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JPH0645745A - Reflow equipment - Google Patents

Reflow equipment

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Publication number
JPH0645745A
JPH0645745A JP4196624A JP19662492A JPH0645745A JP H0645745 A JPH0645745 A JP H0645745A JP 4196624 A JP4196624 A JP 4196624A JP 19662492 A JP19662492 A JP 19662492A JP H0645745 A JPH0645745 A JP H0645745A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
reflow
nitrogen gas
heating chamber
supply
Prior art date
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Application number
JP4196624A
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Japanese (ja)
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JP3257049B2 (en
Inventor
Masafumi Inoue
雅文 井上
Hironobu Takahashi
宏暢 高橋
Satoshi Tanaka
聖史 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0645745A publication Critical patent/JPH0645745A/en
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 エアリフローとチッソリフローを兼用するリ
フロー装置において、共通の温度管理でエアリフローと
チッソリフローを行える手段。 【構成】 加熱室1に空気を積極的に供給するための送
風機21を設けた。そしてチッソガス供給部11及び送
風機21から加熱室1へ通じる送気管路14にチッソガ
ス供給部11からのチッソガスの供給と送風機21から
の空気の供給を切替える切替え手段15を設けた。 【効果】 エアリフロー時には、送風機21を駆動して
チッソリフロー時におけるチッソガスと同量の空気を加
熱室1へ供給することにより、共通の温度管理で同様の
温度プロファイルが得られる。
(57) [Summary] [Purpose] A means for performing air reflow and chisso reflow with common temperature control in a reflow device that combines air reflow and chisso reflow. [Structure] A blower 21 for actively supplying air to the heating chamber 1 is provided. Further, a switching means 15 for switching the supply of nitrogen gas from the nitrogen gas supply portion 11 and the air supply from the air blower 21 is provided in the air supply conduit 14 that leads from the nitrogen gas supply portion 11 and the air blower 21 to the heating chamber 1. [Effect] At the time of the air flow, the blower 21 is driven to supply the same amount of air as the nitrogen gas at the time of the nitrogen reflow to the heating chamber 1, so that the same temperature profile can be obtained by the common temperature control.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はリフロー装置に係り、詳
しくはチッソリフローとエアリフローを選択して行うこ
とができるリフロー装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflow apparatus, and more particularly to a reflow apparatus capable of selectively performing a chisso reflow and an air reflow.

【0002】[0002]

【従来の技術】チップマウンタなどにより基板にチップ
を搭載した後、基板はリフロー装置の加熱室へ送られ、
半田を加熱して溶融させた後、冷却して固化させること
により、チップの電極は基板の電極に半田付けされる。
2. Description of the Related Art After mounting a chip on a substrate by a chip mounter or the like, the substrate is sent to a heating chamber of a reflow machine,
The electrodes of the chip are soldered to the electrodes of the substrate by heating and melting the solder and then cooling and solidifying the solder.

【0003】リフロー装置は加熱室内の空気をヒータで
加熱するエアリフロー装置と、基板の回路パターンなど
の金属部分が酸化されるのを防止するために加熱室に不
活性ガスとしてのチッソガスを供給し、チッソガスをヒ
ータで加熱するチッソリフロー装置に大別される。従
来、エアリフロー装置とチッソリフロー装置は別々の装
置であったが、近年、エアリフロー装置にチッソガス供
給手段などを付加することにより、エアリフローとチッ
ソリフローを兼用できるリフロー装置が提案されてい
る。次に、従来のリフロー装置を説明する。
The reflow device supplies an air reflow device for heating the air in the heating chamber with a heater and a nitrogen gas as an inert gas to the heating chamber in order to prevent metal parts such as a circuit pattern of the substrate from being oxidized. , Is roughly divided into a nitrogen reflow device that heats nitrogen gas with a heater. Conventionally, the air reflow device and the chisso reflow device were separate devices, but in recent years, a reflow device has been proposed which can be used for both air reflow and chisso reflow by adding a nitrogen gas supply means to the air reflow device. Next, a conventional reflow apparatus will be described.

