられている方法を用いて
真空密封し、保護層を形成して本発明のパネルAを製造
した。 このようにして得られた本発明のパネルAに管電圧80KV
pのX線を10mR照射した後、半導体レーザ光(波長780n
m)で輝尽励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝尽
発光を光検出器(光電子増倍管)で光電変換し、この信
号の大きさよりX線に対する感度を調べた。 次にパネルAを50℃,90%RHの恒温恒湿槽内に48時間放
置して強制劣化させた後再びX線感度を測定し、結果を
第1表に併記した。 比較例 実施例において、パネル原体をシリコンオイル処理する
工程を省略する以外は実施例と同様にして比較のパネル
Bを製造した。 このようにして得られた比較のパネルBは、実施例と同
様にして強制劣化試験を行い、結果を第1表に示した。
なお第1表において感度はパネルAの強制劣化前の感度
を100として相対値で表してある。 第1表からわかるように、本発明のパネルはRH90%の湿
度に耐えて感度の低下は著しく少い。Next, the present invention will be described with reference to examples. EXAMPLE A 0.5 mm thick aluminum plate was anodized, sealed and heat treated by the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-142498 so that tile-shaped plates were individually arranged with fine gaps. The substrate having the above-mentioned surface structure was placed in the vapor deposition device.
The average diameter of the tile plate was 65 μm. Next, a stimulable phosphor was placed in a tungsten boat for resistance heating.
RbBr: Tl was charged and set on the resistance heating electrode, and then the vapor deposition device was evacuated to a vacuum degree of 2 × 10 −6 Torr. Next, an electric current was passed through the tungsten boat to evaporate the stimulable phosphor by a resistance heating method and deposit the stimulable phosphor layer on the aluminum plate until the layer thickness became 300 μm. Next, the panel was taken out by a vaporizer and placed in a nitrogen atmosphere.
After heating to 300 ° C and holding in this state for a sufficient period of time, remove the heating furnace and increase the nitrogen flow rate to cool rapidly.
A stimulable phosphor layer having a fine columnar block structure surrounded by a crevasse was formed and taken out into the atmosphere. In this way, a panel original material having a stimulable phosphor layer on the support was obtained. Then, the sufficiently dried panel raw material was immersed in a 2% trichloroethylene solution of methylhydrogenpolysiloxane (Toray silicone SH1107 oil; made by Toray Silicone) for 1 hour, and then the panel raw material was taken out and dried at 55 ° C. Next, it heat-processed at 150 degreeC for 15 minutes. The panel original material thus treated with silicone oil was placed in a protective polypropylene protective bag having a thickness of 15 μm, vacuum-sealed by the method described in JP-A-61-220492, and the protective layer was formed. To form panel A of the present invention. A tube voltage of 80 KV was applied to the panel A of the present invention thus obtained.
After irradiating 10mR of X-ray of p, semiconductor laser light (wavelength 780n
The photostimulated luminescence emitted from the stimulable phosphor layer was photoexcited by a photodetector (photomultiplier tube), and the sensitivity to X-rays was examined from the magnitude of this signal. Next, the panel A was left in a thermo-hygrostat at 50 ° C. and 90% RH for 48 hours for forced deterioration, and the X-ray sensitivity was measured again. The results are also shown in Table 1. Comparative Example A comparative panel B was manufactured in the same manner as in the example, except that the step of treating the raw panel material with silicone oil was omitted. The comparative panel B thus obtained was subjected to a forced deterioration test in the same manner as in the example, and the results are shown in Table 1.
In Table 1, the sensitivity is shown as a relative value with the sensitivity of the panel A before the forced deterioration being 100. As can be seen from Table 1, the panel of the present invention can withstand a humidity of 90% RH and the decrease in sensitivity is significantly small.
柱状ブロック構造をなすアルカリハライド蛍光体の如き
気相堆積に好都合で高性能であるが湿度に対し弱い蛍光
体の防湿対策がえられ、この分野の技術に基盤を与える
ことができた。A moisture-proof measure for phosphors such as an alkali halide phosphor having a columnar block structure, which is convenient for vapor-phase deposition and has high performance but is weak against humidity, can be provided, which could provide a basis for the technology in this field.
第1図は本発明のパネルの断面図である。 第2図は本発明のパネルの横断平面図である。 第3図は本発明のパネルを用いる放射線画像変換方法の
説明図である。 11……支持体、12……輝尽性蛍光体層、 13……保護層、14……亀裂、15……特定疎水物FIG. 1 is a sectional view of the panel of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional plan view of the panel of the present invention. FIG. 3 is an explanatory diagram of a radiation image conversion method using the panel of the present invention. 11 ... Support, 12 ... Photostimulable phosphor layer, 13 ... Protective layer, 14 ... Crack, 15 ... Specific hydrophobic substance
Claims (1)
層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにお
いて、前記輝尽性蛍光体層が亀裂を有し、該亀裂に疎水
性高分子物質を含浸させてなることを特徴とする放射線
画像変換パネル。1. A radiation image conversion panel having at least one photostimulable phosphor layer provided by a vapor deposition method, wherein the photostimulable phosphor layer has a crack, and the crack has a hydrophobic polymer. A radiation image conversion panel characterized by being impregnated with a substance.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5743887A JPH077115B2 (en) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | Radiation image conversion panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5743887A JPH077115B2 (en) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | Radiation image conversion panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63278000A JPS63278000A (en) | 1988-11-15 |
| JPH077115B2 true JPH077115B2 (en) | 1995-01-30 |
Family
ID=13055659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5743887A Expired - Lifetime JPH077115B2 (en) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | Radiation image conversion panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH077115B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1987
- 1987-03-11 JP JP5743887A patent/JPH077115B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63278000A (en) | 1988-11-15 |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |