[go: up one dir, main page]

JPH0669285A - Flux supply device - Google Patents

Flux supply device

Info

Publication number
JPH0669285A
JPH0669285A JP4218961A JP21896192A JPH0669285A JP H0669285 A JPH0669285 A JP H0669285A JP 4218961 A JP4218961 A JP 4218961A JP 21896192 A JP21896192 A JP 21896192A JP H0669285 A JPH0669285 A JP H0669285A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flux
groove
reservoir groove
reservoir
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4218961A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3147515B2 (en
Inventor
Naoki Miyazaki
直紀 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP21896192A priority Critical patent/JP3147515B2/en
Publication of JPH0669285A publication Critical patent/JPH0669285A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3147515B2 publication Critical patent/JP3147515B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 チップのバンプに適量の半田付け用フラック
スを付着させることができる手段を提供することを目的
とする。 【構成】 回転体20の上面にフラックス7が貯溜され
る第1の溜溝21と、チップ1の突出電極2などを着水
させてフラックスを付着させる第2の溜溝22とを同心
円状に形成し、また第1の溜溝21に貯溜されたフラッ
クス7をセキ上げて、第2の溜溝22に供給するセキ上
げ手段26aをこの第1の溜溝21に設けるとともに、
第2の溜溝22に貯溜されたフラックス7の上面を平滑
するスキージ11をこの第2の溜溝22に設けた。 【効果】 第1の溜溝21から第2の溜溝22へフラッ
クス7が少量ずつ安定して供給され、第2の溜溝22の
液面レベルを安定させて、バンプ2に適量のフラックス
7を付着させることができる。
(57) [Summary] [Objective] It is an object to provide a means capable of adhering an appropriate amount of soldering flux to a bump of a chip. [Structure] A first storage groove 21 in which the flux 7 is stored on the upper surface of the rotating body 20 and a second storage groove 22 in which the protruding electrode 2 of the chip 1 and the like are deposited to attach the flux are concentrically formed. The first reservoir groove 21 is provided with a fuel raising means 26a for forming the flux 7 stored in the first reservoir groove 21 and supplying it to the second reservoir groove 22.
The squeegee 11 that smoothes the upper surface of the flux 7 stored in the second storage groove 22 is provided in the second storage groove 22. [Effect] The flux 7 is stably supplied from the first reservoir groove 21 to the second reservoir groove 22 little by little, the liquid level of the second reservoir groove 22 is stabilized, and an appropriate amount of the flux 7 is applied to the bump 2. Can be attached.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はフラックス供給装置に係
り、詳しくは、チップを基板に搭載するにあたり、チッ
プの下面に突設された突出電極や転写ピンの下面に半田
付け用フラックスを付着させるためのフラックス供給装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flux supply device, and more particularly, when mounting a chip on a substrate, a soldering flux is attached to the protruding electrodes protruding from the lower surface of the chip or the lower surfaces of transfer pins. Flux supply device for

【0002】[0002]

【従来の技術】突出電極(以下、バンプという)が突設
されたチップは一般にフリップチップと呼ばれ、基板の
高密度高集積化に有利なことから、近年、徐々に普及し
てきている。
2. Description of the Related Art Chips provided with protruding electrodes (hereinafter referred to as bumps) are generally called "flip chips", and are advantageous in achieving high density and high integration of substrates.

【0003】図6はこの種フリップチップ(以下単に
「チップ」という)を基板に搭載するための従来装置を
示している。チップ1の下面にはバンプ2が突設されて
いる。チップ1はトレイ3にマトリクス状に収納されて
おり、移動テーブル4に駆動されてXY方向に移動する
ヘッド5のノズル6に真空吸着され、所定の位置へ移送
される。
FIG. 6 shows a conventional device for mounting this type of flip chip (hereinafter simply referred to as "chip") on a substrate. Bumps 2 are provided on the lower surface of the chip 1. The chips 1 are stored in a tray 3 in a matrix form, and are vacuum-sucked by the nozzles 6 of the head 5 which is driven by the moving table 4 and moves in the XY directions, and transferred to a predetermined position.