【0004】図3はリフロー装置の内部を示す側面図で
ある。加熱室100の内部には、チップ9が搭載された
基板10を入口101から出口102へ搬送するコンベ
ア103が設けられており、このコンベア103の上方
にはヒータ104とファン105が設けられている。1
06はコンベア103の駆動用モータ、107はファン
105の駆動用モータである。また入口101と出口1
02には、外部の空気が加熱室100内に流入するのを
防止するためのシャッタ110が設けられており、シリ
ンダ111を駆動してシャッタ110を上下動させるこ
とにより、入口101と出口102を開閉する。加熱室
100の内部は、入口101側の予熱ゾーンT1、中央
部の均熱ゾーンT2、出口3側のリフローゾーンT3に
仕切壁112により分割されており、各ゾーンT1,T
2,T3には、液体チッソが貯溜された液体チッソボン
ベや、空気中のチッソと酸素を分離してチッソガスを生
成するチッソガス発生器などのチッソガス供給部113
から、パイプ114を通してチッソガスが供給される。
115はバルブである。
FIG. 3 is a side view showing the inside of the reflow apparatus. Inside the heating chamber 100, a conveyor 103 that conveys the substrate 10 on which the chips 9 are mounted from an inlet 101 to an outlet 102 is provided, and a heater 104 and a fan 105 are provided above the conveyor 103. . 1
Reference numeral 06 is a drive motor for the conveyor 103, and 107 is a drive motor for the fan 105. Also, entrance 101 and exit 1
02 is provided with a shutter 110 for preventing external air from flowing into the heating chamber 100. By driving a cylinder 111 to move the shutter 110 up and down, the inlet 101 and the outlet 102 are connected. Open and close. The interior of the heating chamber 100 is divided by a partition wall 112 into a preheating zone T1 on the inlet 101 side, a soaking zone T2 on the central portion, and a reflow zone T3 on the outlet 3 side.
At 2, T3, a nitrogen gas supply unit 113 such as a liquid nitrogen tank in which liquid nitrogen is stored and a nitrogen gas generator for separating nitrogen and oxygen in the air to generate nitrogen gas.
From, the nitrogen gas is supplied through the pipe 114.
Reference numeral 115 is a valve.

【0005】次に動作の説明を行う。チッソリフローを
行う場合は、入口101と出口102をシャッタ110
で閉じるとともに、バルブ115を開いて加熱室100
へチッソガスを供給し、加熱室100内をチッソガスで
充満する。さて、チップ9が搭載された基板10はコン
ベア103により右方へ搬送される。その間に、基板1
0にはヒータ104で加熱されたチッソガスがファン1
05により吹き付けられ、基板10は加熱される。図4
実線Aは、チッソリフロー時の加熱室100内での温度
プロファイルを示している。図示するように、一般に、
予熱ゾーンT1においては、基板10は常温から150
℃程度まで加熱され、次に均熱ゾーンT2においては1
70℃程度まで加熱され、次にリフローゾーンT3にお
いて220℃以上まで加熱される。半田14の溶融温度
は183℃程度であり、基板10が223℃程度まで急
速に加熱されることにより、半田14は溶融する。
Next, the operation will be described. When performing the chisso reflow, the inlet 101 and the outlet 102 are connected to the shutter 110.
And the valve 115 is opened to close the heating chamber 100.
Hessian gas is supplied to fill the heating chamber 100 with nitrogen gas. Now, the substrate 10 on which the chips 9 are mounted is conveyed rightward by the conveyor 103. Meanwhile, the substrate 1
0 is the fan 1 that is the nitrogen gas heated by the heater 104.
The substrate 10 is heated by being sprayed with 05. Figure 4
The solid line A shows the temperature profile in the heating chamber 100 during the nitrogen reflow. As shown, in general,
In the preheating zone T1, the temperature of the substrate 10 is from room temperature to 150.
It is heated to about ℃, then 1 in the soaking zone T2
It is heated to about 70 ° C. and then to 220 ° C. or higher in the reflow zone T3. The melting temperature of the solder 14 is about 183 ° C., and the solder 14 is melted by rapidly heating the substrate 10 to about 223 ° C.