【0004】ヘッド5の移動路の下方には、フラックス
供給装置の主体となる回転体101が設けられており、
その上面にリング状に形成された溜溝102にフラック
ス7が貯溜されている。この溜溝102には、ディスペ
ンサ8のノズル9からフラックス7が吐出して供給され
る。溜溝102にはスキージ11が配設されており、回
転体101の直下に設けられたモータ16に駆動されて
回転体101が水平回転することにより、溜溝102に
貯溜されたフラックス7の液面を平滑する。Nは回転方
向である。スキージ11の後端部はピン12に軸支され
ており、マイクロメータ13のシャフト14でスキージ
11を押し上げることにより、フラックス7に浸水した
スキージ11の下端部の高さを調整する。10はチップ
1が搭載される基板、17はバンプ2の位置を検出する
カメラである。
Below the moving path of the head 5, there is provided a rotating body 101 which is the main body of the flux supplying device.
The flux 7 is stored in a storage groove 102 formed on the upper surface thereof in a ring shape. The flux 7 is discharged from the nozzle 9 of the dispenser 8 and supplied to the reservoir groove 102. A squeegee 11 is arranged in the storage groove 102, and the liquid of the flux 7 stored in the storage groove 102 is driven by the motor 16 provided directly below the rotating body 101 to horizontally rotate the rotating body 101. Smooth the surface. N is the direction of rotation. The rear end of the squeegee 11 is pivotally supported by the pin 12, and the shaft 14 of the micrometer 13 pushes up the squeegee 11 to adjust the height of the lower end of the squeegee 11 submerged in the flux 7. Reference numeral 10 is a substrate on which the chip 1 is mounted, and 17 is a camera for detecting the position of the bump 2.

【0005】次にチップ1を基板10に搭載する方法を
説明する。移動テーブル4の駆動により、ヘッド5はト
レイ3の上方へ移動し、そこでノズル6が上下動するこ
とにより、トレイ3のチップ1を真空吸着してピックア
ップする。次にヘッド5はカメラ17の上方へ移動し、
カメラ17によりバンプ2の位置を検出した後、ヘッド
5は回転体101の上方へ移動し、そこでノズル6が上
下動することにより、チップ1の下面のバンプ2はフラ
ックス7に着水し(図7鎖線参照)、バンプ2にフラッ
クス7が付着する。
Next, a method of mounting the chip 1 on the substrate 10 will be described. The head 5 moves above the tray 3 by driving the moving table 4, and the nozzles 6 move up and down there to pick up the chips 1 on the tray 3 by vacuum suction. Next, the head 5 moves above the camera 17,
After the position of the bump 2 is detected by the camera 17, the head 5 moves above the rotating body 101, and the nozzle 6 moves up and down there, so that the bump 2 on the lower surface of the chip 1 lands on the flux 7 (see FIG. The flux 7 adheres to the bump 2 (see the chain line 7).

【0006】次にヘッド5は基板10の上方へ移動し、
そこでノズル6が上下動することにより、チップ1は基
板10の所定の座標位置に搭載される。チップ1が搭載
された基板10はリフロー装置(図外)へ送られ、バン
プ2を加熱して溶融させることにより、チップ1は基板
10に半田付けされる。
Next, the head 5 moves above the substrate 10,
Then, the nozzle 1 moves up and down, so that the chip 1 is mounted on the substrate 10 at predetermined coordinate positions. The substrate 10 on which the chip 1 is mounted is sent to a reflow device (not shown), and the bump 1 is heated and melted, so that the chip 1 is soldered to the substrate 10.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図7におい
て、バンプ2に適量のフラックス7を付着させるために
は、バンプ2の着水点Qの液面のレベルが正しく管理さ
れていなければならない。スキージ11はフラックスの
液面のレベルを管理するためのものであって、マイクロ
メータ13によりスキージ11の高さを調整することに
より、スキージ11よりも下流側の着水点Qの液面のレ
ベルが一定になるようにしている。このような液面の管
理は、例えば特開平2−56944号公報に示されるよ
うな転写ピン方式の場合も厳密に行わねばならない。
By the way, in FIG. 7, in order to attach an appropriate amount of the flux 7 to the bump 2, the liquid level of the landing point Q of the bump 2 must be properly controlled. The squeegee 11 is for managing the level of the liquid surface of the flux, and by adjusting the height of the squeegee 11 by the micrometer 13, the level of the liquid surface at the landing point Q on the downstream side of the squeegee 11 is adjusted. Is to be constant. Such management of the liquid level must be strictly performed even in the case of the transfer pin method as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-56944.

【0008】ところがフラックス7の粘性は小さいた
め、スキージ11でその液面を平滑しても、図7におい
て破線矢印Rで示すように、フラックス7は潜流となっ
てスキージ11の下流側へ流動し、所定の液面L1より
も実際の液面L2の方が高くなり、その結果バンプ2や
チップ1の下面にフラックス7が過度に付着し、半田付
け不良を生じやすいという問題点があった。殊に、溜溝
102にはディスペンサ8によりフラックス7が供給さ
れるので、その液面の変動は大きく、しかもスキージ1
1の前面近傍の水深Hは、図示するようにフラックス7
がスキージ11によりセキ上げられることもあってかな
り深くなることから、上記潜流も大きくなり、実際の液
面L2は相当高くなりやすいものであった。
However, since the flux 7 has a low viscosity, even if the liquid surface of the squeegee 11 is smoothed, the flux 7 becomes a substream and flows to the downstream side of the squeegee 11 as shown by a broken line arrow R in FIG. The actual liquid level L2 is higher than the predetermined liquid level L1, and as a result, the flux 7 excessively adheres to the lower surfaces of the bumps 2 and the chip 1, and soldering failure is likely to occur. In particular, since the flux 7 is supplied to the reservoir groove 102 by the dispenser 8, the fluctuation of the liquid level is large, and the squeegee 1
The water depth H near the front surface of No. 1 is flux 7 as shown in the figure.
Since the squeegee 11 lifts the tank deeper and makes it considerably deeper, the latent flow also becomes large, and the actual liquid level L2 is likely to be considerably high.

【0009】そこで本発明は、バンプに適量のフラック
スを付着させることができるフラックス供給装置を提供
することを目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a flux supply device capable of depositing an appropriate amount of flux on a bump.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、フラックスが
貯溜される第1の溜溝と第2の溜溝とを回転体の上面に
同心円状に形成している。また第1の溜溝に貯溜された
フラックスをセキ上げて第2の溜溝に供給するセキ上げ
手段をこの第1の溜溝に設けるとともに、第2の溜溝に
貯溜されたフラックスの上面を平滑するスキージをこの
第2の溜溝に設けている。
According to the present invention, a first reservoir groove and a second reservoir groove in which flux is stored are concentrically formed on the upper surface of a rotating body. Further, the first reservoir groove is provided with a fuel raising means for raising the flux stored in the first reservoir groove and supplying it to the second reservoir groove, and at the same time, the upper surface of the flux stored in the second reservoir groove is removed. A smoothing squeegee is provided in this second reservoir groove.