【0006】次にエアリフローを行う場合は、入口10
1と出口102のシャッタ110を開くとともに、バル
ブ115を閉じて加熱室100へのチッソガスの供給を
停止する。すると加熱室100内は空気で充満され、そ
の状態で、チッソリフローの場合と同様に基板10をコ
ンベア103で搬送しながら、半田付けを行う。
Next, when air reflow is performed, the inlet 10
1 and the shutter 110 at the outlet 102 are opened, and the valve 115 is closed to stop the supply of nitrogen gas to the heating chamber 100. Then, the heating chamber 100 is filled with air, and in that state, soldering is performed while the substrate 10 is conveyed by the conveyor 103 as in the case of the nitrogen reflow.

【0007】図4鎖線Bは、エアリフロー時の加熱室1
00の温度プロファイルを示している。図示するように
エアリフローの温度プロファイルBは、チッソリフロー
の温度プロファイルよりも高くなる。その理由は次のと
おりである。チッソリフローにおいては、加熱室100
内へは常時もしくはほぼ常時かなりの量のチッソガスが
供給されるが、このチッソガスは低温(常温)であるた
め、このチッソガスを上記温度まで加熱するのに熱を奪
われる。これに対しエアリフローでは、入口101や出
口102から外部空気がわずかずつ流入するだけであ
る。すなわちチッソリフローにおける加熱室100への
チッソガスの供給量よりも、エアリフローにおける加熱
室1への空気の流入量はかなり少なく、その結果、エア
リフローの温度プロファイルBはチッソリフローの温度
プロファイルよりも高くなる訳である。
A chain line B in FIG. 4 indicates a heating chamber 1 during air reflow.
00 shows a temperature profile of 00. As illustrated, the temperature profile B of air reflow is higher than the temperature profile of nitrogen reflow. The reason is as follows. In the Chisso reflow, the heating chamber 100
A considerable amount of nitrogen gas is constantly or almost always supplied to the inside, but since the nitrogen gas is at a low temperature (normal temperature), heat is taken to heat the nitrogen gas to the above temperature. On the other hand, in the air reflow, the outside air only slightly flows in from the inlet 101 and the outlet 102. That is, the amount of air flowing into the heating chamber 1 during air reflow is considerably smaller than the amount of nitrogen gas supplied to the heating chamber 100 during nitrogen reflow, and as a result, the temperature profile B of air reflow is higher than the temperature profile of nitrogen reflow. That is why.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】リフロー装置において
は、現実の温度プロファイルが理想の温度プロファイル
からずれると、半田の加熱不足や過剰加熱による半田の
品質悪化を生じる。したがって理想の温度プロファイル
に近づけるべく、ヒータなどの温度管理手段を厳密に制
御しなければならないが、上記従来のリフロー装置で
は、チッソリフローとエアリフローでは温度プロファイ
ルが変化するため、各々別々の温度管理を行なって理想
の温度プロファイルに近づけねばならず、装置の運転管
理がきわめて困難であるという問題点があり、このこと
が、エアリフローとチッソリフローを兼用できるリフロ
ー装置が普及しない主因の一つになっていた。
In the reflow apparatus, when the actual temperature profile deviates from the ideal temperature profile, insufficient solder heating or excessive heating causes deterioration of solder quality. Therefore, it is necessary to strictly control the temperature control means such as the heater in order to bring it closer to the ideal temperature profile, but in the conventional reflow apparatus described above, the temperature profile changes between the chisso reflow and the air reflow, so that the temperature control is performed separately. Therefore, there is a problem that it is extremely difficult to manage the operation of the equipment because it has to be close to the ideal temperature profile.This is one of the main reasons why reflow equipment that can use both air reflow and chisso reflow is not popular. Was becoming.