【0011】[0011]

【作用】上記構成において、モータを駆動して回転体を
水平回転させると、第1の溜溝内のフラックスは、セキ
上げ手段にセキ上げられて第2の溜溝へ少量ずつ供給さ
れる。第2の溜溝のフラックスの水深は浅く保たれ、且
つその液面はスキージにより平滑されるので、液面のレ
ベルはきわめて安定しており、チップのバンプや転写ピ
ンの下面を着水させて、適量のフラックスを付着させる
ことができる。また第1の溜溝にはフラックスが供給さ
れるのでその液面の変動は大きいが、第2の溜溝にはセ
キ上げ手段によりほとんど経時変化なく安定してフラッ
クスが供給されるので液面の変動はきわめて小さく、安
定した液面のレベルを保ちながらバンプや転写ピンに適
量のフラックスを付着させることができる。
In the above structure, when the motor is driven to rotate the rotating body horizontally, the flux in the first reservoir groove is lifted up by the lifting means and supplied little by little to the second tank. Since the water depth of the flux in the second reservoir is kept shallow and the liquid surface is smoothed by the squeegee, the level of the liquid surface is extremely stable, and the bumps of the chip and the lower surface of the transfer pin are exposed to water. , An appropriate amount of flux can be attached. Further, since the flux is supplied to the first reservoir groove, the liquid level of the liquid varies largely, but the second reservoir groove is supplied with the flux stably with almost no change over time, so that the liquid level of the liquid surface of the second reservoir groove is changed. The fluctuation is extremely small, and an appropriate amount of flux can be attached to the bumps or transfer pins while maintaining a stable liquid level.

【0012】[0012]

【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例の
説明を行う。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0013】図1はチップ実装装置の全体斜視図、図2
はフラックス供給装置の断面図である。なお上記従来装
置と同一部品には同一符号を付すことにより、詳細な説
明を省略する。回転体20は円板形であって、その上面
には、第1の溜溝21と第2の溜溝22が同心円状に形
成されている。図2に示すように、第1の溜溝21は第
2の溜溝22よりも深く、フラックス7の貯溜容量を大
きくしている。第2の溜溝22は第1の溜溝21の内側
にあり、その仕切壁23には両溜溝21,22を連通さ
せるための連通路24が穿孔されている。第2の溜溝2
2の液面は、第1の溜溝21の液面よりも高く、したが
って第2の溜溝22に貯溜されたフラックス7は、この
連通路24を通って第1の溜溝21に還流される。なお
連通路は、第2の溜溝22内のフラックス7を第1の溜
溝21に還流できるものであればよく、したがって仕切
壁23に部分的にスリットを形成して連通路としてもよ
い。第2の溜溝22の両側部には、細溝25が形成され
ている。この細溝25はフラックス7の液面が不要に流
動するのを防止する作用や、余分なフラックスが連通路
24へ流入しやすくする作用を有する。
FIG. 1 is an overall perspective view of a chip mounting apparatus, FIG.
FIG. 3 is a sectional view of a flux supply device. The same parts as those of the conventional device are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The rotating body 20 has a disc shape, and a first reservoir groove 21 and a second reservoir groove 22 are formed concentrically on the upper surface thereof. As shown in FIG. 2, the first reservoir groove 21 is deeper than the second reservoir groove 22 to increase the storage capacity of the flux 7. The second reservoir groove 22 is located inside the first reservoir groove 21, and a partition wall 23 thereof has a communication passage 24 formed therein for communicating the reservoir grooves 21 and 22. Second reservoir 2
The liquid level of No. 2 is higher than the liquid level of the first reservoir groove 21, and therefore the flux 7 stored in the second reservoir groove 22 is returned to the first reservoir groove 21 through the communication passage 24. It It should be noted that the communication passage may be any communication passage as long as the flux 7 in the second storage groove 22 can be recirculated to the first storage groove 21, and therefore a slit may be partially formed in the partition wall 23 to form the communication passage. Fine grooves 25 are formed on both sides of the second reservoir groove 22. The narrow groove 25 has a function of preventing the liquid surface of the flux 7 from flowing unnecessarily, and a function of making it easy for excess flux to flow into the communication passage 24.