【0009】そこで本発明は、エアリフローとチッソリ
フローの温度プロファイルを容易に一致させることがで
きるリフロー装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a reflow apparatus which can easily match the temperature profiles of air reflow and nitrogen reflow.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このために本発明は、加
熱室に空気を積極的に供給するための送風機を設けた。
そしてチッソガス供給部及び送風機から前記加熱室へ通
じる送気管路にチッソガス供給部からのチッソガスの供
給と送風機からの空気の供給を切替える切替え手段を設
けたものである。
To this end, the present invention provides a blower for positively supplying air to the heating chamber.
Further, a switching means for switching between the supply of the nitrogen gas from the nitrogen gas supply portion and the air supply from the air blower is provided in the air supply pipe line leading from the nitrogen gas supply portion and the air blower to the heating chamber.

【0011】[0011]

【作用】上記構成によれば、エアリフロー時には、送風
機を駆動して、チッソリフロー時におけるチッソガスの
供給量とほぼ同量の空気を加熱室へ積極的に供給する。
空気とチッソガスの温度及び比熱はほぼ同じであり、し
たがってエアリフローとチッソリフローで同様の温度管
理を行えば、同様の温度プロファイルが得られることと
なる。
According to the above construction, during the air reflow, the blower is driven to positively supply the heating chamber with an amount of air substantially equal to the amount of the nitrogen gas supplied during the nitrogen reflow.
The temperatures and specific heats of air and nitrogen gas are almost the same, and therefore, if similar temperature control is performed by air reflow and nitrogen reflow, the same temperature profile will be obtained.

【0012】[0012]

【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0013】図1はリフロー装置の内部を示す側面図で
ある。加熱室1の内部には、チップ9が搭載された基板
10を入口2から出口3へ搬送するコンベア4が設けら
れており、このコンベア4の上方にはヒータ5とファン
6が設けられている。8はコンベア4の駆動用モータ、
7はファン6の駆動用モータである。また入口2と出口
3には、外部の空気が加熱室1内に流入するのを防止す
るためのシャッタ18が設けられており、シリンダ19
を駆動してシャッタ18を上下動させることにより、入
口2と出口3を開閉する。
FIG. 1 is a side view showing the inside of the reflow apparatus. Inside the heating chamber 1, there is provided a conveyer 4 that conveys the substrate 10 on which the chips 9 are mounted from the inlet 2 to the outlet 3. Above the conveyer 4, a heater 5 and a fan 6 are provided. . 8 is a motor for driving the conveyor 4,
Reference numeral 7 is a drive motor for the fan 6. Further, the inlet 2 and the outlet 3 are provided with a shutter 18 for preventing outside air from flowing into the heating chamber 1, and a cylinder 19 is provided.
Is driven to move the shutter 18 up and down to open and close the inlet 2 and the outlet 3.

【0014】加熱室1の内部は、入口2側の予熱ゾーン
T1、中央部の均熱ゾーンT2、出口3側のリフローゾ
ーンT3に仕切壁16により分割されている。11は液
体チッソボンベや、空気中のチッソと酸素を分離してチ
ッソガスを生成するチッソガス発生器などのチッソガス
供給部であって、送気管路14を通して加熱室1の各ゾ
ーンT1,T2,T3や、加熱室1の後部に設けられた
冷却室20にチッソガスを供給する。この送気管路14
には流量調整弁12や流量計13が設けられている。2
1は送風機であって、前記送気管路14に設けられた切
替えバルブ15に接続されており、その途中にも流量調
整弁22と流量計23が設けられている。切替えバルブ
15を操作することにより、加熱室1へのチッソガス供
給部11によるチッソガスの供給と、送風機21による
空気の供給が選択的に切替えられる。
The interior of the heating chamber 1 is divided by a partition wall 16 into a preheating zone T1 on the inlet 2 side, a soaking zone T2 at the center and a reflow zone T3 on the outlet 3 side. Reference numeral 11 denotes a nitrogen gas supply unit such as a liquid nitrogen gas cylinder or a nitrogen gas generator that separates nitrogen and oxygen in the air to generate nitrogen gas, and each zone T1, T2, T3 of the heating chamber 1 through the air supply conduit 14, Nitrogen gas is supplied to a cooling chamber 20 provided at the rear of the heating chamber 1. This air supply line 14
A flow rate adjusting valve 12 and a flow meter 13 are provided in the. Two
Reference numeral 1 denotes a blower, which is connected to a switching valve 15 provided in the air supply conduit 14, and a flow rate adjusting valve 22 and a flow meter 23 are also provided in the middle thereof. By operating the switching valve 15, the nitrogen gas supply by the nitrogen gas supply unit 11 to the heating chamber 1 and the air supply by the blower 21 are selectively switched.

【0015】次に動作を説明する。チッソリフローを行
う場合は、入口2と出口3をシャッタ18で閉じるとと
もに、バルブ15を開いて加熱室1へチッソガスを供給
し、加熱室1内をチッソガスで充満する。さて、チップ
9が搭載された基板10はコンベア4により右方へ搬送
される。その間に、基板10にはヒータ5で加熱された
チッソガスがファン6により吹き付けられ、基板10は
加熱される。次にエアリフローを行う場合は、入口2と
出口3のシャッター18を開くとともに、バルブ15を
切替えて、加熱室1へのチッソガスの供給を停止し、送
風機21を駆動して、加熱室1に空気を供給しながら、
コンベア4により基板10を搬送して半田付けを行う。
Next, the operation will be described. When performing the nitrogen reflow, the inlet 2 and the outlet 3 are closed by the shutter 18, the valve 15 is opened to supply the nitrogen gas to the heating chamber 1, and the heating chamber 1 is filled with the nitrogen gas. The substrate 10 having the chips 9 mounted thereon is conveyed rightward by the conveyor 4. Meanwhile, the nitrogen gas heated by the heater 5 is blown onto the substrate 10 by the fan 6 to heat the substrate 10. Next, when air reflow is performed, the shutters 18 at the inlet 2 and the outlet 3 are opened, the valve 15 is switched, the supply of nitrogen gas to the heating chamber 1 is stopped, the blower 21 is driven, and the heating chamber 1 is supplied. While supplying air
The board 10 is conveyed by the conveyor 4 to perform soldering.

【0016】この場合、チッソリフロー時のチッソガス
の供給量と空気の供給量が同量となるように、流量計2
3で流量を測定し、流量調整弁22で流量を調整する。
このようにしてチッソリフロー時のチッソガスの供給量
と、エアリフロー時の空気の供給量を同量にすれば、チ
ッソガスと空気の温度及び比熱はほぼ等しいので、エア
リフロー時の温度プロファイルはチッソリフロー時の温
度プロファイルと同じになる。したがってエアリフロー
とチッソリフローでは、ヒータ5やファン6などの温度
管理手段をまったくと同様に制御することによりまった
く同様の温度プロファイルが得られる。
In this case, the flow meter 2 is arranged so that the amount of nitrogen gas supplied and the amount of air supplied during nitrogen reflow are the same.
The flow rate is measured at 3, and the flow rate is adjusted by the flow rate adjusting valve 22.
In this way, if the amount of nitrogen gas supplied during nitrogen reflow and the amount of air supplied during air reflow are the same, the temperature and specific heat of nitrogen gas and air are almost the same, so the temperature profile during air reflow is It becomes the same as the temperature profile at the time. Therefore, in air reflow and nitrogen reflow, the same temperature profile can be obtained by controlling the temperature management means such as the heater 5 and the fan 6 in exactly the same manner.