【0014】図2において、回転体20は受台31に支
持されている。32は回り止めピンである。この受台3
1に垂設されたシャフト33はモータ16の回転軸に結
合されており、モータ16が駆動すると回転体20は水
平方向に回転する。
In FIG. 2, the rotating body 20 is supported by a pedestal 31. Reference numeral 32 is a detent pin. This cradle 3
The shaft 33 hung vertically at 1 is connected to the rotating shaft of the motor 16, and when the motor 16 is driven, the rotating body 20 rotates in the horizontal direction.

【0015】回転体20の下方には、レベル機構41が
設けられている。このレベル機構41は、回転体20の
上面が水平面となるように調整するものであって、台板
42と、この台板42上に設けられた水平板43と、台
板42に螺合して水平板43の下面端部を押し上げるね
じ棒44と、回転体20と水平板43の間に介装された
ベアリング45から成っている。回転体20の上面にダ
イヤルゲージ(図示せず)を当てながら、ねじ棒44を
指先で回して水平板43を揺動させることにより、回転
板20が水平となるよう調整する。
A level mechanism 41 is provided below the rotating body 20. The level mechanism 41 adjusts the upper surface of the rotating body 20 to be a horizontal plane, and is screwed to the base plate 42, the horizontal plate 43 provided on the base plate 42, and the base plate 42. The horizontal rod 43 includes a screw rod 44 that pushes up the lower end portion of the horizontal plate 43, and a bearing 45 interposed between the rotating body 20 and the horizontal plate 43. While applying a dial gauge (not shown) to the upper surface of the rotator 20, the screw rod 44 is turned with a fingertip to swing the horizontal plate 43 so that the rotary plate 20 is adjusted to be horizontal.

【0016】図1において、第2の溜溝22にはスキー
ジ11が設けられている。また第1の溜溝21には、デ
ィスペンサ8によりフラックス7が供給される。また第
1の溜溝21にはセキ上げ手段としてのセキ上げ板26
aが設けられている。このセキ上げ板26aは、カギ形
のアーム26の先端に屈曲形成されている。図3に示す
ように、このセキ上げ板26aは回転方向Nにやや後傾
させて設けられており、またフラックス7を第2の溜溝
22へセキ上げやすいように、内周側よりも外周側の方
が肉厚になっている。したがってモータ16が駆動して
回転体20がN方向に回転すると、第1の溜溝21に貯
溜されたフラックス7はセキ上げ板26aにセキ上げら
れ、矢印Kで示すように仕切壁23を越流して第2の溜
溝22に少量づつ供給される。
In FIG. 1, the second reservoir groove 22 is provided with a squeegee 11. The flux 7 is supplied to the first reservoir groove 21 by the dispenser 8. In addition, the first reservoir groove 21 has a lift plate 26 as a lift means.
a is provided. The lift plate 26a is bent and formed at the tip of the hook-shaped arm 26. As shown in FIG. 3, the lift plate 26a is provided with a slight rearward inclination in the rotation direction N, and the outer circumference is more than the outer circumference side so that the flux 7 can be easily lifted to the second reservoir groove 22. The side is thicker. Therefore, when the motor 16 is driven and the rotating body 20 rotates in the N direction, the flux 7 stored in the first storage groove 21 is lifted up by the lift plate 26a and moves over the partition wall 23 as indicated by an arrow K. It flows and is supplied little by little to the second reservoir groove 22.

【0017】本装置は上記のような構成より成り、次に
動作を説明する。図1において、移動テーブル4の駆動
により、ヘッド5はトレイ3の上方へ移動し、そこでノ
ズル6が上下動することにより、トレイ3のチップ1を
真空吸着してピックアップする。次にヘッド5はカメラ
17の上方へ移動し、カメラ17によりバンプ2の位置
を検出した後、回転体20の上方へ移動し、そこでノズ
ル6が上下動することにより、チップ1の下面のバンプ
2はフラックス7に着水し(図4鎖線参照)、バンプ2
にフラックス7が付着する。
This apparatus has the above-mentioned structure, and its operation will be described below. In FIG. 1, the head 5 moves above the tray 3 by driving the moving table 4, and the nozzles 6 move up and down there to pick up the chips 1 on the tray 3 by vacuum suction. Next, the head 5 moves above the camera 17, detects the position of the bump 2 by the camera 17, and then moves above the rotating body 20, where the nozzle 6 moves up and down, whereby the bump on the bottom surface of the chip 1 is moved. 2 landed on the flux 7 (see the chain line in Fig. 4), and bump 2
Flux 7 adheres to.

【0018】次にヘッド5は基板10の上方へ移動し、
そこでノズル6が上下動することにより、チップ1は基
板10の所定の座標位置に搭載される。チップ1が搭載
された基板10はリフロー装置へ送られ、バンプ2を加
熱して溶融させることにより、チップ1は基板10に半
田付けされる。
Next, the head 5 moves above the substrate 10,
Then, the nozzle 1 moves up and down, so that the chip 1 is mounted on the substrate 10 at predetermined coordinate positions. The substrate 10 on which the chip 1 is mounted is sent to the reflow device, and the chip 1 is soldered to the substrate 10 by heating and melting the bumps 2.

【0019】上記動作において、第1の溜溝21に貯溜
されたフラックス7は、セキ上げ板26にセキ上げられ
てほとんど経時変化なく安定して少量ずつ第2の溜溝2
2に補給される。したがって図4に示すように、第2の
溜溝22の着水点Qの水深hは浅く保たれ、またスキー
ジ11の前面の水深Hも図6に示す従来手段よりも浅く
保たれるので、潜流Rの量もきわめて少なく、着水点Q
の液面レベルを所定のレベルに維持してバンプ2に適量
のフラックス7を付着させることができる。また第1の
溜溝22には、ディスペンサ8からフラックス7が供給
されるので、フラックス7の液面の変動はかなり大きい
が、第2の溜溝21には、第1の溜溝22から少量のフ
ラックス7が補給されるだけであるので、その液面の変
動は小さく、安定した液面を保つことができる。
In the above operation, the flux 7 stored in the first storage groove 21 is lifted up by the lift plate 26, and the second storage groove 2 is stably and little by little changed with time.
Replenished to 2. Therefore, as shown in FIG. 4, the water depth h of the landing point Q of the second reservoir groove 22 is kept shallow, and the water depth H of the front surface of the squeegee 11 is kept shallower than that of the conventional means shown in FIG. The amount of submerged flow R is also extremely small, and the landing point Q
It is possible to adhere a proper amount of flux 7 to the bumps 2 while maintaining the liquid surface level of the above at a predetermined level. Further, since the flux 7 is supplied from the dispenser 8 to the first reservoir groove 22, the liquid level of the flux 7 fluctuates considerably, but the second reservoir groove 21 has a small amount from the first reservoir groove 22. Since only the flux 7 is replenished, the fluctuation of the liquid level is small and the stable liquid level can be maintained.

【0020】図5は他の使用方法を示している。このも
のは、転写ピン51の下面51aを溜溝22のフラック
ス7に着水させてこの下面51aにフラックス7を付着
させた後、このフラックス7を基板に転写するものであ
り、上記実施例と同様の作用効果が得られる。
FIG. 5 shows another method of use. This is one in which the lower surface 51a of the transfer pin 51 is contacted with the flux 7 of the reservoir groove 22 to adhere the flux 7 to the lower surface 51a, and then the flux 7 is transferred to the substrate. Similar effects can be obtained.