【0017】図2は本発明の他の実施例を示している。
チッソガス供給部11と送風機21は、各々独立した送
気管路14A,14Bとバルブ15A,15Bを有して
いる。したがってバルブ15A,15Bを切替えること
により、加熱室1にチッソガスや空気を供給する。この
ように配管構造は様々考えられる。
FIG. 2 shows another embodiment of the present invention.
The nitrogen gas supply unit 11 and the blower 21 have independent air supply pipe lines 14A and 14B and valves 15A and 15B, respectively. Therefore, by switching the valves 15A and 15B, nitrogen gas or air is supplied to the heating chamber 1. As described above, various piping structures can be considered.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、エアリフ
ロー時には、送風機を駆動してチッソリフロー時におけ
るチッソガスの供給量と同量の空気を加熱室へ積極的に
供給することにより、チッソリフローと同様の温度プロ
ファイルを得ることができ、したがってチッソリフロー
とエアリフローは共通の温度管理で装置を運転でき、ヒ
ータやファンなどの温度管理手段の制御を容易に行え
る。
As described above, according to the present invention, during the air reflow, the blower is driven to positively supply the heating chamber with the same amount of air as the amount of the nitrogen gas supplied during the nitrogen reflow. It is possible to obtain the same temperature profile as the above, and therefore, the chisso reflow and the air reflow can operate the device under the common temperature control, and the temperature control means such as the heater and the fan can be easily controlled.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るリフロー装置の側面図FIG. 1 is a side view of a reflow apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例に係る切替機構の側面図FIG. 2 is a side view of a switching mechanism according to another embodiment of the present invention.

【図3】従来のリフロー装置の側面図FIG. 3 is a side view of a conventional reflow device.

【図4】従来のリフロー装置の温度プロファイル図FIG. 4 is a temperature profile diagram of a conventional reflow apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 加熱室 2 入口 3 出口 4 コンベア 5 ヒータ(温度管理手段) 6 ファン(温度管理手段) 11 チッソガス供給部 14 送気管路 15 バルブ(切替手段) 21 送風機 1 Heating Chamber 2 Inlet 3 Outlet 4 Conveyor 5 Heater (Temperature Management Means) 6 Fan (Temperature Management Means) 11 Chisso Gas Supply Section 14 Air Supply Pipeline 15 Valve (Switching Means) 21 Blower

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】加熱室と、この加熱室の入口から出口へ基
板を搬送するコンベアと、この加熱室内に配設されてこ
のコンベアにより搬送される基板を加熱するヒータと、
基板に熱風を吹付けるファンと、この加熱室へチッソガ
スを供給するチッソガス供給部と、この加熱室に空気を
供給する送風機と、このチッソガス供給部及び送風機か
ら前記加熱室へ通じる送気管路にあって、このチッソガ
ス供給部からのチッソガスの供給と送風機からの空気の
供給を切替える切替え手段とから成ることを特徴とする
リフロー装置。
1. A heating chamber, a conveyer for conveying a substrate from an inlet to an outlet of the heating chamber, and a heater arranged in the heating chamber for heating a substrate conveyed by the conveyer.
There is a fan that blows hot air to the substrate, a nitrogen gas supply unit that supplies nitrogen gas to this heating chamber, a blower that supplies air to this heating chamber, and an air supply conduit that leads from this nitrogen gas supply unit and the air blower to the heating chamber. A reflow device comprising a switching means for switching the supply of nitrogen gas from the nitrogen gas supply section and the supply of air from the blower.
JP19662492A 1992-07-23 1992-07-23 Reflow device and reflow method Expired - Fee Related JP3257049B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005224A (en) * 1997-10-30 1999-12-21 U.S. Philips Corporation Method of soldering components to at least one carrier

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005224A (en) * 1997-10-30 1999-12-21 U.S. Philips Corporation Method of soldering components to at least one carrier

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