【0021】本発明は上記実施例に限定されないのであ
って、本発明に係るフラックスの供給装置は、例えば本
出願人が先に提案した特開平2−56944号公報に記
載されたフリップチップの実装装置にも適用できる。ま
たセキ上げ板26aの傾斜角度や回転体20の回転速度
を変えることにより、フラックス7のセキ上げ量を調整
することも可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, and the flux supply device according to the present invention is mounted on a flip chip as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-56944 previously proposed by the present applicant. It can also be applied to devices. It is also possible to adjust the amount of rise of the flux 7 by changing the inclination angle of the riser plate 26a and the rotation speed of the rotating body 20.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
1の溜溝には、ディスペンサなどによりフラックスが供
給されるのでその液面の変動は大きいが、第2の溜溝に
はセキ上げ手段により少量のフラックスがほとんど経時
変化なく安定して供給されるので、その液面の変動は小
さく、液面を安定したレベルに保ってチップのバンプな
どに適量のフラックスを付着させることができる。
As described above, according to the present invention, since the flux is supplied to the first reservoir groove by a dispenser or the like, the liquid level varies greatly, but the second reservoir groove has a secure Since a small amount of flux is stably supplied by the lifting means with almost no change over time, the fluctuation of the liquid surface is small, and it is possible to keep the liquid surface at a stable level and attach an appropriate amount of flux to the bumps of the chip. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るチップ実装装置の斜視
FIG. 1 is a perspective view of a chip mounting apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係るフラックス供給装置の
断面図
FIG. 2 is a sectional view of a flux supply device according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例に係るフラックス供給装置の
要部斜視図
FIG. 3 is a perspective view of a main part of a flux supply device according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例に係るフラックス供給装置の
要部展開断面図
FIG. 4 is a developed sectional view of essential parts of a flux supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施例の要部断面図FIG. 5 is a cross-sectional view of an essential part of another embodiment of the present invention.

【図6】従来のチップ実装装置の斜視図FIG. 6 is a perspective view of a conventional chip mounting device.

【図7】従来のフラックス供給装置の要部展開断面図FIG. 7 is a developed sectional view of essential parts of a conventional flux supply device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ 2 突出電極(バンプ) 7 フラックス 8 フラックス供給手段(ディスペンサ) 11 スキージ 16 駆動手段(モータ) 20 回転体 21 第1の溜溝 22 第2の溜溝 26a セキ上げ手段(セキ上げ板) 1 Chip 2 Protruding Electrode (Bump) 7 Flux 8 Flux Supply Means (Dispenser) 11 Squeegee 16 Driving Means (Motor) 20 Rotating Body 21 First Reservoir Groove 22 Second Reservoir Groove 26a Lifting Means (Raising Plate)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】回転体とこの回転体を水平回転させる駆動
手段とを備え、フラックスを貯溜する第1の溜溝と第2
の溜溝とをこの回転体の上面に同心円状に形成し、且つ
この第1の溜溝に貯溜されたフラックスをセキ上げて、
第2の溜溝に供給するセキ上げ手段をこの第1の溜溝に
設けるとともに、第2の溜溝に貯溜されたフラックスの
上面を平滑するスキージをこの第2の溜溝に設けたこと
を特徴とするフラックス供給装置。
1. A first reservoir groove and a second reservoir, each of which comprises a rotating body and a driving means for horizontally rotating the rotating body, and stores flux.
Is formed concentrically on the upper surface of the rotating body, and the flux stored in the first storage groove is raised,
The squeegee is provided in the second reservoir groove, and the squeegee for smoothing the upper surface of the flux stored in the second reservoir groove is provided in the first reservoir groove. Characteristic flux supply device.
JP21896192A 1992-08-18 1992-08-18 Flux supply device Expired - Fee Related JP3147515B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21896192A JP3147515B2 (en) 1992-08-18 1992-08-18 Flux supply device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21896192A JP3147515B2 (en) 1992-08-18 1992-08-18 Flux supply device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0669285A true JPH0669285A (en) 1994-03-11
JP3147515B2 JP3147515B2 (en) 2001-03-19

Family

ID=16728066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21896192A Expired - Fee Related JP3147515B2 (en) 1992-08-18 1992-08-18 Flux supply device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3147515B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6240048B1 (en) 1999-06-29 2001-05-29 Nec Corporation Synchronous type semiconductor memory system with less power consumption
JP2004031725A (en) * 2002-06-27 2004-01-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Paste supply device and paste transfer method
JP2007150105A (en) * 2005-11-29 2007-06-14 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Electronic component mounting device
JP2010245372A (en) * 2009-04-08 2010-10-28 Panasonic Corp Electronic component mounting equipment
KR101045673B1 (en) * 2008-04-08 2011-06-30 가부시키가이샤 히타치플랜트테크놀로지 Flux Forming Device and Flux Forming Method
CN103415157A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 Stable type PCB welding rotating limiting jig
CN103415156A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 Stable type PCB welding rotating adsorption jig
CN103415159A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 PCB welding rotating and sucking fixture
CN103415160A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 PCB welding rotating and limiting fixture
JP2018041841A (en) * 2016-09-07 2018-03-15 富士ゼロックス株式会社 Viscosity temperature control device, mounting device, and manufacturing method of substrate device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102212218B1 (en) 2017-09-11 2021-02-04 엘지전자 주식회사 Portable air caring apparatus

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6240048B1 (en) 1999-06-29 2001-05-29 Nec Corporation Synchronous type semiconductor memory system with less power consumption
JP2004031725A (en) * 2002-06-27 2004-01-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Paste supply device and paste transfer method
JP2007150105A (en) * 2005-11-29 2007-06-14 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Electronic component mounting device
KR101045673B1 (en) * 2008-04-08 2011-06-30 가부시키가이샤 히타치플랜트테크놀로지 Flux Forming Device and Flux Forming Method
JP2010245372A (en) * 2009-04-08 2010-10-28 Panasonic Corp Electronic component mounting equipment
CN103415157A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 Stable type PCB welding rotating limiting jig
CN103415156A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 Stable type PCB welding rotating adsorption jig
CN103415159A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 PCB welding rotating and sucking fixture
CN103415160A (en) * 2013-07-24 2013-11-27 昆山迈致治具科技有限公司 PCB welding rotating and limiting fixture
JP2018041841A (en) * 2016-09-07 2018-03-15 富士ゼロックス株式会社 Viscosity temperature control device, mounting device, and manufacturing method of substrate device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3147515B2 (en) 2001-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0669285A (en) Flux supply device
US6957759B2 (en) Viscous fluid transfer apparatus and transfer method, electronic component mounting apparatus and mounting method, and semiconductor device
US7458499B2 (en) Apparatus and method for filling a ball grid array template
KR101259334B1 (en) Application method and application device
JPH08118005A (en) Solder ball mounting device and solder ball mounting method
CN1981941A (en) Paste coater and PoP automatic mounting apparatus employing the same
JP4443393B2 (en) Coating apparatus, coating method, and film forming apparatus
US5611480A (en) Soldering process
TWI708346B (en) Fluid discharging devices and fluid discharging method
JP3811740B2 (en) Coating equipment
JP4673157B2 (en) Coating equipment
JP4233190B2 (en) Solder ball mounting method and apparatus
JP2019102729A (en) Coating film forming method and coating film forming apparatus
JP4104028B2 (en) Sputtering equipment
JP4409969B2 (en) Coating equipment
JP2001085829A (en) Flux transfer apparatus
JPH09326535A (en) Optical semiconductor device and manufacture thereof
JPH0465244A (en) Bond feeder
JP2913856B2 (en) Flux sampling method in electronic component mounting equipment
JP3777826B2 (en) Pin cleaning device for cream solder application machine
Nah et al. Injection of Molten Solder (IMS) technology for solder bumping on wafers, ceramic/organic/flexible substrates, and Si via filling from fine pitch to large pitch
JP3383093B2 (en) Applicator for coating liquid on substrate
JP2002141655A (en) Paste supply device for electronic component mounting equipment
JP2005305806A (en) Paste film forming device
JPH08206824A (en) Solder ball mounting device and solder ball mounting method

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees